JP2002201383A - 無機顔料分散体の製造方法 - Google Patents
無機顔料分散体の製造方法Info
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- JP2002201383A JP2002201383A JP2000401379A JP2000401379A JP2002201383A JP 2002201383 A JP2002201383 A JP 2002201383A JP 2000401379 A JP2000401379 A JP 2000401379A JP 2000401379 A JP2000401379 A JP 2000401379A JP 2002201383 A JP2002201383 A JP 2002201383A
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- pigment dispersion
- dispersion
- surfactant
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 分散性、沈降性に優れた工業的に有利な無機
顔料分散体の製造方法を提供する。 【解決手段】 無機顔料と界面活性剤を含む水性媒体中
で粒子径が光散乱法で３００ｎｍ以下になるまで湿式解
砕して無機顔料の水分散体を製造する、無機顔料分散体
の製造方法。
顔料分散体の製造方法を提供する。 【解決手段】 無機顔料と界面活性剤を含む水性媒体中
で粒子径が光散乱法で３００ｎｍ以下になるまで湿式解
砕して無機顔料の水分散体を製造する、無機顔料分散体
の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、塗料、インキ、繊
維、等の着色剤、インクジェット用インキ、デジタルペ
ーパーならびに、化粧品等に使用される無機顔料分散体
およびその製造方法に関する。
維、等の着色剤、インクジェット用インキ、デジタルペ
ーパーならびに、化粧品等に使用される無機顔料分散体
およびその製造方法に関する。
【０００２】更に詳しくは、無機顔料が水性媒体中で均
一且つ安定に分散してなる、工業的に有用な新規の無機
顔料分散体の製造方法に関する。
一且つ安定に分散してなる、工業的に有用な新規の無機
顔料分散体の製造方法に関する。
【０００３】
【従来の技術】従来、塗料、インキ、化粧品、等に種々
の無機顔料が使用されて、それぞれに特徴ある使われ方
をされている。無機顔料は、塗料、インクジェット用着
色剤等に使用されているが、比重が重く沈降したり、凝
集力が強いことから単分散が困難であった。
の無機顔料が使用されて、それぞれに特徴ある使われ方
をされている。無機顔料は、塗料、インクジェット用着
色剤等に使用されているが、比重が重く沈降したり、凝
集力が強いことから単分散が困難であった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】無機顔料は、塗料、イ
ンクジェット用着色剤等に使用されているが、比重が重
く沈降したり、凝集力が強いことから単分散が困難で、
保管時に無機顔料が沈降したり、塗料に用いた場合分散
が不十分であることから、色ムラや物が生じるなど問題
がある。
ンクジェット用着色剤等に使用されているが、比重が重
く沈降したり、凝集力が強いことから単分散が困難で、
保管時に無機顔料が沈降したり、塗料に用いた場合分散
が不十分であることから、色ムラや物が生じるなど問題
がある。
【０００５】この発明は、塗料、インキ、繊維、等の着
色剤、インクジェット用インキ、デジタルペーパーなら
びに、化粧品等に使用される無機顔料分散体で水性媒体
中に均一且つ安定に分散してなる、工業的に有用な新規
の無機顔料分散体の製造方法を提供する。
色剤、インクジェット用インキ、デジタルペーパーなら
びに、化粧品等に使用される無機顔料分散体で水性媒体
中に均一且つ安定に分散してなる、工業的に有用な新規
の無機顔料分散体の製造方法を提供する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に鋭意検討した結果、無機顔料が水性媒体中で均一且つ
安定に分散し得る無機顔料分散体の製造方法を見出し
た。
に鋭意検討した結果、無機顔料が水性媒体中で均一且つ
安定に分散し得る無機顔料分散体の製造方法を見出し
た。
【０００７】即ち、この発明は、無機顔料を水性媒体中
で粒子径が光散乱法で３００ｎｍ以下になるまで湿式解
砕することを特徴とする無機顔料分散体の製造方法に関
する。
で粒子径が光散乱法で３００ｎｍ以下になるまで湿式解
砕することを特徴とする無機顔料分散体の製造方法に関
する。
【０００８】前記水性媒体は界面活性剤を含むことが好
ましい。
ましい。
【０００９】前記界面活性剤はノニオン系界面活性剤で
あることが好ましい。
あることが好ましい。
【００１０】この発明において用いる光散乱法による粒
度分布測定機には色々あるが、例えばＮｉｃｏｍｐ３７
０[ＰＡＣＩＦＩＣ ＳＣＩＥＮＴＩＦＩＣ社製]を用い
た測定方法を記すると、無機顔料分散体を水で希釈しな
がら、Ｎｉｃｏｍｐ３７０ＡＶＧ ＣＯＵＮＴＲＡＴＥ
値を２００〜６００に調整して測定する方法を上げる
ことが出来る。
度分布測定機には色々あるが、例えばＮｉｃｏｍｐ３７
０[ＰＡＣＩＦＩＣ ＳＣＩＥＮＴＩＦＩＣ社製]を用い
た測定方法を記すると、無機顔料分散体を水で希釈しな
がら、Ｎｉｃｏｍｐ３７０ＡＶＧ ＣＯＵＮＴＲＡＴＥ
値を２００〜６００に調整して測定する方法を上げる
ことが出来る。
【００１１】この発明における解砕には、特に限定され
ないが、コロイドミル、ディスパーミル、ホモミキサ
ー、ホモゲナイザーなどが用いることができ、光散乱法
で３００ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下になるま
で湿式解砕すれば安定性に優れた無機顔料分散体が得ら
れる。
ないが、コロイドミル、ディスパーミル、ホモミキサ
ー、ホモゲナイザーなどが用いることができ、光散乱法
で３００ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下になるま
で湿式解砕すれば安定性に優れた無機顔料分散体が得ら
れる。
【００１２】この発明に用いられる無機顔料は、種類お
よび形状は特に限定されず、たとえば、酸化チタン、酸
化鉄、酸化亜鉛、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、炭酸
バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、タル
ク、粘土、カーボンブラック等の中から選ばれた１種ま
たは２種以上が使用される。この中でも、カーボンブラ
ックや酸化チタンが好適に用いられる。
よび形状は特に限定されず、たとえば、酸化チタン、酸
化鉄、酸化亜鉛、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、炭酸
バリウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、タル
ク、粘土、カーボンブラック等の中から選ばれた１種ま
たは２種以上が使用される。この中でも、カーボンブラ
ックや酸化チタンが好適に用いられる。
【００１３】無機顔料の使用量は、水に対して１〜６０
重量％であり、好ましくは１０〜５０重量％、更に好ま
しくは２０〜４０重量％である。
重量％であり、好ましくは１０〜５０重量％、更に好ま
しくは２０〜４０重量％である。
【００１４】この発明に用いられる界面活性剤はノニオ
ン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界
面活性剤等が挙げられ、この中でも特にノニオン系界面
活性剤が好ましい。界面活性剤の使用量は、無機顔料に
対して、５〜１００重量％である。
ン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界
面活性剤等が挙げられ、この中でも特にノニオン系界面
活性剤が好ましい。界面活性剤の使用量は、無機顔料に
対して、５〜１００重量％である。
【００１５】この発明に使用されるノニオン系界面活性
剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポ
リオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシ
エチレンオキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビ
タン脂肪酸エステル、ポリオキエチレンソルビタン脂肪
酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エ
ステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリビニールアル
コール、分子量が１００〜２０００好ましくは３００〜
１０００のポリエチレングリコール等が挙げられ、これ
らを併用しても良い。
剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポ
リオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシ
エチレンオキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビ
タン脂肪酸エステル、ポリオキエチレンソルビタン脂肪
酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エ
ステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリビニールアル
コール、分子量が１００〜２０００好ましくは３００〜
１０００のポリエチレングリコール等が挙げられ、これ
らを併用しても良い。
【００１６】アニオン系界面活性剤としては、脂肪酸
塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルフ
ォン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキルジフェ
ニルエーテルジスルフォン酸塩、ポリカルボン酸型高分
子界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エス
テル等が挙げられる。
塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキルベンゼンスルフ
ォン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、アルキルジフェ
ニルエーテルジスルフォン酸塩、ポリカルボン酸型高分
子界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルリン酸エス
テル等が挙げられる。
【００１７】カチオン系界面活性剤としては、アルキル
アミン塩、第四級アンモニウム塩、アルキルベタイン、
アミンオキサイド等が挙げられる。
アミン塩、第四級アンモニウム塩、アルキルベタイン、
アミンオキサイド等が挙げられる。
【００１８】
【実施例】以下に、この発明の具体的な実施例を示す
が、この発明は下記実施例に限定されない。
が、この発明は下記実施例に限定されない。
【００１９】表１に、実施例１〜３の合成条件をまとめ
て示した。
て示した。
【００２０】実施例１ １Ｌのビーカーにカーボン[三菱化成株式会社製 MA60
0] １００ｇ、エマルゲン９２０[花王株式会社製] ３
０ｇ、ポリエリレングリコール７０ｇ[関東化学株式会
社製 ＭＷ：６００]、純水３００ｇを入れ、ホモミキ
サー[特殊機化工（株）製 Ｍ型]を用い、５０００ｒｐ
ｍにて１０分間解砕・分散を行い、カーボン分散液を作
成した。 上記分散液の粒子径をＮｉｃｏｍｐ ３７０
[光散乱法]にて測定したところ、平均粒子径が９５ｎｍ
の良好なカーボン分散液であった。
0] １００ｇ、エマルゲン９２０[花王株式会社製] ３
０ｇ、ポリエリレングリコール７０ｇ[関東化学株式会
社製 ＭＷ：６００]、純水３００ｇを入れ、ホモミキ
サー[特殊機化工（株）製 Ｍ型]を用い、５０００ｒｐ
ｍにて１０分間解砕・分散を行い、カーボン分散液を作
成した。 上記分散液の粒子径をＮｉｃｏｍｐ ３７０
[光散乱法]にて測定したところ、平均粒子径が９５ｎｍ
の良好なカーボン分散液であった。
【００２１】実施例２ 実施例１の中でカーボン水分散体の代わりに酸化チタン
（富士チタン株式会社製ＴＡ−１００）を用い調整し
た酸化チタン水分散液の平均粒子径をＮｉｃｏｍｐ ３
７０[光散乱法]で測定したところ、平均粒子径が８７ｎ
ｍの良好な酸化チタン分散液であった。
（富士チタン株式会社製ＴＡ−１００）を用い調整し
た酸化チタン水分散液の平均粒子径をＮｉｃｏｍｐ ３
７０[光散乱法]で測定したところ、平均粒子径が８７ｎ
ｍの良好な酸化チタン分散液であった。
【００２２】実施例３ 実施例１の中でカーボン水分散体の代わりに四三酸化鉄
（株式会社三菱金属株式会社製 スピネル）を用い調
整した四三酸化鉄の水分散液の平均粒子径をＮｉｃｏｍ
ｐ ３７０[光散乱法]で測定したところ、平均粒子径が
２５０ｎｍの良好な四三酸化鉄の分散液であった。
（株式会社三菱金属株式会社製 スピネル）を用い調
整した四三酸化鉄の水分散液の平均粒子径をＮｉｃｏｍ
ｐ ３７０[光散乱法]で測定したところ、平均粒子径が
２５０ｎｍの良好な四三酸化鉄の分散液であった。
【００２３】
【表１】
【００２４】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大石 英樹 兵庫県姫路市網干区興浜字西沖992番地の １ 株式会社日本触媒内 Ｆターム(参考） 4J037 AA02 AA09 AA10 AA11 AA15 AA22 AA27 CB09 CB10 CB16 CB18 CB21 CB22 CC15 CC17 CC25 DD05 DD24 EE29 EE43 FF15
Claims (3)
- 【請求項１】 無機顔料を水性媒体中で粒子径が光散乱
法で３００ｎｍ以下になるまで湿式解砕することを特徴
とする無機顔料分散体の製造方法。 - 【請求項２】 水性媒体が界面活性剤を含む、請求項１
の無機顔料分散体の製造方法。 - 【請求項３】 界面活性剤がノニオン系界面活性剤であ
る請求項１または２記載の無顔料分散体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000401379A JP2002201383A (ja) | 2000-12-28 | 2000-12-28 | 無機顔料分散体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000401379A JP2002201383A (ja) | 2000-12-28 | 2000-12-28 | 無機顔料分散体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002201383A true JP2002201383A (ja) | 2002-07-19 |
Family
ID=18865821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000401379A Pending JP2002201383A (ja) | 2000-12-28 | 2000-12-28 | 無機顔料分散体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002201383A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009137145A (ja) * | 2007-12-06 | 2009-06-25 | Toppan Printing Co Ltd | 情報記録体 |
| JP2012518714A (ja) * | 2009-02-25 | 2012-08-16 | シーレ カオリン カンパニー | ナノ粒子鉱物顔料 |
-
2000
- 2000-12-28 JP JP2000401379A patent/JP2002201383A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2009137145A (ja) * | 2007-12-06 | 2009-06-25 | Toppan Printing Co Ltd | 情報記録体 |
| JP2012518714A (ja) * | 2009-02-25 | 2012-08-16 | シーレ カオリン カンパニー | ナノ粒子鉱物顔料 |
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