JP2002201172A - ベンズアミド誘導体及びその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ａは置換されていてもよい３−スルファモイル
フェニル基又は置換されていてもよい２−チエニル基等
であり、Ｒ₁₀は水素原子又は置換されていてもよい低級
アルキル基であり、Ｒ₁₁は水素原子、ハロゲン原子又は
水酸基であり、Ｒ ₁₂は水素原子、ハロゲン原子又はニト
ロ基であり、Ｒ₁₃は水酸基、置換されていてもよい低級
アルコキシ基又は置換されていてもよい低級アルキルア
ミノ基等であり、Ｒ₁₄は水素原子、ハロゲン原子又はニ
トロ基等であり、Ｒ₁₅は水素原子、ハロゲン原子又は水
酸基である）で表される化合物、その医薬上許容し得る
塩又はその水和物若しくは溶媒和物。 【効果】 本発明に係る化合物（Ｉ）は優れたＣＲＦ受
容体拮抗作用を有している。従って、ＣＲＦにより誘発
又は促進される疾患等の予防又は治療薬として期待され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、新規なベンズアミ
ド誘導体に関するものであり、更に詳しくは副腎皮質刺
激ホルモン放出因子（ＣＲＦ）受容体拮抗作用を有する
ベンズアミド誘導体、その医薬上許容し得る塩またはそ
の水和物若しくは溶媒和物を含有してなる医薬組成物に
関する。

【０００２】

【従来技術】ＣＲＦは４１個のアミノ酸からなるホルモ
ンであり［Ｓｃｉｅｎｃｅ，２１３，１３９４（１９８
１）；Ｊ．Ｎｅｕｒｏｓｃｉ．，７，８８（１９８
７）］、１９８１年に山羊［Ｓｃｉｅｎｃｅ，２１３，
１３９４（１９８１）］、１９８３年にラット［Ｐｒｏ
ｃ．Ｎａｔｌ．Ａｃａｄ．Ｓｃｉ．ＵＳＡ，８０，４８
５１（１９８３）］及びヒト［ＥＭＢＯ Ｊ．，２，７
７５（１９８３）］においてその存在が確認され、最近
に至り、ＣＲＦは視床下部−下垂体−副腎系を介して末
梢の免疫系、交感神経系に作用する経路と中枢神経系に
おける神経伝達物質として機能する二つの経路があるこ
とがわかってきた［ｉｎ Ｃｏｒｔｉｃｏｔｒｏｐｉｎ
Ｒｅｌｅａｓｉｎｇ Ｆａｃｔｏｒ： Ｂａｓｉｃ
ａｎｄ Ｃｌｉｎｉｃａｌ Ｓｔｕｄｉｅｓ ｏｆ ａ
Ｎｅｕｒｏｐｅｐｔｉｄｅ，ｐｐ２９−５２（１９９
０）］。特に、視床下部−下垂体−副腎系の経路におい
ては、ＣＲＦが視床下部より放出され、脳下垂体に存在
する受容体に作用し、脳下垂体からの副腎皮質刺激ホル
モン（ＡＣＴＨ）の放出を促す。その結果として副腎皮
質からグルココルチコイドが放出される。この放出され
たグルココルチコイドが生殖、成長、胃腸機能、炎症、
免疫系等に対する全身的な作用を示すことから、ＣＲＦ
はこれらの機能の制御因子として働くと考えられてい
る。またＣＲＦが脳内に幅広く分布し、ＣＲＦ受容体が
脳下垂体ばかりでなく大脳皮質や皮質下にも分布してい
ること、ＣＲＦ受容体には二つのサブタイプが存在し、
それぞれが脳内の異なった領域に分布していることが明
らかになり、ＣＲＦの中枢神経系における作用や精神神
経系疾患への関与についても注目されるようになった。

【０００３】このようにＣＲＦが中枢神経系や他の末梢
臓器、例えば、心臓、胃腸、肺、脾臓、副腎、生殖腺等
に対して幅広い作用を持つことから、ＣＲＦがこれらの
部位における種々の疾患の原因物質であると考えられて
おり、その研究が盛んに行われている。ＣＲＦが関与す
る疾患は、１９９１年Ｏｗｅｎｓ及びＮｅｍｅｒｏｆｆ
の総説［Ｐｈａｒｍａｃｏｌ．Ｒｅｖ．，４３，４２５
（１９９１）］にまとめられている。即ち、鬱病、不安
症、アルツハイマー病、パーキンソン病、ハンティング
トン舞踏病、摂食障害、高血圧、消化器疾患、薬物依存
症、炎症、免疫関連疾患等にＣＲＦが関与している。ま
た最近では、これら疾患ばかりでなく他の多くの疾患に
対してもＣＲＦが関与していると考えられている。即
ち、慢性関節リウマチ及び変形性関節症、痛み、喘息、
乾癬及びアレルギー等の炎症性疾患；汎発性不安障害；
パニック、恐怖症、強迫性障害；外傷後ストレス疾患；
術後侵襲ストレス；ストレス誘発性睡眠障害；線維筋痛
等の痛み知覚；重度の鬱病、単一性エピソード鬱病、再
発性鬱病、小児虐待誘発性鬱病、月経前不快障害、月経
前症候群関連気分障害、分娩後鬱病及び気分変調を含む
鬱病等の気分障害；双極性障害；循環気質；疲労症候
群；ストレス誘発性頭痛；癌、ヒト免疫不全ウィルス
（ＨＩＶ）感染症；アルツハイマー病、パーキンソン
病、ハンティングトン病等の神経変性性疾患；潰瘍、過
敏性腸症候群、クローン病、痙性結腸、下痢、精神的障
害又はストレス関連術後イレウス及び結腸過敏症；神経
性食欲不振及び過食症等の摂食障害；出血性ストレス；
ストレス誘発性精神病エピソード；甲状腺機能障害症候
群；不適切な抗下痢ホルモンに基づく症状；肥満症；不
妊症；頭部外傷；脊椎外傷；虚血性ニューロン損傷（例
えば、大脳海馬虚血等の大脳虚血）；興奮毒性ニューロ
ン損傷；癲癇；高血圧、頻脈及びうっ血性心不全等の心
血管及び心臓関連疾患；ストレス誘発性免疫機能不全を
含む免疫機能不全（例えば、ストレス誘発性熱）；筋肉
痙攣；尿失禁；アルツハイマー型老人性痴呆症；多発脳
梗塞性痴呆症；筋萎縮性側索硬化症；薬物又はアルコー
ルの禁断症状；薬物中毒；骨粗鬆症；心理社会的小人
症；低血糖症等に関与している。このようにＣＲＦ受容
体拮抗薬は、これら種々の疾患の治療剤として有用であ
ると考えられる。従って、ＣＲＦ受容体拮抗薬は今まで
にない新しいタイプの治療薬として期待されている。

【０００４】このような技術背景のもと、特に非ペプチ
ド型のＣＲＦ拮抗薬が報告されている。例えば、特表平
９−５０７８５５号公報（ＷＯ９５／３４５６３号公
報）にはピラゾロ及びピロロピリジン化合物が、特表平
９−５０７２４９号公報（ＷＯ９５／３３７５０号公
報）にはピリジン、ピリミジン、プリノン、ピロロピリ
ミジノン及びピロロピリジノン化合物が、特開平８−２
５９５６７号公報（ＥＰ７２９７５８号公報）にはピラ
ゾロピリミジン及びピロロピリミジン化合物が、特開平
１０−７２４４９号公報（ＥＰ８１２８３１号公報）に
はベンズイミダゾール誘導体が、ＷＯ９８／０５６６１
号公報にはピリド又はピリミド含有６，６−又は６，７
−ビシクロ誘導体が、ＷＯ９８／０８８４６号公報には
６，６−ヘテロビシクロ誘導体が、ＷＯ９８／０８８４
７号公報には６，５−ヘテロビシクロ誘導体が、特表平
７−５０９７２５号公報（ＵＳ５７１２３０３号公報に
はピラゾール及びピラゾロピリミジン化合物が、特表平
７−５０９７２７号公報（ＵＳ５６６８１４５号公報）
にはアミノ置換ピラゾール化合物が、特表平８−５００
１２１号公報（ＵＳ５７０５６４６号公報）にはピラゾ
ール化合物が、特表平７−５０９７２６号公報（ＷＯ９
４／１３６７６号公報）にはピロロピリミジン化合物
が、特表平７−５０９７２８号公報（ＷＯ９４／１３６
７７号公報）にはピラゾロピリミジン化合物が、特表平
９−５０６６３２号公報（ＷＯ９５／３３７２７号公
報）にはピラゾール化合物が、特開平８−３０４１号公
報（ＵＳ５６４６１５２号公報）にはピラゾール、ピラ
ゾロピリミジン又はピロロピリミジン化合物が、特開平
９−１３２５２８号公報（ＥＰ７７３０２３号公報）に
はピリミジン等の化合物が、特開平９−１８８６８２号
公報（ＥＰ７７８２７７号公報）にはピロロピリミジン
等の誘導体が、特表平９−５０４５２０号公報（ＷＯ９
５／１０５０６号公報）には１Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ールピリミジンアミン誘導体が、ＷＯ９７／３５５３９
号公報（ＵＳ５９１２３４８号公報）にはアリールアミ
ノ縮合ピリジン及びピリミジン誘導体が、ＷＯ９７／３
５５８０号公報にはアリールオキシ又はアリールチオで
置換されたピリミジン及びトリアジン誘導体が、ＷＯ９
７／３５８４６号公報にはアリールオキシ−又はアリー
ルチオ−縮合ピリジン及びピリミジン誘導体が、ＷＯ９
７／４４０３８号公報にはテトラヒドロプテリジン及び
ピリジルピペラジン化合物が、ＷＯ９８／０３５１０号
公報にはアゾロトリアジン及びピリミジン化合物が、Ｗ
Ｏ９８／１１０７５号公報にはピラジノン及びトリアジ
ノン誘導体が、ＷＯ９９／０１４３９号公報にはアリー
ル−又はアリールアミノ−で置換された複素環化合物
が、ＷＯ９９／０１４５４号公報にはイミダゾピリミジ
ン及びイミダゾピリジン化合物が、ＷＯ９９／１０３５
０号公報にはイミダゾ［４，５−ｃ］ピラゾール化合物
が、ＷＯ９９／１１６４３号公報には環縮合ピリジン化
合物が、ＷＯ９９／３８８６８号公報にはアゾロトリア
ジン及びピリミジン化合物が、特表平１０−５０６１２
６号公報（ＷＯ９６／３５６８９号公報）にはデアザプ
リン誘導体が、ＷＯ９８／２９４１３号公報（ＵＳ５７
２３６０８号公報）にはピラゾロ［４，３−ｄ］ピリミ
ジン誘導体が、ＷＯ９８／２１２００号公報にはピラゾ
ール誘導体が、ＷＯ９８／２７０６６号公報にはイソキ
ノリナミン及びフタラジナミン誘導体が、ＷＯ９８／４
５２９５号公報（ＵＳ５９５５６１３号公報）にはピロ
ロピリジン誘導体が、ＷＯ９８／４７９０３号公報には
チオフェノピリジン化合物が、ＷＯ９７／１４６８４号
公報にはアミノ置換ピリミジン及びトリアジン化合物
が、ＷＯ９７／２９１１０号公報にはチオフェノピリミ
ジン化合物が、ＷＯ９７／２９１０９号公報（ＵＳ５９
４１５１３号公報）にはピラゾロピリミジン化合物が、
ＷＯ９８／４７８７４号公報にはキノ−及びキナゾリン
化合物が、特表平１１−５０７３５８号公報（ＵＳ５７
９５９０５号公報）にはアミノ置換チアジアゾール、ピ
リミジン、トリアジン又はトリアゾール化合物が、ＷＯ
９８／３５９６７号公報にはピロロ［１，２−ａ］ピリ
ミジン等の化合物が、特開平７−２２４０５１号公報
（ＥＰ６５９７４７号公報）、特表平１０−５１１６９
３号公報（ＵＳ５８８０１３５号公報）及びＷＯ９８／
１５５４３号公報にはアミノチアゾール誘導体が、ＷＯ
９８／４２６９９号公報には４−テトラヒドロピリジル
ピリミジン誘導体が、ＵＳ５０６３２４５号公報にはピ
ラゾリン誘導体が、ＷＯ９９／１２９０８号公報にはキ
ノリン及びキナゾリン誘導体が、ＷＯ９８／２９３９７
号公報には縮合ピリミジン化合物が、ＷＯ９８／５１３
１２号公報には２，３，５，６−テトラヒドロ−１，
２，６−チアジアジン−３，５−ジオン １，１−ジオ
キシド誘導体が、ＷＯ９８／０８８２１号公報（ＵＳ５
８６１３９８号公報）にはベンゾペリミジン−カルボン
酸誘導体が、ＷＯ９９／４００８９号公報にはベンゾチ
アジアゾール誘導体がそれぞれ開示されている。しかし
がらこれら公報には本発明化合物の開示は勿論、それを
示唆する記載も見当たらない。

【０００５】また、本発明の如きベンズアミド構造を有
する化合物に関する報告も数多くなされている。例え
ば、ＷＯ９７／３６８６１号公報にはスルファモイル基
を有するベンズアミド化合物を含むフェニレンスルホン
アミド化合物が開示されている。しかしながら、同公報
には本願発明化合物の如き化合物の開示は勿論、それを
示唆する記載も見当たらない。また、同公報化合物はイ
ンテグリン拮抗薬として記載されており、本発明の如き
ＣＲＦ受容体拮抗作用を示唆する記載もない。

【０００６】ＤＥ２４５３５４８号公報及び特開昭５５
−１７３８２号公報には、利尿剤として３−アミノ−５
−スルファモイル安息香酸誘導体が開示されている。し
かしながら、同公報には本願発明化合物の如き化合物の
開示は勿論、それを示唆する記載も見当たらない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、前記の
ごとくＣＲＦ受容体拮抗作用を有する化合物を提供すべ
く鋭意検討した結果、新規なベンズアミド誘導体が優れ
たＣＲＦ受容体拮抗作用を有することを見出し、本発明
を完成するに至った。

【０００８】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、下記
（１）乃至（１５）に示す新規なベンズアミド誘導体、
その医薬上許容し得る塩又はその水和物若しくは溶媒和
物及びそれらを含んでなる医薬組成物に関する。 （１） 一般式（Ｉ）

【０００９】

【化６】

【００１０】｛式中、Ａは一般式（ＩＩ）

【００１１】

【化７】

【００１２】［式中、Ｒ₁及びＲ₂は同一又は異なってい
てもよく、水素原子；水酸基、炭素数１乃至４個の低級
アルコキシ基、炭素数３乃至７個のシクロアルキル基及
びアリール基から選ばれる置換基で置換されていてもよ
い炭素数１乃至４個の低級アルキル基；炭素数１乃至４
個の低級アルコキシ基；炭素数１乃至４個のハロゲン化
低級アルキル基；炭素数３乃至７個のシクロアルキル
基；若しくはアリール基であり、又はＲ₁とＲ₂が一緒に
なって、場合によりＲ₁とＲ₂とに隣接する窒素原子以外
に窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよ
く、炭素数１乃至４個の低級アルキル基で置換されてい
てもよい５乃至６員の飽和複素環を形成してもよく、Ｒ
₃及びＲ₄は同一又は異なっていてもよく、水素原子；ハ
ロゲン原子；炭素数１乃至４個の低級アルキル基；炭素
数１乃至４個の低級アルコキシ基；又は炭素数１乃至４
個の低級アルキル基及び炭素数１乃至４個の低級アルキ
ルスルホニル基から選ばれる置換基で置換されていても
よいアミノ基であり、Ｒ₅は水素原子；ハロゲン原子；
水酸基及び炭素数１乃至４個の低級アルコキシ基から選
ばれる置換基で置換されていてもよい炭素数１乃至４個
の低級アルキル基；炭素数１乃至４個のハロゲン化低級
アルキル基；ハロゲン原子及び炭素数３乃至７個のシク
ロアルキル基から選ばれる置換基で置換されていてもよ
い炭素数１乃至４個の低級アルコキシ基；炭素数２乃至
５個の低級アルカノイル基；ニトロ基；シアノ基；炭素
数１乃至４個の低級アルキル基で置換されていてもよい
カルバモイル基；炭素数１乃至４個の低級アルキルスル
ホニル基；カルボキシ基；炭素数２乃至５個の低級アル
コキシカルボニル基；ハロゲン原子及び炭素数３乃至７
個のシクロアルキル基から選ばれる置換基で置換されて
いてもよい炭素数１乃至４個の低級アルキル基、炭素数
２乃至５個の低級アルカノイル基、炭素数２乃至５個の
低級アルコキシカルボニル基、炭素数１乃至４個の低級
アルキルスルホニル基、及び炭素数３乃至７個のシクロ
アルキル基から選ばれる置換基で置換されていてもよい
アミノ基；５乃至６員の窒素原子含有飽和複素環基；炭
素数３乃至７個のシクロアルキル基；又は炭素数３乃至
７個のシクロアルキルオキシ基であり、Ｒ₆は水素原
子；ハロゲン原子；炭素数１乃至４個の低級アルキル
基；炭素数１乃至４個の低級アルキル基で置換されてい
てもよいアミノ基；シアノ基；カルボキシ基；炭素数２
乃至５個の低級アルコキシカルボニル基；炭素数２乃至
５個の低級アルカノイル基；カルバモイル基；炭素数１
乃至４個の低級アルキルチオ基；炭素数１乃至４個の低
級アルキルスルフィニル基；炭素数１乃至４個の低級ア
ルキルスルホニル基；炭素数３乃至７個のシクロアルキ
ル基；窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる１
乃至２個の複素原子を有する５乃至６員の飽和複素環
基；又は−ＯＲ₁₆ （ここでＲ₁₆は水素原子；水酸基、炭
素数１乃至４個の低級アルコキシ基、トリフルオロメチ
ル基、シアノ基、炭素数１乃至４個の低級アルキル基で
置換されていてもよいアミノ基、カルボキシ基、炭素数
２乃至５個の低級アルコキシカルボニル基及び炭素数３
乃至７個のシクロアルキル基から選ばれる置換基で置換
されていてもよい炭素数１乃至６個のアルキル基；トリ
フルオロメチル基；炭素数２乃至４個の低級アルケニル
基；炭素数２乃至４個の低級アルキニル基；炭素数１乃
至４個の低級アルキル基で置換されていてもよいカルバ
モイル基；炭素数１乃至４個の低級アルキルスルホニル
基；ホスホノ基；炭素数３乃至７個のシクロアルキル
基；アリール基；若しくはベンジル基であり、又はＲ₅
とＲ₁₆が一緒になって、炭素数１乃至４個の低級アルキ
ル基又はオキソ基で置換されていてもよい５乃至６員の
飽和複素環を形成してもよい）である］；又は一般式
（ＩＩＩ）

【００１３】

【化８】

【００１４】［式中、Ｒ₇は水酸基；炭素数１乃至４個
の低級アルコキシ基；又は−ＮＲ₁₇Ｒ₁₈ （ここでＲ₁₇及
びＲ₁₈は同一又は異なっていてもよく、水素原子；炭素
数１乃至４個の低級アルキル基；炭素数１乃至４個の低
級アルコキシ基；若しくはベンジル基であり、又はＲ₁₇
とＲ₁₈が一緒になって、場合によりＲ₁₇とＲ₁₈とに隣接
する窒素原子以外に窒素原子、酸素原子または硫黄原子
を有していてもよい５乃至６員の飽和複素環を形成して
もよい）であり、Ｒ₈は炭素数１乃至４個の低級アルコ
キシ基及び炭素数１乃至４個の低級アルキル基で置換さ
れていてもよいアミノ基から選ばれる置換基で置換され
ていてもよい炭素数１乃至４個の低級アルキル基であ
り、Ｒ₉は水素原子；炭素数１乃至４個の低級アルキル
基；アリール基；炭素数１乃至４個の低級アルキル基で
置換されていてもよいアミノスルホニル基；又は−ＣＯ
Ｒ₁₉ ［ここでＲ₁₉は水酸基；炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基；炭素数１乃至４個の低級アルコキシ基；炭素
数３乃至７個のシクロアルキル基；アリール基；又は−
ＮＲ₂₀Ｒ₂₁ （ここでＲ₂₀及びＲ₂₁は同一又は異なってい
てもよく、水素原子；炭素数１乃至４個の低級アルキル
基；炭素数３乃至７個のシクロアルキル基；アリール
基；若しくはベンジル基であり、又はＲ₂₀とＲ₂₁が一緒
になって、場合によりＲ₂₀とＲ₂₁とに隣接する窒素原子
以外に窒素原子、酸素原子または硫黄原子を有していて
もよい５乃至６員の飽和複素環を形成してもよい）であ
る］であり、Ｘは−Ｓ−；−Ｏ−；又は−ＮＲ₂₄−（こ
こでＲ₂₄は水素原子；又は炭素数１乃至４個の低級アル
キル基である）である］であり、Ｒ₁₀は水素原子；カル
ボキシ基及び炭素数２乃至５個の低級アルコキシカルボ
ニル基から選ばれる置換基で置換されていてもよい炭素
数１乃至４個の低級アルキル基であり、Ｒ₁₁は水素原
子；ハロゲン原子；水酸基；ニトロ基；又は炭素数１乃
至４個の低級アルキル基であり、Ｒ₁₂は水素原子；ハロ
ゲン原子；ニトロ基；炭素数１乃至４個の低級アルキル
基；トリフルオロメチル基；又は炭素数１乃至４個の低
級アルコキシ基であり、Ｒ₁₃は−ＯＲ₂₂ （ここでＲ₂₂は
水素原子；アルカリ金属；又はホスホノ基である）；−
ＹＲ₂₃ ［ここでＹは−Ｏ−；又は−ＮＲ₂₅−（ここでＲ
₂₅は水素原子；又は炭素数１乃至４個の低級アルキル基
である）であり、Ｒ₂₃はアリール基、カルボキシ基及び
炭素数２乃至５個の低級アルコキシカルボニル基から選
ばれる置換基で置換されていてもよい炭素数１乃至４個
の低級アルキル基；炭素数１乃至４個の低級アルキルス
ルホニル基；又はカルボキシ基で置換されていてもよい
アリール基である］；アミノ基；カルボキシ基；又は炭
素数２乃至５個の低級アルコキシカルボニル基であり、
Ｒ₁₄は水素原子；ハロゲン原子；炭素数１乃至４個の低
級アルキル基；炭素数１乃至４個の低級アルコキシ基；
ニトロ基；トリフルオロメチル基；炭素数１乃至４個の
低級アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい
炭素数１乃至４個の低級アルキルスルホニル基及び炭素
数２乃至５個の低級アルカノイル基で置換されていても
よいアミノ基；アミノスルホニル基；炭素数１乃至４個
の低級アルキルスルホニル基；炭素数２乃至５個の低級
アルカノイル基；カルボキシ基；炭素数２乃至５個の低
級アルコキシカルボニル基；水酸基及び炭素数１乃至４
個の低級アルキル基から選ばれる置換基で置換されてい
てもよいカルバモイル基；又はシアノ基であり、Ｒ₁₅は
水素原子；炭素数１乃至４個の低級アルキル基；ハロゲ
ン原子；ニトロ基；又は水酸基である｝で表されるベン
ズアミド誘導体、その医薬上許容し得る塩又はその水和
物若しくは溶媒和物。

【００１５】（２） Ｒ₁₀が水素原子であり、Ｒ₁₁が水
素原子であり、Ｒ₁₂がハロゲン原子；又はニトロ基であ
り、Ｒ₁₃が−ＯＲ₂₂ （ここでＲ₂₂が水素原子；又はアル
カリ金属である）；又は−ＹＲ₂₃ （ここでＹが−Ｏ−で
あり、Ｒ₂₃がアリール基、カルボキシ基及び炭素数２乃
至５個の低級アルコキシカルボニル基から選ばれる置換
基で置換されていてもよい炭素数１乃至４個の低級アル
キル基である）であり、Ｒ₁₄がハロゲン原子；又はニト
ロ基であり、Ｒ₁₅が水素原子である上記（１）記載のベ
ンズアミド誘導体、その医薬上許容し得る塩又はその水
和物若しくは溶媒和物。

【００１６】（３） Ｒ₁₃が−ＯＲ₂₂ （ここでＲ₂₂が水
素原子；又はアルカリ金属である）である上記（２）記
載のベンズアミド誘導体、その医薬上許容し得る塩又は
その水和物若しくは溶媒和物。

【００１７】（４） Ａが一般式（ＩＩ）

【００１８】

【化９】

【００１９】（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆
は上記（１）と同じである）である上記（１）乃至
（３）記載のベンズアミド誘導体、その医薬上許容し得
る塩又はその水和物若しくは溶媒和物。

【００２０】（５） Ｒ₁及びＲ₂が同一又は異なってい
てもよく、炭素数１乃至４個の低級アルキル基であり、
Ｒ₃及びＲ₄が水素原子であり、Ｒ₅が炭素数１乃至４個
の低級アルキル基；炭素数１乃至４個の低級アルコキシ
基；又は炭素数１乃至４個の低級アルキル基置換されて
いてもよいアミノ基であり、Ｒ₆が炭素数１乃至４個の
低級アルキル基で置換されていてもよいアミノ基；炭素
数２乃至５個の低級アルコキシカルボニル基又は−ＯＲ
₁₆ （ここでＲ₁₆が炭素数１乃至４個の低級アルコキシ
基、トリフルオロメチル基、シアノ基及び炭素数２乃至
５個の低級アルコキシカルボニル基から選ばれる置換基
で置換されていてもよい炭素数１乃至６個のアルキル
基；炭素数２乃至４個の低級アルケニル基；又は炭素数
２乃至５個の低級アルキニル基である）である上記
（４）記載のベンズアミド誘導体、その医薬上許容し得
る塩又はその水和物若しくは溶媒和物。

【００２１】（６） Ｒ₁及びＲ₂がエチル基であり、Ｒ
₅がエチル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ
基又はジメチルアミノ基であり、Ｒ₆がエトキシカルボ
ニル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ブトキシ基、２，２，２−トリフルオロ
メチルメトキシ基、アリルオキシ基又は２−プロピニル
オキシ基である上記（５）記載のベンズアミド誘導体、
その医薬上許容し得る塩又はその水和物若しくは溶媒和
物。

【００２２】（７） Ａが３−エチル−５−ジエチルス
ルファモイル−２−メトキシフェニル基、２−エトキシ
−３−エチル−５−ジエチルスルファモイルフェニル
基、３−エチル−５−ジエチルスルファモイル−２−プ
ロポキシフェニル基、５−ジエチルスルファモイル−３
−イソプロピル−２−プロポキシフェニル基、５−ジエ
チルスルファモイル−２−プロポキシ−３−プロピルフ
ェニル基、５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシ
−３−プロピルフェニル基、３−エチル−５−ジエチル
スルファモイル−２−（２，２，２−トリフルオロエト
キシ）フェニル基、２−アリルオキシ−３−エチル−５
−ジエチルスルファモイルフェニル基、３−エチル−５
−ジエチルスルファモイル−２−（２−プロピニルオキ
シ）フェニル基、５−ジエチルスルファモイル−２，３
−ジメトキシフェニル基、２−エトキシカルボニル−３
−エチル−５−ジエチルスルファモイルフェニル基又は
５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシ−３−ジメ
チルアミノフェニル基である上記（６）記載のベンズア
ミド誘導体、その医薬上許容し得る塩又はその水和物若
しくは溶媒和物。

【００２３】（８） Ａが一般式（ＩＩＩ）

【００２４】

【化１０】

【００２５】（式中、Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉及びＸは上記
（１）と同じである）である上記（１）乃至（３）記載
のベンズアミド誘導体、その医薬上許容し得る塩又はそ
の水和物若しくは溶媒和物。

【００２６】（９） Ｒ₇が炭素数１乃至４個の低級ア
ルコキシ基；又は−ＮＲ₁₇Ｒ₁₈ （ここでＲ₁₇及びＲ₁₈が
同一又は異なっていてもよく、水素原子；又は炭素数１
乃至４個の低級アルキル基である）であり、Ｒ₈が炭素
数１乃至４個の低級アルコキシ基で置換されていてもよ
い炭素数１乃至４個の低級アルキル基であり、Ｒ₉が炭
素数１乃至４個の低級アルキル基で置換されていてもよ
いアミノスルホニル基；又は−ＣＯＲ₁₉ ［ここでＲ₁₉が
炭素数１乃至４個の低級アルキル基；炭素数１乃至４個
の低級アルコキシ基；炭素数３乃至７個のシクロアルキ
ル基；又は−ＮＲ₂₀Ｒ₂₁ （ここでＲ₂₀及びＲ₂₁が同一又
は異なっていてもよく、水素原子；又は炭素数１乃至４
個の低級アルキル基である。）である］であり、Ｘが−
Ｓ−である上記（８）記載のベンズアミド誘導体、その
医薬上許容し得る塩又はその水和物若しくは溶媒和物。

【００２７】（１０） Ｒ₇がメトキシ基又はエトキシ
基であり、Ｒ₈がメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基又はメトキシメチル基であり、Ｒ₉がジエチルア
ミノスルホニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基又はシクロプロパンカルボニル基である上記
（９）記載のベンズアミド誘導体、その医薬上許容し得
る塩又はその水和物若しくは溶媒和物。

【００２８】（１１） Ａが３，５−ジ−エトキシカル
ボニル−４−メチル−２−チエニル基、３，５−ジ−エ
トキシカルボニル−４−プロピル−２−チエニル基、
３，５−ジ−エトキシカルボニル−４−（メトキシメチ
ル）−２−チエニル基、４−エチル−３，５−ジ−メト
キシカルボニル−２−チエニル基、３−エトキシカルボ
ニル−４−エチル−５−メトキシカルボニル−２−チエ
ニル基、５−エトキシカルボニル−４−エチル−３−メ
トキシカルボニル−２−チエニル基、５−シクロプロパ
ンカルボニル−３−エトキシカルボニル−４−エチル−
２−チエニル基、３，５−ジ−エトキシカルボニル−４
−エチル−２−チエニル基又は３−エトキシカルボニル
−４−エチル−５−ジエチルスルファモイル−２−チエ
ニル基である上記（１０）記載のベンズアミド誘導体、
その医薬上許容し得る塩又はその水和物若しくは溶媒和
物。

【００２９】（１２） ３，５−ジクロロ−Ｎ−（３−
エチル−５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシフ
ェニル）−４−ヒドロキシベンズアミド；３，５−ジク
ロロ−Ｎ−（２−エトキシ−３−エチル−５−ジエチル
スルファモイルフェニル）−４−ヒドロキシベンズアミ
ド；３，５−ジクロロ−Ｎ−（３−エチル−５−ジエチ
ルスルファモイル−２−プロポキシフェニル）−４−ヒ
ドロキシベンズアミド；３，５−ジクロロ−Ｎ−（５−
ジエチルスルファモイル−３−イソプロピル−２−プロ
ポキシフェニル）−４−ヒドロキシベンズアミド；３，
５−ジクロロ−Ｎ−（５−ジエチルスルファモイル−２
−プロポキシ−３−プロピルフェニル）−４−ヒドロキ
シベンズアミド；３，５−ジクロロ−Ｎ−（５−ジエチ
ルスルファモイル−２−メトキシ−３−プロピルフェニ
ル）−４−ヒドロキシベンズアミド；ナトリウム ２，
６−ジクロロ−４−［Ｎ−（３−エチル−５−ジエチル
スルファモイル−２−メトキシフェニル）カルバモイ
ル］フェノキシド；カリウム ２，６−ジクロロ−４−
［Ｎ−（３−エチル−５−ジエチルスルファモイル−２
−メトキシフェニル）カルバモイル］フェノキシド；ナ
トリウム ２，６−ジクロロ−４−［Ｎ−（３−エチル
−５−ジエチルスルファモイル−２−プロポキシフェニ
ル）カルバモイル］フェノキシド；リン酸 ２，６−ジ
クロロ−４−［Ｎ−（３−エチル−５−ジエチルスルフ
ァモイル−２−メトキシフェニル）カルバモイル］フェ
ニル；ナトリウム ２，６−ジクロロ−４−［Ｎ−（３
−エチル−５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシ
フェニル）カルバモイル］フェノキシド；カリウム
２，６−ジクロロ−４−［Ｎ−（３−エチル−５−ジエ
チルスルファモイル−２−メトキシフェニル）カルバモ
イル］フェノキシド；ナトリウム ２，６−ジクロロ−
４−［Ｎ−（３−エチル−５−ジエチルスルファモイル
−２−プロポキシフェニル）カルバモイル］フェノキシ
ド；リン酸 ２，６−ジクロロ−４−［Ｎ−（３−エチ
ル−５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシフェニ
ル）カルバモイル］フェニル；３，５−ジクロロ−Ｎ−
［３−エチル−５−ジエチルスルファモイル−２−
（２，２，２−トリフルオロエトキシ）フェニル］−４
−ヒドロキシベンズアミド；３，５−ジクロロ−Ｎ−
（２−アリルオキシ−３−エチル−５−ジエチルスルフ
ァモイルフェニル）−４−ヒドロキシベンズアミド；
３，５−ジクロロ−Ｎ−［３−エチル−５−ジエチルス
ルファモイル−２−（２−プロピニルオキシ）フェニ
ル］−４−ヒドロキシベンズアミド；３，５−ジクロロ
−Ｎ−（５−ジエチルスルファモイル−２，３−ジメト
キシフェニル）−４−ヒドロキシベンズアミド；３，５
−ジクロロ−Ｎ−（２−エトキシカルボニル−３−エチ
ル−５−ジエチルスルファモイルフェニル）−４−ヒド
ロキシベンズアミド；３−クロロ−Ｎ−（５−ジエチル
スルファモイル−２，３−ジメトキシフェニル）−４−
ヒドロキシ−５−ニトロベンズアミド；５−（４−ヒド
ロキシ−３，５−ジニトロベンゾイルアミノ）−３−メ
チルチオフェン−２，４−ジカルボン酸ジエチルエステ
ル；５−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシベンゾイ
ルアミノ）−３−エチルチオフェン−２，４−ジカルボ
ン酸ジエチルエステル；５−（３，５−ジクロロ−４−
ヒドロキシベンゾイルアミノ）−３−プロピルチオフェ
ン−２，４−ジカルボン酸ジエチルエステル；５−
（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシベンゾイルアミ
ノ）−３−（メトキシメチル）チオフェン−２，４−ジ
カルボン酸ジエチルエステル；５−（３，５−ジクロロ
−４−ヒドロキシベンゾイルアミノ）−３−エチルチオ
フェン−２，４−ジカルボン酸ジメチルエステル；５−
（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシベンゾイルアミ
ノ）−３−エチルチオフェン−２，４−ジカルボン酸
４−エチルエステル ２−メチルエステル；５−（３，
５−ジクロロ−４−ヒドロキシベンゾイルアミノ）−３
−エチルチオフェン−２，４−ジカルボン酸 ２−エチ
ルエステル ４−メチルエステル；２−（３，５−ジク
ロロ−４−ヒドロキシベンゾイルアミノ）−５−シクロ
プロパンカルボニル−４−エチルチオフェン−３−カル
ボン酸エチルエステル；３−エチル−５−（４−ヒドロ
キシ−３，５−ジニトロベンゾイルアミノ）チオフェン
−２，４−ジカルボン酸ジエチルエステル；２−（３，
５−ジクロロ−４−ヒドロキシベンゾイルアミノ）−５
−ジエチルスルファモイル−４−エチルチオフェン−３
−カルボン酸エチルエステル；ナトリウム ２，６−ジ
クロロ−４−［Ｎ−［３，５−ビス（エトキシカルボニ
ル）−４−エチル−２−チエニル］カルバモイル］フェ
ノキシド；及び３，５−ジクロロ−Ｎ−（５−ジエチル
スルファモイル−２−メトキシ−３−ジメチルアミノフ
ェニル）−４−ヒドロキシベンズアミドからなる群より
選ばれる上記（１）記載の化合物、その医薬上許容し得
る塩又はその水和物若しくは溶媒和物。

【００３０】（１３） 上記（１）乃至（１２）記載の
化合物、その医薬上許容し得る塩又はその水和物若しく
は溶媒和物を有効成分としてなる副腎皮質刺激ホルモン
放出因子（ＣＲＦ）受容体拮抗薬。

【００３１】（１４） 上記（１）乃至（１２）記載の
化合物、その医薬上許容し得る塩又はその水和物若しく
は溶媒和物を有効成分としてなるＣＲＦにより誘発又は
促進される疾患の治療剤。

【００３２】（１５） 上記（１）乃至（１２）記載の
化合物、その医薬上許容し得る塩又はその水和物若しく
は溶媒和物を有効成分としてなる医薬組成物。

【００３３】ここで、「炭素数１乃至４個の低級アルキ
ル基」とは、直鎖であっても分枝状であってもよい炭素
原子数１乃至４個のアルキル基を意味し、具体的にはメ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチ
ル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブ
チル基等である。

【００３４】「炭素数１乃至６個のアルキル基」とは、
直鎖であっても分枝状であってもよい炭素原子数１乃至
６個のアルキル基を意味し、具体的にはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブ
チル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペン
チル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１−ジ
メチルプロピル基、１−エチルブチル基、２−エチルブ
チル基、１，１−ジメチルブチル基、ヘキシル基等であ
る。

【００３５】「炭素数２乃至４個の低級アルケニル基」
とは、直鎖であっても分枝状であってもよい炭素原子数
２乃至４個のアルケニル基を意味し、具体的にはビニル
基、アリル基、１−プロペニル基、イソプロペニル基、
１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、
１，３−ブタジエニル基、１−メチル−１−プロペニル
基、１−メチル−２−プロペニル基、１−エチルビニル
基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−
プロペニル基等である。

【００３６】「炭素数２乃至４個の低級アルキニル基」
とは、直鎖であっても分枝状であってもよい炭素原子数
２乃至４個のアルキニル基を意味し、具体的にはエチニ
ル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチ
ニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−メチル
−２−プロピニル基等である。

【００３７】「ハロゲン原子」とは、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子である。

【００３８】「炭素数１乃至４個のハロゲン化低級アル
キル基」とは、前述の炭素数１乃至４個の低級アルキル
基に１乃至３個の同一又は異なったハロゲン原子が置換
したものを意味し、具体的にはフルオロメチル基、クロ
ロメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、ジ
クロロメチル基、トリフルオロメチル基、トリクロロメ
チル基、フルオロエチル基、クロロエチル基、ジフルオ
ロエチル基、トリフルオロエチル基、ペンタクロロエチ
ル基、ブロモプロピル基、ジクロロプロピル基、トリフ
ルオロブチル基等である。

【００３９】「炭素数１乃至４個の低級アルコキシ基」
とは、前述の炭素数１乃至４個の低級アルキル基を有す
るアルコキシ基を意味し、具体的にはメトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ
基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−
ブトキシ基等である。

【００４０】「炭素数１乃至４個の低級アルキルチオ
基」とは、前述の炭素数１乃至４個の低級アルキル基を
有するアルキルチオ基を意味し、具体的にはメチルチオ
基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ
基、ブチルチオ基、イソブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチル
チオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等である。

【００４１】「炭素数１乃至４個の低級アルキルスルフ
ィニル基」とは、前述の炭素数１乃至４個の低級アルキ
ル基を有するアルキルスルフィニル基を意味し、具体的
にはメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プ
ロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、
ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓ
ｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフ
ィニル基等である。

【００４２】「炭素数１乃至４個の低級アルキルスルホ
ニル基」とは、前述の炭素数１乃至４個の低級アルキル
基を有するアルキルスルホニル基を意味し、具体的には
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルス
ルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホ
ニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスル
ホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基等である。

【００４３】「炭素数２乃至５個の直鎖又は分枝状の低
級アルカノイル基」とは、前述の炭素数１乃至４個の低
級アルキル基を有するアルカノイル基を意味し、具体的
にはアセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブ
チリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基
等である。

【００４４】「炭素数２乃至５個の直鎖又は分枝状の低
級アルコキシカルボニル基」とは、前述の炭素数１乃至
４個の低級アルコキシ基を有するアルコキシカルボニル
基を意味し、具体的にはメトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポ
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキ
シカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシカルボニル基等である。

【００４５】「炭素数３乃至７個のシクロアルキル基」
とは、炭素原子数３乃至７個のシクロアルキル基を意味
し、具体的にはシクロプロピル基、シクロブチル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基
等である。

【００４６】「炭素数３乃至７個のシクロアルキルオキ
シ基」とは、前述の炭素数３乃至７個のシクロアルキル
基を有するシクロアルキルオキシ基を意味し、具体的に
はシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シ
クロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シク
ロヘプチルオキシ基等である。

【００４７】「アリール基」とは、フェニル基、ナフチ
ル基、ビフェニル基等である。

【００４８】「５乃至６員の飽和複素環」とは、窒素原
子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる１乃至２個の複
素原子を有する５乃至６員の飽和複素環を意味し、具体
的にはピロリジン環、テトラヒドロフラン環、イミダゾ
リジン環、モルホリン環、ピペリジン環、ピペラジン
環、テトラヒドロピラン環等である。

【００４９】「５乃至６員の窒素原子含有飽和複素環
基」とは、窒素原子を含有し、場合により酸素原子又は
硫黄原子を含んでいてもよい５乃至６員の飽和複素環基
を意味し、具体的にはピロリジニル基、イミダゾリジニ
ル基、モルホリノ基、ピペリジル基、ピペラジニル基等
である。

【００５０】「アルカリ金属」とは、リチウム、ナトリ
ウム、カリウム等である。以下、より具体的に述べる
が、必ずしも下記に限定されるものではない。

【００５１】Ｒ₁、Ｒ₂における「炭素数１乃至４個の低
級アルキル基」としては、好ましくはメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基であり、特
に好ましいのはメチル基、エチル基である。

【００５２】Ｒ₁、Ｒ₂における低級アルキル基の置換基
である「炭素数１乃至４個の低級アルコキシ基」として
は、好ましいのはメトキシ基である。

【００５３】Ｒ₁、Ｒ₂における低級アルキル基の置換基
である「炭素数３乃至７個のシクロアルキル基」として
は、好ましいのはシクロプロピル基である。

【００５４】Ｒ₁、Ｒ₂における低級アルキル基の置換基
である「アリール基」としては、好ましいのはフェニル
基である。

【００５５】Ｒ₁、Ｒ₂における低級アルキル基の「置換
されていてもよい」としては、好ましくは１乃至２個の
置換基で置換されていてもよいことであり、特に好まし
くは１個の置換基で置換されていてもよいことである。

【００５６】Ｒ₁、Ｒ₂における「置換されていてもよい
炭素数１乃至４個の低級アルキル基」としては、好まし
くはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−メトキシ
エチル基、シクロプロピルメチル基、ベンジル基であ
る。

【００５７】Ｒ₁、Ｒ₂における「炭素数１乃至４個の低
級アルコキシ基」としては、好ましくはメトキシ基であ
る。

【００５８】Ｒ₁、Ｒ₂における「炭素数１乃至４個のハ
ロゲン化低級アルキル基」としては、好ましくはフルオ
ロエチル基、トリフルオロエチル基である。

【００５９】Ｒ₁、Ｒ₂における「炭素数３乃至７個のシ
クロアルキル基」としては、好ましくはシクロプロピル
基である。

【００６０】Ｒ₁、Ｒ₂における「アリール基」として
は、好ましくはフェニル基である。

【００６１】Ｒ₁、Ｒ₂におけるＲ₁とＲ₂が一緒になっ
て、形成される「５乃至６員の飽和複素環」としては、
好ましくはピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環
であり、特に好ましくはピロリジン環、ピペラジン環で
ある。

【００６２】Ｒ₁、Ｒ₂におけるＲ₁とＲ₂が一緒になっ
て、形成される５乃至６員の飽和複素環の置換基である
「炭素数１乃至４個の低級アルキル基」としては、好ま
しくはメチル基である。

【００６３】Ｒ₁、Ｒ₂におけるＲ₁とＲ₂が一緒になっ
て、形成される５乃至６員の飽和複素環の「置換されて
いてもよい」としては、好ましくは１乃至２個の置換基
で置換されていてもよいことであり、特に好ましくは１
個の置換基で置換されていてもよいことである。

【００６４】Ｒ₁、Ｒ₂としては、好ましくは水素原子、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、２−ヒドロキシエチル基、２−メトキシエチル
基、シクロプロピルメチル基、ベンジル基、メトキシ
基、２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロ
エチル基、シクロプロピル基、フェニル基、又はＲ₁と
Ｒ₂が一緒になってピロリジン環、４−メチルピペラジ
ン環であり、特に好ましくはエチル基である。

【００６５】Ｒ₃、Ｒ₄における「ハロゲン原子」として
は、好ましくはフッ素原子である。

【００６６】Ｒ₃、Ｒ₄における「炭素数１乃至４個の低
級アルキル基」としては、メチル基である。

【００６７】Ｒ₃、Ｒ₄における「炭素数１乃至４個の低
級アルコキシ基」としては、好ましくはメトキシ基、プ
ロポキシ基である

【００６８】Ｒ₃、Ｒ₄におけるアミノ基の置換基である
「炭素数１乃至４個の低級アルキル基」としては、好ま
しくはメチル基、エチル基である。

【００６９】Ｒ₃、Ｒ₄におけるアミノ基の置換基である
「炭素数１乃至４個の低級アルキルスルホニル基」とし
ては、好ましくはメチルスルホニル基である。

【００７０】Ｒ₃、Ｒ₄におけるアミノ基の「置換されて
いてもよい」としては、１乃至２個の置換基で置換され
ていてもよいことである。

【００７１】Ｒ₃、Ｒ₄における「置換されていてもよい
アミノ基」としては、好ましくはメチルアミノ基、ジメ
チルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルスルホニルア
ミノ基である。

【００７２】Ｒ₃、Ｒ₄としては、好ましくは水素原子、
フッ素原子、メチル基、メトキシ基、プロポキシ基、メ
チルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、
メチルスルホニルアミノ基であり、特に好ましくは水素
原子である。

【００７３】Ｒ₅における「ハロゲン原子」としては、
好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子である。

【００７４】Ｒ₅における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基」としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基であり、特に好ましくはエチル基で
ある。

【００７５】Ｒ₅における低級アルキル基の置換基であ
る「炭素数１乃至４個の低級アルコキシ基」としては、
好ましくはメトキシ基である。

【００７６】Ｒ₅における低級アルキル基の「置換され
ていてもよい」としては、好ましくは１乃至２個の置換
基で置換されていてもよいことであり、特に好ましくは
１個の置換基で置換されていてもよいことである。

【００７７】Ｒ₅における「置換されていてもよい炭素
数１乃至４個の低級アルキル基」としては、好ましくは
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、２
−ヒドロキシエチル基、２−メトキシエチル基であり、
特に好ましくはエチル基である。

【００７８】Ｒ₅における「炭素数１乃至４個のハロゲ
ン化低級アルキル基」としては、好ましくはトリフルオ
ロメチル基である。

【００７９】Ｒ₅における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルコキシ基」としては、好ましくはメトキシ基、エトキ
シ基、プロポキシ基である。

【００８０】Ｒ₅における低級アルコキシ基の置換基で
ある「ハロゲン原子」としては、好ましくはフッ素原子
である。

【００８１】Ｒ₅における低級アルコキシ基の置換基で
ある「炭素数３乃至７個のシクロアルキル基」として
は、好ましくはシクロプロピル基である。

【００８２】Ｒ₅における低級アルキル基の「置換され
ていてもよい」としては、好ましくは１乃至３個の置換
基で置換されていてもよいことである。

【００８３】Ｒ₅における「置換されていてもよい炭素
数１乃至４個の低級アルコキシ基」としては、好ましく
はメトキシ基、エトキシ基、シクロプロピルメトキシ
基、トリフルオロエトキシ基であり、特に好ましくはメ
トキシ基である。

【００８４】Ｒ₅における「炭素数２乃至５個の低級ア
ルカノイル基」としては、好ましくはアセチル基であ
る。

【００８５】Ｒ₅におけるカルバモイル基の置換基であ
る「炭素数１乃至４個の低級アルキル基」としては、好
ましくはメチル基である。

【００８６】Ｒ₅におけるカルバモイル基の「置換され
ていてもよい」としては、１乃至２個の置換基で置換さ
れていてもよいことである。

【００８７】Ｒ₅における「置換されていてもよいカル
バモイル基」としては、好ましくはカルバモイル基、メ
チルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基ある。

【００８８】Ｒ₅における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキルスルホニル基」としては、好ましくはメチルスル
ホニル基である。

【００８９】Ｒ₅における「炭素数２乃至５個の低級ア
ルコキシカルボニル基」としては、好ましくはメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基である。

【００９０】Ｒ₅におけるアミノ基の置換基である低級
アルキル基の置換基である「ハロゲン原子」としては、
好ましくはフッ素原子である。

【００９１】Ｒ₅におけるアミノ基の置換基である低級
アルキル基の置換基である「炭素数３乃至７個のシクロ
アルキル基」としては、好ましくはシクロプロピル基で
ある。

【００９２】Ｒ₅におけるアミノ基の置換基である「置
換されていてもよい炭素数１乃至４個の低級アルキル
基」としては、好ましくはメチル基、エチル基、プロピ
ル基、フルオロエチル基、シクロプロピルメチル基であ
る。

【００９３】Ｒ₅におけるアミノ基の置換基である「炭
素数２乃至５個の低級アルカノイル基」としては、好ま
しくはアセチル基である。

【００９４】Ｒ₅におけるアミノ基の置換基である「炭
素数２乃至５個の低級アルコキシカルボニル基」として
は、好ましくはメトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニル基である。

【００９５】Ｒ₅におけるアミノ基の置換基である「炭
素数１乃至４個の低級アルキルスルホニル基」として
は、好ましくはメチルスルホニル基である。

【００９６】Ｒ₅におけるアミノ基の置換基である「炭
素数３乃至７個のシクロアルキル基」としては、好まし
くはシクロプロピル基である。

【００９７】Ｒ₅におけるアミノ基の「置換されていて
もよい」としては、１乃至２個の置換基で置換されてい
てもよいことである。

【００９８】Ｒ₅における「置換されていてもよいアミ
ノ基」としては、好ましくはアミノ基、メチルアミノ
基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミ
ノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−
Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−（２−フルオロエチル）−
Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−（シクロプロピルメチル）−
Ｎ−メチルアミノ基、アセチルアミノ基、Ｎ−アセチル
−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−シクロプロピル−Ｎ−メチ
ルアミノ基、Ｎ−（メトキシカルボニル）アミノ基、Ｎ
−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−Ｎ−メチルアミ
ノ基、Ｎ−（メチルスルホニル）アミノ基であり、特に
好ましくはジメチルアミノ基である。

【００９９】Ｒ₅における「５乃至６員の窒素原子含有
飽和複素環基」としては、好ましくはピロリジニル基、
ピペリジル基である。

【０１００】Ｒ₅における「炭素数３乃至７個のシクロ
アルキル基」としては、好ましくはシクロプロピル基、
シクロペンチル基である。

【０１０１】Ｒ₅における「炭素数３乃至７個のシクロ
アルキルオキシ基」としては、好ましくはシクロプロピ
ルオキシ基、シクロペンチルオキシ基である。

【０１０２】Ｒ₅としては、好ましくは水素原子、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、２−ヒドロキシエチル基、
２−メトキシエチル基、トリフルオロメチル基、メトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、２，２，２−トリフ
ルオロエトキシ基、シクロプロピルメトキシ基、アセチ
ル基、ニトロ基、シアノ基、カルバモイル基、メチルカ
ルバモイル基、ジメチルカルバモイル基、メチルスルホ
ニル基、カルボキシ基、メトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基、アミノ基、メチルアミノ基、エチルア
ミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−エ
チル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピル
アミノ基、Ｎ−（２−フルオロエチル）−Ｎ−メチルア
ミノ基、Ｎ−（シクロプロピルメチル）−Ｎ−メチルア
ミノ基、アセチルアミノ基、Ｎ−アセチル−Ｎ−メチル
アミノ基、Ｎ−シクロプロピル−Ｎ−メチルアミノ基、
Ｎ−（メトキシカルボニル）アミノ基、Ｎ−（ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニル）−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−
（メチルスルホニル）アミノ基、ピロリジニル基、ピペ
リジル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シク
ロプロピルオキシ基、シクロペンチルオキシ基であり、
特に好ましくはエチル基、プロピル基、イソプロピル
基、メトキシ基、ジメチルアミノ基である。

【０１０３】Ｒ₆における「ハロゲン原子」としては、
好ましくは塩素原子、臭素原子である。

【０１０４】Ｒ₆における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基」としては、好ましくはメチル基、エチル基で
ある。

【０１０５】Ｒ₆におけるアミノ基の置換基である「炭
素数１乃至４個の低級アルキル基」としては、好ましく
はメチル基、エチル基である。

【０１０６】Ｒ₆におけるアミノ基の「置換されていて
もよい」としては、１乃至２個の置換基で置換されてい
てもよいことである。

【０１０７】Ｒ₆における「置換されていてもよいアミ
ノ基」としては、好ましくはメチルアミノ基、エチルア
ミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基である。

【０１０８】Ｒ₆における「炭素数２乃至５個の低級ア
ルコキシカルボニル基」としては、好ましくはメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカル
ボニル基である。

【０１０９】Ｒ₆における「炭素数２乃至５個の低級ア
ルカノイル基」としては、好ましくはアセチル基であ
る。

【０１１０】Ｒ₆における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキルチオ基」としては、好ましくはメチルチオ基、エ
チルチオ基である。

【０１１１】Ｒ₆における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキルスルフィニル基」としては、好ましくはメチルス
ルフィニル基、エチルスルフィニル基である。

【０１１２】Ｒ₆における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキルスルホニル基」としては、好ましくはメチルスル
ホニル基、エチルスルホニル基である。

【０１１３】Ｒ₆における「炭素数３乃至７個のシクロ
アルキル基」としては、好ましくはシクロプロピル基、
シクロペンチル基である。

【０１１４】Ｒ₆における「５乃至６員の飽和複素環
基」としては、好ましくはピペラジニル基である。

【０１１５】Ｒ₁₆における「炭素数１乃至６個のアルキ
ル基」としては、好ましくはメチル基、エチル基、プロ
ピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、１−
エチルプロピル基であり、特に好ましくはメチル基であ
る。

【０１１６】Ｒ₁₆におけるアルキル基の置換基である
「炭素数１乃至４個の低級アルコキシ基」としては、好
ましくはメトキシ基である。

【０１１７】Ｒ₁₆におけるアルキル基の置換基であるア
ミノ基の置換基である「炭素数１乃至４個の低級アルキ
ル基」としては、好ましくはメチル基である。

【０１１８】Ｒ₁₆におけるアルキル基の置換基であるア
ミノ基の「置換されていてもよい」としては、１乃至２
個の置換基で置換されていてもよいことである。

【０１１９】Ｒ₁₆におけるアルキル基の置換基である
「置換されていてもよいアミノ基」としては、好ましく
はジメチルアミノ基である。

【０１２０】Ｒ₁₆におけるアルキル基の置換基である
「炭素数２乃至５個の低級アルコキシカルボニル基」と
しては、好ましくはメトキシカルボニル基である。

【０１２１】Ｒ₁₆におけるアルキル基の置換基である
「炭素数３乃至７個のシクロアルキル基」としては、好
ましくはシクロプロピル基である。

【０１２２】Ｒ₁₆におけるアルキル基の「置換されてい
てもよい」としては、好ましくは１乃至２個の置換基で
置換されていてもよいことであり、特に好ましくは１個
の置換基で置換されていてもよいことである。

【０１２３】Ｒ₁₆における「置換されていてもよい炭素
数１乃至６個のアルキル基」としては、好ましくはメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ペンチル基、１−エチルプロピル基、２−ヒドロキ
シエチル基、メトキシメチル基、２，２，２−トリフル
オロエチル基、シアノメチル基、３−（ジメチルアミ
ノ）プロピル基、カルボキシメチル基、メトキシカルボ
ニルメチル基、シクロプロピルメチル基である。

【０１２４】Ｒ₁₆における「炭素数２乃至４個の低級ア
ルケニル基」としては、好ましくはアリル基、２−メチ
ル−２−プロペニル基である。

【０１２５】Ｒ₁₆における「炭素数２乃至４個の低級ア
ルキニル基」としては、好ましくは２−プロピニル基、
２−ブチニル基である。

【０１２６】Ｒ₁₆におけるカルバモイル基の置換基であ
る「炭素数１乃至４個の低級アルキル基」としては、好
ましくはメチル基である。

【０１２７】Ｒ₁₆におけるカルバモイル基の「置換され
ていてもよい」としては、１乃至２個の置換基で置換さ
れていてもよいことである。

【０１２８】Ｒ₁₆における「置換されていてもよいカル
バモイル基」としては、好ましくはジメチルカルバモイ
ル基である。

【０１２９】Ｒ₁₆における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキルスルホニル基」としては、好ましくはメチルスル
ホニル基、エチルスルホニル基である。

【０１３０】Ｒ₁₆における「炭素数３乃至７個のシクロ
アルキル基」としては、好ましくはシクロプロピル基、
シクロペンチル基である。

【０１３１】Ｒ₁₆における「アリール基」としては、好
ましくはフェニル基である。

【０１３２】Ｒ₆としては、好ましくは水素原子、塩素
原子、臭素原子、メチル基、エチル基、メチルアミノ
基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミ
ノ基、シアノ基、カルボキシ基、メトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、
アセチル基、カルバモイル基、メチルチオ基、エチルチ
オ基、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、シクロプロ
ピル基、シクロペンチル基、ピペラジニル基、水酸基、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキ
シ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、１−エチルプロ
ピルオキシ基、２−ヒドロキシエトキシ基、メトキシメ
トキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、シア
ノメトキシ基、３−（ジメチルアミノ）プロポキシ基、
カルボキシメトキシ基、メトキシカルボニルメトキシ
基、シクロプロピルメトキシ基、トリフルオロメトキシ
基、アリルオキシ基、２−メチルアリルオキシ基、２−
プロピニルオキシ基、２−ブチニルオキシ基、ジメチル
カルバモイルオキシ基、メチルスルホニルオキシ基、エ
チルスルホニルオキシ基、ホスホノオキシ基、シクロプ
ロピルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、フェノキシ
基、ベンジルオキシ基であり、特に好ましくは、メトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、
ブトキシ基、アリルオキシ基、２−プロピニルオキシ
基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、エトキシカ
ルボニル基である。

【０１３３】Ｒ₅、Ｒ₁₆におけるＲ₅とＲ₁₆が一緒になっ
て、形成される「５乃至６員の飽和複素環」としては、
好ましくはテトラヒドロフラン環、テトラヒドロピラン
環、モルホリン環である。

【０１３４】Ｒ₅、Ｒ₁₆におけるＲ₅とＲ₁₆が一緒になっ
て、形成される５乃至６員の飽和複素環の置換基である
「炭素数１乃至４個の低級アルキル基」としては、好ま
しくはメチル基である。

【０１３５】Ｒ₅、Ｒ₁₆におけるＲ₅とＲ₁₆が一緒になっ
て、形成される５乃至６員の飽和複素環の「置換されて
いてもよい」としては、好ましくは１乃至３個の置換基
で置換されていてもよいことであり、特に好ましくは１
乃至２個の置換基で置換されていてもよいことである。

【０１３６】Ｒ₅、Ｒ₁₆におけるＲ₅とＲ₁₆が一緒になっ
て、形成される「置換されていてもよい５乃至６員の飽
和複素環」としては、好ましくはテトラヒドロフラン
環、モルホリン環、３，３−ジメチルテトラヒドロフラ
ン環、２，２−ジメチルテトラヒドロフラン環、テトラ
ヒドロピラン環、２，２−ジメチルテトラヒドロピラン
環、４−メチルモルホリン環、４−メチル−３−オキソ
モルホリン環である。

【０１３７】Ｒ₇における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルコキシ基」としては、好ましくはメトキシ基、エトキ
シ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基であり、好ましくはメトキ
シ基、エトキシ基である。

【０１３８】Ｒ₁₇、Ｒ₁₈における「炭素数１乃至４個の
低級アルキル基」としては、好ましくはメチル基、エチ
ル基、プロピル基であり、好ましくはメチル基、エチル
基である。

【０１３９】Ｒ₁₇、Ｒ₁₈における「炭素数１乃至４個の
低級アルコキシ基」としては、好ましくはメトキシ基で
ある。

【０１４０】Ｒ₁₇、Ｒ₁₈におけるＲ₁₇とＲ₁₈が一緒にな
って、形成される「５乃至６員の飽和複素環」として
は、好ましくはピロリジン環である。

【０１４１】Ｒ₇としては、好ましくは水酸基、メトキ
シ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、メチルアミ
ノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジメチルア
ミノ基、ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−メトキシ
アミノ基、ベンジルアミノ基、１−ピロリジニル基であ
り、特に好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。

【０１４２】Ｒ₈における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基」としては、好ましくはメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基であり、特に好ましくはメチル
基、エチル基、プロピル基である。

【０１４３】Ｒ₈における低級アルキル基の置換基であ
る「炭素数１乃至４個の低級アルコキシ基」としては、
好ましくはメトキシ基である。

【０１４４】Ｒ₈における低級アルキル基の置換基であ
るアミノ基の置換基である「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基」としては、好ましくはメチル基、エチル基で
ある。

【０１４５】Ｒ₈における低級アルキル基の置換基であ
るアミノ基の「置換されていてもよい」としては、１乃
至２個の置換基で置換されていてもよいことである。

【０１４６】Ｒ₈における低級アルキル基の置換基であ
る「置換されていてもよいアミノ基」としては、好まし
くはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基である。

【０１４７】Ｒ₈における低級アルキル基の「置換され
ていてもよい」としては、好ましくは１乃至２個の置換
基で置換されていてもよいことであり、特に好ましくは
１個の置換基で置換されていてもよいことである。

【０１４８】Ｒ₈としては、好ましくはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、メトキシメチル基、ジメ
チルアミノメチル基、ジエチルアミノメチル基であり、
特に好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、メトキシメチル基である。

【０１４９】Ｒ₉における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基」としては、好ましくはメチル基、エチル基、
プロピル基であり、好ましくはプロピル基である。

【０１５０】Ｒ₉における「アリール基」としては、好
ましくはフェニル基である。

【０１５１】Ｒ₉におけるアミノスルホニル基の置換基
である「炭素数１乃至４個の低級アルキル基」として
は、好ましくはメチル基、エチル基であり、特に好まし
くはエチル基である。

【０１５２】Ｒ₉におけるアミノスルホニル基の「置換
されていてもよい」としては、１乃至２個の置換基で置
換されていてもよいことである。

【０１５３】Ｒ₉における「置換されていてもよいアミ
ノスルホニル基」としては、好ましくはジエチルアミノ
スルホニル基である。

【０１５４】Ｒ₁₉における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基」としては、好ましくはメチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基である。

【０１５５】Ｒ₁₉における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルコキシ基」としては、好ましくはメトキシ基、エトキ
シ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ
基であり、特に好ましくはメトキシ基、エトキシ基であ
る。

【０１５６】Ｒ₁₉における「炭素数３乃至７個のシクロ
アルキル基」としては、好ましくはシクロプロピル基、
シクロペンチル基であり、特に好ましくはシクロプロピ
ル基である。

【０１５７】Ｒ₁₉における「アリール基」としては、好
ましくはフェニル基である。

【０１５８】Ｒ₂₀、Ｒ₂₁における「炭素数１乃至４個の
低級アルキル基」としては、好ましくはメチル基、エチ
ル基、プロピル基であり、特に好ましくはエチル基であ
る。

【０１５９】Ｒ₂₀、Ｒ₂₁における「炭素数３乃至７個の
シクロアルキル基」としては、好ましくはシクロヘキシ
ル基である。

【０１６０】Ｒ₂₀、Ｒ₂₁における「アリール基」として
は、好ましくはフェニル基である。

【０１６１】Ｒ₂₀、Ｒ₂₁におけるＲ₂₀とＲ₂₁が一緒にな
って、形成される「５乃至６員の飽和複素環」として
は、好ましくはピロリジン環である。

【０１６２】Ｒ₉としては、好ましくは水素原子、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、フェニル基、ジエチルア
ミノスルホニル基、カルボキシ基、アセチル基、プロピ
オニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポ
キシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニル基、シクロプロパンカルボニル基、
シクロペンタンカルボニル基、ベンゾイル基、メチルカ
ルバモイル基、エチルカルバモイル基、プロピルカルバ
モイル基、ジメチルカルバモイル基、ジエチルカルバモ
イル基、シクロヘキシルカルバモイル基、フェニルカル
バモイル基、ベンジルカルバモイル基、１−ピロリジニ
ルカルバモイル基であり、特に好ましくはジエチルアミ
ノスルホニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカル
ボニル基、シクロプロパンカルボニル基である。

【０１６３】Ｒ₁₀における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基」としては、好ましくはメチル基である。

【０１６４】Ｒ₁₀における低級アルキル基の置換基であ
る「炭素数２乃至５個の低級アルコキシカルボニル基」
としては、好ましくはメトキシカルボニル基である。

【０１６５】Ｒ₁₀における低級アルキル基の「置換され
ていてもよい」としては、好ましくは１乃至２個の置換
基で置換されていてもよいことであり、特に好ましくは
１個の置換基で置換されていてもよいことである。

【０１６６】Ｒ₁₀における「置換されていてもよい炭素
数１乃至４個の低級アルキル基」としては、好ましくは
メチル基、メトキシカルボニルメチル基である。

【０１６７】Ｒ₁₀としては、好ましくは水素原子、メチ
ル基、メトキシカルボニルメチル基であり、特に好まし
くは水素原子である。

【０１６８】Ｒ₁₁における「ハロゲン原子」としては、
好ましくはフッ素原子である。

【０１６９】Ｒ₁₁における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基」としては、好ましくはメチル基である。

【０１７０】Ｒ₁₁としては、好ましくは水素原子、フッ
素原子、ニトロ基、メチル基であり、特に好ましくは水
素原子である。

【０１７１】Ｒ₁₂における「ハロゲン原子」としては、
好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子であり、特
に好ましくは塩素原子である。

【０１７２】Ｒ₁₂における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基」としては、好ましくはメチル基である。

【０１７３】Ｒ₁₂における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルコキシ基」としては、好ましくはメトキシ基である。

【０１７４】Ｒ₁₂としては、好ましくは水素原子、塩素
原子、フッ素原子、臭素原子、ニトロ基、メチル基、ト
リフルオロメチル基、メトキシ基であり、特に好ましく
は塩素原子、ニトロ基である。

【０１７５】Ｒ₁₃における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルコキシカルボニル基」としては、好ましくはメトキシ
カルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基であ
り、特に好ましくはメトキシカルボニル基である。

【０１７６】Ｒ₂₂における「アルカリ金属」としては、
好ましくはナトリウム、カリウムである。

【０１７７】Ｒ₂₂としては、好ましくは水素原子、ナト
リウム、カリウムである。

【０１７８】Ｒ₂₃における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基」としては、好ましくはメチル基、エチル基、
プロピル基、イソブチル基である。

【０１７９】Ｒ₂₃における低級アルキル基の置換基であ
る「アリール基」としては、好ましくはフェニル基であ
る。

【０１８０】Ｒ₂₃における低級アルキル基の置換基であ
る「炭素数２乃至５個の低級アルコキシカルボニル基」
としては、好ましくはメトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基である。

【０１８１】Ｒ₂₃における低級アルキル基の「置換され
ていてもよい」としては、好ましくは１乃至３個の置換
基で置換されていてもよいことであり、特に好ましくは
１乃至２個の置換基で置換されていてもよいことであ
る。

【０１８２】Ｒ₂₃における「置換されていてもよい炭素
数１乃至４個の低級アルキル基」としては、好ましくは
ベンジル基、カルボキシメチル基、エトキシカルボニル
メチル基、１−カルボキシエチル基、１−（エトキシカ
ルボニル）エチル基、２−メトキシカルボニルエチル
基、１−カルボキシプロピル基、１−（メトキシカルボ
ニル）プロピル基、１−カルボキシ−２−メチルプロピ
ル基、１−（エトキシカルボニル）−２−メチルプロピ
ル基、（カルボキシ）（フェニル）メチル基、（メトキ
シカルボニル）（フェニル）メチル基、１−カルボキシ
−２−フェニルエチル基、１−メトキシカルボニル−２
−フェニルエチル基である。

【０１８３】Ｒ₂₃における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキルスルホニル基」としては、好ましくはメチルスル
ホニル基である。

【０１８４】Ｒ₂₃における「アリール基」としては、好
ましくはフェニル基である。

【０１８５】Ｒ₂₃におけるアリール基の「置換されてい
てもよい」としては、好ましくは１乃至２個の置換基で
置換されていてもよいことであり、特に好ましくは１個
の置換基で置換されていてもよいことである。

【０１８６】Ｒ₂₃における「置換されていてもよいアリ
ール基」としては、好ましくは４−カルボキシフェニル
基である。

【０１８７】Ｒ₂₅における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基」としては、好ましくはメチル基、エチル基、
プロピル基である。

【０１８８】Ｒ₂₅としては、好ましくは水素原子であ
る。

【０１８９】Ｒ₂₃としては、好ましくはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ベンジル基、カルボキシメチル基、
エトキシカルボニルメチル基、１−カルボキシエチル
基、１−（エトキシカルボニル）エチル基、２−カルボ
キシエチル基、１−カルボキシプロピル基、１−（メト
キシカルボニル）プロピル基、１−カルボキシ−２−メ
チルプロピル基、１−（エトキシカルボニル）−２−メ
チルプロピル基、（カルボキシ）（フェニル）メチル
基、（メトキシカルボニル）（フェニル）メチル基、１
−カルボキシ−２−フェニルエチル基、１−メトキシカ
ルボニル−２−フェニルエチル基、４−カルボキシフェ
ニル基、メチルスルホニル基である。

【０１９０】Ｒ₁₃としては、好ましくは水酸基、ナトリ
ウムオキシ基、カリウムオキシ基、ホスホノオキシ基、
ベンジルオキシ基、カルボキシメトキシ基、エトキシカ
ルボニルメトキシ基、１−カルボキシエトキシ基、１−
（エトキシカルボニル）エトキシ基、２−カルボキシエ
トキシ基、２−カルボキシエチルアミノ基、１−カルボ
キシプロポキシ基、１−（メトキシカルボニル）プロポ
キシ基、１−カルボキシ−２−メチルプロポキシ基、１
−（エトキシカルボニル）−２−メチルプロポキシ基、
（カルボキシ）（フェニル）メトキシ基、（メトキシカ
ルボニル）（フェニル）メトキシ基、１−カルボキシ−
２−フェニルエトキシ基、１−メトキシカルボニル−２
−フェニルエトキシ基、４−カルボキシフェノキシ基、
カルボキシ基、アミノ基、ジメチルアミノ基、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−プロピルアミノ基、メチルスルホニルアミノ
基、メトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボ
ニル基であり、特に好ましくは水酸基、ナトリウムオキ
シ基、カリウムオキシ基である。

【０１９１】Ｒ₁₄における「ハロゲン原子」としては、
好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子であり、特
に好ましくは塩素原子である。

【０１９２】Ｒ₁₄における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基」としては、好ましくはメチル基である。

【０１９３】Ｒ₁₄における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルコキシ基」としては、好ましくはメトキシ基である。

【０１９４】Ｒ₁₄におけるアミノ基の置換基である「炭
素数１乃至４個の低級アルキル基」としては、好ましく
はメチル基である。

【０１９５】Ｒ₁₄におけるアミノ基の置換基である低級
アルキルスルホニル基の置換基である「ハロゲン原子」
としては、好ましくはフッ素原子である。

【０１９６】Ｒ₁₄におけるアミノ基の置換基である低級
アルキルスルホニル基の「置換基されていてもよい」と
しては、１乃至３個の置換基で置換されていてもよいこ
とである。

【０１９７】Ｒ₁₄におけるアミノ基の置換基である「置
換されていてもよい低級アルキルスルホニル基」として
は、好ましくはメチルスルホニル基、トリフルオロメチ
ルスルホニル基である。

【０１９８】Ｒ₁₄におけるアミノ基の置換基である「炭
素数２乃至５個の低級アルカノイル基」としては、好ま
しくはアセチル基である。

【０１９９】Ｒ₁₄におけるアミノ基の「置換されていて
もよい」としては、１乃至２個の置換基で置換されてい
てもよいことである。

【０２００】Ｒ₁₄における「置換されていてもよいアミ
ノ基」としては、好ましくはジメチルアミノ基、メチル
スルホニルアミノ基、トリフルオロメチルスルホニルア
ミノ基、アセチルアミノ基である。

【０２０１】Ｒ₁₄における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキルスルホニル基」としては、好ましくはメチルスル
ホニル基である。

【０２０２】Ｒ₁₄における「炭素数２乃至５個の低級ア
ルカノイル基」としては、好ましくはアセチル基であ
る。

【０２０３】Ｒ₁₄における「炭素数２乃至５個の低級ア
ルコキシカルボニル基」としては、好ましくはメトキシ
カルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカル
ボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブ
トキシカルボニル基である。

【０２０４】Ｒ₁₄におけるカルバモイル基の置換基であ
る「炭素数１乃至４個の低級アルキル基」としては、好
ましくはメチル基である。

【０２０５】Ｒ₁₄におけるカルバモイル基の「置換され
ていてもよい」としては、好ましくは１乃至２個の置換
基で置換されていてもよいことである。

【０２０６】Ｒ₁₄における「置換されていてもよいカル
バモイル基」としては、好ましくはカルバモイル基、ヒ
ドロキシカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジメ
チルカルバモイル基である。

【０２０７】Ｒ₁₄としては、好ましくは水素原子、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子、メチル基、メトキシ基、
ニトロ基、トリフルオロメチル基、アミノ基、ジメチル
アミノ基、メチルスルホニルアミノ基、トリフルオロメ
チルスルホニルアミノ基、アセチルアミノ基、アミノス
ルホニル基、メチルスルホニル基、アセチル基、メトキ
シカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカ
ルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−
ブトキシカルボニル基、カルボキシ基、カルバモイル
基、ヒドロキシカルバモイル基、メチルカルバモイル
基、ジメチルカルバモイル基、シアノ基であり、特に好
ましくは塩素原子、ニトロ基である。

【０２０８】Ｒ₁₅における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基」としては、好ましくはメチル基である。

【０２０９】Ｒ₁₅における「ハロゲン原子」としては、
好ましくはフッ素原子、塩素原子であり、特に好ましく
はフッ素原子である。

【０２１０】Ｒ₁₅としては、好ましくは水素原子、メチ
ル基、フッ素原子、塩素原子、ニトロ基、水酸基であ
り、特に好ましくは水素原子である。

【０２１１】Ｒ₂₄における「炭素数１乃至４個の低級ア
ルキル基」としては、好ましくはメチル基である。

【０２１２】更に具体的に述べるならば、前述の一般式
（Ｉ）において最も好ましい組み合わせは、Ａが前述の
一般式（ＩＩ）で示される基で、Ｒ₁及びＲ₂がエチル基
であり、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁及びＲ₁₅が水素原子であ
り、Ｒ₅がメトキシ基又はジメチルアミノ基であり、Ｒ₆
がメトキシ基であり、Ｒ₁₂が塩素原子であり、Ｒ₁₃が水
酸基であり、Ｒ₁₄が塩素原子又はニトロ基である場合で
ある。

【０２１３】「医薬上許容し得る塩」とは、前述の一般
式（Ｉ）で示される化合物と無毒性の塩を形成するもの
であれば如何なるものであってもよいが、例えば塩酸
塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、
リン酸塩、炭酸塩、炭酸水素塩、過塩素酸塩等の無機酸
塩；ギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、プロピオン
酸塩、シュウ酸塩、グリコール酸塩、コハク酸塩、乳酸
塩、マレイン酸塩、ヒドロキシマレイン酸塩、メチルマ
レイン酸塩、フマール酸塩、アジピン酸塩、酒石酸塩、
リンゴ酸塩、クエン酸塩、安息香酸塩、ケイ皮酸塩、ア
スコルビン酸塩、サリチル酸塩、２−アセトキシ安息香
酸塩、ニコチン酸塩、イソニコチン酸塩等の有機酸塩；
メタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、イセチオン
酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸
塩、ナフタレンスルホン酸塩等のスルホン酸塩；アスパ
ラギン酸塩、グルタミン酸塩等の酸性アミノ酸塩；ナト
リウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩；マグネシウ
ム塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩；アンモニ
ウム塩；トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピ
リジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、
Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミン塩等の有機塩基
塩；リジン塩、アルギニン塩等のアミノ酸塩等を挙げる
ことができる。また、場合によっては水和物、またはア
ルコール等との溶媒和物であってもよい。

【０２１４】本発明化合物は、優れたＣＲＦ受容体拮抗
作用を有し、従ってＣＲＦの誘発又は促進される疾患の
予防又は治療薬として期待される。一般式（Ｉ）で示さ
れる本発明化合物、その医薬上許容し得る塩又はその水
和物若しくは溶媒和物を医薬製剤として用いる場合に
は、通常、それ自体公知の薬理学的許容される担体、賦
形剤、希釈剤、増量剤、崩壊剤、安定剤、保存剤、緩衝
剤、乳化剤、芳香剤、着色剤、甘味剤、粘稠剤、矯味
剤、溶解補助剤、その他の添加剤、具体的には水、植物
油、エタノール又はベンジルアルコールのようなアルコ
ール、ポリエチレングリコール、グリセロールトリアゼ
テートゼラチン、ラクトース、デンプン等のような炭水
化物、ステアリン酸マグネシウム、タルク、ラノリン、
ワセリン等と混合して錠剤、丸剤、散剤、顆粒剤、坐
剤、注射剤、点眼剤、液剤、カプセル剤、トローチ剤、
エアゾール剤、エリキシル剤、懸濁剤、乳剤、シロップ
剤等の形態により経口又は非経口的に投与することがで
きる。また、本発明化合物は人用医薬としての使用は勿
論、動物用医薬としても使用可能である。投与量は、疾
患の種類及び程度、投与する化合物並びに投与経路、患
者の年齢、性別、体重等により変わり得るが、経口投与
の場合、通常、成人１日あたり化合物（Ｉ）を１〜１０
００ｍｇ、特に５０ｍｇ〜８００ｍｇを投与するのが好
ましい。

【０２１５】本発明の化合物は例えば下記の方法によっ
て製造することができるが、本発明の化合物の製造方法
は、これらに限定されるものではないことは勿論であ
り、公知の技術を用いることにより、合成することが可
能である。例えば、一般式（Ｉ）におけるＡが一般式
（ＩＩ）である場合には、次のような方法で合成するこ
とができる。なお、下記製造方法はＲ₁₀が特に水素原子
の場合に有効である。

【０２１６】

【化１１】

【０２１７】（工程１）化合物（Ｖ）（式中、Ｒ₁₀’は
水素原子であり、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆は前
述の通りである）は、化合物（ＩＶ）（式中、Ｒ₁、
Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆は前述の通りである）をメ
タノール、エタノール、ジメチルホルムアミド、エーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル等の
有機溶媒、水又はこれらの混合溶媒中、パラジウム炭
素、酸化白金、ラネーニッケル、パラジウム黒、水酸化
パラジウム等の金属触媒存在下、水素ガスにて接触還元
するか、又は化合物（ＩＶ）を塩化スズ、亜鉛、鉄、亜
二チオン酸ナトリウム、硫化ナトリウム、二硫化ナトリ
ウム等の還元剤存在下、必要に応じて塩化アンモニウ
ム、塩酸等にて、酢酸エチル、酢酸、メタノール、エタ
ノール、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、
ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタン、トルエン
等の有機溶媒、水若しくはこれらの混合溶媒又は無溶媒
中、冷却下乃至加温下で反応させることにより合成する
ことができる。

【０２１８】（工程２）化合物（Ｉ−１）（式中、
Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₁₀’、Ｒ₁₁、Ｒ ₁₂、
Ｒ₁₃、Ｒ₁₄及びＲ₁₅は前述の通りである）は、化合物
（Ｖ）（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆及び
Ｒ₁₀’は前述の通りである）及び化合物（ＶＩ）（式
中、Ｘ₁はハロゲン原子であり、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ
₁₄及びＲ₁₅は前述の通りである）をトリエチルアミン、
ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピペリジ
ン等の塩基存在下又は非存在下、ジクロロメタン、クロ
ロホルム、トルエン、エーテル、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシエタ
ン、酢酸エチル等の有機溶媒若しくはこれらの混合溶媒
又は無溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させることによ
り合成することができる。

【０２１９】ここで上記化合物（Ｖ）は、以下に示すよ
うに化合物（ＶＩＩ）から合成してもよい。 （工程３）化合物（ＶＩＩＩ）（式中、Ｒ₃₀はｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基
等のアミノ保護基であり、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、
Ｒ₆及びＲ₁₀’は前述の通りである）は、化合物（ＶＩ
Ｉ）（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆は前述の
通りである）をジフェニルホスホリルアジド（ＤＰＰ
Ａ）等及びｔｅｒｔ−ブトキシアルコール又はベンジル
アルコール等のアルコールの存在下、トリエチルアミン
等の塩基にて、トルエン、ベンゼン、ジオキサン等の有
機溶媒若しくはこれらの混合溶媒又は無溶媒中、加温下
で反応させることにより合成することができる。

【０２２０】（工程４）化合物（Ｖ）（式中、Ｒ₁、
Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆及びＲ₁₀’は前述の通りであ
る）は、化合物（ＶＩＩＩ）（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、
Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₁₀’及びＲ₃₀は前述の通りである）
を塩酸、臭化水素酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエン
スルホン酸、メタンスルホン酸等の酸存在下、ジオキサ
ン、エーテル、ジクロロメタン、テトラヒドロフラン、
メタノール、エタノール、クロロホルム、ベンゼン、ト
ルエン、酢酸エチル等の有機溶媒、水若しくはこれらの
混合溶媒又は無溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させる
か、又は化合物（ＶＩＩＩ）をメタノール、エタノー
ル、ジメチルホルムアミド、エーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、酢酸エチル等の有機溶媒、水又はこ
れらの混合溶媒中、パラジウム炭素、酸化白金、ラネー
ニッケル、パラジウム黒、水酸化パラジウム等の金属触
媒存在下、水素ガスにて接触還元することにより合成す
ることにより合成することができる。

【０２２１】また、一般式（Ｉ）におけるＲ₁₀が水素原
子以外の場合は、上記工程２で合成された化合物（Ｉ−
１）を下記工程で処理することによっても合成すること
ができる。

【０２２２】

【化１２】

【０２２３】（工程５）化合物（Ｉ−２）（式中、
Ｒ₁₀’’はカルボキシ基及び炭素数２乃至５個の低級ア
ルコキシカルボニル基から選ばれる置換基で置換されて
いてもよい炭素数１乃至４個の低級アルキル基であり、
Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ
₁₄及びＲ₁₅は前述の通りである）は、化合物（Ｉ−１）
（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₁₀’、
Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄及びＲ₁₅は前述の通りである）
及びＸ₂−Ｒ₁₀’’（式中、Ｘ₂はハロゲン原子であり、
Ｒ₁₀’’は前述の通りである）を炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸水素ナトリウム、水素化ナトリウム等の
塩基存在下、ジメチルホルムアミド、アセトン、トルエ
ン、テトラヒドロフラン等の有機溶媒又はこれらの混合
溶媒中、加温下で反応させることにより合成することが
できる。

【０２２４】更に、一般式（Ｉ）において定義される化
合物は、上記工程２又は工程５によりそれぞれ対応する
化合物を合成後、下記工程で処理することによっても合
成することができる。即ち、一般式（Ｉ）におけるＲ₆
が−ＯＲ₁₆等の場合には、例えば上記工程２によりＲ₆
が水酸基である対応する化合物（Ｉ−３）を合成した
後、下記工程で処理することにより合成することができ
る。

【０２２５】

【化１３】

【０２２６】（工程６）化合物（Ｉ−４）（式中、
Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ_{1 3}、
Ｒ₁₄、Ｒ₁₅及びＲ₁₆は前述の通りである）は、化合物
（Ｉ−３）（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₁₀、
Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄及びＲ₁₅は前述の通りである）
及びＸ₂−Ｒ₁₆（式中、Ｒ₁₆及びＸ₂は前述の通りであ
る）又はトリフルオロメタンスルホン酸２，２，２−ト
リフルオロエチルエステル等を炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素ナトリウム、水素化ナトリウム等の塩
基存在下、ジメチルホルムアミド、アセトン、トルエ
ン、テトラヒドロフラン等の有機溶媒又はこれらの混合
溶媒中、加温下で反応させることにより合成することが
できる。

【０２２７】一般式（Ｉ）におけるＲ₂₂がアルカリ金属
又はホスホノ基の場合、又はＲ₁₃が−Ｙ−Ｒ₂₃の場合に
は、それぞれ対応するＲ₁₃が水酸基又はアミノ基である
化合物（Ｉ−５）又は化合物（Ｉ−７）を上記工程２に
より合成した後、下記工程で処理することにより合成す
ることができる。即ち、Ｒ₂₂がアルカリ金属又はホスホ
ノ基である場合には下記工程７により、またＲ₁₃が−Ｙ
−Ｒ₂₃である場合には下記工程８によりそれぞれ合成す
ることができる。

【０２２８】

【化１４】

【０２２９】（工程７）化合物（Ｉ−６）（式中、
Ｒ₂₂’はアルカリ金属、ホスホノ基であり、Ｒ₁、Ｒ₂、
Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₄及びＲ₁₅
は前述の通りである）は、化合物（Ｉ−５）（式中、Ｒ
₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₄
及びＲ₁₅は前述の通りである）を炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム等の存在下、テトラヒドロフラン、エ
ーテル、トルエン、ジメチルホルムアミド、メタノー
ル、エタノール等の有機溶媒若しくは水又はこれらの混
合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させるか、又は化合
物（Ｉ−５）及びテトラベンジルピロホスフェート等の
リン酸化剤を水素化ナトリウム等の塩基存在下、テトラ
ヒドロフラン、エーテル、トルエン等の有機溶媒又はこ
れらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させ、次い
で常法の脱保護反応により処理することにより合成する
ことができる。

【０２３０】

【化１５】

【０２３１】（工程８）化合物（Ｉ−８）（式中、
Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ
₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₂₃及びＹは前述の通りである）は、化合物
（Ｉ−７）（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ
₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅及びＹは前述の通りであ
る）及びＸ₂−Ｒ₂₃（式中、Ｒ₂₃及びＸ₂は前述の通りで
ある）を炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナト
リウム、水素化ナトリウム等の塩基存在下、ジメチルホ
ルムアミド、アセトン、トルエン、テトラヒドロフラン
等の有機溶媒又はこれらの混合溶媒中、加温下で反応さ
せるか、又は化合物（Ｉ−７）及び対応するアルコール
をトリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等と
アゾジカルボン酸ジイソプロピル、アゾジカルボン酸ジ
エチル、アゾジカルボン酸ジシクロヘキシル等とを組合
せた縮合剤存在下、エーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、ベンゼン、
トルエン、ジメチルホルムアミド等の有機溶媒又はこれ
らの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させることに
より合成することができる。

【０２３２】一般式（Ｉ）におけるＲ₁₄がハロゲン原子
で置換されていてもよい炭素数１乃至４個の低級アルキ
ルスルホニル基で置換されたアミノ基である場合には、
対応するＲ₁₄がアミノ基である化合物（Ｉ−９）を上記
工程２により合成した後、下記工程で処理することによ
り合成することができる。

【０２３３】

【化１６】

【０２３４】（工程９）化合物（Ｉ−１０）（式中、Ｒ
₁₄’はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１乃
至４個の低級アルキルスルホニル基で置換されたアミノ
基であり、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₁₀、
Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃及びＲ₁₅は前述の通りである）は、化
合物（Ｉ−９）（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、
Ｒ₆、Ｒ₁₀、Ｒ ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃及びＲ₁₅は前述の通りで
ある）及びメタンスルホニルクロライド等をピリジン等
の塩基存在下、ジメチルアミノピリジン等にて、クロロ
ホルム、ジクロロメタン等の有機溶媒又はこれら混合溶
媒中、冷却下乃至加温下で反応させるか、又は化合物
（Ｉ−９）及び無水トリフルオロメチルスルホン酸等を
ピリジン等の塩基存在下、クロロホルム、ジクロロメタ
ン等の有機溶媒又はこれら混合溶媒中、冷却下乃至加温
下で反応させることにより合成することができる。

【０２３５】一般式（Ｉ）におけるＲ₁₄が炭素数２乃至
５個の低級アルコキシカルボニル基又は炭素数１乃至４
個の低級アルキル基で置換されていてもよいカルバモイ
ル基である場合には、対応するＲ₁₄がカルボキシ基であ
る化合物（Ｉ−１１）を上記工程２により合成した後、
下記工程で処理することにより合成することができる。

【０２３６】

【化１７】

【０２３７】（工程１０）化合物（Ｉ−１２）（式中、
Ｒ₁₄’’は炭素数２乃至５個の低級アルコキシカルボニ
ル基又は炭素数１乃至４個の低級アルキル基で置換され
ていてもよいカルバモイル基であり、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、
Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃及びＲ₁₅は前
述の通りである）は、化合物（Ｉ−１１）（式中、
Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ
₁₃及びＲ₁₅は前述の通りである）を塩化オキサリル、塩
化チオニル、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン
等の酸ハライド化剤存在下、クロロホルム、ジメチルホ
ルムアミド、ジクロロメタン、トルエン、ピリジン等の
有機溶媒又はこれら混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反
応させた後、その反応物にＲ₁₄’’に対応する低級アル
キルアルコール又は低級アルキルで置換されたアミン若
しくは水酸化アンモニウム等を、クロロホルム、ジクロ
ロメタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の有機溶
媒又はこれらの混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応さ
せることにより合成することができる。また、Ｒ₁₄が炭
素数２乃至５個の低級アルコキシカルボニル基の場合に
は、化合物（Ｉ−１１）及びＲ₁₄’’に対応する低級ア
ルキルアルコールを硫酸等の酸存在下、酢酸エチル等の
有機溶媒若しくは混合溶媒又は無溶媒中、冷却下乃至加
温下で反応させることによっても合成することができ
る。

【０２３８】一般式（Ｉ）におけるＲ₆が炭素数１乃至
４個の低級アルキルスルフィニル基又は炭素数１乃至４
個の低級アルキルスルホニル基である場合には、対応す
るＲ ₆が炭素数１乃至４個の低級アルキルチオ基である
化合物（Ｉ−１３）を上記工程２により合成した後、下
記工程で処理することにより合成することができる。

【０２３９】

【化１８】

【０２４０】（工程１１）化合物（Ｉ−１４）（式中、
Ｒ₆’’は炭素数１乃至４個の低級アルキルスルフィニ
ル基又は炭素数１乃至４個の低級アルキルスルホニル基
であり、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、
Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄及びＲ₁₅は前述の通りである）は、化
合物（Ｉ−１３）（式中、Ｒ₆’は炭素数１乃至４個の
低級アルキルチオ基であり、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、
Ｒ₅、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄及びＲ_{1 5}は前述の
通りである）をｍ−クロロ過安息香酸等の酸化剤存在
下、クロロホルム、ジクロロメタン等の有機溶媒又はこ
れら混合溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させることに
より合成することができる。

【０２４１】一般式（Ｉ）におけるＲ₅がアミノ基であ
る場合には、対応するＲ₅がニトロ基である化合物（Ｉ
−１５）を上記工程２により合成した後、下記工程で処
理することにより合成することができる。

【０２４２】

【化１９】

【０２４３】（工程１２）化合物（Ｉ−１６）（式中、
Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₆、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、
Ｒ₁₄及びＲ₁₅は前述の通りである）は、化合物（Ｉ−１
５）（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₆、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、
Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ₁₄及びＲ₁₅は前述の通りである）を塩化
スズ、亜鉛、鉄、亜二チオン酸ナトリウム、硫化ナトリ
ウム、二硫化ナトリウム等の還元剤存在下、必要に応じ
て塩化アンモニウム、塩酸等にて、酢酸エチル、酢酸、
メタノール、エタノール、エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシ
エタン、トルエン等の有機溶媒、水若しくはこれらの混
合溶媒又は無溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させるこ
とにより合成することができる。

【０２４４】ところで、一般式（Ｉ）におけるＡが一般
式（ＩＩＩ）である場合には、下記の方法によって合成
することができる。なお、下記製造方法はＲ₁₀が特に水
素原子の場合に有効である。

【０２４５】

【化２０】

【０２４６】（工程１３）化合物（Ｉ−１７）（式中、
Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀’、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ_{1 4}、Ｒ
₁₅及びＸは前述の通りである）は、化合物（ＩＸ）（式
中、Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀’及びＸは前述の通りであ
る）及び化合物（ＶＩ）（式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、Ｒ
₁₄、Ｒ₁₅及びＸ₁は前述の通りである）をトリエチルア
ミン、ピリジン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−メチルピ
ペリジン等の塩基存在下又は非存在下、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、トルエン、エーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ジメト
キシエタン、酢酸エチル等の有機溶媒若しくはこれらの
混合溶媒又は無溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させる
ことにより合成することができる。また、一般式（ＩＩ
Ｉ）のＲ₇が−ＮＲ₁₇Ｒ₁₈の場合には、Ｒ₇が水酸基であ
る化合物を上記工程１３で合成後、下記工程を行うこと
によっても合成することができる。

【０２４７】

【化２１】

【０２４８】（工程１４）化合物（Ｉ−１９）［式中、
Ｒ₇’は−ＮＲ₁₇Ｒ₁₈（ここでＲ₁₇及びＲ₁₈は前述の通
りである）であり、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀’、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ
₁₃、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅及びＸは前述の通りである］は、化合物
（Ｉ−１８）（式中、Ｒ₈、Ｒ₉、Ｒ₁₀’、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、
Ｒ₁₃、Ｒ₁₄、Ｒ₁₅及びＸは前述の通りである）を１−エ
チル−３−（３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミ
ド・塩酸塩（ＷＳＣ・ＨＣｌ）、ジシクロヘキシルカル
ボジイミド（ＤＣＣ）、ジフェニルホスホリルアジド
（ＤＰＰＡ）、カルボニルジイミダゾール（ＣＤＩ）等
の縮合剤にて、必要に応じて１−ヒドロキシベンゾトリ
アゾール（ＨＯＢｔ）、ヒドロキシスクシンイミド（Ｈ
ＯＳｕ）、Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３
−ジカルボン酸イミド（ＨＯＮＢ）等の活性化剤存在
下、ジメチルホルムアミド、ジクロロメタン、クロロホ
ルム、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチル
スルホキシド、トルエン等の有機溶媒又はこれらの混合
溶媒中、冷却下乃至加温下で反応させ、次いで得られた
化合物とＮＨＲ₁₇Ｒ₁₈（式中、Ｒ₁₇及びＲ₁₈は前述の通
りである）をテトラヒドロフラン、トルエン、ジクロロ
メタン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド等の有機
溶媒又はこれらの混合溶媒中、加温下で反応させること
により合成することができる。なお、一般式（Ｉ）のＡ
が一般式（ＩＩＩ）であって、Ｒ₁₀が水素原子以外の
基、Ｒ₂₂がアルカリ金属若しくはホスホノ基又はＲ₁₃が
−Ｙ−Ｒ₂₃である化合物等は、対応する化合物（Ｉ−１
７）又は（Ｉ−１９）を上記工程１３又は１４で合成し
た後、それぞれ上記工程５又は工程７乃至１０と同様に
処理することによっても合成することができる。

【０２４９】上記工程で用いられる化合物（ＩＶ）、
（ＶＩ）、（ＶＩＩ）及び（ＩＸ）は市販品から公知の
方法を用いて合成することができ、またその際、予め上
記工程５又は工程７乃至１０と同様に処理してから、上
記工程１乃至４又は１３を行うことによっても一般式
（Ｉ）の化合物を合成することができる。

【０２５０】また、上記工程１乃至１４において用いら
れる化合物の置換基等は、必要に応じて常法により保護
基で保護されたもの又は保護基で保護した後に各工程を
行ってもよく、更にそれら保護基は必要に応じてその都
度常法により脱離してもよく又は最終工程で常法により
脱離してもよい。更に、一般式（Ｉ）の塩又はその水和
物若しくは溶媒和物は、必要に応じて常法により合成す
ることができる。

【０２５１】このようにして得られた化合物（Ｉ）は公
知の分離精製手段、例えば、濃縮、減圧濃縮、溶媒抽
出、晶析、再結晶又はクロマトグラフィー等により、単
離精製することができる。

【０２５２】

【発明の実施の形態】次に製造例、実施例及び試験例を
挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれに何
ら限定されるものではない。

【実施例】

【０２５３】製造例１ Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−エチル−４−ヒドロキシ−５−
ニトロベンゼンスルホンアミドの合成

【０２５４】

【化２２】

【０２５５】１） ２−エチルフェノール（３０．０
ｇ）のジエチルエーテル（４００ｍｌ）及び水（４００
ｍｌ）混合溶液に、氷冷下、硝酸ナトリウム（２０．９
ｇ）、濃塩酸（８０ｍｌ）及び発煙硝酸（０．２ｍｌ）
を加え、室温中終夜攪拌した後、有機層を抽出した。ま
た、水層を酢酸エチルで抽出し、先の有機層とあわせ、
水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。
乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン
＝１：５０）で精製することにより、黄色油状物の２−
エチル−６−ニトロフェノール（１７．９ｇ、収率４４
％）を得た。

【０２５６】

【化２３】

【０２５７】２） 塩化スルフリル（４９．０ｍｌ）の
クロロホルム（３００ｍｌ）溶液に、氷冷下、ジエチル
アミン（４１．０ｍｌ）及びトリエチルアミン（３１．
０ｍｌ）の混合物を滴下した。滴下終了後、室温中３時
間攪拌し、反応液を氷水（６００ｍｌ）に注ぎ、有機層
を抽出した。有機層を１０％塩酸、水及び飽和食塩水で
洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、減圧濃縮
することにより黄色油状物のジエチルスルファモイルク
ロライド（４１．７ｇ、収率６１％）を得た。

【０２５８】次いで、上記１）で得られた２−エチル−
６−ニトロフェノール（５．０ｇ）のニトロベンゼン
（６．５ｍｌ）溶液に、氷冷下、上記で得られたジエチ
ルスルファモイルクロライド（５．１ｇ）及び塩化アル
ミニウム（８．８ｇ）を加え、９０℃で６時間攪拌し、
更に室温中で１２時間攪拌した。この反応液を酢酸エチ
ルに溶解し、氷水に注ぎ、有機層を抽出した。また、水
層を酢酸エチルで抽出し、先の有機層とあわせ、水及び
飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：１０〜
１：５）で精製することにより黄色固体の表題化合物
（８．１５ｇ、収率９０％）を得た。

【０２５９】製造例２ ５−ジエチルスルファモイル−２，３−ジメトキシ安息
香酸の合成

【０２６０】

【化２４】

【０２６１】２，３−ジメトキシ安息香酸（４．４７
ｇ）にクロロスルホン酸（１５ｍｌ）を加え、室温中終
夜攪拌した。攪拌後、この反応液を水に注ぎ、析出した
結晶を濾取した。この結晶を水で洗浄し、減圧乾燥する
ことにより淡赤色粉末の粗生成物を得た。この粗生成物
のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に、氷冷下、ジ
エチルアミン（１０ｍｌ）を加え、室温中終夜攪拌し
た。攪拌後、１Ｎ塩酸を加え、酸性とし、酢酸エチルで
抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄した後、硫
酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣を減圧濃縮する
ことにより淡褐色固体の表題化合物（４．４４ｇ、粗生
成物）を得た。

【０２６２】製造例３ ４−ベンジルオキシ−３，５−ジクロロベンゾイル ク
ロライドの合成

【０２６３】

【化２５】

【０２６４】１） ３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシ
安息香酸エチル（５０．０ｇ）のジメチルホルムアミド
（３００ｍｌ）溶液に、炭酸カリウム（５５．２ｇ）及
びベンジルブロマイド（５０ｍｌ）を加え、７０℃で終
夜攪拌した。攪拌後、濃縮し、水を加え、析出した結晶
を濾取した。得られた結晶を水で洗浄し、減圧乾燥する
ことにより白色結晶の４−ベンジルオキシ−３，５−ジ
クロロ安息香酸エチル（６８．９ｇ、定量的）を得た。

【０２６５】

【化２６】

【０２６６】２） 上記１）で得られた化合物（６８．
９ｇ）のテトラヒドロフラン（４００ｍｌ）及びメタノ
ール（４００ｍｌ）混合溶液に、４Ｎ水酸化リチウム水
溶液（２００ｍｌ）を加え、室温中終夜攪拌した。攪拌
後、塩酸を加え、酸性とし、析出した結晶を濾取した。
得られた結晶を水で洗浄し、減圧乾燥することにより白
色結晶の４−ベンジルオキシ−３，５−ジクロロ安息香
酸（６２．９ｇ、定量的）を得た。

【０２６７】

【化２７】

【０２６８】３） 上記２）で得られた化合物（６２．
９ｇ）のジクロロメタン（４００ｍｌ）溶液に、氷冷
下、塩化オキサリル（２８ｍｌ）及びジメチルホルムア
ミド（０．５ｍｌ）を加え、室温中終夜攪拌した。反応
液を減圧濃縮し、トルエンで共沸した後、減圧乾燥する
ことにより淡黄色固体の表題化合物（６６．８ｇ、粗生
成物）を得た。

【０２６９】製造例４ ３−クロロ−４−ヒドロキシ−５−ニトロベンゾイル
クロライドの合成

【０２７０】

【化２８】

【０２７１】１） ３−クロロ−４−ヒドロキシ安息香
酸 １／２水和物（４．０６ｇ）の酢酸（３０ｍｌ）溶
液に、氷冷下、発煙硝酸（３ｍｌ）を加え、室温中１．
５時間攪拌した。攪拌後、反応液を氷水に注ぎ、析出し
た結晶を濾取した。得られた結晶を水で洗浄し、減圧乾
燥することにより淡黄色固体の３−クロロ−４−ヒドロ
キシ−５−ニトロ安息香酸（４．２７ｇ、粗生成物）を
得た。

【０２７２】

【化２９】

【０２７３】２） 上記１）で得られた粗生成物（４．
２７ｇ）のメタノール（５０ｍｌ）溶液に、ジメチルア
ミノピリジン（２５６ｍｇ）及びＷＳＣ・ＨＣｌ（４．
５３ｇ）を加え、室温中終夜攪拌した。減圧濃縮後、ク
ロロホルムに溶解し、水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥した。乾燥後、減圧濃縮し、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：２〜１：１）で精製す
ることにより黄色固体の３−クロロ−４−ヒドロキシ−
５−ニトロ安息香酸メチル（１．０２ｇ、収率２０％）
を得た。

【０２７４】

【化３０】

【０２７５】３） 上記２）で得られた化合物（１．０
２ｇ）のテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）及びメタノー
ル（２０ｍｌ）混合溶液に、４Ｎ水酸化リチウム水溶液
（５ｍｌ）を加え、終夜加熱還流した。反応液に塩酸を
加え、酸性とし、析出した結晶を濾取した。得られた結
晶を水で洗浄し、減圧乾燥することにより淡黄色固体の
３−クロロ−４−ヒドロキシ−５−ニトロ安息香酸（８
７６ｍｇ、収率９１％）を得た。

【０２７６】

【化３１】

【０２７７】４） 上記３）で得られた化合物（５００
ｍｇ）のトルエン（３ｍｌ）溶液に、塩化チオニル（１
ｍｌ）を加え、１００℃で終夜加熱攪拌した。攪拌後、
減圧濃縮し、トルエンで共沸し、減圧乾燥することによ
り褐色固体の表題化合物（５４１ｍｇ、粗生成物）を得
た。

【０２７８】製造例５ Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−メトキシ−３−ジメチルアミノ
−５−ニトロベンゼンスルホンアミドの合成

【０２７９】

【化３２】

【０２８０】１） ｏ−アセトアニシジド（２０．０
ｇ）にクロロスルホン酸（８０ｍｌ）を、氷冷下、滴下
し、室温中終夜攪拌した。攪拌後、反応液を氷水に滴下
し、析出した結晶を濾過した。得られた結晶を水で洗浄
後、減圧乾燥することにより淡桃色結晶の３−アセチル
アミノ−４−メトキシベンゼンスルホニル クロライド
（２９．８ｇ、収率９３％）を得た。

【０２８１】

【化３３】

【０２８２】２） 上記１）で得られた化合物（２９．
８ｇ）を濃硫酸（２００ｍｌ）に溶解し、氷冷下、発煙
硝酸（９．５ｍｌ）と濃硫酸（１９ｍｌ）の混合溶液を
滴下した。この溶液を氷冷中３０分間攪拌し、氷水に滴
下した。酢酸エチルで抽出した後、水、飽和食塩水で洗
浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣を減圧
濃縮することにより褐色油状物の粗生成物である３−ア
セチルアミノ−４−メトキシ−５−ニトロベンゼンスル
ホニル クロライド（３２．６ｇ）を得た。

【０２８３】

【化３４】

【０２８４】３） 上記２）で得られた粗生成物（３
２．６ｇ）のテトラヒドロフラン（３５０ｍｌ）溶液
に、氷冷下、ジエチルアミン（２５．７ｍｌ）を滴下
し、室温中４０分間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残
渣をクロロホルムに溶解した後、水、飽和食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣を減圧濃
縮し、酢酸エチルでスラリー洗浄した。濾過後、減圧乾
燥することにより淡黄色結晶の３−アセチルアミノ−
Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−メトキシ−５−ニトロベンゼン
スルホンアミド（２７．６ｇ、収率７１％）を得た。

【０２８５】

【化３５】

【０２８６】４） 上記３）で得られた化合物（３１５
ｍｇ）のジメチルホルムアミド（４ｍｌ）溶液に、氷冷
下、ヨウ化メチル（８５μｌ）及び水素化ナトリウム
（４４ｍｇ）を加え、室温中１時間攪拌した。攪拌後、
１０％クエン酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。
有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン
＝１：３）で精製することにより淡黄色固体の３−
（Ｎ’−アセチル−Ｎ’−メチルアミノ）−Ｎ，Ｎ−ジ
エチル−４−メトキシ−５−ニトロベンゼンスルホンア
ミド（２７１ｍｇ、収率８３％）を得た。

【０２８７】

【化３６】

【０２８８】５） 上記４）で得られた化合物（２７１
ｍｇ）のエタノール（５ｍｌ）及び水（１．３ｍｌ）混
合溶液に、６Ｎ塩酸（１．３ｍｌ）を加え、６時間加熱
還流した。放冷後、減圧濃縮し、飽和重曹水を加え、ク
ロロホルムで抽出した。有機層を０．１Ｎ水酸化ナトリ
ウム水溶液、水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥した。濾過後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチ
ル：ヘキサン＝１：１）で精製することにより黄色油状
物のＮ，Ｎ−ジエチル−４−メトキシ−３−メチルアミ
ノ−５−ニトロベンゼンスルホンアミド（１９５ｍｇ、
収率８２％）を得た。

【０２８９】

【化３７】

【０２９０】６） 上記５）で得られた化合物（１８３
ｍｇ）のジメチルホルムアミド（４ｍｌ）溶液に、氷冷
下、ヨウ化メチル（５４μｌ）及び水素化ナトリウム
（２８ｍｇ）を加え、室温中３０分間攪拌した。攪拌
後、１０％クエン酸水溶液を加え、酢酸エチルで抽出
し、水、飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥
後、濾過し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル：ヘ
キサン＝１：３）で精製することにより黄色油状物の表
題化合物（１４８ｍｇ、収率７７％）を得た。

【０２９１】製造例６ ３−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−メトキシ−５−ニ
トロベンゼンスルホンアミドの合成

【０２９２】

【化３８】

【０２９３】氷冷下、Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−メトキシ
−３−ニトロベンゼンスルホンアミド（１．９８ｇ）の
硫酸（７ｍｌ）溶液に、予め調製したジブロモイソシア
ヌル酸（Ｄｉｂｒｏｍｏｉｓｏｃｙａｎｕｒｉｃ ａｃ
ｉｄ）（９８１ｍｇ）の硫酸（１８ｍｌ）溶液を滴下
し、室温中４時間攪拌した。攪拌後、反応液を氷水に加
え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和重曹水、
飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。得ら
れた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開
溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：３）で精製すること
により淡黄色固体の表題化合物（１．８６ｇ、収率７４
％）を得た。

【０２９４】製造例７ ５−［Ｎ−エチル−Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエ
チル）スルファモイル］−２，３−ジメトキシ安息香酸
の合成

【０２９５】

【化３９】

【０２９６】１） ２，３−ジメトキシ安息香酸（５．
０ｇ）のジクロロメタン（５０ｍｌ）溶液に、氷冷下、
メタノール（５．６ｍｌ）、ジメチルアミノピリジン
（３．７ｇ）及びＷＳＣ・ＨＣｌ（５．８ｇ）を加え、
室温中終夜攪拌した。攪拌後、減圧濃縮し、得られた残
渣を酢酸エチルに溶解し、水、１Ｎ塩酸、０．２Ｎ水酸
化ナトリウム水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄した。
硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮することにより無色
油状物の粗生成物である２，３−ジメトキシ安息香酸メ
チル（５．３ｇ）を得た。

【０２９７】

【化４０】

【０２９８】２） 上記１）で得られた化合物（５．３
ｇ）のクロロホルム（１５ｍｌ）溶液に、氷冷下、クロ
ロスルホン酸（１８ｍｌ）を滴下し、、室温中９時間攪
拌した。攪拌後、反応液を氷水に滴下し、クロロホルム
で抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥した。乾燥後、得られた残渣を減圧濃縮
することにより淡黄色油状物の粗生成物である５−クロ
ロスルホニル−２，３−ジメトキシ安息香酸メチル
（２．５ｇ）を得た。

【０２９９】

【化４１】

【０３００】３） 上記２）で得られた化合物（２．５
ｇ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶液に、氷冷
下、エチルアミン塩酸塩（１．４ｇ）及びトリエチルア
ミン（２．４ｍｌ）を加え、室温中６時間攪拌した。攪
拌後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機
層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：２）で精製
することにより淡黄色油状物の５−エチルスルファモイ
ル−２，３−ジメトキシ安息香酸メチル（１．４ｇ、収
率１７％）を得た。

【０３０１】

【化４２】

【０３０２】４） 上記３）で得られた化合物（５００
ｍｇ）のジメチルホルムアミド（５ｍｌ）溶液に、氷冷
下、水素化ナトリウム（９９ｍｇ）及びトリフルオロメ
タンスルホン酸トリフルオロエチル（５７４ｍｇ）を加
え、６０℃で１時間加熱攪拌した。攪拌後、反応液に水
を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩
水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢
酸エチル：ヘキサン＝１：３）で精製することにより無
色油状物の５−［Ｎ−エチル−Ｎ−（２，２，２−トリ
フルオロエチル）スルファモイル］−２，３−ジメトキ
シ安息香酸メチル（４４１ｍｇ、収率６９％）を得た。

【０３０３】

【化４３】

【０３０４】５） 上記４）で得られた化合物（４３８
ｍｇ）のメタノール（５ｍｌ）及びテトラヒドロフラン
（５ｍｌ）混合溶液に、氷冷下、１Ｎ水酸化リチウム水
溶液（３．４ｍｌ）を加え、５０℃で１．５時間加熱攪
拌した。攪拌後、反応液を減圧濃縮し、水を加え、エー
テルで洗浄した。水層に１Ｎ塩酸を加え、酸性とした
後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮することにより
白色固体の表題化合物（３３１ｍｇ、収率９４％）を得
た。

【０３０５】製造例８ ５−［Ｎ−エチル−Ｎ−（２−フルオロエチル）スルフ
ァモイル］−２，３−ジメトキシ安息香酸の合成

【０３０６】

【化４４】

【０３０７】１） 前述の製造例７の３）で得られた化
合物（４５０ｍｇ）のジメチルホルムアミド（５ｍｌ）
溶液に、氷冷下、水素化ナトリウム（８９ｍｇ）及び１
−ブロモ−２−フルオロエタン（１６６μｌ）を加え、
６０℃で０．５時間加熱攪拌した。攪拌後、反応液に水
を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩
水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢
酸エチル：ヘキサン＝１：２）で精製することにより無
色油状物の５−［Ｎ−エチル−Ｎ−（２−フルオロエチ
ル）スルファモイル］−２，３−ジメトキシ安息香酸メ
チル（３７０ｍｇ、収率７１％）を得た。

【０３０８】

【化４５】

【０３０９】２） 上記１）で得られた化合物を用い
て、前述の製造例７の５）と同様に処理することにより
白色固体の表題化合物（収率９４％）を得た。

【０３１０】製造例９ ５−［Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，２−トリフルオロエチ
ル）スルファモイル］−２，３−ジメトキシ安息香酸の
合成

【０３１１】

【化４６】

【０３１２】１） 前述の製造例７の２）で得られた化
合物（２．８ｇ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶
液に、氷冷下、トリフルオロエチルアミン（２．５ｍ
ｌ）を加え、室温中終夜攪拌した。攪拌後、反応液に水
を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩
水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮するこ
とにより淡黄色油状物の粗生成物である５−［Ｎ−
（２，２，２−トリフルオロエチル）スルファモイル］
−２，３−ジメトキシ安息香酸メチル（１．３ｇ）を得
た。

【０３１３】

【化４７】

【０３１４】２） 上記１）で得られた化合物を用い
て、前述の製造例７の４）と同様に処理することにより
無色油状物の５−［Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，２−トリフ
ルオロエチル）スルファモイル］−２，３−ジメトキシ
安息香酸メチル（収率６０％）を得た。

【０３１５】

【化４８】

【０３１６】３） 上記２）で得られた化合物を用い
て、前述の製造例７の５）と同様に処理することにより
白色固体の表題化合物（収率９６％）を得た。

【０３１７】製造例１０ ５−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−フルオロエチル）スルファモ
イル］−２，３−ジメトキシ安息香酸の合成

【０３１８】

【化４９】

【０３１９】１） 前述の製造例７の２）で得られた化
合物（４００ｍｇ）のテトラヒドロフラン（６ｍｌ）溶
液に、氷冷下、２−フルオロエチルアミン塩酸塩（４５
０ｍｇ）及びトリエチルアミン（５６８μｌ）を加え、
室温中終夜攪拌した。攪拌後、反応液に水を加え、酢酸
エチルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル：ヘ
キサン＝１：２）で精製することにより無色油状物の５
−［Ｎ−（２−フルオロエチル）スルファモイル］−
２，３−ジメトキシ安息香酸メチル（２６１ｍｇ、収率
６０％）を得た。

【０３２０】

【化５０】

【０３２１】２） 上記１）で得られた化合物を用い
て、前述の製造例８の１）と同様に処理することにより
無色油状物の５−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−フルオロエチ
ル）スルファモイル］−２，３−ジメトキシ安息香酸メ
チル（収率９４％）を得た。

【０３２２】

【化５１】

【０３２３】３） 上記２）で得られた化合物を用い
て、前述の製造例７の５）と同様に処理することにより
白色固体の表題化合物（収率８７％）を得た。

【０３２４】製造例１１ ５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシ−３−ニト
ロ安息香酸の合成

【０３２５】

【化５２】

【０３２６】１） ｏ−アニス酸（５．２５ｇ）に、氷
冷下、クロロスルホン酸（２５ｍｌ）を加え、室温中終
夜攪拌した。攪拌後、反応液を氷水に滴下し、析出した
結晶を濾過し、水洗いした。得られた残渣を減圧乾燥す
ることにより白色固体の５−クロロスルホニル−２−メ
トキシ安息香酸（５．９６ｇ、収率６９％）を得た。

【０３２７】

【化５３】

【０３２８】２） 上記１）で得られた化合物（１．０
１ｇ）を濃硫酸（１０ｍｌ）に溶解し、氷冷下、発煙硝
酸（０．５ｍｌ）及び濃硫酸（１ｍｌ）の混合液を滴下
した。室温中２．５時間攪拌した後、反応液を氷水に加
え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮することにより
淡黄色固体の５−クロロスルホニル−２−メトキシ−３
−ニトロ安息香酸（１．１６ｇ、収率９７％）を得た。

【０３２９】

【化５４】

【０３３０】３） 上記２）で得られた化合物（１．１
６ｇ）のテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）溶液に、氷冷
下、ジエチルアミン（４ｍｌ）を滴下し、室温中１時間
攪拌した。攪拌後、反応液に１Ｎ塩酸を加え、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナト
リウムで乾燥後、減圧濃縮することにより黄色固体の表
題化合物（１．２７ｇ、収率９７％）を得た。

【０３３１】製造例１２ ５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシ−３−ニト
ロ安息香酸メチルの合成

【０３３２】

【化５５】

【０３３３】前述の製造例１１で得られた化合物（１６
１ｍｇ）のメタノール（１５ｍｌ）溶液に、氷冷下、Ｗ
ＳＣ・ＨＣｌ（１１１ｍｇ）及びジメチルアミノピリジ
ン（１５ｍｇ）を加え、室温中終夜攪拌した。攪拌後、
反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル
＝４：１）で精製することにより黄色油状物の表題化合
物（６６ｍｇ、収率３９％）を得た。

【０３３４】製造例１３ ５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシ−３−ニト
ロ安息香酸エチルの合成

【０３３５】

【化５６】

【０３３６】前述の製造例１１で得られた化合物（３２
５ｍｇ）のジクロロメタン（１０ｍｌ）溶液に、氷冷
下、塩化オキサリル（０．１５ｍｌ）及びジメチルホル
ムアミド（触媒量）を加え、室温中終夜攪拌した。攪拌
後、反応液を減圧濃縮し、トルエンで共沸した。次い
で、この反応物をエタノール（２０ｍｌ）及びテトラヒ
ドロフラン（２０ｍｌ）混合溶媒に溶解し、ピリジン
（０．０８ｍｌ）を加え、室温中終夜攪拌した。攪拌
後、反応液を減圧濃縮し、酢酸エチルに溶解した。有機
層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製
することにより黄色油状物の表題化合物（１９１ｍｇ、
収率５４％）を得た。

【０３３７】製造例１４ ５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシ−Ｎ，Ｎ−
ジメチル−３−ニトロベンズアミドの合成

【０３３８】

【化５７】

【０３３９】前述の製造例１１で得られた化合物を用い
て、前述の製造例１３と同様に塩化オキサリル及びジメ
チルホルムアミドで処理し、次いで、ジメチルアミンと
反応させることにより黄色油状物の表題化合物（収率８
５％）を得た。

【０３４０】製造例１５ ５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシ−Ｎ−メチ
ル−３−ニトロベンズアミドの合成

【０３４１】

【化５８】

【０３４２】前述の製造例１１で得られた化合物を用い
て、前述の製造例１３と同様に塩化オキサリル及びジメ
チルホルムアミドで処理し、次いで、メチルアミンと反
応させることにより黄色固体の表題化合物（収率４４
％）を得た。

【０３４３】製造例１６ ５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシ−３−ニト
ロベンズアミドの合成

【０３４４】

【化５９】

【０３４５】前述の製造例１１で得られた化合物（６３
４ｍｇ）のジメチルホルムアミド（１０ｍｌ）溶液に、
氷冷下、塩化アンモニウム（２０６ｍｇ）、ＨＯＢｔ・
Ｈ₂Ｏ（４４５ｍｇ）、トリエチルアミン（０．５４ｍ
ｌ）及びＷＳＣ・ＨＣｌ（５７３ｍｇ）を加え、室温中
終夜攪拌した。攪拌後、反応液に飽和食塩水を加え、酢
酸エチル−テトラヒドロフラン（１：１）混合溶媒で抽
出した。有機層を飽和重曹水次いで飽和食塩水で洗浄
し、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；クロロホル
ム：メタノール＝５０：１〜２０：１）で精製すること
により淡黄色固体の表題化合物（３６２ｍｇ、収率５７
％）を得た。

【０３４６】製造例１７ ３−シアノ−Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−メトキシ−５−ニ
トロベンゼンスルホンアミドの合成

【０３４７】

【化６０】

【０３４８】前述の製造例１６で得られた化合物（１０
９ｍｇ）のジクロロメタン（５ｍｌ）溶液に、分子内塩
（ＭｅＯ₂ＣＮ^-ＳＯ₂Ｎ⁺Ｅｔ₃）（２０６ｍｇ）を加
え、室温中終夜攪拌した。攪拌後、反応液を減圧濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製
することにより黄色固体の表題化合物（９０ｍｇ、収率
８７％）を得た。

【０３４９】製造例１８ ３−ブロモ−Ｎ−エチル−Ｎ−メトキシ−４−メトキシ
−５−ニトロベンゼンスルホンアミドの合成

【０３５０】

【化６１】

【０３５１】１） メトキシアミン塩酸塩（０．７４
ｇ）のピリジン（５ｍｌ）溶液に、氷冷下、４−メトキ
シ−３−ニトロベンゼンスルホニル クロライド（２．
２３ｇ）のテトラヒドロフラン溶液を加え、室温中３．
５時間攪拌した。攪拌後、反応液を減圧濃縮し、酢酸エ
チルを加え、飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで
乾燥した後、減圧濃縮し、エーテル−酢酸エチルから再
結晶することにより茶色固体のＮ−メトキシ−４−メト
キシ−３−ニトロベンゼンスルホンアミド（７６６ｍ
ｇ、収率３３％）を得た。

【０３５２】

【化６２】

【０３５３】２） 上記１）で得られた化合物（３７６
ｍｇ）のジメチルホルムアミド（５ｍｌ）溶液に、炭酸
カリウム（２３７ｍｇ）及びヨードエタン（０．１７ｍ
ｌ）を加え、６０℃で１時間加熱攪拌した。攪拌後、反
応液に１Ｎ塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層
を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：２）で精製
することにより黄色油状物のＮ−エチル−Ｎ−メトキシ
−４−メトキシ−３−ニトロベンゼンスルホンアミド
（３７３ｍｇ、収率９０％）を得た。

【０３５４】

【化６３】

【０３５５】３） 上記２）で得られた化合物を用い
て、前述の製造例６と同様に処理することにより淡黄色
油状物の表題化合物（収率３６％）を得た。

【０３５６】製造例１９ Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，４−ジメトキシ−３−ニトロベ
ンゼンスルホンアミドの合成

【０３５７】

【化６４】

【０３５８】Ｎ，Ｎ−ジエチル−２，４−ジヒドロキシ
−３−ニトロベンゼンスルホンアミド（２３３ｍｇ）の
ジメチルホルムアミド（５ｍｌ）溶液に、氷冷下、ヨー
ドメタン（０．１５ｍｌ）及び水素化ナトリウム（７８
ｍｇ）を加え、室温中終夜攪拌した。攪拌後、反応液に
水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽和食
塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；
ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製することにより
黄色油状物の表題化合物（２１９ｍｇ、収率８６％）を
得た。

【０３５９】製造例２０ Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−フルオロ−４−メトキシ−５−
ニトロベンゼンスルホンアミドの合成

【０３６０】

【化６５】

【０３６１】１） ５−フルオロ−２−ニトロフェノー
ル（４．１０ｇ）のアセトン（５０ｍｌ）溶液に、硫酸
ジメチル（３ｍｌ）及び炭酸カリウム（５．４ｇ）を加
え、室温中１時間攪拌した。攪拌後、反応液を減圧濃縮
し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、飽
和重曹水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られ
た残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶
媒；ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製することに
より黄色固体の４−フルオロ−２−メトキシ−１−ニト
ロベンゼン（４．１４ｇ、収率９３％）を得た。

【０３６２】

【化６６】

【０３６３】２） 上記１）で得られた化合物を用い
て、前述の製造例１１の１）と同様に処理することによ
り褐色油状物の粗生成物である２−フルオロ−４−メト
キシ−５−ニトロベンゼンスルホニル クロライドを得
た。

【０３６４】

【化６７】

【０３６５】３） 上記２）で得られた化合物を用い
て、前述の製造例１１の３）と同様に処理することによ
り茶色固体の表題化合物（収率１３％）を得た。

【０３６６】製造例２１ Ｎ，Ｎ−ジエチル−２−ジエチルアミン−４−メトキシ
−５−ニトロベンゼンスルホンアミドの合成

【０３６７】

【化６８】

【０３６８】前述の製造例２０で得られた化合物（１６
９ｍｇ）のトルエン（５ｍｌ）溶液に、ジエチルアミン
（１．９ｍｌ）を加え、１０５℃で１時間加熱攪拌し
た。攪拌後、反応液を減圧濃縮し、得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサ
ン：酢酸エチル＝２：３）で精製することによりベージ
ュ色固体の表題化合物（１５１ｍｇ、収率７６％）を得
た。

【０３６９】製造例２２ Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−メトキシ−２−メチルアミン−
５−ニトロベンゼンスルホンアミドの合成

【０３７０】

【化６９】

【０３７１】前述の製造例２０で得られた化合物及びメ
チルアミンを用いて、前述の製造例２１と同様に処理す
ることによりベージュ色固体の表題化合物（収率９６
％）を得た。

【０３７２】製造例２３ Ｎ，Ｎ−ジエチル−４−メトキシ−２−ジメチルアミン
−５−ニトロベンゼンスルホンアミドの合成

【０３７３】

【化７０】

【０３７４】前述の製造例２０で得られた化合物及びジ
メチルアミンを用いて、前述の製造例２１と同様に処理
することにより橙色固体の表題化合物（収率９２％）を
得た。

【０３７５】製造例２４ ２−アミノ−４−エチルチオフェン−３，５−ジカルボ
ン酸ジエチルエステルの合成

【０３７６】

【化７１】

【０３７７】プロピオニル酢酸エチル（２．５ｍｌ）及
びシアノ酢酸エチル（２．０ｇ）のエタノール（５ｍ
ｌ）溶液に、硫黄（５６７ｍｇ）及びジエチルアミン
（１．３６ｍｌ）を加え、５０℃で０．５時間加熱攪拌
し、更に室温中で終夜攪拌した。攪拌後、不溶物を濾去
し、濾液を減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルク
ロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝
５：１）で精製することにより黄色油状物の表題化合物
（１．９ｇ）を得た。

【０３７８】製造例２５ ２−アミノ−４−エチル−５−ジエチルスルファモイル
チオフェン−３−カルボン酸エチルエステルの合成

【０３７９】

【化７２】

【０３８０】１） メチルエチルケトン（４５．０ｍ
ｌ）及びシアノ酢酸エチル（５４．０ｍｌ）のエタノー
ル（１００ｍｌ）溶液に、硫黄（１６．４ｇ）及びジエ
チルアミン（３８．０ｍｌ）を加え、５０℃で６時間加
熱攪拌し、更に室温中で終夜攪拌した。攪拌後、反応液
を減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）
で精製することにより淡黄色固体の粗生成物である２−
アミノ−４−エチルチオフェン−３−カルボン酸エチル
エステル（５６．５ｇ）を得た。

【０３８１】

【化７３】

【０３８２】２） 上記１）で得られた粗生成物（５
０．２ｇ）のジクロロメタン（３００ｍｌ）溶液に、氷
冷下、ピリジン（２８．０ｍｌ）及び無水トリフルオロ
酢酸（４３．０ｍｌ）を加え、室温中終夜攪拌した。攪
拌後、反応液に飽和重曹水（２００ｍｌ）を加え、クロ
ロホルムで抽出した。有機層を１０％クエン酸次いで飽
和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２５：１〜２
０：１）で精製し、酢酸エチル−ヘキサンから再結晶し
た。更に濾液を減圧濃縮し、得られた残渣にヘキサン
（２００ｍｌ）を加え、攪拌した。固体を濾別した後、
再び濾液を減圧濃縮し、残渣にヘキサン（１００ｍｌ）
を加え、スラリー洗浄した。濾過後、得られた固体をヘ
キサンで洗浄することにより淡黄色固体の粗生成物であ
る４−エチル−２−（トリフルオロアセチルアミノ）チ
オフェン−３−カルボン酸エチルエステル（１３．０
ｇ）を得た。

【０３８３】

【化７４】

【０３８４】３） 上記２）で得られた粗生成物（６０
０ｍｇ）のクロロホルム（２．５ｍｌ）溶液に、氷冷
下、クロロスルホン酸（２．５ｍｌ）を加え、室温中１
時間攪拌した。攪拌後、反応液を水に移し、クロロホル
ムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥した。乾燥後、減圧濃縮することによ
り茶褐色油状物の粗生成物である２−クロロスルホニル
−３−エチル−５−（トリフルオロアセチルアミノ）チ
オフェン−４−カルボン酸エチルエステル（７３９ｍ
ｇ）を得た。

【０３８５】

【化７５】

【０３８６】４） 上記３）で得られた粗生成物（７３
９ｍｇ）のテトラヒドロフラン（４ｍｌ）溶液に、氷冷
下、ジエチルアミン（０．４２ｍｌ）を加え、室温中１
時間攪拌した。攪拌後、反応液に水を加え、酢酸エチル
で抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル
＝１０：１〜５：１）で精製することにより黄色固体の
３−エチル−２−ジエチルスルファモイル−５−（トリ
フルオロアセチルアミノ）チオフェン−４−カルボン酸
エチルエステル（３１０ｍｇ、収率１１％）を得た。

【０３８７】

【化７６】

【０３８８】５） 上記４）で得られた化合物（３０５
ｍｇ）のエタノール（２０ｍｌ）及び水（２．５ｍｌ）
混合溶液に、炭酸カリウムを加え、室温中５時間攪拌し
た。攪拌後、反応液を減圧濃縮し、水を加え、クロロホ
ルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エ
チル＝４：１）で精製することにより黄色固体の表題化
合物（１９７ｍｇ、収率８３％）を得た。

【０３８９】製造例２６ ２−アミノ−５−シクロプロパンカルボニル−４−エチ
ルチオフェン−３−カルボン酸エチルエステルの合成

【０３９０】

【化７７】

【０３９１】１） 前述の製造例２５の２）で得られた
化合物（４４７ｍｇ）のジクロロメタン（３０ｍｌ）溶
液に、塩化アルミニウム（４１８ｍｇ）及びシクロプロ
パンカルボニル クロライド（０．２ｍｌ）を加え、室
温中終夜攪拌した。攪拌後、反応液に水を加え、クロロ
ホルムで抽出した。有機層を飽和重曹水及び飽和食塩水
で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキ
サン：酢酸エチル＝２０：１）で精製することにより黄
色油状物の２−シクロプロパンカルボニル−３−エチル
−５−（トリフルオロアセチルアミノ）チオフェン−４
−カルボン酸エチルエステル（３１８ｍｇ、収率８８
％）を得た。

【０３９２】

【化７８】

【０３９３】２） 上記１）で得られた化合物を用い
て、前述の製造例２５の５）と同様に処理することによ
り淡黄色固体の表題化合物（収率９８％）を得た。

【０３９４】製造例２７ ４−ヒドロキシ−３，５−ジニトロベンゾイル クロラ
イドの合成

【０３９５】

【化７９】

【０３９６】４−ヒドロキシ−３，５−ジニトロ安息香
酸（２０．０ｇ）のトルエン（１００ｍｌ）懸濁液に、
塩化チオニル（１９．２ｍｌ）及び塩化アルミニウム
（０．１ｇ）を加え、９０℃で２０時間加熱攪拌した。
攪拌後、反応液を濾過し、トルエンで洗浄した。濾液を
減圧濃縮した後、得られた残渣をトルエンで共沸し、減
圧乾燥することにより茶黄色固体の粗生成物（３．３
ｇ）を得た。

【０３９７】製造例２８ α−ヒドロキシ−β−フェニルプロピオン酸メチルの合
成

【０３９８】

【化８０】

【０３９９】α−ヒドロキシ−β−フェニルプロピオン
酸（５．００ｇ）のメタノール（１２５ｍｌ）溶液に、
ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（１．００ｇ）を加
え、終夜加熱還流した。還流後、反応液を減圧濃縮し、
エーテルで溶解した。飽和重曹水、水及び飽和食塩水で
洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥後、減圧濃縮
することにより無色結晶の表題化合物（４．８６ｇ、収
率９０％）を得た。

【０４００】製造例２９ β−ヒドロキシプロピオン酸メチルの合成

【０４０１】

【化８１】

【０４０２】ヒドラクリロラクトン（４．９ｍｌ）のメ
タノール（１９ｍｌ）溶液に、−７８℃でナトリウムメ
チラート（１６９ｍｇ）を加え、−７８℃で３時間攪拌
した。攪拌後、反応液に６Ｎ塩酸（０．５２ｍｌ）を加
え、更に室温中攪拌した。攪拌後、減圧濃縮し、残渣に
水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和重曹
水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。
乾燥後、減圧濃縮することにより無色油状物の粗生成物
（３．４４ｇ）を得た。以上、これら製造例１乃至２９
で製造した化合物について、下記表１乃至２に示す。な
お、上記製造例及び表１乃至２中において、Ｍｅはメチ
ル基を、Ｅｔはエチル基を、及びＢｎはベンジル基をそ
れぞれ意味するものである。

【０４０３】

【表１】

【０４０４】

【表２】

【０４０５】実施例１ ３，５−ジクロロ−Ｎ−（３−エチル−５−ジエチルス
ルファモイル−２−メトキシフェニル）−４−ヒドロキ
シベンズアミドの合成 工程１）

【０４０６】

【化８２】

【０４０７】１） 前述の製造例１で得られた化合物
（１２．５ｇ）のテトラヒドロフラン（１３０ｍｌ）溶
液に、アルゴン雰囲気下、７．５％パラジウム炭素
（２．０ｇ）を加え、室温中常圧で水素ガスを添加し、
終夜攪拌した。反応液をセライトで濾過した後、減圧濃
縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）で
精製することにより褐色固体の化合物（１１．３ｇ、定
量的）を得た。

【０４０８】２） 上記１）で得られた化合物（６．０
４ｇ）のジメチルホルムアミド（１２０ｍｌ）溶液に、
イミダゾール（４．９８ｇ）及びｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリル クロライド（９．６９ｇ）を加え、室温中
終夜攪拌した。この反応液に水を加え、酢酸エチルで抽
出した後、水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥した。乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチ
ル：ヘキサン＝１：６）で精製することにより淡黄色固
体の化合物（７．８８ｇ、収率９２％）を得た。 工程２）

【０４０９】

【化８３】

【０４１０】１） 上記工程１）で得られた化合物
（７．８４ｇ）のクロロホルム（１５０ｍｌ）溶液に、
氷冷下、ピリジン（１．９６ｍｌ）及び前述の製造例３
で得られた粗生成物（８．４０ｇ）を加え、室温中終夜
攪拌した。反応液に水を加え、有機層を抽出した。ま
た、水層をクロロホルムで抽出し、先の有機層とあわ
せ、水、１０％クエン酸水溶液、水、飽和食塩水で順次
洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、減圧濃縮する
ことにより粗生成物を得た。

【０４１１】２） 上記１）で得られた粗生成物のジメ
チルホルムアミド（１４０ｍｌ）溶液に、炭酸カリウム
（１４．０ｇ）を加え、６０℃で２．５時間攪拌した。
反応液に１Ｎ塩酸を加え、酸性とし、酢酸エチルで抽出
した。有機層を水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル：
ヘキサン＝１：６）で清々することにより淡黄色固体の
化合物（９．３９ｇ、収率８４％）を得た。 工程６）

【０４１２】

【化８４】

【０４１３】１） 上記工程２）で得られた化合物
（３．０４ｇ）のジメチルホルムアミド（３０ｍｌ）溶
液に、炭酸カリウム（９１２ｍｇ）及びヨウ化メチル
（０．５２ｍｌ）を加え、６０℃で４時間攪拌した。反
応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水及
び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し、
減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：
４）で精製することにより淡黄色固体の化合物（２．２
６ｇ、収率７３％）を得た。

【０４１４】２） 上記１）で得られた化合物（２．２
４ｇ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶液に、アル
ゴン雰囲気下、７．５％パラジウム炭素（０．２３ｇ）
を加え、室温中常圧で水素ガスを添加し、１時間攪拌し
た。反応液をセライトで濾過し、減圧濃縮した。得られ
た残渣を酢酸エチル−ヘキサンで再結晶化することによ
り白色結晶の表題化合物（１．７７ｇ、収率９４％）を
得た。

【０４１５】実施例２ カリウム ２，６−ジクロロ−４−［Ｎ−（３−エチル
−５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシフェニ
ル）カルバモイル］フェノキシドの合成 工程７）

【０４１６】

【化８５】

【０４１７】前述の実施例１で得られた化合物（２１７
ｍｇ）のテトラヒドロフラン（６ｍｌ）及び水（４ｍ
ｌ）混合溶媒に、炭酸水素カリウム（４６ｍｇ）を加
え、室温中１時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、乾燥
することにより白色アモルファスの表題化合物（２３４
ｍｇ、定量的）を得た。

【０４１８】実施例３ ナトリウム ２，６−ジクロロ−４−［Ｎ−（３−エチ
ル−５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシフェニ
ル）カルバモイル］フェノキシドの合成 工程７）

【０４１９】

【化８６】

【０４２０】前述の実施例１で得られた化合物（７１ｍ
ｇ）のテトラヒドロフラン（６ｍｌ）及び水（４ｍｌ）
混合溶媒に、炭酸水素ナトリウム（１２ｍｇ）を加え、
室温中１時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、乾燥する
ことにより白色アモルファスの表題化合物（７４ｍｇ、
定量的）を得た。

【０４２１】実施例４ リン酸 ２，６−ジクロロ−４−［Ｎ−（３−エチル−
５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシフェニル）
カルバモイル］フェニルの合成 工程７）

【０４２２】

【化８７】

【０４２３】１） 前述の実施例１で得られた化合物
（７４ｍｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液に、
水素化ナトリウム（２０ｍｇ）及びテトラベンジルピロ
ホスフェート（１７１ｍｇ）を加え、室温中終夜攪拌し
た。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層
を水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。乾燥後、減圧濃縮し、得られた残渣を分取用薄層ク
ロマトグラフィー（ＰＴＬＣ）（展開溶媒；酢酸エチ
ル：ヘキサン＝１：１）で精製することにより淡黄色油
状物の化合物（７．８８ｇ、収率６１％）を得た。

【０４２４】２） 上記１）で得られた化合物（６６ｍ
ｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液に、アルゴン
雰囲気下、７．５％パラジウム炭素（７ｍｇ）を加え、
室温中常圧で水素ガスを添加し、３０分間攪拌した。反
応液をセライトで濾過後、減圧濃縮し、得られた残渣を
クロロホルム−酢酸エチル−ヘキサンで再結晶化するこ
とにより淡桃色固体の表題化合物（３４ｍｇ、収率６８
％）を得た。

【０４２５】実施例５ ３，５−ジクロロ−Ｎ−（５−ジエチルスルファモイル
−２，３−ジメトキシフェニル）−４−ヒドロキシベン
ズアミドの合成 工程３）

【０４２６】

【化８８】

【０４２７】前述の製造例２で得られた粗生成物（４．
４４ｇ）のトルエン（３０ｍｌ）溶液にトリエチルアミ
ン（２．２ｍｌ）及びジフェニルホスホリルアジド
（３．３ｍｌ）を加え、２時間加熱還流した。放冷後、
室温中ベンジルアルコール（１．９１ｍｌ）を加え、終
夜加熱還流した。放冷後、反応液に水を加え、酢酸エチ
ルで抽出し、有機層を１Ｎ水酸化ナトリウム溶液、水、
飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した
後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝
１：４）で精製することにより淡黄色油状物の化合物
（４．５８ｇ、収率２０％）を得た。 工程４）

【０４２８】

【化８９】

【０４２９】上記工程３）で得られた化合物（１．６７
ｇ）の酢酸エチル（３０ｍｌ）溶液に、アルゴン雰囲気
下、１０％パラジウム炭素（１６２ｍｇ）を加え、室温
中常圧で水素ガスを添加し、３時間攪拌した。反応液を
セライトで濾過した後、減圧濃縮することにより白色固
体の化合物（９９５ｍｇ、収率８７％）を得た。 工程２）

【０４３０】

【化９０】

【０４３１】１） 上記工程４）で得られた化合物（１
７９ｍｇ）のジクロロメタン（１５ｍｌ）溶液に、氷冷
下、ピリジン（０．１５ｍｌ）及び前述の製造例３で得
られた粗生成物（２５７ｍｇ）を加え、室温中終夜攪拌
した。反応液に水を加え、有機層を抽出した。水層をク
ロロホルムで抽出し、先の有機層とあわせ、１０％クエ
ン酸水溶液、水、１Ｎ水酸化ナトリウム溶液、飽和食塩
水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮後、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝１：５〜１：２）
で精製することにより白色固体の化合物（２８７ｍｇ、
収率８２％）を得た。

【０４３２】２） 上記１）で得られた化合物（２８４
ｍｇ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶液に、アル
ゴン雰囲気下、１０％パラジウム炭素（６２ｍｇ）を加
え、室温中常圧で水素ガスを添加し、１０分間攪拌し
た。反応液をセライトで濾過した後、減圧濃縮をした。
得られた残渣を酢酸エチル−ヘキサンで再結晶化するこ
とにより白色固体の表題化合物（２２３ｍｇ、収率９３
％）を得た。

【０４３３】実施例６ ３−クロロ−Ｎ−（５−ジエチルスルファモイル−２，
３−ジメトキシフェニル）−４−ヒドロキシ−５−ニト
ロベンズアミドの合成 工程２）

【０４３４】

【化９１】

【０４３５】前述の実施例５の工程４）で得られた化合
物（６６１ｍｇ）のクロロホルム（１０ｍｌ）溶液に、
前述の製造例４で得られた粗生成物（５４１ｍｇ）を加
え、２時間加熱還流した。反応液をクロロホルムで希釈
し、水及び飽和食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧濃縮し、得られた残渣を酢酸エチル−ヘキサ
ンで再結晶化することにより淡黄色結晶の表題化合物
（９８６ｍｇ、収率８８％）を得た。

【０４３６】実施例７ ３，５−ジクロロ−Ｎ−［５−ジエチルスルファモイル
−２−メトキシ−３−ジメチルアミノフェニル］−４−
ヒドロキシベンズアミドの合成 工程１）

【０４３７】

【化９２】

【０４３８】前述の製造例５で得られた化合物（１４８
ｍｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液に、アルゴ
ン雰囲気下、７．５％パラジウム炭素（１５ｍｇ）を加
え、室温中常圧で水素ガスを添加し、２４時間攪拌し
た。反応液をセライトで濾過した後、減圧濃縮した。得
られた残渣を減圧濃縮することにより無色油状物の粗生
成物（１５６ｍｇ）を得た。 工程２）

【０４３９】

【化９３】

【０４４０】１） 上記工程１）で得られた化合物（５
４０ｍｇ）のジクロロメタン（５０ｍｌ）溶液に、氷冷
下、ピリジン（０．４５ｍｌ）及び前述の製造例３で得
られた粗生成物（６７２ｍｇ）を加え、室温中終夜攪拌
した。反応液に飽和重曹水を加え、有機層を抽出した。
また、水層をクロロホルムで抽出し、先の有機層とあわ
せ、１０％クエン酸水溶液、水、飽和重曹水、飽和食塩
水で順次洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した後、濾過
し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒；酢酸エチル：ヘキサン＝
１：３）で精製することにより無色アモルファスの化合
物（１．０１ｇ、収率９７％）を得た。

【０４４１】２） 上記１）で得られた化合物（１．０
１ｇ）のトルエン（２０ｍｌ）溶液に、トリフルオロ酢
酸（２０ｍｌ）を加え、８０℃で２時間加熱攪拌した。
減圧濃縮後、トルエンで共沸し、得られた残渣を酢酸エ
チル−ヘキサンで再結晶することにより白色固体の表題
化合物（８１２ｍｇ、収率９５％）を得た。

【０４４２】実施例８ カリウム ２，６−ジクロロ−４−［Ｎ−（５−ジエチ
ルスルファモイル−２−メトキシ−３−ジメチルアミノ
フェニル）カルバモイル］フェノキシドの合成 工程７）

【０４４３】

【化９４】

【０４４４】前述の実施例７で得られた化合物（１５１
ｍｇ）のテトラヒドロフラン（６ｍｌ）、メタノール
（２ｍｌ）及び水（４ｍｌ）混合溶液に、炭酸水素カリ
ウム（２９ｍｇ）を加え、室温中３時間攪拌した。攪拌
後、反応液を減圧濃縮し、乾燥することにより橙色アモ
ルファスの表題化合物（２３４ｍｇ、収率９９％）を得
た。

【０４４５】実施例９ Ｎ−（３−ブロモ−５−ジエチルスルファモイル−２−
メトキシフェニル）−３，５−ジクロロ−４−ヒドロキ
シベンズアミドの合成 工程１）

【０４４６】

【化９５】

【０４４７】前述の製造例６で得られた化合物（１８４
ｍｇ）のエタノール（５ｍｌ）溶液に、塩化スズ（Ｉ
Ｉ）二水和物（５６５ｍｇ）を加え、０．５時間加熱還
流した。加熱還流後、反応液を減圧濃縮し、４Ｎ水酸化
ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有
機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧濃縮することにより黄色油状物の粗生成物（１
７２ｍｇ）を得た。 工程２）

【０４４８】

【化９６】

【０４４９】１） 上記工程１）で得られた化合物及び
前述の製造例３で得られた粗生成物を用いて、前述の実
施例５の工程２）の１）と同様に処理することにより白
色固体の化合物（収率７２％）を得た。

【０４５０】２）上記１）で得られた化合物を用いて、
前述の実施例５の工程２）の２）と同様に処理すること
により白色固体の表題化合物（収率８４％）を得た。

【０４５１】実施例１０ Ｎ−（３−ブロモ−５−ジエチルスルファモイル−２−
メトキシフェニル）−３−クロロ−４−ヒドロキシ−５
−ニトロベンズアミドの合成 工程２）

【０４５２】

【化９７】

【０４５３】前述の実施例５の工程１）で得られた化合
物及び前述の製造例４で得られた粗生成物を用いて、前
述の実施例６と同様に処理することにより黄色固体の表
題化合物（収率６６％）を得た。

【０４５４】実施例１１ カリウム ４−［Ｎ−（３−ブロモ−５−ジエチルスル
ファモイル−２−メトキシフェニル）カルバモイル］−
２−クロロ−６−ニトロフェノキシドの合成 工程７）

【０４５５】

【化９８】

【０４５６】前述の実施例１０で得られた化合物を用い
て、前述の実施例２と同様に処理することにより橙色固
体の表題化合物（定量的）を得た。

【０４５７】実施例１２ ナトリウム ４−［Ｎ−（３−ブロモ−５−ジエチルス
ルファモイル−２−メトキシフェニル）カルバモイル］
−２−クロロ−６−ニトロフェノキシドの合成 工程７）

【０４５８】

【化９９】

【０４５９】前述の実施例１０で得られた化合物を用い
て、前述の実施例３と同様に処理することにより橙色固
体の表題化合物（定量的）を得た。

【０４６０】実施例１３ ３−クロロ−Ｎ−［５−［Ｎ−エチル−Ｎ−（２，２，
２−トリフルオロエチル）スルファモイル］−２，３−
ジメトキシフェニル］−４−ヒドロキシ−５−ニトロベ
ンズアミドの合成 工程３）

【０４６１】

【化１００】

【０４６２】前述の製造例７で得られた化合物及びベン
ジルアルコールを用いて、前述の実施例５の工程３）と
同様に処理することにより無色油状物の粗生成物を得
た。 工程４）

【０４６３】

【化１０１】

【０４６４】上記工程３）で得られた粗生成物を用い
て、前述の実施例５の工程４）と同様に処理することに
より無色油状物の化合物（収率７２％）を得た。 工程２）

【０４６５】

【化１０２】

【０４６６】上記工程４）で得られた化合物及び前述の
製造例４で得られた粗生成物を用いて、前述の実施例６
と同様に処理することにより淡黄色固体の表題化合物
（収率９５％）を得た。

【０４６７】実施例１４ ３−クロロ−Ｎ−［５−［Ｎ−エチル−Ｎ−（２−フル
オロエチル）スルファモイル］−２，３−ジメトキシフ
ェニル］−４−ヒドロキシ−５−ニトロベンズアミドの
合成 工程３）

【０４６８】

【化１０３】

【０４６９】前述の製造例８で得られた化合物及びベン
ジルアルコールを用いて、前述の実施例５の工程３）と
同様に処理することにより無色油状物の粗生成物を得
た。 工程４）

【０４７０】

【化１０４】

【０４７１】上記工程３）で得られた粗生成物を用い
て、前述の実施例５の工程４）と同様に処理することに
より無色油状物の化合物（収率５９％）を得た。 工程２）

【０４７２】

【化１０５】

【０４７３】上記工程４）で得られた化合物及び前述の
製造例４で得られた粗生成物を用いて、前述の実施例６
と同様に処理することにより淡黄色固体の表題化合物
（収率９０％）を得た。

【０４７４】実施例１５ ３−クロロ−Ｎ−［５−［Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，２−
トリフルオロエチル）スルファモイル］−２，３−ジメ
トキシフェニル］−４−ヒドロキシ−５−ニトロベンズ
アミドの合成 工程３）

【０４７５】

【化１０６】

【０４７６】前述の製造例９で得られた化合物及びベン
ジルアルコールを用いて、前述の実施例５の工程３）と
同様に処理することにより白色固体の粗生成物を得た。 工程４）

【０４７７】

【化１０７】

【０４７８】上記工程３）で得られた粗生成物を用い
て、前述の実施例５の工程４）と同様に処理することに
より白色固体の化合物（収率５１％）を得た。 工程２）

【０４７９】

【化１０８】

【０４８０】上記工程４）で得られた化合物及び前述の
製造例４で得られた粗生成物を用いて、前述の実施例６
と同様に処理することにより淡黄色固体の表題化合物
（収率３８％）を得た。

【０４８１】実施例１６ ３−クロロ−Ｎ−［５−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−フルオロ
エチル）スルファモイル］−２，３−ジメトキシフェニ
ル］−４−ヒドロキシ−５−ニトロベンズアミドの合成 工程３）

【０４８２】

【化１０９】

【０４８３】前述の製造例１０で得られた化合物及びｔ
ｅｒｔ−ブチルアルコールを用いて、前述の実施例５の
工程３）と同様に処理することにより無色油状物の化合
物（収率６４％）を得た。 工程４）

【０４８４】

【化１１０】

【０４８５】上記工程３）で得られた化合物（１７９ｍ
ｇ）の酢酸エチル（３ｍｌ）溶液に、氷冷下、４Ｎ塩酸
−酢酸エチル（３ｍｌ）を加え、室温中２時間攪拌し
た。攪拌後、反応液を減圧濃縮し、１Ｎ水酸化ナトリウ
ム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を水、
飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃
縮することにより無色油状物の化合物（１３２ｍｇ、収
率９６％）を得た。 工程２）

【０４８６】

【化１１１】

【０４８７】上記工程４）で得られた化合物及び前述の
製造例４で得られた粗生成物を用いて、前述の実施例６
と同様に処理することにより淡黄色固体の表題化合物
（収率８０％）を得た。

【０４８８】実施例１７ ３−クロロ−Ｎ−（５−ジエチルスルファモイル−２−
メトキシ−３−メトキシカルボニルフェニル）−４−ヒ
ドロキシ−５−ニトロベンズアミドの合成 工程１）

【０４８９】

【化１１２】

【０４９０】前述の製造例１２で得られた化合物のエタ
ノール（１２ｍｌ）、テトラヒドロフラン（６ｍｌ）及
び水（３ｍｌ）の混合溶液に、還元鉄（７０ｍｇ）及び
塩化アンモニア（６２ｍｇ）を加え、終夜加熱還流し
た。加熱還流後、反応液をセライトで濾過し、濾液を減
圧濃縮した。得られた残渣を酢酸エチルに溶解し、水及
び飽和食塩水で洗浄した後、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。乾燥後、濾過し、減圧濃縮することにより黄色油状
物の粗生成物（７２ｍｇ）を得た。 工程２）

【０４９１】

【化１１３】

【０４９２】上記工程１）で得られた化合物及び前述の
製造例４で得られた粗生成物を用いて、前述の実施例６
と同様に処理することにより黄土色固体の表題化合物
（収率７１％）を得た。

【０４９３】実施例１８ ３−クロロ−Ｎ−（３−エトキシカルボニル−５−ジエ
チルスルファモイル−２−メトキシフェニル）−４−ヒ
ドロキシ−５−ニトロベンズアミドの合成 工程１）

【０４９４】

【化１１４】

【０４９５】前述の製造例１３で得られた化合物を用い
て、前述の実施例１７の工程１）と同様に処理すること
により黄色油状物の粗生成物を得た。 工程２）

【０４９６】

【化１１５】

【０４９７】上記工程１）で得られた化合物及び前述の
製造例４で得られた粗生成物を用いて、前述の実施例６
と同様に処理することにより黄土色固体の表題化合物
（収率８９％）を得た。

【０４９８】実施例１９ Ｎ−（３−カルボキシ−５−ジエチルスルファモイル−
２−メトキシフェニル）−３−クロロ−４−ヒドロキシ
−５−ニトロベンズアミドの合成

【０４９９】

【化１１６】

【０５００】前述の実施例１８で得られた化合物（２１
５ｍｇ）のテトラヒドロフラン（４ｍｌ）及びメタノー
ル（４ｍｌ）混合溶液に、４Ｎ水酸化リチウム水溶液
（１ｍｌ）を加え、室温中終夜攪拌した。攪拌後、反応
液を減圧濃縮し、１Ｎ塩酸を加え、析出した結晶を濾過
した。得られた結晶を水洗後、減圧乾燥することにより
黄色固体の表題化合物（１７８ｍｇ、収率８７％）を得
た。

【０５０１】実施例２０ ３−クロロ−Ｎ−（５−ジエチルスルファモイル−２−
メトキシ−３−ジメチルカルバモイルフェニル）−４−
ヒドロキシ−５−ニトロベンズアミドの合成 工程１）

【０５０２】

【化１１７】

【０５０３】前述の製造例１４で得られた化合物を用い
て、前述の実施例１７の工程１）と同様に処理すること
により黄色固体の化合物（収率９６％）を得た。 工程２）

【０５０４】

【化１１８】

【０５０５】上記工程１）で得られた化合物及び前述の
製造例４で得られた粗生成物を用いて、前述の実施例６
と同様に処理することにより黄色固体の表題化合物（収
率８８％）を得た。

【０５０６】実施例２１ ３−クロロ−Ｎ−（５−ジエチルスルファモイル−２−
メトキシ−３−メチルカルバモイルフェニル）−４−ヒ
ドロキシ−５−ニトロベンズアミドの合成 工程１）

【０５０７】

【化１１９】

【０５０８】前述の製造例１５で得られた化合物を用い
て、前述の実施例１７の工程１）と同様に処理すること
により白色固体の粗生成物を得た。 工程２）

【０５０９】

【化１２０】

【０５１０】上記工程１）で得られた化合物及び前述の
製造例４で得られた粗生成物を用いて、前述の実施例６
と同様に処理することにより黄土色固体の表題化合物
（収率７６％）を得た。

【０５１１】実施例２２ Ｎ−（３−カルバモイル−５−ジエチルスルファモイル
−２−メトキシフェニル）−３−クロロ−４−ヒドロキ
シ−５−ニトロベンズアミドの合成 工程１）

【０５１２】

【化１２１】

【０５１３】前述の製造例１６で得られた化合物を用い
て、前述の実施例１７の工程１）と同様に処理すること
により白色固体の粗生成物を得た。 工程２）

【０５１４】

【化１２２】

【０５１５】上記工程１）で得られた化合物及び前述の
製造例４で得られた粗生成物を用いて、前述の実施例６
と同様に処理することにより白色固体の表題化合物（収
率６６％）を得た。

【０５１６】実施例２３ ３−クロロ−Ｎ−（３−シアノ−５−ジエチルスルファ
モイル−２−メトキシフェニル）−４−ヒドロキシ−５
−ニトロベンズアミドの合成 工程１）

【０５１７】

【化１２３】

【０５１８】前述の製造例１７で得られた化合物を用い
て、前述の実施例１７の工程１）と同様に処理すること
により黄色油状物の粗生成物を得た。 工程２）

【０５１９】

【化１２４】

【０５２０】上記工程１）で得られた化合物及び前述の
製造例４で得られた粗生成物を用いて、前述の実施例６
と同様に処理することにより黄色固体の表題化合物（収
率３９％）を得た。

【０５２１】実施例２４ Ｎ−［３−ブロモ−５−（Ｎ−エチル−Ｎ−メトキシス
ルファモイル）−２−メトキシフェニル］−３−クロロ
−４−ヒドロキシ−５−ニトロベンズアミドの合成 工程１）

【０５２２】

【化１２５】

【０５２３】前述の製造例１８で得られた化合物を用い
て、前述の実施例９の工程１）と同様に処理することに
より淡黄色油状物の化合物（収率８４％）を得た。 工程２）

【０５２４】

【化１２６】

【０５２５】上記工程１）で得られた化合物及び前述の
製造例４で得られた粗生成物を用いて、前述の実施例６
と同様に処理することによりベージュ色固体の表題化合
物（収率８４％）を得た。

【０５２６】実施例２５ Ｎ−（３−ブロモ−５−ジエチルスルファモイル−２−
メトキシフェニル）−３−クロロ−４−ヒドロキシ−５
−メチルスルホニルアミノベンズアミドの合成 工程２）

【０５２７】

【化１２７】

【０５２８】１） 前述の実施例９の工程１）で得られ
た化合物及び４−ベンジルオキシ−３−ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニルアミノ−５−クロロベンゾイル クロラ
イドを用いて、前述の実施例５の工程２）の１）と同様
に処理することにより淡黄色アモルファスの化合物（収
率６５％）を得た。

【０５２９】２） 上記１）で得られた化合物（４００
ｍｇ）の酢酸エチル（３ｍｌ）溶液に、４Ｎ塩酸−酢酸
エチル（６ｍｌ）を加え、室温中終夜攪拌した。析出し
た結晶を濾過し、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出
した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで
乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）
で精製することにより無色油状物の化合物（１２５ｍ
ｇ、収率３６％）を得た。 工程９）

【０５３０】

【化１２８】

【０５３１】１） 上記工程２）で得られた化合物（１
４６ｍｇ）のクロロホルム（５ｍｌ）溶液に、氷冷下、
メタンスルホニルクロライド（０．０３ｍｌ）、ピリジ
ン（０．０５ｍｌ）及びジメチルアミノピリジン（触媒
量）を加え、室温中終夜攪拌した。攪拌後、反応液に水
を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を１０％クエ
ン酸水溶液、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル
＝２：１）で精製することにより無色アモルファスの化
合物（１０４ｍｇ、収率６７％）を得た。

【０５３２】２）上記１）で得られた化合物を用いて、
前述の実施例５の工程２）の２）と同様に処理すること
によりベージュ色アモルファスの表題化合物（収率６４
％）を得た。

【０５３３】実施例２６ Ｎ−（３−アミノ−５−ジエチルスルファモイル−２−
メトキシフェニル）−３，５−ジクロロ−４−ヒドロキ
シベンズアミドの合成 工程１２）

【０５３４】

【化１２９】

【０５３５】１） 前述の実施例５の工程２）の１）と
同様にして得られた４−ベンジルオキシ−３，５−ジク
ロロ−Ｎ−（５−ジエチルスルファモイル−２−メトキ
シ−ニトロフェニル）ベンズアミド（２１５ｍｇ）のエ
タノール（１２ｍｌ）、テトラヒドロフラン（４ｍｌ）
及び水（４ｍｌ）混合溶液に、亜二チオン酸ナトリウム
（３２１ｍｇ）を加え、２０分間加熱還流した。加熱還
流後、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝
１：１）で精製することにより白色固体の化合物（９５
ｍｇ、収率４６％）を得た。

【０５３６】２）上記１）で得られた化合物を用いて、
前述の実施例５の工程２）の２）と同様に処理すること
により淡黄色固体のの表題化合物（収率９９％）を得
た。

【０５３７】実施例２７ Ｎ−（３−ブロモ−５−ジエチルスルファモイル−２−
メトキシフェニル）−３−クロロ−４−ヒドロキシ−５
−エトキシカルボニルベンズアミドの合成 工程２）

【０５３８】

【化１３０】

【０５３９】１） 前述の実施例９の工程１）で得られ
た化合物及び４−ベンジルオキシ−３−ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル−５−クロロベンゾイル クロライドを
用いて、前述の実施例５の工程２）の１）と同様に処理
することにより無色結晶の化合物（収率７３％）を得
た。

【０５４０】２） 上記１）で得られた化合物を用い
て、前述の実施例２５の工程２）の２）と同様に処理す
ることにより白色固体の化合物（収率７８％）を得た。 工程１０）

【０５４１】

【化１３１】

【０５４２】１） 上記工程２）で得られた化合物を用
いて、前述の製造例１３と同様に処理することにより白
色固体の化合物（収率４７％）を得た。

【０５４３】２）上記１）で得られた化合物を用いて、
前述の実施例５の工程２）の２）と同様に処理すること
により白色の表題化合物（収率８９％）を得た。

【０５４４】実施例２８ ３−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−５−クロロ−Ｎ−
（５−ジエチルスルファモイル−２，３−ジメトキシフ
ェニル）−４−ヒドロキシベンズアミドの合成 工程２）

【０５４５】

【化１３２】

【０５４６】１） 前述の実施例５の工程４）で得られ
た化合物及び４−ベンジルオキシ−３−ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル−５−クロロベンゾイル クロライドを
用いて、前述の実施例５の工程２）の１）と同様に処理
することにより無色アモルファスの化合物（収率８０
％）を得た。

【０５４７】２） 上記１）で得られた化合物を用い
て、前述の実施例５の工程２）の２）と同様に処理する
ことにより白色の表題化合物（収率８７％）を得た。

【０５４８】実施例２９ ３−カルボキシ−５−クロロ−Ｎ−（５−ジエチルスル
ファモイル−２，３−ジメトキシフェニル）−４−ヒド
ロキシベンズアミドの合成

【０５４９】

【化１３３】

【０５５０】前述の実施例２８で得られた化合物（８７
ｍｇ）をトリフルオロ酢酸（３ｍｌ）に溶解し、室温中
１．５時間攪拌した。攪拌後、減圧濃縮し、トルエンで
共沸した。その後、ヘキサン−テトラヒドロフランから
再結晶することにより無色結晶の表題化合物（７６ｍ
ｇ、収率９８％）を得た。

【０５５１】実施例３０ ３−クロロ−Ｎ−（５−ジエチルスルファモイル−２，
３−ジメトキシフェニル）−４−ヒドロキシ−５−メト
キシカルボニルベンズアミドの合成

【０５５２】

【化１３４】

【０５５３】前述の実施例２９で得られた化合物（５８
ｍｇ）のメタノール（１０ｍｌ）溶液に、濃硫酸（０．
０５ｍｌ）を加え、終夜加熱還流した。加熱還流後、反
応液を減圧濃縮し、水を加え、酢酸エチルで抽出した。
有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
た。得られた残渣をＰＬＴＣで精製することにより黄土
色固体の表題化合物（５ｍｇ、収率８％）を得た。

【０５５４】実施例３１ ３，５−ジクロロ−Ｎ−（３−エチル−５−ジエチルス
ルファモイル−２−メチルチオフェニル）−４−ヒドロ
キシベンズアミドの合成 工程２）

【０５５５】

【化１３５】

【０５５６】１） 前述の実施例７の工程１）と同様に
して得られた３−アミノ−５−エチル−Ｎ，Ｎ−ジエチ
ル−４−メチルチオベンゼンスルホンアミド及び前述の
製造例３で得られた粗生成物を用いて、前述の実施例７
の工程２）の１）と同様に処理することにより無色結晶
の化合物（収率８９％）を得た。

【０５５７】２） 上記１）で得られた化合物を用い
て、前述の実施例７の工程２）の２）と同様に処理する
ことにより無色結晶の表題化合物（収率９５％）を得
た。

【０５５８】実施例３２ ３，５−ジクロロ−Ｎ−（３−エチル−５−ジエチルス
ルファモイル−２−メチルスルフィニルフェニル）−４
−ヒドロキシベンズアミドの合成 工程１１）

【０５５９】

【化１３６】

【０５６０】１） 前述の実施例３１の工程２）の１）
で得られた化合物（４４ｍｇ）のジクロロメタン（５ｍ
ｌ）溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸（４１ｍ
ｇ）を加え、室温中２時間攪拌した。攪拌後、反応液に
チオ硫酸ナトリウム（６０ｍｇ）を加え、更に室温中
０．５時間攪拌した。攪拌後、水を加え、クロロホルム
で抽出した。有機層を１０％チオ硫酸ナトリウム水溶
液、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：
１）で精製することにより無色油状物の化合物（４４ｍ
ｇ、収率９７％）を得た。

【０５６１】２） 上記１）で得られた化合物を用い
て、前述の実施例５の工程２）の２）と同様に処理する
ことにより無色結晶の表題化合物（収率９１％）を得
た。

【０５６２】実施例３３ ３，５−ジクロロ−Ｎ−（３−エチル−５−ジエチルス
ルファモイル−２−メチルスルホニルフェニル）−４−
ヒドロキシベンズアミドの合成 工程１１）

【０５６３】

【化１３７】

【０５６４】１） 前述の実施例３１の工程２）の１）
で得られた化合物（４０ｍｇ）のジクロロメタン（５ｍ
ｌ）溶液に、氷冷下、ｍ−クロロ過安息香酸（７４ｍ
ｇ）を加え、５０℃で加熱攪拌した。攪拌後、反応液に
チオ硫酸ナトリウム（６８ｍｇ）を加え、更に室温中
０．５時間攪拌した。攪拌後、水を加え、クロロホルム
で抽出した。有機層を１０％チオ硫酸ナトリウム水溶
液、飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝２：
１）で精製することにより無色結晶の化合物（３５ｍ
ｇ、収率８３％）を得た。

【０５６５】２） 上記１）で得られた化合物を用い
て、前述の実施例５の工程２）の２）と同様に処理する
ことにより無色結晶の表題化合物（定量的）を得た。

【０５６６】実施例３４ Ｎ−（２−ベンジルオキシ−３−エチル−５−ジエチル
スルファモイルフェニル）−３，５−ジクロロ−４−ヒ
ドロキシベンズアミドの合成 工程２）

【０５６７】

【化１３８】

【０５６８】１） 予め合成された３−アミノ−４−ベ
ンジルオキシ−５−エチル−Ｎ，Ｎ−ジエチルベンゼン
スルホンアミド及び４−アセチルオキシ−３，５−ジク
ロロベンゾイルクロライドを用いて、前述の実施例５の
工程２）の１）と同様に処理することにより乳白色固体
の化合物（収率５９％）を得た。

【０５６９】２） 上記１）で得られた化合物（９６ｍ
ｇ）のメタノール（３ｍｌ）及びテトラヒドロフラン
（３ｍｌ）混合溶液に、１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液
（０．４８５ｍｌ）を加え、室温中３時間攪拌した。攪
拌後、反応液を減圧濃縮し、１Ｎ塩酸を加え、クロロホ
ルムで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣をヘキサン−酢
酸エチルから再結晶することにより白色アモルファスの
表題化合物（５６ｍｇ、収率６３％）を得た。

【０５７０】実施例３５ Ｎ−［２−（２−ブチニルオキシ）−３−エチル−５−
ジエチルスルファモイルフェニル］−３，５−ジクロロ
−４−ヒドロキシベンズアミドの合成 工程６）

【０５７１】

【化１３９】

【０５７２】１） 前述の実施例１の工程２）で得られ
た化合物（１５０ｍｇ）のジメチルホルムアミド（３ｍ
ｌ）溶液に、炭酸カリウム（６０ｍｇ）及び１−ブロモ
−２−ブチン（０．０３２ｍｌ）を加え、６０℃で２時
間加熱攪拌した。攪拌後、反応液に水を加え、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチ
ル＝４：１）で精製することにより乳白色固体の化合物
（１８２ｍｇ、収率８４％）を得た。

【０５７３】２） 上記１）で得られた化合物を用い
て、前述の実施例７の工程２）の２）と同様に処理する
ことにより白色アモルファスの表題化合物（収率３７
％）を得た。

【０５７４】実施例３６ ３，５−ジクロロ−Ｎ−［３−エチル−２−（２，２，
２−トリフルオロエトキシ）−５−ジエチルスルファモ
イルフェニル］−４−ヒドロキシベンズアミドの合成 工程６）

【０５７５】

【化１４０】

【０５７６】１） 前述の実施例１の工程２）で得られ
た化合物（１５０ｍｇ）のジメチルホルムアミド（３ｍ
ｌ）溶液に、炭酸カリウム（６０ｍｇ）及びトリフルオ
ロメタンスルホン酸２，２，２−トリフルオロエチルエ
ステル（１００ｍｇ）を加え、６０℃で２時間加熱攪拌
した。攪拌後、反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウム
で乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝４：
１）で精製することにより無色アモルファスの化合物
（１５３ｍｇ、収率６７％）を得た。

【０５７７】２） 上記１）で得られた化合物を用い
て、前述の実施例５の工程２）の２）と同様に処理する
ことにより白色アモルファスの表題化合物（収率７８
％）を得た。

【０５７８】実施例３７ ３，５−ジクロロ−Ｎ−（３−エチル−５−ジエチル−
２−メトキシスルファモイルフェニル）−４−（１−メ
トキシカルボニル−２−フェニルエトキシ）ベンズアミ
ドの合成 工程８）

【０５７９】

【化１４１】

【０５８０】前述の実施例１で得られた化合物（１４２
ｍｇ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液に、氷冷
下、α−ヒドロキシ−β−フェニルプロピオン酸メチル
（５４ｍｇ）、トリフェニルホスフィン（８２ｍｇ）及
びジエチルアゾジカルボネート（０．０４９ｍｌ）を加
え、室温中終夜攪拌した。攪拌後、反応液を減圧濃縮
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチル＝３：１）で精製
することにより無色アモルファスの表題化合物（１１１
ｍｇ、収率５８％）を得た。

【０５８１】実施例３８ ３，５−ジクロロ−Ｎ−（３−エチル−５−ジエチル−
２−メトキシスルファモイルフェニル）−４−（１−カ
ルボキシ−２−フェニルエトキシ）ベンズアミドの合成

【０５８２】

【化１４２】

【０５８３】前述の実施例３８で得られた化合物（７９
ｍｇ）のメタノール（２ｍｌ）及びテトラヒドロフラン
（８ｍｌ）混合溶液に、氷冷下、１Ｎ水酸化リチウム水
溶液（０．５ｍｌ）を加え、室温中２．５時間攪拌し
た。攪拌後、反応液を減圧濃縮し、１Ｎ塩酸を加え、酢
酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫
酸ナトリウムで乾燥した。得られた残渣をヘキサン−酢
酸エチルから再結晶することにより無色結晶の表題化合
物（６８ｍｇ、収率８８％）を得た。

【０５８４】実施例３９ ３，５−ジクロロ−Ｎ−（３−エチル−５−ジエチル−
２−メトキシスルファモイルフェニル）−４−（２−メ
トキシカルボニルエトキシ）ベンズアミドの合成 工程８）

【０５８５】

【化１４３】

【０５８６】前述の実施例１で得られた化合物及びβ−
ヒドロキシプロピオン酸メチルを用いて、前述の実施例
３７と同様に処理することにより無色油状物の表題化合
物（収率１９％）を得た。

【０５８７】実施例４０乃至１５０ 実施例１乃至３９に記載の方法と同様に処理することに
より表３乃至４０の化合物を得た。以上、これらの実施
例１乃至１５０で製造した化合物について、下記表３乃
至表４０に示す。なお、上記実施例及び表３乃至４０中
において、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、及び
Ｂｎはベンジル基をそれぞれ意味するものである。

【０５８８】

【表３】

【０５８９】

【表４】

【０５９０】

【表５】

【０５９１】

【表６】

【０５９２】

【表７】

【０５９３】

【表８】

【０５９４】

【表９】

【０５９５】

【表１０】

【０５９６】

【表１１】

【０５９７】

【表１２】

【０５９８】

【表１３】

【０５９９】

【表１４】

【０６００】

【表１５】

【０６０１】

【表１６】

【０６０２】

【表１７】

【０６０３】

【表１８】

【０６０４】

【表１９】

【０６０５】

【表２０】

【０６０６】

【表２１】

【０６０７】

【表２２】

【０６０８】

【表２３】

【０６０９】

【表２４】

【０６１０】

【表２５】

【０６１１】

【表２６】

【０６１２】

【表２７】

【０６１３】

【表２８】

【０６１４】

【表２９】

【０６１５】

【表３０】

【０６１６】

【表３１】

【０６１７】

【表３２】

【０６１８】

【表３３】

【０６１９】

【表３４】

【０６２０】

【表３５】

【０６２１】

【表３６】

【０６２２】

【表３７】

【０６２３】

【表３８】

【０６２４】

【表３９】

【０６２５】

【表４０】

【０６２６】実施例１５１ ２−（４−ヒドロキシ−３，５−ジニトロベンゾイルア
ミノ）−４−エチルチオフェン−３，５−ジカルボン酸
ジエチルエステルの合成 工程１３）

【０６２７】

【化１４４】

【０６２８】前述の製造例２４で得られた化合物（１．
６１ｇ）及び前述の製造例２７で得られた化合物（５５
８ｍｇ）をクロロホルム（１５ｍｌ）及びテトラヒドロ
フラン（５ｍｌ）混合溶媒に懸濁させ、２．５時間加熱
還流した。放冷後、反応液を減圧濃縮し、エタノールで
共沸した。エタノールを加え、トリチュレートし、得ら
れた固体を濾取した。エタノールで洗浄後、減圧乾燥す
ることにより黄色固体の表題化合物（１５４ｍｇ、収率
２％）を得た。

【０６２９】実施例１５２ ２−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシベンゾイルア
ミノ）−４−エチル−５−ジエチルスルファモイルチオ
フェン−３−カルボン酸エチルエステルの合成 工程１３）

【０６３０】

【化１４５】

【０６３１】１） 前述の製造例２５で得られた化合物
（１００ｍｇ）のクロロホルム（５ｍｌ）溶液に、氷冷
下、ピリジン（０．０５ｍｌ）及び前述の製造例３で得
られた化合物（１１３ｍｇ）を加え、６時間加熱還流し
た。放冷後、反応液に水を加え、有機層を分離し、水層
をクロロホルムで抽出した。有機層を合わせ、水、１０
％クエン酸水溶液、水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥した。得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒；ヘキサン：酢酸エチ
ル＝５．５：１）で精製することにより黄色油状物の化
合物（１０５ｍｇ、収率５７％）を得た。

【０６３２】２） 上記１）で得られた化合物（１０５
ｍｇ）のトルエン（３ｍｌ）溶液に、トリフルオロ酢酸
（０．６６ｍｌ）を加え、９０℃で２時間加熱攪拌し
た。放冷後、反応液を減圧濃縮し、トルエンで共沸し
た。得られた残渣をヘキサン−酢酸エチルから再結晶す
ることにより白色アモルファスの表題化合物（７４ｍ
ｇ、収率８２％）を得た。

【０６３３】実施例１５３乃至１５４ 実施例１５１乃至１５２に記載の方法と同様に処理する
ことにより表４１の化合物を得た。以上、これらの実施
例１５１乃至１５４で製造した化合物について、下記表
４１に示す。なお、上記実施例及び表４１中において、
Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、及びＢｎはベン
ジル基をそれぞれ意味するものである。

【０６３４】

【表４１】

【０６３５】また、これら上記実施例と同様にして下記
表４２乃至５６の化合物（１）乃至（１２０）を得た。
なお、表４２乃至５６中において、Ｍｅはメチル基を、
Ｅｔはエチル基を、及びＢｎはベンジル基をそれぞれ意
味するものである。

【０６３６】

【表４２】

【０６３７】

【表４３】

【０６３８】

【表４４】

【０６３９】

【表４５】

【０６４０】

【表４６】

【０６４１】

【表４７】

【０６４２】

【表４８】

【０６４３】

【表４９】

【０６４４】

【表５０】

【０６４５】

【表５１】

【０６４６】

【表５２】

【０６４７】

【表５３】

【０６４８】

【表５４】

【０６４９】

【表５５】

【０６５０】

【表５６】

【０６５１】次に本発明化合物のＣＲＦ受容体拮抗作用
について行った試験結果を示す。 （試験例）試験例１：ＣＲＦ受容体発現細胞（６ＥＦ２Ｂ）膜画分
を用いたインビトロ バインディングアッセイ（bindin
g assay）(ＳＰＡ法) 膜画分の調製：ＣＲＦタイプＩ（CRF type I）（ＣＲＦ
−Ｉ）受容体を安定して発現する組換え細胞である６Ｅ
Ｆ２Ｂ細胞（Ｈｅｌａ細胞由来）をＥａｇｌｅ’ｓ Ｍ
ＥＭ培地（１０％ ＦＣＳ、４００μｇ／ｍｌ Ｇ４１
８、１／１００ ペニシリン／ストレプトマイシン）で
培養し、１ｍＭ ＥＤＴＡを含む５０ｍＭ Ｔｒｉｓ−
ＨＣｌ（ｐＨ７．２）で１５−３０分間、２５℃で処理
した。以後の操作は４℃で行った。得られた細胞を１０
％ショ糖を含む５０ｍＭ Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ（ｐＨ７．
２）に懸濁し、ポリトロン（ＰＴ１０−３５ モデル）
で２５，０００ｒｐｍ、１５−２０秒処理（顕微鏡で確
認しながら２−３回）して細胞を破砕した。ホモジネー
トを６００×ｇ、５分間遠心し、その上清を４０，００
０×ｇ、３０分間遠心して得られた沈殿を５０ｍＭ Ｔ
ｒｉｓ−ＨＣｌ（１０ｍＭ ＭｇＣｌ₂、２ｍＭ ＥＧ
ＴＡ）で懸濁してさらに４０，０００×ｇ、３０分間遠
心して得られた沈殿を膜画分として用いた。膜画分は１
ｍｇ／ｍｌとなるように５０ｍＭ Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ
（１０ｍＭ ＭｇＣｌ₂、２ｍＭ ＥＧＴＡ、０．１％
ＢＳＡ、１００ カリクレイン ユニット（kallikrein
units）/ｍｌ アプロチニン（aprotinin）、０．１ｍ
Ｍ バシトラシン（bacitracin）、ｐＨ７．２）に懸濁
し、−８０℃で保存した。タンパク定量はＤＣ プロテ
イン アッセイ キット（DC protein assay kit）（Ｂ
ｉｏ−ＲＡＤ）を用いて行った。

【０６５２】ＳＰＡを用いたＣＲＦ−Ｉ受容体バインデ
ィング アッセイ（binding assay）：評価化合物はＤ
ＭＳＯで１０ｍＭの濃度で溶解したものを実験当日にＤ
ＭＳＯで１ｍＭに希釈した後、アッセイ緩衝液で希釈し
て用いた（ＤＭＳＯの最終濃度は１％以下：無影響
量）。アッセイ緩衝液の組成は、１００ｍＭ ＮａＣ
ｌ、５ｍＭ ＫＣｌ、２ｍＭ ＣａＣｌ₂、０．１％
ＢＳＡ、０．１％ バシトラシン、０．０５％ ＦＣＳ
及び５％ウマ血清を含む５０ｍＭ Ｔｒｉｓ−ＨＣｌ
（ｐＨ７．７）とした。反応は９６穴 オプチプレート
（Optiplate）（Ｐａｃｋａｒｄ）を用い、検体溶液５
０μｌに、実験当日に室温で２時間撹拌（１０ｒｐｍに
て回転させながら）してプレカップル（precouple）さ
せたＷＧＡ−ｂｅａｄｓ ＆ 膜画分溶液（５０−１０
０μｇ 膜画分／１０ｍｇビーズ（beads）／ｍｌ）５
０μｌを加え、これに０．４ｎＭ ¹²⁵Ｉ−Ｔｙｒ⁰−ｈ
ｕｍａｎ／ｒａｔ ＣＲＦ（ＮＥＸ−２１６、Ｄｕｐｏ
ｎｔ ＮＥＮ）１００μｌを添加し（合計２００μ
ｌ）、25℃で３時間インキュベートして行なった。な
お、プレカップル（precouple）は５０ｍＭ Ｔｒｉｓ
−ＨＣｌ緩衝液、ｐＨ７．２に懸濁したビーズ溶液（Be
ads solution）（２０ｍｇ／ｍｌ）を用い、撹拌終了
後、ビーズ（Beads）をＴｒｉｓ−ＨＣｌ緩衝液で２
回、アッセイ緩衝液で１回遠心（３，０００ｒｐｍ×５
分間）して洗浄した。トータル バインディング（tota
l binding）とノンスペシフィック バインディング（n
on-specific binding）測定用には検体溶液の代わりに
それぞれアッセイ緩衝液、最終１μＭ ｃｏｌｄ ｈｕ
ｍａｎ/ｒａｔ ＣＲＦ（Ｃ−３０４２；ＳＩＧＭＡ）
溶液を用いた。インキュベート終了後、プレートを２，
５００ｒｐｍ×５分間、２３℃で遠心した後、Ｔｏｐ
ｃｏｕｎｔ（Ｐａｃｋａｒｄ）にて光量を測定した。カ
ラー クエンチ（Color quench）の影響はクエンチャー
（quencher）としてタートラジン（tartrazine）を用い
て作成した検量線から補正した。検体評価は複数回行な
った。結果を表５７乃至６０に示す。

【０６５３】試験例２：マウス手術ストレスモデル（副
腎皮質刺激ホルモン（ＡＣＴＨ）上昇抑制作用） 使用動物：ｄｄＹ系雄性マウス（ＳＬＣ、７−８週齢：
体重 ３４−４２ｇ）を用いた。動物は入荷後、温度２
３±３℃、湿度５５±１５％、１２時間明暗サイクル
（８：００−２０：００)の条件下で予備飼育した。餌
及び水は自由に摂取させ、実験当日は実験室に動物を移
動した後１時間以上馴化させてから用いた。また、実験
に先立ち、前日にハンドリング（腹腔内投与時の保定を
１０−１５秒間）を施し、ハンドリングストレスに対す
る馴化を行なった。 使用薬物及び投与方法：評価検体は生理食塩水（大
塚）、５％マンニトールもしくは０．１Ｎ ＮａＨＣＯ
₃／salineに溶解・希釈し、１０ｍｌ／ｋｇの容量で静
脈内投与した。対照群には同一の溶媒を１０ｍｌ／ｋｇ
の容量で静脈内投与した。 実験手続き：マウスにペントバルビタール ナトリウム
塩（２．５ｍｇ／マウス、ｉ．ｐ．）を投与して麻酔
し、１５分後に溶媒もしくは評価検体を１０ｍｌ／ｋｇ
の用量で尾静脈内に投与した。その１０分後に腹部を正
中線に沿って切開し、約２分で腸を体外に露出した後、
切開２．５分後から１分かけて、ＥＤＴＡ １００ｍＭ
溶液を通した冷蔵シリンジ（針サイズ２５Ｇ）にて腹部
大静脈より０．６ｍｌの採血を行った。手術ストレス非
負荷群（対照群）は溶媒投与後１３−１４分に断頭採血
し、１００ｍＭ ＥＤＴＡ２０μｌを添加した。血液は
シリコナイズドチューブに入れ、１０，０００ｒｐｍ×
５分間、４℃で遠心し、上清（血漿）のＡＣＴＨ濃度を
日本メジフィジックス社のアレグロACTHキットを用いた
ＩＲＭＡ法によって測定した。 統計解析：一元配置分散分析後の フィッシャーズＰＬ
ＳＤ試験（Fisher's PLSD test）(Super ANOVA v.1.11
使用）を用いた。結果を表５７乃至６０に示す。

【０６５４】試験例３：マウス手術ストレスモデル（コ
ルチコステロン（ＣＯＲＴ）上昇抑制作用） 使用動物：ｄｄｙ系雄性マウス（ＳＬＣ、７週齢：体重
３５−４１ｇ）を用いた。動物は入荷後、温度２３±３
℃、湿度５５±１５％、１２時間明暗サイクル（８：０
０−２０：００)の条件下で予備飼育した。餌及び水は
自由に摂取させ、実験当日は体重測定後に餌を取り除
き、試験直前の摂餌の影響を除外した。マウスは実験室
に移動した後１時間以上馴化させてから用いた。また、
実験に先立ち、前日にハンドリング（腹腔内投与時の保
定を１０−１５秒間）を施し、ハンドリングストレスに
対する馴化を行なった。群分けは実験当日の体重によっ
て行った。 使用薬物及び投与方法：実施例２の化合物は、０．１Ｎ
ＮａＨＣＯ₃／saline（大塚）で溶解・希釈し、１０
ｍｌ／ｋｇの容量で静脈内投与した。対照群には同一の
溶媒を１０ｍｌ／ｋｇの容量で静脈内投与した。 実験手続き：マウスにペントバルビタール ナトリウム
塩（pentobarbital Na）（２．５ｍｇ／マウス、ｉ．
ｐ．)を投与して麻酔し、２０分後に溶媒もしくは評価
検体を１０ｍｌ／ｋｇの用量で尾静脈内に投与した。そ
の５分後に腹部を正中線に沿って切開し、約１−２分で
腸を体外に露出した後、生食で湿らせた脱脂綿にて腹部
を覆い、乾燥を防いだ。腹部切開から３０分後に断頭採
血し、１００ｍＭ ＥＤＴＡ ２０μｌを添加した氷冷
シリコナイズドチューブに入れ、１０，０００ｒｐｍ×
５分間、４℃で遠心し、上清（血漿）を分取し、−３０
℃で分注保存した。手術侵襲を負荷しないコントロール
群は、溶媒投与後３５分に断頭採血した。ＣＯＲＴ濃度
はＣＯＲＴのＲＩＡ測定キットであるコルチコステロン
ダブル抗体（Corticosterone Double Antibody）(Ｉ
ＣＮ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌｓ， Ｉｎｃ．）
を用いて測定した。 統計解析：それぞれの溶媒別に、一元配置分散分析後の
フィッシャーズＰＬＳＤ試験（Fisher's PLSD test）(S
uper ANOVA v.1.11使用）を用いて行った。結果を表５
７乃至６０に示す。

【０６５５】

【表５７】

【０６５６】

【表５８】

【０６５７】

【表５９】

【０６５８】

【表６０】

【０６５９】試験例４：マウスMajor手術侵襲モデルに
対する効果 ｄｄＹ系雄マウス（SLC、８〜９週齢）を、温度２３±
３℃、室温５５±１５％、１２時間明暗サイクル（８：
００−２０：００）の条件下で予備飼育をする。なお、
餌及び水は自由に摂取させる。試験当日は、実験室にマ
ウスを移動した後１時間以上馴化させてから、体重を測
定し、平均体重がほぼ等しくなるように群分けを行う。
群分けしたそれぞれのマウスにエーテル麻酔をし、麻酔
下で手術直前に０．１Ｎ ＮａＨＣＯ₃／saline又は１
０％ＤＭＦ ｉｎ ０．１Ｎ ＮａＨＣＯ₃／salineで
溶解・希釈した試験化合物を１０ｍｌ／ｋｇの容量で尾
静脈内又は皮下投与する。なお、対照群（非手術群）に
は、麻酔及び溶媒投与のみを行う。その後、腹部を正中
線に沿って切開し、可動腸管を体外に露出させ、肝臓の
左葉を糸で縛り、切除する。この腸管を体内に戻し、縫
合糸で縫合する（一匹当たり３〜４針）。そして、１．
５時間後又は４．５時間後に断頭採血し、１００ｍｍｏ
ｌ／ｌ ＥＤＴＡ ２５μｌを添加した氷冷シリコナイ
ズドチューブに入れ、１０，０００ｒｐｍ×５分間、４
℃で遠心分離し、得られた血漿を−３０℃で保存する。
この血漿中のＩＬ−６をＱｕａｎｔｉｋｉｎｅ ｍｉｃ
ｅ ＩＬ−６測定キット（Ｒ＆Ｄ ｓｙｓｔｅｍｓ社）
を用いた酵素免疫検定法（ＥＩＡ）にて、コルチコステ
ロンをコルチコステロン二重抗体（Ｃｏｒｔｉｃｏｓｔ
ｅｒｏｎｅ Ｄｏｕｂｌｅ Ａｎｔｉｂｏｄｙ）（ＩＣ
Ｎ ｂｉｏｃｈｅｍｉｃａｌｓ社）を用いた放射線免疫
検定法（ＲＩＡ）にて測定し、またカテコラミン等につ
いては常法にて測定する。測定値の統計解析にはＤｕｎ
ｎｅｔｔ法等を用いる。

【０６６０】試験例５：ラット術後侵襲モデルに対する
効果 （投与量の決定）ＳＤ系雄性ラットを、溶媒（２．５％
ポリソルベート８０、５％ソルビトール；ｐＨ９．５）
のみを投与する溶媒投与群、対照薬物として該溶媒で希
釈・溶解したメチルプレドニゾロン（methylprednisolo
ne）を投与する陽性対象群、及び該溶媒で希釈・溶解し
た試験化合物を投与する化合物投与群に群分けし、それ
ぞれの群のラットをエーテル麻酔下で開腹し、盲腸結紮
穿刺（ＣＬＰ）モデルを作成する。なお、ＣＬＰモデル
に対する対照群として該溶媒のみを投与し、開腹しない
未処置群を作成する。術後は絶飲絶食とし、各群の投与
は次のように行う。溶媒投与群及び化合物投与群におい
ては、ＣＬＰモデル作成直前に投与後、一定間隔で適宜
投与し、陽性対象群においてはＣＬＰモデル作成直前の
み投与し、溶媒投与群又は化合物投与群と同じ間隔でそ
の後溶媒を投与する。ＣＬＰモデル作成数時間後にネン
ブタール深麻酔下で開腹し、大動脈から採血し、血漿中
のＡＣＴＨ、コルチゾール、カテコラミン及びＩＬ−
６、血球パラメーター（赤血球、白血球、血小板、ヘマ
トクリット、ヘモグロビン）、血液生化学パラメーター
（総蛋白、アルブミン、ＡＬＴ、ＡＳＴ、クレアチニ
ン、ＢＵＮ、ＴＧ、コレステロール、グルコース、Ｎａ
⁺／Ｋ⁺／Ｃｌ）を測定する。測定結果に基づき、下記試
験における有効投与量を決定する。

【０６６１】（ＣＬＰ後の予後に対するＣＲＦアンタゴ
ニストの効果）ＳＤ系雄性ラットを、溶媒（２．５％ポ
リソルベート８０、５％ソルビトール；ｐＨ９．５）の
みを投与する溶媒投与群、対照薬物として該溶媒で希釈
・溶解したメチルプレドニゾロン（methylprednisolon
e）を投与する陽性対象群、及び該溶媒で希釈・溶解し
た試験化合物を投与する化合物投与群に群分けし、それ
ぞれの群のラットをエーテル麻酔下で開腹し、盲腸結紮
穿刺（ＣＬＰ）モデルを作成する。なお、ＣＬＰモデル
に対する対照群として該溶媒のみを投与し、開腹しない
未処置群を作成する。術後は絶飲絶食とし、各群の投与
は次のように行う。溶媒投与群及び化合物投与群におい
ては、ＣＬＰモデル作成直前に投与後、一定間隔で適宜
投与し、陽性対象群においてはＣＬＰモデル作成直前の
み投与し、溶媒投与群又は化合物投与群と同じ間隔でそ
の後溶媒を投与する。その後の体重及び接餌量の測定、
及び生死判定を一日一回行い、予後に対するＣＲＦアン
タゴニストの効果を確認する。

【０６６２】試験例６：拘束ストレスに対する効果 Wistar系雄性ラット（２００〜２５０ｇ）を、溶媒
（２．５％ポリソルベート８０、５％ソルビトール；ｐ
Ｈ９．５）のみを投与する溶媒投与群、該溶媒で希釈・
溶解した対照薬物を投与する陽性対象群、及び該溶媒で
希釈・溶解した試験化合物を投与する化合物投与群に群
分けし、それぞれの群のラットを２４時間絶食した後、
１時間固定用ケージに入れ拘束する。なお、この拘束モ
デルに対する対照群として該溶媒のみを投与し、拘束し
ない未拘束群を作成する。溶媒、対照薬物又は試験化合
物の投与は、固定用ケージに入れる直前に行う。固定用
ケージからラットを解放後、餌を与え、１時間の摂餌量
を測定する。また、摂餌量の測定後、腹部大動脈から採
血し、血清コルチゾール等を測定する。これにより、拘
束ストレスに対する試験化合物の効果を確認する。

【０６６３】試験例７：ラットConditioned fear stres
sモデルに対する効果 ＳＤ系雄性ラットを、溶媒（２．５％ポリソルベート８
０、５％ソルビトール；ｐＨ９．５）のみを投与する溶
媒投与群、対照薬物として該溶媒で希釈・溶解したブス
ピロン（Buspirone）を投与する陽性対象群、及び該溶
媒で希釈・溶解した試験化合物を投与する化合物投与群
に群分けし、それぞれの群のラットを１匹づつグリッド
フロア（glide floor）付きチャンバーに入れ、電気シ
ョック発生器により電気ショック（２．５ｍＡ；３０秒
×５回）を与える。その７日後、３０分前に溶媒、ブス
ピロン又は試験化合物を投与したラットを、再び該チャ
ンバーに入れ、電気ショックを与えずに５分間、１０秒
毎にフリージング（freezing）行動を観察し、フリージ
ングタイム（freezing time）の割合（％）を測定す
る。また、この試験終了後、血清を採取し、血清コルチ
ゾール等を測定する。これにより、抗不安に対する試験
化合物の効果を確認する。

【発明の効果】以上の試験結果等により、本発明に係る
化合物（Ｉ）は優れたＣＲＦ受容体拮抗作用を有してい
る。従って、ＣＲＦにより誘発又は促進される疾患、例
えば拘束ストレス、不安等に対する予防又は治療薬とし
て期待される。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ６１Ｋ 31/277 Ａ６１Ｋ 31/277 ４Ｃ２０６ 31/343 31/343 ４Ｈ００６ 31/353 31/353 31/381 31/381 31/402 31/402 31/4453 31/4453 31/538 31/538 31/606 31/606 31/63 31/63 Ａ６１Ｐ 5/04 Ａ６１Ｐ 5/04 Ｃ０７Ｃ 311/47 Ｃ０７Ｃ 311/47 311/48 311/48 317/40 317/40 Ｃ０７Ｄ 265/36 Ｃ０７Ｄ 265/36 295/12 295/12 Ｚ 307/79 307/79 311/70 311/70 333/38 333/38 333/40 333/40 (72)発明者 宮崎 章 大阪府高槻市紫町１番１号 日本たばこ産 業株式会社医薬総合研究所内 Ｆターム(参考） 4C023 HA01 HA06 4C037 PA03 4C056 AA02 AB01 AC03 AD03 AE01 EA04 EB03 EC03 ED08 4C062 FF13 4C086 AA01 AA02 AA03 BA06 BA08 BB02 BC07 BC21 BC74 ZA02 ZA05 ZA08 ZA12 ZA16 ZA42 ZA66 ZB02 ZB11 ZB13 ZB15 ZB26 ZC39 ZC42 4C206 AA01 AA02 AA03 NA14 ZA02 ZA05 ZA08 ZA16 ZA42 ZA66 ZB02 ZB11 ZB13 ZB15 ZB26 ZC39 ZC42 4H006 AA01 AA03 AB20 TA04 TB81 TC37

Claims (15)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 ｛式中、Ａは一般式（ＩＩ） 【化２】 ［式中、Ｒ₁及びＲ₂は同一又は異なっていてもよく、水
   素原子；水酸基、炭素数１乃至４個の低級アルコキシ
   基、炭素数３乃至７個のシクロアルキル基及びアリール
   基から選ばれる置換基で置換されていてもよい炭素数１
   乃至４個の低級アルキル基；炭素数１乃至４個の低級ア
   ルコキシ基；炭素数１乃至４個のハロゲン化低級アルキ
   ル基；炭素数３乃至７個のシクロアルキル基；若しくは
   アリール基であり、又はＲ₁とＲ₂が一緒になって、場合
   によりＲ₁とＲ₂とに隣接する窒素原子以外に窒素原子、
   酸素原子又は硫黄原子を有していてもよく、炭素数１乃
   至４個の低級アルキル基で置換されていてもよい５乃至
   ６員の飽和複素環を形成してもよく、Ｒ₃及びＲ₄は同一
   又は異なっていてもよく、水素原子；ハロゲン原子；炭
   素数１乃至４個の低級アルキル基；炭素数１乃至４個の
   低級アルコキシ基；又は炭素数１乃至４個の低級アルキ
   ル基及び炭素数１乃至４個の低級アルキルスルホニル基
   から選ばれる置換基で置換されていてもよいアミノ基で
   あり、Ｒ₅は水素原子；ハロゲン原子；水酸基及び炭素
   数１乃至４個の低級アルコキシ基から選ばれる置換基で
   置換されていてもよい炭素数１乃至４個の低級アルキル
   基；炭素数１乃至４個のハロゲン化低級アルキル基；ハ
   ロゲン原子及び炭素数３乃至７個のシクロアルキル基か
   ら選ばれる置換基で置換されていてもよい炭素数１乃至
   ４個の低級アルコキシ基；炭素数２乃至５個の低級アル
   カノイル基；ニトロ基；シアノ基；炭素数１乃至４個の
   低級アルキル基で置換されていてもよいカルバモイル
   基；炭素数１乃至４個の低級アルキルスルホニル基；カ
   ルボキシ基；炭素数２乃至５個の低級アルコキシカルボ
   ニル基；ハロゲン原子及び炭素数３乃至７個のシクロア
   ルキル基から選ばれる置換基で置換されていてもよい炭
   素数１乃至４個の低級アルキル基、炭素数２乃至５個の
   低級アルカノイル基、炭素数２乃至５個の低級アルコキ
   シカルボニル基、炭素数１乃至４個の低級アルキルスル
   ホニル基、及び炭素数３乃至７個のシクロアルキル基か
   ら選ばれる置換基で置換されていてもよいアミノ基；５
   乃至６員の窒素原子含有飽和複素環基；炭素数３乃至７
   個のシクロアルキル基；又は炭素数３乃至７個のシクロ
   アルキルオキシ基であり、Ｒ₆は水素原子；ハロゲン原
   子；炭素数１乃至４個の低級アルキル基；炭素数１乃至
   ４個の低級アルキル基で置換されていてもよいアミノ
   基；シアノ基；カルボキシ基；炭素数２乃至５個の低級
   アルコキシカルボニル基；炭素数２乃至５個の低級アル
   カノイル基；カルバモイル基；炭素数１乃至４個の低級
   アルキルチオ基；炭素数１乃至４個の低級アルキルスル
   フィニル基；炭素数１乃至４個の低級アルキルスルホニ
   ル基；炭素数３乃至７個のシクロアルキル基；窒素原
   子、酸素原子及び硫黄原子から選ばれる１乃至２個の複
   素原子を有する５乃至６員の飽和複素環基；又は−ＯＲ
   ₁₆ （ここでＲ₁₆は水素原子；水酸基、炭素数１乃至４個
   の低級アルコキシ基、トリフルオロメチル基、シアノ
   基、炭素数１乃至４個の低級アルキル基で置換されてい
   てもよいアミノ基、カルボキシ基、炭素数２乃至５個の
   低級アルコキシカルボニル基及び炭素数３乃至７個のシ
   クロアルキル基から選ばれる置換基で置換されていても
   よい炭素数１乃至６個のアルキル基；トリフルオロメチ
   ル基；炭素数２乃至４個の低級アルケニル基；炭素数２
   乃至４個の低級アルキニル基；炭素数１乃至４個の低級
   アルキル基で置換されていてもよいカルバモイル基；炭
   素数１乃至４個の低級アルキルスルホニル基；ホスホノ
   基；炭素数３乃至７個のシクロアルキル基；アリール
   基；若しくはベンジル基であり、又はＲ₅とＲ₁₆が一緒
   になって、炭素数１乃至４個の低級アルキル基又はオキ
   ソ基で置換されていてもよい５乃至６員の飽和複素環を
   形成してもよい）である］；又は一般式（ＩＩＩ） 【化３】 ［式中、Ｒ₇は水酸基；炭素数１乃至４個の低級アルコ
   キシ基；又は−ＮＲ₁₇Ｒ₁₈ （ここでＲ₁₇及びＲ₁₈は同一
   又は異なっていてもよく、水素原子；炭素数１乃至４個
   の低級アルキル基；炭素数１乃至４個の低級アルコキシ
   基；若しくはベンジル基であり、又はＲ₁₇とＲ₁₈が一緒
   になって、場合によりＲ₁₇とＲ₁₈とに隣接する窒素原子
   以外に窒素原子、酸素原子または硫黄原子を有していて
   もよい５乃至６員の飽和複素環を形成してもよい）であ
   り、Ｒ₈は炭素数１乃至４個の低級アルコキシ基及び炭
   素数１乃至４個の低級アルキル基で置換されていてもよ
   いアミノ基から選ばれる置換基で置換されていてもよい
   炭素数１乃至４個の低級アルキル基であり、Ｒ₉は水素
   原子；炭素数１乃至４個の低級アルキル基；アリール
   基；炭素数１乃至４個の低級アルキル基で置換されてい
   てもよいアミノスルホニル基；又は−ＣＯＲ₁₉ ［ここで
   Ｒ₁₉は水酸基；炭素数１乃至４個の低級アルキル基；炭
   素数１乃至４個の低級アルコキシ基；炭素数３乃至７個
   のシクロアルキル基；アリール基；又は−ＮＲ₂₀Ｒ
   ₂₁ （ここでＲ₂₀及びＲ₂₁は同一又は異なっていてもよ
   く、水素原子；炭素数１乃至４個の低級アルキル基；炭
   素数３乃至７個のシクロアルキル基；アリール基；若し
   くはベンジル基であり、又はＲ₂₀とＲ₂₁が一緒になっ
   て、場合によりＲ₂₀とＲ₂₁とに隣接する窒素原子以外に
   窒素原子、酸素原子または硫黄原子を有していてもよい
   ５乃至６員の飽和複素環を形成してもよい）である］で
   あり、Ｘは−Ｓ−；−Ｏ−；又は−ＮＲ₂₄−（ここでＲ
   ₂₄は水素原子；又は炭素数１乃至４個の低級アルキル基
   である）である］であり、Ｒ₁₀は水素原子；カルボキシ
   基及び炭素数２乃至５個の低級アルコキシカルボニル基
   から選ばれる置換基で置換されていてもよい炭素数１乃
   至４個の低級アルキル基であり、Ｒ₁₁は水素原子；ハロ
   ゲン原子；水酸基；ニトロ基；又は炭素数１乃至４個の
   低級アルキル基であり、Ｒ₁₂は水素原子；ハロゲン原
   子；ニトロ基；炭素数１乃至４個の低級アルキル基；ト
   リフルオロメチル基；又は炭素数１乃至４個の低級アル
   コキシ基であり、Ｒ₁₃は−ＯＲ₂₂ （ここでＲ₂₂は水素原
   子；アルカリ金属；又はホスホノ基である）；−ＹＲ₂₃
   ［ここでＹは−Ｏ−；又は−ＮＲ₂₅−（ここでＲ₂₅は水
   素原子；又は炭素数１乃至４個の低級アルキル基であ
   る）であり、Ｒ₂₃はアリール基、カルボキシ基及び炭素
   数２乃至５個の低級アルコキシカルボニル基から選ばれ
   る置換基で置換されていてもよい炭素数１乃至４個の低
   級アルキル基；炭素数１乃至４個の低級アルキルスルホ
   ニル基；又はカルボキシ基で置換されていてもよいアリ
   ール基である］；アミノ基；カルボキシ基；又は炭素数
   ２乃至５個の低級アルコキシカルボニル基であり、Ｒ₁₄
   は水素原子；ハロゲン原子；炭素数１乃至４個の低級ア
   ルキル基；炭素数１乃至４個の低級アルコキシ基；ニト
   ロ基；トリフルオロメチル基；炭素数１乃至４個の低級
   アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素
   数１乃至４個の低級アルキルスルホニル基及び炭素数２
   乃至５個の低級アルカノイル基で置換されていてもよい
   アミノ基；アミノスルホニル基；炭素数１乃至４個の低
   級アルキルスルホニル基；炭素数２乃至５個の低級アル
   カノイル基；カルボキシ基；炭素数２乃至５個の低級ア
   ルコキシカルボニル基；水酸基及び炭素数１乃至４個の
   低級アルキル基から選ばれる置換基で置換されていても
   よいカルバモイル基；又はシアノ基であり、Ｒ₁₅は水素
   原子；炭素数１乃至４個の低級アルキル基；ハロゲン原
   子；ニトロ基；又は水酸基である｝で表されるベンズア
   ミド誘導体、その医薬上許容し得る塩又はその水和物若
   しくは溶媒和物。
2. 【請求項２】 Ｒ₁₀が水素原子であり、Ｒ₁₁が水素原子
   であり、Ｒ₁₂がハロゲン原子；又はニトロ基であり、Ｒ
   ₁₃が−ＯＲ₂₂ （ここでＲ₂₂が水素原子；又はアルカリ金
   属である）；又は−ＹＲ₂₃ （ここでＹが−Ｏ−であり、
   Ｒ₂₃がアリール基、カルボキシ基及び炭素数２乃至５個
   の低級アルコキシカルボニル基から選ばれる置換基で置
   換されていてもよい炭素数１乃至４個の低級アルキル基
   である）であり、Ｒ₁₄がハロゲン原子；又はニトロ基で
   あり、Ｒ₁₅が水素原子である請求項１記載のベンズアミ
   ド誘導体、その医薬上許容し得る塩又はその水和物若し
   くは溶媒和物。
3. 【請求項３】 Ｒ₁₃が−ＯＲ₂₂ （ここでＲ₂₂が水素原
   子；又はアルカリ金属である）である請求項２記載のベ
   ンズアミド誘導体、その医薬上許容し得る塩又はその水
   和物若しくは溶媒和物。
4. 【請求項４】 Ａが一般式（ＩＩ） 【化４】 （式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆は請求項１と
   同じである）である請求項１乃至３記載のベンズアミド
   誘導体、その医薬上許容し得る塩又はその水和物若しく
   は溶媒和物。
5. 【請求項５】 Ｒ₁及びＲ₂が同一又は異なっていてもよ
   く、炭素数１乃至４個の低級アルキル基であり、Ｒ₃及
   びＲ₄が水素原子であり、Ｒ₅が炭素数１乃至４個の低級
   アルキル基；炭素数１乃至４個の低級アルコキシ基；又
   は炭素数１乃至４個の低級アルキル基置換されていても
   よいアミノ基であり、Ｒ₆が炭素数１乃至４個の低級ア
   ルキル基で置換されていてもよいアミノ基；炭素数２乃
   至５個の低級アルコキシカルボニル基又は−ＯＲ₁₆ （こ
   こでＲ₁₆が炭素数１乃至４個の低級アルコキシ基、トリ
   フルオロメチル基、シアノ基及び炭素数２乃至５個の低
   級アルコキシカルボニル基から選ばれる置換基で置換さ
   れていてもよい炭素数１乃至６個のアルキル基；炭素数
   ２乃至４個の低級アルケニル基；又は炭素数２乃至５個
   の低級アルキニル基である）である請求項４記載のベン
   ズアミド誘導体、その医薬上許容し得る塩又はその水和
   物若しくは溶媒和物。
6. 【請求項６】 Ｒ₁及びＲ₂がエチル基であり、Ｒ₅がエ
   チル基、プロピル基、イソプロピル基、メトキシ基又は
   ジメチルアミノ基であり、Ｒ₆がエトキシカルボニル
   基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロ
   ポキシ基、ブトキシ基、２，２，２−トリフルオロメチ
   ルメトキシ基、アリルオキシ基又は２−プロピニルオキ
   シ基である請求項５記載のベンズアミド誘導体、その医
   薬上許容し得る塩又はその水和物若しくは溶媒和物。
7. 【請求項７】 Ａが３−エチル−５−ジエチルスルファ
   モイル−２−メトキシフェニル基、２−エトキシ−３−
   エチル−５−ジエチルスルファモイルフェニル基、３−
   エチル−５−ジエチルスルファモイル−２−プロポキシ
   フェニル基、５−ジエチルスルファモイル−３−イソプ
   ロピル−２−プロポキシフェニル基、５−ジエチルスル
   ファモイル−２−プロポキシ−３−プロピルフェニル
   基、５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシ−３−
   プロピルフェニル基、３−エチル−５−ジエチルスルフ
   ァモイル−２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）
   フェニル基、２−アリルオキシ−３−エチル−５−ジエ
   チルスルファモイルフェニル基、３−エチル−５−ジエ
   チルスルファモイル−２−（２−プロピニルオキシ）フ
   ェニル基、５−ジエチルスルファモイル−２，３−ジメ
   トキシフェニル基、２−エトキシカルボニル−３−エチ
   ル−５−ジエチルスルファモイルフェニル基又は５−ジ
   エチルスルファモイル−２−メトキシ−３−ジメチルア
   ミノフェニル基である請求項６記載のベンズアミド誘導
   体、その医薬上許容し得る塩又はその水和物若しくは溶
   媒和物。
8. 【請求項８】 Ａが一般式（ＩＩＩ） 【化５】 （式中、Ｒ₇、Ｒ₈、Ｒ₉及びＸは請求項１と同じであ
   る）である請求項１乃至３記載のベンズアミド誘導体、
   その医薬上許容し得る塩又はその水和物若しくは溶媒和
   物。
9. 【請求項９】 Ｒ₇が炭素数１乃至４個の低級アルコキ
   シ基；又は−ＮＲ₁₇Ｒ₁₈ （ここでＲ₁₇及びＲ₁₈が同一又
   は異なっていてもよく、水素原子；又は炭素数１乃至４
   個の低級アルキル基である）であり、Ｒ₈が炭素数１乃
   至４個の低級アルコキシ基で置換されていてもよい炭素
   数１乃至４個の低級アルキル基であり、Ｒ₉が炭素数１
   乃至４個の低級アルキル基で置換されていてもよいアミ
   ノスルホニル基；又は−ＣＯＲ₁₉ ［ここでＲ₁₉が炭素数
   １乃至４個の低級アルキル基；炭素数１乃至４個の低級
   アルコキシ基；炭素数３乃至７個のシクロアルキル基；
   又は−ＮＲ₂₀Ｒ₂₁ （ここでＲ₂₀及びＲ₂₁が同一又は異な
   っていてもよく、水素原子；又は炭素数１乃至４個の低
   級アルキル基である。）である］であり、Ｘが−Ｓ−で
   ある請求項８記載のベンズアミド誘導体、その医薬上許
   容し得る塩又はその水和物若しくは溶媒和物。
10. 【請求項１０】 Ｒ₇がメトキシ基又はエトキシ基であ
    り、Ｒ₈がメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
    又はメトキシメチル基であり、Ｒ₉がジエチルアミノス
    ルホニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
    ル基又はシクロプロパンカルボニル基である請求項９記
    載のベンズアミド誘導体、その医薬上許容し得る塩又は
    その水和物若しくは溶媒和物。
11. 【請求項１１】 Ａが３，５−ジ−エトキシカルボニル
    −４−メチル−２−チエニル基、３，５−ジ−エトキシ
    カルボニル−４−プロピル−２−チエニル基、３，５−
    ジ−エトキシカルボニル−４−（メトキシメチル）−２
    −チエニル基、４−エチル−３，５−ジ−メトキシカル
    ボニル−２−チエニル基、３−エトキシカルボニル−４
    −エチル−５−メトキシカルボニル−２−チエニル基、
    ５−エトキシカルボニル−４−エチル−３−メトキシカ
    ルボニル−２−チエニル基、５−シクロプロパンカルボ
    ニル−３−エトキシカルボニル−４−エチル−２−チエ
    ニル基、３，５−ジ−エトキシカルボニル−４−エチル
    −２−チエニル基又は３−エトキシカルボニル−４−エ
    チル−５−ジエチルスルファモイル−２−チエニル基で
    ある請求項１０記載のベンズアミド誘導体、その医薬上
    許容し得る塩又はその水和物若しくは溶媒和物。
12. 【請求項１２】 ３，５−ジクロロ−Ｎ−（３−エチル
    −５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシフェニ
    ル）−４−ヒドロキシベンズアミド；３，５−ジクロロ
    −Ｎ−（２−エトキシ−３−エチル−５−ジエチルスル
    ファモイルフェニル）−４−ヒドロキシベンズアミド；
    ３，５−ジクロロ−Ｎ−（３−エチル−５−ジエチルス
    ルファモイル−２−プロポキシフェニル）−４−ヒドロ
    キシベンズアミド；３，５−ジクロロ−Ｎ−（５−ジエ
    チルスルファモイル−３−イソプロピル−２−プロポキ
    シフェニル）−４−ヒドロキシベンズアミド；３，５−
    ジクロロ−Ｎ−（５−ジエチルスルファモイル−２−プ
    ロポキシ−３−プロピルフェニル）−４−ヒドロキシベ
    ンズアミド；３，５−ジクロロ−Ｎ−（５−ジエチルス
    ルファモイル−２−メトキシ−３−プロピルフェニル）
    −４−ヒドロキシベンズアミド；ナトリウム ２，６−
    ジクロロ−４−［Ｎ−（３−エチル−５−ジエチルスル
    ファモイル−２−メトキシフェニル）カルバモイル］フ
    ェノキシド；カリウム ２，６−ジクロロ−４−［Ｎ−
    （３−エチル−５−ジエチルスルファモイル−２−メト
    キシフェニル）カルバモイル］フェノキシド；ナトリウ
    ム ２，６−ジクロロ−４−［Ｎ−（３−エチル−５−
    ジエチルスルファモイル−２−プロポキシフェニル）カ
    ルバモイル］フェノキシド；リン酸 ２，６−ジクロロ
    −４−［Ｎ−（３−エチル−５−ジエチルスルファモイ
    ル−２−メトキシフェニル）カルバモイル］フェニル；
    ナトリウム ２，６−ジクロロ−４−［Ｎ−（３−エチ
    ル−５−ジエチルスルファモイル−２−メトキシフェニ
    ル）カルバモイル］フェノキシド；カリウム ２，６−
    ジクロロ−４−［Ｎ−（３−エチル−５−ジエチルスル
    ファモイル−２−メトキシフェニル）カルバモイル］フ
    ェノキシド；ナトリウム ２，６−ジクロロ−４−［Ｎ
    −（３−エチル−５−ジエチルスルファモイル−２−プ
    ロポキシフェニル）カルバモイル］フェノキシド；リン
    酸 ２，６−ジクロロ−４−［Ｎ−（３−エチル−５−
    ジエチルスルファモイル−２−メトキシフェニル）カル
    バモイル］フェニル；３，５−ジクロロ−Ｎ−［３−エ
    チル−５−ジエチルスルファモイル−２−（２，２，２
    −トリフルオロエトキシ）フェニル］−４−ヒドロキシ
    ベンズアミド；３，５−ジクロロ−Ｎ−（２−アリルオ
    キシ−３−エチル−５−ジエチルスルファモイルフェニ
    ル）−４−ヒドロキシベンズアミド；３，５−ジクロロ
    −Ｎ−［３−エチル−５−ジエチルスルファモイル−２
    −（２−プロピニルオキシ）フェニル］−４−ヒドロキ
    シベンズアミド；３，５−ジクロロ−Ｎ−（５−ジエチ
    ルスルファモイル−２，３−ジメトキシフェニル）−４
    −ヒドロキシベンズアミド；３，５−ジクロロ−Ｎ−
    （２−エトキシカルボニル−３−エチル−５−ジエチル
    スルファモイルフェニル）−４−ヒドロキシベンズアミ
    ド；３−クロロ−Ｎ−（５−ジエチルスルファモイル−
    ２，３−ジメトキシフェニル）−４−ヒドロキシ−５−
    ニトロベンズアミド；５−（４−ヒドロキシ−３，５−
    ジニトロベンゾイルアミノ）−３−メチルチオフェン−
    ２，４−ジカルボン酸ジエチルエステル；５−（３，５
    −ジクロロ−４−ヒドロキシベンゾイルアミノ）−３−
    エチルチオフェン−２，４−ジカルボン酸ジエチルエス
    テル；５−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシベンゾ
    イルアミノ）−３−プロピルチオフェン−２，４−ジカ
    ルボン酸ジエチルエステル；５−（３，５−ジクロロ−
    ４−ヒドロキシベンゾイルアミノ）−３−（メトキシメ
    チル）チオフェン−２，４−ジカルボン酸ジエチルエス
    テル；５−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシベンゾ
    イルアミノ）−３−エチルチオフェン−２，４−ジカル
    ボン酸ジメチルエステル；５−（３，５−ジクロロ−４
    −ヒドロキシベンゾイルアミノ）−３−エチルチオフェ
    ン−２，４−ジカルボン酸 ４−エチルエステル ２−
    メチルエステル；５−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロ
    キシベンゾイルアミノ）−３−エチルチオフェン−２，
    ４−ジカルボン酸 ２−エチルエステル ４−メチルエ
    ステル；２−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシベン
    ゾイルアミノ）−５−シクロプロパンカルボニル−４−
    エチルチオフェン−３−カルボン酸エチルエステル；３
    −エチル−５−（４−ヒドロキシ−３，５−ジニトロベ
    ンゾイルアミノ）チオフェン−２，４−ジカルボン酸ジ
    エチルエステル；２−（３，５−ジクロロ−４−ヒドロ
    キシベンゾイルアミノ）−５−ジエチルスルファモイル
    −４−エチルチオフェン−３−カルボン酸エチルエステ
    ル；ナトリウム ２，６−ジクロロ−４−［Ｎ−［３，
    ５−ビス（エトキシカルボニル）−４−エチル−２−チ
    エニル］カルバモイル］フェノキシド；及び３，５−ジ
    クロロ−Ｎ−（５−ジエチルスルファモイル−２−メト
    キシ−３−ジメチルアミノフェニル）−４−ヒドロキシ
    ベンズアミドからなる群より選ばれる請求項１記載の化
    合物、その医薬上許容し得る塩又はその水和物若しくは
    溶媒和物。
13. 【請求項１３】 請求項１乃至１２記載の化合物、その
    医薬上許容し得る塩又はその水和物若しくは溶媒和物を
    有効成分としてなる副腎皮質刺激ホルモン放出因子（Ｃ
    ＲＦ）受容体拮抗薬。
14. 【請求項１４】 請求項１乃至１２記載の化合物、その
    医薬上許容し得る塩又はその水和物若しくは溶媒和物を
    有効成分としてなるＣＲＦにより誘発又は促進される疾
    患の治療剤。
15. 【請求項１５】 請求項１乃至１２記載の化合物、その
    医薬上許容し得る塩又はその水和物若しくは溶媒和物を
    有効成分としてなる医薬組成物。