JP2002194551A - レンズプラズマコーティングシステム - Google Patents
レンズプラズマコーティングシステムInfo
- Publication number
- JP2002194551A JP2002194551A JP2001247138A JP2001247138A JP2002194551A JP 2002194551 A JP2002194551 A JP 2002194551A JP 2001247138 A JP2001247138 A JP 2001247138A JP 2001247138 A JP2001247138 A JP 2001247138A JP 2002194551 A JP2002194551 A JP 2002194551A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- inlet
- outlet
- gate
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/62—Plasma-deposition of organic layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/54—Apparatus specially adapted for continuous coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/14—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
- B29C2059/147—Low pressure plasma; Glow discharge plasma
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2011/00—Optical elements, e.g. lenses, prisms
- B29L2011/0016—Lenses
- B29L2011/0041—Contact lenses
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/139—Associated with semiconductor wafer handling including wafer charging or discharging means for vacuum chamber
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Eyeglasses (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Spray Control Apparatus (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 シリコン含有ポリマーから作られたような光
学レンズの表面をコーティングするためのシステム及び
方法を提供すること。 【構成】 圧力センサ（１０２、１１８、１５８、２０
２、２１４）で検知されて予定の圧力及びプラズマガス
がコーティング室（１２６、１２８）内に維持される。
気体のプラズマ雲がコーティング室内の電極（５８）間
に供給される。入口室（７０）がコーティング室の上流
側にあり、出口室がコーティング室の下流側にある。レ
ンズが入口室へ移動され、コーティング室に近接した入
口室の少なくとも一部に予定の圧力が与えられる。処理
ガスがこの領域に導入される。その後、スリットバルブ
（８６）を開くことにより入り口室がコーティング室と
連通した状態に置かれ、レンズがコーティング室へ移動
されてプラズマ雲の中を通る。処理ガスがコーティング
室に近接した出口室（１９６）の少なくとも一部に導入
され、この部分に予定の圧力が与えられる。その後、レ
ンズがコーティング室から出口室へ移動される。
学レンズの表面をコーティングするためのシステム及び
方法を提供すること。 【構成】 圧力センサ（１０２、１１８、１５８、２０
２、２１４）で検知されて予定の圧力及びプラズマガス
がコーティング室（１２６、１２８）内に維持される。
気体のプラズマ雲がコーティング室内の電極（５８）間
に供給される。入口室（７０）がコーティング室の上流
側にあり、出口室がコーティング室の下流側にある。レ
ンズが入口室へ移動され、コーティング室に近接した入
口室の少なくとも一部に予定の圧力が与えられる。処理
ガスがこの領域に導入される。その後、スリットバルブ
（８６）を開くことにより入り口室がコーティング室と
連通した状態に置かれ、レンズがコーティング室へ移動
されてプラズマ雲の中を通る。処理ガスがコーティング
室に近接した出口室（１９６）の少なくとも一部に導入
され、この部分に予定の圧力が与えられる。その後、レ
ンズがコーティング室から出口室へ移動される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンタクトレン
ズ、あるいはその他の光学レンズ、特にシリコン含有ポ
リマーから作られたレンズをコーティングするためのシ
ステムに関する。今後、この用語、シリコンポリマー
は、固体シリコンポリマー、シリコンエラストマー及び
シリコンヒドロゲルを含む眼科の用途に適したシリコン
含有ポリマーを示すのに使用される。コンタクトレンズ
材料としてのシリコンポリマーの利点が認められてい
る。しかしながら、シリコンポリマーには幾つかの不利
点がある。例えば、目の涙膜内である種の材料はレンズ
に付着し易く、レンズの光学的透明性を低下させる。こ
のシリコンレンズ、特に、シリコンエラストマー又はヒ
ドロゲルレンズは粘着性があり、この特性によりレンズ
が角膜に付くことがあり、その材料の疎水生がレンズの
濡れ性を阻害している。
ズ、あるいはその他の光学レンズ、特にシリコン含有ポ
リマーから作られたレンズをコーティングするためのシ
ステムに関する。今後、この用語、シリコンポリマー
は、固体シリコンポリマー、シリコンエラストマー及び
シリコンヒドロゲルを含む眼科の用途に適したシリコン
含有ポリマーを示すのに使用される。コンタクトレンズ
材料としてのシリコンポリマーの利点が認められてい
る。しかしながら、シリコンポリマーには幾つかの不利
点がある。例えば、目の涙膜内である種の材料はレンズ
に付着し易く、レンズの光学的透明性を低下させる。こ
のシリコンレンズ、特に、シリコンエラストマー又はヒ
ドロゲルレンズは粘着性があり、この特性によりレンズ
が角膜に付くことがあり、その材料の疎水生がレンズの
濡れ性を阻害している。
【０００２】
【従来の技術】これらの問題を解消するには、電気的グ
ロー放電重合を使用して非常に薄い親水性コーティング
を入手することが知られている。このコーティングプロ
セスは、シリコンレンズコアをプラズマ雲に配置する
か、その中で該レンズコアを移動させて、材料がそのコ
アに付着するようにするのが一般的である。種々の材料
が使用できるが、メタン等の炭化水素を使用することが
できる。
ロー放電重合を使用して非常に薄い親水性コーティング
を入手することが知られている。このコーティングプロ
セスは、シリコンレンズコアをプラズマ雲に配置する
か、その中で該レンズコアを移動させて、材料がそのコ
アに付着するようにするのが一般的である。種々の材料
が使用できるが、メタン等の炭化水素を使用することが
できる。
【０００３】重合コーティングは、レンズの酸素及び二
酸化炭素透過性をそれ程又は全く低下させずに非常に濡
れ易い表面を作り出す。この重合コーティングは、又、
そうでなければレンズに付く涙膜の材料に対して効果的
なバリヤーとなり、それによって発生する可能性がある
光学的透明性の劣化を防止する。
酸化炭素透過性をそれ程又は全く低下させずに非常に濡
れ易い表面を作り出す。この重合コーティングは、又、
そうでなければレンズに付く涙膜の材料に対して効果的
なバリヤーとなり、それによって発生する可能性がある
光学的透明性の劣化を防止する。
【０００４】従来のプラズマ重合レンズコーティング技
術は、１個以上のシリコンレンズコアを対向する電極間
の反応室内に配置されたバッチ装置を使用する。その
後、反応室を密封し、真空装置で減圧する。バッチ装置
を動作圧まで吸引するにはかなりの時間を要する。反応
室が適切な圧力になったら、プロセスガスを室内に導入
し、電極が付勢される。得られたプラズマ雲により薄い
ポリマーコーティングをレンズに付着させることができ
る。適当な時間が経過した後、電極の作動を止め、反応
室内を大気状態に戻してレンズを取り出すことができ
る。
術は、１個以上のシリコンレンズコアを対向する電極間
の反応室内に配置されたバッチ装置を使用する。その
後、反応室を密封し、真空装置で減圧する。バッチ装置
を動作圧まで吸引するにはかなりの時間を要する。反応
室が適切な圧力になったら、プロセスガスを室内に導入
し、電極が付勢される。得られたプラズマ雲により薄い
ポリマーコーティングをレンズに付着させることができ
る。適当な時間が経過した後、電極の作動を止め、反応
室内を大気状態に戻してレンズを取り出すことができ
る。
【０００５】プラズマ雲の中を通してレンズを動かすこ
とが好ましいと認められている。従って、あるシステム
では、シリコンレンズコアを電極間に配置した回転車に
載せて、その車でレンズをプラズマ雲中に搬送する。こ
れらのシステムは、他のバッチシステムと区別するため
「連続」システムとして説明されることがある。しかし
ながら、そのようなシステムの全ては、１以上のグルー
プのシリコンレンズコアを該システムに対して出し入れ
する際に、繰り返し加圧及び減圧しなければならない反
応室を各システムが必要とする点で、本開示の目的のた
めにはバッチシステムと見なされる。
とが好ましいと認められている。従って、あるシステム
では、シリコンレンズコアを電極間に配置した回転車に
載せて、その車でレンズをプラズマ雲中に搬送する。こ
れらのシステムは、他のバッチシステムと区別するため
「連続」システムとして説明されることがある。しかし
ながら、そのようなシステムの全ては、１以上のグルー
プのシリコンレンズコアを該システムに対して出し入れ
する際に、繰り返し加圧及び減圧しなければならない反
応室を各システムが必要とする点で、本開示の目的のた
めにはバッチシステムと見なされる。
【０００６】バッチシステムの一実施例がPeymanらに付
与された米国特許第４，３１２，７５７５号で示されて
いる。「シリコンコンタクトレンズの表面に付着された
メタンのプラズマポリマーの極薄コーティング」Journa
l of Biomedical Material Research, ２２巻、９１９
〜９３７頁（１９８８年）において、Peng Ho及びYasud
aは、対向アルミニウム電極が配置されたベル状真空室
を有するバッチシステムを記載している。回転可能なア
ルミニウム板はその電極間に置かれ、バッチシステム内
で誘導モータで駆動される。
与された米国特許第４，３１２，７５７５号で示されて
いる。「シリコンコンタクトレンズの表面に付着された
メタンのプラズマポリマーの極薄コーティング」Journa
l of Biomedical Material Research, ２２巻、９１９
〜９３７頁（１９８８年）において、Peng Ho及びYasud
aは、対向アルミニウム電極が配置されたベル状真空室
を有するバッチシステムを記載している。回転可能なア
ルミニウム板はその電極間に置かれ、バッチシステム内
で誘導モータで駆動される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は従来技術の構
成及び方法の不具合を認識してそれに対処する。従っ
て、本発明の目的は優れたレンズプラズマコーティング
システムを提供することである。
成及び方法の不具合を認識してそれに対処する。従っ
て、本発明の目的は優れたレンズプラズマコーティング
システムを提供することである。
【０００８】この目的及び他の目的は光学レンズの表面
を処理するためのシステムによって達成される。このシ
ステムは第１入口ゲートと第１出口ゲートを有する入口
室を備えている。前記第１入口ゲートと前記第１出口ゲ
ートは、前記ゲートを閉鎖するとき前記入口室を密閉す
る。前記入口室は前記第１入口ゲートと前記第１出口ゲ
ートとの間に延びるコンベヤを有する。第１負圧源は前
記入口室と選択的に連通している。コーティング室は、
第２入口ゲートと第２出口ゲートを有する。前記第２入
口ゲート及び前記第２出口ゲートは、それらが閉鎖する
とき前記コーティング室を密閉する。前記コーティング
室は中に配置された少なくとも１対の離間した電極と、
前記電極間で前記レンズを搬送するように前記第２入口
ゲート及び前記第２出口ゲートとの間に延びるコンベヤ
を有する。プラズマガス源は、プラズマガスを前記コー
ティング室に導入するために前記コーティング室と連通
する。第２負圧源は前記コーティング室と連通する。電
源は、前記第２負圧源によって前記コーティング室内の
所定圧力の設定時に前記ガスのプラズマ雲が前記電極間
で得られるように、各前記電極に所定電位を印加するた
めに前記電極に接続される。出口室は第３入口ゲート及
び第３出口ゲートを有する。前記第３入口ゲート及び前
記第３出口ゲートは、そのゲートを閉鎖するとき前記出
口室を密閉し、前記出口室は前記第３入口ゲート及び前
記第３出口ゲートとの間に延びるコンベヤを有する。第
３負圧源は前記出口室と選択的に連通する。前記入口室
は、前記第１出口ゲート及び前記第２入口ゲートを介し
て前記コーティング室と連通し、それにより前記入口室
コンベヤ及び前記コーティング室コンベヤは、前記レン
ズを前記入口室から前記コーティング室へ送るように連
通する。前記コーティング室は、前記第２出口ゲート及
び前記第３入口ゲートを介して前記出口室に連通してお
り、それにより前記コーティング室コンベヤと前記出口
室コンベヤは、前記コーティング室から前記出口室へ送
るように連通している。
を処理するためのシステムによって達成される。このシ
ステムは第１入口ゲートと第１出口ゲートを有する入口
室を備えている。前記第１入口ゲートと前記第１出口ゲ
ートは、前記ゲートを閉鎖するとき前記入口室を密閉す
る。前記入口室は前記第１入口ゲートと前記第１出口ゲ
ートとの間に延びるコンベヤを有する。第１負圧源は前
記入口室と選択的に連通している。コーティング室は、
第２入口ゲートと第２出口ゲートを有する。前記第２入
口ゲート及び前記第２出口ゲートは、それらが閉鎖する
とき前記コーティング室を密閉する。前記コーティング
室は中に配置された少なくとも１対の離間した電極と、
前記電極間で前記レンズを搬送するように前記第２入口
ゲート及び前記第２出口ゲートとの間に延びるコンベヤ
を有する。プラズマガス源は、プラズマガスを前記コー
ティング室に導入するために前記コーティング室と連通
する。第２負圧源は前記コーティング室と連通する。電
源は、前記第２負圧源によって前記コーティング室内の
所定圧力の設定時に前記ガスのプラズマ雲が前記電極間
で得られるように、各前記電極に所定電位を印加するた
めに前記電極に接続される。出口室は第３入口ゲート及
び第３出口ゲートを有する。前記第３入口ゲート及び前
記第３出口ゲートは、そのゲートを閉鎖するとき前記出
口室を密閉し、前記出口室は前記第３入口ゲート及び前
記第３出口ゲートとの間に延びるコンベヤを有する。第
３負圧源は前記出口室と選択的に連通する。前記入口室
は、前記第１出口ゲート及び前記第２入口ゲートを介し
て前記コーティング室と連通し、それにより前記入口室
コンベヤ及び前記コーティング室コンベヤは、前記レン
ズを前記入口室から前記コーティング室へ送るように連
通する。前記コーティング室は、前記第２出口ゲート及
び前記第３入口ゲートを介して前記出口室に連通してお
り、それにより前記コーティング室コンベヤと前記出口
室コンベヤは、前記コーティング室から前記出口室へ送
るように連通している。
【０００９】従って、本発明の一形態は光学レンズの表
面を処理するためのシステムであって、前記システム
は、第１入口ゲートと第１出口ゲートを有する入口室で
あって、前記第１入口ゲートと前記第１出口ゲートは、
閉鎖するとき前記入口室を密閉し、前記入口室が前記第
１入口ゲートと前記第１出口ゲートとの間に延びるコン
ベヤを含んでいる、入口室と、前記入口室と選択的に連
通する第１負圧源と、第２入口ゲートと第２出口ゲート
を有するコーティング室であって、前記第２入口ゲート
及び前記第２出口ゲートは、閉鎖するとき前記コーティ
ング室を密閉し、前記コーティング室は中に配置された
少なくとも１対の離間した電極と、前記電極間で前記レ
ンズを搬送するように前記第２入口ゲート及び前記第２
出口ゲートとの間に延びるコンベヤを有する、コーティ
ング室と、プラズマガスを前記コーティング室に導入す
るために前記コーティング室と連通するプラズマガス源
と、前記コーティング室と連通する第２負圧源と、前記
第２負圧源によって前記コーティング室内の所定圧力の
設定時に前記ガスのプラズマ雲が前記電極間で得られる
ように、各前記電極の所定電位を印加するために前記電
極と連通する電源と、第３入口ゲート及び第３出口ゲー
トを有する出口室であって、前記第３入口ゲート及び前
記第３出口ゲートは、閉鎖するとき前記出口室を密閉
し、前記出口室は前記第３入口ゲート及び前記第３出口
ゲートとの間に延びるコンベヤを有する、出口室と、前
記出口室と選択的に連通する第３負圧源とを具備し、前
記入口室は、前記第１出口ゲート及び前記第２入口ゲー
トを介して前記コーティング室と連通し、それにより前
記入口室コンベヤ及び前記コーティング室コンベヤは、
前記レンズを前記入口室から前記コーティング室へ送る
ように連通しており、前記コーティング室は、前記第２
出口ゲート及び前記第３入口ゲートを介して前記出口室
に連通し、それにより前記コーティング室コンベヤと前
記出口室コンベヤは、前記コーティング室から前記出口
室へ送るように連通する該システムに関連する。
面を処理するためのシステムであって、前記システム
は、第１入口ゲートと第１出口ゲートを有する入口室で
あって、前記第１入口ゲートと前記第１出口ゲートは、
閉鎖するとき前記入口室を密閉し、前記入口室が前記第
１入口ゲートと前記第１出口ゲートとの間に延びるコン
ベヤを含んでいる、入口室と、前記入口室と選択的に連
通する第１負圧源と、第２入口ゲートと第２出口ゲート
を有するコーティング室であって、前記第２入口ゲート
及び前記第２出口ゲートは、閉鎖するとき前記コーティ
ング室を密閉し、前記コーティング室は中に配置された
少なくとも１対の離間した電極と、前記電極間で前記レ
ンズを搬送するように前記第２入口ゲート及び前記第２
出口ゲートとの間に延びるコンベヤを有する、コーティ
ング室と、プラズマガスを前記コーティング室に導入す
るために前記コーティング室と連通するプラズマガス源
と、前記コーティング室と連通する第２負圧源と、前記
第２負圧源によって前記コーティング室内の所定圧力の
設定時に前記ガスのプラズマ雲が前記電極間で得られる
ように、各前記電極の所定電位を印加するために前記電
極と連通する電源と、第３入口ゲート及び第３出口ゲー
トを有する出口室であって、前記第３入口ゲート及び前
記第３出口ゲートは、閉鎖するとき前記出口室を密閉
し、前記出口室は前記第３入口ゲート及び前記第３出口
ゲートとの間に延びるコンベヤを有する、出口室と、前
記出口室と選択的に連通する第３負圧源とを具備し、前
記入口室は、前記第１出口ゲート及び前記第２入口ゲー
トを介して前記コーティング室と連通し、それにより前
記入口室コンベヤ及び前記コーティング室コンベヤは、
前記レンズを前記入口室から前記コーティング室へ送る
ように連通しており、前記コーティング室は、前記第２
出口ゲート及び前記第３入口ゲートを介して前記出口室
に連通し、それにより前記コーティング室コンベヤと前
記出口室コンベヤは、前記コーティング室から前記出口
室へ送るように連通する該システムに関連する。
【００１０】本発明に係る光学レンズの表面を処理する
方法は、第１光学レンズを用意し、中に配置された１対
の離間電極を有するコーティング室を設ける工程を有す
る。プラズマガスを前記コーティング室に保持する。ガ
スのプラズマ雲を前記電極間に生成するように、第１所
定圧力を前記コーティング室で保持し、所定電位を各前
記電極で保持する。入口室を前記コーティングから上流
側に設け、前記第１レンズを前記入口室内に移動させ
る。ガスを前記コーティング室に近接した前記入口室の
少なくとも一部に導入し、前記入口室の少なくとも一部
を前記第１所定圧力にする。前記入口室を前記コーティ
ング室と連通させ、前記第１レンズを前記入口室から前
記コーティング室に、そして前記プラズマ雲を通して移
動させる。出口室を前記コーティング室から下流側に設
ける。ガスを前記コーティング室に近接した前記出口室
の少なくとも一部に導入し、前記出口室の少なくとも一
部を前記第１所定圧力にする。前記第１レンズを前記コ
ーティング室から前記出口室へ移動させる。
方法は、第１光学レンズを用意し、中に配置された１対
の離間電極を有するコーティング室を設ける工程を有す
る。プラズマガスを前記コーティング室に保持する。ガ
スのプラズマ雲を前記電極間に生成するように、第１所
定圧力を前記コーティング室で保持し、所定電位を各前
記電極で保持する。入口室を前記コーティングから上流
側に設け、前記第１レンズを前記入口室内に移動させ
る。ガスを前記コーティング室に近接した前記入口室の
少なくとも一部に導入し、前記入口室の少なくとも一部
を前記第１所定圧力にする。前記入口室を前記コーティ
ング室と連通させ、前記第１レンズを前記入口室から前
記コーティング室に、そして前記プラズマ雲を通して移
動させる。出口室を前記コーティング室から下流側に設
ける。ガスを前記コーティング室に近接した前記出口室
の少なくとも一部に導入し、前記出口室の少なくとも一
部を前記第１所定圧力にする。前記第１レンズを前記コ
ーティング室から前記出口室へ移動させる。
【００１１】従って、本発明の他の形態は、光学レンズ
の表面を処理する方法であって、前記方法は、（Ａ）前
記光学レンズを用意する工程と、（Ｂ）中に配置された
１対の離間電極を有するコーティング室を設ける工程
と、（Ｃ）プラズマガスを前記コーティング室に保持す
る工程と、（Ｄ）前記ガスのプラズマ雲を前記電極間に
生成するように、前記コーティング室の第１所定圧力及
び各前記電極の所定電位を保持する工程と、（Ｅ）前記
コーティングから上流側に入口室を設ける工程と、
（Ｆ）前記第１レンズを前記入口室内に移動させる工程
と、（Ｇ）前記ガスを前記コーティング室に近接した前
記入口室の少なくとも一部に導入し、前記入口室の少な
くとも一部を前記第１所定圧力にする工程と、（Ｈ）前
記入口室を前記コーティング室と連通させる工程と、
（Ｉ）前記第１レンズを前記入口室から前記コーティン
グ室に、そして前記プラズマ雲を通して移動させる工程
と、（Ｊ）出口室を前記コーティング室から下流側に設
ける工程と、（Ｋ）前記ガスを前記コーティング室に近
接した前記出口室の少なくとも一部に導入し、前記出口
室の少なくとも一部を前記第１所定圧力にする工程と、
（Ｌ）前記第１レンズを前記コーティング室から前記出
口室へ移動させる工程とを有する。
の表面を処理する方法であって、前記方法は、（Ａ）前
記光学レンズを用意する工程と、（Ｂ）中に配置された
１対の離間電極を有するコーティング室を設ける工程
と、（Ｃ）プラズマガスを前記コーティング室に保持す
る工程と、（Ｄ）前記ガスのプラズマ雲を前記電極間に
生成するように、前記コーティング室の第１所定圧力及
び各前記電極の所定電位を保持する工程と、（Ｅ）前記
コーティングから上流側に入口室を設ける工程と、
（Ｆ）前記第１レンズを前記入口室内に移動させる工程
と、（Ｇ）前記ガスを前記コーティング室に近接した前
記入口室の少なくとも一部に導入し、前記入口室の少な
くとも一部を前記第１所定圧力にする工程と、（Ｈ）前
記入口室を前記コーティング室と連通させる工程と、
（Ｉ）前記第１レンズを前記入口室から前記コーティン
グ室に、そして前記プラズマ雲を通して移動させる工程
と、（Ｊ）出口室を前記コーティング室から下流側に設
ける工程と、（Ｋ）前記ガスを前記コーティング室に近
接した前記出口室の少なくとも一部に導入し、前記出口
室の少なくとも一部を前記第１所定圧力にする工程と、
（Ｌ）前記第１レンズを前記コーティング室から前記出
口室へ移動させる工程とを有する。
【００１２】この明細書に含まれ、その一部を構成する
添付図面は、本発明の１つ以上の実施形態を例示し、そ
の説明と共に本発明の原理を説明する。
添付図面は、本発明の１つ以上の実施形態を例示し、そ
の説明と共に本発明の原理を説明する。
【００１３】当業者に対する、本発明の最良の形態を含
む完全で使用を可能にする本発明の開示が添付図面を参
照する明細書に述べられている。本明細書及び図面の参
照符号の繰り返し使用は本発明の同じあるいは類似構成
あるいは要素を示すものである。
む完全で使用を可能にする本発明の開示が添付図面を参
照する明細書に述べられている。本明細書及び図面の参
照符号の繰り返し使用は本発明の同じあるいは類似構成
あるいは要素を示すものである。
【００１４】
【発明の実施形態】ここで、１つ以上の実施例が添付図
面で例示される本発明の現在好ましい実施形態を詳細に
記載する。各実施例は、本発明を限定しない説明によっ
て行なわれる。実際、本発明の範囲又は趣旨から逸脱せ
ずに本発明で変形と改変が実施されることは、当業者に
明らかであろう。例えば、１つの実施形態の一部として
例示され説明される特徴は、他の実施形態に関して使用
して更に他の実施形態を作成することができる。従っ
て、本発明は、特許請求の範囲及びそれらの均等の範囲
内に入るような変形と改変をカバーするものである。
面で例示される本発明の現在好ましい実施形態を詳細に
記載する。各実施例は、本発明を限定しない説明によっ
て行なわれる。実際、本発明の範囲又は趣旨から逸脱せ
ずに本発明で変形と改変が実施されることは、当業者に
明らかであろう。例えば、１つの実施形態の一部として
例示され説明される特徴は、他の実施形態に関して使用
して更に他の実施形態を作成することができる。従っ
て、本発明は、特許請求の範囲及びそれらの均等の範囲
内に入るような変形と改変をカバーするものである。
【００１５】本発明は、レンズコアがコーティング領域
を繰り返し加圧や減圧されることを必要とせずに、シス
テム中に入り、通過し、出ることができる光学的レンズ
コーティングシステムに関係する。ここでの説明は、メ
タン含有プラズマ雲を使用して親水性ポリマーコーティ
ングをシリコンレンズコアに付着することが記載されて
いるが、この説明は具体的な目的の場合に過ぎず、他の
プラズマ及びレンズ材料が使用できる。例えば、このシ
ステムは、望ましいコーティングをレンズコアに付着さ
れる炭化水素かその他の適切な材料から発生したにせよ
適切なプラズマを使用することができる。さらに、この
プラズマは、レンズコア表面を酸化して親水性層を形成
するように酸化ガスから構成することもできる。ここで
使用しているように、「コーティング」はそのような層
を含む。さらに、このシステムは、コーティングを形成
するのに望ましい材料から作られたレンズに関連して使
用することができる。従って、ここでのシリコンレンズ
コアとメタンプラズマの記載は、本発明の範囲あるいは
趣旨を限定するものではないことが当業者に分かるはず
である。
を繰り返し加圧や減圧されることを必要とせずに、シス
テム中に入り、通過し、出ることができる光学的レンズ
コーティングシステムに関係する。ここでの説明は、メ
タン含有プラズマ雲を使用して親水性ポリマーコーティ
ングをシリコンレンズコアに付着することが記載されて
いるが、この説明は具体的な目的の場合に過ぎず、他の
プラズマ及びレンズ材料が使用できる。例えば、このシ
ステムは、望ましいコーティングをレンズコアに付着さ
れる炭化水素かその他の適切な材料から発生したにせよ
適切なプラズマを使用することができる。さらに、この
プラズマは、レンズコア表面を酸化して親水性層を形成
するように酸化ガスから構成することもできる。ここで
使用しているように、「コーティング」はそのような層
を含む。さらに、このシステムは、コーティングを形成
するのに望ましい材料から作られたレンズに関連して使
用することができる。従って、ここでのシリコンレンズ
コアとメタンプラズマの記載は、本発明の範囲あるいは
趣旨を限定するものではないことが当業者に分かるはず
である。
【００１６】さらに、このシステムは、レンズコアを処
理するためにプラズマを発生する適当な装置と方法を使
用してもよい。そのような装置と方法は当業者が理解で
きるはずであり、従って、ここでは詳しく説明しない。
そこで、プラズマを発生させるために以下説明される特
定の装置は、具体的な目的のためにだけ用意されるもの
であることを理解されたい。
理するためにプラズマを発生する適当な装置と方法を使
用してもよい。そのような装置と方法は当業者が理解で
きるはずであり、従って、ここでは詳しく説明しない。
そこで、プラズマを発生させるために以下説明される特
定の装置は、具体的な目的のためにだけ用意されるもの
であることを理解されたい。
【００１７】このシステムの説明に入る前に、ここで図
１Ａを参照すると、レンズコアが、外フレーム１２及び
垂直中間部材１４を有する保持トレー１０に配置され
る。図１Ａは典型的な保持トレーを示している。７列の
ワイヤホルダー１６が各隣接垂直部材間に延びている。
２つの外カラム１８、２０では、各列が４個のホルダー
を含み、一方、２つの中カラム２２、２４の各列が３個
のホルダーを有している。従って、このトレーは全体で
７８個のホルダーを有している。
１Ａを参照すると、レンズコアが、外フレーム１２及び
垂直中間部材１４を有する保持トレー１０に配置され
る。図１Ａは典型的な保持トレーを示している。７列の
ワイヤホルダー１６が各隣接垂直部材間に延びている。
２つの外カラム１８、２０では、各列が４個のホルダー
を含み、一方、２つの中カラム２２、２４の各列が３個
のホルダーを有している。従って、このトレーは全体で
７８個のホルダーを有している。
【００１８】図１Ｂ及び図１Ｃを参照する。各ホルダー
１６には１つの環状ワイヤリム２６と、そのワイヤリム
２６から半径方向内側に延びる５つのワイヤステムがあ
る。レンズコア３０は、ステム２８上に配置されるよう
に各ホルダーに配置される。ホルダー１６は、Winterto
n及びGrantに付与された米国特許第５，８７４，１２７
号に更に詳しく説明されている。
１６には１つの環状ワイヤリム２６と、そのワイヤリム
２６から半径方向内側に延びる５つのワイヤステムがあ
る。レンズコア３０は、ステム２８上に配置されるよう
に各ホルダーに配置される。ホルダー１６は、Winterto
n及びGrantに付与された米国特許第５，８７４，１２７
号に更に詳しく説明されている。
【００１９】図１Ａを再度参照し、また図２も参照する
と、各保持トレー１０は、１対のフック３２をフレーム
の対向外垂直部材１４に有する。トレーキャリヤ３６上
の対応フック３４は、保持トレー１０がトレーキャリヤ
３６に懸架されるようにフック３２を収納する。図２に
示された実施形態では、キャリヤ３６は４個の保持トレ
ー１０、従って３９２個レンズコア以下を保持すること
ができる。
と、各保持トレー１０は、１対のフック３２をフレーム
の対向外垂直部材１４に有する。トレーキャリヤ３６上
の対応フック３４は、保持トレー１０がトレーキャリヤ
３６に懸架されるようにフック３２を収納する。図２に
示された実施形態では、キャリヤ３６は４個の保持トレ
ー１０、従って３９２個レンズコア以下を保持すること
ができる。
【００２０】図３をここで参照する。トレーキャリアは
直線プラズマコーティングシステム４０内に配置され
る。最初、トレーは、各々約５メートルの長さの５つの
サブ室（ここでは「領域」と称する）４２Ａ〜４２Ｅか
ら成る乾燥室を移動する。トレーキャリヤは、必要な真
空及びコーティング付着ターゲットに合わせるのに約２
０分間又は十分な所定の時間乾燥室でトータル２０分間
留まっている。
直線プラズマコーティングシステム４０内に配置され
る。最初、トレーは、各々約５メートルの長さの５つの
サブ室（ここでは「領域」と称する）４２Ａ〜４２Ｅか
ら成る乾燥室を移動する。トレーキャリヤは、必要な真
空及びコーティング付着ターゲットに合わせるのに約２
０分間又は十分な所定の時間乾燥室でトータル２０分間
留まっている。
【００２１】レンズコアが親水性材料を含有できるなら
ば、それらコアは、湿り気があり、そのため、環境から
水分を吸収することができる。そのため、乾燥時間を見
込むことが望ましい。必要なら、乾燥領域は、一定の相
対湿度レベル、例えば、さらに乾燥を可能にするための
１０％以下に維持し、又、コーティング領域に入る前に
レンズコアを配置する乾燥バッファ領域を備える。
ば、それらコアは、湿り気があり、そのため、環境から
水分を吸収することができる。そのため、乾燥時間を見
込むことが望ましい。必要なら、乾燥領域は、一定の相
対湿度レベル、例えば、さらに乾燥を可能にするための
１０％以下に維持し、又、コーティング領域に入る前に
レンズコアを配置する乾燥バッファ領域を備える。
【００２２】図２、図４Ａ及び図４Ｂをも参照すると、
各トレーキャリヤは、「金属片（スラグ）」４６として
画定された長方形スロット４４内に収容される。１対の
ボルトは金属片でキャリヤを固定する。ボア４８はトレ
ーキャリヤ下の金属片４６を突き出る。乾燥室は、金属
片及びキャリヤ（以下、それ以外で示されなければ「キ
ャリヤ」として集約的に参照する）を搬送するためにコ
ンベヤを備えている。このコンベヤは、各々が対向回転
歯車５２、５４間に延びる領域４２Ａ〜４２Ｅの個々の
コンベヤから構成される。サーボモータ５６はコンベヤ
を駆動させ、パソコンで制御加工であり、主要フレーム
システム又は他のプログラム可能な論理回路（ここでは
「ＰＬＣ」と称する）で制御可能である。２個の側面部
材はコンベヤのそれぞれの側面に置かれ、ローラー６０
が各側面部材の間隙６２に配置され、トレーが側面部材
を通過するときにそのトレーをガイドする。
各トレーキャリヤは、「金属片（スラグ）」４６として
画定された長方形スロット４４内に収容される。１対の
ボルトは金属片でキャリヤを固定する。ボア４８はトレ
ーキャリヤ下の金属片４６を突き出る。乾燥室は、金属
片及びキャリヤ（以下、それ以外で示されなければ「キ
ャリヤ」として集約的に参照する）を搬送するためにコ
ンベヤを備えている。このコンベヤは、各々が対向回転
歯車５２、５４間に延びる領域４２Ａ〜４２Ｅの個々の
コンベヤから構成される。サーボモータ５６はコンベヤ
を駆動させ、パソコンで制御加工であり、主要フレーム
システム又は他のプログラム可能な論理回路（ここでは
「ＰＬＣ」と称する）で制御可能である。２個の側面部
材はコンベヤのそれぞれの側面に置かれ、ローラー６０
が各側面部材の間隙６２に配置され、トレーが側面部材
を通過するときにそのトレーをガイドする。
【００２３】一方の側面部材に取付けた光源６４は、も
う一方の側面部材に対して光を発し、そこで光が光検出
器６６で検出される。この光源６４及び光検出器６６
は、光が金属片４６のボア４８を通して間を通るように
整合される。光検出器６６はＰＬＣに信号を出力し、そ
のＰＬＣはサーボモータ５６を制御する。従って、光が
第一乾燥領域４２Ａに入ると同時に、光源６４と光検出
器６６間で光ビームを金属片が初めに遮断すると、ＰＬ
Ｃはキャリヤの存在を検出する。その他のキャリヤ検出
システムを光検出器の代わりに利用してもよい。例え
ば、圧力又はコンタクトマイクロスイッチも使用するこ
とができる。ボア４８が光源／光検出器対に達すると、
光検出器６６は再度光ビームを検出し、ＰＬＣはサーボ
モータ５６を予めプログラムした適当な時間、例えば４
分間停止する。この時間の最終に、ＰＬＣが再度モータ
を動かして、キャリヤを第二乾燥領域４２Ｂに通す。乾
燥領域４２Ｂは、側面部材とコンベヤを９０度回転して
キャリヤを領域４２Ｃに通過することができるように別
の機構を領域４２Ｂに備えた以外は領域４２Ａのよう
に、コンベヤ、モータ及び側面部材を有している。しか
しながら、各領域では、光源／光検出器対が領域内のキ
ャリヤの有無を検出するために設けられている。ＰＬＣ
は、キャリヤが次の領域で待機していなければキャリヤ
を１つの乾燥領域から隣りの乾燥領域に移動させる。
う一方の側面部材に対して光を発し、そこで光が光検出
器６６で検出される。この光源６４及び光検出器６６
は、光が金属片４６のボア４８を通して間を通るように
整合される。光検出器６６はＰＬＣに信号を出力し、そ
のＰＬＣはサーボモータ５６を制御する。従って、光が
第一乾燥領域４２Ａに入ると同時に、光源６４と光検出
器６６間で光ビームを金属片が初めに遮断すると、ＰＬ
Ｃはキャリヤの存在を検出する。その他のキャリヤ検出
システムを光検出器の代わりに利用してもよい。例え
ば、圧力又はコンタクトマイクロスイッチも使用するこ
とができる。ボア４８が光源／光検出器対に達すると、
光検出器６６は再度光ビームを検出し、ＰＬＣはサーボ
モータ５６を予めプログラムした適当な時間、例えば４
分間停止する。この時間の最終に、ＰＬＣが再度モータ
を動かして、キャリヤを第二乾燥領域４２Ｂに通す。乾
燥領域４２Ｂは、側面部材とコンベヤを９０度回転して
キャリヤを領域４２Ｃに通過することができるように別
の機構を領域４２Ｂに備えた以外は領域４２Ａのよう
に、コンベヤ、モータ及び側面部材を有している。しか
しながら、各領域では、光源／光検出器対が領域内のキ
ャリヤの有無を検出するために設けられている。ＰＬＣ
は、キャリヤが次の領域で待機していなければキャリヤ
を１つの乾燥領域から隣りの乾燥領域に移動させる。
【００２４】領域４２Ａへの入口は開放していてもよ
く、あるいは所定のシステムに適切なように、適当なカ
バーを有することができる。それぞれの導管（ダクト）
６８は適当なエア処理システム（図示せず）から制御エ
ア又はガスを供給して各乾燥領域に向ける。エア制御シ
ステムは、適正に温度制御され加湿エアをその導管に例
えば約２１．１℃±１．１℃で連続的に送るように独立
して制御することができる。
く、あるいは所定のシステムに適切なように、適当なカ
バーを有することができる。それぞれの導管（ダクト）
６８は適当なエア処理システム（図示せず）から制御エ
ア又はガスを供給して各乾燥領域に向ける。エア制御シ
ステムは、適正に温度制御され加湿エアをその導管に例
えば約２１．１℃±１．１℃で連続的に送るように独立
して制御することができる。
【００２５】図３を再度参照する。キャリヤが十分な時
間乾燥領域４２Ｅにあり、キャリヤが入口ロック７０内
で待機しておらず、また以下更に詳しく説明するよう
に、適切な条件が入口ロック７０に存在すれば、ＰＬＣ
はスリットバルブ７２を通してキャリヤを入口ロック内
に入れる。入口ロックは、乾燥領域のようにコンベヤ５
０と側面部材５８を有する。光源及び光検出器対は、
又、キャリヤが入口ロック内にいつ十分に入ったかをＰ
ＬＣが検知するように設けられる。
間乾燥領域４２Ｅにあり、キャリヤが入口ロック７０内
で待機しておらず、また以下更に詳しく説明するよう
に、適切な条件が入口ロック７０に存在すれば、ＰＬＣ
はスリットバルブ７２を通してキャリヤを入口ロック内
に入れる。入口ロックは、乾燥領域のようにコンベヤ５
０と側面部材５８を有する。光源及び光検出器対は、
又、キャリヤが入口ロック内にいつ十分に入ったかをＰ
ＬＣが検知するように設けられる。
【００２６】また、図５Ａ及び図５Ｂを参照する。入口
スリットバルブ７２は、その内側面の周縁部を区画する
密封材料７６を有する扉７４を備えている。扉７４は開
閉位置間のリンク機構７８で可動なようにヒンジが取付
けられている。ＰＬＣはリンク機構７８を制御する。扉
が閉鎖位置にあれば、シール７６が入口ロック７０内へ
の入口通路８０を包囲し、密閉する。
スリットバルブ７２は、その内側面の周縁部を区画する
密封材料７６を有する扉７４を備えている。扉７４は開
閉位置間のリンク機構７８で可動なようにヒンジが取付
けられている。ＰＬＣはリンク機構７８を制御する。扉
が閉鎖位置にあれば、シール７６が入口ロック７０内へ
の入口通路８０を包囲し、密閉する。
【００２７】入口ロック７０の光源及び光検出器対がボ
ア（図２）を介してキャリヤの有無を検出すれば、ＰＬ
Ｃは入口ロックの両端のスリットバルブを閉じる。入口
ロックはステンレス鋼室であり、その室に入口、出口及
びセンサーが以下説明するように連通することができ
る。スリットバルブを除いては入口ロックは閉鎖室であ
る。従って、スリットバルブを閉じると、入口ロックが
密閉される。
ア（図２）を介してキャリヤの有無を検出すれば、ＰＬ
Ｃは入口ロックの両端のスリットバルブを閉じる。入口
ロックはステンレス鋼室であり、その室に入口、出口及
びセンサーが以下説明するように連通することができ
る。スリットバルブを除いては入口ロックは閉鎖室であ
る。従って、スリットバルブを閉じると、入口ロックが
密閉される。
【００２８】キャリヤが入口ロック内にあり、室が密閉
されているとき、ＰＬＣはバルブ８２とポンプ８４を作
動させて入口ロックを汲み出し、それにより真空状態を
内部に形成する。特に、ポンプにより入口ロック７０の
内部を大気圧から所定の低圧、例えば１mトール以下ま
でにする。ＰＬＣは、入口ロックのハウジングを通して
延びる圧力センサー８５によって入口ロックの圧力をモ
ニターする。
されているとき、ＰＬＣはバルブ８２とポンプ８４を作
動させて入口ロックを汲み出し、それにより真空状態を
内部に形成する。特に、ポンプにより入口ロック７０の
内部を大気圧から所定の低圧、例えば１mトール以下ま
でにする。ＰＬＣは、入口ロックのハウジングを通して
延びる圧力センサー８５によって入口ロックの圧力をモ
ニターする。
【００２９】ロックハウジング及び以下説明される入口
ホールド、入口バッファ、コーティング、出口バッフ
ァ、デグチホールド及び出口ロック室のハウジングは、
全てステンレス鋼から製造されることが分かるが、この
ハウジングは適当な材料で、適当な構造で作ることがで
きる。さらに、５つの乾燥領域及び以下説明する５つの
出口領域のハウジングはポリメチルメタクリレート（Ｐ
ＭＭＡ）等の固いポリマーから製造してもよいが、鋼又
はその他適当な材料から製造してもよい。
ホールド、入口バッファ、コーティング、出口バッフ
ァ、デグチホールド及び出口ロック室のハウジングは、
全てステンレス鋼から製造されることが分かるが、この
ハウジングは適当な材料で、適当な構造で作ることがで
きる。さらに、５つの乾燥領域及び以下説明する５つの
出口領域のハウジングはポリメチルメタクリレート（Ｐ
ＭＭＡ）等の固いポリマーから製造してもよいが、鋼又
はその他適当な材料から製造してもよい。
【００３０】圧力センサー８５から、入口ロック７０の
内部圧力が予め設定された低い圧力以下であり、予め設
定された最小時間、例えば２９０秒が経過したことがＰ
ＬＣに知らされると、バルブ８２が動作しているため
に、ＰＬＣは入口ロック７０及び入口ホールド室間のス
リットバルブ８６を開け、キャリヤが入口ホールド内に
入るように入口ロック及び入口ホールド双方でコンベヤ
を動かす。
内部圧力が予め設定された低い圧力以下であり、予め設
定された最小時間、例えば２９０秒が経過したことがＰ
ＬＣに知らされると、バルブ８２が動作しているため
に、ＰＬＣは入口ロック７０及び入口ホールド室間のス
リットバルブ８６を開け、キャリヤが入口ホールド内に
入るように入口ロック及び入口ホールド双方でコンベヤ
を動かす。
【００３１】入口ホールドには垂直側面部材と光源／光
検出器対が備えられている。スラグボア４８（図２）が
光検出器と整合し、それによりキャリヤが完全に入口ホ
ールドにあることをＰＬＣに示すと、ＰＬＣはスリット
バルブ８６とスリットバルブ９０を閉じて入口ホールド
を密閉する。スリットバルブ９０を閉じた後、ＰＬＣ
は、乾燥ガス、例えば窒素のソース（図示せず）に接続
されたガスライン９４を入口ロック８８の内部に開放す
るバルブ９２を動かす。ＰＬＣは、圧力センサー８４が
入口ロックの大気圧を示すまで乾燥ガスが入った入口ロ
ックのガス抜き（vent／ベント）を続ける。
検出器対が備えられている。スラグボア４８（図２）が
光検出器と整合し、それによりキャリヤが完全に入口ホ
ールドにあることをＰＬＣに示すと、ＰＬＣはスリット
バルブ８６とスリットバルブ９０を閉じて入口ホールド
を密閉する。スリットバルブ９０を閉じた後、ＰＬＣ
は、乾燥ガス、例えば窒素のソース（図示せず）に接続
されたガスライン９４を入口ロック８８の内部に開放す
るバルブ９２を動かす。ＰＬＣは、圧力センサー８４が
入口ロックの大気圧を示すまで乾燥ガスが入った入口ロ
ックのガス抜き（vent／ベント）を続ける。
【００３２】このガスは例えば３ppm未満の低水分含有
量である点で「乾燥」状態にある。乾燥したガス抜きガ
スは、レンジコアあるいは室壁による望ましくない水分
吸収を防止するために好ましい。好ましい実施形態で
は、１つの乾燥ガス源がこのガス抜きガスを、ライン９
４及び入口ロックから下流の他の室用のガス抜きライン
へ供給するために使用される。従って、室がここでは
「それぞれの」ガス抜き源を有するものとして呼ばれて
いるが、これはガス抜きライン全てが同じ究極のガス抜
きガス源で供給できる構造になっていることが分かるは
ずである。同様に、個々の真空ポンプが図３に示され
て、本明細書で説明されているが、多室へのポンプ用ラ
インが負圧の同一源に連通することができる。
量である点で「乾燥」状態にある。乾燥したガス抜きガ
スは、レンジコアあるいは室壁による望ましくない水分
吸収を防止するために好ましい。好ましい実施形態で
は、１つの乾燥ガス源がこのガス抜きガスを、ライン９
４及び入口ロックから下流の他の室用のガス抜きライン
へ供給するために使用される。従って、室がここでは
「それぞれの」ガス抜き源を有するものとして呼ばれて
いるが、これはガス抜きライン全てが同じ究極のガス抜
きガス源で供給できる構造になっていることが分かるは
ずである。同様に、個々の真空ポンプが図３に示され
て、本明細書で説明されているが、多室へのポンプ用ラ
インが負圧の同一源に連通することができる。
【００３３】バルブ８６を開く前に、ＰＬＣは、入口ホ
ールド８８内部を真空ポンプ１００に開放するバルブを
作動することによって設定低圧力以下の圧力にする。入
口ロック圧力及び入口ホールド圧力が＋／−５mトール
以下であることを圧力センサー８５及び１０２が示せ
ば、ＰＬＣはスリットバルブ８６を開けてキャリヤを入
口ホールド内へリヤを移動させる。
ールド８８内部を真空ポンプ１００に開放するバルブを
作動することによって設定低圧力以下の圧力にする。入
口ロック圧力及び入口ホールド圧力が＋／−５mトール
以下であることを圧力センサー８５及び１０２が示せ
ば、ＰＬＣはスリットバルブ８６を開けてキャリヤを入
口ホールド内へリヤを移動させる。
【００３４】先行する乾燥段階にもかかわらず、レンズ
コアはなお水分を幾分含有することができる。従って、
入口ホールドはバッファ及び乾燥段階の双方として作用
する。入口ホールドで真空狂態を形成する繰り返しポン
プ吸引により水蒸気が室壁、延いてはレンズコアから吸
引され、それにより乾燥した環境が作られる。乾燥ガス
は、この状態を維持するためＰＬＣで作動するバルブ１
０４により室をガス抜きのに使用される。キャリヤが入
口ホールドに入り、ＰＬＣが室を密閉すると、ポンプ１
００がトレーキャリヤ、スラグ及びレンズコアから水蒸
気を吸引するようにバルブが開いたままになる。
コアはなお水分を幾分含有することができる。従って、
入口ホールドはバッファ及び乾燥段階の双方として作用
する。入口ホールドで真空狂態を形成する繰り返しポン
プ吸引により水蒸気が室壁、延いてはレンズコアから吸
引され、それにより乾燥した環境が作られる。乾燥ガス
は、この状態を維持するためＰＬＣで作動するバルブ１
０４により室をガス抜きのに使用される。キャリヤが入
口ホールドに入り、ＰＬＣが室を密閉すると、ポンプ１
００がトレーキャリヤ、スラグ及びレンズコアから水蒸
気を吸引するようにバルブが開いたままになる。
【００３５】スリットバルブ８６及び９０を閉めたため
に十分な時間が経過したとＰＬＣが判断すれば、ＰＬＣ
はバルブ９８を閉め、マスフローコントローラー１０８
と入口ホールド内部間のバルブ１０６を開ける。当業者
にその構造と動作が分かるこのマスフローコントローラ
ーは、この実施形態では、ＰＬＣから独立して制御可能
であり、共通ライン１１０から入口ホールド内にプロセ
スガスを導入する。
に十分な時間が経過したとＰＬＣが判断すれば、ＰＬＣ
はバルブ９８を閉め、マスフローコントローラー１０８
と入口ホールド内部間のバルブ１０６を開ける。当業者
にその構造と動作が分かるこのマスフローコントローラ
ーは、この実施形態では、ＰＬＣから独立して制御可能
であり、共通ライン１１０から入口ホールド内にプロセ
スガスを導入する。
【００３６】入口ホールド８８の内部圧力が約所定レベ
ルであることをセンサー１０２が示したとき、ＰＬＣは
スリットバルブ９０を開け、入口ホールドのコンベヤモ
ータ及び入口バッファ１１２のコンベヤモータを作動し
てキャリヤを入口バッファに入れる。また、入口バッフ
ァは、垂直側面部材５８と、スラグボアが光源と光検出
器に整合したときにＰＬＣに判断させる光源．光検出器
対とを備え、それによりキャリヤが入口バッファ内に完
全にあることを示す。それで、ＰＬＣはスリットバルブ
９０を閉め、入口ホールドが望ましい予め設定した圧力
に達するまでバルブ９８を通して入口ホールドをポンプ
吸引する。その時、上記説明した他の状態になったら、
ＰＬＣはスリットバルブ８６を開け、隣のキャリヤを入
口ホールド内に送る。
ルであることをセンサー１０２が示したとき、ＰＬＣは
スリットバルブ９０を開け、入口ホールドのコンベヤモ
ータ及び入口バッファ１１２のコンベヤモータを作動し
てキャリヤを入口バッファに入れる。また、入口バッフ
ァは、垂直側面部材５８と、スラグボアが光源と光検出
器に整合したときにＰＬＣに判断させる光源．光検出器
対とを備え、それによりキャリヤが入口バッファ内に完
全にあることを示す。それで、ＰＬＣはスリットバルブ
９０を閉め、入口ホールドが望ましい予め設定した圧力
に達するまでバルブ９８を通して入口ホールドをポンプ
吸引する。その時、上記説明した他の状態になったら、
ＰＬＣはスリットバルブ８６を開け、隣のキャリヤを入
口ホールド内に送る。
【００３７】入口バッファは、そうしなければ入口ホー
ルドからコーティング領域に流れる非プロセスガスから
下流コーティング領域を隔離するのを助成する。この入
口バッファは、又、コーティング領域に入るために待機
しているキャリヤ用の待機室として機能する。ＰＬＣに
よって制御され、入口バッファを真空ポンプ１１６に開
放するバルブ１１４によってプロセス圧力で入口バッフ
ァが維持される。ＰＬＣは、圧力センサー１１８で入口
バッファの圧力をモニターし、マスフローコントローラ
ー１２２を介してプロセスガスライン１１０に接続され
たバルブ１２０によりプロセスガスを入口バッファに導
入する。必要であれば、ＰＬＣはバルブ１２４を介して
イリグチバッファを乾燥ガスでガス抜きすることができ
る。
ルドからコーティング領域に流れる非プロセスガスから
下流コーティング領域を隔離するのを助成する。この入
口バッファは、又、コーティング領域に入るために待機
しているキャリヤ用の待機室として機能する。ＰＬＣに
よって制御され、入口バッファを真空ポンプ１１６に開
放するバルブ１１４によってプロセス圧力で入口バッフ
ァが維持される。ＰＬＣは、圧力センサー１１８で入口
バッファの圧力をモニターし、マスフローコントローラ
ー１２２を介してプロセスガスライン１１０に接続され
たバルブ１２０によりプロセスガスを入口バッファに導
入する。必要であれば、ＰＬＣはバルブ１２４を介して
イリグチバッファを乾燥ガスでガス抜きすることができ
る。
【００３８】入口バッファから、キャリヤはタンデムコ
ーティング領域１２６、１２８を移動する。ＰＬＣは、
コーティング領域内部を真空ポンプ１３３及び１３４に
さらす圧力バルブ１３０及び１３２により約プロセス圧
力にコーティング領域を保持する。ＰＬＣは、マスフロ
ーコントローラー１４０及び１４２を介してプロセスガ
スライン１１０に接続されるバルブ１３６及び１３８に
よってプロセスガスをコーティング領域に供給する。こ
の実施形態では１つのバルブ／マスフローコントローラ
ーを各コーティング領域に対して示しているが、そのよ
うなそれぞれの対を各室の前方部分及び後方部分に設け
て各部分へのガス流を個々に制御することができること
が分かる。必要ならＰＬＣはバルブ１４４及び１４６を
介して乾燥ガスでコーティング領域をガス抜きすること
ができる。ＰＬＣは圧力センサー１４８／１４９及び１
５０／１５１によりコーティング領域の圧力をモニター
する。
ーティング領域１２６、１２８を移動する。ＰＬＣは、
コーティング領域内部を真空ポンプ１３３及び１３４に
さらす圧力バルブ１３０及び１３２により約プロセス圧
力にコーティング領域を保持する。ＰＬＣは、マスフロ
ーコントローラー１４０及び１４２を介してプロセスガ
スライン１１０に接続されるバルブ１３６及び１３８に
よってプロセスガスをコーティング領域に供給する。こ
の実施形態では１つのバルブ／マスフローコントローラ
ーを各コーティング領域に対して示しているが、そのよ
うなそれぞれの対を各室の前方部分及び後方部分に設け
て各部分へのガス流を個々に制御することができること
が分かる。必要ならＰＬＣはバルブ１４４及び１４６を
介して乾燥ガスでコーティング領域をガス抜きすること
ができる。ＰＬＣは圧力センサー１４８／１４９及び１
５０／１５１によりコーティング領域の圧力をモニター
する。
【００３９】出口バッファ１５２は第２コーティング領
域の後に続く。入口バッファ及びコーティング領域の場
合のように、出口バッファ１５２はコンベヤと、ＰＬＣ
によって作動できるサーボモータを備えている。出口バ
ッファ１５２は、又、垂直部材５８と光源及び光検出器
対を備えている。ＰＬＣは、真空ポンプ１５６に連通す
るバルブ１５４によって出口バッファ内のプロセス圧力
レベルを維持する。このＰＬＣは圧力センサー１５８に
よって出口バッファの圧力をモニターし、ライン１１０
から、マスフローコントローラー１６０からの出口バッ
ファへのプロセスガス流をバルブ１６２によって制御す
る。
域の後に続く。入口バッファ及びコーティング領域の場
合のように、出口バッファ１５２はコンベヤと、ＰＬＣ
によって作動できるサーボモータを備えている。出口バ
ッファ１５２は、又、垂直部材５８と光源及び光検出器
対を備えている。ＰＬＣは、真空ポンプ１５６に連通す
るバルブ１５４によって出口バッファ内のプロセス圧力
レベルを維持する。このＰＬＣは圧力センサー１５８に
よって出口バッファの圧力をモニターし、ライン１１０
から、マスフローコントローラー１６０からの出口バッ
ファへのプロセスガス流をバルブ１６２によって制御す
る。
【００４０】出口バッファ１１２と第１コーティング領
域１２６との間、第１コーティング領域１２６と第２コ
ーティング領域１２８との間、あるいは第２コーティン
グ領域１２８と出口バッファとの間にはスリットバルブ
はない。その代わり、鋼肩部１６４が幾つか一部横に本
システム内に延びて、２つのコーティング領域を通して
入口バッファから出口バッファへ延びるチャンネルを作
っている。従って、入口バッファ室、コーティング領域
及び出口バッファ室は分割された共通の室を構成する。
上記のように、ＰＬＣは、それぞれのバルブとマスフロ
ーコントローラーによる本システムの作動時にはこの共
通の室をプロセス圧力に維持し、また室内のプロセスガ
スを維持する。上記説明された入口ホールドの選択的な
加圧と減圧及び以下説明する出口ホールドの選択的な加
圧と減圧のために、本システムは、コーティング領域を
加圧し、減圧する必要もなく、継続的なトレーキャリヤ
でレンズコアをコーティングすることができる。
域１２６との間、第１コーティング領域１２６と第２コ
ーティング領域１２８との間、あるいは第２コーティン
グ領域１２８と出口バッファとの間にはスリットバルブ
はない。その代わり、鋼肩部１６４が幾つか一部横に本
システム内に延びて、２つのコーティング領域を通して
入口バッファから出口バッファへ延びるチャンネルを作
っている。従って、入口バッファ室、コーティング領域
及び出口バッファ室は分割された共通の室を構成する。
上記のように、ＰＬＣは、それぞれのバルブとマスフロ
ーコントローラーによる本システムの作動時にはこの共
通の室をプロセス圧力に維持し、また室内のプロセスガ
スを維持する。上記説明された入口ホールドの選択的な
加圧と減圧及び以下説明する出口ホールドの選択的な加
圧と減圧のために、本システムは、コーティング領域を
加圧し、減圧する必要もなく、継続的なトレーキャリヤ
でレンズコアをコーティングすることができる。
【００４１】例示したコーティング領域１２６及び１２
８は同様に構成される。従って、説明を簡単にするため
に、コーティング領域１２６の構造だけをここで説明す
る。
８は同様に構成される。従って、説明を簡単にするため
に、コーティング領域１２６の構造だけをここで説明す
る。
【００４２】コーティング領域１２６は２つのタンデム
配置のマグネトロンを備え、各々１対の対向電極１６
６、１６８を有する。マグネトロンの使用は用途に応じ
たオプションである。図６Ａの概略断面図を参照する。
コーティング領域は、そうしなければプラズマ雲がレン
ズコアへ当たるのに邪魔となる垂直部材５８（図４Ａ、
図４Ｂ）が付いていない。プラズマ雲は、長方形のチタ
ンプレート１７０及び１７２を備える電極１６６及び１
６８が発生させる。各チタンプレートは、４個の２mm〜
３mmセラミックボタン１７８によってそれぞれ磁気装置
１７４及び１７６から分離される。各チタンプレート
は、高さが約５０cm、厚さが約０．１６cm（１／１６イ
ンチ）及び長さが約１８cmである。
配置のマグネトロンを備え、各々１対の対向電極１６
６、１６８を有する。マグネトロンの使用は用途に応じ
たオプションである。図６Ａの概略断面図を参照する。
コーティング領域は、そうしなければプラズマ雲がレン
ズコアへ当たるのに邪魔となる垂直部材５８（図４Ａ、
図４Ｂ）が付いていない。プラズマ雲は、長方形のチタ
ンプレート１７０及び１７２を備える電極１６６及び１
６８が発生させる。各チタンプレートは、４個の２mm〜
３mmセラミックボタン１７８によってそれぞれ磁気装置
１７４及び１７６から分離される。各チタンプレート
は、高さが約５０cm、厚さが約０．１６cm（１／１６イ
ンチ）及び長さが約１８cmである。
【００４３】各磁気装置１７４及び１７６は、例えばス
テンレス鋼から作られ、冷却水が管１８０からポンプ注
入できる外部金属ボックスを備えることができる。ま
た、図６Ｂを参照する。各ボックスの内部には中央長方
形鋼コア１８２と周囲の長方形鋼リング１８４がある。
一連の永久磁石１８６はコア１８２とリング１８４の間
に延在し、中央コア１８２が磁気の「Ｓ」極及び外部リ
ング１８４が磁気の「Ｎ」極となるように図６Ｂに示し
たように、Ｎ−Ｓパターンで配置される。完全一致の反
対極も使用できるが、すなわちＮ／Ｓ磁石を全体として
逆にしてもよい。各永久磁石は約５．１cm（２インチ）
間隙で隣接平行磁石から分離される。チタンプレート１
７０及び１７２は、トランス１９４を介してＡＣ電源１
８８により同じ電位に励起される。この磁石の強度を変
化させて当業者がプラズマの程度を制御することができ
る。
テンレス鋼から作られ、冷却水が管１８０からポンプ注
入できる外部金属ボックスを備えることができる。ま
た、図６Ｂを参照する。各ボックスの内部には中央長方
形鋼コア１８２と周囲の長方形鋼リング１８４がある。
一連の永久磁石１８６はコア１８２とリング１８４の間
に延在し、中央コア１８２が磁気の「Ｓ」極及び外部リ
ング１８４が磁気の「Ｎ」極となるように図６Ｂに示し
たように、Ｎ−Ｓパターンで配置される。完全一致の反
対極も使用できるが、すなわちＮ／Ｓ磁石を全体として
逆にしてもよい。各永久磁石は約５．１cm（２インチ）
間隙で隣接平行磁石から分離される。チタンプレート１
７０及び１７２は、トランス１９４を介してＡＣ電源１
８８により同じ電位に励起される。この磁石の強度を変
化させて当業者がプラズマの程度を制御することができ
る。
【００４４】約７cm〜１０cmの距離がチタンプレート１
７２と１７８を分離する。励起したら、このチタンプレ
ート１７２及び１７８は、当技術で分かるように、その
間にプラズマ雲を生成する。しかし、このチタンプレー
トとそれぞれの磁石装置間の２mm〜３mm間隙が小さいた
めに、十分なプラズマがそこでは発生しない。チタンプ
レート後方の磁石装置により生成する磁界もプラズマ生
成を阻害する。これはプレート間に予想でき、安定し
た、比較的均一なプラズマ雲を生成する。激しく成長す
る長方形プラズマ領域１８８は、チタンプレートの各々
の前で、直ちに生成されるが、領域１８８間のプラズマ
雲１９０はプラズマ精度は低いが、均一性が優れてい
る。特に、プラズマ雲は垂直方向で均一性が高い。プラ
ズマ雲１９０はコンベヤ５０上に配置され、従って、レ
ンズコアを移動するのはこの雲による。
７２と１７８を分離する。励起したら、このチタンプレ
ート１７２及び１７８は、当技術で分かるように、その
間にプラズマ雲を生成する。しかし、このチタンプレー
トとそれぞれの磁石装置間の２mm〜３mm間隙が小さいた
めに、十分なプラズマがそこでは発生しない。チタンプ
レート後方の磁石装置により生成する磁界もプラズマ生
成を阻害する。これはプレート間に予想でき、安定し
た、比較的均一なプラズマ雲を生成する。激しく成長す
る長方形プラズマ領域１８８は、チタンプレートの各々
の前で、直ちに生成されるが、領域１８８間のプラズマ
雲１９０はプラズマ精度は低いが、均一性が優れてい
る。特に、プラズマ雲は垂直方向で均一性が高い。プラ
ズマ雲１９０はコンベヤ５０上に配置され、従って、レ
ンズコアを移動するのはこの雲による。
【００４５】図３を再度参照する。各電極対１６６／１
６８はそれ自体の圧力センサー１４８／１４９及び真空
スロットールバルブ１３０を有する。上記のように、各
電極対はそれ自体のプロセスガススロットールバルブも
備えることができる。ＰＬＣは、各電極対が配置される
領域の圧力を常にモニターし、それに応じてバルブ１３
０及び１３６を調節して処理圧力条件を保持する。すな
わち、１つの実施形態では、その領域へのプロセスガス
流速が一定である。しかし、スロットールバルブ１３０
は処理圧力に設定され、そのため、流出速度を制御して
所定圧力を保持する。従って、均一プラズマ雲は１つの
電極対から隣の電極対までばらつきがない状態にある。
更に、各バルブ１３６からのプロセスガス入口は、一方
の電極１６６又は１６８の後方に配置され、それでプロ
セスガスラインからの流れが電極で遮断され、プラズマ
雲を乱さない。同じ目的を達成する他のガスの迂回機構
も構成可能であるが、電極対を使用することが便利な解
決手段である。
６８はそれ自体の圧力センサー１４８／１４９及び真空
スロットールバルブ１３０を有する。上記のように、各
電極対はそれ自体のプロセスガススロットールバルブも
備えることができる。ＰＬＣは、各電極対が配置される
領域の圧力を常にモニターし、それに応じてバルブ１３
０及び１３６を調節して処理圧力条件を保持する。すな
わち、１つの実施形態では、その領域へのプロセスガス
流速が一定である。しかし、スロットールバルブ１３０
は処理圧力に設定され、そのため、流出速度を制御して
所定圧力を保持する。従って、均一プラズマ雲は１つの
電極対から隣の電極対までばらつきがない状態にある。
更に、各バルブ１３６からのプロセスガス入口は、一方
の電極１６６又は１６８の後方に配置され、それでプロ
セスガスラインからの流れが電極で遮断され、プラズマ
雲を乱さない。同じ目的を達成する他のガスの迂回機構
も構成可能であるが、電極対を使用することが便利な解
決手段である。
【００４６】本発明の一実施形態では、プロセスガスが
７０％メタン及び３０％エア（窒素と酸素の乾燥混合
物）である。プロセスガスに酸素を含有させると、コー
ティング領域が日常的に清掃する必要がないように堆積
物が無い反応（プラズマ）室を維持するために非常に有
効な手段となることが分かった。連続プラズマ装置で
は、堆積物がコーティング室内、特に電極上に溜まるの
を防止あるいは低減する処理ガスを利用することは非常
に有利であることが分かる。
７０％メタン及び３０％エア（窒素と酸素の乾燥混合
物）である。プロセスガスに酸素を含有させると、コー
ティング領域が日常的に清掃する必要がないように堆積
物が無い反応（プラズマ）室を維持するために非常に有
効な手段となることが分かった。連続プラズマ装置で
は、堆積物がコーティング室内、特に電極上に溜まるの
を防止あるいは低減する処理ガスを利用することは非常
に有利であることが分かる。
【００４７】上述したように、コーティング領域１２
６、１２８には垂直部材又は光源／光検出器対がない。
その代わり、それぞれのコンベヤが予め設定した速度、
例えば５m／秒で連続的に走行するように、ＰＬＣが各
領域のサーボモータを一定速度で動かす。かくして、キ
ャリヤが入口バッファのコンベヤから領域１２６のコン
ベヤ上に動くと、そのキャリヤは２つのコーティング領
域の４個のマグネトロンを連続して通過する。
６、１２８には垂直部材又は光源／光検出器対がない。
その代わり、それぞれのコンベヤが予め設定した速度、
例えば５m／秒で連続的に走行するように、ＰＬＣが各
領域のサーボモータを一定速度で動かす。かくして、キ
ャリヤが入口バッファのコンベヤから領域１２６のコン
ベヤ上に動くと、そのキャリヤは２つのコーティング領
域の４個のマグネトロンを連続して通過する。
【００４８】ＰＬＣは、キャリヤが入口バッファコンベ
ヤからコーティング領域のコンベヤに移動したことを入
口バッファの光検出器が示したときに、タイマーを開始
し、このタイマーの終了時のみに入口バッファからコー
ティング領域内に次のキャリヤを送る。１つの好ましい
実施形態では、時間の長さが３００秒であり、この時間
は出口バッファが下流キャリヤを出口ホールド室１９６
に移動させるのに十分な時間となり、それによりキャリ
ヤがコーティング領域に積み上げられないようにする。
ヤからコーティング領域のコンベヤに移動したことを入
口バッファの光検出器が示したときに、タイマーを開始
し、このタイマーの終了時のみに入口バッファからコー
ティング領域内に次のキャリヤを送る。１つの好ましい
実施形態では、時間の長さが３００秒であり、この時間
は出口バッファが下流キャリヤを出口ホールド室１９６
に移動させるのに十分な時間となり、それによりキャリ
ヤがコーティング領域に積み上げられないようにする。
【００４９】出口ホールド１９６は入口ホールドの鏡像
（ミラー）である。ＰＬＣはバルブ２００を通してポン
プ１９８で真空状態にする。ＰＬＣは圧力センサー２０
２によって出口ホールド内の圧力をモニターし、バルブ
２０６によるライン１１０及びマスフローコントローラ
ー２０４からのプロセスガスの導入を制御する。
（ミラー）である。ＰＬＣはバルブ２００を通してポン
プ１９８で真空状態にする。ＰＬＣは圧力センサー２０
２によって出口ホールド内の圧力をモニターし、バルブ
２０６によるライン１１０及びマスフローコントローラ
ー２０４からのプロセスガスの導入を制御する。
【００５０】出口ホールド圧力が略コーティング領域圧
力、例えば５０ミリトールであることを圧力センサー２
０２が示し、キャリヤが出口バッファ内に存在すること
を出口バッファ１５２の光検出器が示すと、ＰＬＣは、
出口バッファと出口ホールド間のスリットバルブ２０８
を開け、出口ホールド及び出口バッファのコンベヤを動
かしてキャリヤを出口ホールドへ移送させる。この移送
が完了したことを出口ホールドの光検出器が判断した
ら、ＰＬＣは、出口ホールドの下流端でスリットバルブ
２０８及びスリットバルブ２１０を閉じる。その後、Ｐ
ＬＣはバルブ２００を絞ってプロセスガスを取り除き、
出口ホールドを１ミリトール以下あるいはその他幾つか
望ましい真空圧にする。
力、例えば５０ミリトールであることを圧力センサー２
０２が示し、キャリヤが出口バッファ内に存在すること
を出口バッファ１５２の光検出器が示すと、ＰＬＣは、
出口バッファと出口ホールド間のスリットバルブ２０８
を開け、出口ホールド及び出口バッファのコンベヤを動
かしてキャリヤを出口ホールドへ移送させる。この移送
が完了したことを出口ホールドの光検出器が判断した
ら、ＰＬＣは、出口ホールドの下流端でスリットバルブ
２０８及びスリットバルブ２１０を閉じる。その後、Ｐ
ＬＣはバルブ２００を絞ってプロセスガスを取り除き、
出口ホールドを１ミリトール以下あるいはその他幾つか
望ましい真空圧にする。
【００５１】出口ロック室２０８は出口ホールドから下
流側にある。スリットバルブ２１０を開ける前に、ＰＬ
Ｃは出口ロックをポンプ吸引して、出口ロック内部に対
する真空ポンプ２１２の使用を制御するスロットールバ
ルブ２１０で設定低圧以下の圧力にする。圧力センサー
２０２と出口ロックの圧力センサー２１４から、出口ホ
ールド圧力及び出口ロック圧力が略上記設定低圧力以下
であることをＰＬＣが判定したら、ＰＬＣはスリットバ
ルブ２１０を開け、出口ホールド及び出口ロックコンベ
ヤを動かしてキャリヤを出口ロックへ移動させる。この
時点で、ＰＬＣはスリットバルブ２１０及びスリットバ
ルブ２１６を閉じ、出口ロック圧力が周囲レベルに達し
たことを圧力センサー２１４が示すまでバルブ２１８を
絞ることによって乾燥ガスで出口ロックをガス抜きす
る。ＰＬＣが、出口ロックの周囲圧力条件と、キャリヤ
が出口ロック内にあることを検出すれば、ＰＬＣはスリ
ットバルブ２１６を開け、出口ロック及び第１度出口領
域２２０Ａのコンベヤを動かしてキャリヤを出口領域に
移動させる。出口領域の光検出器が、キャリヤの移送完
了を示したら、ＰＬＣはスリットバルブ２１６を閉じ、
出口ロック２０８を設定された低圧にポンプ吸引して戻
し、次のキャリヤを受ける。
流側にある。スリットバルブ２１０を開ける前に、ＰＬ
Ｃは出口ロックをポンプ吸引して、出口ロック内部に対
する真空ポンプ２１２の使用を制御するスロットールバ
ルブ２１０で設定低圧以下の圧力にする。圧力センサー
２０２と出口ロックの圧力センサー２１４から、出口ホ
ールド圧力及び出口ロック圧力が略上記設定低圧力以下
であることをＰＬＣが判定したら、ＰＬＣはスリットバ
ルブ２１０を開け、出口ホールド及び出口ロックコンベ
ヤを動かしてキャリヤを出口ロックへ移動させる。この
時点で、ＰＬＣはスリットバルブ２１０及びスリットバ
ルブ２１６を閉じ、出口ロック圧力が周囲レベルに達し
たことを圧力センサー２１４が示すまでバルブ２１８を
絞ることによって乾燥ガスで出口ロックをガス抜きす
る。ＰＬＣが、出口ロックの周囲圧力条件と、キャリヤ
が出口ロック内にあることを検出すれば、ＰＬＣはスリ
ットバルブ２１６を開け、出口ロック及び第１度出口領
域２２０Ａのコンベヤを動かしてキャリヤを出口領域に
移動させる。出口領域の光検出器が、キャリヤの移送完
了を示したら、ＰＬＣはスリットバルブ２１６を閉じ、
出口ロック２０８を設定された低圧にポンプ吸引して戻
し、次のキャリヤを受ける。
【００５２】出口領域２２０Ａ〜２２０Ｅの構造は、乾
燥領域４２Ａ〜４２Ｅの構造と同様である。それらの領
域は手動又は自動システムで最終領域２２０から取り除
き、今コーティングされたレンズがホルダー１６に出る
（図１）。
燥領域４２Ａ〜４２Ｅの構造と同様である。それらの領
域は手動又は自動システムで最終領域２２０から取り除
き、今コーティングされたレンズがホルダー１６に出る
（図１）。
【図１Ａ】本発明に係るレンズコーティングシステム及
び方法で使用するためのレンズ保持トレーの斜視図であ
る。
び方法で使用するためのレンズ保持トレーの斜視図であ
る。
【図１Ｂ】図１Ａにおける保持トレーの拡大斜視図であ
る。
る。
【図１Ｃ】図１Ｂのライン１Ｃ‐１Ｃに沿った断面図で
ある。
ある。
【図２】本発明の一実施形態に係るレンズコーティング
システム及び方法で使用するためのレンズトレーキャリ
ヤ及びスラグ（すなわちキャリヤ保持装置）の斜視図で
ある。
システム及び方法で使用するためのレンズトレーキャリ
ヤ及びスラグ（すなわちキャリヤ保持装置）の斜視図で
ある。
【図３】本発明の実施形態に係るレンズコーティングシ
ステムの図である。
ステムの図である。
【図４Ａ】本発明の実施形態に係るレンズコーティング
システムの部分斜視図である。
システムの部分斜視図である。
【図４Ｂ】図４Ａのライン４Ｂ−４Ｂに沿った断面図で
ある。
ある。
【図４Ｃ】本発明の実施形態に係るレンズコーティング
システムの部分斜視図である。
システムの部分斜視図である。
【図５Ａ】本発明の実施形態に係るレンズコーティング
システムの部分斜視図である。
システムの部分斜視図である。
【図５Ｂ】図５Ａで図示した一つの室とバルブの断面図
である。
である。
【図６Ａ】本発明の実施形態に係るレンズコーティング
システムの断面図である。
システムの断面図である。
【図６Ｂ】本発明の実施形態に係るレンズコーティング
システムのコーティング室で使用するための磁気装置の
内部磁気配置の平面図である。
システムのコーティング室で使用するための磁気装置の
内部磁気配置の平面図である。
４０ プラズマコーティングシステム ４２Ａ〜４２Ｅ サブ室（乾燥室） ５８ 一対の電極 ７０ 入口ホールド（室） ８６ スリットバルブ １２６ 第１コーティング領域（室） １２８ 第２コーティング領域（室） １９６ 出口ホールド（室）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｂ０５Ｃ 9/04 ４Ｋ０３０ // Ｂ０５Ｃ 9/04 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ Ｆターム(参考） 2K009 CC42 DD09 DD17 EE00 4D075 AC72 AC73 AC74 AC78 AC88 AC95 BB24Z BB44Y BB49Y BB54Y BB56Y BB70Y CA37 CA47 DA11 DA23 DB54 DC24 EB24 EB47 4F035 AA04 CA02 CA05 CB01 CB13 4F042 AA10 DA05 DB01 DE01 DE09 DF07 DF16 ED01 ED03 4F073 AA01 AA16 BA33 BB02 CA02 CA70 FA13 4K030 AA06 AA09 AA14 AA18 BA48 CA06 FA01 GA12 JA17 KA30 LA01
Claims (36)
- 【請求項１】 光学レンズの表面を処理するためのシス
テムであって、前記システムは、 第１入口ゲート及び第１出口ゲートを有する入口室であ
って、前記第１入口ゲート及び前記第１出口ゲートは、
閉鎖するとき前記入口室を密閉し、前記入口室は前記第
１入口ゲート及び前記第１出口ゲートの間に延びるコン
ベヤを有する、入口室と、 前記入口室と選択的に連通する第１負圧源と、 第２入口ゲート及び第２出口ゲートを有するコーティン
グ室であって、前記第２入口ゲート及び前記第２出口ゲ
ートは、閉鎖するとき前記コーティング室を密閉し、前
記コーティング室は中に配置された少なくとも１対の離
間した電極と、前記電極間で前記レンズを搬送するよう
に前記第２入口ゲート及び前記第２出口ゲートの間に延
びるコンベヤとを有する、コーティング室と、 プラズマガスを前記コーティング室に導入するために前
記コーティング室と連通するプラズマガス源と、 前記コーティング室と通じ第２負圧源と、 前記第２負圧源によって前記コーティング室内の所定圧
力が設定された時に、前記ガスのプラズマ雲が前記電極
間で得られるように、各前記電極に所定電位を印加する
ために前記電極に接続される電源と、 第３入口ゲート及び第３出口ゲートを有する出口室であ
って、前記第３入口ゲート及び前記第３出口ゲートは、
閉鎖するとき前記出口室を密閉し、前記出口室は前記第
３入口ゲート及び前記第３出口ゲートの間に延びるコン
ベヤを有する、出口室と、 前記出口室と選択的に連通する第３負圧源とを具備し、 前記入口室は、前記第１出口ゲート及び前記第２入口ゲ
ートを介して前記コーティング室と連通し、それにより
前記入口室コンベヤ及び前記コーティング室コンベヤ
は、前記レンズを前記入口室から前記コーティング室へ
送るように連通することと、 前記コーティング室は、前記第２出口ゲート及び前記第
３入口ゲートを介して前記出口室に連通し、それにより
前記コーティング室コンベヤ及び前記出口室コンベヤ
は、前記コーティング室から前記出口室へ送るように連
通することと、を特徴とする光学レンズの表面を処理す
るためのシステム。 - 【請求項２】 前記ガスはプラズマ重合可能なガスであ
ることを特徴とする請求項１に記載のシステム。 - 【請求項３】 前記入口室は、 入口ロック室と、 前記入口ロック室から上流にあり、前記第１出口ゲート
及び前記第２入口ゲートにより前記コーティング室に連
通する入口ホールド室と、 前記入口ホールド室及び前記入口ロック室の間に配置さ
れ、それにより前記入口ホールド室及び前記入口ロック
室は、その間のゲートを閉鎖したときに、互いに密閉さ
れるゲートとを具備し、 前記第１負圧源は前記入口ロック室及び前記入口ホール
ド室の各々に選択的に連通し、 前記システムは、前記入口ホールド室内に導入するため
に前記入口ホールド室と連通する前記プラズマガス源を
有することを特徴とする請求項１に記載のシステム。 - 【請求項４】 内部にガス抜き（ベント）ガスを導入す
るために前記入口ロック室と連通するガス抜き源を有す
ることを特徴とする請求項３に記載のシステム。 - 【請求項５】 内部にガス抜きガスを導入するために前
記入口ホールド室と連通するガス抜き源を有することを
特徴とする請求項３に記載のシステム。 - 【請求項６】 前記出口室は、 前記第２出口ゲート及び前記第３入口ゲートによって前
記コーティング室に連通する出口ホールド室と、 前記出口ホールド室から下流側の出口ロック室と、 前記出口ホールド室及び前記出口ロック室が、その間の
ゲートを閉じたときに互いに密閉されるように、前記出
口ロック室及び前記出口ホールド室の間に配置されたゲ
ートとを具備し、 前記第３負圧源は、前記出口ロック室及び前記出口ホー
ルド室の各々と選択的に連通することと、 前記システムは、プラズマガスを前記出口ホールド室内
に導入するために前記出口ホールド室と連通するプラズ
マガス源を有することと、を特徴とする請求項１に記載
のシステム。 - 【請求項７】 内部にガス抜きガスを導入するために前
記出口ロック室と連通するガス抜き源を有することを特
徴とする請求項６に記載のシステム。 - 【請求項８】 内部にガス抜きガスを導入するために前
記出口ホールド室と連通するガス抜き源を有することを
特徴とする請求項６に記載のシステム。 - 【請求項９】 前記入口室から上流側にあり、前記第１
入口ゲートによって前記入口室と連通する乾燥室を備
え、前記乾燥室は、前記乾燥室への入口及び前記第１入
口ゲートの間に延びるコンベヤと、前記乾燥室と連通
し、それにより所定の相対湿度を有するガスを前記乾燥
室の内部領域に供給するガス源と、を有することを特徴
とする請求項１に記載のシステム。 - 【請求項１０】 前記乾燥室は一連のタンデム配置され
たサブ室を具備することを特徴とする請求項９に記載の
システム。 - 【請求項１１】 前記入口室コンベヤ、前記コーティン
グ室コンベヤ、前記出口室コンベヤ、前記第１負圧源、
前記第２負圧源、前記第３負圧源、前記ガス源、前記第
１出口ゲート、前記第２入口ゲート、前記第２出口ゲー
ト及び前記第３入口ゲートと連動している制御システム
であって、 前記コーティング室内の前記所定圧力を維持するために
前記第２負圧源を作動し、 前記コーティング室内の前記ガスを維持するために前記
ガス源を作動し、 前記入口室が周囲圧力であり、前記第１出口ゲートが閉
鎖されると、前記レンズを前記入口室内に移動するため
に前記入口室コンベヤを作動し、 その後、前記第１入口ゲートが閉鎖しているとき、前記
第１出口ゲートに近接した前記入口室内の領域を前記所
定圧力にするために前記第１負圧源を作動し、 その後、前記第１出口ゲート及び前記第２入口ゲートを
開き、前記入口室コンベヤ及び前記コーティング室コン
ベヤを作動させて前記レンズを前記入口室から前記コー
ティング室内及び前記電極間に移動させ、 前記第３入口ゲートに近接した前記出口室内の領域を前
記所定圧力にするために前記第３負圧源を作動し、 その後、前記第２出口ゲート及び前記第３入口ゲートを
開き、前記コーティング室コンベヤ及び前記出口室コン
ベヤを作動させて前記レンズを前記コーティング室から
前記出口室に移動させ、 その後、前記第３入口ゲートを閉鎖するように構成され
た制御システム、を具備することを特徴とする請求項１
に記載のシステム。 - 【請求項１２】 前記コーティング室内にタンデム配置
の前記離間した複数対の電極を具備することを特徴とす
る請求項１に記載のシステム。 - 【請求項１３】 前記ガスを、前記離間した対の電極の
各々に近接した前記コーティング室内に導入するために
それぞれの前記プラズマガス源を有することを特徴とす
る請求項１２に記載のシステム。 - 【請求項１４】 前記離間した電極対の各々に近接した
前記コーティング室と連通するそれぞれ前記第２負圧源
を具備することを特徴とする請求項１２に記載のシステ
ム。 - 【請求項１５】 前記離間した電極から上流側の入口バ
ッファ領域と、前記離間した電極から下流側の出口バッ
ファ領域と、を具備することを特徴とする請求項１に記
載のシステム。 - 【請求項１６】 前記第１出口ゲート及び第２入口ゲー
トが単一ゲートからら成り、前記第２出口ゲート及び第
３入口ゲートが単一ゲートから成ることを特徴とする請
求項１に記載のシステム。 - 【請求項１７】 光学レンズにポリマーコーティングを
付着するためのシステムであって、前記システムは、 第１入口ゲート及び第１出口ゲートを有する入口室であ
って、前記第１入口ゲート及び前記第１出口ゲートは、
前記ゲートを閉鎖するとき前記入口室を密閉し、前記入
口室は前記第１入口ゲート及び前記第１出口ゲートの間
に延びるコンベヤを有する、入口室と、 前記入口室と選択的に連通する第１負圧源と、 プラズマ重合可能なガスを前記第１出口ゲートに近接し
た前記入口室の一部に導入するために前記入口室と選択
的に連通するプラズマ重合可能な第１ガス源と、 第２入口ゲート及び第２出口ゲートを有するコーティン
グ室であって、前記第２入口ゲート及び前記第２出口ゲ
ートは、閉鎖するとき前記コーティング室を密閉し、前
記コーティング室は中に配置された１対の離間した電極
と、前記電極間で前記レンズのキャリヤを搬送するよう
に前記第２入口ゲート及び前記第２出口ゲートの間に延
びるコンベヤとを有する、コーティング室と、 プラズマ重合可能なガスを前記コーティング室に導入す
るために前記コーティング室と連通するプラズマ重合可
能な第２ガス源と、 前記コーティング室と連通する第２負圧源と、 前記第２負圧源によって前記コーティング室内に所定圧
力が設定された時に前記ガスのプラズマ重合雲が前記電
極間で得られるように、各前記電極に所定電位を印加す
るために前記電極に接続される電源と、 第３入口ゲート及び第３出口ゲートを有する出口室であ
って、前記第３入口ゲート及び前記第３出口ゲートは、
閉鎖するとき前記出口室を密閉し、前記出口室は前記第
３入口ゲート及び前記第３出口ゲートの間に延びるコン
ベヤを有する、出口室と、 前記出口室と選択的に連通する第３負圧源とを具備し、 前記入口室は、前記第１出口ゲート及び前記第２入口ゲ
ートを介して前記コーティング室と連通し、それにより
前記入口室コンベヤ及び前記コーティング室コンベヤ
は、前記レンズを前記入口室から前記コーティング室へ
送るように連通することと、 前記コーティング室は、前記第２出口ゲート及び前記第
３入口ゲートを介して前記出口室に連通し、それにより
前記コーティング室コンベヤ及び前記出口室コンベヤ
は、前記コーティング室から前記出口室へ送るように連
通することと、 前記入口室コンベヤ、前記コーティング室コンベヤ、前
記出口室コンベヤ、前記第１負圧源、前記第２負圧源、
前記第３負圧源、前記第１ガス源、前記第２ガス源、前
記第３ガス源、前記第１出口ゲート、前記第２入口ゲー
ト、前記第２出口ゲート及び前記第３入口ゲートと連動
する制御システムであって、 前記コーティング室内の前記所定圧力を維持するために
前記第２負圧源を作動し、 前記コーティング室内の前記ガスを維持するために前記
第２ガス源を作動し、 前記入口室が周囲圧力であり、前記第１出口ゲートが閉
鎖されると、前記レンズキャリヤを前記入口室内に移動
するために前記入口室コンベヤを作動し、 その後、前記第１入口ゲートを閉鎖すると、前記第１出
口ゲートに近接した前記領域を前記ガスで満たすため、
及び前記入口室に近接した部分を前記所定圧力にするた
めに、前記第１負圧源及び前記第１ガス源を作動し、 その後、前記第１出口ゲート及び前記第２入口ゲートを
開き、前記入口室コンベヤ及び前記コーティング室コン
ベヤを作動させて前記レンズキャリヤを前記入口室から
前記コーティング室内及び前記電極間に移動させ、 前記出口室に近接した部分を前記ガスで満たすために、
及び前記出口室に近接した部分を前記所定圧力にするた
めに、前記第３負圧源及び前記第３ガス源を作動し、 その後、前記第２出口ゲート及び前記第３入口ゲートを
開き、前記コーティング室コンベヤ及び前記出口室コン
ベヤを作動させて前記レンズキャリヤを前記コーティン
グ室から前記出口室に移動させ、 その後、前記第３入口ゲートを閉鎖するように構成され
た制御システム、を具備することを特徴とする光学レン
ズにポリマーコーティングを付着するためのシステム。 - 【請求項１８】 中にガス抜きガスを導入するために前
記出口室と連通するガス抜き源を有し、前記制御システ
ムは、前記第３入口ゲートを閉鎖した後、前記ガス抜き
ガスを前記出口室に導入して前記キャリヤが配置される
前記第３出口室の一部を周囲圧力にすることを特徴とす
る請求項１７に記載のシステム。 - 【請求項１９】 光学レンズにポリマーコーティングを
付着するためのシステムであって、前記システムは、 入口に第１ゲートを有する入口ロック室と、 前記入口ロック及び前記入口ホールドの間に配置された
第２ゲートを有し、前記第１ゲート及び前記第２ゲート
は閉鎖したときに前記入口ロック室を密閉する入口ホー
ルド室と、 前記入口ロック室に配置され、前記第１ゲート及び前記
第２ゲートの間に延びる第１コンベヤと、 前記入口ホールド室との間に配置された第３ゲートを有
し、前記第２ゲート及び前記第３ゲートは閉鎖するとき
前記入口ホールド室を密閉する、入口バッファ室と、 前記入口ホールド室に配置され、前記第２ゲート及び前
記第３ゲートの間に延びる第２コンベヤと、 前記入口バッファ室と開放的に連通するコーティング室
と、 前記コーティング室と開放的に連通する出口バッファ室
と、 前記出口バッファとの間に配置された第４ゲートと、出
口に第５ゲートを有しており、閉鎖したときに前記第４
ゲート及び前記第５ゲートを密閉する出口室と、 前記入口バッファ室、前記コーティング室及び前記バッ
ファ室に配置され、前記第３ゲート及び前記第４ゲート
の間に延びる第３コンベヤと、 前記第３コンベヤが電極間に前記レンズのキャリヤを搬
送するように、前記コーティング室に配置された離間し
た１対の電極と、 前記コーティング室負圧源によって前記第２室内に第１
所定圧力を設定した時に、前記ガスのプラズマ重合雲が
前記電極間で得られるように、各前記電極に所定電位を
印加するために前記電極に接続される電源と、 前記出口室に配置され、前記第４ゲート及び前記第５ゲ
ートの間に延びる第４コンベヤと、 前記入口ロック室、前記入口ホールド室、前記入口バッ
ファ室、前記コーティング室、前記出口バッファ室及び
前記出口室の各々と連通するそれぞれの負圧源と、 前記重合可能なガスを中に導入するため、前記入口ホー
ルド室、前記入口バッファ室、前記コーティング室、前
記出口バッファ室及び前記出口室の各々と選択的に連通
する、それぞれプラズマ重合可能なガス源と、 ガス抜きガスを中に導入するため前記入口ロック室と連
通する第１ガス抜き源と、 ガス抜きガスを中に導入するため前記出口ホールド室と
連通する第２ガス抜き源とを具備し、 前記第１コンベヤ及び前記第２コンベヤが前記レンズキ
ャリヤを前記入口ロック室から前記入口ホールド室に通
すために連通するように、前記入口ロック室が前記第２
ゲートを介して前記入口ホールド室に連通することと、 前記第２コンベヤ及び前記第３コンベヤが前記レンズキ
ャリヤを前記入口ホールド室から前記入口バッファ室に
通すために連通するように、前記入口ホールド室が前記
第３ゲートを介して前記入口バッファ室に連通すること
と、 前記第３コンベヤ及び前記第４コンベヤが前記レンズキ
ャリヤを前記入口バッファ室から前記出口室に連通する
ために連通するように、前記出口バッファ室が前記第４
ゲートを介して前記出口室に連通することと、を特徴と
する光学レンズにポリマーコーティングを付着するため
のシステム。 - 【請求項２０】 前記第１、第２、第３及び第４コンベ
ヤ、前記それぞれの負圧源、前記それぞれのプラズマ重
合可能なガス源、前記第１、第２、第３及び第５ゲート
及び前記第１及び第２ガス抜き源と連動している制御シ
ステムであって、 内部の前記第１所定圧力を維持するために前記入口バッ
ファ室、前記コーティング室及び前記出口バッファ室と
連通する前記それぞれの負圧源を作動し、 前記入口バッファ室、前記コーティング室及び前記出口
バッファ室内のプラズマ重合可能なガスを維持するため
に前記それぞれのプラズマ重合可能なガス源を作動し、 前記入口ロック室が周囲圧力になっており、前記第２ゲ
ートが閉鎖しているとき、前記レンズキャリヤを前記入
口ロック室に送るように前記第１コンベヤを作動し、 その後、前記第１ゲート及び第２ゲートが閉鎖している
とき、前記入口ロックを第２所定圧力にするように前記
それぞれの負圧源を作動し、 前記入口ホールド室を前記第２所定圧力にするために前
記入口ホールド室と連通する前記それぞれの負圧源を作
動し、 その後、前記入口ロック室及び前記入口ホールド室が前
記第２所定圧力になっているとき、前記キャリヤを前記
入口ロック室から前記入口ホールド室に移動させるため
前記第２ゲートを開き、且つ前記第１コンベヤ及び前記
第２コンベヤを作動し、 その後、前記入口ホールド室に前記重合可能なガスを満
たすために、前記第２ゲートを閉鎖し、且つ前記入口ホ
ールドと連通するプラズマ重合可能な前記それぞれのガ
ス源を作動し、 その後、前記入口ホールド室が前記第１所定圧力になっ
たとき、前記レンズキャリヤを前記入口ホールド室から
前記入口バッファ室へ移動させるため前記第３ゲートを
開き、且つ前記第２コンベヤ及び前記第３コンベヤを作
動し、 その後、前記電極間の前記レンズキャリヤを前記出口バ
ッファへ移動させるため前記第３コンベヤを作動し、 前記レンズキャリヤを前記入口ホールド室から前記入口
バッファ室へ移動させた後、前記ガス抜きガスを前記入
口ホールド室へ導入するため前記第３ゲートを閉鎖し、
且つ前記第１ガス抜き源を作動し、 前記第４ゲートに近接した前記出口室の一部に前記重合
可能なガスを満たし前記出口室部分を前記第１所定圧力
にするため、前記第４ゲートを閉鎖し、且つ前記それぞ
れの負圧源及び前記それぞれのプラズマ重合可能なガス
源を作動し、 前記レンズキャリヤが前記出口バッファ室にあれば、前
記出口室部分を前記重合可能なガスで満たし、前記バッ
ファ室及び前記出口室部分が前記第１所定圧力になった
後に、前記レンズキャリヤを前記出口バッファ室から前
記出口室へ移動させるため前記第４ゲートを開くと共
に、前記第３コンベヤ及び第４コンベヤを作動し、 その後、前記ガス抜きガスを、前記レンズを配置する前
記出口室の一部に導入するため前記第４ゲートを閉鎖
し、且つ前記第２ガス抜き源を作動する、 ように構成された制御システムを具備することを特徴と
する請求項１９に記載のシステム。 - 【請求項２１】 前記入口ロック室から上流側にあり、
前記第１ゲートにより前記入口室と通じ、入口と、前記
ガス源が所定の相対湿度を有するガスを内部領域に供給
するように連通するガス源との間に延びるコンベヤを備
えた乾燥室を具備することを特徴とする請求項２０に記
載のシステム。 - 【請求項２２】 前記乾燥室は一連のタンデム配置のサ
ブ室を有することを特徴とする請求項２１に記載のシス
テム。 - 【請求項２３】 前記コーティング室にタンデム配置さ
れた複数の対の前記離間した電極を具備することを特徴
とする請求項１９に記載のシステム。 - 【請求項２４】 前記出口室は、 前記第４ゲートによって前記出口バッファ室と連通する
出口ホールド室と、 前記出口ホールド室から下流側の出口ロック室と、 前記制御システムと連通し、閉鎖したときに前記出口ホ
ールド室及び前記出口ロック室が互いに密閉されるよう
に前記出口ロック室及び前記出口ホールド室間に配置さ
れた第６ゲートとを具備し、 前記システムは、前記出口ロック室及び前記出口ホール
ド室の各々に選択的に連通する前記それぞれの負圧源を
有し、 前記システムは、プラズマ重合可能なガスを前記出口ホ
ールド室内に導入するため前記出口ホールド室と連通す
る前記それぞれのプラズマ重合可能なガス源を有し、 前記第２ガス抜き源は、前記出口ロック室と連通し、 前記制御システムは、 前記レンズキャリヤを前記出口バッファ室から前記出口
ホールド室へ移動し、且つ前記第４ゲートを閉鎖した後
に、前記重合可能なガスを前記出口ホールド室から除去
するため前記それぞれの負圧源を作動し、 前記出口ロック室と連通する前記それぞれの負圧源を作
動し、 その後、前記レンズキャリヤが前記出口ホールド室にあ
り、前記重合可能なガスが前記出口ホールド室から除去
され、前記出口ロック室が同じ圧力になれば、前記レン
ズキャリヤを前記出口ホールド室から前記ロック室に移
動させるために前記第６ゲートを開き、且つ前記第４コ
ンベヤを作動し、 その後、前記第６ゲートを閉め、 その後、前記ガス抜きガスを前記ロック室内に導入し前
記出口ロック室を周囲圧力にするため前記第２ガス抜き
源を作動する、ように構成されることを特徴とする請求
項２０に記載のシステム。 - 【請求項２５】 光学レンズの表面を処理する方法であ
って、前記方法は、 （Ａ）前記光学レンズを用意する工程と、 （Ｂ）中に配置された１対の離間電極を有するコーティ
ング室を設ける工程と、 （Ｃ）プラズマガスを前記コーティング室に保持する工
程と、 （Ｄ）前記ガスのプラズマ雲を前記電極間に生成するよ
うに、前記コーティング室の第１所定圧力及び各前記電
極の所定電位を保持する工程と、 （Ｅ）前記コーティングから上流側に入口室を設ける工
程と、 （Ｆ）前記第１レンズを前記入口室内に移動させる工程
と、 （Ｇ）前記ガスを前記コーティング室に近接した前記入
口室の少なくとも一部に導入し、前記入口室の少なくと
も一部を前記第１所定圧力にする工程と、 （Ｈ）前記入口室を前記コーティング室と連通させる工
程と、 （Ｉ）前記第１レンズを前記入口室から前記コーティン
グ室へ、そして前記プラズマ雲を通して移動させる工程
と、 （Ｊ）出口室を前記コーティング室から下流側に設ける
工程と、 （Ｋ）前記ガスを前記コーティング室に近接した前記出
口室の少なくとも一部に導入し、前記出口室の少なくと
も一部を前記第１所定圧力にする工程と、 （Ｌ）前記第１レンズを前記コーティング室から前記出
口室へ移動させる工程と、を有することを特徴とする光
学レンズの表面を処理する方法。 - 【請求項２６】 前記ガスはプラズマ重合可能なガスで
あることを特徴とする請求項２５に記載の方法。 - 【請求項２７】 前記第１レンズを前記入口室から前記
コーティング室へ、そして前記プラズマ雲を通して移動
させる工程（Ｉ）に続いて、前記入口室を前記コーティ
ング室から密閉し、前記入口室の少なくとも一部を周囲
圧力にし、前記第２レンズを前記入口室内に入れ、その
後、前記第２レンズに対して工程（Ｇ）ないし（Ｌ）を
実施することを特徴とする請求項２５に記載の方法。 - 【請求項２８】 工程（Ｅ）は、入口ロック室及び入口
ホールド室を有する入口室を設け、前記入口ホールド室
は前記コーティング室と連通し、前記入口ロック室は前
記入口ホールド室から上流側にあり、該入口ホールド室
と連通する工程を有し、 工程（Ｆ）は、前記第１レンズを前記入口ロック室内へ
移動させる工程を有し、 工程（Ｆ）に続いて、 （Ｍ）前記入口ロック室及び前記入口ホールド室を第２
所定圧力にする工程と、 （Ｎ）前記入口ロック室を前記入口ホールド室と連通さ
せ、前記レンズを前記入口ロック室から前記入口ホール
ド室に移動させる工程と、 （Ｏ）前記入口ホールド室を前記入口ロック室から密閉
する工程と、を有し工程（Ｇ）は、前記ガスを前記入口
ホールド室内に導入し、前記入口ホールド室を前記第１
所定圧力にする工程を有し、 工程（Ｈ）は、前記入口ホールド室を前記コーティング
室と連通させる工程を有し、 工程（Ｉ）は、前記第１レンズを前記入口ホールド室か
ら前記コーティング室内に、そして前記プラズマ雲を通
して移動させる工程を有することを特徴とする請求項２
５に記載の方法。 - 【請求項２９】 前記第１所定圧力及び前記第２所定圧
力が等しくないことを特徴とする請求項２８に記載の方
法。 - 【請求項３０】 工程（Ｂ）は、前記コーティング室に
タンデム配置の複数の対の前記離間電極を設ける工程を
有することを特徴とする請求項２５に記載の方法。 - 【請求項３１】 工程（Ｊ）は、出口ホールド室及び出
口ロック室を有する前記出口室を設け、前記出口ホール
ド室は前記コーティング室と連通し、前記出口ロック室
は前記出口ホールド室から下流側にあり、該出口ホール
ド室と連通する工程を有し、 工程（Ｋ）は、前記ガスを前記出口ホールド室内に導入
し、前記出口ホールド室を前記第１所定圧力にする工程
を有し、 工程（Ｌ）は、前記出口ホールド室を前記コーティング
室と連通させ、前記第１レンズを前記出口ホールド室内
に移動させる工程を有し、 工程（Ｌ）に続いて、 （Ｍ）前記ガスを前記出口ホールド室から排出する工程
と、 （Ｎ）前記出口ロック室を前記出口ホールド室の圧力に
等しい圧力にする工程と、 （Ｏ）前記出口ホールド室を前記出口ロック室と連通さ
せ、前記レンズを前記出口ホールド室から前記出口ロッ
ク室内に移動させる工程と、 （Ｐ）前記出口ロック室を前記出口ホールド室から密閉
する工程と、を有することを特徴とする請求項２５に記
載の方法。 - 【請求項３２】 工程（Ｌ）において前記第１レンズを
前記出口室内に移動させ、前記第２レンズを前記入口室
内に移動させる工程に続いて、前記出口室を前記コーテ
ィング室から密閉し、前記第１レンズが配置される前記
出口室の一部を周囲圧力にし、前記コーティング室を前
記入口室にまで開き、前記第２レンズを前記コーティン
グ室内に送り込む工程を有することを特徴とする請求項
２５に記載の方法。 - 【請求項３３】 光学レンズにポリマーコーティングを
付着するための方法であって、前記方法は、 （Ａ）前記光学レンズを複数のキャリヤに用意する工程
と、 （Ｂ）中に配置された複数の離間電極対を有するコーテ
ィング室を設ける工程と、 （Ｃ）プラズマ重合可能なガスを前記コーティング室に
保持する工程と、 （Ｄ）前記ガスのプラズマ重合雲を各前記電極対の前記
電極間に生成するように、前記コーティング室の第１所
定圧力及び各前記電極の所定電位を保持する工程と、 （Ｅ）前記コーティングから上流側に入口ホールド室を
設ける工程と、 （Ｆ）前記入口ホールド室から上流側に入口ロック室を
設ける工程と、 （Ｇ）第１前記キャリヤを前記入口ロック室内に移動さ
せる工程と、 （Ｈ）前記入口ロック室を密閉し、その後、前記入口ロ
ック室を第２所定圧力にする工程と、 （Ｉ）前記入口ホールド室を前記第２所定圧力にする工
程と、 （Ｊ）前記入口ホールド室を前記入口ロック室まで通じ
させ、前記第１キャリヤを前記入口ロック室から前記入
口ホールド室まで移動させる工程と、 （Ｋ）工程（Ｊ）に続いて、前記入口ホールド室を前記
入口ロック室から密閉し、前記ガスを前記入口ホールド
室内に導入し、前記入口ホールド室を前記第１所定圧力
にする工程と、 （Ｌ）工程（Ｊ）に続いて、前記入口ロック室を周囲圧
力にし、第２前記キャリヤを前記入口ロック内に送り込
み、前記第２キャリヤに関し、また所望数の後続キャリ
ヤのために工程（Ｈ）から開始する前記方法を繰り返す
工程と、 （Ｍ）工程（Ｋ）に続いて、前記コーティング室を前記
入口ホールド室に通じさせ、前記第１キャリヤを前記コ
ーティング室内に、そして前記プラズマ雲を通して移動
させる工程と、 （Ｎ）工程（Ｍ）において前記第１キャリヤを前記入口
ホールド室から取り除いた後、前記入口ホールド室を前
記コーティング室及び前記入口ロック室から密閉し、前
記第２キャリヤに対し工程（Ｉ）を繰り返す工程と、 （Ｏ）前記コーティング室から下流側に出口室を設ける
工程と、 （Ｐ）前記ガスを前記コーティング室に近接した前記出
口室の少なくとも一部に導入し、前記出口室の前記少な
くとも一部を前記所定圧力にする工程と、 （Ｑ）前記第１キャリヤを前記コーティング室から前記
出口室へ移動させる工程と、を有することを特徴とする
光学レンズにポリマーコーティングを付着するための方
法。 - 【請求項３４】 光学レンズの表面を処理するためのシ
ステムであって、前記システムは、 第１入口ゲート及び第１出口ゲートを有する入口室であ
って、前記第１入口ゲート及び前記第１出口ゲートは閉
鎖したとき前記入口室を密閉し、前記入口室は前記レン
ズを前記第１入口ゲート及び前記第１出口ゲート間に搬
送するための手段を有する入口室と、 負圧を前記入口室に選択的にかける手段と、 閉鎖したときに前記コーティング室を密閉する第２入口
ゲート及び第２出口ゲートを有するコーティング室と、 プラズマガスを前記コーティング室内に導入するための
手段と、 負圧を前記コーティング室にかける手段と、 前記コーティング室に前記ガスのプラズマ雲を維持する
ための手段と、 前記レンズを前記プラズマ雲に搬送するための手段と、 第３入口ゲート及び第３出口ゲートを有する出口室であ
って、前記第３入口ゲート及び前記第３出口ゲートは閉
鎖したとき前記出口室を密閉し、前記出口室は前記レン
ズを前記第３入口ゲート及び前記第３出口ゲート間に搬
送するための手段を有する出口室と、 負圧を前記出口室に選択的にかける手段とを具備し、 前記入口室は、前記第１出口ゲート及び前記第２入口ゲ
ートを介して前記コーティング室と連通し、それにより
前記入口室搬送手段及び前記コーティング室搬送手段
は、前記レンズを前記入口室から前記コーティング室へ
送るように連通し、 前記コーティング室は、前記第２出口ゲート及び前記第
３入口ゲートを介して前記出口室に連通し、それにより
前記コーティング室搬送手段と前記出口室搬送手段は、
前記コーティング室から前記出口室へ送るように連通す
ることを特徴とする光学レンズの表面を処理するための
システム。 - 【請求項３５】 光学レンズの表面を処理するための連
続方法であって、前記方法は、 （Ａ）前記光学レンズをバッチ内に設ける工程と、 （Ｂ）中に配置された１対の離間電極を有するコーティ
ング室を設ける工程と、 （Ｃ）プラズマガスを前記コーティング室に維持する工
程とを有し、 前記プラズマガスを前記バッチ間の前記コーティング室
内に連続的に維持し、前記プラズマガスをプロセスガス
含有酸素から生成することを特徴とする光学レンズの表
面を処理するための連続方法。 - 【請求項３６】 光学レンズの表面を処理するためのシ
ステムであって、 入口室と、 前記入口室から下流側にあり、中に配置された１対の離
間電極を有するコーティング室と、 前記コーティング室から下流側の出口室と、 前記電極間の前記レンズを搬送するように前記入口室、
前記コーティング室及び前記出口室を通して延びるコン
ベヤと、 プラズマガスを前記コーティング室内に導入するために
前記コーティング室と連通するプラズマガス源と、 前記入口室、前記コーティング室及び前記出口室と連通
する負圧源と、 前記ガス源による前記コーティング室への前記ガスの導
入時で、前記負圧源による前記コーティング室への所定
圧力及び各前記電極の所定電位の設定時に、プラズマ雲
が前記電極間に生成されるように、前記電極に接続され
る電源と、 前記負圧源、前記入口室、前記コーティング室、前記出
口室及び前記コンベヤと連通し、前記レンズを前記コン
ベヤにより各前記室に移動させ、前記入口室を前記コー
ティングから及び前記出口室を前記コーティング室から
選択的に密閉し、そして前記入口室及び前記出口室を選
択的に加圧及び減圧するように構成された制御システム
とを具備することを特徴とする光学レンズの表面を処理
するためのシステム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US22594000P | 2000-08-17 | 2000-08-17 | |
| US60/225940 | 2000-08-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002194551A true JP2002194551A (ja) | 2002-07-10 |
| JP4907796B2 JP4907796B2 (ja) | 2012-04-04 |
Family
ID=22846899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001247138A Expired - Lifetime JP4907796B2 (ja) | 2000-08-17 | 2001-08-16 | レンズプラズマコーティングシステム |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6881269B2 (ja) |
| EP (1) | EP1180429B1 (ja) |
| JP (1) | JP4907796B2 (ja) |
| AT (1) | ATE344130T1 (ja) |
| DE (1) | DE60124185T2 (ja) |
Families Citing this family (40)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1221526A1 (de) * | 2001-01-09 | 2002-07-10 | Emil BÄCHLI | Verfahren zur Herstellung von wärmeisolierenden Bau- und/oder Lichtelementen sowie Einrichtung zur Durchführung desselben |
| US7250197B2 (en) | 2003-08-25 | 2007-07-31 | Bausch & Lomb Incorporated | Plasma treatment of contact lens and IOL |
| US20060004165A1 (en) | 2004-06-30 | 2006-01-05 | Phelan John C | Silicone hydrogels with lathability at room temperature |
| CA2630854C (en) * | 2005-12-14 | 2016-01-26 | Novartis Ag | Method for preparing silicone hydrogels |
| US20080127638A1 (en) * | 2006-12-01 | 2008-06-05 | Marius Vaarkamp | Emission Treatment Systems and Methods |
| US8800268B2 (en) * | 2006-12-01 | 2014-08-12 | Basf Corporation | Zone coated filter, emission treatment systems and methods |
| TWI388371B (zh) * | 2007-03-16 | 2013-03-11 | Canon Machinery Inc | 極低氧濃度氣體產生裝置、處理系統、薄膜堆積方法以及惰性氣體 |
| US9863297B2 (en) * | 2007-12-12 | 2018-01-09 | Basf Corporation | Emission treatment system |
| US9993771B2 (en) | 2007-12-12 | 2018-06-12 | Basf Corporation | Emission treatment catalysts, systems and methods |
| CA2739102C (en) * | 2008-11-13 | 2016-06-21 | Novartis Ag | Silicone hydrogel materials with chemically bound wetting agents |
| RU2524946C2 (ru) * | 2008-11-13 | 2014-08-10 | Новартис Аг | Сополимеры полисилоксана с гидрофильными полимерными концевыми цепочками |
| WO2010080382A1 (en) | 2008-12-18 | 2010-07-15 | Novartis Ag | Method of making an injection molded ophthalmic lens mold and of making an ophthalmic lens |
| HUE039327T2 (hu) * | 2008-12-18 | 2018-12-28 | Novartis Ag | Szerszám és eljárás szemészeti lencsék gyártására |
| US8807076B2 (en) * | 2010-03-12 | 2014-08-19 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Apparatus for vapor phase processing ophthalmic devices |
| TW201137143A (en) * | 2010-04-28 | 2011-11-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Sputtering system |
| CN105601930B (zh) | 2010-07-30 | 2018-09-18 | 诺华股份有限公司 | 两亲性聚硅氧烷预聚物及其用途 |
| KR101565220B1 (ko) | 2010-10-06 | 2015-11-02 | 노파르티스 아게 | 수-가공성 실리콘-함유 예비중합체 및 그의 용도 |
| US8835525B2 (en) | 2010-10-06 | 2014-09-16 | Novartis Ag | Chain-extended polysiloxane crosslinkers with dangling hydrophilic polymer chains |
| CA2813469C (en) | 2010-10-06 | 2016-01-12 | Novartis Ag | Polymerizable chain-extended polysiloxanes with pendant hydrophilic groups |
| US9156213B2 (en) | 2010-12-01 | 2015-10-13 | Novartis Ag | Atmospheric plasma coating for ophthalmic devices |
| SG190810A1 (en) * | 2010-12-16 | 2013-07-31 | Novartis Ag | Method and apparatus for transferring objects between two consecutive processing stations being operated with different cycle speeds |
| MY164738A (en) | 2011-11-29 | 2018-01-30 | Novartis Ag | Method of treating a lens forming surface of at least one mold half for molding ophthalmic lenses |
| WO2016145204A1 (en) | 2015-03-11 | 2016-09-15 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Mesh size control of lubrication in gemini hydrogels |
| US10324233B2 (en) | 2015-09-04 | 2019-06-18 | Novartis Ag | Soft silicone medical devices with durable lubricious coatings thereon |
| US10550469B2 (en) * | 2015-09-04 | 2020-02-04 | Lam Research Corporation | Plasma excitation for spatial atomic layer deposition (ALD) reactors |
| JP6592189B2 (ja) | 2015-09-04 | 2019-10-16 | ノバルティス アーゲー | その上に耐久性潤滑性コーティングを有するコンタクトレンズを製造するための方法 |
| US11896203B2 (en) | 2015-09-07 | 2024-02-13 | Plasmatica Ltd. | Methods and systems for providing plasma treatments to optical surfaces |
| US11246480B2 (en) | 2015-09-07 | 2022-02-15 | Plasmatica Ltd. | Preventing fog on a medical device viewport |
| US11896204B2 (en) | 2015-09-07 | 2024-02-13 | Plasmatica Ltd. | Methods and systems for providing plasma treatments to optical surfaces |
| MY196736A (en) | 2015-12-03 | 2023-05-03 | Alcon Inc | Contact lens packaging solutions |
| EP3390026A1 (en) | 2015-12-15 | 2018-10-24 | Novartis AG | Method for producing contact lenses with a lubricious surface |
| SG11201900640UA (en) | 2016-09-20 | 2019-04-29 | Novartis Ag | Process for producing contact lenses with durable lubricious coatings thereon |
| HUE053839T2 (hu) | 2016-10-31 | 2021-07-28 | Alcon Inc | Eljárás felületi bevonattal ellátott, viselési kényelemmel rendelkezõ kontaktlencsék elõállítására |
| CN106553792B (zh) * | 2016-12-07 | 2018-08-21 | 江苏大学 | 一种全自动镜片镜架分离装置 |
| US10809181B2 (en) | 2017-08-24 | 2020-10-20 | Alcon Inc. | Method and apparatus for determining a coefficient of friction at a test site on a surface of a contact lens |
| CN117202525A (zh) * | 2019-01-04 | 2023-12-08 | 捷普有限公司 | 用于在电路板上提供底部填充物的设备、系统和方法 |
| US20210132411A1 (en) | 2019-11-04 | 2021-05-06 | Alcon Inc. | Contact lenses with surfaces having different softness |
| US20220032564A1 (en) | 2020-07-28 | 2022-02-03 | Alcon Inc. | Contact lenses with softer lens surfaces |
| AU2022260712A1 (en) * | 2021-04-22 | 2023-11-30 | Plasmatica Ltd. | Methods and systems for providing plasma treatments to optical surfaces |
| WO2024038390A1 (en) | 2022-08-17 | 2024-02-22 | Alcon Inc. | A contact lens with a hydrogel coating thereon |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6063387A (ja) * | 1983-09-14 | 1985-04-11 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
| JPS6380409A (ja) * | 1986-09-22 | 1988-04-11 | セイコーエプソン株式会社 | 真空乾燥装置 |
| JPH07281006A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-10-27 | Leybold Ag | レンズをコーティングする方法および装置 |
| JPH09117713A (ja) * | 1995-08-16 | 1997-05-06 | Ciba Geigy Ag | 気体雰囲気を用いる処理方法および装置 |
| WO1997037051A1 (fr) * | 1996-04-01 | 1997-10-09 | Toray Industries, Inc. | Procede de fabrication d'un substrat a couche mince et dispositif de fabrication |
| JPH11186363A (ja) * | 1997-12-24 | 1999-07-09 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体製造装置 |
| JP2000164516A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-16 | Shibaura Mechatronics Corp | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Family Cites Families (42)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2936222A (en) | 1958-02-05 | 1960-05-10 | Rollin E Stevens | Covered wire triangles for heating crucibles in chemical analysis |
| US3070573A (en) | 1958-08-18 | 1962-12-25 | Dow Corning | Method of grafting olefins onto organosilicon compounds by the use of ozone |
| US3008920A (en) | 1959-04-27 | 1961-11-14 | Dow Chemical Co | Method of inhibiting homopolymerization in graft copolymers with copper salts |
| US3854982A (en) | 1972-05-12 | 1974-12-17 | Hydroplastics Inc | Method for preparing hydrophilic polymer grafts including irradiation |
| US4032440A (en) | 1975-11-18 | 1977-06-28 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Interior | Semipermeable membrane |
| US4137550A (en) | 1977-11-18 | 1979-01-30 | Rca Corporation | Video disc with a dielectric layer formed from acetylene and nitrogen |
| US4312575A (en) | 1979-09-18 | 1982-01-26 | Peyman Gholam A | Soft corneal contact lens with tightly cross-linked polymer coating and method of making same |
| US4589964A (en) | 1980-10-08 | 1986-05-20 | American Hospital Supply Corporation | Process for graft copolymerization of a pre-formed substrate |
| US4311573A (en) | 1980-10-08 | 1982-01-19 | American Hospital Supply Corporation | Process for graft copolymerization of a pre-formed substrate |
| US4553975A (en) | 1981-08-12 | 1985-11-19 | Ciba Geigy Corporation | Tinted contact lenses and a method for their preparation |
| US4468229A (en) | 1981-08-12 | 1984-08-28 | Ciba-Geigy Corporation | Tinted contact lenses and a method for their preparation with reactive dyes |
| US4559059A (en) | 1981-08-12 | 1985-12-17 | Ciba-Geigy Corporation | Tinted contact lenses and a method for their preparation |
| US4692347A (en) | 1983-07-07 | 1987-09-08 | The Curators Of The University Of Missouri | Method of interiorly coating tubing |
| US4501805A (en) | 1983-12-22 | 1985-02-26 | Union Carbide Corporation | Galvanic cell having a saturated fluorocarbon plasma-treated sealing gasket |
| US4503133A (en) | 1983-12-22 | 1985-03-05 | Union Carbide Corporation | Leak resistant galvanic cell and process for the production thereof |
| JPS60163901A (ja) | 1984-02-04 | 1985-08-26 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | プラズマ重合処理方法 |
| US4749457A (en) | 1984-02-21 | 1988-06-07 | The Curators Of The University Of Missouri | Precipitation of colloidal materials from aqueous systems by electrochemical release of metallic flocculating agents and dynamic bimetallic cell for use therein |
| DE3415012A1 (de) | 1984-04-19 | 1986-01-09 | BMP Plasmatechnologie GmbH, 8011 Heimstetten | Verfahren und vorrichtung zum kontinuierlichen bearbeiten von substraten mit niederdruck-plasma |
| US4664936A (en) | 1985-01-30 | 1987-05-12 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Aromatic polyamide fiber-based composite prepreg |
| US4752426A (en) | 1985-06-27 | 1988-06-21 | Yoshito Ikada | Process for manufacture of plastic resinous tubes |
| US4761436A (en) | 1985-10-21 | 1988-08-02 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Contact lens comprising triorganovinylsilane polymers |
| US4920917A (en) * | 1987-03-18 | 1990-05-01 | Teijin Limited | Reactor for depositing a layer on a moving substrate |
| US5016562A (en) * | 1988-04-27 | 1991-05-21 | Glasstech Solar, Inc. | Modular continuous vapor deposition system |
| US4994298A (en) | 1988-06-07 | 1991-02-19 | Biogold Inc. | Method of making a biocompatible prosthesis |
| US4948485A (en) | 1988-11-23 | 1990-08-14 | Plasmacarb Inc. | Cascade arc plasma torch and a process for plasma polymerization |
| US5176938A (en) | 1988-11-23 | 1993-01-05 | Plasmacarb Inc. | Process for surface treatment of pulverulent material |
| US4968532A (en) | 1989-01-13 | 1990-11-06 | Ciba-Geigy Corporation | Process for graft copolymerization on surfaces of preformed substrates to modify surface properties |
| US4994936A (en) * | 1990-02-12 | 1991-02-19 | Rogers Corporation | Molded integrated circuit package incorporating decoupling capacitor |
| US4980196A (en) | 1990-02-14 | 1990-12-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method of coating steel substrate using low temperature plasma processes and priming |
| DE4111384C2 (de) * | 1991-04-09 | 1999-11-04 | Leybold Ag | Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten |
| US5267390A (en) | 1991-04-15 | 1993-12-07 | Yang Duck J | Organic vapor deposition process for corrosion protection of prestamped metal substrates |
| US5270082A (en) | 1991-04-15 | 1993-12-14 | Lin Tyau Jeen | Organic vapor deposition process for corrosion protection of metal substrates |
| US5182000A (en) | 1991-11-12 | 1993-01-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method of coating metal using low temperature plasma and electrodeposition |
| US5805264A (en) | 1992-06-09 | 1998-09-08 | Ciba Vision Corporation | Process for graft polymerization on surfaces of preformed substates to modify surface properties |
| US5278384A (en) | 1992-12-03 | 1994-01-11 | Plasmacarb Inc. | Apparatus and process for the treatment of powder particles for modifying the surface properties of the individual particles |
| DE4407909C3 (de) * | 1994-03-09 | 2003-05-15 | Unaxis Deutschland Holding | Verfahren und Vorrichtung zum kontinuierlichen oder quasi-kontinuierlichen Beschichten von Brillengläsern |
| TW295677B (ja) * | 1994-08-19 | 1997-01-11 | Tokyo Electron Co Ltd | |
| JPH08260149A (ja) * | 1995-03-17 | 1996-10-08 | Anelva Corp | 減圧表面処理装置及び太陽電池製作装置 |
| JP3165348B2 (ja) | 1995-05-18 | 2001-05-14 | ワイエイシイ株式会社 | プラズマ処理装置およびその運転方法 |
| JP3390579B2 (ja) * | 1995-07-03 | 2003-03-24 | アネルバ株式会社 | 液晶ディスプレイ用薄膜の作成方法及び作成装置 |
| DE59611403D1 (de) * | 1995-10-27 | 2007-01-25 | Applied Materials Gmbh & Co Kg | Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats |
| DE19808163C1 (de) * | 1998-02-27 | 1999-07-15 | Ardenne Anlagentech Gmbh | Schleusensystem für die Überführungskammer einer Vakuumbeschichtungsanlage |
-
2001
- 2001-07-23 US US09/911,221 patent/US6881269B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-16 EP EP01118881A patent/EP1180429B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-16 AT AT01118881T patent/ATE344130T1/de not_active IP Right Cessation
- 2001-08-16 DE DE60124185T patent/DE60124185T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-16 JP JP2001247138A patent/JP4907796B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-02-23 US US11/065,113 patent/US7078074B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6063387A (ja) * | 1983-09-14 | 1985-04-11 | Hitachi Ltd | プラズマ処理装置 |
| JPS6380409A (ja) * | 1986-09-22 | 1988-04-11 | セイコーエプソン株式会社 | 真空乾燥装置 |
| JPH07281006A (ja) * | 1993-12-13 | 1995-10-27 | Leybold Ag | レンズをコーティングする方法および装置 |
| JPH09117713A (ja) * | 1995-08-16 | 1997-05-06 | Ciba Geigy Ag | 気体雰囲気を用いる処理方法および装置 |
| WO1997037051A1 (fr) * | 1996-04-01 | 1997-10-09 | Toray Industries, Inc. | Procede de fabrication d'un substrat a couche mince et dispositif de fabrication |
| JPH11186363A (ja) * | 1997-12-24 | 1999-07-09 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 半導体製造装置 |
| JP2000164516A (ja) * | 1998-11-30 | 2000-06-16 | Shibaura Mechatronics Corp | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ATE344130T1 (de) | 2006-11-15 |
| DE60124185T2 (de) | 2007-09-06 |
| US7078074B2 (en) | 2006-07-18 |
| US20020025389A1 (en) | 2002-02-28 |
| US20050142287A1 (en) | 2005-06-30 |
| DE60124185D1 (de) | 2006-12-14 |
| EP1180429B1 (en) | 2006-11-02 |
| US6881269B2 (en) | 2005-04-19 |
| JP4907796B2 (ja) | 2012-04-04 |
| EP1180429A2 (en) | 2002-02-20 |
| EP1180429A3 (en) | 2004-01-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002194551A (ja) | レンズプラズマコーティングシステム | |
| TWI806837B (zh) | 用於原子層沉積之設備及方法 | |
| US3931789A (en) | Vapor deposition apparatus | |
| KR101370733B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
| WO1997037051A1 (fr) | Procede de fabrication d'un substrat a couche mince et dispositif de fabrication | |
| KR102153174B1 (ko) | 노광 장치, 기판 처리 장치, 노광 방법 및 기판 처리 방법 | |
| US4756737A (en) | Apparatus for producing optical element | |
| JP3150746B2 (ja) | 立体構造物の表面に樹脂被膜を形成するための装置 | |
| KR20050024436A (ko) | 진공 체임버 내에서 편평한 기판을 이송시키는 장치 | |
| EP3765210B1 (en) | Method and apparatus for inline coating of substrates | |
| KR100379649B1 (ko) | 기판처리방법및기판처리장치 | |
| KR101461695B1 (ko) | 렌즈의 코팅 장치 | |
| JPH02122076A (ja) | 成膜方法および成膜装置 | |
| JPS61170568A (ja) | 連続真空処理装置 | |
| KR20200039068A (ko) | 액 공급 유닛, 이를 가지는 기판 처리 장치 및 방법 | |
| CN109642320B (zh) | 用于施加薄膜涂层的真空装置和用该真空装置施加光学涂层的方法 | |
| JPS63109174A (ja) | 枚葉式ｃｖｄ装置 | |
| US20200215565A1 (en) | Method and apparatus for inline coating of substrates | |
| JP4091288B2 (ja) | 処理対象物の処理方法 | |
| KR101695230B1 (ko) | 개시제를 이용하는 화학기상증착시스템 | |
| JPH0958630A (ja) | 包装材料の殺菌方法及び殺菌装置 | |
| EP1348777B1 (en) | Vacuum deposition apparatus | |
| KR101749973B1 (ko) | Ｏｌｅｄ 봉지용 박막 경화 시스템 | |
| JPH0551749A (ja) | 真空処理装置 | |
| JPH04183863A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080512 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110614 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110906 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110909 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20111012 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20111017 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20111107 |
|
| A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20111110 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111212 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120110 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120112 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150120 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4907796 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |