JP2002184839A - 基板検査装置および基板検査方法ならびに基板検査装置を備えた液処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 容器に収納された基板の枚数のみでなく、収
納状態を簡単かつ正確に短時間で検査することができる
基板検査装置と基板検査方法を提供する。また、このよ
うな基板検査装置を備えた液処理装置を提供する。 【解決手段】 例えば、ウエハＷを略平行に所定間隔で
収納可能なフープＦに実際に収納されたウエハＷの収納
状態を検査するウエハ検査機構１１０は、反射式センサ
１１１と、反射式センサ１１１をウエハＷの配列方向に
移動させる昇降機構１１２と、測定された反射強度信号
を少なくとも２つの強度レベルでスライスしてオン／オ
フ信号を得るセンサアンプ１１５とを有し、得られたオ
ン／オフ信号をシーケンサ１１４において解析してウエ
ハＷの収納状態を判断する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハやＬ
ＣＤ基板等の各種基板を取り扱う際に使用される基板検
査装置と基板検査方法、およびこの基板検査装置を備
え、基板に対して所定の液処理や乾燥処理を施す液処理
装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、半導体デバイスの製造工程にお
いては、基板としての半導体ウエハ（ウエハ）を所定の
薬液や純水等の洗浄液によって洗浄し、ウエハからパー
ティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーシ
ョン、エッチング処理後のポリマー等を除去するウエハ
洗浄装置や、窒素（Ｎ_２）ガス等の不活性ガスや揮発性
および親水性の高いＩＰＡ蒸気等によってウエハから液
滴を取り除いてウエハを乾燥させるウエハ乾燥装置が使
用されている。

【０００３】このような洗浄・乾燥装置としては、複数
枚のウエハをウエハ洗浄・乾燥室に収納してバッチ式に
処理するものが知られている。一般的に、このような洗
浄・乾燥装置においては、複数枚のウエハがその主面が
略平行になるようにして収納された容器（フープ）を洗
浄・乾燥装置の所定位置に載置し、搬送アームを用いて
フープ内の複数のウエハを同時に取り出して洗浄・乾燥
室へ搬入し、ウエハを保持する保持手段に移し替えて所
定の処理を行った後に、再び搬送アームを用いて洗浄・
乾燥室からフープへウエハを搬送するという作業が行わ
れる。こうして所定の洗浄・乾燥処理が終了したウエハ
が収納されたフープは、次工程へと搬送される。

【０００４】ここで、例えば、フープからのウエハの搬
送は、所定の枚数のウエハがフープに収納されているか
どうかを各種センサを用いて確認した後に行われてお
り、例えば、赤外線レーザセンサを用いてウエハの端面
の位置を検出して枚数を計測する方法や、縦１列に配置
された赤外線レーザセンサをフープの底より挿入してそ
の透過光を受信することで枚数を計測する方法が知られ
ている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の赤外線レーザセンサを用いた検査方法におい
ては、赤外線レーザセンサの受信信号のオンオフのみを
判断していたためにウエハの枚数を検査することはでき
ても、ウエハが２枚重なって収納されていたり、斜めに
収納されていたり（このような収納状態を以下「ジャン
プスロット」という）した場合に、その状態を確認する
ことができなかった。一方、オンオフ信号の信号パター
ンを全体的に精密に解析すれば、ウエハの２枚重ね等の
状態を把握することは可能であるが、この場合には、膨
大な信号データを処理しなければならず、検査時間が長
くかかるという問題があった。

【０００６】ここで、例えば、フープ内でウエハが２枚
重なって収納されていた場合には、ウエハをフープから
搬出した際に、重なったウエハのうちの１枚が搬送アー
ムから落下して洗浄・乾燥装置を汚したり、洗浄・乾燥
室に搬入した際にウエハの保持手段が重なったウエハの
うちの１枚を保持できずに破損、落下し、または保持手
段に損傷を与える等するおそれがある。このような事故
が生じた場合には、洗浄・乾燥装置の運転を一時停止
し、清掃やメンテナンスの必要が生ずるばかりでなく、
他のウエハの処理も不可能となる場合がある。

【０００７】また、フープ内でウエハが斜めに挿入され
ていた場合には、搬送アームをフープに挿入したときに
搬送アームとフープが衝突して、ウエハの破損や搬送ア
ームの損傷、破損したウエハによる他のウエハの損傷等
が生ずるおそれがある。

【０００８】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたものであり、フープに収納された基板の
枚数のみでなく、収納状態を簡易にしかも正確に検査す
ることができる基板検査装置と基板検査方法を提供する
ことを目的とする。また、本発明は、このような基板検
査装置を備えた液処理装置を提供することを目的とす
る。

【０００９】なお、近年、半導体デバイスの微細高集積
化や量産化に伴って、ウエハの大きさについては、２０
０ｍｍφから３００ｍｍφへの大口径化が進んでおり、
ウエハの大きさおよび重量が嵩むようになってきてい
る。このことから、２００ｍｍφウエハの保存や搬送等
は、例えば２６枚のウエハを略鉛直状態で収納したフー
プを用いて取り扱われていたが、３００ｍｍφウエハの
保存や搬送等は、例えば２５枚のウエハを水平状態で収
納したフープを用いて取り扱われる。

【００１０】ところが、前述した赤外線レーザの透過光
を受信してウエハの状態を検査する場合には、測定対象
物が大型化すると発信する赤外線レーザの強度を高めな
ければならなくなる問題が生じ、また、発光部と受信部
の間にウエハの収納された容器を置く必要があることか
ら、フープの構造や装置構成も制限される。本発明は、
このような３００ｍｍφの大口径ウエハの取り扱いに対
処可能とすることもまた目的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は第１発明として、複数の基板をその主面が
略平行となるように所定間隔で収納可能な容器に収納さ
れた基板の収納状態を検査する基板検査装置であって、
前記容器に収納された基板の端面から所定距離だけ離れ
て配置された反射式センサと、前記反射式センサを基板
の配列方向に移動させる移動機構と、前記反射式センサ
を前記移動機構によって移動させた際に検出された基板
からの反射強度信号を少なくとも２つの強度レベルでス
ライスして基板の有無に対応するオン／オフ信号を得る
信号処理部と、前記オン／オフ信号を解析して前記容器
に収納された基板の収納状態を判断する演算処理部と、
を具備することを特徴とする基板検査装置、を提供す
る。

【００１２】本発明は第２発明として、蓋体により開閉
可能な基板搬送口を有し、複数の基板をその主面が略平
行となるように所定間隔で収納可能な容器に収納された
基板の収納状態を検査する基板検査装置であって、前記
容器の蓋体を基板の配列方向に移動させて前記基板搬送
口を開閉する蓋体開閉機構と、前記蓋体開閉機構に取り
付けられた反射式センサと、前記蓋体開閉機構の動きに
合わせて前記反射式センサが移動する際に検出された基
板からの反射強度信号を少なくとも２つの強度レベルで
スライスして基板の有無に対応するオン／オフ信号を得
る信号処理部と、前記オン／オフ信号を解析して前記容
器に収納された基板の収納状態を判断する演算処理部
と、を具備することを特徴とする基板検査装置、を提供
する。

【００１３】本発明は、上記基板検査装置を用いた基板
検査方法を提供する。すなわち、本発明は第３発明とし
て、複数の基板をその主面が略平行となるように所定間
隔で収納可能な容器に収納された基板の収納状態を検査
する基板検査方法であって、信号発信部と信号受信部を
有する反射式センサを基板の配列方向に移動させながら
発信信号に対する前記容器内に収納された基板からの反
射強度信号を得る第１工程と、前記第１工程において得
られた反射強度信号を少なくとも２つの強度レベルでス
ライスして基板の有無に対応するオン／オフ信号を得る
第２工程と、前記オン／オフ信号におけるオン状態とオ
フ状態の転換点の出現位置を検出する第３工程と、前記
転換点の位置から前記容器に収納された基板の収納状態
を解析する第４工程と、を有することを特徴とする基板
検査方法、を提供する。

【００１４】また、本発明は上記基板検査装置を備えた
液処理装置を提供する。すなわち、本発明は第４発明と
して、基板に所定の液処理を施す液処理装置であって、
複数の基板をその主面を略平行として収納可能な容器を
載置する容器搬入出部と、前記容器搬入出部に載置され
た容器に収納された基板の収納状態を検査するセンサシ
ステムと、前記容器に収納された基板に所定の液処理を
施す液処理部と、前記容器と前記液処理部との間で基板
の搬送を行う基板搬送部と、を具備し、前記センサシス
テムは、前記容器に収納された基板の端面から所定距離
だけ離れて配置された反射式センサと、前記反射式セン
サを基板の配列方向に移動させる移動機構と、前記反射
式センサを前記移動機構によって移動させた際に検出さ
れた基板からの反射強度信号を少なくとも２つの強度レ
ベルでスライスして基板の有無に対応するオン／オフ信
号を得る信号処理部と、前記オン／オフ信号を解析して
前記容器に収納された基板の収納状態を判断する演算処
理部と、を有することを特徴とする液処理装置、を提供
する。

【００１５】本発明は第５発明として、基板に所定の液
処理を施す液処理装置であって、蓋体により開閉可能な
基板搬送口を有し、複数の基板をその主面が略平行とな
るように所定間隔で収納可能な容器を載置する容器搬入
出部と、前記容器の蓋体を基板の配列方向に移動させて
前記基板搬送口を開閉する蓋体開閉機構と、前記容器搬
入出部に載置された容器に収納された基板の収納状態を
検査するセンサシステムと、前記容器に収納された基板
に所定の液処理を施す液処理部と、前記容器と前記液処
理部との間で基板の搬送を行う基板搬送部と、を具備
し、前記センサシステムは、前記蓋体開閉機構に取り付
けられた反射式センサと、前記蓋体開閉機構の動きに合
わせて前記反射式センサが移動する際に検出された基板
からの反射強度信号を少なくとも２つの強度レベルでス
ライスして基板の有無に対応するオン／オフ信号を得る
信号処理部と、前記オン／オフ信号を解析して前記容器
に収納された基板の収納状態を判断する演算処理部と、
を有することを特徴とする液処理装置、を提供する。

【００１６】上述した基板検査装置および基板検査方法
ならびに基板検査装置を備えた液処理装置によれば、容
器に収納された基板について、反射式センサによって得
られる反射強度信号をそのまま解析するのではなく、変
換された簡単なパターンを有する矩形信号等のオン／オ
フ信号を用いて解析を行うために、基板検査装置自体を
安価に構成することができ、しかも、基板の枚数のみな
らず、２枚重ねやジャンプスロットという不正常な収納
状態を簡易かつ正確にしかも短時間で検出することがで
きる。こうして、スループットを低下させることなく、
基板の破損や基板を搬送する機構の損傷を防止すること
ができ、こうして、生産性（処理効率）、装置の保守
性、メンテナンス性を向上させることができる。また、
本発明は反射式センサを用いていることから測定対象と
なる基板の大きさに関係なく、検査装置を小型に構成で
きる利点があり、透過式センサを用いる場合のように基
板の大型化によって出力の大きなセンサを準備する必要
がない点でコスト的にも有利である。

【００１７】さらに、本発明の基板検査装置を用いた場
合には、反射強度信号はアナログ信号として得られる
が、この反射強度信号を少なくとも２つの強度レベルで
スライスして基板の有無に対応するオン／オフ信号を得
て、このオン／オフ信号におけるオン状態とオフ状態の
転換点の出現位置から前記容器に収納された基板の収納
状態を解析する方法を用いていることから、容器内にお
ける基板の所定の収納方向を問題とせず、従って、容器
内に基板の主面が水平方向となるように収納されている
場合または垂直方向となるように収納されている場合の
いずれの場合にも用いることができる。なお、容器に形
成された基板搬送口を開閉する蓋体があってこの蓋体を
開閉する機構がある場合には、この蓋体を開閉する機構
に反射式センサを取り付けることによって、基板検査装
置の省スペース化が可能である。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら本
発明の実施の形態について具体的に説明する。本発明の
１つである液処理装置は、各種基板を被処理体とする洗
浄処理装置、乾燥処理装置等に適用できるが、本実施形
態では、半導体ウエハ（ウエハ）の搬入、洗浄、乾燥、
搬出をバッチ式に一貫して行うように構成された洗浄処
理装置を例として説明することとする。また、この洗浄
処理装置は、本発明の基板検査装置をウエハ検査機構と
して備えた形態を有するものとし、このウエハ検査機構
およびウエハ検査方法の実施の形態について説明するこ
ととする。

【００１９】図１は本実施形態に係る洗浄処理装置１の
外観を示す斜視図である。図１に示されるように、洗浄
処理装置１は、複数枚のウエハＷを収納可能なフープ
（収納容器）Ｆを載置するためのフープステージ２ａ〜
２ｃが設けられているフープ搬入出部２と、ウエハＷに
対して洗浄処理を実施する洗浄処理ユニット３と、フー
プ搬入出部２と洗浄処理ユニット３との間に設けられ、
ウエハＷの搬送を行うウエハ搬送ユニット４と、液処理
のための薬液を貯蔵等する薬液貯蔵ユニット５と、から
主に構成されている。

【００２０】また、洗浄処理装置１に配設された各種の
電動駆動機構や電子制御装置のための電源ボックス６と
洗浄処理装置１を構成する各ユニットの温度制御を行う
ための温度制御ボックス７が洗浄処理ユニット３の上部
に設けられており、ウエハ搬送ユニット４の上部には、
洗浄処理装置１に設けられた各種の表示パネルを制御す
る表示ボックス９と、ウエハ搬送ユニット４に配設され
たウエハ搬送機構１６の制御装置が収納された搬送機構
制御ボックス１０が設けられている。また、薬液貯蔵ユ
ニット５の上部には各ボックスからの熱排気を集めて排
気する熱排気ボックス８が設けられている。

【００２１】図２に洗浄処理装置１の概略平面図を、図
３に洗浄処理装置１の概略側面図を、図４に図３の概略
側面図において一部の駆動機構を駆動させた状態を示し
た概略側面図をそれぞれ示す。ここで、図２〜図４にお
いては、フープ搬入出部２、洗浄処理ユニット３、ウエ
ハ搬送ユニット４、薬液貯蔵ユニット５のみを示し、洗
浄処理ユニット３、ウエハ搬送ユニット４、薬液貯蔵ユ
ニット５の上部に配設された電源ボックス６その他各種
のボックス部については図示していない。また、後述す
るように、洗浄処理ユニット３は搬送部３ａと洗浄部３
ｂとに分けられるが、図３および図４においては、搬送
部３ａの概略構造が示されている。

【００２２】フープステージ２ａ〜２ｃに載置されるフ
ープＦは、ウエハＷを複数枚、例えば２５枚を所定間隔
で主面が水平になるように収納することが可能となって
おり、フープＦの一側面にはウエハＷを搬入出するため
のウエハ搬入出口が設けられている。フープＦはウエハ
搬入出口を開閉する蓋体１１を有しており、この蓋体１
１は、後述する蓋体開閉機構１５ａ〜１５ｃによってフ
ープＦに脱着可能となっている。

【００２３】ウエハ搬送ユニット４とフープ搬入出部２
との間の境界壁１２には窓部１２ａ〜１２ｃが設けられ
ており、フープＦに形成されたウエハ搬入出口の外周部
が窓部１２ａ〜１２ｃを閉塞し、また、蓋体１１が蓋体
開閉機構１５ａ〜１５ｃによって脱着可能な状態となる
ようにして、フープＦはフープステージ２ａ〜２ｃ上に
載置される。

【００２４】境界壁１２の内側（ウエハ搬送ユニット４
側）には、窓部１２ａ〜１２ｃのそれぞれの位置に、窓
部１２ａ〜１２ｃを開閉するシャッター１３ａ〜１３ｃ
とシャッター１３ａ〜１３ｃを昇降させる昇降機構１４
ａ〜１４ｃとからなる蓋体開閉機構１５ａ〜１５ｃが配
設されている。蓋体開閉機構１５ａ〜１５ｃは図示しな
い蓋体把持手段を有しており、これによりフープＦの蓋
体１１をシャッター１３ａ〜１３ｃとともに昇降させる
ことができるようになっている。

【００２５】フープＦがフープステージ２ａ〜２ｃに載
置されていないときには、シャッター１３ａ〜１３ｃが
窓部１２ａ〜１２ｃを閉塞した状態にあり、外部からウ
エハ搬送ユニット４へのパーティクル等の侵入が防止さ
れている。一方、ウエハＷをフープＦから搬出し、また
はフープＦへ搬入する際には、後述するウエハ搬送機構
１６の搬送アーム１７ａ・１７ｂがフープＦにアクセス
できるように、シャッター１３ａ〜１３ｃおよびフープ
Ｆの蓋体１１が蓋体開閉機構１５ａ〜１５ｃにより降下
され、窓部１２ａ〜１２ｃは開口した状態とされる。

【００２６】ウエハ搬送ユニット４には、蓋体開閉機構
１５ａ〜１５ｃのそれぞれに隣接して、フープＦ内のウ
エハＷの枚数を計測するためのウエハ検査機構１１０が
配設されている。このウエハ検査機構１１０は、例え
ば、赤外線レーザを用いた反射式光センサをＺ方向（鉛
直方向）にスキャンさせながら、ウエハＷの端面からの
反射光を受信し、フープＦに収納されたウエハＷの枚数
や収納状態、例えば、ウエハＷが所定のピッチで略平行
に１枚ずつ収納されているかどうか、２枚のウエハＷが
重なって収納されていないかどうか、ウエハＷが段差ず
れして斜めに収納されていないかどうか、ウエハＷがフ
ープＦ内の所定位置から飛び出していないかどうか等を
検査する。このウエハ検査機構１１０については、後に
より詳しく説明する。

【００２７】なお、ウエハ搬送機構１６にウエハ検査機
構１１０を取り付けて、ウエハ検査機構１１０をウエハ
搬送機構１６とともに移動可能な構造とすれば、ウエハ
検査機構１１０は１カ所のみの配設で済ませることが可
能である。また、例えば、ウエハＷの収納枚数を確認す
るセンサと、ウエハＷの収納状態を検査するセンサを別
に設けることもできる。

【００２８】ウエハ搬送ユニット４には、清浄な空気を
ウエハ搬送ユニット４内に送風するためのフィルターフ
ァンユニット（ＦＦＵ）２４ａが天井部に設けられてお
り、このＦＦＵ２４ａからのダウンフローの一部は、窓
部１２ａ〜１２ｃが開口されている状態では、窓部１２
ａ〜１２ｃから外部に流れ出てフープステージ２ａ〜２
ｃに載置されたフープＦに流入する。こうしてフープＦ
内のウエハＷに清浄な空気を供給することで、ウエハＷ
へのパーティクルの付着を防止できるようになってい
る。

【００２９】また、ウエハ搬送ユニット４にはウエハ搬
送機構１６が配設されており、ウエハ搬送機構１６は、
Ｘ方向に延在するガイドを具備するリニア駆動機構１９
と、ウエハＷを保持する搬送アーム１７ａ・１７ｂと、
搬送アーム１７ａ・１７ｂをそれぞれ保持する保持部１
８ａ・１８ｂと、搬送アーム１７ａ・１７ｂおよび保持
部１８ａ・１８ｂがそれぞれ配設されたスライド機構２
０ａ・２０ｂと、スライド機構２０ａ・２０ｂが配置さ
れた回転自在なテーブル２１と、テーブル２１を回転さ
せる回転機構２２と、回転機構２２から上の部分を昇降
させる昇降機構２３と、を有している。

【００３０】ウエハ搬送機構１６に２系統の搬送アーム
１７ａ・１７ｂを設けることで、例えば、搬送アーム１
７ａを未処理のウエハＷを搬送するために用い、搬送ア
ーム１７ｂを洗浄処理済みのウエハＷを搬送するために
用いることができるようになっている。この場合、例え
ば、１系統の搬送アームのみが配設されている場合と比
較して、未処理のウエハＷに付着していたパーティクル
等が搬送アームに付着してさらに処理済みのウエハＷに
付着するといったことが有効に防止される。

【００３１】１個の搬送アーム１７ａは１枚のウエハＷ
を搬送し、かつ、フープＦに収納されている２５枚のウ
エハＷを一度に搬送可能なように、２５個の搬送アーム
１７ａが略平行に所定間隔で保持部１８ａに保持されて
おり、２５個の搬送アーム１７ｂもまた略平行に所定間
隔で保持部１８ｂに保持されている。フープＦまたは後
述するロータ３４と搬送アーム１７ａ・１７ｂとの間で
ウエハＷの受け渡しを行う際には、搬送アーム１７ａ・
１７ｂを所定距離ほど上下させる必要があるが、この搬
送アーム１７ａ・１７ｂの昇降動作は昇降機構２３より
行うことができる。なお、保持部１８ａ・１８ｂに別途
搬送アーム１７ａ・１７ｂを上下させる昇降機構を配設
してもよい。

【００３２】搬送アーム１７ａ・１７ｂはスライド機構
２０ａ・２０ｂによって保持部１８ａ・１８ｂともに搬
送アーム１７ａ・１７ｂの長さ方向にスライド可能とな
っており、テーブル２１は回転機構２２によって水平面
内で回転（図２に示すθ方向）可能に構成されている。
また、搬送アーム１７ａ・１７ｂの高さは昇降機構２３
により調節可能であり、搬送アーム１７ａ・１７ｂは昇
降機構２３等とともにリニア駆動機構１９によってＸ方
向に移動可能である。こうして、搬送アーム１７ａ・１
７ｂは、フープステージ２ａ〜２ｃに載置されたいずれ
のフープＦおよびロータ３４にもアクセスでき、こうし
てフープステージ２ａ〜２ｃに載置されたフープＦとロ
ータ３４との間で、ウエハＷを水平状態として搬送する
ことができるようになっている。

【００３３】従って、例えば、搬送アーム１７ａを未処
理のウエハＷを搬送するために用いるものとし、また、
フープステージ２ｂに載置されたフープＦから洗浄処理
ユニット３に配設されたロータ３４へ搬送する場合に
は、最初に搬送アーム１７ａがフープステージ２ｂに載
置されたフープＦにアクセスできるようにリニア駆動機
構１９を駆動させて搬送アーム１７ａをＸ方向に移動さ
せる。次いで昇降機構２３を駆動させて搬送アーム１７
ａの高さを調節した後にスライド機構２０ａを動作させ
て搬送アーム１７ａおよび保持部１８ａをフープステー
ジ２ｂ側にスライドさせる。搬送アーム１７ａにウエハ
Ｗを保持させて搬送アーム１７ａおよび保持部１８ａを
元の位置に戻すことにより、フープＦからウエハＷが搬
出された状態となる。

【００３４】次に、回転機構２２を動作させてテーブル
２１を１８０°回転させつつ、リニア駆動機構１９を駆
動して搬送アーム１７ａがロータ３４にアクセスできる
状態とする。搬送アーム１７ａおよび保持部１８ａをロ
ータ３４側にスライドさせてウエハＷをロータ３４に受
け渡し（図４参照）、再び搬送アーム１７ａおよび保持
部１８ａを元の位置に戻せば、ウエハＷのロータ３４へ
の搬送が終了する。

【００３５】上述したウエハ搬送機構１６においては、
搬送アーム１７ａ・１７ｂがテーブル２１の回転中心に
対して点対称な位置に配設されているので、スライド機
構２０ａ・２０ｂが伸張していない状態でテーブル２１
を回転させると、搬送アーム１７ａ・１７ｂがウエハＷ
を保持した状態であっても、搬送アーム１７ａ・１７ｂ
が回転時に通過する軌跡の範囲を狭くすることができ
る。こうして、洗浄処理装置１ではウエハ搬送ユニット
４が省スペース化されている。

【００３６】ウエハ搬送ユニット４と洗浄処理ユニット
３とを仕切る境界壁２５には、ウエハＷの搬送のための
窓部２５ａが形成され、この窓部２５ａは、昇降機構２
６ｂにより昇降自在となっているシャッター２６ａによ
って開閉される。シャッター２６ａは洗浄処理装置１に
おいては、洗浄処理ユニット３側に設けられているが、
ウエハ搬送ユニット４側に設けることもできる。ウエハ
搬送ユニット４と洗浄処理ユニット３との間でのウエハ
Ｗの搬送はこの窓部２５ａを介して行われる。

【００３７】なお、シャッター２６ａにより、ウエハ搬
送ユニット４と洗浄処理ユニット３の雰囲気が分離でき
るようになっていることから、例えば、洗浄処理ユニッ
ト３において処理液が飛散し、または処理液の蒸気が拡
散等した場合でも、ウエハ搬送ユニット４にまで汚染が
拡大することが防止される。

【００３８】洗浄処理ユニット３は、搬送部３ａと洗浄
部３ｂから構成されており、搬送部３ａの天井部分に
は、フィルターファンユニット（ＦＦＵ）２４ｂが配設
されており、搬送部３ａ内にパーティクルを除去した清
浄な空気等が送風されるようになっている。

【００３９】また、搬送部３ａには、ロータ回転機構２
７と、ロータ回転機構２７の姿勢を制御する姿勢変換機
構２８と、ロータ回転機構２７および姿勢変換機構２８
を垂直方向に移動させるＺ軸リニア駆動機構２９と、Ｚ
軸リニア駆動機構２９を水平方向に移動させるＸ軸リニ
ア駆動機構３０と、姿勢変換機構２８およびＺ軸リニア
駆動機構２９から発生するパーティクルがロータ回転機
構２７側へ飛散してウエハＷに付着等することを防止す
るためのカバー４５と、Ｘ軸リニア駆動機構３０から発
生するパーティクルがロータ回転機構２７側へ飛散して
ウエハＷに付着等することを防止するためのカバー４６
と、が設けられている。

【００４０】ロータ回転機構２７は、ウエハＷを所定間
隔で保持可能なロータ３４と、ロータ３４に保持された
ウエハＷが面内回転するようにロータ３４を回転させる
モータ（駆動機構）３１と、姿勢変換機構２８との連結
部３２と、ロータ３４を後述する外側チャンバ７１ａに
挿入した際に外側チャンバ７１ａに形成されたロータ搬
入出口６２ｃを閉塞する蓋体３３と、連結部３２と蓋体
３３を貫通してロータ３４とモータ３１を連結している
回転軸５０（後に示す図５・図７・図８参照）と、から
構成されている。

【００４１】図５はロータ３４の構造を示す斜視図であ
り、ロータ３４は、所定の間隔をおいて配置された一対
の円盤３５ａ・３５ｂと、ウエハＷを保持するための溝
等が形成された係止部材３６ａと、係止部材３６ａと同
様に溝等が形成され開閉可能なホルダー３６ｂと、ホル
ダー３６ｂの開閉の可不可を制御するロックピン３６ｃ
と、を有する。また、このホルダー３６ｂの開閉を行う
ホルダー開閉機構８０が境界壁２５に設けられており
（図３および図４参照）、ホルダー開閉機構８０は、ロ
ックピン押圧シリンダ８１と、ホルダー開閉シリンダ８
２と、を有している。なお、境界壁２５においてホルダ
ー開閉機構８０が設けられている部分にはカバー４０が
設けられており、ウエハ搬送ユニット４と洗浄処理ユニ
ット３を隔離している。

【００４２】円盤３５ｂの回転軸５０への固定は、例え
ば、ネジ３５ｃを用いて行うことができ、係止部材３６
ａは、円盤３５ａ・３５ｂの外側からネジ止め等するこ
とで円盤３５ａ・３５ｂ間に固定することができる。ロ
ックピン３６ｃは、例えば、通常の状態では外側に突出
した状態にあり、この状態ではホルダー３６ｂの開閉動
作を行うことができず、一方、ホルダー開閉機構８０が
ロータ３４にアクセスして、ロックピン押圧シリンダ８
１からの押圧力によってロックピン３６ｃがロータ３４
の内側に向かって押し込まれた状態となっているときに
は、ホルダー３６ｂがホルダー開閉シリンダ８２によっ
て開閉自在な状態となるように設定することができる。

【００４３】こうして、ホルダー３６ｂが開かれた状態
においては、ロータ３４と搬送アーム１７ａ・１７ｂと
の間でのウエハＷの受け渡しが可能であり、一方、ホル
ダー３６ｂが閉じた状態では、ロータ３４内のウエハＷ
はロータ３４から外部に飛び出すことがない状態に維持
される。

【００４４】このホルダー開閉機構８０は、ロータ３４
と搬送アーム１７ａ・１７ｂとの間でウエハＷの受け渡
しが行われる位置において、ロックピン押圧シリンダ８
１およびホルダー開閉シリンダ８２がそれぞれロックピ
ン３６ｃとホルダー３６ｂにアクセスできるように、図
３に示した退避位置と図４に示した処理位置との間で回
転自在となっている。上述したホルダー３６ｂの開閉機
構に準じ、ロックピン押圧シリンダ８１は、処理位置に
おいてロックピン３６ｃをロータ３４の内部に押し込む
ことができる押圧機構を有しており、また、ホルダー開
閉シリンダ８２は、円盤３５ａの外側においてホルダー
３６ｂにアクセスし、ホルダー３６ｂを開閉するように
動作する。

【００４５】上述したホルダー３６ｂ、ロックピン３６
ｃ、ホルダー開閉機構８０の形態に従ってホルダー３６
ｂを開く場合には、例えば、最初に退避位置にあるホル
ダー開閉機構８０を処理位置に移動させてロータ３４に
アクセスさせ、ロックピン押圧シリンダ８１によってロ
ックピン３６ｃがロータ３４の内部に押し込まれた状態
に保持する。この状態においてホルダー開閉シリンダ８
２を動作させてホルダー３６ｂを開く。こうして、ウエ
ハＷの搬入出が可能となり、ウエハＷの搬入出作業が終
了したら、ホルダー３６ｂを閉じた状態としたうえで、
ロックピン押圧シリンダ８１の押圧力を解除して、ロッ
クピン３６ｃが円盤３５ａから突出した状態、つまりホ
ルダー３６ｂにロックが掛かった状態に戻す。次いで、
ホルダー開閉機構８０を退避位置に戻せば、ウエハＷの
次処理に移行することが可能となる。

【００４６】ロータ回転機構２７の姿勢を制御する姿勢
変換機構２８は、回転機構４２と回転機構４２に取り付
けられた回転軸４１とを有しており、回転軸４１はロー
タ回転機構２７の連結部３２に固定されている。回転機
構４２によってロータ回転機構２７全体を、図３または
図４に示すようにウエハＷが水平状態で保持されるよう
な姿勢（縦姿勢）に保持することができ、また、後に図
６に示すようにウエハＷが垂直状態で保持されるような
姿勢（横姿勢）に変換して保持することができるように
なっている。

【００４７】Ｚ軸リニア駆動機構２９は、モータ４３
と、モータ４３の回転駆動力と変位を姿勢変換機構２８
に伝える動力伝達部４４と、ガイド４７と、ガイド４７
を支持する支持体４８と、を有している。姿勢変換機構
２８はガイド４７に沿って移動できるようにガイド４７
と嵌合しており、モータ４３を回転させるとこの回転駆
動力と変位が動力伝達部４４を介して姿勢変換機構２８
に伝えられ、姿勢変換機構２８がロータ回転機構２７と
ともにガイド４７に沿ってＺ方向（垂直方向）に所定距
離移動することができるようになっている。

【００４８】なお、Ｚ軸リニア駆動機構２９としてモー
タ４３の回転変位を直線変位に変換する機構を用いた
が、このような機構に限定されるものではなく、例え
ば、モータ４３の代わりに、エアーシリンダ等の直接に
直線変位を生ずる駆動機構を用いても構わない。

【００４９】Ｘ軸リニア駆動機構３０は、ガイド４９
と、図示しないモータと、モータに連結されたボールネ
ジ３９ａと、ボールネジ３９ａに噛み合わされた噛み合
わせ部材３９ｂと、ガイド４９に嵌合して噛み合わせ部
材３９ｂと支持体４８とを連結する連結部材３８と、を
有している。モータを回転させることによってボールネ
ジ３９ａが動作し、ボールネジ３９ａの動作に従って噛
み合わせ部材３９ｂはＸ方向に移動する。このとき、連
結部材３８が噛み合わせ部材３９ｂと支持体４８を連結
していることから、連結部材３８と支持体４８もまた噛
み合わせ部材３９ｂとともにＸ方向に移動する。つま
り、噛み合わせ部材３９ｂがＸ方向に移動する際には、
ロータ回転機構２７と姿勢変換機構２８とＺ軸リニア駆
動機構２９が同時にＸ方向に移動するようになってい
る。

【００５０】図６は、姿勢変換機構２８とＺ軸リニア駆
動機構２９とＸ軸リニア駆動機構３０を用いて、ロータ
回転機構２７を移動させるときの形態の一例を示す説明
図であり、図６（ａ）はロータ回転機構２７における連
結部３２の移動軌跡を示したものであり、図６（ｂ）〜
（ｅ）はそれぞれ連結部３２が位置Ｐ１〜Ｐ４にあると
きのロータ回転機構２７の状態（姿勢）を示している。
以下、ウエハＷを保持したロータ３４を外側チャンバ７
１ａに挿入するために、連結部３２が位置Ｐ１から位置
Ｐ４へ移動するようにロータ回転機構２７を移動させる
場合を例として説明する。

【００５１】連結部３２が位置Ｐ１にあるときは、ロー
タ回転機構２７はロータ３４とウエハ搬送機構１６との
間でウエハＷの受け渡しを行うことができる位置にある
ものとし、このとき、ロータ回転機構２７は縦姿勢の状
態にある。ウエハＷがロータ３４に収納された状態にお
いて、まず、Ｚ軸リニア駆動機構２９を動作させて、ロ
ータ回転機構２７および姿勢変換機構２８を連結部３２
が位置Ｐ２に移動するように上昇させる。そして位置Ｐ
２においては、姿勢変換機構２８を動作させて、ウエハ
Ｗが水平保持から垂直保持の状態になるように、ロータ
回転機構２７全体を９０°回転させ、ロータ回転機構２
７全体を横姿勢の状態とする。

【００５２】次に、ロータ回転機構２７全体が横姿勢の
状態のまま、連結部３２が位置Ｐ３に移動するように、
再びＺ軸リニア駆動機構２９を動作させて、ロータ回転
機構２７を上昇させる。このように、位置Ｐ２というロ
ータ回転機構２７を上昇させるときの中間地点でロータ
回転機構２７の姿勢変換を行うことにより、連結部３２
が位置Ｐ１や位置Ｐ３にあるときにロータ回転機構２７
を回転させる場合と比較して、ロータ回転機構２７の回
転に必要な空間が狭くとも足り、これにより、搬送部３
ａの占有容積を小さくすることが可能となる。

【００５３】連結部３２が位置Ｐ３に到達したら、次
に、Ｘ軸リニア駆動機構３０を動作させて、連結部３２
の位置を位置Ｐ４まで水平移動させる。連結部３２が位
置Ｐ４にあるときには、ロータ３４が外側チャンバ７１
ａに挿入されて、外側チャンバ７１ａまたは後述する内
側チャンバ７１ｂを用いた洗浄処理を行うことが可能と
なっており、こうして、ロータ３４をウエハ搬送機構１
６との受け渡し位置から洗浄処理位置まで移動させるこ
とができる。なお、連結部３２が位置Ｐ４にあり、ロー
タ３４が外側チャンバ７１ａに挿入された状態は、後に
示す図７、図８に詳しく示している。

【００５４】ウエハＷの洗浄処理が終了した後には、連
結部３２が位置Ｐ４から位置Ｐ１に移動するように、前
述したロータ回転機構２７の移動経路を逆にたどること
で、ロータ３４内のウエハＷをウエハ搬送機構１６に受
け渡し可能となる位置まで、ロータ回転機構２７を移動
させることができることはいうまでもない。

【００５５】次に、洗浄部３ｂについて説明する。図７
と図８は洗浄部３ｂに配設されたチャンバ７０にロータ
３４が挿入されている状態を示した断面図である。ここ
で、チャンバ７０は、固定された外側チャンバ７１ａと
水平方向にスライド自在な内側チャンバ７１ｂとからな
る二重構造を有しており、図７は内側チャンバ７１ｂを
外側チャンバ７１ａの外側に退避させた退避位置にある
状態を、図８は内側チャンバ７１ｂを外側チャンバ７１
ａに収納した処理位置にある状態をそれぞれ示してい
る。なお、洗浄部３ｂには、円盤９２ａ、リング部材９
２ｂ、筒状体９１が配設されており、円盤９２ａには洗
浄液吐出ノズル７３ａと排気管７３ｃが設けられ、筒状
体９１にはガス供給ノズル９３と排気管９４が設けられ
ている。

【００５６】外側チャンバ７１ａは、筒状体６１ａと筒
状体６１ａの端面に配設されたリング部材６２ａ・６２
ｂを主な構成部材としており、リング部材６２ａ・６２
ｂの内周面にはそれぞれシール機構６３ａ・６３ｂが配
設されており、筒状体６１ａには水平方向に多数の処理
液吐出口５４が形成された処理液吐出ノズル５３がノズ
ルケース５７に収納された状態で取り付けられ、また、
外側チャンバ７１ａの下部には、処理液を排出するため
のドレイン６５ａが形成されている。

【００５７】リング部材６２ａにはロータ３４が進入ま
たは退出するためのロータ搬入出口６２ｃが形成されて
おり、このロータ搬入出口６２ｃは図２に示すように蓋
体６２ｄによって開閉自在となっている。このロータ搬
入出口６２ｃは、ロータ３４が外側チャンバ７１ａに進
入した状態では、ロータ回転機構２７に設けられた蓋体
３３により閉塞され、蓋体３３の外周面とロータ搬入出
口６２ｃとの間はシール機構６３ａによりシールされ
る。こうして外側チャンバ７１ａから処理液が搬送部３
ａに飛散することが防止される。

【００５８】なお、シール機構６３ａ・６３ｂとして
は、例えば、ゴム製シールリングや所定圧力の空気等を
供給することによって膨張することでシール機能が生ず
るゴム製チューブからなるもの等を用いることができ、
このようなシール機構は、後述するシール機構６７ａ・
６７ｂについても同様に用いられる。

【００５９】筒状体６１ａはリング部材６２ｂ側の外径
がリング部材６２ａ側の外径よりも大きく設定されてお
り、筒状体６１ａはリング部材６２ａ側よりもリング部
材６２ｂ側が低く位置するように勾配を設けて配設され
ている。こうして、処理液吐出ノズル５３からウエハＷ
に向けて吐出された各種の処理液は、自然に筒状体６１
ａの底面をリング部材６２ａ側からリング部材６２ｂ側
に流れて、ドレイン６５ａを通して外部に排出されるよ
うになっている。

【００６０】なお、処理液吐出ノズル５３には、薬液貯
蔵ユニット５等の処理液供給源から純水やＩＰＡ、各種
薬液といった処理液や窒素（Ｎ_２）ガス等の乾燥ガスが
供給されて、処理液吐出口５４からロータ３４に保持さ
れたウエハＷに向かって、これら処理液等を吐出するこ
とができるようになっている。また、処理液吐出ノズル
５３は、図７と図８では１本のみ示されているが、複数
個配設することも可能であり、必ずしも筒状体６１ａの
真上に設けなければならないものでもない。このこと
は、処理液吐出ノズル５５についても同様である。

【００６１】内側チャンバ７１ｂは、筒状体６１ｂと筒
状体６１ｂの端面に配設されたリング部材６６ａ・６６
ｂを主な構成部材としており、リング部材６６ａ・６６
ｂの内周面にはそれぞれシール機構６７ａ・６７ｂが配
設されている。筒状体６１ｂには水平方向に多数の処理
液吐出口５６が形成された処理液吐出ノズル５５がノズ
ルケース５８に収納された状態で取り付けられ、また、
内側チャンバ７１ｂの下部には、処理液を排出するため
のドレイン６５ｂが形成されている。

【００６２】筒状体６１ｂは円筒状に形成されている
が、その下部には処理液を外部に排出することを容易な
らしめるために、筒状体６１ｂから突出し所定の勾配を
有する溝部６９が形成されている。こうして、例えば、
内側チャンバ７１ｂが処理位置にあるときに、処理液吐
出ノズル５５からウエハＷに向かって吐出された処理液
は、溝部６９を流れてドレイン６５ｂを通して外部に排
出される。なお、処理液吐出ノズル５５には、薬液貯蔵
ユニット５等の処理液供給源から各種薬液や純水、ＩＰ
Ａといった処理液が供給されて、処理液吐出口５６から
ロータ３４に保持されたウエハＷに向かって、これら処
理液等を吐出することができるようになっている。

【００６３】内側チャンバ７１ｂが処理位置にある場合
には、図８に示されるように、リング部材６６ａの内周
面と蓋体３３との間はシール機構６７ａによってシール
され、また、リング部材６６ｂとリング部材６２ｂとの
間がシール機構６３ｂによってシールされ、かつ、リン
グ部材６６ｂと円盤９２ａとの間がシール機構６７ｂに
よってシールされるようになっている。こうして、内側
チャンバ７１ｂが処理位置にある場合には、筒状体６１
ｂ、リング部材６６ａ・６６ｂ、円盤９２ａ、蓋体３３
によって処理室５２が形成される。

【００６４】一方、内側チャンバ７１ｂが退避位置にあ
る状態では、リング部材６６ａとリング部材６２ｂとの
間がシール機構６３ｂによってシールされ、かつ、リン
グ部材６６ａと円盤９２ａとの間がシール機構６７ａに
よってシールされるようになっている。こうして、内側
チャンバ７１ｂが退避位置にあるときには、図７に示さ
れるように、筒状体６１ａ、リング部材６２ａ・６２
ｂ、円盤９２ａ、リング部材６６ａ、蓋体３３から、外
側チャンバ７１ａによる処理室５１が形成される。

【００６５】内側チャンバ７１ｂが退避位置にある状態
では、また、リング部材６６ｂとリング部材９２ｂとの
間がシール機構６７ｂによってシールされ、こうして、
筒状体９１の外周と筒状体６１ｂの内周との間に狭い環
状空間７２が形成されるようになっている。こうして、
環状空間７２に処理液吐出ノズル５５から洗浄液を吐出
し、その後に筒状体９１において複数箇所に設けられた
ガス供給ノズル９３と処理液吐出ノズル５５から窒素ガ
ス等の乾燥ガスを噴射し、排気管９４とドレイン６５ｂ
から排気を行うことで、内側チャンバ７１ｂの内周面の
洗浄を行うことができるようになっている。このとき、
環状空間７２という狭い空間を利用することで使用する
洗浄液の量が低減される。なお、ガス供給ノズル９３か
ら洗浄液を吐出するように構成してもよい。

【００６６】円盤９２ａに設けられた洗浄液吐出ノズル
７３ａからは、円盤３５ａを洗浄、乾燥するための洗浄
液や乾燥ガスが吐出可能となっており、また、蓋体３３
に設けられた洗浄液吐出ノズル７３ｂからは円盤３５ｂ
を洗浄、乾燥するための洗浄液や乾燥ガスが吐出可能と
なっている。さらに、洗浄液吐出ノズル７３ａ・７３ｂ
からは、処理室５１・５２を所定のガス雰囲気とするた
めの所定のガスを吐出することも可能であり、円盤９２
ａに設けられた排気管７３ｃから処理室５１・５２の排
気を行うことができるようになっている。

【００６７】次に、ウエハＷがフープＦにおいてどのよ
うな状態で収納されているかを検査するウエハ検査機構
１１０について説明する。このような検査は、例えば、
フープＦからウエハＷを搬出する前、および、洗浄処理
の終了したウエハＷをフープＦに搬入した後、に行われ
る。以下の説明においては、フープＦからウエハＷを搬
出する際のウエハＷの収納状態の検査を例に説明するこ
ととする。

【００６８】図９は、ウエハ検査機構１１０の構成を示
した説明図であり、ウエハ検査機構１１０は、反射式セ
ンサ１１１と、センサアンプ１１５と、反射式センサ１
１１を垂直方向に移動させる昇降機構１１２と、反射式
センサ１１１の高さ位置を検出する位置センサ１１３
と、シーケンサ（演算処理装置）１１４と、を有してい
る。昇降機構１１２は、ガイド１１６と、モータ１１７
と、連結部材１１８およびモータ１１７のドライバ１１
９から構成され、シーケンサ１１４は洗浄処理装置１全
体の処理制御を行う制御装置１２０に接続されている。

【００６９】反射式センサ１１１としては、信号を発信
する発信部と、発信された信号のうち測定対象物から反
射してきた信号を受信する受信部とを有するものが用い
られる。つまり、反射式センサ１１１は、原理的に測定
対象物において反射する性質を有する信号を利用してい
るものであればよく、具体的には、赤外線レーザ等のレ
ーザ光を用いたものが好適に用いられ、その他、超音波
や熱線、ＬＥＤ（発光ダイオード）光等を用いることが
できる。このような反射式センサ１１１を用いる場合に
は透過式センサを用いる場合と比較して、測定対象物の
形状によって仕様、例えば、赤外線レーザを用いたもの
であれば出力の大きさ等、が左右されない利点がある。

【００７０】反射式センサ１１１は連結部材１１８の下
端に取り付けられており、連結部材１１８は、ドライバ
１１９からの制御信号を受けたモータ１１７の回転駆動
によってガイド１１６に沿って垂直方向に昇降自在とな
っている。こうして、反射式センサ１１１は、例えば、
昇降機構１１２の動作によって、フープＦの最下段に収
納されたウエハＷから最上段に収納されたウエハＷに向
かって、またはフープＦの最上段に収納されたウエハＷ
から最下段に収納されたウエハＷに向かって、ウエハＷ
の端面から処理距離だけ離れた状態でスキャンされる。

【００７１】このとき、反射式センサ１１１は各ウエハ
Ｗに対して信号を発信するとともに発信した信号の反射
信号を受信し、受信した信号はアナログ信号としてセン
サアンプ１１５に送られる。センサアンプ１１５は、反
射式センサ１１１から送られたアナログ信号を後述する
ように所定の強度でスライスした矩形信号等のオン／オ
フ信号に変換する機能を有し、この矩形信号がシーケン
サ１１４に送られるようになっている。

【００７２】なお、反射式センサ１１１は、シャッター
１３ａ〜１３ｃの上部に取り付けることも可能であり、
この場合には、昇降機構１４ａ〜１４ｃが昇降機構１１
２の役割を果たすことから、装置構造を簡単なものとす
ることができる利点がある。ウエハＷをフープＦから搬
出する前に行われる反射式センサ１１１のスキャンは、
シャッター１３ａ〜１３ｃを窓部１２ａ〜１２ｃを開口
させるために下方に移動させることで行うことができ、
また、処理済みのウエハＷをフープＦに収納した後に行
われる反射式センサ１１１のスキャンは、シャッター１
３ａ〜１３ｃを窓部１２ａ〜１２ｃを閉口させるために
上方に移動させることで行うことができる。

【００７３】反射式センサ１１１をスキャンさせて上下
位置を変化させたときの高さ位置は位置センサ１１３に
より検出され、この検出結果はシーケンサ１１４に送ら
れて、センサアンプ１１５から送られた矩形信号と参照
され、シーケンサ１１４においてウエハＷの位置と収納
状態の解析が行われる。なお、ウエハＷの収納状態が判
断されるということは、フープＦ内に収納されたウエハ
Ｗの枚数も同時に検査されることは明らかである。

【００７４】反射式センサ１１１の高さ位置を測定する
方法としては、直接に反射式センサ１１１の位置を測定
する方法があるが、ウエハ検査機構１１０では連結部材
１１８が変形しないことから、この連結部材１１８の高
さ位置を測定することで、反射式センサ１１１の高さ位
置の測定を行っている。

【００７５】位置センサ１１３としては、図９に示すよ
うに、ウエハＷが正常にフープＦに収容された状態と同
じ間隔で発信部／受信部を有する複数のセンシング部１
１３ａが垂直方向に並べて設けられたものを用いること
ができる。この場合、各センシング部１１３ａの高さと
同じ高さに連結部材１１８が移動してくると、そのセン
シング部からの受信信号が増大することで、反射式セン
サ１１１の位置を特定することができる。なお、リニア
ゲージ等を用いて、連結部材１１８の位置をある位置を
起点として直接に座標計測することができるセンサを用
いることもできる。

【００７６】ウエハ検査機構１１０は制御装置１２０か
らの信号を受けて動作を開始し、また、ウエハ検査機構
１１０はウエハＷのフープＦ内の収納状態の検査結果を
制御装置１２０にフィードバックする。以下、具体的な
ウエハＷの収納状態の検査方法について説明する。

【００７７】図１０に、ウエハＷのフープＦ内での収納
状態を検査する方法の概略を示したフローチャートを示
す。最初に、目視検査によりフープＦに所定枚数のウエ
ハＷが正常な状態で収納されているフープＦをフープス
テージ２ａに載置する（ＳＴ１）。次に、蓋体開閉機構
１５ａを動作させて、フープＦの蓋体１１をシャッター
１３ａとともに移動させて窓部１２ａを開口させ、反射
式センサ１１１の位置を、例えば、フープＦの最下段に
収納されたウエハＷ（１枚目のウエハＷとする）よりも
若干下方まで降下させる（ＳＴ２）。このときの反射式
センサ１１１の位置をスキャン開始点とする。

【００７８】位置センサ１１３としては、上述したフー
プＦに収納されたウエハＷと同じ枚数のセンシング部１
１３ａが設けられたものを用いるものとし、反射式セン
サ１１１から所定強度の赤外線レーザをウエハＷに向け
て照射し、その反射信号を受信しながら、所定の一定速
度で反射式センサ１１１を上昇させ、反射式センサ１１
１の高さ位置を位置センサ１１３により測定する（ＳＴ
３）。ここで、反射式センサ１１１が１枚目のウエハＷ
に達したときには、位置センサ１１３に設けられた最も
下側に位置するセンシング部１１３ａが、連結部材１１
８が真横にある状態を検知するように、予め位置センサ
１１３の配設位置は調節されているものとする。

【００７９】この反射式センサ１１１の上昇に伴って得
られる反射式センサ１１１からの受信信号とセンシング
部１１３ａの検出信号との関係は、横軸にセンシング部
１１３ａの位置、つまりウエハＷの位置を、縦軸に反射
式センサ１１１の受信信号強度、つまりウエハＷからの
反射信号強度（センサアンプ１１５によりスライスして
いないアナログ信号波形）を取ると、図１１のグラフの
ように表され、理想的な状態では、一定形状のピークが
一定間隔で現れる信号パターンが得られることがわか
る。これにより、所定の時間、範囲を逆算し、以降その
データに基づいてウエハＷの状態を確認できる。

【００８０】次に、得られたアナログ信号波形からウエ
ハＷの収納状態が未知であるフープＦに収納されたウエ
ハＷの状態を検査するときのパラメータの設定を行う
（ＳＴ４）。なお、ＳＴ１〜ＳＴ４の工程は準備工程と
なる

【００８１】具体的には、図１１の横軸は反射式センサ
１１１のスキャン時間でもあることから、得られたアナ
ログ信号のピーク形状から、ピークが存在する時間幅Δ
Ｔ_１を設定する。具体的には、ｎ（ｎ＝１〜２５）枚目
のウエハＷについてのピークの立ち上がり開始時間ＴＡ
（ｎ）から立ち下がり終了時間ＴＢ（ｎ）までの時間に
設定することができ、この時間幅ΔＴ_１は、全てのウエ
ハＷについて同じ値とする。

【００８２】また、ウエハ搬送アーム１７ａ・１７ｂが
フープＦに挿入された状態で占拠する位置範囲を時間の
パラメータに変換して設定する。ここで、ｎ枚目のウエ
ハＷについてのピークの立ち下がり終了時間ＴＢ（ｎ）
からｎ＋１枚目のウエハＷについてのピークの立ち上が
り開始時間ＴＡ（ｎ＋１）に至る時間の範囲はウエハＷ
間の間隙部に相当し、この間隙部にウエハ搬送アーム１
７ａ・１７ｂが位置することとなるので、この立ち下が
り終了時間ＴＢ（ｎ）から立ち上がり開始時間ＴＡ（ｎ
＋１）に至る間に、ウエハ搬送アーム１７ａ・１７ｂの
位置を示すΔＴ _２（アーム位置指示時間）を設定し、こ
のアーム位置指示時間ΔＴ_２もまた各ウエハＷ間で同じ
値とする。

【００８３】図１１においては、このアーム位置指示時
間ΔＴ_２は最も広い範囲、すなわち、立ち下がり終了時
間ＴＢ（ｎ）から立ち上がり開始時間ＴＡ（ｎ＋１）に
至る範囲全体に設定している。こうして定められた時間
幅ΔＴ_１の絶対値とアーム位置指示時間ΔＴ_２の絶対値
は可変パラメータとすることができ、これにより、検査
精度を調節することが可能である。例えば、時間幅ΔＴ
_１の絶対値を小さく取るとウエハＷの位置をより厳しく
判断することができる。但し、時間幅ΔＴ_１は、後述す
る矩形信号１の立ち上がり時間ｔａ（ｎ）と立ち下がり
時間ｔｂ（ｎ）を図１１のアナログ信号に適用した場合
に得られる立ち上がり時間ｔａ（ｎ）と立ち下がり時間
ｔｂ（ｎ）の幅よりも広い範囲に設定する必要がある。

【００８４】図１１において、各ウエハＷについてピー
クの頂点が現れる時間ｔ（ｎ）は、反射式センサ１１１
がウエハＷの厚み方向のほぼ中央部を通過するときの時
間、つまり各ウエハＷの位置を示すと考えることができ
る。この時間ｔ（ｎ）（ウエハ位置指示時間）は、反射
式センサ１１１のスキャン開始点が同じであって、反射
式センサ１１１のスキャン速度が一定の場合には、一義
的に定まることから、各ウエハＷについてこのウエハ位
置指示時間ｔ（ｎ）を記憶しておく。

【００８５】こうしてウエハ位置指示時間ｔ（ｎ）を記
憶した場合には、ウエハ位置指示時間ｔ（ｎ）から、時
間幅ΔＴ_１の位置とセンサアンプ１１５から送られる矩
形信号１および矩形信号２との相対的な位置の微調整を
行い、適切な矩形信号１および矩形信号２の解析を行う
ことが可能となる。また、時間幅ΔＴ_１の位置はこのウ
エハ位置指示時間ｔ（ｎ）と関係付けて設定することが
できる。

【００８６】なお、時間幅ΔＴ_１とアーム位置指示時間
ΔＴ_２の設定においては、実際にフープＦにおける収納
状態が未知であるウエハＷについて検査を行う際にも、
反射式センサ１１１の赤外線レーザ出力、反射式センサ
１１１とウエハＷとの距離、反射式センサ１１１のスキ
ャン速度を変更しないことを前提とし、これらの条件を
変更する場合には、時間幅ΔＴ_１とアーム位置指示時間
ΔＴ_２についても変更する必要が生ずる場合がある。

【００８７】上述したパラメータを設定した上で、洗浄
処理を行うウエハＷが収納されているフープＦ（ウエハ
Ｗの収納状態は未知であるとする）について、ウエハＷ
の収納状態の検査を行う。すなわち、フープＦをフープ
ステージ２ａに載置して窓部１２ａを開口し、反射式セ
ンサ１１１の位置を、例えば、先に定めたスキャン開始
点まで降下させ、その後、反射式センサ１１１から所定
強度の赤外線レーザをウエハＷに向けて照射し、その反
射信号を受信しながら、所定の一定速度で反射式センサ
１１１を上昇させ、反射式センサ１１１の高さ位置を位
置センサ１１３により測定する（ＳＴ５）。得られたア
ナログ信号パターンを以下に説明する信号解析方法を用
いて解析し、ウエハＷの収納状態の良不良を判断する
（ＳＴ６）。

【００８８】ＳＴ６におけるウエハＷの収納状態の良不
良の判断は、例えば、次に示す信号解析手法によって行
われる。図１２は、新たに測定されたアナログ信号と、
そのアナログ信号処理方法を示した説明図である。図１
２（ａ）に示すように、得られたアナログ信号を任意の
２つの強度レベル（第１のレベルＩ_１および第２のレベ
ルＩ_２）でスライスして、図１２（ｂ）に示すような、
第１のレベルＩ_１でスライスして得られた矩形信号（矩
形信号１）と第２のレベルＩ_２でスライスして得られた
矩形信号（矩形信号２）の２つのオン／オフ信号を得
る。

【００８９】例えば、第１のレベルＩ_１は出現したピー
クの半値幅を与えるレベルとし、第２のレベルＩ_２は、
第１のレベルＩ_１よりも低くピークの立ち上がりよりも
高いレベル、例えば、第１のレベルＩ_１の大きさの１／
３〜２／３の高さ範囲に設定することができる。なお、
このようなアナログ信号のスライスはセンサアンプ１１
５において行われ、シーケンサ１１４には反射式センサ
１１１が受信したアナログ受信信号ではなく、センサア
ンプ１１５によってスライスされた矩形信号が送られ
る。センサアンプ１１５は、第１のレベルＩ_１と第２の
レベルＩ_２の高さ位置を決定する機能をも有する。

【００９０】ｎ枚目のウエハＷについての矩形信号１の
立ち上がり時間ｔａ（ｎ）（オフ状態からオン状態への
変換点を指す）と立ち下がり時間ｔｂ（ｎ）（オン状態
からオフ状態への変換点を指す）が、予め設定された時
間幅ΔＴ_１内に存在する場合には、シーケンサ１１４に
おいて、ｎ枚目のウエハＷは正常な位置にあるものと判
断する。このとき、矩形信号２の立ち上がり時間Ｔａ
（ｎ）と立ち下がり時間Ｔｂ（ｎ）もまた時間幅ΔＴ_１
内に存在することを確認すると、より正確性が高められ
る。図１２に示された矩形信号１と矩形信号２が得られ
た場合、ｎ枚目およびｎ＋１枚目のウエハＷは、この条
件を満足することから、正常な位置にあるものと判断さ
れる。

【００９１】なお、例えば、ｎ枚目のウエハＷについ
て、矩形信号１の立ち上がり時間ｔａ（ｎ）と立ち下が
り時間ｔｂ（ｎ）は予め設定された時間幅ΔＴ_１内に存
在するが、矩形信号２の立ち上がり時間Ｔａ（ｎ）と立
ち下がり時間Ｔｂ（ｎ）のいずれか一方または両方が時
間幅ΔＴ_１内に存在せずにアーム位置指示時間ΔＴ_２内
に存在する場合には、ピーク強度が予め時間幅ΔＴ_１を
決定した際に使用されたピークよりも極端に大きくなっ
ているものと考えられる。この場合には、例えば、ｎ枚
目のウエハＷが所定位置よりもフープＦから飛び出して
いる可能性があると判断される。

【００９２】次に、その他の形態のアナログ信号の解析
方法について、図１３と図１４を例に説明する。図１３
（ａ）に示したアナログ信号においては、ｎ枚目のウエ
ハＷのピークが現れる部分に２本の強いピークが出現し
ており、この状態は、予めｎ枚目のウエハＷを収納する
部分に２枚のウエハＷが重なって収納されていることを
示している。この場合には、図１３（ｂ）に示した矩形
信号１においては、少なくとも、時間幅ΔＴ_１内に２箇
所の立ち上がり時間ｔａ（ｎ）が現れることとなる。

【００９３】そこで、実際の検査においては、シーケン
サ１１４は矩形信号１において時間幅ΔＴ_１内に２箇所
以上の立ち上がり時間ｔａ（ｎ）が現れている場合に
は、ｎ枚目のウエハＷを収納する部分に２枚（またはそ
れ以上）のウエハＷが重なって収納されていると判断す
る。なお、この場合には、通常、矩形信号２における立
ち下がり時間Ｔｂ（ｎ）がアーム位置指示時間ΔＴ_２内
に現れることから、矩形信号２の形態から収納状態に何
らかの異常が生じていることを察することが可能であ
る。但し、矩形信号２の形態を考慮しなくともよい。

【００９４】図１４（ａ）に示したアナログ信号におい
ては、ｎ枚目のウエハＷとｎ＋１枚目のウエハＷの間に
小ピークが現れ、ｎ枚目のウエハＷを示すピークは正常
であるが、ｎ＋１枚目のウエハＷを示すピークが現れる
べき位置にピークが出現しておらず、この状態は、ｎ＋
１枚目のウエハＷがｎ枚目のウエハＷを収納する段とｎ
＋１枚目のウエハＷを収納する段との間で斜めに収納さ
れているジャンプスロットの状態を示している。

【００９５】この場合には、図１４（ｂ）に示すよう
に、アーム位置指示時間ΔＴ_２内に矩形信号２の立ち上
がり時間Ｔａ（ｎ＋１）と立ち下がり時間Ｔｂ（ｎ＋
１）が現れることとなる。なお、図１４に示したアナロ
グ信号の場合には、矩形信号１においてアーム位置指示
時間ΔＴ_２内に矩形信号１の立ち上がり時間ｔａ（ｎ＋
１）と立ち下がり時間ｔｂ（ｎ＋１）は現れないが、ピ
ークがより強く現れた場合には、矩形信号１の立ち上が
り時間ｔａ（ｎ＋１）と立ち下がり時間ｔｂ（ｎ＋１）
もまたアーム位置指示時間ΔＴ_２内に現れる場合があ
る。

【００９６】そこで、実際の検査においては、シーケン
サ１１４は矩形信号２においてアーム位置指示時間ΔＴ
_２内に立ち上がり時間Ｔａ（ｎ＋１）と立ち下がり時間
Ｔｂ（ｎ＋１）が現れている場合には、ｎ＋１枚目のウ
エハＷがジャンプスロットの状態で収納されているもの
と判断する。

【００９７】上述したように、例えば、ウエハＷが所定
位置よりもフープＦから飛び出している場合には、搬送
アーム１７ａが正確にウエハＷを保持することができな
い場合があり、ウエハＷの落下、破損等が生ずるおそれ
がある。また、ウエハＷが２枚重ねの状態となっている
場合には、搬送アーム１７ａによって２枚が同時にロー
タ３４に搬送された後、ロータ３４が２枚の重なったウ
エハＷを保持することができずにウエハＷが破損した
り、ロータ３４が損傷する危険性がある。さらに、ウエ
ハＷがジャンプスロットの状態で収納されている場合に
は、搬送アーム１７ａ・１７ｂをフープＦに挿入する
と、搬送アーム１７ａ・１７ｂがウエハＷを破壊し、ま
た、搬送アーム１７ａ・１７ｂも損傷する危険性があ
る。

【００９８】さらにまた、上述した不良収納状態のみな
らず、ｎ枚目のウエハＷが当然にあることが予想される
位置において、矩形信号１の立ち上がり時間ｔａ（ｎ）
と立ち下がり時間ｔｂ（ｎ）のいずれもが時間幅ΔＴ_１
内およびアーム位置指示時間ΔＴ_２内にも現れない場合
には、結局、ピークが存在しなかったこととなり、ｎ枚
目のウエハＷが欠落しているものと判断される。この場
合はウエハＷの損傷等は起こらないと考えられるが、所
定枚数のウエハＷを処理することができないことから、
生産管理上の問題を生ずるおそれがある。

【００９９】上述した信号解析方法を用いることによっ
て、シーケンサ１１４において解析された結果は制御装
置１２０に送られ（ＳＴ７）、制御装置１２０は、シー
ケンサ１１４がウエハＷの収納状態に異常が認められな
いと判断した場合には、ウエハ搬送機構１６によるウエ
ハＷの搬送を開始する（ＳＴ８ａ）。一方、ウエハＷの
収納状態に異常があると判断している場合には、例え
ば、警報を発してウエハ搬送機構１６によるウエハＷの
搬送を中止する等する（ＳＴ８ｂ）。

【０１００】次に、フープステージ２ａに載置されたフ
ープＦをフープＦ１とし、フープステージ２ｂに載置さ
れたフープＦをフープＦ２として、これら２個のフープ
Ｆ１・Ｆ２に収納されたウエハＷの洗浄処理を行う場合
を例に、その洗浄処理工程について説明する。まず、２
５枚のウエハＷが所定の間隔で平行に収納されたフープ
Ｆ１・Ｆ２を、フープＦ１・Ｆ２においてウエハＷの出
し入れを行うウエハ搬入出口が窓部１２ａ・１２ｂと対
面するように、それぞれフープステージ２ａ・２ｂに載
置する。

【０１０１】最初にフープＦ１に収納されたウエハＷを
搬送するために、窓部１２ａを開口させてフープＦ１の
内部とウエハ搬送ユニット４の内部が連通した状態とす
る。その後に、フープＦ１内のウエハＷの枚数および収
納状態の検査を、ウエハ検査機構１１０を用いて前述し
た検査方法により行う。ここで、ウエハＷの収納状態に
異常が検出された場合にはフープＦ１のウエハＷについ
ては処理を中断し、例えば、フープＦ２に収納されたウ
エハＷの処理に移行する。

【０１０２】フープＦ１内のウエハＷに異常が検出され
なかった場合には、フープＦ１に収納された全てのウエ
ハＷをウエハ搬送機構１６を動作させて搬送アーム１７
ａに移し替え、さらに窓部２５ａを開口した状態とし
て、ウエハＷを保持した搬送アーム１７ａをロータ３４
に挿入し、ウエハＷをロータ３４に移し替える。

【０１０３】そして、洗浄処理ユニット３においては、
姿勢変換機構２８、Ｚ軸リニア駆動機構２９、Ｘ軸リニ
ア駆動機構３０を駆動させ、ロータ３４が外側チャンバ
７１ａに挿入されるようにロータ回転機構２７を移動さ
せ、所定の状態に保持する。こうして、例えば、最初に
内側チャンバ７１ｂを処理位置に移動させて、ロータ３
４を回転してウエハＷを回転させながら、内側チャンバ
７１ｂを用いた薬液処理を行ない、その後に内側チャン
バ７１ｂを退避位置に移動させて、外側チャンバ７１ａ
を用いた水洗処理、ＩＰＡ処理、窒素ガスによる乾燥処
理を行う。一方、ウエハＷを保持していない状態となっ
たウエハ搬送機構１６については、搬送アーム１７ａが
フープステージ２ｂに載置されたフープＦ２にアクセス
できるように移動させ、フープＦ１からウエハＷを搬出
した方法と同様の方法を用いて、搬送アーム１７ａにフ
ープＦ２に収納されているウエハＷを移し替える。

【０１０４】続いて、洗浄処理が終了したウエハＷを保
持したロータ回転機構２７については、ウエハＷを搬送
アーム１７ａ・１７ｂとの間で受け渡し可能な位置へ移
動させ、また、搬送アーム１７ａにウエハＷを保持した
ウエハ搬送機構１６は、ウエハＷを保持していない搬送
アーム１７ｂがロータ３４にアクセスできる状態となる
ようにする。こうして、搬送アーム１７ｂがロータ３４
に収納されたウエハＷを受け取った後に、回転機構２２
を動作させて搬送アーム１７ａがロータ３４にアクセス
できるようにテーブル２１を１８０°回転させ、搬送ア
ーム１７ａからロータ３４に未処理のウエハＷを受け渡
す。

【０１０５】フープＦ２に収納されていた未処理のウエ
ハＷを保持したロータ回転機構２７は、前述したフープ
Ｆ１に収納されていたウエハＷの洗浄処理と同様の工程
により洗浄処理を施し、その後にウエハＷを搬送アーム
１７ａ・１７ｂとの間で受け渡し可能な位置まで移動さ
せる。その間に、ウエハ搬送機構１６については、洗浄
処理を終了したウエハＷをフープＦ１に戻すように駆動
し、その後、ウエハ搬送機構１６を搬送アーム１７ｂが
ロータ３４にアクセスできる状態としておく。搬送アー
ム１７ｂは洗浄処理が終了したフープＦ２のウエハＷを
ロータ３４から受け取り、このウエハＷをフープＦ２に
収納すれば、フープＦ１・Ｆ２に収納されたウエハＷに
ついての洗浄処理が終了する。

【０１０６】なお、例えば、フープステージ２ｃにフー
プＦ３が配置されている場合については、フープＦ１の
ウエハＷの処理が終了した後に、搬送アーム１７ａにフ
ープＦ３に収容されたウエハＷを移し替え、洗浄処理が
終了したフープＦ２のウエハＷをロータ３４から搬出し
た後に、搬送アーム１７ａに保持されたウエハＷをロー
タ３４に移し替えることで、連続して所定の洗浄処理を
行うことができる。

【０１０７】以上、本発明の実施の形態について、本発
明を洗浄処理装置に適用した場合について示したが、本
発明は、収納容器に基板を搬入し、または収納容器から
基板を搬出する操作が行われる全ての装置に適用するこ
とが可能である。例えば、レジストを塗布し現像するレ
ジスト塗布・現像処理システムや、所定の塗布液を塗布
して膜等を形成する塗布処理装置やエッチング処理装置
等に適用することも可能である。また、基板としては半
導体ウエハを例に挙げたが、これに限らず、反射式セン
サを用いて反射信号を受信することができる基板、例え
ば、金属基板、セラミックス基板、ガラス基板、樹脂基
板等であってもよい。従って、これら各種の基板をフー
プＦに収納して搬送し、所定の処理の際に取り出す作業
を伴う装置に、本発明の基板検査装置および基板検査方
法を適用することが可能である。

【０１０８】

【発明の効果】上述した通り、本発明によれば、容器に
収納された基板について、反射式センサによって得られ
る反射強度信号（アナログ信号）をそのまま解析するの
ではなく、変換された簡単なパターンの矩形信号等のオ
ン／オフ信号を用いて解析を行うために、基板検査装置
自体を安価に構成することができるという効果が得られ
る。しかも基板の枚数のみでなく、２枚重ねやジャンプ
スロットという不正常な収納状態をも検出することがで
きることから、基板に対する所定の処理の進行に伴っ
て、基板の破損や基板を搬送する機構に損傷が生ずるこ
とを防止することができ、こうして、生産性（処理効
率）、装置の保守性、メンテナンス性が高められるとい
う優れた効果を奏する。また、本発明の基板検査方法
は、容器内における基板の所定の収納方向が基板の主面
を水平方向とする場合または垂直方向とする場合のいず
れにも適用することができる利点がある。さらに、反射
式センサを用いていることから測定対象となる基板の大
きさに関係なく、基板検査装置を小型に構成できる利点
もある。なお、容器に形成された基板搬送口を開閉する
蓋体がある場合には、この蓋体を移動させる蓋体開閉機
構に反射式センサを設けることが可能であり、これによ
って基板検査装置を省スペース化することが容易であ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る洗浄処理装置を示す
斜視図。

【図２】図１記載の洗浄処理装置の平面図。

【図３】図１記載の洗浄処理装置の側面図。

【図４】図１記載の洗浄処理装置の別の側面図。

【図５】ロータの構造を示す説明図。

【図６】洗浄処理装置に配設されたロータ回転機構の移
動形態を示した説明図。

【図７】ロータをチャンバに挿入した状態の一例を示す
断面図。

【図８】ロータをチャンバに挿入した状態の別の例を示
す断面図。

【図９】ウエハ検査機構の構成を示す説明図。

【図１０】ウエハ収納状態の検査工程を示す説明図。

【図１１】ウエハが正常な状態でフープに収納された場
合に、ウエハ検査機構によって得られる信号パターンの
一例を示す説明図。

【図１２】信号パターンおよびピーク形状からウエハの
収納状態の良不良を判断する際の設定条件を示す説明
図。

【図１３】ウエハの収納状態に異常がある場合に、ウエ
ハ検査機構によって得られる信号パターンの一例を示す
説明図。

【図１４】ウエハの収納状態に異常がある場合に、ウエ
ハ検査機構によって得られる信号パターンの別の例を示
す説明図。

【符号の説明】

１；洗浄処理装置 ２；フープ搬入出部 ３；洗浄処理ユニット ４；ウエハ搬送ユニット ５；薬液貯蔵ユニット ６；電源ボックス １６；ウエハ搬送機構 １７ａ・１７ｂ；搬送アーム ２７；ロータ回転機構 ２８；姿勢変換機構 ２９；Ｚ軸リニア駆動機構 ３０；Ｘ軸リニア駆動機構 ３４；ロータ ７１ａ；外側チャンバ ７１ｂ；内側チャンバ １１０；ウエハ検査機構 １１１；反射式センサ １１２；昇降機構 １１３；位置センサ １１４；シーケンサ １１５；センサアンプ １２０；制御装置 Ｗ；半導体ウエハ（基板）

フロントページの続き Ｆターム(参考） 5F031 CA02 CA05 DA08 GA03 GA47 GA48 GA49 GA50 HA24 HA27 HA29 HA42 HA45 HA48 HA57 HA58 HA59 JA01 JA02 JA06 JA09 JA13 JA14 JA17 JA23 JA25 JA32 JA43 JA51 LA12 LA15 MA13 MA23 NA02 NA07 NA16 NA18 PA18

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の基板をその主面が略平行となるよ
   うに所定間隔で収納可能な容器に収納された基板の収納
   状態を検査する基板検査装置であって、 前記容器に収納された基板の端面から所定距離だけ離れ
   て配置された反射式センサと、 前記反射式センサを基板の配列方向に移動させる移動機
   構と、 前記反射式センサを前記移動機構によって移動させた際
   に検出された基板からの反射強度信号を少なくとも２つ
   の強度レベルでスライスして基板の有無に対応するオン
   ／オフ信号を得る信号処理部と、 前記オン／オフ信号を解析して前記容器に収納された基
   板の収納状態を判断する演算処理部と、 を具備することを特徴とする基板検査装置。
2. 【請求項２】 蓋体により開閉可能な基板搬送口を有
   し、複数の基板をその主面が略平行となるように所定間
   隔で収納可能な容器に収納された基板の収納状態を検査
   する基板検査装置であって、 前記容器の蓋体を基板の配列方向に移動させて前記基板
   搬送口を開閉する蓋体開閉機構と、 前記蓋体開閉機構に取り付けられた反射式センサと、 前記蓋体開閉機構の動きに合わせて前記反射式センサが
   移動する際に検出された基板からの反射強度信号を少な
   くとも２つの強度レベルでスライスして基板の有無に対
   応するオン／オフ信号を得る信号処理部と、 前記オン／オフ信号を解析して前記容器に収納された基
   板の収納状態を判断する演算処理部と、 を具備することを特徴とする基板検査装置。
3. 【請求項３】 前記容器が複数の基板をその主面が略水
   平となるように設置されるステージを設けたことを特徴
   とする請求項１または請求項２に記載の基板検査装置。
4. 【請求項４】 前記反射式センサは、レーザ光もしくは
   熱線または超音波またはＬＥＤ光を用いたセンサであっ
   て、信号発信部と信号受信部を具備することを特徴とす
   る請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の基板検
   査装置。
5. 【請求項５】 複数の基板をその主面が略平行となるよ
   うに所定間隔で収納可能な容器に収納された基板の収納
   状態を検査する基板検査方法であって、 信号発信部と信号受信部を有する反射式センサを基板の
   配列方向に移動させながら発信信号に対する前記容器内
   に収納された基板からの反射強度信号を得る第１工程
   と、 前記第１工程において得られた反射強度信号を少なくと
   も２つの強度レベルでスライスして基板の有無に対応す
   るオン／オフ信号を得る第２工程と、 前記オン／オフ信号におけるオン状態とオフ状態の転換
   点の出現位置を検出する第３工程と、 前記転換点の位置から前記容器に収納された基板の収納
   状態を解析する第４工程と、 を有することを特徴とする基板検査方法。
6. 【請求項６】 前記反射強度信号を高いレベルでスライ
   スして得られるオン／オフ信号におけるオン状態とオフ
   状態の転換点が予め定められた所定の時間範囲内に存在
   する場合には前記反射強度信号を与える基板が正常な状
   態で前記容器に収納されていると判断し、 前記反射強度信号を低いレベルでスライスして得られる
   オン／オフ信号におけるオン状態とオフ状態の転換点が
   前記予め定められた所定の時間範囲外に存在する場合に
   は前記反射強度信号を与える基板が異常な状態で前記容
   器に収納されていると判断することを特徴とする請求項
   ５に記載の基板検査方法。
7. 【請求項７】 前記反射強度信号を低いレベルでスライ
   スして得られるオン／オフ信号の解析結果を、前記反射
   強度信号を高いレベルでスライスして得られるオン／オ
   フ信号の解析結果よりも優位と判断することを特徴とす
   る請求項６に記載の基板検査方法。
8. 【請求項８】 基板に所定の液処理を施す液処理装置で
   あって、 複数の基板をその主面を略平行として収納可能な容器を
   載置する容器搬入出部と、 前記容器搬入出部に載置された容器に収納された基板の
   収納状態を検査するセンサシステムと、 前記容器に収納された基板に所定の液処理を施す液処理
   部と、 前記容器と前記液処理部との間で基板の搬送を行う基板
   搬送部と、 を具備し、 前記センサシステムは、 前記容器に収納された基板の端面から所定距離だけ離れ
   て配置された反射式センサと、 前記反射式センサを基板の配列方向に移動させる移動機
   構と、 前記反射式センサを前記移動機構によって移動させた際
   に検出された基板からの反射強度信号を少なくとも２つ
   の強度レベルでスライスして基板の有無に対応するオン
   ／オフ信号を得る信号処理部と、 前記オン／オフ信号を解析して前記容器に収納された基
   板の収納状態を判断する演算処理部と、 を有することを特徴とする液処理装置。
9. 【請求項９】 基板に所定の液処理を施す液処理装置で
   あって、 蓋体により開閉可能な基板搬送口を有し、複数の基板を
   その主面が略平行となるように所定間隔で収納可能な容
   器を載置する容器搬入出部と、 前記容器の蓋体を基板の配列方向に移動させて前記基板
   搬送口を開閉する蓋体開閉機構と、 前記容器搬入出部に載置された容器に収納された基板の
   収納状態を検査するセンサシステムと、 前記容器に収納された基板に所定の液処理を施す液処理
   部と、 前記容器と前記液処理部との間で基板の搬送を行う基板
   搬送部と、 を具備し、 前記センサシステムは、 前記蓋体開閉機構に取り付けられた反射式センサと、 前記蓋体開閉機構の動きに合わせて前記反射式センサが
   移動する際に検出された基板からの反射強度信号を少な
   くとも２つの強度レベルでスライスして基板の有無に対
   応するオン／オフ信号を得る信号処理部と、 前記オン／オフ信号を解析して前記容器に収納された基
   板の収納状態を判断する演算処理部と、 を有することを特徴とする液処理装置。
10. 【請求項１０】 前記液処理部は、 複数枚の基板を保持し、前記基板を面内回転可能な基板
    保持手段と、 前記基板保持手段に保持された基板に所定の処理液を供
    給する処理液供給機構と、 前記基板保持手段を収納するスライド式の処理チャンバ
    と、 を有することを特徴とする請求項８または請求項９に記
    載の液処理装置。
11. 【請求項１１】 前記処理チャンバは、少なくとも一方
    がスライドする外側チャンバと内側チャンバからなる二
    重構造を有することを特徴とする請求項１０に記載の液
    処理装置。