JP2002175955A - ダイシング方法及び部品の製造方法 - Google Patents

ダイシング方法及び部品の製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造効率の向上及び製造コストの低減を図る
ことのできる新規のダイシング方法及び部品の製造方法
を提供する。 【解決手段】 セラミック積層体10は第1キャリアシ
ート11上に接着され、第1キャリアシート11は第2
キャリアシート12上に接着されている。これらを基台
1上に吸着保持し、ダイシングソー2によって浅い第1
切込み13x及び深い第2切込み14xを形成する。ダ
イシング後、第2キャリアシートを第1キャリアシート
から剥離することによって、積層チップ100Aの配列
部分から外周分離片100Bを取り除くことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はダイシング方法及び
部品の製造方法に係り、特に、セラミックス積層体を分
割する工程を有する電子部品の製造工程に用いる場合に
好適な製造技術に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、積層セラミックコンデンサや積
層セラミックコイル等を製造する場合には、セラミック
グリーンシートの表面上に内部電極を印刷等により形成
し、このセラミックグリーンシートを複数枚積層してセ
ラミック積層体を形成する。この後に、ダイシング装置
によってセラミック積層体をチップ状に分割し、積層チ
ップを形成する。その後、焼結工程や外部電極形成工程
等を経て積層セラミック部品が完成される。
【0003】セラミックグリーンシートを積層する場合
には、例えばポリエチレンテレフタレート等の樹脂フィ
ルムの表面に粘着層を形成してなるキャリアシートを用
意し、このキャリアシートの上に上記セラミックグリー
ンシートを積み重ねていくことによって、セラミック積
層体がキャリアシート上に接着された状態で形成され、
その後のハンドリングが容易になるようにしている。
【0004】このキャリアシート上に形成されたセラミ
ック積層体は、ダイシング工程において、ダイシング装
置の基台上に真空吸着等の方法によってキャリアシート
が密着保持された状態で、ダイシングソーによって縦横
にダイシングされる。このダイシングに際しては、ダイ
シングソーの刃先がキャリアシートにやや食い込む程度
に切込みが形成されることにより、分割された積層チッ
プがそれぞれ個々にキャリアシートに接着された状態に
形成される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ダイシング工程が完了したとき、キャリアシートの最外
周に配置される外周分離片は、もともと積層チップを構
成するものとして内部電極パターンが設計されていなか
った部分に相当するものであったり、また、基本構造と
しては積層チップを構成可能であるが、セラミック積層
体の外周部には平面方向の位置ずれや波打ち等が集中し
やすいことから、一般に製品には利用されない。このた
め、ダイシング後においては、上記最外周の外周分離片
を内側の積層チップの配列部分から離反させるために、
キャリアシートの外縁部をカッター等によって切断し、
外周分離片をキャリアシートの外縁部とともに分離させ
る作業が必要になる。この作業は、積層チップに損傷を
与えないように慎重に行わなければならないとともに、
キャリアシート上に接着された積層チップの配列体はき
わめて撓みやすく扱いにくいことから、機械化がきわめ
て困難であり、人手によって行わざるを得ないため、製
造効率の向上と製造コストの低減を図る上での大きな障
害となっている。
【0006】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、製造効率の向上及び製造コストの
低減を図ることのできる新規のダイシング方法及び部品
の製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のダイシング方法は、第1支持体上に接着した
原材をダイシングするダイシング方法において、前記第
1支持体を第2支持体上に密着保持した状態で、前記原
材から切り込まれ少なくとも前記第1支持体を完全には
分断しない浅い第1切込みと、前記原材から切り込まれ
前記第1支持体を実質的に分断可能とする深い第2切込
みとを形成することを特徴とする。
【0008】この発明によれば、第1切込みより深い第
2切込みによって第1支持体を分断することが可能にな
るので、第1切込みと第2切込みとを形成した後に、第
2支持体を第1支持体から離反させることにより、第2
切込みに沿って第1支持体上の原材を容易に分離させる
ことが可能になる。
【0009】ここで、第1切込みは少なくとも第1支持
体を完全には分断しないように浅く形成されていればよ
い。例えば、第1切込みは第1支持体(の厚さの途中)
まで到達していることが好ましいが、原材を完全に分断
せず、第1支持体にまで到達していなくても構わない。
また、第2切込みは第1切込みよりも深く、原材を分断
するとともに第1支持体を分断可能に構成されていれば
よい。例えば、第2切込みが第1支持体を完全に分断す
るように形成されていることが好ましく、この場合には
第2切込みが第2支持体に到達していてもよい。しか
し、第1支持体を完全には分断していなくても、第2切
込みが第1支持体にまで到達していることにより手指で
簡単に分断可能な程度に第1支持体が薄く残されていれ
ばよく、或いはまた、第2切込みを場所によって深さを
変えて形成することにより第1支持体が手指で簡単に分
断可能な程度にミシン目状に切り込まれていてもよい。
【0010】本発明において、前記第2切込みを、前記
原材の第1部分と第2部分との境界線に沿って形成する
ことが好ましい。これによって、原材の第1部分と第2
部分とを完全に分離することが可能になる。この場合、
第1部分を必要な部分とし、第2部分を不要な部分とす
れば、必要な部分から不要な部分を分離することができ
る。また、第1部分を内側部分とし、第2部分を外周部
分とすることによって、内側部分から外周部分を分離す
ることができる。
【0011】本発明において、前記第1切込み及び前記
第2切込みを形成した後に、前記第1支持体における前
記第2切込みの一側に存在する部分と前記第2支持体と
を離反させることが好ましい。第1支持体における第2
切込みの一側に存在する部分と第2支持体とを離反させ
ることにより、第1支持体における第2切込みの一側に
存在する部分上に接着された原材の部分と、第1支持体
における第2切込みの他側に存在する部分上に接着され
た原材の部分とを相互に離反させることができる。この
場合に、第1支持体における第2切込みの他側に存在す
る部分と第2支持体とを分離することは必ずしも必要な
い。
【0012】本発明において、前記第2支持体を前記第
1支持体に対して剥離可能に接着することが好ましい。
この手段によれば、第1支持体を第2支持体上に確実に
密着保持することができ、ダイシング後に第2支持体を
第1支持体から剥離させることもできる。この場合に、
第2支持体をシート体とすることによって、第1支持体
を第2支持体上に簡単に接着させることが可能になり、
また、支障なくダイシング処理を行うことができる。こ
の場合、第2支持体の表面に粘着(接着)層を担持させ
ておくことが好ましい。また、第2支持体と第1支持体
との間の接着力を第1支持体と原材との間の接着力より
も弱くすることが、第2支持体の剥離を容易にするため
に好ましい。さらに、第2支持体を第1支持体から剥離
させたときに、粘着層(接着層)が第2支持体側にのみ
残るように構成することが後の原材の取り扱いを容易に
する上で好ましい。
【0013】次に、本発明の部品の製造方法は、複数の
部品相当部を含む原材を第1支持体上に接着し、該第1
支持体を第2支持体上に密着保持した状態で、前記原材
から切り込まれ少なくとも前記第1支持体を完全には分
断しない浅い第1切込みと、前記原材から切り込まれ前
記第1支持体を実質的に分断可能とする深い第2切込み
とを形成し、その後、前記第1支持体における前記第2
切込みの一側に存在する部分と前記第2支持体とを離反
させることを特徴とする。この場合に、前記第1切込み
及び前記第2切込みによって前記複数の部品相当部が分
離され、部品となるようにすることが好ましい。ここ
で、部品としては、電子部品やセラミック部品が挙げら
れる。特に、セラミック積層構造を有する積層セラミッ
ク構造を有するコンデンサやコイル等の電子部品を製造
する場合に好適である。
【0014】本発明において、前記第2切込みを前記原
材の第1部分と第2部分との境界線に沿って形成し、前
記第1支持体における前記第2切込みの一側に存在する
前記第1部分若しくは前記第2部分と前記第2支持体と
を離反させることにより、前記原材の前記第1部分と前
記第2部分とを離反させることが好ましい。
【0015】本発明において、前記第2支持体を前記第
1支持体に対して剥離可能に接着することが好ましい。
【0016】
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係るダイシング方法及び部品の製造方法の実施形態に
ついて詳細に説明する。なお、以下に説明する各実施形
態は、いずれも積層セラミック部品(コンデンサ或いは
コイル)を形成するための製造工程について説明してい
るが、本発明はこのような製造工程に限らず、原材をダ
イシングして部品を形成する種々の製造方法において用
いることができるものである。
【0017】[第1実施形態]図1は、本発明に係る第
1実施形態の製造工程(ダイシング方法)を示す概略工
程説明図(a)〜(c)である。この実施形態では、図
1(a)に示すように、前工程である積層工程におい
て、表面上に内部電極パターンを形成してなるセラミッ
クグリーンシートを積層してなるセラミック積層体10
が第1キャリアシート11上に接着層11aによって接
着された状態に構成される。
【0018】上記第1キャリアシート11の下には第2
キャリアシート12が接着層12aによって貼着されて
いる。この第2キャリアシート12は、上記積層工程に
おいて予め第1キャリアシート11に接着されていても
よく、或いは、積層工程の後に第1キャリアシート11
に接着されてもよい。さらに、予め第1キャリアシート
11と第2キャリアシート12とが相互に接着された2
層構造のシート体として構成されたものを用いてもよ
い。
【0019】次に、図1(b)に示すように、セラミッ
ク積層体10は、第2キャリアシート12をダイシング
装置の基台1の上に接触させた姿勢で基台1上に載置さ
れる。基台1には図示しない真空吸着構造が形成されて
おり、セラミック積層体10は基台1に対して吸着保持
される。この状態で、ダイシング装置のダイシングソー
2によってセラミック積層体10がダイシングされる。
セラミック積層体10は、図2に示すように、図示X方
向に伸びる第1切込み13x及び第2切込み14xと、
図示Y方向に伸びる第1切込み13y及び第2切込み1
4yによって縦横に分断され、その結果、内側にマトリ
クス状に配列された複数の積層チップ100Aと、セラ
ミック積層体10の最外周に沿って配列され、第2切込
み14x,14yによって積層チップ100Aと分離さ
れた複数の外周分離片100Bとが形成される。
【0020】図1(b)に示すように、第1切込み13
x,13yはダイシングソー2によって第1キャリアシ
ート11の厚さ方向の中間位置まで到達するように形成
され、第2切込み14x,14yはダイシングソー2を
より深く切り込ませることによって第2キャリアシート
12の厚さ方向の中間位置まで到達するように形成され
る。例えば、第1キャリアシート11及び第2キャリア
シート12がそれぞれ100μm程度の厚さであれば、
第1切込み13x,13yは第1キャリアシート11に
対して30〜60μm程度切り込まれ、第2切込み14
x,14yは第2キャリアシート12に対して30〜6
0μm程度切り込まれた状態に形成される。
【0021】その後、セラミック積層体10は、第1キ
ャリアシート11及び第2キャリアシート12とともに
基台1上から離反される。そして、図1(c)に示すよ
うに、最外周の外周分離片100Bと共に第2キャリア
シート12を第1キャリアシート11から剥離させる
と、最終的に残された第1キャリアシート11上に積層
チップ100Aのみが配列した状態となる。
【0022】その後、積層チップ100Aは第1キャリ
アシート11上から離反させられ、外観検査工程、研摩
工程、焼結工程、外部電極形成工程等を経て、図3に示
す積層セラミック部品100が形成される。この積層セ
ラミック部品(積層セラミックコンデンサ若しくは積層
セラミックコイル)100は、図3に示すように、セラ
ミック層101とその表面上の内部電極102とが積層
されてなる積層構造の端面上に外部電極103,104
が形成され、これらの外部電極103,104が内部電
極102と導電接続されるように構成されたものであ
る。
【0023】本実施形態において、第1キャリアシート
11の接着層11aは、特定の処理によって接着力が低
下するような接着剤、例えば加熱によって接着力が減退
する接着剤(例えば、加熱によって内部に混入された発
泡剤が発泡若しくは膨張し、接着力を低減させるものな
ど)、であることが、積層チップ100Aを第1キャリ
アシート11から離反させる際の手間が低減され、その
作業が容易になる点で好ましい。
【0024】また、第1キャリアシート11の接着層1
1aの接着力は、第2キャリアシート12の接着層12
aの接着力よりも大きいことが好ましい。これによって
図1(c)に示すように第2キャリアシート12を第1
キャリアシート11から容易に剥離させることができ、
このときに第1キャリアシート11と積層チップ100
Aとが離反してしまうことも防止される。
【0025】さらに、第2キャリアシート12は、ダイ
シングソー2の切込み深さの精度を高めなくても、容易
に第1キャリアシート11を切断することができるとと
もにダイシングソー2や基台1を損傷させないように作
業できるだけの充分な厚さを有することが好ましい。例
えば、第2キャリアシート12の厚さは80μm以上で
あることが好ましく、100μm以上であることが望ま
しい。
【0026】また、第2キャリアシート12の接着層1
2aは、第1キャリアシート11から剥離させたときに
第2キャリアシート12とともに第1キャリアシート1
1から離反され、第1キャリアシート11に残存しない
ものであることが好ましい。このようにすれば、第1キ
ャリアシート11上に接着された積層チップ100Aの
配列体の後工程における取り扱いが容易になる。
【0027】さらに、第2キャリアシート12は図示の
ように接着層12aを備えたものに限らず、第2キャリ
アシート12の素材自体が僅かでも接着性や粘着性を備
えたものであればよい。
【0028】[第2実施形態]次に、図4を参照して本
発明に係る第2実施形態について説明する。この実施形
態においては、図4(a)に示すように第1実施形態と
同様に第1キャリアシート11に接着支持されたセラミ
ック積層体10を、図4(b)に示すように、そのまま
ダイシング装置の基台3上に載置し、上記と同様に吸着
保持させる。このとき、基台3の表面上には、セラミッ
ク積層体10の外周に沿った台溝3aが形成されてい
る。
【0029】次に、第1実施形態と同様の第1切込み1
3x(13y)及び第2切込み14x(14y)を形成
する。このとき、第1切込み13x(13y)は上記と
同様に第1キャリアシート11の厚さ方向の中間位置ま
で到達するように形成され、第2切込み14x(14
y)は第1キャリアシート11を完全に分断するように
形成される。本実施形態では、第2切込み14x(14
y)が形成される分断予定線に沿って上記の台溝3aが
形成されているので、第2切込み14x(14y)の形
成時に基台3が損傷を受けたり、ダイシングソー2が破
損したりすることを防止できる。
【0030】その後、図4(c)に示すように、基台3
の第1キャリアシート11に対する吸着保持状態を解除
して、分割された積層チップ100A、外周分離片10
0B及び第1キャリアシート11を基台3上から離反さ
せる。すると、第2切込み14x(14y)によって第
1キャリアシート11が分断されていることにより、最
外周の外周分離片100Bは、内側に配列された積層チ
ップ100Aの配列体から離反される。
【0031】この実施形態では、基台3が上記の第2支
持体として利用され、吸着保持の解除によって第2支持
体が第1支持体から離反されるので、第1支持体上の積
層チップと外周分離片とを相互に分離させることが可能
になっている。このように、第1支持体と第2支持体と
の密着保持は、接着に限らず、結果的に密着保持するこ
とができるならばいかなる手段によってなされていても
構わない。
【0032】[第3実施形態]次に、図5を参照して本
発明に係る第3実施形態について説明する。この実施形
態においては、図5(a)に示す上記と同様のセラミッ
ク積層体10及び第1キャリアシート11を、図5
(b)に示すように、通気性を有する第2キャリアシー
ト15を介して基台1上に吸着保持させる。第2キャリ
アシート15は、図示例では細孔15aを備え、この細
孔15aを介して基台1に対する吸着力を第1キャリア
シート11に伝えるようにしているが、例えば第2キャ
リアシート15自体を通気性のある素材(多孔質材や繊
維質材等)で形成しても構わない。
【0033】本実施形態では、上記と同様に、図5
(b)に示す状態で第1実施形態と同様の第1切込み1
3x(13y)及び第2切込み14x(14y)を形成
し、その後、図5(c)に示すように基台1による吸着
保持状態を解除することにより、第2キャリアシート1
5が第1キャリアシート11から離反し、その結果、上
記と同様に積層チップ100Aが外周分離片100Bか
ら第1キャリアシート11とともに分離される。
【0034】なお、本発明のダイシング方法及び部品の
製造方法は、上述の図示例にのみ限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更
を加え得ることは勿論である。例えば、上記実施形態で
は、セラミック積層体10の最外周に不要な外周分離片
100Bが分割形成され、これを内側に配列された製品
となる積層チップ100Aから分離するようにしている
が、本発明はこのような態様に限らず、第2切込みを任
意の場所に形成し、その両側を分離するように構成して
もよい。また、第2切込みは第1キャリアシートを完全
に分離させるように形成されなくてもよく、例えば、手
指で簡単に分離できるようにきわめて薄い部分が残るよ
うに形成されていても、或いは、ミシン目状に切り込ま
れていてもよい。さらに、第1切込みは必ずしもセラミ
ック積層体を完全に分離させるように形成されている必
要はなく、後の工程で要求される程度に応じて積層チッ
プ間の一部が連結されていても構わない。
【0035】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
第1切込みと第2切込みとを形成した後に、第2支持体
を第1支持体から離反させることにより、第2切込みに
沿って第1支持体上の原材を容易に分離させることが可
能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るダイシング方法及び部品の製造方
法の第1実施形態を示す概略工程説明図(a)〜(c)
である。
【図2】第1実施形態のセラミック積層体のダイシング
態様を示す概略斜視図である。
【図3】第1実施形態の製造方法によって製造される積
層セラミック部品の構造を示す概略断面図である。
【図4】本発明に係るダイシング方法及び部品の製造方
法の第2実施形態を示す概略工程説明図(a)〜(c)
である。
【図5】本発明に係るダイシング方法及び部品の製造方
法の第3実施形態を示す概略工程説明図(a)〜(c)
である。
【符号の説明】
1 基台(第2支持体) 2 ダイシングソー 10 セラミック積層体(原材) 11 第1キャリアシート(第1支持体) 12,15 第2キャリアシート(第2支持体) 13x,13y 第1切込み 14x,14y 第2切込み 100 積層セラミック部品 100A 積層チップ 100B 外周分離片

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1支持体上に接着した原材をダイシン
    グするダイシング方法において、前記第1支持体を第2
    支持体上に密着保持した状態で、前記原材から切り込ま
    れ少なくとも前記第1支持体を完全には分断しない浅い
    第1切込みと、前記原材から切り込まれ前記第1支持体
    を実質的に分断可能とする深い第2切込みとを形成する
    ことを特徴とするダイシング方法。
  2. 【請求項2】 前記第2切込みを、前記原材の第1部分
    と第2部分との境界線に沿って形成することを特徴とす
    る請求項1に記載のダイシング方法。
  3. 【請求項3】 前記第1切込み及び前記第2切込みを形
    成した後に、前記第1支持体における前記第2切込みの
    一側に存在する部分と前記第2支持体とを離反させるこ
    とを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のダイシン
    グ方法。
  4. 【請求項4】 前記第2支持体を前記第1支持体に対し
    て剥離可能に接着することを特徴とする請求項1乃至請
    求項3のいずれか1項に記載のダイシング方法。
  5. 【請求項5】 複数の部品相当部を含む原材を第1支持
    体上に接着し、該第1支持体を第2支持体上に密着保持
    した状態で、前記原材から切り込まれ少なくとも前記第
    1支持体を完全には分断しない浅い第1切込みと、前記
    原材から切り込まれ前記第1支持体を実質的に分断可能
    とする深い第2切込みとを形成し、その後、前記第1支
    持体における前記第2切込みの一側に存在する部分と前
    記第2支持体とを離反させることを特徴とする部品の製
    造方法。
  6. 【請求項6】 前記第2切込みを前記原材の第1部分と
    第2部分との境界線に沿って形成し、前記第1支持体に
    おける前記第2切込みの一側に存在する前記第1部分若
    しくは前記第2部分と前記第2支持体とを離反させるこ
    とにより、前記原材の前記第1部分と前記第2部分とを
    離反させることを特徴とする請求項6に記載の部品の製
    造方法。
  7. 【請求項7】 前記第2支持体を前記第1支持体に対し
    て剥離可能に接着することを特徴とする請求項5又は請
    求項6に記載の部品の製造方法。
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KR100720994B1 (ko) 2005-10-13 2007-05-22 엘지전자 주식회사 초박형 전기 이중층 캐패시터의 제조방법
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JP2012104687A (ja) * 2010-11-11 2012-05-31 Murata Mfg Co Ltd 電子部品の製造方法
US11538983B2 (en) * 2017-09-12 2022-12-27 Ngk Insulators, Ltd. Chip component manufacturing method

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