JP2002174696A - 散乱線吸収グリッド - Google Patents
散乱線吸収グリッドInfo
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- Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 散乱線吸収グリッドにおいて、コストを上昇
させずに散乱線吸収特性を高める。 【解決手段】 タングステンを５０重量％以上含有する
粉体１１を、空間充填率４０％以上となるように結合材
１２で固めてなるグリッド用板材１３を用いてグリッド
を構成する。
させずに散乱線吸収特性を高める。 【解決手段】 タングステンを５０重量％以上含有する
粉体１１を、空間充填率４０％以上となるように結合材
１２で固めてなるグリッド用板材１３を用いてグリッド
を構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、散乱線吸収グリッ
ドに関し、詳しくは、放射線吸収材料からなる粉体を用
いてグリッドを形成した散乱線吸収グリッドに関するも
のである。
ドに関し、詳しくは、放射線吸収材料からなる粉体を用
いてグリッドを形成した散乱線吸収グリッドに関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】放射線撮影装置によって撮影を行なうと
きに被写体と放射線検出器との間に配置され、被写体に
よって散乱された散乱線を吸収してＳ／Ｎの高い放射線
を得るための散乱線吸収グリッドが知られている。
きに被写体と放射線検出器との間に配置され、被写体に
よって散乱された散乱線を吸収してＳ／Ｎの高い放射線
を得るための散乱線吸収グリッドが知られている。
【０００３】この散乱線吸収グリッドは、放射線を吸収
するグリッドを構成する材料である細長い薄板からなる
板材を多数、間隔をおいて並べて形成され、被写体によ
って散乱されて斜めに進む散乱放射線を吸収し、放射線
源から被写体を通して直線的に放射線検出器に入射する
放射線のみを効果的に透過させることにより、検出され
た被写体の画像に混入する散乱放射線によるノイズを低
減させるものである。
するグリッドを構成する材料である細長い薄板からなる
板材を多数、間隔をおいて並べて形成され、被写体によ
って散乱されて斜めに進む散乱放射線を吸収し、放射線
源から被写体を通して直線的に放射線検出器に入射する
放射線のみを効果的に透過させることにより、検出され
た被写体の画像に混入する散乱放射線によるノイズを低
減させるものである。
【０００４】このグリッドを構成する板材には、高い放
射線吸収特性が要求され、すなわち高い密度を有する材
料を用いる必要があり、一般に鉛を薄板状に加工した材
料が用いられている。
射線吸収特性が要求され、すなわち高い密度を有する材
料を用いる必要があり、一般に鉛を薄板状に加工した材
料が用いられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このような、高い密度
を有するグリッド用の素材としては、タンタル（Ｔａ）
やタングステン（Ｗ）が放射線吸収特性の観点から適し
ており、特にタングステンは放射線の吸収特性に優れて
いることが知られている。
を有するグリッド用の素材としては、タンタル（Ｔａ）
やタングステン（Ｗ）が放射線吸収特性の観点から適し
ており、特にタングステンは放射線の吸収特性に優れて
いることが知られている。
【０００６】しかしながら、タングステンは硬度が高
く、融点も極めて高い難加工材料であるため、タングス
テンを細長く薄いグリッド用板材に形成することは難し
く、仮にできたとしてもそのコストは非常に高いものと
なる。
く、融点も極めて高い難加工材料であるため、タングス
テンを細長く薄いグリッド用板材に形成することは難し
く、仮にできたとしてもそのコストは非常に高いものと
なる。
【０００７】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、低コストで散乱線吸収特性に優れた散乱線吸収グ
リッドを提供することを目的とするものである。
あり、低コストで散乱線吸収特性に優れた散乱線吸収グ
リッドを提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の散乱線吸収グリ
ッドは、タングステンを５０重量％以上含有する粉体を
空間充填率４０％以上、より望ましくは空間充填率６０
％以上となるように結合材で固めてなるグリッド用板
材、あるいはタングステンを５０重量％以上含有する粉
体を空間充填率４０％以上、より望ましくは空間充填率
６０％以上となるように結合材で固めてなるグリッド用
材料を基板上に積層してなるグリッド用板材を用いてグ
リッドを構成したことを特徴とするものである。
ッドは、タングステンを５０重量％以上含有する粉体を
空間充填率４０％以上、より望ましくは空間充填率６０
％以上となるように結合材で固めてなるグリッド用板
材、あるいはタングステンを５０重量％以上含有する粉
体を空間充填率４０％以上、より望ましくは空間充填率
６０％以上となるように結合材で固めてなるグリッド用
材料を基板上に積層してなるグリッド用板材を用いてグ
リッドを構成したことを特徴とするものである。
【０００９】また、上記「タングステンを５０重量％以
上含有する粉体」とは、タングステン化合物（合金を含
む）およびタングステンと他の物質とが物理的に混ぜ合
わされたタングステン混合物等のタングステンの存在形
態に拘らず、タングステンを５０重量％以上含有する粉
体を意味するものである。すなわち、例えばタングステ
ン化合物であるタングステン酸カルシンム：ＣａＷＯ４
のみによって形成されている粉体であっても、この粉体
はタングステン：Ｗを５０重量％以上含有しているの
で、上記「タングステンを５０重量％以上含有する粉
体」に含まれる。また、タングステンと他の金属とによ
る合金、例えばタングステン：Ｗと鉛：Ｐｂとの合金か
らなる粉体においても、上記粉体がタングステン：Ｗを
５０重量％以上含有していれば、この粉体は上記「タン
グステンを５０重量％以上含有する粉体」に含まれる。
また純粋なタングステン：Ｗとタングステンを含まない
物質とからなる粉体において、上記粉体がタングステ
ン：Ｗを５０重量％以上含有していれば、この粉体は上
記「タングステンを５０重量％以上含有する粉体」に含
まれることは言うまでもない。さらに、タングステン化
合物と純粋なタングステンとタングステンを含まない物
質とからなる粉体等においても、上記粉体がタングステ
ン：Ｗを５０重量％以上含有していれば、この粉体は上
記「タングステンを５０重量％以上含有する粉体」に含
まれる。
上含有する粉体」とは、タングステン化合物（合金を含
む）およびタングステンと他の物質とが物理的に混ぜ合
わされたタングステン混合物等のタングステンの存在形
態に拘らず、タングステンを５０重量％以上含有する粉
体を意味するものである。すなわち、例えばタングステ
ン化合物であるタングステン酸カルシンム：ＣａＷＯ４
のみによって形成されている粉体であっても、この粉体
はタングステン：Ｗを５０重量％以上含有しているの
で、上記「タングステンを５０重量％以上含有する粉
体」に含まれる。また、タングステンと他の金属とによ
る合金、例えばタングステン：Ｗと鉛：Ｐｂとの合金か
らなる粉体においても、上記粉体がタングステン：Ｗを
５０重量％以上含有していれば、この粉体は上記「タン
グステンを５０重量％以上含有する粉体」に含まれる。
また純粋なタングステン：Ｗとタングステンを含まない
物質とからなる粉体において、上記粉体がタングステ
ン：Ｗを５０重量％以上含有していれば、この粉体は上
記「タングステンを５０重量％以上含有する粉体」に含
まれることは言うまでもない。さらに、タングステン化
合物と純粋なタングステンとタングステンを含まない物
質とからなる粉体等においても、上記粉体がタングステ
ン：Ｗを５０重量％以上含有していれば、この粉体は上
記「タングステンを５０重量％以上含有する粉体」に含
まれる。
【００１０】なお、タングステン化合物としては上記タ
ングステン酸カルシンム：ＣａＷＯ ４の他に、例えばタ
ングステン酸鉄：ＦｅＷＯ４、タングステン酸リチウ
ム：ＬｉＷＯ４、タングステン酸マグネシウム：ＭｇＷ
Ｏ４、タングステン酸バリウム：ＢａＷＯ４、タングス
テン酸ナトリウム：Ｎａ２ＷＯ４、タングステン酸ニッ
ケル：ＮｉＷＯ４、タングステン酸鉛：ＰｂＷＯ４、ホ
ウ化タングステン：Ｗ２Ｂ、ＷＢ、Ｗ２Ｂ５、炭化タン
グステン：ＷＣ、Ｗ２Ｃ、酸化タングステン：ＷＯ、Ｗ
２Ｏ３、ＷＯ２、Ｗ２Ｏ５、硫化タングステン：Ｗ
Ｓ２、ＷＳ３、ケイ化タングステン：ＷＳｉ２、ＷＳｉ
３、Ｗ２Ｓｉ３等が挙げられる。また、上記タングステ
ンと合金を形成する他の金属としては上記鉛の他に、例
えばＣｏ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｔｉ
等が挙げられる。
ングステン酸カルシンム：ＣａＷＯ ４の他に、例えばタ
ングステン酸鉄：ＦｅＷＯ４、タングステン酸リチウ
ム：ＬｉＷＯ４、タングステン酸マグネシウム：ＭｇＷ
Ｏ４、タングステン酸バリウム：ＢａＷＯ４、タングス
テン酸ナトリウム：Ｎａ２ＷＯ４、タングステン酸ニッ
ケル：ＮｉＷＯ４、タングステン酸鉛：ＰｂＷＯ４、ホ
ウ化タングステン：Ｗ２Ｂ、ＷＢ、Ｗ２Ｂ５、炭化タン
グステン：ＷＣ、Ｗ２Ｃ、酸化タングステン：ＷＯ、Ｗ
２Ｏ３、ＷＯ２、Ｗ２Ｏ５、硫化タングステン：Ｗ
Ｓ２、ＷＳ３、ケイ化タングステン：ＷＳｉ２、ＷＳｉ
３、Ｗ２Ｓｉ３等が挙げられる。また、上記タングステ
ンと合金を形成する他の金属としては上記鉛の他に、例
えばＣｏ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｍｏ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｔｉ
等が挙げられる。
【００１１】前記結合剤は、有機バインダやタングステ
ンの融点未満の融点を有する金属とすることが好まし
い。
ンの融点未満の融点を有する金属とすることが好まし
い。
【００１２】また、結合剤とは、粉体等を主原料として
物体を形成する場合において、この物体の形状を維持し
その強度を高めるために配合する物質を意味するもので
ある。
物体を形成する場合において、この物体の形状を維持し
その強度を高めるために配合する物質を意味するもので
ある。
【００１３】また、前記金属とは、合金をも含むものを
意味し、放射線吸収特性に優れた密度の高い金属を用い
るのが適切である。
意味し、放射線吸収特性に優れた密度の高い金属を用い
るのが適切である。
【００１４】また、有機バインダとしては、粉体を構成
する各粒子間を結合し一定の形状を維持することができ
るように、例えば樹脂系の材料等を用いるのが適切であ
る。
する各粒子間を結合し一定の形状を維持することができ
るように、例えば樹脂系の材料等を用いるのが適切であ
る。
【００１５】また、前記粉体を構成する各粒子は、必ず
しも一定の比率でタングステンを含有する必要はなく、
各粒子毎にタングステンの含有率が異なっていても粉体
全体として所定量のタングステンを含有していればよ
い。
しも一定の比率でタングステンを含有する必要はなく、
各粒子毎にタングステンの含有率が異なっていても粉体
全体として所定量のタングステンを含有していればよ
い。
【００１６】また、グリッド用板材としては、一方向に
長く伸びた細長い薄板を用いるのが適切である。
長く伸びた細長い薄板を用いるのが適切である。
【００１７】
【発明の効果】本発明者は、タングステン粉体を結合剤
で固めてなるグリッド用板材の放射線吸収特性に関して
種々検討した結果、粉体に含有されるタングステンの割
合を５０重量％以上にし、この粉体を用いてグリッド用
板材を構成するときの粉体の空間充填率を４０％以上、
より望ましくは空間充填率６０％以上にすれば、放射線
吸収特性に優れたグリッド用板材を得ることができると
の知見を得、かかる知見に基づいて本発明に至ったもの
である。
で固めてなるグリッド用板材の放射線吸収特性に関して
種々検討した結果、粉体に含有されるタングステンの割
合を５０重量％以上にし、この粉体を用いてグリッド用
板材を構成するときの粉体の空間充填率を４０％以上、
より望ましくは空間充填率６０％以上にすれば、放射線
吸収特性に優れたグリッド用板材を得ることができると
の知見を得、かかる知見に基づいて本発明に至ったもの
である。
【００１８】本発明の散乱線吸収グリッドによれば、比
較的安価で放射線吸収特性に優れたタングステンの粉体
を結合材で固めてなるグリッド用板材、もしくはタング
ステンの粉体を結合材で固めてなるグリッド用材料を基
板上に積層してなるグリッド用板材を用いてグリッドを
構成したので、グリッド用板材の加工が極めて容易とな
りタングステンからなるグリッドの生産性が高まり、低
コストで散乱線吸収グリッドを得ることができる。
較的安価で放射線吸収特性に優れたタングステンの粉体
を結合材で固めてなるグリッド用板材、もしくはタング
ステンの粉体を結合材で固めてなるグリッド用材料を基
板上に積層してなるグリッド用板材を用いてグリッドを
構成したので、グリッド用板材の加工が極めて容易とな
りタングステンからなるグリッドの生産性が高まり、低
コストで散乱線吸収グリッドを得ることができる。
【００１９】また、結合剤を有機バインダとすれば、例
えば比較的低い温度で熔融したバインダにタングステン
の粉体を混練し、成形することにより、グリッド用板材
をより容易に形成することができ、散乱線吸収グリッド
のコストをさらに低減することができる。
えば比較的低い温度で熔融したバインダにタングステン
の粉体を混練し、成形することにより、グリッド用板材
をより容易に形成することができ、散乱線吸収グリッド
のコストをさらに低減することができる。
【００２０】また、結合剤をタングステンの融点未満の
融点を有する金属とすれば、例えば放射線吸収特性に優
れた鉛を結合剤とすれば、タングステンの粉体を結合材
で固めてなるグリッド用板材の放射線吸収特性をより高
めることができる。
融点を有する金属とすれば、例えば放射線吸収特性に優
れた鉛を結合剤とすれば、タングステンの粉体を結合材
で固めてなるグリッド用板材の放射線吸収特性をより高
めることができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の散乱線吸収グリッ
ドの具体的な実施の形態について、図面を用いて説明す
る。
ドの具体的な実施の形態について、図面を用いて説明す
る。
【００２２】図１は、本発明の第１、第２、第３、第
４、第５、第８、第９、および第１０の実施の形態に共
通な散乱線吸収グリッドの概略構成を示す図である。
４、第５、第８、第９、および第１０の実施の形態に共
通な散乱線吸収グリッドの概略構成を示す図である。
【００２３】＜第１の実施の形態＞図２は第１の実施の
形態の散乱線吸収グリッドを構成するグリッド用板材の
概略構成を示す断面図である。
形態の散乱線吸収グリッドを構成するグリッド用板材の
概略構成を示す断面図である。
【００２４】第１の実施の形態の散乱線吸収グリッド１
０は、タングステンを５０重量％含有する粉体１１を空
間充填率４０％となるように結合材１２で固めてなるグ
リッド用板材１３を用いて構成したグリッド１４（図１
参照）からなり、有機バインダ（結合剤）である高分子
樹脂とタングステンとを、加熱混練して型内に注入し冷
却してグリッド用板材を得る以下の製造工程によって製
造されたものである。
０は、タングステンを５０重量％含有する粉体１１を空
間充填率４０％となるように結合材１２で固めてなるグ
リッド用板材１３を用いて構成したグリッド１４（図１
参照）からなり、有機バインダ（結合剤）である高分子
樹脂とタングステンとを、加熱混練して型内に注入し冷
却してグリッド用板材を得る以下の製造工程によって製
造されたものである。
【００２５】まず始めにタングステンを５０重量％含有
する平均粒子サイズ７ミクロンのタングステン粉体５キ
ログラムに、有機バインダである融点１２０℃のペレッ
ト状の熱可塑性ポリウレタン樹脂２５０グラムを混合
し、１１０℃にて３時間乾燥させ脱水した。
する平均粒子サイズ７ミクロンのタングステン粉体５キ
ログラムに、有機バインダである融点１２０℃のペレッ
ト状の熱可塑性ポリウレタン樹脂２５０グラムを混合
し、１１０℃にて３時間乾燥させ脱水した。
【００２６】次に、図３に示すように、上記ペレット状
のポリウレタン樹脂とタングステンとの混合物２９を成
形機２０のホッパ２１に投入しバレル２２内において１
８０℃に加熱し流動化させスクリュ２３の回転によって
混練した。
のポリウレタン樹脂とタングステンとの混合物２９を成
形機２０のホッパ２１に投入しバレル２２内において１
８０℃に加熱し流動化させスクリュ２３の回転によって
混練した。
【００２７】その後、バレル２２内で流動化したウレタ
ン樹脂とタングステンとの混合物をグリッド用型２４に
注入した。
ン樹脂とタングステンとの混合物をグリッド用型２４に
注入した。
【００２８】その後、グリッド用型２４に注入したウレ
タン・タングステン混合物を冷却し、グリッド用型２４
から図４に示すような成形品２５を取り出して、スプー
ル２６およびランナ２７を除去して、タングステン粉体
の空間充填率が４０％となるようにポリウレタン樹脂で
固められた厚さ０．１ｍｍ、幅１０ｍｍ，長さ４４０ｍ
ｍの細長い薄板状のグリッド用板材１３を得た。
タン・タングステン混合物を冷却し、グリッド用型２４
から図４に示すような成形品２５を取り出して、スプー
ル２６およびランナ２７を除去して、タングステン粉体
の空間充填率が４０％となるようにポリウレタン樹脂で
固められた厚さ０．１ｍｍ、幅１０ｍｍ，長さ４４０ｍ
ｍの細長い薄板状のグリッド用板材１３を得た。
【００２９】その後、これらのグリッド用板材１３を多
数用いて散乱線吸収グリッド１０を組み立てたところ、
良好な散乱線吸収特性が得られた。
数用いて散乱線吸収グリッド１０を組み立てたところ、
良好な散乱線吸収特性が得られた。
【００３０】＜第２の実施の形態＞図５は本発明の第２
の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成するグリッド
用板材の概略構成を示す断面図であり、図１に第２の実
施の形態によるグリッド用板材を用いて構成した散乱線
吸収グリッド３０の概略構成を示す。
の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成するグリッド
用板材の概略構成を示す断面図であり、図１に第２の実
施の形態によるグリッド用板材を用いて構成した散乱線
吸収グリッド３０の概略構成を示す。
【００３１】第２の実施の形態による散乱線吸収グリッ
ド３０は、タングステンを５０重量％含有する粉体３１
を空間充填率４０％となるように結合材３２で固めてな
るタングステン層３３を、基板３４上に積層してなるグ
リッド用板材３５を用いて構成したグリッド３６（図１
参照）を備えてなり、このグリッド用板材３５は有機バ
インダ（結合材）である高分子樹脂を有機溶剤に溶かし
た溶液にタングステン粉体を液中分散させ、このタング
ステン粉体溶液を基板となる高分子フィルム上に塗布し
乾燥させる以下の製造工程によって製造されたものであ
る。
ド３０は、タングステンを５０重量％含有する粉体３１
を空間充填率４０％となるように結合材３２で固めてな
るタングステン層３３を、基板３４上に積層してなるグ
リッド用板材３５を用いて構成したグリッド３６（図１
参照）を備えてなり、このグリッド用板材３５は有機バ
インダ（結合材）である高分子樹脂を有機溶剤に溶かし
た溶液にタングステン粉体を液中分散させ、このタング
ステン粉体溶液を基板となる高分子フィルム上に塗布し
乾燥させる以下の製造工程によって製造されたものであ
る。
【００３２】まず始めにタングステンを５０重量％含有
する平均粒子サイズ７ミクロンのタングステン粉体５キ
ログラムに、有機バインダである不飽和ポリエステル樹
脂（東洋紡株製バイロン３００）１５０グラムを加え
た。
する平均粒子サイズ７ミクロンのタングステン粉体５キ
ログラムに、有機バインダである不飽和ポリエステル樹
脂（東洋紡株製バイロン３００）１５０グラムを加え
た。
【００３３】次に、このタングステン粉体溶液をプロペ
ラミキサによって撹拌しながらメチルエチルケトンを添
加して、溶液の粘度が２０ポアズとなるように調節し
た。
ラミキサによって撹拌しながらメチルエチルケトンを添
加して、溶液の粘度が２０ポアズとなるように調節し
た。
【００３４】その後、このタングステン粉体溶液を基板
である２０ミクロンの厚さのフィルム状のポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）樹脂上に塗布し、このＰＥＴ
樹脂基板３４上に塗布されたタングステン粉体溶液を乾
燥させた。
である２０ミクロンの厚さのフィルム状のポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）樹脂上に塗布し、このＰＥＴ
樹脂基板３４上に塗布されたタングステン粉体溶液を乾
燥させた。
【００３５】その後、このフィルム状のＰＥＴ樹脂基板
３４からなる１層目の上に、タングステン粉体をこのタ
ングステン粉体の空間充填率が４０％となるように不飽
和ポリエステル樹脂で固めた２層目のタングステン層３
３を積層してなる厚さ０．１ｍｍの薄い平板から、幅１
０ｍｍ，長さ４４０ｍｍの細長い板材を切り出すことに
より、グリッド用板材３５を得た。
３４からなる１層目の上に、タングステン粉体をこのタ
ングステン粉体の空間充填率が４０％となるように不飽
和ポリエステル樹脂で固めた２層目のタングステン層３
３を積層してなる厚さ０．１ｍｍの薄い平板から、幅１
０ｍｍ，長さ４４０ｍｍの細長い板材を切り出すことに
より、グリッド用板材３５を得た。
【００３６】その後、これらのグリッド用板材３５を多
数用いて散乱線吸収グリッド３０を組み立てたところ、
良好な散乱線吸収特性が得られた。
数用いて散乱線吸収グリッド３０を組み立てたところ、
良好な散乱線吸収特性が得られた。
【００３７】＜第３の実施の形態＞図６は本発明の第３
の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成するグリッド
用板材の概略構成を示す断面図であり、図１に第３の実
施の形態によるグリッド用板材を用いて構成した散乱線
吸収グリッド４０の概略構成を示す。
の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成するグリッド
用板材の概略構成を示す断面図であり、図１に第３の実
施の形態によるグリッド用板材を用いて構成した散乱線
吸収グリッド４０の概略構成を示す。
【００３８】第３の実施の形態による散乱線吸収グリッ
ド４０は、タングステンを６０重量％含有するタングス
テン粉体４１を空間充填率５０％となるように結合材４
２で固めてなるグリッド用板材４３を用いて構成したグ
リッド４４（図１参照）からなり、結合材である鉛半田
（錫と鉛とを主成分とする合金）とタングステン粉体４
１とを、加熱混練して細長い長方形状のスリットから押
し出してグリッド用板材を得る以下の製造工程によって
製造されたものである。
ド４０は、タングステンを６０重量％含有するタングス
テン粉体４１を空間充填率５０％となるように結合材４
２で固めてなるグリッド用板材４３を用いて構成したグ
リッド４４（図１参照）からなり、結合材である鉛半田
（錫と鉛とを主成分とする合金）とタングステン粉体４
１とを、加熱混練して細長い長方形状のスリットから押
し出してグリッド用板材を得る以下の製造工程によって
製造されたものである。
【００３９】まず始めにタングステンを６０重量％含有
する平均粒子サイズ７ミクロンのタングステン粉体５キ
ログラムに、タングステンの融点未満の融点を有する結
合剤である融点２２０℃の粒状の鉛半田１７００グラム
を混合した。
する平均粒子サイズ７ミクロンのタングステン粉体５キ
ログラムに、タングステンの融点未満の融点を有する結
合剤である融点２２０℃の粒状の鉛半田１７００グラム
を混合した。
【００４０】次に、図７に示すように、上記鉛半田とタ
ングステンとの混合物５９を押出機５０のホッパ５１に
投入しバレル５２内において２５０℃に加熱し流動化さ
せスクリュ５３によって混練した。
ングステンとの混合物５９を押出機５０のホッパ５１に
投入しバレル５２内において２５０℃に加熱し流動化さ
せスクリュ５３によって混練した。
【００４１】その後、バレル５２内の流動化した鉛半田
・タングステン混合物を幅約０．１ｍｍの細長い長方形
状のスリット５４からステンレス板５５上に連続的に押
し出した。
・タングステン混合物を幅約０．１ｍｍの細長い長方形
状のスリット５４からステンレス板５５上に連続的に押
し出した。
【００４２】その後、ステンレス板５５上に押し出した
鉛半田・タングステン混合物５９´を冷却し厚さ０．１
ｍｍとなった薄い平板から、幅１０ｍｍ，長さ４４０ｍ
ｍの細長い板材を切り出すことにより、グリッド用板材
４３を得た。
鉛半田・タングステン混合物５９´を冷却し厚さ０．１
ｍｍとなった薄い平板から、幅１０ｍｍ，長さ４４０ｍ
ｍの細長い板材を切り出すことにより、グリッド用板材
４３を得た。
【００４３】その後、これらのグリッド用板材４３を多
数用いて散乱線吸収グリッド４０を組み立てたところ、
良好な散乱線吸収特性が得られた。
数用いて散乱線吸収グリッド４０を組み立てたところ、
良好な散乱線吸収特性が得られた。
【００４４】＜第４の実施の形態＞図８は本発明の第４
の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成する第１のグ
リッド用板材原反の概略構成を示す断面図である。ま
た、図１に上記第１のグリッド用板材原反から切り出さ
れたグリッド用板材を用いて構成した本発明の第４の実
施の形態の散乱線吸収グリッドの概略構成を示す。な
お、グリッド用板材原反とは、グリッド用板材として所
定の形状に切り出される前の素材を意味するものであ
る。
の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成する第１のグ
リッド用板材原反の概略構成を示す断面図である。ま
た、図１に上記第１のグリッド用板材原反から切り出さ
れたグリッド用板材を用いて構成した本発明の第４の実
施の形態の散乱線吸収グリッドの概略構成を示す。な
お、グリッド用板材原反とは、グリッド用板材として所
定の形状に切り出される前の素材を意味するものであ
る。
【００４５】純度９９％のタングステン（平均粒子サイ
ズ５ミクロン）からなる粉体５キログラムに有機高分子
バインダであるポリウレタン樹脂１３０グラムを加えた
ものを、プロペラミキサーによって撹拌しながら、メチ
ルエチルケトンを添加して、このタングステン粉体溶液
の粘度が２０ポアズとなるように調節した。
ズ５ミクロン）からなる粉体５キログラムに有機高分子
バインダであるポリウレタン樹脂１３０グラムを加えた
ものを、プロペラミキサーによって撹拌しながら、メチ
ルエチルケトンを添加して、このタングステン粉体溶液
の粘度が２０ポアズとなるように調節した。
【００４６】その後、このタングステン粉体溶液を基板
である１８０μｍの厚さのフィルム状のポリエチレンテ
レフタレート（ＰＥＴ）樹脂製のＰＥＴ樹脂基板５１上
に塗布し、このＰＥＴ樹脂基板５１上に塗布された上記
タングステン粉体溶液を乾燥させて空間充填率６２％で
厚さが１００ミクロンのタングステン層５２を形成して
第１のグリッド用板材原反５３を得た（図８参照）。
である１８０μｍの厚さのフィルム状のポリエチレンテ
レフタレート（ＰＥＴ）樹脂製のＰＥＴ樹脂基板５１上
に塗布し、このＰＥＴ樹脂基板５１上に塗布された上記
タングステン粉体溶液を乾燥させて空間充填率６２％で
厚さが１００ミクロンのタングステン層５２を形成して
第１のグリッド用板材原反５３を得た（図８参照）。
【００４７】その後、この第１のグリッド用板材原反５
３から、幅１０ｍｍ，長さ４４０ｍｍの細長い板材を切
り出すことにより、グリッド用板材５４を得（図１参
照）、これらのグリッド用板材５４を多数用いて散乱線
吸収グリッド５０を組み立てたところ、良好な散乱線吸
収特性が得られた。
３から、幅１０ｍｍ，長さ４４０ｍｍの細長い板材を切
り出すことにより、グリッド用板材５４を得（図１参
照）、これらのグリッド用板材５４を多数用いて散乱線
吸収グリッド５０を組み立てたところ、良好な散乱線吸
収特性が得られた。
【００４８】＜第５の実施の形態＞図９は本発明の第５
の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成する第２のグ
リッド用板材原反の製作に用いられるカレンダロールの
概略構成を示す斜視図、図１０は上記第２のグリッド用
板材原反の概略構成を示す断面図である。また、図１に
上記第２のグリッド用板材原反から切り出されたグリッ
ド用板材を用いて構成した本発明の第５の実施の形態の
散乱線吸収グリッドの概略構成を示す。
の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成する第２のグ
リッド用板材原反の製作に用いられるカレンダロールの
概略構成を示す斜視図、図１０は上記第２のグリッド用
板材原反の概略構成を示す断面図である。また、図１に
上記第２のグリッド用板材原反から切り出されたグリッ
ド用板材を用いて構成した本発明の第５の実施の形態の
散乱線吸収グリッドの概略構成を示す。
【００４９】図９に示すように、第４の実施の形態と同
様の工程によって製作された第１のグリッド用板材原反
５３を、熱圧縮ロール６５Ａおよび熱圧縮ロール６５Ｂ
を備えたカレンダロール６５を通すことによって熱圧縮
（温度７０℃、圧力５０ＭＰａ）し、空間充填率７０％
で厚さ９０ミクロンのタングステン層６２をＰＥＴ樹脂
基板６１上に積層した第２のグリッド用板材原反６３
（図１０参照）を得た。
様の工程によって製作された第１のグリッド用板材原反
５３を、熱圧縮ロール６５Ａおよび熱圧縮ロール６５Ｂ
を備えたカレンダロール６５を通すことによって熱圧縮
（温度７０℃、圧力５０ＭＰａ）し、空間充填率７０％
で厚さ９０ミクロンのタングステン層６２をＰＥＴ樹脂
基板６１上に積層した第２のグリッド用板材原反６３
（図１０参照）を得た。
【００５０】その後、この第２のグリッド用板材原反６
３から、幅１０ｍｍ，長さ４４０ｍｍの細長い板材を切
り出すことにより、グリッド用板材６４を得、これらの
グリッド用板材６４を多数用いて散乱線吸収グリッド６
０を組み立てたところ、良好な散乱線吸収特性が得られ
た。
３から、幅１０ｍｍ，長さ４４０ｍｍの細長い板材を切
り出すことにより、グリッド用板材６４を得、これらの
グリッド用板材６４を多数用いて散乱線吸収グリッド６
０を組み立てたところ、良好な散乱線吸収特性が得られ
た。
【００５１】＜第６の実施の形態＞図１１は本発明の第
６の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成する第３の
グリッド用板材原反の概略構成を示す断面図、図１２は
上記第３のグリッド用板材原反を複数枚重ねて形成した
積層ブロック体を示す斜視図、図１３は上記積層ブロッ
ク体をスライスして積層切断体を取得する様子を示す斜
視図、図１４は積層切断体を凸ブロックと凹ブロックと
の間に挟んで保持する様子を示す図、および図１５は本
発明の第６の実施の形態の散乱線吸収グリッドを示す図
である。
６の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成する第３の
グリッド用板材原反の概略構成を示す断面図、図１２は
上記第３のグリッド用板材原反を複数枚重ねて形成した
積層ブロック体を示す斜視図、図１３は上記積層ブロッ
ク体をスライスして積層切断体を取得する様子を示す斜
視図、図１４は積層切断体を凸ブロックと凹ブロックと
の間に挟んで保持する様子を示す図、および図１５は本
発明の第６の実施の形態の散乱線吸収グリッドを示す図
である。
【００５２】まず始めに、図１１に示すように、第５の
実施の形態で得られたグリッド用板材原反６３のタング
ステン層６２と反対側のＰＥＴ樹脂基板６１上に線状ポ
リエステル樹脂の接着層６４を１０ミクロンの厚さで塗
布してグリッド用板材原反６５を形成した。
実施の形態で得られたグリッド用板材原反６３のタング
ステン層６２と反対側のＰＥＴ樹脂基板６１上に線状ポ
リエステル樹脂の接着層６４を１０ミクロンの厚さで塗
布してグリッド用板材原反６５を形成した。
【００５３】次に、図１２に示すように、上記グリッド
用板材原反６５と、このグリッド用板材原反６５と同形
状で厚さが異なる樹脂スペーサ６５′とを交互に複数枚
重ね、これを温度９０℃、圧力２０ＭＰａの雰囲気中に
５０分間保持した後冷却して積層ブロック体６６を形成
した。
用板材原反６５と、このグリッド用板材原反６５と同形
状で厚さが異なる樹脂スペーサ６５′とを交互に複数枚
重ね、これを温度９０℃、圧力２０ＭＰａの雰囲気中に
５０分間保持した後冷却して積層ブロック体６６を形成
した。
【００５４】次に、図１３に示すように、この積層ブロ
ック体６６をバンドソーを用いて幅５ｍｍにスライスす
ると共に、バンドソーによって切断された切断面を研磨
して積層切断体６７を得た。
ック体６６をバンドソーを用いて幅５ｍｍにスライスす
ると共に、バンドソーによって切断された切断面を研磨
して積層切断体６７を得た。
【００５５】次に、図１４に示すように、この積層切断
体６７をアルミニウム製のかまぼこ形状の凸ブロック６
８とこのかまぼこ形状を転写した形状を有する凹ブロッ
ク６８′との間に挟んで９０℃の雰囲気中に５０分間保
持した後冷却して取り出した。
体６７をアルミニウム製のかまぼこ形状の凸ブロック６
８とこのかまぼこ形状を転写した形状を有する凹ブロッ
ク６８′との間に挟んで９０℃の雰囲気中に５０分間保
持した後冷却して取り出した。
【００５６】これにより、図１５に示すように円弧状の
曲面の曲率中心が直線Ｌ１に収束する曲率半径が１．８
ｍの散乱線吸収グリッド６９が得られ、この散乱線吸収
グリッド６９は良好な散乱線吸収特性を示した。
曲面の曲率中心が直線Ｌ１に収束する曲率半径が１．８
ｍの散乱線吸収グリッド６９が得られ、この散乱線吸収
グリッド６９は良好な散乱線吸収特性を示した。
【００５７】＜第７の実施の形態＞図１６は本発明の第
７の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成する第４の
グリッド用板材の概略構成を示す断面図、図１７は上記
第４のグリッド用板材を切断して得られたグリッド用短
冊材の斜視図、図１８は上記グリッド用短冊材を並べて
接着して形成したグリッド用短冊ブロック体の斜視図、
図１９はグリッド用短冊ブロック体に天板と下板とを接
着剤で貼りつけて形成された本発明の第７の実施の形態
の散乱線吸収グリッドの斜視図である。
７の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成する第４の
グリッド用板材の概略構成を示す断面図、図１７は上記
第４のグリッド用板材を切断して得られたグリッド用短
冊材の斜視図、図１８は上記グリッド用短冊材を並べて
接着して形成したグリッド用短冊ブロック体の斜視図、
図１９はグリッド用短冊ブロック体に天板と下板とを接
着剤で貼りつけて形成された本発明の第７の実施の形態
の散乱線吸収グリッドの斜視図である。
【００５８】まず始めに、図１６に示すように、第４の
実施の形態と同様の工程によって作成された第１のグリ
ッド用板材原反５３のタングステン層５２の反対側のＰ
ＥＴ樹脂基板５１上に、線状ポリエステル樹脂を塗布し
て４０ミクロンの厚さの線状ポリエステル樹脂接着層７
１を積層して第４のグリッド用板材原反７２を作成し
た。
実施の形態と同様の工程によって作成された第１のグリ
ッド用板材原反５３のタングステン層５２の反対側のＰ
ＥＴ樹脂基板５１上に、線状ポリエステル樹脂を塗布し
て４０ミクロンの厚さの線状ポリエステル樹脂接着層７
１を積層して第４のグリッド用板材原反７２を作成し
た。
【００５９】このグリッド用板材原反７２を幅５ｍｍの
短冊状に切断して図１７に示すようなグリッド用短冊材
７３を得、図１８に示すようにグリッド用短冊材７３の
上記幅５ｍｍの短冊状の面の向きがこれらのグリッド用
短冊材７３から１．８ｍ離れた直線Ｌ２に向かって収束
するように、グリッド用短冊材７３と、このグリッド用
短冊材７３と同形状で厚さが異なる樹脂スペーサ７３′
とを交互にを並べながら順次接着してグリッド用短冊ブ
ロック体７４を形成した。なお、上記接着においては、
厚さ４０ミクロンの接着層が流動されることによって各
グリッド用短冊材７３と樹脂スペーサ７３′とが上記直
線Ｌ２に向かって収束するように傾けられて接着固定さ
れる。
短冊状に切断して図１７に示すようなグリッド用短冊材
７３を得、図１８に示すようにグリッド用短冊材７３の
上記幅５ｍｍの短冊状の面の向きがこれらのグリッド用
短冊材７３から１．８ｍ離れた直線Ｌ２に向かって収束
するように、グリッド用短冊材７３と、このグリッド用
短冊材７３と同形状で厚さが異なる樹脂スペーサ７３′
とを交互にを並べながら順次接着してグリッド用短冊ブ
ロック体７４を形成した。なお、上記接着においては、
厚さ４０ミクロンの接着層が流動されることによって各
グリッド用短冊材７３と樹脂スペーサ７３′とが上記直
線Ｌ２に向かって収束するように傾けられて接着固定さ
れる。
【００６０】次に、上記グリッド用短冊ブロック体７４
を構成するグリッド用短冊材７３の収束する側および発
散する側にそれぞれ厚さ０．３ｍｍの天板７５と下板７
６とを接着した。
を構成するグリッド用短冊材７３の収束する側および発
散する側にそれぞれ厚さ０．３ｍｍの天板７５と下板７
６とを接着した。
【００６１】これにより、図１９に示すような各グリッ
ド用短冊材７３から１．８ｍ離れた直線Ｌ２に向かって
収束するようにこれらのグリッド用短冊材７３が並べら
れた散乱線吸収グリッド７０が得られ、この散乱線吸収
グリッド７０は良好な散乱線吸収特性が得られた。
ド用短冊材７３から１．８ｍ離れた直線Ｌ２に向かって
収束するようにこれらのグリッド用短冊材７３が並べら
れた散乱線吸収グリッド７０が得られ、この散乱線吸収
グリッド７０は良好な散乱線吸収特性が得られた。
【００６２】＜第８の実施の形態＞図２０は本発明の第
８の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成する第５の
グリッド用板材原反の概略構成を示す断面図である。ま
た、図１に上記第５のグリッド用板材原反から切り出さ
れたグリッド用板材を用いて構成した本発明の第８の実
施の形態の散乱線吸収グリッドの概略構成を示す。
８の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成する第５の
グリッド用板材原反の概略構成を示す断面図である。ま
た、図１に上記第５のグリッド用板材原反から切り出さ
れたグリッド用板材を用いて構成した本発明の第８の実
施の形態の散乱線吸収グリッドの概略構成を示す。
【００６３】タングステン化合物である純度９９％のタ
ングステンカーバイド（ＷＣ、平均粒子サイズ４ミクロ
ン）からなる粉体５キログラムに有機高分子バインダで
あるポリウレタン樹脂１３０グラムを加えたものを、プ
ロペラミキサーによって撹拌しながら、メチルエチルケ
トンを添加して、このタングステンカーバイド粉体溶液
の粘度が２０ポアズとなるように調節した。
ングステンカーバイド（ＷＣ、平均粒子サイズ４ミクロ
ン）からなる粉体５キログラムに有機高分子バインダで
あるポリウレタン樹脂１３０グラムを加えたものを、プ
ロペラミキサーによって撹拌しながら、メチルエチルケ
トンを添加して、このタングステンカーバイド粉体溶液
の粘度が２０ポアズとなるように調節した。
【００６４】その後、このタングステンカーバイド粉体
溶液を基板である１８０μｍの厚さのフィルム状のポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂製のＰＥＴ樹脂
基板８１上に塗布し、このＰＥＴ樹脂基板８１上に塗布
されたタングステンカーバイド粉体溶液を乾燥させて空
間充填率６０％で厚さが１５０ミクロンのタングステン
カーバイド層８２を形成して図２０に示すような第５の
グリッド用板材原反８３を得た。
溶液を基板である１８０μｍの厚さのフィルム状のポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）樹脂製のＰＥＴ樹脂
基板８１上に塗布し、このＰＥＴ樹脂基板８１上に塗布
されたタングステンカーバイド粉体溶液を乾燥させて空
間充填率６０％で厚さが１５０ミクロンのタングステン
カーバイド層８２を形成して図２０に示すような第５の
グリッド用板材原反８３を得た。
【００６５】その後、この第５のグリッド用板材原反８
３から、幅１０ｍｍ，長さ４４０ｍｍの細長い板材を切
り出すことにより、グリッド用板材８４を得、これらの
グリッド用板材８４を多数用いて散乱線吸収グリッド８
０を組み立てたところ、良好な散乱線吸収特性が得られ
た。
３から、幅１０ｍｍ，長さ４４０ｍｍの細長い板材を切
り出すことにより、グリッド用板材８４を得、これらの
グリッド用板材８４を多数用いて散乱線吸収グリッド８
０を組み立てたところ、良好な散乱線吸収特性が得られ
た。
【００６６】＜第９の実施の形態＞図２１は本発明の第
９の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成する第６の
グリッド用板材原反の概略構成を示す断面図である。ま
た、図１に上記第６のグリッド用板材原反から切り出し
れたグリッド用板材を用いて構成した本発明の第９の実
施の形態の散乱線吸収グリッドの概略構成を示す。
９の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成する第６の
グリッド用板材原反の概略構成を示す断面図である。ま
た、図１に上記第６のグリッド用板材原反から切り出し
れたグリッド用板材を用いて構成した本発明の第９の実
施の形態の散乱線吸収グリッドの概略構成を示す。
【００６７】平均粒子サイズ５ミクロンの純度９９％の
タングステンからなる粉体３．５キログラムと平均粒子
サイズ１．５ミクロンの純度９９％のタングステンから
なる粉体１．５キログラムとが混合されてなる粉体に有
機高分子バインダであるポリウレタン樹脂８０グラムを
加えたものを、プロペラミキサーによって撹拌しなが
ら、メチルエチルケトンを添加して、このタングステン
粉体溶液の粘度が２０ポアズとなるように調節した。
タングステンからなる粉体３．５キログラムと平均粒子
サイズ１．５ミクロンの純度９９％のタングステンから
なる粉体１．５キログラムとが混合されてなる粉体に有
機高分子バインダであるポリウレタン樹脂８０グラムを
加えたものを、プロペラミキサーによって撹拌しなが
ら、メチルエチルケトンを添加して、このタングステン
粉体溶液の粘度が２０ポアズとなるように調節した。
【００６８】その後、このタングステン粉体溶液を基板
である１８０μｍの厚さのフィルム状のポリエチレンテ
レフタレート（ＰＥＴ）樹脂製のＰＥＴ樹脂基板９１上
に塗布し、このＰＥＴ樹脂基板５１上に塗布された上記
タングステン粉体溶液を乾燥させて空間充填率６６％で
厚さが１００ミクロンのタングステン層９２を形成して
第６のグリッド用板材原反９３を得た（図２１参照）。
である１８０μｍの厚さのフィルム状のポリエチレンテ
レフタレート（ＰＥＴ）樹脂製のＰＥＴ樹脂基板９１上
に塗布し、このＰＥＴ樹脂基板５１上に塗布された上記
タングステン粉体溶液を乾燥させて空間充填率６６％で
厚さが１００ミクロンのタングステン層９２を形成して
第６のグリッド用板材原反９３を得た（図２１参照）。
【００６９】その後、この第６のグリッド用板材原反９
３から、幅１０ｍｍ，長さ４４０ｍｍの細長い板材を切
り出すことにより、グリッド用板材９４を得、これらの
グリッド用板材９４を多数用いて散乱線吸収グリッド９
０（図１参照）を組み立てたところ、良好な散乱線吸収
特性が得られた。
３から、幅１０ｍｍ，長さ４４０ｍｍの細長い板材を切
り出すことにより、グリッド用板材９４を得、これらの
グリッド用板材９４を多数用いて散乱線吸収グリッド９
０（図１参照）を組み立てたところ、良好な散乱線吸収
特性が得られた。
【００７０】＜第１０の実施の形態＞図２２は本発明の
第１０の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成する第
７のグリッド用板材原反の製作に用いられるカレンダロ
ールの概略構成を示す斜視図、図２３は上記第７のグリ
ッド用板材におけるタングステンの充填密度の向上の様
子を示す概念図である。また、図１に上記第７のグリッ
ド用板材原反から切り出されたグリッド用板材を用いて
構成した本発明の第１０の実施の形態の散乱線吸収グリ
ッドの概略構成を示す。
第１０の実施の形態の散乱線吸収グリッドを構成する第
７のグリッド用板材原反の製作に用いられるカレンダロ
ールの概略構成を示す斜視図、図２３は上記第７のグリ
ッド用板材におけるタングステンの充填密度の向上の様
子を示す概念図である。また、図１に上記第７のグリッ
ド用板材原反から切り出されたグリッド用板材を用いて
構成した本発明の第１０の実施の形態の散乱線吸収グリ
ッドの概略構成を示す。
【００７１】図２２に示すように、第９の実施の形態と
同様の工程によって製作された第６のグリッド用板材原
反９３を熱圧縮ロール６５Ａおよび熱圧縮ロール６５Ｂ
を備えたカレンダロール６５を通すことによって熱圧縮
（温度７０℃、圧力５０ＭＰａ）し、空間充填率７２％
で厚さ９２ミクロンのタングステン層９５を有する第７
のグリッド用板材原反９６を得た。図２３に示すよう
に、上記熱圧縮により第７のグリッド用板材原反９６に
おいては平均粒子サイズ５ミクロンのタングステンから
なる粉体である大きな粒子Ｂの隙間に平均粒子サイズ
１．５ミクロンのタングステンからなる粉体である小さ
な粒子Ｓが入りこみ空間的に効率よく充填されるので、
第７のグリッド用板材原反９６のタングステン層９５中
のタングステンの充填密度を第６のグリッド用板材原反
９３のタングステン層９２より高めることができる。
同様の工程によって製作された第６のグリッド用板材原
反９３を熱圧縮ロール６５Ａおよび熱圧縮ロール６５Ｂ
を備えたカレンダロール６５を通すことによって熱圧縮
（温度７０℃、圧力５０ＭＰａ）し、空間充填率７２％
で厚さ９２ミクロンのタングステン層９５を有する第７
のグリッド用板材原反９６を得た。図２３に示すよう
に、上記熱圧縮により第７のグリッド用板材原反９６に
おいては平均粒子サイズ５ミクロンのタングステンから
なる粉体である大きな粒子Ｂの隙間に平均粒子サイズ
１．５ミクロンのタングステンからなる粉体である小さ
な粒子Ｓが入りこみ空間的に効率よく充填されるので、
第７のグリッド用板材原反９６のタングステン層９５中
のタングステンの充填密度を第６のグリッド用板材原反
９３のタングステン層９２より高めることができる。
【００７２】その後、この第７のグリッド用板材原反９
６から、幅１０ｍｍ，長さ４４０ｍｍの細長い板材を切
り出すことにより、グリッド用板材９７を得、これらの
グリッド用板材９７を多数用いて散乱線吸収グリッド９
８を組み立てたところ、良好な散乱線吸収特性が得られ
た。
６から、幅１０ｍｍ，長さ４４０ｍｍの細長い板材を切
り出すことにより、グリッド用板材９７を得、これらの
グリッド用板材９７を多数用いて散乱線吸収グリッド９
８を組み立てたところ、良好な散乱線吸収特性が得られ
た。
【００７３】なお、上記各実施の形態においては粉体に
占めるタングステンの含有率、およびこの粉体を用いて
形成した板材に占める粉体の空間充填率を数値で示した
が、これらの含有率および充填率はこの範囲に限定され
るものではなく、タングステンを５０重量％以上含有す
る粉体を、空間充填率４０％以上となるように結合材で
固めてなるグリッド用板材、あるいはタングステンを５
０重量％以上含有する粉体を、空間充填率４０％以上と
なるように結合材で固めてなるグリッド用材料を基板上
に積層してなるグリッド用板材を用いて散乱線吸収グリ
ッドを構成すれば上記実施の形態と同様な良好な散乱線
吸収特性が得られる。
占めるタングステンの含有率、およびこの粉体を用いて
形成した板材に占める粉体の空間充填率を数値で示した
が、これらの含有率および充填率はこの範囲に限定され
るものではなく、タングステンを５０重量％以上含有す
る粉体を、空間充填率４０％以上となるように結合材で
固めてなるグリッド用板材、あるいはタングステンを５
０重量％以上含有する粉体を、空間充填率４０％以上と
なるように結合材で固めてなるグリッド用材料を基板上
に積層してなるグリッド用板材を用いて散乱線吸収グリ
ッドを構成すれば上記実施の形態と同様な良好な散乱線
吸収特性が得られる。
【００７４】また、上記実施の形態における散乱線吸収
グリッドを構成するグリッド用板材（図１中の１３、３
５、４３、５４、６４、８４、９４および９７）の間に
充当するスペーサはＸ線の吸収が少ないものがよい。例
えばアルミニウム、木、紙、布、樹脂、不織布、発泡樹
脂などを上記スペーサとして用いることができる。
グリッドを構成するグリッド用板材（図１中の１３、３
５、４３、５４、６４、８４、９４および９７）の間に
充当するスペーサはＸ線の吸収が少ないものがよい。例
えばアルミニウム、木、紙、布、樹脂、不織布、発泡樹
脂などを上記スペーサとして用いることができる。
【００７５】上記のように本発明によれば、優れた放射
線吸収特性を持つタングステンの粉体を用いることによ
りグリッド用板材の加工が極めて容易となりタングステ
ンからなるグリッドの生産性が高まるので、比較的低コ
ストで散乱線吸収特性に優れた散乱線吸収グリッドを得
ることができる。
線吸収特性を持つタングステンの粉体を用いることによ
りグリッド用板材の加工が極めて容易となりタングステ
ンからなるグリッドの生産性が高まるので、比較的低コ
ストで散乱線吸収特性に優れた散乱線吸収グリッドを得
ることができる。
【図１】本発明の実施の形態による散乱線吸収グリッド
の概略構成を示す図
の概略構成を示す図
【図２】第１の実施の形態におけるグリッド用板材の概
略構成を示す図
略構成を示す図
【図３】成形機によってグリッド用板材を成形する様子
を示す図
を示す図
【図４】成形された成形品を示す図
【図５】第２の実施の形態におけるグリッド用板材の概
略構成を示す図
略構成を示す図
【図６】第３の実施の形態におけるグリッド用板材の概
略構成を示す図
略構成を示す図
【図７】押出機によってグリッド用板材を成形する様子
を示す図
を示す図
【図８】第４の実施の形態の第１のグリッド用板材原反
の概略構成を示す断面図
の概略構成を示す断面図
【図９】第５の実施の形態で用いられるカレンダロール
の概略構成を示す斜視図
の概略構成を示す斜視図
【図１０】第２のグリッド用板材原反の概略構成を示す
断面図
断面図
【図１１】第６の実施の形態の第３のグリッド用板材原
反の概略構成を示す断面図
反の概略構成を示す断面図
【図１２】積層ブロック体を示す斜視図
【図１３】積層ブロック体スライスして得られた積層切
断体の斜視図
断体の斜視図
【図１４】積層切断体を凹、凸２つのブロックの間に挟
んで保持する様子を示す図
んで保持する様子を示す図
【図１５】本発明の第６の実施の形態の散乱線吸収グリ
ッドを示す図
ッドを示す図
【図１６】第７の実施の形態の第４のグリッド用板材の
概略構成を示す断面図
概略構成を示す断面図
【図１７】グリッド用短冊材の斜視図
【図１８】グリッド用短冊ブロック体の斜視図
【図１９】第７の実施の形態の散乱線吸収グリッドの斜
視図
視図
【図２０】第８の実施の形態の第５のグリッド用板材原
反の概略構成を示す断面図
反の概略構成を示す断面図
【図２１】第９の実施の形態の第６のグリッド用板材原
反の概略構成を示す断面図
反の概略構成を示す断面図
【図２２】第１０の実施の形態に用いられるカレンダロ
ールの概略構成を示す斜視図
ールの概略構成を示す斜視図
【図２３】タングステンの充填密度の違いを示す概念図
１１ 粉体 １２ 結合材 １３グリッド用板材
Claims (5)
- 【請求項１】 タングステンを５０重量％以上含有する
粉体を、空間充填率４０％以上となるように結合材で固
めてなるグリッド用板材を用いてグリッドを構成したこ
とを特徴とする散乱線吸収グリッド。 - 【請求項２】 タングステンを５０重量％以上含有する
粉体を、空間充填率４０％以上となるように結合材で固
めてなるグリッド用材料を基板上に積層してなるグリッ
ド用板材を用いてグリッドを構成したことを特徴とする
散乱線吸収グリッド。 - 【請求項３】 前記結合剤が有機バインダであることを
特徴とする請求項１または２記載の散乱線吸収グリッ
ド。 - 【請求項４】 前記結合剤がタングステンの融点未満の
融点を有する金属であることを特徴とする請求項１また
は２記載の散乱線吸収グリッド。 - 【請求項５】 前記空間充填率が６０％以上であること
を特徴とする請求項１から４のいずれか１項記載の散乱
線吸収グリッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001281035A JP2002174696A (ja) | 2000-09-28 | 2001-09-17 | 散乱線吸収グリッド |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000-297009 | 2000-09-28 | ||
| JP2000297009 | 2000-09-28 | ||
| JP2001281035A JP2002174696A (ja) | 2000-09-28 | 2001-09-17 | 散乱線吸収グリッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002174696A true JP2002174696A (ja) | 2002-06-21 |
Family
ID=26600993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001281035A Pending JP2002174696A (ja) | 2000-09-28 | 2001-09-17 | 散乱線吸収グリッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002174696A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012112882A (ja) * | 2010-11-26 | 2012-06-14 | Fujifilm Corp | 放射線画像撮影用グリッド及びその製造方法、並びに放射線画像撮影システム |
| JP2018508765A (ja) * | 2015-01-27 | 2018-03-29 | プランゼー エスエー | 散乱線グリッド |
-
2001
- 2001-09-17 JP JP2001281035A patent/JP2002174696A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012112882A (ja) * | 2010-11-26 | 2012-06-14 | Fujifilm Corp | 放射線画像撮影用グリッド及びその製造方法、並びに放射線画像撮影システム |
| JP2018508765A (ja) * | 2015-01-27 | 2018-03-29 | プランゼー エスエー | 散乱線グリッド |
| US10706984B2 (en) | 2015-01-27 | 2020-07-07 | Plansee Se | Anti-scatter grid |
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