JP2002164417A - Method for detecting substrate and its apparatus - Google Patents

Method for detecting substrate and its apparatus

Info

Publication number
JP2002164417A
JP2002164417A JP2001291987A JP2001291987A JP2002164417A JP 2002164417 A JP2002164417 A JP 2002164417A JP 2001291987 A JP2001291987 A JP 2001291987A JP 2001291987 A JP2001291987 A JP 2001291987A JP 2002164417 A JP2002164417 A JP 2002164417A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
detecting
storage container
cassette
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2001291987A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuo Imanishi
保夫 今西
Masami Otani
正美 大谷
Jun Shibukawa
潤 渋川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2001291987A priority Critical patent/JP2002164417A/en
Publication of JP2002164417A publication Critical patent/JP2002164417A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique of grasping a stored state of substrates in a storing cassette, in a method for detecting a substrate and its apparatus. SOLUTION: A reflecting sensor 10 is installed on a shutter member 5 for closing a passage opening 12a of a partition 12. The reflecting sensor 10, which is lowered in one with the shutter member 5 with the lowering of a cover 1b releasably fitted to an opening 1c of a cassette 1, detects the substrates W in the cassette 1 successively. A data processing part 11 collects the detected information on the substrates W. On the other hand, a position detecting means detects the position of the reflecting sensor 10 by means of information sent from an encoder 13a provided to an up-down mechanism 7. A processing part 14 can grasp the state of the substrates W in the cassette 1 from the detected information of the substrates W and the position of the reflecting sensor 10.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板収納容器に収
納された基板の有無を検出する基板の検出方法およびそ
の装置に係り、特に基板収納容器内の基板の収納状態を
把握する技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for detecting a substrate for detecting the presence or absence of a substrate stored in a substrate storage container, and more particularly to a technique for grasping the storage state of the substrate in the substrate storage container.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の検出装置を備えた基板処
理装置として、例えば、特開平3−297156号公報
に開示されたものがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a substrate processing apparatus provided with this type of detecting device, there is one disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-297156.

【0003】この基板処理装置では、複数枚の基板を収
納するためのカセットとして、オープンカセットと呼ば
れるものが使用されている。このオープンカセット(以
下、単に「カセット」と呼ぶ)の前側には、基板を取り
出し・収納するための開口が設けられ、また、カセット
の奥側には、前記開口よりも小さな開口が設けられてい
る。また、カセットの内壁には、基板をほぼ水平に保持
するための溝が多段に刻まれている。基板は、この溝に
1枚ずつ収められ、その結果、複数枚の基板がカセット
に収納される。
In this substrate processing apparatus, a cassette called an open cassette is used as a cassette for storing a plurality of substrates. An opening for taking out and storing a substrate is provided on the front side of the open cassette (hereinafter, simply referred to as a “cassette”), and an opening smaller than the opening is provided on the back side of the cassette. I have. Grooves for holding the substrate substantially horizontally are formed in multiple stages on the inner wall of the cassette. The substrates are accommodated one by one in this groove, and as a result, a plurality of substrates are accommodated in the cassette.

【0004】基板処理装置は、カセット内の特定の溝か
ら取り出した基板に所定の処理を行い、再び、この基板
を特定の溝に収納するために、カセット内の基板の収納
状態を予め把握する。この基板の収納状態の把握は、載
置部に設けられた検出手段によって行われる。この検出
手段は、カセットを前後から挟むように対向配置された
投光素子と受光素子とで構成された透過型センサであ
る。この透過型センサは、投光素子と受光素子との間で
行われる光の伝送が遮断される否かによって、基板の有
無を検出するものである。この透過型センサをカセット
内の最上段の溝から最下段の溝にまで上下方向に移動さ
せることで、カセットの各溝内に収納された基板の有
無、すなわち、カセット内の基板の収納状態を把握して
いる。
A substrate processing apparatus performs a predetermined process on a substrate taken out from a specific groove in a cassette, and again grasps a storage state of the substrate in the cassette in order to store the substrate in the specific groove again. . The storage state of the substrate is grasped by a detecting means provided on the mounting portion. This detecting means is a transmission type sensor composed of a light projecting element and a light receiving element which are opposed to each other so as to sandwich the cassette from front and rear. This transmission type sensor detects the presence or absence of a substrate by determining whether or not light transmission between a light emitting element and a light receiving element is interrupted. By moving the transmission type sensor vertically from the uppermost groove to the lowermost groove in the cassette, the presence or absence of the substrate stored in each groove of the cassette, that is, the storage state of the substrate in the cassette is determined. I know.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年の
基板の大型化に伴って、この基板を収納するカセットに
ついて、新たな規格が取り決められている。この規格に
準じたカセットは、FOUP(Front Open Unified Po
d)カセットと呼ばれている。このFOUPカセット
は、基板の取り出し・収納するための単一の開口だけが
設けられていて、この開口に着脱可能な蓋が取付けられ
た構成となっている。基板の取り出し・収納時に、FO
UPカセットは、蓋が外され、開口が開けられた状態で
使用されるが、単一の開口だけしか備えていないので、
従来のようにカセットを前後から挟む透過型センサによ
っては、カセットの各溝に収納された基板の有無を検出
することができないという問題がある。
However, with the recent increase in the size of substrates, new standards have been established for cassettes for storing the substrates. Cassettes conforming to this standard are FOUP (Front Open Unified Po
d) It is called a cassette. This FOUP cassette has only a single opening for taking out and storing a substrate, and has a configuration in which a detachable lid is attached to this opening. When removing and storing the board, the FO
The UP cassette is used with the lid removed and the opening opened, but since it has only a single opening,
There is a problem that the presence or absence of a substrate accommodated in each groove of the cassette cannot be detected by the transmission type sensor that sandwiches the cassette from the front and rear as in the related art.

【0006】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、基板収納容器内の基板の収納状態を把
握することができる基板の検出方法およびその装置を提
供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method and an apparatus for detecting a substrate capable of grasping the state of storage of a substrate in a substrate storage container. I do.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の発明は、基板の取り出し・収納す
るための開口と、前記開口に取り付けられる蓋とを有す
る基板収納容器にほぼ水平に収納された基板の有無を検
出する基板の検出方法であって、前記基板収納容器を載
置する載置部と前記基板を前記基板収納容器から取り出
して基板に所定の処理を施す処理部とを仕切る隔壁に設
けられた通過口を開閉するシャッターと、前記蓋とを一
体に下降させながら、前記基板収納容器に収納された基
板の有無を検出する検出手段を下降させ、基板の有無を
検出することを特徴とするものである。
The present invention has the following configuration in order to achieve the above object. That is, according to the first aspect of the present invention, there is provided a substrate detection method for detecting the presence or absence of a substrate stored substantially horizontally in a substrate storage container having an opening for taking out and storing a substrate and a lid attached to the opening. A method for opening and closing a passage provided in a partition that separates a mounting unit for mounting the substrate storage container and a processing unit that removes the substrate from the substrate storage container and performs a predetermined process on the substrate. And lowering the detection means for detecting the presence or absence of the substrate stored in the substrate storage container while lowering the lid integrally, thereby detecting the presence or absence of the substrate.

【0008】請求項2に記載の発明は、基板の取り出し
・収納するための開口と、前記開口に取り付けられる蓋
とを有する基板収納容器にほぼ水平に収納された基板の
有無を検出する基板の検出装置であって、前記基板収納
容器を載置する載置部と前記基板を前記基板収納容器か
ら取り出して基板に所定の処理を施す処理部とを仕切る
隔壁に設けられた通過口を開閉するシャッターと、前記
蓋とを一体に下降する際に、これらとともに下降して、
前記基板収納容器に収納された基板の有無を検出する検
出手段を備えたことを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate detecting apparatus for detecting presence or absence of a substrate stored substantially horizontally in a substrate storage container having an opening for taking out and storing a substrate and a lid attached to the opening. A detection device, which opens and closes a passage port provided in a partition that separates a mounting section for mounting the substrate storage container and a processing section that removes the substrate from the substrate storage container and performs a predetermined process on the substrate. When the shutter and the lid are integrally lowered, they are lowered together with them,
A detection means for detecting the presence or absence of a substrate stored in the substrate storage container is provided.

【0009】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の基板の検出装置において、前記検出手段は、前記基板
収納容器の開口付近における基板の端面に向けて配置さ
れた投光素子と受光素子とで構成される反射型センサで
ある。
According to a third aspect of the present invention, in the apparatus for detecting a substrate according to the second aspect, the detecting means includes a light projecting element disposed toward an end face of the substrate near an opening of the substrate storage container. This is a reflection type sensor including a light receiving element.

【0010】請求項4に記載の発明は、請求項2に記載
の基板の検出装置において、前記検出手段は、前記基板
収納容器内の基板を開口付近で挟むように対向配置され
た投光素子と受光素子とで構成される透過型センサであ
る。
According to a fourth aspect of the present invention, in the apparatus for detecting a substrate according to the second aspect, the detecting means is disposed so as to face the substrate in the substrate storage container so as to sandwich the substrate near an opening. And a light-receiving element.

【0011】請求項5に記載の発明は、請求項3または
請求項4に記載の基板の検出装置において、前記装置は
さらに、前記基板の有無を検出する際に、前記基板収納
容器の開口に近接する位置にまで、前記検出手段を前進
駆動させる一方、前記検出が終了すると、前記検出手段
を後退駆動させる進退駆動機構を備えたことを特徴とす
るものである。
According to a fifth aspect of the present invention, in the apparatus for detecting a substrate according to the third or fourth aspect, the apparatus further comprises: an opening for opening the substrate storage container when detecting the presence or absence of the substrate. An advancing / retracting drive mechanism is provided for driving the detecting means forward to a position close thereto and for driving the detecting means backward when the detection is completed.

【0012】請求項6に記載の発明は、請求項2に記載
の基板の検出装置において、前記検出手段は、前記基板
収納容器内を撮像する撮像手段である。
According to a sixth aspect of the present invention, in the substrate detecting apparatus according to the second aspect, the detecting means is an imaging means for imaging the inside of the substrate storage container.

【0013】請求項7に記載の発明は、請求項2に記載
の基板の検出装置において、前記検出手段は、前記シャ
ッターに取り付けられた光ファイバと、前記光ファイバ
に接続され、この光ファイバを通じて前記基板収納容器
内を撮像する撮像手段とで構成されるものである。
According to a seventh aspect of the present invention, in the apparatus for detecting a substrate according to the second aspect, the detecting means is connected to an optical fiber attached to the shutter and the optical fiber. Imaging means for imaging the inside of the substrate storage container.

【0014】[0014]

【作用】請求項1に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。基板収納容器から基板を取り出す際に、基板収納容
器の蓋とシャッターとが一体に下降しながら、検出手段
が下降し、基板収納容器の最上部から最下部の全てに収
納される基板の有無を順次検出する。
The operation of the first aspect of the invention is as follows. When removing the substrate from the substrate storage container, the detection means is lowered while the lid and shutter of the substrate storage container are integrally lowered, and it is determined whether or not the substrate is stored from the top to the bottom of the substrate storage container. Detect sequentially.

【0015】請求項2に記載の発明によれば、基板収納
容器から基板を取り出す際に、基板収納容器の蓋とシャ
ッターとが一体に下降する際に、これらとともに検出手
段が下降する。蓋の下降により基板収納容器の開口が開
かれて、検出手段は、開口された基板収納容器内の基板
の有無を検出する。
According to the second aspect of the present invention, when removing the substrate from the substrate storage container, when the lid of the substrate storage container and the shutter are integrally lowered, the detection means is lowered together with them. The opening of the substrate storage container is opened by the lowering of the lid, and the detecting means detects the presence or absence of the substrate in the opened substrate storage container.

【0016】請求項3に記載の発明によれば、反射型セ
ンサの投光素子から投光された光は、基板収納容器内に
基板がある場合に、その基板の端面で反射されて、受光
素子で受光される。一方、基板が無い場合に、投光され
た光は受光素子で受光されない。この受光素子での受光
の有無によって、基板収納容器内の基板の有無を検出す
る。
According to the third aspect of the present invention, the light projected from the light emitting element of the reflection type sensor is reflected at the end face of the substrate when the substrate is in the substrate storage container, and the light is received. The light is received by the element. On the other hand, when there is no substrate, the emitted light is not received by the light receiving element. The presence or absence of the substrate in the substrate storage container is detected based on the presence or absence of light reception by the light receiving element.

【0017】請求項4に記載の発明によれば、基板収納
容器内に基板がある場合に、透過型センサの投光素子か
ら投光された光は、基板収納容器内の基板で遮断される
ので、受光素子では受光されない。一方、基板が無い場
合に、投光された光は受光素子で受光される。この受光
素子での受光の有無によって、基板収納容器内の基板の
有無を検出する。
According to the fourth aspect of the invention, when a substrate is present in the substrate storage container, light emitted from the light emitting element of the transmission sensor is blocked by the substrate in the substrate storage container. Therefore, the light is not received by the light receiving element. On the other hand, when there is no substrate, the emitted light is received by the light receiving element. The presence or absence of the substrate in the substrate storage container is detected based on the presence or absence of light reception by the light receiving element.

【0018】請求項5に記載の発明によれば、基板収納
容器内の基板の有無を検出する際に、進退機構は、検出
手段を基板収納容器の開口の近傍にまで前進駆動させ
る。この状態で検出手段は、基板収納容器の開口の近傍
において基板の有無を検出する。基板収納容器内の全て
について基板の検出が終了すると、進退機構は、検出手
段を後退駆動させる。
According to the fifth aspect of the invention, when detecting the presence / absence of a substrate in the substrate storage container, the advance / retreat mechanism drives the detection means forward to near the opening of the substrate storage container. In this state, the detecting means detects the presence or absence of the substrate near the opening of the substrate storage container. When the detection of the substrate has been completed for all the substrates in the substrate storage container, the advance / retreat mechanism drives the detection unit to move backward.

【0019】請求項6に記載の発明によれば、撮像手段
は、前記シャッターの下降とともに、基板収納容器内を
撮像することで、基板収納容器内の基板の有無を検出す
る。
According to the invention described in claim 6, the imaging means detects the presence or absence of the substrate in the substrate storage container by imaging the inside of the substrate storage container as the shutter moves down.

【0020】請求項7に記載の発明によれば、撮像手段
は、シャッターの下降とともに、このシャッターに取り
付けられた光ファイバを通じて、基板収納容器内を撮像
することで、基板収納容器内の基板の有無を検出する。
According to the invention described in claim 7, the image pickup means takes an image of the inside of the substrate storage container through the optical fiber attached to the shutter as the shutter moves down, so that the substrate in the substrate storage container is imaged. Detect presence / absence.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例を説明する。図1は本発明の実施例に係る基板処理
装置の要部の概略構成を示す平面図である。図2はその
側面図である。なお、この実施例の基板処理装置は、F
OUP(Front Open Unified Pod)カセットと呼ばれてい
る、基板を取り出し・収納するための開口に蓋が取り付
けられているカセットに対応した基板処理装置である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a main part of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a side view thereof. The substrate processing apparatus of this embodiment is
This is a substrate processing apparatus corresponding to a cassette called an OUP (Front Open Unified Pod) cassette in which a lid is attached to an opening for taking out and storing substrates.

【0022】この基板処理装置は、図1に示すように、
基板Wをカセット1から取り出して、この基板Wに所定
の処理を施す処理部20と、カセット1を載置する載置
部3とが隔壁12で隔てられて構成されている。載置部
3には、カセット1を載置する複数個(本実施例では4
個)のカセットステージ2が設けられている。
This substrate processing apparatus, as shown in FIG.
A processing unit 20 that takes out a substrate W from the cassette 1 and performs a predetermined process on the substrate W and a mounting unit 3 on which the cassette 1 is mounted are separated by a partition wall 12. A plurality of cassettes 1 (4 in this embodiment) on which the cassette 1 is
) Cassette stages 2 are provided.

【0023】図3に示すように、FOUPカセット1
(以下、「カセット1」と呼ぶ)は、基板Wを収納する
ための容器1aと、この容器1aに備える開口1cに着
脱可能に嵌め込まれる蓋1bとで構成されている。容器
1aの内壁には、多段の溝1dが対向して設けられてい
る。各溝1dには、基板Wがほぼ水平に保持された状態
で収納されている。蓋1bには、容器1aの開口1cに
嵌め込まれた際に、蓋1bを容器1aに固定する固定機
構1eが埋設されている。この固定機構1eは、基端部
にラックが刻設された2本のロック部材1fと、ラック
に噛み合う回転自在なピニオン1gとで構成される。後
述するシャッター部材5に備えているロック機構6によ
って、蓋1bの中央付近にあるピニオン1gを回転させ
ることで、ロック部材1fを上昇させて、蓋1bを容器
1aの開口1cに固定している。
As shown in FIG. 3, the FOUP cassette 1
(Hereinafter, referred to as “cassette 1”) includes a container 1a for storing the substrate W, and a lid 1b removably fitted into an opening 1c provided in the container 1a. A multistage groove 1d is provided on the inner wall of the container 1a so as to face the groove. The substrate W is accommodated in each groove 1d in a state of being held substantially horizontally. The lid 1b has embedded therein a fixing mechanism 1e for fixing the lid 1b to the container 1a when the lid 1b is fitted into the opening 1c of the container 1a. The fixing mechanism 1e includes two lock members 1f each having a rack engraved on a base end thereof, and a rotatable pinion 1g that meshes with the rack. By rotating a pinion 1g near the center of the lid 1b by a locking mechanism 6 provided in a shutter member 5 described later, the locking member 1f is raised to fix the lid 1b to the opening 1c of the container 1a. .

【0024】カセットステージ2には、カセット1が載
置されたことを検出するために、反射センサなどの図示
しないカセット検出手段がカセット1の載置面に設けら
れている。また、カセットステージ2は、その下方に設
けられたカセット駆動機構4によって、隔壁12方向
(Y方向)に進退移動可能に構成されている。
The cassette stage 2 is provided with a cassette detecting means (not shown) such as a reflection sensor on the mounting surface of the cassette 1 for detecting that the cassette 1 is mounted. The cassette stage 2 is configured to be able to move forward and backward in the direction of the partition wall 12 (Y direction) by a cassette driving mechanism 4 provided below the cassette stage 2.

【0025】カセット駆動機構4は、カセットステージ
2の下面に設けられた凸部2aに螺合する螺軸4bを電
動モータ4aで駆動する、いわゆる螺子送り機構によっ
て構成されている。カセットステージ2にカセット1が
載置されると、電動モータ4aが螺軸4bを正回転させ
てカセットステージ2を隔壁12に向かって前進させ
る。なお、カセット1の全ての基板Wの処理が終了する
と、電動モータ4aは、螺軸4bを逆回転してカセット
ステージ2を後退させる。
The cassette driving mechanism 4 is constituted by a so-called screw feed mechanism that drives a screw shaft 4b screwed to a convex portion 2a provided on the lower surface of the cassette stage 2 by an electric motor 4a. When the cassette 1 is placed on the cassette stage 2, the electric motor 4 a rotates the screw shaft 4 b forward to advance the cassette stage 2 toward the partition 12. When the processing of all the substrates W in the cassette 1 is completed, the electric motor 4a rotates the screw shaft 4b in the reverse direction to move the cassette stage 2 backward.

【0026】隔壁12には、カセット1に対向する位置
に、カセット1とほぼ同じ大きさの通過口12aが設け
られている。この通過口12aは、カセット1から基板
Wの取り出し・収納を行うためのものであり、カセット
1が載置されていない場合には、処理部20と載置部3
との雰囲気を遮蔽するためにシャッター部材5によって
閉じられている。
The partition wall 12 is provided with a passage opening 12a of substantially the same size as the cassette 1 at a position facing the cassette 1. The passage opening 12a is for taking out and storing the substrate W from the cassette 1. When the cassette 1 is not mounted, the processing unit 20 and the mounting unit 3
Is closed by the shutter member 5 to shield the atmosphere.

【0027】図4に示すように、シャッター部材5は、
隔壁12の通過口12aに嵌め込まれる凸部5aと、こ
の凸部5aが設けられている支持板部5bとで構成され
る。凸部5aには、図示しない電動モータと、この電動
モータの出力軸に連結された連結部材6aとが埋設され
ている。
As shown in FIG. 4, the shutter member 5
It is composed of a convex portion 5a fitted into the passage opening 12a of the partition wall 12, and a support plate portion 5b provided with the convex portion 5a. An electric motor (not shown) and a connecting member 6a connected to an output shaft of the electric motor are embedded in the protrusion 5a.

【0028】上述したカセットステージ2の前進駆動に
よって、カセット1の蓋1bは、シャッター部材5の凸
部5aに近接する位置にまで移動されるので、蓋1bに
備えられたロック機構1eのピニオン1gが、連結部材
6aに連結接続される。この状態で、シャッター部材5
に備えられたロック機構6は、電動モータを回転させ
て、蓋1bと容器1aとのロックを解除することで、容
器1aから蓋1bを離脱可能とする。
As the cassette stage 2 is driven forward, the lid 1b of the cassette 1 is moved to a position close to the projection 5a of the shutter member 5, so that the pinion 1g of the lock mechanism 1e provided on the lid 1b. Are connected to the connecting member 6a. In this state, the shutter member 5
The lock mechanism 6 provided in the device 1 rotates the electric motor to release the lock between the lid 1b and the container 1a, thereby enabling the lid 1b to be detached from the container 1a.

【0029】また、上述した支持板部5bには、下方へ
延びた「L」字型のアーム5cが設けられている(図2
参照)。シャッター部材5は、このアーム5cの基端部
に取り付けたシャッター駆動機構7によって、進退およ
び昇降駆動とされる。
The support plate 5b is provided with an "L" -shaped arm 5c extending downward (FIG. 2).
reference). The shutter member 5 is moved forward and backward and moved up and down by a shutter drive mechanism 7 attached to the base end of the arm 5c.

【0030】シャッター駆動機構7は、シャッター部材
5をZ方向に昇降させる昇降機構7aと、Y方向に進退
させる進退機構7bとで構成されている。昇降機構7a
は、アーム5cの基端部に螺合する螺軸を電動モータに
よって駆動する、いわゆる螺子送り機構によって構成さ
れている。また、昇降機構7aの上部には、エンコーダ
13aが設けられていて、電動モータの回転量を検出す
ることによって、シャッター部材5のZ方向の位置を検
出するようになっている。進退機構7bは、昇降機構7
aをY方向に進退させる螺子送り機構で構成されてい
る。昇降機構7aおよび進退機構7bによって、シャッ
ター部材5は、進退および昇降可能となる。以下、図5
(a)、(b)を参照してシャッター部材5の動作を具
体的に説明する。
The shutter driving mechanism 7 includes an elevating mechanism 7a for elevating and lowering the shutter member 5 in the Z direction and an advancing / retracting mechanism 7b for advancing and retreating in the Y direction. Lifting mechanism 7a
Is constituted by a so-called screw feed mechanism in which a screw shaft screwed to the base end of the arm 5c is driven by an electric motor. An encoder 13a is provided above the elevating mechanism 7a, and detects the position of the shutter member 5 in the Z direction by detecting the rotation amount of the electric motor. The reciprocating mechanism 7b includes a lifting mechanism
It is constituted by a screw feed mechanism for moving a in the Y direction. The shutter member 5 can move forward and backward and move up and down by the lifting mechanism 7a and the moving mechanism 7b. Hereinafter, FIG.
The operation of the shutter member 5 will be specifically described with reference to (a) and (b).

【0031】図5(a)に示すように、カセットステー
ジ2(図2参照)に載置されたカセット1は、カセット
駆動機構4(図2参照)によって前進駆動される。この
とき、シャッター部材5は、通過口12aを塞いでい
る。図5(b)に示すように、カセット1がシャッター
部材5に近接する位置にまで移動してくると、シャッタ
ー部材5は、ロック機構6(図4参照)によって、カセ
ット1の蓋1bのロックを解除するとともに、この蓋1
bを保持する。次に、シャッター部材5は、シャッター
駆動機構7によって後退駆動された後、カセット1から
の基板Wの取り出し、収納の邪魔にならない退避位置に
まで下降駆動される。このカセット1の全ての基板Wの
処理が終了するまで退避位置で待機する。カセット1の
全ての基板Wの処理が終了すると、シャッター部材5
は、上昇駆動された後、前進駆動されて、通過口12a
を塞ぐとともに、カセット1に蓋1bを取り付ける。
As shown in FIG. 5A, the cassette 1 mounted on the cassette stage 2 (see FIG. 2) is driven forward by the cassette driving mechanism 4 (see FIG. 2). At this time, the shutter member 5 blocks the passage opening 12a. As shown in FIG. 5B, when the cassette 1 moves to a position close to the shutter member 5, the shutter member 5 is locked by the locking mechanism 6 (see FIG. 4) of the lid 1b of the cassette 1. And release this lid 1
hold b. Next, after the shutter member 5 is driven backward by the shutter drive mechanism 7, the shutter member 5 is driven downward to a retreat position which does not hinder the taking out of the substrate W from the cassette 1 and storage. It waits at the evacuation position until the processing of all the substrates W in the cassette 1 is completed. When the processing of all the substrates W in the cassette 1 is completed, the shutter member 5
Is driven forward, and then driven forward, so that the passage opening 12a
And the lid 1b is attached to the cassette 1.

【0032】上述したシャッター部材5には、さらに図
4に示したように、支持部材5bの上部に投光素子部1
0aと受光素子部10bとで構成される反射型センサ1
0が取り付けられている。この投光素子部10aと受光
素子部10bとは、シャッター部材5が下降する際に、
カセット1の溝1dに収納される基板Wの端面上の点P
に向くように取り付けられている。したがって、この投
光素子部10aから投光された光は、カセット1の溝1
dに収納された基板Wの端面上の点Pで反射し、この反
射光が受光素子部10bで受光され、電気信号に変換さ
れる。つまり、受光素子部10bで電気信号が発生する
か否かを検出することで、溝1d内に収納される基板W
の有無を知ることができる。
As shown in FIG. 4, the above-mentioned shutter member 5 has a light-emitting element 1 above a support member 5b.
Sensor 1 composed of a light receiving element 10a and a light receiving element 10b
0 is attached. When the shutter member 5 descends, the light emitting element portion 10a and the light receiving element portion 10b
Point P on the end face of substrate W stored in groove 1d of cassette 1
It is attached to face. Therefore, the light emitted from the light emitting element unit 10a is
The light is reflected at a point P on the end surface of the substrate W accommodated in d, and the reflected light is received by the light receiving element 10b and converted into an electric signal. That is, by detecting whether or not an electric signal is generated in the light receiving element portion 10b, the substrate W accommodated in the groove 1d is detected.
Can be known.

【0033】図6に示すように、反射型センサ10は、
データ収集部11に繋がれている。データ収集部11
は、反射型センサ10の受光素子部10bで受光された
反射光に基づいて光電変換された電気信号を収集する。
データ収集部11では、シャッター部材5の下降駆動し
ている間、電気信号の収集を行う。位置検出部13は、
シャッター駆動機構7の昇降機構7aに取り付けられた
エンコーダ13aから送られる電動モータの回転量信号
に基づいて、シャッター部材5に取り付けられた反射型
センサ10の位置を検出する。処理部14は、位置検出
部13によって検出された反射型センサ10の位置と、
データ収集部11に集められた電気信号とからカセット
1内の各溝における基板Wの有無を求めるとともに、メ
モリ15にカセット1の各溝位置における基板Wの有無
を記憶する。
As shown in FIG. 6, the reflection type sensor 10 comprises:
It is connected to the data collection unit 11. Data collection unit 11
Collects an electric signal photoelectrically converted based on the reflected light received by the light receiving element unit 10b of the reflective sensor 10.
The data collection unit 11 collects electric signals while the shutter member 5 is being driven downward. The position detection unit 13
The position of the reflection type sensor 10 attached to the shutter member 5 is detected based on the rotation amount signal of the electric motor sent from the encoder 13a attached to the elevating mechanism 7a of the shutter drive mechanism 7. The processing unit 14 includes: a position of the reflection sensor 10 detected by the position detection unit 13;
The presence or absence of the substrate W in each groove in the cassette 1 is determined from the electric signals collected in the data collection unit 11 and the presence or absence of the substrate W in each groove position of the cassette 1 is stored in the memory 15.

【0034】具体的には、シャッター部材5の下降、す
なわち反射型センサ10の下降が始まると、データ収集
部11は、反射型センサ10の投光素子部10aから光
を投光するとともに、受光素子部10bで発生する電気
信号の収集を開始する。まず、反射型センサ10の下降
によって、反射型センサ10がカセット1の最上段の溝
1dの正面位置に来たときには、この最上段の溝1dに
基板Wが収納されている場合、その基板Wの端面上で、
投光素子部10aから投光された光が反射する。受光素
子部10bでは、受光された反射光が光電変換されて電
気信号が発生する。さらに、反射型センサ10は下降す
るので、次に、反射型センサ10がカセット1内の2段
目の溝1dの正面位置に来たときには、2段目の溝1d
に基板Wが収納されていない場合、受光素子部10bで
は反射光が受光されず、電気信号は発生しない。データ
収集部11は、反射型センサの下降が終了するまで、こ
れらの電気信号の収集し続ける。このデータ収集部11
で収集される電気信号と時間経過との関係を示す模式図
を図7(a)に示す。図中、符号70は、基板Wが検出
された場合の各信号を示す。
Specifically, when the lowering of the shutter member 5, that is, the lowering of the reflection type sensor 10 starts, the data collection unit 11 emits light from the light emitting element unit 10 a of the reflection type sensor 10 and receives light. The collection of electric signals generated in the element section 10b is started. First, when the reflective sensor 10 comes to the front position of the uppermost groove 1d of the cassette 1 due to the lowering of the reflective sensor 10, when the substrate W is stored in the uppermost groove 1d, the substrate W On the end face of
Light emitted from the light emitting element unit 10a is reflected. In the light receiving element 10b, the received reflected light is photoelectrically converted to generate an electric signal. Further, since the reflection type sensor 10 descends, next, when the reflection type sensor 10 comes to the front position of the second stage groove 1d in the cassette 1, the second stage groove 1d
When the substrate W is not stored in the light receiving element portion 10b, the reflected light is not received by the light receiving element portion 10b and no electric signal is generated. The data collection unit 11 continues collecting these electric signals until the lowering of the reflection type sensor ends. This data collection unit 11
FIG. 7 (a) is a schematic diagram showing the relationship between the electric signal collected in the step and the passage of time. In the figure, reference numeral 70 indicates each signal when the substrate W is detected.

【0035】一方、位置検出部13は、昇降機構7aに
設けられているエンコーダ13aから送られてくる電動
モータの回転量に基づいて、反射型センサ10の初期位
置および下降量から反射型センサ10の位置を把握する
ことができる。位置検出部13は、反射型センサ10が
カセット1の各溝1dに対面する位置を通過している間
の時間を検出する。この溝1dに対面する位置を通過す
る時間を示す模式図を図7(b)に示す。図中、符号7
1は、カセット1の溝1dに対面する位置を通過してい
る間の時間を示す。符号72は、溝1dの番号を示す。
この溝1dは、最初に通過する溝1dを「1」として、
その後の溝は順番に「2」、「3」、・・・、「25」
となっている。ここで、カセット1は、25枚の基板W
が収納できるので、溝1dの最後の番号は「25」とな
っている。
On the other hand, based on the rotation amount of the electric motor sent from the encoder 13a provided in the elevating mechanism 7a, the position detecting unit 13 determines the initial position and the descending amount of the reflection type sensor 10 from the reflection type sensor 10a. Position can be grasped. The position detecting unit 13 detects a time during which the reflective sensor 10 passes through a position facing each groove 1d of the cassette 1. FIG. 7B is a schematic diagram showing the time required to pass the position facing the groove 1d. In the figure, reference numeral 7
Reference numeral 1 denotes a time during which the cassette 1 passes through a position facing the groove 1d. Reference numeral 72 indicates the number of the groove 1d.
This groove 1d is defined as a groove 1d which passes first is set to "1".
Subsequent grooves are "2", "3", ..., "25" in order.
It has become. Here, the cassette 1 has 25 substrates W
Can be stored, and the last number of the groove 1d is "25".

【0036】処理部14は、位置検出部13で検出され
る、各溝1dに対面する位置を通過する時間と、データ
収集部11で集められた時間経過における基板Wの有無
の情報とに基づいて、各溝1dの時間ごとに論理演算に
よって、各溝1dにおける基板Wの有無を求める。処理
部14は、この結果をメモリ15に記憶する。このよう
にして、カセット1内の基板Wの収納状態を把握するこ
とができる。
The processing unit 14 is based on the time of passing through the position facing each groove 1d detected by the position detecting unit 13 and the information on the presence / absence of the substrate W over time collected by the data collecting unit 11. Then, the presence or absence of the substrate W in each groove 1d is obtained by a logical operation at each time of each groove 1d. The processing unit 14 stores this result in the memory 15. In this manner, the storage state of the substrate W in the cassette 1 can be grasped.

【0037】このメモリ15に記憶された、各溝1dご
との基板Wの有無の情報は、図示しない基板処理装置を
制御するコントローラによって利用される。例えば、コ
ントローラは、このメモリ15の情報に基づいて、後述
する基板搬送機構9を動作させて、カセット1の特定の
溝から取り出した基板Wの処理が終了した後に、その基
板Wを取り出した特定の溝へ返却収納するような場合に
利用している。
The information on the presence or absence of the substrate W for each groove 1d stored in the memory 15 is used by a controller for controlling a substrate processing apparatus (not shown). For example, based on the information in the memory 15, the controller operates the substrate transport mechanism 9, which will be described later, and after the processing of the substrate W taken out from the specific groove of the cassette 1 is completed, It is used when returning and storing in a groove.

【0038】基板処理装置は、カセット1内の基板Wの
収納状態を把握した後、基板搬送機構9によって、カセ
ット1から基板Wの取り出し・収納を開始する。
The substrate processing apparatus starts taking out and storing the substrates W from the cassette 1 by the substrate transport mechanism 9 after grasping the storage state of the substrates W in the cassette 1.

【0039】基板搬送機構9は、基板Wを保持するアー
ム9aを備えている。この保持アーム9aは、図1に示
すような「I」の字型の形状となっているが、例えば
「U」の字型の形状であってもよい。このアーム9a
は、基板Wの下面を点接触で支持する図示しない複数本
の支持ピンを備え、搬送中の基板Wの脱落や位置ズレな
どを防止するために基板Wの周辺に点接触する部材が設
けられている。
The substrate transfer mechanism 9 has an arm 9a for holding the substrate W. The holding arm 9a has a shape of a letter "I" as shown in FIG. 1, but may have a shape of a letter "U", for example. This arm 9a
Is provided with a plurality of support pins (not shown) that support the lower surface of the substrate W by point contact, and a member that is in point contact with the periphery of the substrate W in order to prevent the substrate W from dropping or being displaced during transportation is provided. ing.

【0040】基板搬送機構9は、次のように構成されて
いる。図1、図2に示すように、アーム9aは、アーム
支持台9bに配備された螺子送り機構によって、水平面
内で進退移動可能に構成されている。次に、アーム支持
台9bは、アーム回転台9cに内蔵された電動モータの
出力軸に連結支持されている。この電動モータの回転に
よって、アーム9aは、水平面内で回転可能となる。さ
らに、アーム回転台9cは、螺子送り機構で構成された
昇降機構9dによって、昇降可能に構成されている。ま
た、昇降機構9dは、水平面内のX方向にスライド移動
可能なスライド駆動機構9eに搭載されている。
The substrate transport mechanism 9 is configured as follows. As shown in FIGS. 1 and 2, the arm 9a is configured to be able to move forward and backward in a horizontal plane by a screw feed mechanism provided on the arm support 9b. Next, the arm support 9b is connected to and supported by the output shaft of an electric motor built in the arm turntable 9c. By the rotation of the electric motor, the arm 9a can rotate in a horizontal plane. Further, the arm turntable 9c is configured to be able to move up and down by an elevating mechanism 9d constituted by a screw feed mechanism. The elevating mechanism 9d is mounted on a slide drive mechanism 9e that can slide in the X direction in the horizontal plane.

【0041】上述した構成によって、アーム9aは、次
のように動作する。スライド移動機構9eは、載置部3
に載置された所定のカセット1に対向する位置にまでア
ーム9aをスライド移動させる。カセット1内の最上段
の基板Wを取り出すために、アーム9aを上昇させ、さ
らにアーム9aを基板Wの下面にまで前進移動させ、ア
ーム9aの上に基板Wを保持した後に、アーム9aを後
退させて基板Wをカセット1から取り出す。スライド移
動機構9eは、アーム9aを装置のほぼ中央付近にまで
移動させて、処理部20の図示しない基板搬送ロボット
に基板Wを受け渡す。処理部20での基板Wの処理が終
了すると、基板搬送機構9は、処理部20の基板搬送ロ
ボットから基板Wを受け取り、再びその基板Wを取り出
したカセット1内に収納する。この処理をカセット1の
全ての基板Wに対して行う。
With the above configuration, the arm 9a operates as follows. The slide moving mechanism 9 e
The arm 9a is slid to a position facing a predetermined cassette 1 placed on the arm. In order to take out the uppermost substrate W in the cassette 1, the arm 9a is raised, the arm 9a is further advanced to the lower surface of the substrate W, and after holding the substrate W on the arm 9a, the arm 9a is retracted. Then, the substrate W is taken out of the cassette 1. The slide moving mechanism 9e moves the arm 9a to near the center of the apparatus, and transfers the substrate W to a substrate transport robot (not shown) of the processing unit 20. When the processing of the substrate W in the processing unit 20 is completed, the substrate transport mechanism 9 receives the substrate W from the substrate transport robot of the processing unit 20, and stores the substrate W again in the cassette 1 from which the substrate W has been taken out. This process is performed for all the substrates W in the cassette 1.

【0042】カセット1の全ての基板Wの処理が終了
し、カセット1に全ての基板Wが収納されると、シャッ
ター部材5は、上昇駆動された後に前進駆動されて、通
過口12aを塞ぎ、ロック機構6を動作させて、カセッ
ト1の容器1aに蓋1bを固定する。容器1aに蓋1b
が固定されると、カセットステージ2は、カセット駆動
機構4によって後退移動し、カセット取り上げ位置にま
で移動する。
When the processing of all the substrates W in the cassette 1 is completed and all the substrates W are stored in the cassette 1, the shutter member 5 is driven upward after being driven upward to close the passage opening 12a. By operating the lock mechanism 6, the lid 1b is fixed to the container 1a of the cassette 1. Container 1a with lid 1b
Is fixed, the cassette stage 2 is moved backward by the cassette driving mechanism 4 and moves to the cassette pick-up position.

【0043】上述した基板処理装置は、シャッター部材
5の上部に検出手段である反射型センサ10を取り付け
て、シャッター部材5の下降とともに、カセット1の各
溝1dに保持される基板の有無を検出するので、検出手
段だけを昇降させるような駆動機構を必要としない。し
たがって、検出手段を取り付けることによる、装置の製
造コストの上昇を最小限に抑えることができる。また、
装置に備わっている構成を利用して検出手段を容易に取
り付けることができる。
In the above-described substrate processing apparatus, the reflection type sensor 10 serving as a detecting means is mounted on the upper portion of the shutter member 5 to detect the presence or absence of the substrate held in each groove 1d of the cassette 1 as the shutter member 5 moves down. Therefore, there is no need for a drive mechanism for raising and lowering only the detection means. Therefore, it is possible to minimize an increase in the manufacturing cost of the device due to the attachment of the detecting means. Also,
The detecting means can be easily attached using the configuration provided in the device.

【0044】本発明は、以下のように変形実施すること
も可能である。
The present invention can be modified as follows.

【0045】(1)上記実施例では、カセット1内の基
板Wの収納状態を把握するために、カセット1の各溝1
dに収納された基板Wの有無を検出する検出手段として
反射型センサを用いたが、本発明はこれに限定するもの
ではなく、例えば、この反射型センサ10の代わりに、
進退駆動機構を備える透過型センサを取り付けることも
できる。この透過型センサを取り付けた場合の構成を図
8に示す。
(1) In the above embodiment, in order to grasp the storage state of the substrate W in the cassette 1, each groove 1 of the cassette 1
Although the reflection type sensor is used as the detection means for detecting the presence or absence of the substrate W accommodated in d, the present invention is not limited to this. For example, instead of this reflection type sensor 10,
It is also possible to attach a transmission sensor having an advance / retreat drive mechanism. FIG. 8 shows a configuration in which the transmission type sensor is attached.

【0046】図8に示すように、シャッター部材5の支
持板部5bの上部には、進退駆動機構81と、この進退
駆動機構81に進退駆動可能に取り付けられた透過型セ
ンサ80とが配備されている。進退駆動機構81は、連
結部材81cに螺合する螺軸81bを電動モータ81a
で駆動する、いわゆる、螺子送り機構によって構成され
ている。
As shown in FIG. 8, on the upper part of the support plate 5b of the shutter member 5, an advance / retreat drive mechanism 81 and a transmission type sensor 80 attached to the advance / retreat drive mechanism 81 so as to be able to advance / retreat are provided. ing. The advancing / retracting drive mechanism 81 includes a screw shaft 81b screwed to the connecting member 81c and an electric motor 81a.
, A so-called screw feed mechanism.

【0047】透過型センサ80は、先端部に投光素子8
3aを備える投光部材80aと、先端部に受光素子83
bを備える受光部材80bとで構成されていて、これら
両部材80a、80bの基端部は、連結部材81cに支
持固定されている。さらに、投光部材80aと受光部材
80bとは、固定部材82aと固定部材82bとをそれ
ぞれ貫通することによって、摺動自在に案内支持されて
いるとともに、上下に高さをずらして対向配置されてい
る。
The transmission sensor 80 has a light emitting element 8
A light projecting member 80a having a light receiving element 83
The light receiving member 80b includes a light receiving member 80b, and the base ends of the two members 80a and 80b are supported and fixed to the connecting member 81c. Further, the light projecting member 80a and the light receiving member 80b are slidably guided and supported by penetrating the fixed member 82a and the fixed member 82b, respectively, and are disposed so as to face each other with their height being shifted up and down. I have.

【0048】以下、この透過型センサ80および進退駆
動機構81がシャッター部材5に取り付けられた場合の
動作について説明する。シャッター部材5の下降によっ
て、透過型センサ80が、カセット1の上端部の正面位
置に来ると、進退駆動機構81は、電動モータ81aを
駆動して、連結部材81cを前進させる。この連結部材
81cと一体となって、投光部材80aと受光部材80
bとがカセット1の側壁の内面と基板Wとの間に向かっ
て前進する。進退駆動機構81は、投光部材80aと受
光部材80bとの先端部が所定の位置にまで来ると、電
動モータ81aの駆動を止める。この位置は、カセット
1の溝1dに基板Wが有る場合に、基板Wによって透過
型センサ80の光軸が遮断される位置である。透過型セ
ンサ80は、この位置を保持された状態で、シャッター
部材5の下降にしたがって、順次カセット1の各溝1d
内の基板Wの有無を検出していく。この基板Wの検出の
タイミングは、反射型センサを使用した上記実施例の場
合と同様である。
The operation when the transmission sensor 80 and the forward / backward drive mechanism 81 are attached to the shutter member 5 will be described below. When the transmission sensor 80 comes to the front position of the upper end of the cassette 1 due to the lowering of the shutter member 5, the advance / retreat drive mechanism 81 drives the electric motor 81a to advance the connecting member 81c. The light transmitting member 80a and the light receiving member 80 are integrated with the connecting member 81c.
b moves forward between the inner surface of the side wall of the cassette 1 and the substrate W. When the distal ends of the light projecting member 80a and the light receiving member 80b reach predetermined positions, the advance / retreat driving mechanism 81 stops driving the electric motor 81a. This position is a position where the substrate W blocks the optical axis of the transmission sensor 80 when the substrate W is present in the groove 1d of the cassette 1. In this state, the transmission sensor 80 sequentially holds each groove 1d of the cassette 1 as the shutter member 5 descends.
The presence / absence of the substrate W is detected. The detection timing of the substrate W is the same as in the above-described embodiment using the reflection type sensor.

【0049】透過型センサ80が、カセット1の最下部
の正面に来ると、進退駆動機構81は、電動モータ81
aを逆方向に駆動して、連結部材81cを後退させる。
投光部材80aと受光部材80bとの先端部が、固定部
材82a、82bにまで後退したら、進退駆動機構81
は、電動モータ81aの駆動を止める。投光部材80a
と受光部材80bを後退させるのは、シャッター部材5
が下降したときに、投光部材80aと受光部材80bと
が、載置部3などに引っ掛からないようにするためであ
る。
When the transmission sensor 80 comes to the front of the lowermost part of the cassette 1, the advance / retreat drive mechanism 81 activates the electric motor 81.
is driven in the opposite direction to retract the connecting member 81c.
When the distal ends of the light projecting member 80a and the light receiving member 80b are retracted to the fixing members 82a and 82b, the advance / retreat driving mechanism 81
Stops the driving of the electric motor 81a. Light emitting member 80a
And the light receiving member 80b are retracted by the shutter member 5
This is to prevent the light projecting member 80a and the light receiving member 80b from being caught on the mounting portion 3 and the like when the camera is lowered.

【0050】上述した進退駆動機構81によって、検出
手段である透過型センサ80を基板Wに近づけて基板W
の有無を検出することができるので、検出精度を向上す
ることができる。なお、上述した実施例で説明した反射
型センサを、上記の進退駆動機構81によって前後進さ
せ、反射型センサを基板に近接させて基板の有無を検出
するようにしてもよい。
By the above-described advance / retreat driving mechanism 81, the transmission type sensor 80 as the detecting means is brought close to the substrate W,
Can be detected, so that the detection accuracy can be improved. The reflection sensor described in the above embodiment may be moved forward and backward by the advance / retreat drive mechanism 81, and the presence or absence of the substrate may be detected by bringing the reflection sensor close to the substrate.

【0051】(2)カセット1の各溝1dに収納された
基板Wの有無を検出する検出手段は、反射型センサや透
過型センサに限定するものではなく、例えば、カセット
1内を撮像するCCDカメラでもよい。
(2) The detecting means for detecting the presence or absence of the substrate W accommodated in each groove 1d of the cassette 1 is not limited to the reflection type sensor or the transmission type sensor. It may be a camera.

【0052】例えば、図9に示すように、シャッター部
材5の支持板部5bの上部に、CCDカメラ90を載置
する。このCCDカメラ90は、シャッター部材5が下
降する間に、カセット1内を連続して撮像する。この撮
像によって得られるカセット1の画像データは、データ
収集部11に収集される。処理部14は、この画像デー
タに2値化処理を施して、カセット1の基板Wの収納状
態を把握する。なお、CCDカメラ90は、本発明にお
ける撮像手段に相当する。
For example, as shown in FIG. 9, a CCD camera 90 is mounted on the support plate 5b of the shutter member 5. The CCD camera 90 continuously captures an image of the inside of the cassette 1 while the shutter member 5 moves down. Image data of the cassette 1 obtained by this imaging is collected by the data collection unit 11. The processing unit 14 performs a binarization process on the image data to grasp the storage state of the substrate W in the cassette 1. Note that the CCD camera 90 corresponds to an imaging unit in the present invention.

【0053】上述した構成にすれば、カセット1内を画
像として捉えることができるので、さらに詳細に基板の
状態を把握することができる。
According to the above-described structure, the inside of the cassette 1 can be grasped as an image, so that the state of the substrate can be grasped in more detail.

【0054】(3)上記変形例(2)では、カセット1
内の基板Wの収納状態を把握するために、CCDカメラ
90を用いたが、例えば、図10に示すように、シャッ
ター部材5の支持板部5bの上部に、光ファイバ95を
設置して、この光ファイバ95の終端に接続された図示
しないCCDカメラによって、カセット1内を撮像する
ように構成してもよい。
(3) In the modification (2), the cassette 1
Although the CCD camera 90 was used to grasp the storage state of the substrate W in the inside, for example, as shown in FIG. 10, an optical fiber 95 was installed above the support plate 5b of the shutter member 5, The inside of the cassette 1 may be imaged by a CCD camera (not shown) connected to the end of the optical fiber 95.

【0055】上述した構成にすれば、CCDカメラを装
置内の空いた場所に設置することができるので、検出手
段を設けることによる装置の拡大を防止することができ
る。また、光ファイバは、軽いのでシャッター部材5の
動作に影響を与えることもない。なお、上述したCCD
カメラ90や光ファイバ95を、図8に示したような進
退駆動機構81で前後進させ、基板に近接した状態で、
カセット内を撮像するようにしてもよい。
According to the above-described configuration, the CCD camera can be installed in a vacant place in the apparatus, so that it is possible to prevent the apparatus from being enlarged by providing the detecting means. Further, since the optical fiber is light, it does not affect the operation of the shutter member 5. The above-mentioned CCD
The camera 90 and the optical fiber 95 are moved forward and backward by the forward / backward drive mechanism 81 as shown in FIG.
The inside of the cassette may be imaged.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
1に記載の発明によれば、基板の蓋およびシャッターの
一体の下降とともに、検出手段を下降させたので、検出
手段の下降によって基板収納容器の最上部から最下部の
全てに収納される基板の有無を順次検出し、基板収納容
器内の基板の収納状態を把握することができ、効率良く
基板の収納状態を把握することができる。
As is apparent from the above description, according to the first aspect of the present invention, the detection means is lowered together with the lowering of the lid and the shutter of the substrate. It is possible to sequentially detect the presence or absence of a substrate stored in all of the storage container from the uppermost portion to the lowermost portion, to grasp the storage state of the substrate in the substrate storage container, and to efficiently grasp the storage state of the substrate. .

【0057】請求項2に記載の発明によれば、請求項1
に記載の方法発明が好適に実施されるので、基板収納容
器内の基板の収納状態を把握することができる。さら
に、蓋およびシャッターの一体の下降とともに、検出手
段を下降させたので、1回の下降のみで蓋の下降によっ
て開口された基板収納容器内の基板の収納状態を把握す
ることができる。
According to the invention described in claim 2, according to claim 1
Since the method described in (1) is suitably implemented, the storage state of the substrate in the substrate storage container can be grasped. Further, since the detecting means is lowered together with the lowering of the lid and the shutter, the storage state of the substrate in the substrate storage container opened by the lowering of the lid can be grasped by only one lowering.

【0058】請求項3に記載の発明によれば、検出手段
として反射型センサを利用しているので、装置の製造コ
ストの低減を図ることができる。また、反射型センサは
小型なので、シャッターに容易に取り付けることができ
る。
According to the third aspect of the present invention, since the reflection type sensor is used as the detecting means, the manufacturing cost of the apparatus can be reduced. Further, since the reflection type sensor is small, it can be easily attached to the shutter.

【0059】請求項4に記載の発明によれば、検出手段
として透過型センサを利用しているので、基板収納容器
内の基板の有無を正確に検出することができる。
According to the fourth aspect of the invention, since the transmission type sensor is used as the detecting means, the presence or absence of the substrate in the substrate storage container can be accurately detected.

【0060】請求項5に記載の発明によれば、進退駆動
機構は、検出手段を基板収納容器の開口付近にまで移動
させているので、検出手段は、基板収納容器により近い
位置で基板を検出することが可能となる。したがって、
基板収納容器内の基板をより正確に検出することができ
る。
According to the fifth aspect of the present invention, since the advance / retreat driving mechanism moves the detecting means to near the opening of the substrate storage container, the detection means detects the substrate at a position closer to the substrate storage container. It is possible to do. Therefore,
The substrate in the substrate storage container can be detected more accurately.

【0061】請求項6に記載の発明によれば、検出手段
として撮像手段を用いているので、基板収納容器内の基
板の収納状態を画像として捉えることができる。したが
って、より正確に基板収納容器内の基板の収納状態を把
握することができる。
According to the sixth aspect of the present invention, since the imaging means is used as the detection means, the state of storage of the substrate in the substrate storage container can be captured as an image. Therefore, the storage state of the substrate in the substrate storage container can be grasped more accurately.

【0062】請求項7に記載の発明によれば、撮像手段
に接続された光ファイバをシャッターに取り付けている
ので、撮像手段の設置場所を自由に決めることができ
る。したがって、撮像手段を装置内の空いた場所に設置
することで、装置の省スペース化を図ることができる。
According to the seventh aspect of the present invention, since the optical fiber connected to the imaging means is attached to the shutter, the installation location of the imaging means can be freely determined. Therefore, by installing the imaging means in a vacant place in the apparatus, the space of the apparatus can be saved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施例に係る基板処理装置の概略構成
を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view illustrating a schematic configuration of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】実施例に係る装置の概略構成を示す側面図であ
る。
FIG. 2 is a side view showing a schematic configuration of the apparatus according to the embodiment.

【図3】実施例のFOUPカセットを示す斜視図であ
る。
FIG. 3 is a perspective view showing the FOUP cassette of the embodiment.

【図4】実施例のシャッター部材とシャッター部材に取
り付けられた反射型センサを示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a shutter member of the embodiment and a reflection type sensor attached to the shutter member.

【図5】実施例のシャッター部材の動作を表す概略側面
図である。
FIG. 5 is a schematic side view illustrating the operation of the shutter member according to the embodiment.

【図6】実施例の要部を示すブロック図である。FIG. 6 is a block diagram showing a main part of the embodiment.

【図7】実施例の基板の検出とカセットの溝位置を示す
模式図である。
FIG. 7 is a schematic diagram illustrating detection of a substrate and groove positions of a cassette according to the embodiment.

【図8】変形例(1)にかかる透過型センサがシャッタ
ー部材に取り付けられた状態を示す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing a state in which a transmission sensor according to a modification (1) is attached to a shutter member.

【図9】変形例(2)にかかるCCDカメラがシャッタ
ー部材に取り付けられた状態を示す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing a state in which a CCD camera according to a modification (2) is attached to a shutter member.

【図10】変形例(3)にかかる光ファイバがシャッタ
ー部材に取り付けられた状態を示す斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view showing a state where an optical fiber according to a modification (3) is attached to a shutter member.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 …カセット 2 …カセットステージ 3 …載置部 4 …カセット駆動機構 5 …シャッター部材 6 …ロック機構 7 …シャッター駆動機構 9 …基板搬送機構 10 …反射型センサ 11 …データ収集部 12 …隔壁 12a…開口部 13 …位置検出部 14 …処理部 15 …メモリ 80 …透過型センサ 81 …進退駆動機構 90 …CCDカメラ 95 …光ファイバ W …基板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cassette 2 ... Cassette stage 3 ... Placement part 4 ... Cassette drive mechanism 5 ... Shutter member 6 ... Lock mechanism 7 ... Shutter drive mechanism 9 ... Substrate transfer mechanism 10 ... Reflective sensor 11 ... Data collection part 12 ... Partition wall 12a ... Opening 13 ... Position detecting unit 14 ... Processing unit 15 ... Memory 80 ... Transmissive sensor 81 ... Advancing / retracting drive mechanism 90 ... CCD camera 95 ... Optical fiber W ... Substrate

フロントページの続き (72)発明者 渋川 潤 京都府京都市伏見区羽束師古川町322 大 日本スクリーン製造株式会社洛西事業所内 Fターム(参考) 3E096 AA04 BA16 BB03 CA02 DA13 DC02 FA26 FA31 GA07 5F031 CA02 DA08 DA17 EA12 EA14 FA01 FA11 GA36 GA43 GA47 GA48 GA49 JA04 JA05 JA06 JA13 JA23 JA25 LA09 LA10 PA18 Continuing on the front page (72) Inventor Jun Shibukawa 322 Hashizushi Furukawa-cho, Fushimi-ku, Kyoto-shi, Kyoto F-term (reference) in Nippon Screen Manufacturing Co., Ltd. Rakusai Office 3E096 AA04 BA16 BB03 CA02 DA13 DC02 FA26 FA31 GA07 5F031 CA02 DA08 DA17 EA12 EA14 FA01 FA11 GA36 GA43 GA47 GA48 GA49 JA04 JA05 JA06 JA13 JA23 JA25 LA09 LA10 PA18

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板の取り出し・収納するための開口
と、前記開口に取り付けられる蓋とを有する基板収納容
器にほぼ水平に収納された基板の有無を検出する基板の
検出方法であって、 前記基板収納容器を載置する載置部と前記基板を前記基
板収納容器から取り出して基板に所定の処理を施す処理
部とを仕切る隔壁に設けられた通過口を開閉するシャッ
ターと、前記蓋とを一体に下降させながら、前記基板収
納容器に収納された基板の有無を検出する検出手段を下
降させ、基板の有無を検出することを特徴とする基板の
検出方法。
1. A substrate detection method for detecting the presence or absence of a substrate stored substantially horizontally in a substrate storage container having an opening for taking out and storing a substrate and a lid attached to the opening, the method comprising: A shutter that opens and closes a passage provided in a partition that separates a mounting unit for mounting a substrate storage container and a processing unit that takes out the substrate from the substrate storage container and performs a predetermined process on the substrate, and the lid. A method for detecting a substrate, comprising: lowering detection means for detecting the presence or absence of a substrate stored in the substrate storage container while integrally lowering the substrate, thereby detecting the presence or absence of the substrate.
【請求項2】 基板の取り出し・収納するための開口
と、前記開口に取り付けられる蓋とを有する基板収納容
器にほぼ水平に収納された基板の有無を検出する基板の
検出装置であって、 前記基板収納容器を載置する載置部と前記基板を前記基
板収納容器から取り出して基板に所定の処理を施す処理
部とを仕切る隔壁に設けられた通過口を開閉するシャッ
ターと、前記蓋とを一体に下降する際に、これらととも
に下降して、前記基板収納容器に収納された基板の有無
を検出する検出手段を備えたことを特徴とする基板の検
出装置。
2. A substrate detection device for detecting the presence or absence of a substrate stored substantially horizontally in a substrate storage container having an opening for taking out and storing a substrate and a lid attached to the opening, A shutter that opens and closes a passage provided in a partition that separates a mounting unit for mounting a substrate storage container and a processing unit that takes out the substrate from the substrate storage container and performs a predetermined process on the substrate, and the lid. A substrate detecting device, comprising: detecting means for detecting the presence or absence of a substrate accommodated in the substrate accommodating container when descending integrally therewith.
【請求項3】 請求項2に記載の基板の検出装置におい
て、 前記検出手段は、前記基板収納容器の開口付近における
基板の端面に向けて配置された投光素子と受光素子とで
構成される反射型センサである基板の検出装置。
3. The substrate detecting apparatus according to claim 2, wherein the detecting unit includes a light emitting element and a light receiving element arranged toward an end surface of the substrate near an opening of the substrate storage container. A substrate detection device that is a reflection type sensor.
【請求項4】 請求項2に記載の基板の検出装置におい
て、 前記検出手段は、前記基板収納容器内の基板を開口付近
で挟むように対向配置された投光素子と受光素子とで構
成される透過型センサである基板の検出装置。
4. The apparatus for detecting a substrate according to claim 2, wherein the detecting means includes a light-emitting element and a light-receiving element which are opposed to each other so as to sandwich the substrate in the substrate container near an opening. A substrate detection device which is a transmission type sensor.
【請求項5】 請求項3または請求項4に記載の基板の
検出装置において、前記装置はさらに、 前記基板の有無を検出する際に、前記基板収納容器の開
口に近接する位置にまで、前記検出手段を前進駆動させ
る一方、前記検出が終了すると、前記検出手段を後退駆
動させる進退駆動機構を備えたことを特徴とする基板の
検出装置。
5. The substrate detecting apparatus according to claim 3, wherein the apparatus further comprises: detecting a presence or absence of the substrate, up to a position close to an opening of the substrate storage container. An apparatus for detecting a substrate, comprising: an advancing / retracting drive mechanism for driving the detecting means forward while driving the detecting means backward when the detection is completed.
【請求項6】 請求項2に記載の基板の検出装置におい
て、 前記検出手段は、前記基板収納容器内を撮像する撮像手
段である基板の検出装置。
6. The substrate detection apparatus according to claim 2, wherein the detection unit is an imaging unit that captures an image of the inside of the substrate storage container.
【請求項7】 請求項2に記載の基板の検出装置におい
て、 前記検出手段は、前記シャッターに取り付けられた光フ
ァイバと、 前記光ファイバに接続され、この光ファイバを通じて前
記基板収納容器内を撮像する撮像手段とで構成される基
板の検出装置。
7. The substrate detecting apparatus according to claim 2, wherein the detecting means is connected to an optical fiber attached to the shutter and the optical fiber, and captures an image of the inside of the substrate storage container through the optical fiber. A substrate detection device configured with an imaging unit that performs the operation.
JP2001291987A 2001-09-25 2001-09-25 Method for detecting substrate and its apparatus Pending JP2002164417A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001291987A JP2002164417A (en) 2001-09-25 2001-09-25 Method for detecting substrate and its apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001291987A JP2002164417A (en) 2001-09-25 2001-09-25 Method for detecting substrate and its apparatus

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31182197A Division JP3380147B2 (en) 1997-11-13 1997-11-13 Substrate processing equipment

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002164417A true JP2002164417A (en) 2002-06-07

Family

ID=19114035

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001291987A Pending JP2002164417A (en) 2001-09-25 2001-09-25 Method for detecting substrate and its apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002164417A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005033118A (en) * 2003-07-11 2005-02-03 Tdk Corp System and method for purging
JP2006261502A (en) * 2005-03-18 2006-09-28 Hitachi Kokusai Electric Inc Substrate processing apparatus
CN102502109A (en) * 2011-11-18 2012-06-20 友达光电股份有限公司 Substrate box and adjustable sensing device thereof
CN106816391A (en) * 2015-12-02 2017-06-09 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 Bonding die detection method and system, reaction chamber and semiconductor processing equipment
CN111584390A (en) * 2019-02-15 2020-08-25 Tdk株式会社 Loading port

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005033118A (en) * 2003-07-11 2005-02-03 Tdk Corp System and method for purging
JP2006261502A (en) * 2005-03-18 2006-09-28 Hitachi Kokusai Electric Inc Substrate processing apparatus
CN102502109A (en) * 2011-11-18 2012-06-20 友达光电股份有限公司 Substrate box and adjustable sensing device thereof
CN106816391A (en) * 2015-12-02 2017-06-09 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 Bonding die detection method and system, reaction chamber and semiconductor processing equipment
CN111584390A (en) * 2019-02-15 2020-08-25 Tdk株式会社 Loading port
JP2020136395A (en) * 2019-02-15 2020-08-31 Tdk株式会社 Load port
CN111584390B (en) * 2019-02-15 2023-09-01 Tdk株式会社 loading port
JP7346839B2 (en) 2019-02-15 2023-09-20 Tdk株式会社 loading port

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3380147B2 (en) Substrate processing equipment
JP5532861B2 (en) Closed container lid closing method and sealed container lid opening / closing system
JP2002164411A (en) Four opener
JP4285708B2 (en) Substrate detector
JP2002164417A (en) Method for detecting substrate and its apparatus
JP3565810B2 (en) Apparatus for opening and closing lid of substrate storage container, substrate detection method and apparatus
JP2002093885A (en) Device for opening/closing lid of substrate housing vessel
JP3628320B2 (en) Substrate detection method
JP3501785B2 (en) Apparatus for opening and closing lid of substrate storage container and substrate processing apparatus
TWI442493B (en) Processing device
JP2002093889A (en) Substrate-processing apparatus
JP4570102B2 (en) Substrate detection method
JP3501787B2 (en) Apparatus for opening and closing lid of substrate storage container and substrate processing apparatus
JP2002151579A (en) Substrate treating equipment
JP3501786B2 (en) Apparatus for opening and closing lid of substrate storage container and substrate processing apparatus
JP2003218018A (en) Processing device
JP2002093888A (en) Substrate-processing apparatus
JPH11233595A (en) Method of detecting inclination of substrate and apparatus of sensing substrate
JP4024216B2 (en) Device for opening / closing lid of substrate storage container and substrate processing apparatus
JP4501674B2 (en) Load port device mapping device
JP4111939B2 (en) Substrate loading / unloading apparatus and substrate processing apparatus using the same
JP2003007805A (en) Substrate processor and substrate detector
JPH0817199B2 (en) Wafer transfer device
JP2002164406A (en) Processing apparatus
KR20090055661A (en) Apparatus and method for sensing of wafer protrusion