JP2002161276A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JP2002161276A
JP2002161276A JP2001066939A JP2001066939A JP2002161276A JP 2002161276 A JP2002161276 A JP 2002161276A JP 2001066939 A JP2001066939 A JP 2001066939A JP 2001066939 A JP2001066939 A JP 2001066939A JP 2002161276 A JP2002161276 A JP 2002161276A
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electrode
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JP2001066939A
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Koichi Iketa
幸一 井桁
Masamitsu Furuya
政光 古家
Yasushi Iwakabe
靖 岩壁
Toshiki Asakura
利樹 朝倉
Shinji Hasegawa
真二 長谷川
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 表示に残像が発生するのを大幅に抑制する。 【解決手段】 液晶中にエステル構造あるいは酸素原子
をもつヘテロ環構造を有する液晶化合物が10%以上添
加されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係
り、たとえば横電界方式と称される液晶表示装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】横電界方式と称される液晶表示装置は、
液晶を介して対向配置される基板のうち一方の基板の液
晶側の各画素領域に画素電極と対向電極とが形成され、
これら各電極の間に発生する電界のうち基板にほぼ平行
な方向の成分によって、液晶の光透過率を制御するよう
になっている。そして、このような液晶表示装置のう
ち、画素電極と対向電極とを絶縁膜を介して異なる層に
形成し、一方の電極を画素領域のほぼ全域に形成された
透明電極として形成するとともに、他方の電極を該画素
領域のほぼ全域にわたって一方向に延在し該方向に並設
する方向に並設された複数のストライブ状の透明電極と
して形成したものが知られるに到っている。なお、この
ような技術としては、たとえば、S.H.Lee,S.L.Lee,H.
Y.Kim,T.Y.Eom,SID 99 DIGEST,202 (1999) に詳述さ
れている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような構
成からなる液晶表示装置は、その駆動時に電極の近傍に
おいて、電界による電荷の蓄積が生じ易く、たとえ駆動
をオフにした状態でも該電荷の蓄積は完全には解消され
ずに残存し続けるということが指摘されるに到った。こ
のような電荷の蓄積があると、それが液晶分子に印加さ
れ、該液晶分子は初期配向からずれを生じて、残像が生
じてしまうという現象が発生する。本発明は、このよう
な事情に基づいてなされたもので、その目的は、残像を
大幅に抑制できる液晶表示装置を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。すなわち、本発明による液晶表示
装置は、液晶中に非共有電子対を有する液晶化合物を含
むことを特徴とするものである。このように構成された
液晶表示装置は、該液晶化合物の非共有電子対は他のイ
オンとイオン結合し易く、しかも該イオンはこの非共有
電子対から他の非共有電子対へ順次伝導(ホッピング伝
導)するようになり、この過程で電荷の緩和がなされる
ようになる。このようなイオンのホッピング伝導は、該
非共有電子対を含まない他の液晶におけるイオンの移動
が液晶分子と物理的な衝突を繰返しながら行われるのと
比較して、移動速度が極めて速いことが確かめられる。
【0005】
【発明の実施の形態】以下、本発明による液晶表示装置
の実施例を図面を用いて説明をする。実施例1. 《画素の構成》図2は本発明による液晶表示装置の画素
の一実施例を示す平面図である。また、同図のIII−III
線における断面図を図3に示している。図2は液晶を介
して互いに対向配置される透明基板のうち一方の透明基
板SUB1の液晶側の面の一画素における構成図であ
り、各画素はマトリクス状に配置されている。このた
め、同図における画素に対して上下、あるいは左右に位
置づけられる他の画素も同様な構成となっている。
【0006】まず、透明基板SUB1の表面であって画
素領域の下側には図中x方向に延在するゲート信号線G
Lが形成されている。このゲート信号線GLは、該画素
領域の上側に位置づけられる画素領域の対応するゲート
信号線(図示せず)、後述するドレイン信号線DL、該
画素領域の右側に位置づけられる画素領域の対応するド
レイン信号線とともに、該画素領域を囲むようにして形
成されている。
【0007】また、該画素領域の中央には図中x方向に
延在する対向電圧信号線CLが形成されている。この対
向電圧信号線CLはたとえば前記ゲート信号線GLと同
一の工程で形成されるようになっており、このようにし
た場合、該対向電圧信号線CLの材料は該ゲート信号線
GLのそれと同一になる。
【0008】対向電圧信号線CLは対向電極CTを一体
として形成され、この対向電極CTは該対向電圧信号線
CLを間にしてその上下方向(図中y方向)へ延在され
x方向へ並設されて複数形成されている。また、各対向
電極CTはその延在方向にジグザク状となるように形成
されているが、これに関しては後に画素電極PXとの関
係で詳述する。
【0009】このようにゲート信号線GLおよび対向電
圧信号線CL(対向電極CT)が形成された透明基板S
UB1の表面には該ゲート信号線GLおよび対向電圧信
号線CL(対向電極CT)をも被ってたとえばSiN等
からなる絶縁膜GIが形成されている。
【0010】この絶縁膜GIは、前記ゲート信号線GL
および対向電圧信号線CLに対しては後述のドレイン信
号線DLとの層間絶縁膜としての機能を、後述の薄膜ト
ランジスタTFTに対してはそのゲート絶縁膜としての
機能を、後述の容量素子Cstgに対してはその誘電体
膜としての機能を有するようになっている。そして、前
記絶縁膜GIの上面であってゲート信号線と重畳する部
分にたとえばアモルファスSi(a−Si)からなる半
導体層ASが形成されている。
【0011】この半導体層ASは薄膜トランジスタTF
Tの半導体層となり、この上面にドレイン電極SD2お
よびソース電極SD1を形成することによって、ゲート
信号線GLの一部をゲート電極とする逆スタガ構造のM
IS型トランジスタが形成されるようになっている。こ
こで、前記ドレイン電極SD2およびソース電極SD1
はたとえばドレイン信号線DLと同時に形成されるよう
になっている。
【0012】すなわち、図中y方向に延在するドレイン
信号線DLが形成され、この際に、その一部が前記半導
体層ASの上面まで延在させることによってドイレン電
極SD2が形成され、このドレイン電極SD2に薄膜ト
ラジスタTFTのチャネル長に相当する距離だけ離間さ
れた部分にソース電極SD1が形成されるようになって
いる。
【0013】ここで、ソース電極SD1は、後述の保護
膜PSVを介して画素電極PXと接続されるようになっ
ているため、画素領域の中央側へ若干延在されるように
してコンタクト部CNが形成されるようになっている。
【0014】このように薄膜トランジスタTFTが形成
された透明基板SUB1の表面には該薄膜トランジスタ
TFTをも被ってたとえば樹脂膜(あるいはSiN膜、
SiNと樹脂膜の順次積層体)等からなる保護膜PSV
が形成されている。この保護膜PSVは主として薄膜ト
ランジスタTFTの液晶との直接の接触を回避させるた
めに形成されている。
【0015】そして、この保護膜PSVの上面には図中
y方向に延在しx方向に並設される複数の画素電極PX
が形成され、この画素電極PXは前述した各対向電極C
Tと隙間を有して交互に配置されるようにして形成され
ている。
【0016】これら各画素電極PXは、前記対向電圧信
号線CLと重畳する領域にて互いに接続されるパターン
とすることにより電気的に接続された構成となっている
とともに、前記保護膜PSVに形成されたコンタクトホ
ールTH1を介して薄膜トランジスタTFTのソース電
極SD1に接続されている。
【0017】これにより、ドレイン信号線DLからの映
像信号は、ゲート信号線GLからの走査信号の供給によ
って駆動される薄膜トランジスタTFTを介して、画素
電極PXに供給されるようになっている。また、この画
素電極PXは基準となる信号が供給される対向電極CT
との間に電界を発生せしめるようになっている。
【0018】なお、各画素電極PXの互いの接続部は前
記対向電圧信号線CLとの間に容量素子Cstgを形成
するようになっており、薄膜トランジスタTFTがオフ
した際に映像信号を画素電極PXに比較的長く蓄積させ
る等の機能を有するようになっている。
【0019】ここで、図中y方向に延在する各画素電極
PXはその一端から他端にかけてθ方向(図中y方向に
対して)に屈曲された後、−θ方向(図中y方向に対し
て)に屈曲され、さらにθ方向(図中y方向に対して)
に屈曲されるというようにジグザク状に形成されてい
る。
【0020】対向電極CTにおいても画素電極PXと同
様に屈曲され、それらは一方の電極が図中x方向にシフ
トすることによって他方の電極に重なるというようなパ
ターンで形成されている。
【0021】画素電極PXおよび対向電極CTをこのよ
うなパターンとしたのは、該画素電極PXと対向電極C
Tとの間に生じる電界においてその方向が異なるような
領域を形成することによって、表示面に対して異なる方
向から観察した場合の色調の変化を相殺するいわゆるマ
ルチドメイン方式を採用しているからである。
【0022】また、画素領域の両脇(左右方向)に位置
づけられる対向電極CT(CT2)は、他の対向電極C
T(CT1)とパターンが異なっており、隣接するドレ
イン信号線DL側の辺が該ドレイン信号線DLと平行と
なっているとともに、その幅も比較的大きくなってい
る。この対向電極CT2は、ドレイン信号線DLとの隙
間を小さくして光漏れを防ぐとともに、ドレイン信号線
DLからの電界が画素電極PXに終端してしまうのを回
避するシールド機能をもたせているからである。
【0023】このように画素電極PXが形成された透明
基板SUB1の表面には該画素電極PXをも被って配向
膜ORI1が形成されている。この配向膜ORI1は液
晶LCと直接に接触して該液晶LCの分子の初期配向方
向を規制する膜で、そのラビング方向は液晶がp型の場
合ドレイン信号線DLの延在方向となっており、液晶が
n型の場合ゲート信号線GLの延在方向となっている。
【0024】また、このように構成された透明基板SU
B1と液晶LCを介して対向配置される透明基板SUB
2の液晶側の面には、隣接する画素を画するようにして
ブラックマトリクスBMが形成され、このブラックマト
リクスBMの開口部(実質的な画素領域として機能す
る)には対応する色のカラーフィルタFILが形成され
ている。そして、これらブラックマトリクスBMおよび
カラーフィルタFILをも被って配向膜ORI2が形成
され、この配向膜ORI2のラビング方向は透明基板S
UB1側の配向膜のそれと同じになっている。
【0025】なお、上述した構成で、前記画素電極PX
および対向電極CTはそのいずれもたとえばCr(ある
いはその合金)等からなる不透明の金属で形成したもの
であってもよいが、少なくとも一方がたとえばITO
(Indium-Tin-Oxide)等からなる透明な金属であっても
よい。また、画素電極PXおよび対向電極CTを透明な
金属で形成した場合、いわゆる画素の開口率が大幅に向
上する。
【0026】《液晶の材料》対向配置される各透明基板
SUB1、SUB2の間に介在される液晶LCの材料
は、エステル構造を含む液晶化合物を含有する液晶、あ
るいは酸素原子をもつヘテロ環構造を含む液晶化合物を
含有する液晶が用いられている。そして、このような液
晶は、光透過率の向上を図るために、n型のものが用い
られている。
【0027】エステル構造を含む液晶化合物の代表的な
例としては、図4の(1)ないし(7)のそれぞれに示
している。ここで、図4のたとえば−R1は、図5に示
すように、−Cm2m+1、あるいは−OCm2m+1を示
し、また、m=1、2、3、4、…、を示し、他の記号
も図5に示したものに基づく。
【0028】また、酸素原子をもつヘテロ環構造を含む
液晶化合物の代表的な例としては、図6の(1)ないし
(26)のそれぞれに示しており、その他の非共有電子
対を有する液晶化合物の代表的な例として、図7の
(1)ないし(28)のそれぞれに示している。この場
合においても、−R1は、図5に示すように、−Cm
2m+1、あるいは−OCm2m+1を示し、また、m=1、
2、3、4、…、を示し、他の記号も図5に示したもの
に基づく。
【0029】このような液晶LCは、エステル構造を形
成する酸素原子(O)に含まれる非共有電子対におい
て、あるいはヘテロ環構造を形成する酸素原子などのヘ
テロ原子に含まれる非共有電子対において負の電荷を帯
びているため、液晶中に存在するイオンを引き寄せる働
きがある。非共有電子対に起因する電荷は弱いものであ
るため、引き寄せられたイオンと非共有電子対との間に
は強い結合は生じない。そのためイオンは隣り合った非
共有電子対に順次移動することが可能となる。このよう
なイオンの移動形態により液晶中におけるイオンの移動
が促進され、電極近傍に蓄積された電荷をすばやく緩和
させることができるようになる。
【0030】図8は、たとえば酸素原子をもつヘテロ環
構造を含む液晶化合物において、イオンの移動(イオン
のホッピング伝導)により電極近傍に蓄積された電荷を
緩和する様子を示した模式図である。酸素原子をもつヘ
テロ環構造を含む液晶分子には非共有電子対を有する酸
素原子(O)が含まれている。そのような酸素原子上に
存在する非共有電子対においては負の電荷を帯びている
ため、液晶中に存在するイオンはこの非共有電子対から
隣り合った非共有電子対へ順次移動し、この過程で電極
近傍に蓄積された電荷が緩和されるようになっている。
【0031】このようなイオンのホッピング伝導は、エ
ステル構造あるいは酸素原子をもつヘテロ環構造を含ま
ない他の液晶における荷電粒子の移動が液晶分子と物理
的な衝突を繰返しながら行われるのと比較して、移動速
度が極めて速いことが確かめられている。
【0032】図1(a)はたとえばエステル構造を含む
液晶化合物を用いた液晶表示装置において、エステル構
造を含む液晶成分の含有量によってイオンの移動を該イ
オンの密度との関係で示した実験グラフである。このグ
ラフでは、その横軸にエステル構造を含む液晶成分含有
量を、縦軸にイオン密度×イオン移動度をとっている。
【0033】エステル構造を含む液晶成分含有量は0%
(図中LC−Aで示す)、10%(図中LC−Bで示
す)、25%(図中LC−Cで示す)、35%(図中L
C−Dで示す)、55%(図中LC−Eで示す)として
図1(a)に示し、その際におけるイオン密度、イオン
移動度のそれぞれを図1(b)に別表として記してい
る。
【0034】また、イオン密度×イオン移動度という量
は液晶中をイオンが移動する能力を示しており、イオン
の密度が大きく、かつそのときのイオンの移動度が大き
い程より効率的にイオンの移動が行われることを示して
いる。すなわち、イオン密度×イオン移動度の値が大き
いほど電荷の緩和には有効に働くということになる。
【0035】このグラフから、エステル構造を含む液晶
成分の含有量は10%以上とすることにより、イオン密
度×イオン移動度が1.41×10-12C/V・s・c
m以上となり、エステル構造を含む液晶成分を全く含ん
でない場合(0.51×10 -12C/V・s・cm)と
比べてはるかにイオンの移動が効率的に行われることが
判る。
【0036】エステル構造を含む液晶成分の含有量が0
%から10%の間においてはイオン密度×イオン移動度
の値は大きく変化しないのに対して、エステル構造を含
む液晶成分の含有量を10%以上とすることによりイオ
ン密度×イオン移動度の値が急激に大きくなっている。
この現象は、エステル構造を含む液晶成分の含有量を1
0%以上とすることにより、イオンのホッピング伝導が
より効率的に作用した結果である。言い替えると、エス
テル構造を含む液晶成分の含有量が10%未満の液晶に
おいては、非共有電子対に結合しているイオンが他の非
共有電子対へと移動する際に、エステル構造を含む液晶
成分の含有量が少ないために近くに非共有電子対を見つ
けられず、イオンのホッピング伝導が効率的に行われな
いことを示している。しかしながら、エステル構造を含
む液晶成分の含有量を10%以上とすることにより、非
共有電子対に結合しているイオンは他の非共有電子対へ
効率的に移動することができるようになり、その結果イ
オン密度×イオン移動度の値が急激に大きくなったもの
である。
【0037】この結果から、エステル構造を含む液晶成
分の含有量を10%以上とすることによりイオンのホッ
ピング伝導が効率的に行われ、電極近傍に蓄積された電
荷をすばやく緩和させることができることが判る。
【0038】なお、上述したグラフを得るための実験
は、まず、その装置としては、図9(a)に示すよう
に、MTR−1型液晶セル・イオン密度測定装置(東陽
テクニカ製)を用い、コントローラの制御のもとにシー
ルドボックス内の液晶セルからのデータを得ることによ
って行った。測定に用いた液晶セルは、図9(b)に示
すように、上述した液晶表示装置の画素部の構成と同じ
条件となるように作成し、これをサンプルとした。電極
面積は3.14cm2、電極間隔は5.5μmとした。
【0039】測定原理は、図10(a)に示す前記MT
R−1型液晶セル・イオン密度測定装置の回路図におい
て、液晶セルに低周波の三角波電圧を印加し、その際の
電流をI/V変換器によって電圧に変換して16ビット
のA/Dコンバータによって測定した。また、液晶セル
に印加されている電圧も16ビットのA/Dコンバータ
によって測定し、その電流値、電圧値をプロットするこ
とにより図10(b)に示す電流−電圧波形を得た。
【0040】図10(b)はその横軸に三角波電圧の電
圧値を、縦軸にその電流値をとっている。三角波電圧印
加時のピークの面積は電極間を移動したイオンの総電荷
量になるので、イオンの価数を1価と仮定するとピーク
面積から液晶中に存在する可動イオンの総数を知ること
ができる。なお、ピーク面積は三角形でフィッティング
させて求めている。
【0041】イオン密度は次の式(1)によって求める
ことができる。
【数1】 イオン密度=P/(S・d) ……(1) また、イオン移動度は次の式(2)によって求めること
ができる。
【数2】 イオン移動度μ=d2/(1/2)tE
…………(2) ここで、Pはピーク面積(電極間を移動したイオンの総
電荷量)(C)、Sは電極面積(cm2)、dは電極間
隔(cm)、tはイオンピーク発生時間(sec)、E
はイオンピーク発生電圧(V)である。なお、測定周波
数は0.1Hz、測定電圧は−10〜10V、測定温度
は25℃の下で、上記測定を行った。
【0042】図11は、エステル構造を含む液晶化合物
を用いた液晶表示装置の時間経過にともなう残像強度の
変化を示したグラフである。エステル構造を含む液晶成
分を30%添加した場合と50%添加した場合とを、従
来(エステル構造を含む液晶成分を含まない)の場合と
比較して示している。同図から明らかなように、エステ
ル構造を含む液晶成分が充分添加されている場合には、
残像強度は速やかに減衰してある一定の値に落ち着き、
しかもこの値は従来と比較して小さな値となっているこ
とが判る。
【0043】先に説明した通り、エステル構造を含む液
晶成分が10%以上添加されている場合には、エステル
構造を形成する酸素原子(O)に含まれる非共有電子対
において、液晶中に存在するイオンは隣り合った非共有
電子対に順次移動することが可能となるためイオンの移
動が速やかに行われる。その結果、電極近傍に蓄積され
た電荷をすばやく緩和することができ、残像強度が速や
かに減衰することが可能となるのである。
【0044】また、図12は、図11と対応する図で、
酸素原子をもつヘテロ環構造を含む液晶化合物を用いた
液晶表示装置の時間経過にともなう残像強度の変化を示
したグラフである。酸素原子をもつヘテロ環構造を含む
液晶成分を10%添加した場合と、従来(酸素原子をも
つヘテロ環構造を含む液晶成分を含まない)の場合と比
較して示している。この図からも明らかとなるように、
酸素原子をもつヘテロ環構造を含む液晶成分が添加され
ている場合は、残像強度は速やかに減衰することが判
る。
【0045】この現象も先に示した通り、酸素原子をも
つヘテロ環構造を含む液晶成分が添加されている場合に
は、ヘテロ環構造を形成する酸素原子(O)に含まれる
非共有電子対において、液晶中に存在するイオンは隣り
合った非共有電子対に順次移動することが可能となるた
めイオンの移動が速やかに行われる。その結果、電極近
傍に蓄積された電荷をすばやく緩和することができ、残
像強度が速やかに減衰することが可能となるのである。
【0046】ここで、エステル構造を含む液晶成分ある
いは酸素原子をもつヘテロ環構造を含む液晶成分の含有
量が多くなるとイオン密度×イオン移動度の値が大きく
なる傾向があるが、逆にイオン性不純物を原因とする残
像が生じ易い傾向にあることが確かめられた。この原因
としては、エステル構造を含む液晶化合物あるいは酸素
元子をもつヘテロ環構造を含む液晶化合物に含まれる酸
素原子(O)は、そこに存在する非共有電子対の働きに
より若干ながら負の電荷を帯びているため、液晶中に存
在するイオンを引き寄せる働きがある。これらの液晶成
分の含有量が多くなると周辺部材等から過剰のイオン性
不純物を取り込んでしまうため、イオン性不純物を原因
とする残像が発生し易くなり、液晶表示装置の表示不良
が生じてしまうものと推測されている。
【0047】図13は、エステル構造を含む液晶成分の
含有率の相違(0%、10%、25%、35%、55
%)によって、イオン性不純物を原因とする残像強度の
変動を示したグラフで、横軸にエステル構造を含む液晶
成分の含有量を、縦軸にイオン性不純物を原因とする残
像強度をとっている。同図から明らかなように、エステ
ル構造を含む液晶成分の含有量は30%を境にして残像
強度の大小が明確に分かれるようになる。
【0048】エステル構造を含む液晶成分の含有量が3
0%を超えると、周辺部材等から過剰のイオン性不純物
を取り込んでしまい、それが残像の原因となっているも
のと推測されている。このことからエステル構造を含む
液晶成分の含有量は、イオン性不純物を原因とする残像
を抑制するという観点から、30%以下にすることが好
ましいことが明らかとなる。このような現象は酸素原子
をもつヘテロ環構造を含む液晶成分の場合においても同
様であった。
【0049】実施例2.図14は、本発明による液晶表
示装置の画素の構成の他の実施例を示す平面図である。
実施例1に示した液晶表示装置の各画素に形成される帯
状の画素電極PXと対向電極CTは、それらが離間され
て交互に配置されたものとなっている。しかし、対向電
極PXおよび画素電極CTのうちの一方の電極が画素領
域の全域に形成された構成のものであっても適用でき
る。図14は、図2と対応する図であり、対向電極CT
が画素領域の全域に形成された構成となっており、その
他は図2とほぼ同様の構成となっている。この場合、対
向電極はたとえばITOのような透明電極で形成する必
要があり、画素電極は透明電極あるいは不透明の電極で
あってもよい。
【0050】実施例3.図15は、本発明による液晶表
示装置の画素の構成の他の実施例を示す平面図である。
同図は、図14と対応する図であり、画素領域の全域に
形成された対向電極CTにおいて、たとえば一つおき
(二つおきあるいは三つおきであってもよい)に形成さ
れた画素電極PXの形成領域に相当する領域に該画素電
極PXの幅よりも大きな幅を有する孔SLが形成された
ものである。この構成は実施例1の構成と実施例3の構
成を組み合わせた構成となっており、このような構成の
液晶表示装置にも適用できる。なお、この場合において
も、対向電極はたとえばITOのような透明電極で形成
する必要があり、画素電極は透明電極あるいは不透明の
電極であってもよい。
【0051】実施例4.図16は、本発明による液晶表
示装置の画素の構成の他の実施例を示す平面図である。
同図は、画素電極PXがドレイン信号線DLとほぼ直交
する方向に延在されて複数形成され、これらの各画素電
極PXはその一端側にて互いに接続されている。この場
合の各画素電極PXはその延在方向のほぼ中央にて屈曲
されて形成され、該画素電極PXと対向電極CTとの間
に発生する電界の方向を異ならしめる領域を形成してい
わゆるマルチドメイン方式を採用した構成となってい
る。対向電極CTは画素領域の全域に形成され、たとえ
ばITO等の透明電極から構成されている。
【0052】実施例5.図17は、本発明による液晶表
示装置の画素の構成の他の実施例を示す平面図である。
同図は、図16と対応する図であり、画素領域の全域に
形成された対向電極CTにおいて、たとえば一つおき
(二つおきあるいは三つおきであってもよい)の画素電
極PXの形成領域に相当する領域に該画素電極PXの幅
よりも大きな幅を有する孔が形成されたものである。
【0053】実施例6.この実施例は、上述した各液晶
表示装置の構成等を前提とするものであり、それと異な
る部分は、該液晶をたとえば負の誘電率異方性のものと
し、かつ、その分子短軸方向にフッ素基を有する液晶分
子を含有したものである。このように構成した液晶表示
装置において、その残像特性は図18に示すようになる
ことが確認された。図18において横軸は液晶の種類、
縦軸はイオン性不純物を原因とする残像強度をとってい
る。なお、同図において、本実施例で用いられた液晶を
フッ素系液晶と称し、比較のために分子短軸方向にシア
ノ基を有する液晶分子を含有した液晶(以下、シアノ系
液晶と称する)の場合も挙げている。この図から明らか
となるように、本実施例で用いられたフッ素系液晶は、
シアノ系液晶の場合と異なり、イオン性不純物を原因と
する残像強度を小さくすることができる。このような特
性は、フッ素系液晶においてはその極性が小さく、液晶
セルの周辺部材等からのイオン性不純物を取り込み難く
し、電極近傍に過剰なイオンが集中するのを回避するこ
とになり、該イオンによる表示不良を防止することがで
きるようになる。ちなみに、シアノ系液晶などの極性の
大きな液晶を用いた場合には、液晶セルの周辺部材等か
らイオン性不純物を取り込み易くなるため、過剰なイオ
ンが電極近傍に集中し、それが表示不良を引き起こす原
因となっている。
【0054】実施例7.この実施例では、実施例6で用
いられた液晶において、液晶中にエステル構造を有する
液晶化合物が含有する割合(以下、エステル成分含有量
と称する)を35%未満、望ましくは25%以下とした
ことにある。ここで、エステル結合を有する液晶化合物
は、たとえば図23に示すように−CO−O−を有する
ものとして表せる。このうように構成された液晶表示装
置において、その残像特性は図19に示すようになるこ
とが確認された。図19において横軸はエステル成分含
有量、縦軸はイオン性不純物を原因とする残像強度をと
っている。同図においてエステル成分含有量がそれぞれ
0%、10%、25%、35%の場合を示し、比較のた
めにエステル成分含有量が55%のものも示している。
この図から明らかとなるように、エステル成分含有量が
35%未満、望ましくは25%以下とすることにより、
イオン性不純物を原因とする残像の発生を大幅に抑制す
ることができる。なお、図19に示したグラフは、温度
が25℃の場合の特性を示したものである。この場合、
特に問題となることはないが、一般に温度が上昇する
と、液晶に対するイオンの溶解度が増大し、イオンを過
剰に取り込み易くなる。図20はエステル成分含有量が
それぞれ0%、10%、35%の場合の50℃における
イオン性不純物を原因とする残像強度を示したグラフで
ある。この図から明らかとなるように、液晶中のエステ
ル成分含有量を少なくする程、換言すれば、0%に近付
ける程、イオン性不純物を原因とする残像強度を小さく
することができる。
【0055】実施例8.また、上述のように、液晶中の
エステル成分含有量を減少させることは、イオン性不純
物を原因とする残像強度を小さくし、安定した液晶表示
を達成し得るが、エステル成分を含有させることによる
上述した効果が稀薄になってしまうことは免れ得ない。
このことから、本実施例では液晶中に解離性の置換基
(たとえば−OH)を有する化合物(以下、添加剤と称
する)が添加されている。図21は該添加剤の添加量に
よる残像の時間変化を示したグラフである。この図か
ら、添加剤の添加量が200ppm以上とすることによ
り、残像強度が減少することが明らかになる。また、図
22は添加剤の添加量に対する残像強度の緩和時定数を
示すグラフを示し、これから、添加剤の添加量を400
ppm以上とすることにより、該時定数が安定して小さ
くなり、残像が消え易くなることが判る。そして、この
添加剤の添加量は、それを多くすることによって液晶の
比抵抗が低くなってしまうことから、1500ppm以
下にすることが適当となる。
【0056】上述した実施例6ないし8のそれぞれに示
した液晶中にフッ素系液晶が含有されているか、あるい
はエステル構造を有する液晶化合物の割合がどのくらい
かは、たとえばガスクロマトグラフ質量分析による液晶
組成物の分析によって調べることができる。
【0057】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明による液晶表示装置によれば、その表示に残像が
発生するのを大幅に抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による液晶表示装置の効果を示すグラフ
および表である。
【図2】本発明による液晶表示装置の画素の一実施例を
示す平面図である。
【図3】図2のIII−III線における断面図である。
【図4】本発明による液晶表示装置の液晶中のエステル
構造を含む液晶化合物を示した化学式である。
【図5】図4(および図6、図7)に示す記号の意味を
示す化学式等である。
【図6】本発明による液晶表示装置の液晶中の酸素原子
をもつヘテロ環構造を含む液晶化合物を示した化学式で
ある。
【図7】本発明による液晶表示装置の液晶中の酸素原子
をもつヘテロ環構造を含む液晶化合物を示した化学式で
ある。
【図8】非共有電子対によるイオンのホッピング伝導を
示す説明図である。
【図9】本発明の効果を示す実験データを得るための装
置およびサンプルを示した図である。
【図10】本発明の効果を示す実験データを得るための
測定原理および測定結果を示した図である。
【図11】本発明による液晶表示装置の効果を示すグラ
フである。
【図12】本発明による液晶表示装置の効果を示すグラ
フである。
【図13】本発明による液晶表示装置の効果を示すグラ
フである。
【図14】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施
例を示す平面図である。
【図15】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施
例を示す平面図である。
【図16】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施
例を示す平面図である。
【図17】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施
例を示す平面図である。
【図18】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示
す説明図で、残像特性の液晶材料依存性を示すグラフで
ある。
【図19】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示
す説明図で、残像特性のエステル成分含有量依存性を示
すグラフである。
【図20】50℃における残像特性のエステル成分量依
存性を示すグラフである。
【図21】本発明による液晶表示装置の他の実施例を示
す説明図で、残像特性の添加剤の添加量依存性を示すグ
ラフである。
【図22】残像緩和時定数の添加剤の添加量依存性を示
すグラフである。
【図23】エステル基を有する液晶化合物の一例を示す
図である。
【符号の説明】
SUB…透明基板、GL…ゲート信号線、DL…ドレイ
ン信号線、CL…対向電圧信号線、TFT…薄膜トラン
ジスタ、PX…画素電極、CT…対向電極、LC…液
晶。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1343 G02F 1/1343 1/1368 1/1368 (72)発明者 岩壁 靖 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 (72)発明者 朝倉 利樹 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 (72)発明者 長谷川 真二 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 Fターム(参考) 2H092 GA14 HA03 JA24 JB57 JB61 NA01 4H027 BD24 BE04 CL01 CL05 CP01 CS01 CS05 CU01 CU05 CW01 CW05 CX01 CX05 DB01 DB05 DC01 DC05 DH01 DH04 DH05

Claims (22)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液晶中に非共有電子対を有する液晶化合
    物を含むことを特徴とする液晶表示装置。
  2. 【請求項2】 液晶中にエステル構造を有する液晶化合
    物を含むことを特徴とする液晶表示装置。
  3. 【請求項3】 液晶中に酸素原子をもつヘテロ環構造を
    有する液晶化合物を含むことを特徴とする液晶表示装
    置。
  4. 【請求項4】 液晶中にエステル構造あるいは酸素原子
    をもつヘテロ環構造を有する液晶化合物が10%以上添
    加されていることを特徴とする液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 液晶中にエステル構造あるいは酸素原子
    をもつヘテロ環構造を有する液晶化合物が30%以下に
    添加されていることを特徴とする請求項4に記載の液晶
    表示装置。
  6. 【請求項6】 液晶がそれにエステル構造あるいは酸素
    原子をもつヘテロ環構造を有する液晶化合物が10%以
    上添加されてn型になっていることを特徴とする液晶表
    示装置。
  7. 【請求項7】 液晶中にエステル構造あるいは酸素原子
    をもつヘテロ環構造を有する液晶化合物が30%以下に
    添加されていることを特徴とする請求項6に記載の液晶
    表示装置。
  8. 【請求項8】 液晶を介して対向配置される基板のうち
    一方の基板の液晶側の画素領域に、絶縁膜を介して画素
    電極と対向電極とが形成され、これら画素電極と対向電
    極のうちの一方の電極は画素領域の全域に形成されてい
    る透明電極で構成されているとともに、他方の電極は一
    方向に延在されて該方向と直交する方向に並設されてい
    ることを特徴とする請求項1ないし7のうちいずれかに
    記載の液晶表示装置。
  9. 【請求項9】 液晶を介して対向配置される基板のうち
    一方の基板の液晶側の画素領域に、絶縁膜を介して画素
    電極と対向電極とが形成され、これら画素電極と対向電
    極は、一方向に延在されて該方向と直交する方向に並設
    された複数の電極からなるとともに、それらは交互に配
    置されていることを特徴とする請求項1ないし7のうち
    いずれかに記載の液晶表示装置。
  10. 【請求項10】 ゲート信号線からの走査信号の供給に
    よって駆動されるスイッチング素子を備え、このスイッ
    チング素子を介してドレイン信号線からの映像信号が画
    素電極に供給されることを特徴とする請求項8、9のう
    ちいずれかに記載の液晶表示装置。
  11. 【請求項11】 液晶中に分子短軸方向にフッ素基を有
    する液晶分子を含有することを特徴とする液晶表示装
    置。
  12. 【請求項12】 液晶中に、次式(1)、(2)で表せ
    るそれぞれ2,3−ジフルオロ−4−アルキルフェニル
    構造と2,3−ジフルオロ−4−アルコキシフェニル構
    造のうち少なくとも一方の構造を分子内な有する液晶分
    子を含有することを特徴とする液晶表示装置。 【化1】 【化2】 ここで、上式(1)、(2)において、Xは液晶分子の
    他の構造部分を構成する原子団を表し、Rは直鎖もしく
    は分枝のアルキル又はアルキル置換されたシクロアルキ
    ルを示す。
  13. 【請求項13】 液晶は負の誘電体率異方性を有するこ
    とを特徴とする請求項11、12のうちいずれかに記載
    の液晶表示装置。
  14. 【請求項14】 液晶中に、次式(3)で示されるエス
    テル構造を有する液晶分子の割合が35%未満であるこ
    とを特徴とする請求項13に記載の液晶表示装置。 【化3】 ここで、上式(3)において、X、Yは液晶分子の他の
    構造部分を構成する互いに同一若しくは異なる構造の原
    子団を示す。
  15. 【請求項15】 液晶中に式(3)で表せるエステル構
    造を有する液晶分子の割合が10%未満であることを特
    徴とする請求項14に記載の液晶表示装置。
  16. 【請求項16】 液晶中に式(3)で表せるエステル構
    造を有する液晶分子の割合が3%未満であることを特徴
    とする請求項14に記載の液晶表示装置。
  17. 【請求項17】 液晶中に解離性の置換基を有する化合
    物を200ppm以上含有することを特徴とする請求項
    11ないし14に記載の液晶表示装置。
  18. 【請求項18】 液晶中に解離性の置換基を有する化合
    物を400ppm以上1500ppm以下含有すること
    を特徴とする請求項15ないし17に記載の液晶表示装
    置。
  19. 【請求項19】 前記解離性の置換基を有する化合物
    は、次式(4)、(5)、(6)、(7)で表せる化合
    物のうち少なくともいずれか一の化合物であることを特
    徴する請求項17、18のうちいずれかに記載の液晶表
    示装置。 【化4】 X−OH …………(4) 【化5】 X−SH …………(5) 【化6】 X−NH2 …………(6) 【化7】 X−COOH …………(7) ここで、上式(4)、(5)、(6)、(7)におい
    て、Xは化合物の他の構造部分を構成する原子団を示
    す。
  20. 【請求項20】 液晶を介して対向配置される基板のう
    ち一方の基板の液晶側の画素領域に、絶縁膜を介して画
    素電極と対向電極とが形成され、これら画素電極と対向
    電極のうちの一方の電極は画素領域の全域に形成されて
    いる透明電極で構成されているとともに、他方の電極は
    一方向に延在されて該方向と直交する方向に並設されて
    いることを特徴とする請求項11ないし19のうちいず
    れかに記載の液晶表示装置。
  21. 【請求項21】 液晶を介して対向配置される基板のう
    ち一方の基板の液晶側の画素領域に、絶縁膜を介して画
    素電極と対向電極とが形成され、これら画素電極と対向
    電極は、一方向に延在されて該方向と直交する方向に並
    設された複数の電極からなるとともに、それらは交互に
    配置されていることを特徴とする請求項11ないし19
    のうちいずれかに記載の液晶表示装置。
  22. 【請求項22】 ゲート信号線からの走査信号の供給に
    よって駆動されるスイッチング素子を備え、このスイッ
    チング素子を介してドレイン信号線からの映像信号が画
    素電極に供給されることを特徴とする請求項20、21
    のうちいずれかに記載の液晶表示装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2020027272A (ja) * 2018-08-08 2020-02-20 Tianma Japan株式会社 液晶パネルの表示品位低下の評価方法及びその装置
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