JP2002153441A - 磁気共鳴イメージング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置据え付け後であっても整磁材を用いて容
易に静磁場領域の均一度を調整できるようにする。 【解決手段】 整磁材固定板４２Ａ〜４７Ａ，４２Ｂ〜
４７Ｂには静磁場領域における静磁場の均一性を調整す
るための整磁材４２Ａ〜４７Ａ，４２Ｂ〜４７Ｂが所定
の位置に取り付けられている。この整磁材４２Ａ〜４７
Ａ，４２Ｂ〜４７Ｂの取り付けられた整磁材固定板４２
Ａ〜４７Ａ，４２Ｂ〜４７Ｂが磁気プレート２５Ａ，２
５Ｂの側面に設けられた挿入口から挿入される。従っ
て、装置据え付け後であっても傾斜磁場コイル２８Ａ，
２８Ｂを取り外さなくても、整磁材固定板４２Ａ〜４７
Ａ，４２Ｂ〜４７Ｂを挿入することによって静磁場領域
における静磁場の均一性を調整することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、生体組織を画像化
する磁気共鳴イメージング装置に係り、特に装置据え付
け後にイメージング撮影の行われる静磁場領域の均一度
の調整を行うことのできる磁気共鳴イメージング装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】生体組織を画像化する磁気共鳴イメージ
ング装置（以下「ＭＲＩ」とする）には、超電導コイル
を用いて静磁場を発生するものがある。図１は、超電導
コイルを用いた従来のＭＲＩ装置の一例を示す図であ
る。図１（ａ）は、ＭＲＩ装置の概略を示す外観図、図
１（ｂ）は図１（ａ）のＡ視断面図である。この装置
は、上下方向に対向して配置された２組の超電導コイル
１３Ａ，１３Ｂによって静磁場を発生させる。超電導コ
イル１３Ａ，１３Ｂは、上下方向に対向して設けられた
磁気プレート１５Ａ，１５Ｂによって支持される。磁気
プレート１５Ａ，１５Ｂの間は柱状継鉄１６Ａ〜１６Ｄ
によって機械的に支持されている。超電導コイル１３
Ａ，１３Ｂの内側には良好な磁場均一度を得るための鉄
で構成されたポールピース１４Ａ，１４Ｂが設けられ、
超電導コイル１３Ａ，１３Ｂと共に磁気プレート１５
Ａ，１５Ｂによって支持される。ポールピース１４Ａ，
１４Ｂは、均一磁場領域１１の磁場均一度を向上させる
働きをする。磁気プレート１５Ａ，１５Ｂと柱状継鉄１
６Ａ〜１６Ｄは、超電導コイル１３Ａ，１３Ｂが発生す
る磁束の磁路としての役割を兼ねている。

【０００３】このような構成のＭＲＩ装置では、磁気回
路は、超電導コイル１３Ｂ、ポールピース１４Ｂ、均一
磁場領域１１、ポールピース１４Ａ、超電導コイル１３
Ａ、磁気プレート１５Ａ、柱状継鉄１６Ａ〜１６Ｄ、磁
気プレート１５Ｂの経路で形成され、均一磁場領域１１
には上下方向の均一な垂直磁場が発生するようになって
いる。従って、磁気共鳴イメージング撮影はこの均一磁
場領域１１内にて行われる。この磁気回路で使用される
傾斜磁場コイル１８Ａ，１８Ｂは、図１（ｂ）に示すよ
うな平板形状をしており、均一磁場領域１１を挟んで上
下に対向して配置されている。この傾斜磁場コイル１８
Ａ，１８Ｂは、図１（ｂ）に示すように、ポールピース
１４Ａ，１４Ｂの凹部内に収容されている。この傾斜磁
場コイル１８Ａ，１８Ｂによってポールピース１４Ａ，
１４Ｂなどに渦電流が発生するのを防止するために、ポ
ールピース１４Ａ，１４Ｂの凹部内表面に、低渦電流材
や高透磁率材などの渦電流抑制材１９Ａ，１９Ｂが配置
されている。

【０００４】従来、上述のようなＭＲＩ装置において、
均一磁場領域１１の磁場の均一性を調整するものとし
て、ポールピース１４Ａ，１４Ｂの凹部底面と傾斜磁場
コイル１８Ａ，１８Ｂとの間に、シム材又はシム板と呼
ばれる磁場調整用の磁石又は磁性材（以下「整磁材」と
する）を取り付けたり、傾斜磁場コイル１８Ａ，１８Ｂ
の表面に整磁材を取り付けたものが特開平９−５６６９
２号公報に記載されている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従来技術のように整磁
材を設けて均一磁場領域１１の磁場の均一性を調整する
ことは、特に、ＭＲＩ装置を病院等の施設内に据え付け
た後に、その場所で磁場を測定しながら均一磁場領域１
１の磁場の均一性を調整するという作業を行う場合に有
効である。

【０００６】ところが、整磁材をポールピース１４Ａ，
１４Ｂの凹部底面と傾斜磁場コイル１８Ａ，１８Ｂとの
間に取り付けて磁場調整を行うには、傾斜磁場コイル１
８Ａ，１８Ｂを据え付け現場で取り外さなければならな
いという問題があった。これに対して、傾斜磁場コイル
１８Ａ，１８Ｂの表面に整磁材を取り付けて磁場調整を
行えば、傾斜磁場コイル１８Ａ，１８Ｂを取り外したり
しなくていいので、現場で容易に磁場調整を行うことが
できる。しかしながら、ＭＲＩ装置を動作させ、傾斜磁
場コイル１８Ａ，１８Ｂを駆動すると、傾斜磁場コイル
１８Ａ，１８Ｂが振動するので、その表面に取り付けら
れた整磁材も一緒に振動してしまい、均一磁場領域１１
における均一度が不安定になるという問題があった。

【０００７】本発明の目的は、装置据え付け後であって
も整磁材を用いて容易に静磁場領域の均一度を調整する
ことのできる磁気共鳴イメージング装置を提供すること
にある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る磁気共鳴
イメージング装置は、対向して設けられ、その対向空間
内に静磁場を発生させる静磁場発生手段と、前記各々の
静磁場発生手段の近傍に配置され、前記静磁場領域にお
ける静磁場の均一性を高める一対の磁場補正手段と、前
記静磁場発生手段及び前記磁場補正手段を保持する一対
の磁気プレート手段とを備えた磁気共鳴イメージング装
置において、前記各磁気プレート手段の側面から前記静
磁場領域における静磁場の均一性を調整するための整磁
材を挿入し、任意の位置に設置することによって前記静
磁場領域における静磁場の均一性を調整するように構成
された整磁材設置手段を設けたものである。この発明で
は整磁材が磁気プレート手段の側面から挿入されるの
で、装置据え付け後でも傾斜磁場発生手段を取り外す必
要はない。また、整磁材で均一度を調整した後は傾斜磁
場発生手段を駆動しても、磁気プレート手段に設置され
ている整磁材は振動しないので、傾斜磁場発生手段の振
動によって均一度が不安定になることはない。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る磁気共鳴イメージング装置の好ましい実施の形態につ
いて説明する。図２は、本発明に係るＭＲＩ装置の概略
を示す外観図である。図３は、図２のＢ−Ｂ線における
断面図である。このＭＲＩ装置は、上下方向に対向して
配置された２組の超電導コイル２３Ａ，２３Ｂによって
静磁場を発生させる。超電導コイル２３Ａ，２３Ｂは、
上下方向に対向して設けられた磁気プレート２５Ａ，２
５Ｂによって支持される。なお、超電導コイル２３Ａ，
２３Ｂは、実際はクライオスタット内に設けられている
が、クライオスタットを含めたものを超電導コイルと称
する。磁気プレート２５Ａ，２５Ｂの間は２本の柱状継
鉄２６Ａ，２６Ｂによって機械的に支持されている。２
本の柱で構成することによって被験者はより開放感を得
ることができる。超電導コイル２３Ａ，２３Ｂの内側に
は良好な磁場均一度を得るための鉄で構成されたリング
状のポールピース２４Ａ，２４Ｂが設けられる。ポール
ピース２４Ａ，２４Ｂと超電導コイル２３Ａ，２３Ｂは
共に磁気プレート２５Ａ，２５Ｂによって支持されてい
る。

【００１０】ポールピース２４Ａ，２４Ｂは、均一磁場
領域２１の磁場均一度を向上させる働きをするものであ
って、その凹部内に傾斜磁場コイル２８Ａ，２８Ｂ、渦
電流抑制材２９Ａ，２９Ｂ及び均一度制御材３０Ａ，３
０Ｂを有する。傾斜磁場コイル２８Ａ，２８Ｂは、平板
形状をしており、均一磁場領域２１を挟んで上下に対向
して配置されている。この傾斜磁場コイル２８Ａ，２８
Ｂは、図２及び図３に示すように、ポールピース２４
Ａ，２４Ｂの凹部内の表面付近に収容されている。渦電
流抑制材２９Ａ，２９Ｂは、傾斜磁場コイル２８Ａ，２
８Ｂと同じ平板形状をしており、傾斜磁場コイル２８
Ａ，２８Ｂと磁気プレート２５Ａ，２５Ｂとの間に設け
られる。この渦電流抑制材２９Ａ，２９Ｂの材料は、従
来のものと同様に低渦電流材や高透磁率材で構成され、
傾斜磁場コイル２８Ａ，２８Ｂによる渦電流や残留磁場
がポールピース２４Ａ，２４Ｂや後述する均一度制御材
３０Ａ，３０Ｂや整磁材４２Ａ〜４７Ａ，４２Ｂ〜４７
Ｂなどに発生しないように抑制する働きをする。なお、
本明細書中では渦電流抑制材として使用しているが、残
留磁場を抑制する働きがあることは言うまでもない。渦
電流抑制材２９Ａ，２９Ｂは、平板形状の部材で構成さ
れているので、傾斜磁場コイル２８Ａ，２８Ｂの形状に
合わせて加工すればよいので製作が簡単である。

【００１１】均一度制御材３０Ａ，３０Ｂは、ＭＲＩ装
置を現場に据え付ける前に予め均一磁場領域２１におけ
る磁場の均一度を調整するためのものであり、その断面
形状が複雑に加工された鉄製の板材で構成されている。
なお、この均一度制御材３０Ａ，３０Ｂの形状は、傾斜
磁場コイル２８Ａ，２８Ｂ及び渦電流抑制材２９Ａ，２
９Ｂがポールピース２４Ａ，２４Ｂ内に存在する場合に
おいて均一磁場領域２１における静磁場が良好に均一性
を保つような形状である。なお、この均一度制御材３０
Ａ，３０Ｂは鉄製なので、傾斜磁場コイル２８Ａ，２８
Ｂの渦電流や残留磁場の影響を受け易いので、渦電流抑
制材２９Ａ，２９Ｂと組み合わせて設置されなければそ
の効果が著しく低下することになる。また、渦電流抑制
材２９Ａ，２９Ｂを設けることによって、均一度制御材
３０Ａ，３０Ｂの働きが軽減することもあるので、渦電
流抑制材２９Ａ，２９Ｂは均一度制御材３０Ａ，３０Ｂ
側に接近もしくは一部接触するように設けることが好ま
しい。また、渦電流抑制材２９Ａ，２９Ｂの厚さが極端
に厚いと均一度制御材３０Ａ，３０Ｂの働きが軽減する
ので、渦電流抑制材２９Ａ，２９Ｂの厚さは、数［ｍ
ｍ］〜５０［ｍｍ］とするのが望ましい。

【００１２】このようなＭＲＩ装置を病院などの他の場
所に移動して据え付ける場合、その場で均一磁場領域２
１の磁場調整を行う必要がある。この実施の形態にかか
るＭＲＩ装置では、図２及び図３に示すように、磁気プ
レート２５Ａ，２５Ｂの側面の周方向に沿った箇所に、
磁場調整用の整磁材４２Ａ〜４７Ａ，４２Ｂ〜４７Ｂの
取り付けられた整磁材固定板４０Ａ，４１Ａ，４０Ｂ，
４１Ｂを抜き差し可能な挿入口３１Ａ〜３６Ａ，３１Ｂ
〜３６Ｂが複数設けてある。なお、図２では、外観図に
現れた挿入口のみに符号を付してあるが、図面に現れて
いない磁気プレート２５Ａ，２５Ｂの側面にも挿入口が
存在することは言うまでもない。図３では、挿入口３６
Ａ，３６Ｂに整磁材固定板４０Ａ，４０Ｂが、その反対
側の挿入口に整磁材固定板４１Ａ，４１Ｂが、それぞれ
差し込まれた状態が示されている。整磁材４２Ａ〜４７
Ａ，４２Ｂ〜４７Ｂとしては、鉄を含む鉄系合金、ニッ
ケルを含むニッケル系合金、アモルファス系合金などの
軟磁性材やフェライト磁石、希土類磁石、ボンド磁石な
どの硬磁性材（磁石材）などで構成される。

【００１３】図４は、磁場調整用の整磁材の取り付けら
れた整磁材固定板の詳細を示す外観図である。整磁材固
定板４０Ａは挿入穴３１Ａに沿って抜き差し可能な箱型
形状をしており、底面に整磁材４２Ａ〜４４Ａが取り付
けられている。整磁材４２Ａ〜４４Ａはネジ留め又は接
着剤などで取り付け固定される。なお、図４（ａ）では
ほぼ同じ大きさの整磁材４２Ａ〜４４Ａが取り付けられ
ている。整磁材の大きさや形状によって均一磁場領域２
１に与える磁場調整作用がそれぞれ異なるので、実際は
磁場を測定しながら均一磁場領域１１の磁場の均一性を
最も最適に調整することのできる大きさの整磁材が取り
付けられる。従って、実際は図４（ｂ）に示すようにそ
れぞれ異なる大きさの整磁材５２Ａ〜５４Ａが取り付け
られることになる。図４（ｃ）では整磁材固定板６０Ａ
がそれぞれ仕切板で仕切られた複数の格納部で構成さ
れ、各格納部に整磁材の塊６２Ａ〜６４Ａが格納されて
いる。すなわち、図４（ｃ）では、図４（ａ）や図４
（ｂ）のように整磁材４２Ａ〜４４Ａ，５２Ａ〜５４Ａ
をネジ留め固定する代わりに、所定位置の各格納部に整
磁材の塊や整磁材の粉末などを配置するようにしたもの
である。これによって任意の量の整磁材を所定の格納部
に配置することができ、精密な磁場調整を行うことがで
きる。図４（ｃ）では格納部が１１個の場合が示されて
いるが、これ以上の格納部を設けることによって整磁材
を配置する位置を精密に調整することができるようにな
り、それによってより精密な磁場調整を行うことができ
る。なお、整磁材は一つの塊ではなく、薄板などを複数
枚重ねることによって所定の厚みの整磁材を構成するよ
うにしてもよい。また、整磁材固定板には、ポリ塩化ビ
ニールやフェノール樹脂などの非磁性材を用いるのが好
ましい。

【００１４】図５は、整磁材固定板が磁気プレート内で
どのように配置されるのかを示す図である。図５（ａ）
は、整磁材固定板が磁気プレート内で放射状に設けられ
ている場合を示す。このように放射状に設けるのは、均
一磁場領域２１は一般的に球状をしており、水平方向の
各位置は回転対称を形成しているので、この均一磁場領
域２１の均一度を高めるためには、整磁材を同心円状に
配置することが多いからである。従って、整磁材は各放
射線上であって同心円上の所定位置にそれぞれ容易に配
置できる構造とすることが好ましい。図５（ｂ）は、整
磁材固定板が磁気プレート内で平行方向に設けられてい
る場合を示す。図５（ａ）のように放射状に設けると、
磁気プレートの中央付近には整磁材を配置することが困
難な場合が生じる。そこで、平行に設けられた各整磁材
固定板上に整磁材を設けて各整磁材が同心円上に配置さ
れるようにすることができる。また、挿入口を平行に加
工する方が放射状に加工するより簡単である。

【００１５】このような構成のＭＲＩ装置では、磁気回
路は、超電導コイル２３Ｂ、均一度制御材３０Ｂ、ポー
ルピース２４Ｂ、均一磁場領域２１、ポールピース２４
Ａ、均一度制御材３０Ａ、超電導コイル２３Ａ、整磁材
４２Ａ〜４７Ａ、磁気プレート２５Ａ、柱状継鉄２６
Ａ，２６Ｂ、磁気プレート２５Ｂ、整磁材４２Ｂ〜４７
Ｂの経路で形成され、均一磁場領域２１には均一度制御
材３０Ａ，３０Ｂ及び整磁材４２Ａ〜４７Ａ，４２Ｂ〜
４７Ｂによって磁場調整された上下方向に均一な垂直磁
場が発生するようになり、磁気共鳴イメージング撮影は
この均一磁場領域１１内にて行われるようになる。ま
た、装置据え付け後であっても、整磁材固定板を引き出
し、そこに整磁材を取り付けるだけで精密な磁場調整を
行うことができる。

【００１６】なお、上述の実施の形態では、渦電流抑制
材２９Ａ，２９Ｂ及び均一度制御材３０Ａ，３０Ｂを設
けた場合について説明したがこれらの部材は省略しても
よい。また、上述の実施の形態では、超電導磁石を例に
説明したが、この発明は永久磁石を用いたものにも適用
可能である。さらに、上述の実施の形態では、挿入口を
磁気プレート２５Ａ，２５Ｂの側面であって超電導コイ
ル２３Ａ，２３Ｂよりも若干下側又は上側に設けてある
が、磁気プレート２５Ａ，２５Ｂの表面に凹状の溝を設
けて、超電導コイル２３Ａ，２３Ｂと磁気プレート２５
Ａ，２５Ｂによって挿入口が形成されるようにしてもよ
い。

【００１７】

【発明の効果】以上説明したように本発明の磁気共鳴イ
メージング装置によれば、装置据え付け後であっても整
磁材を用いて容易に静磁場領域の均一度を調整すること
ができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】 超電導コイルを用いた従来のＭＲＩ装置の一
例を示す図

【図２】 本発明に係るＭＲＩ装置の概略を示す外観図

【図３】 図２のＢ−Ｂ線における断面図

【図４】 磁場調整用の整磁材の取り付けられた整磁材
固定板の詳細を示す外観図

【図５】 整磁材固定板が磁気プレート内でどのように
配置されるのかを示す図

【符号の説明】

１１，２１…均一磁場領域、１３Ａ，１３Ｂ，２３Ａ，
２３Ｂ…超電導コイル、１４Ａ，１４Ｂ，２４Ａ，２４
Ｂ…ポールピース、１５Ａ，１５Ｂ，２５Ａ，２５Ｂ…
磁気プレート、１６Ａ〜１６Ｄ，２６Ａ，２６Ｂ…柱状
継鉄、１８Ａ，１８Ｂ，２８Ａ，２８Ｂ…傾斜磁場コイ
ル、１９Ａ，１９Ｂ，２９Ａ，２９Ｂ…渦電流抑制材、
３０Ａ，３０Ｂ…均一度制御材、３１Ａ〜３６Ａ，３１
Ｂ〜３６Ｂ…挿入口、４０Ａ，４０Ｂ，４１Ａ，４１
Ｂ，５０Ａ，６０Ａ…整磁材固定板、４２Ａ〜４７Ａ，
４２Ｂ〜４７Ｂ，５２Ａ〜５４Ａ，６２Ａ〜６４Ａ…整
磁材

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 対向して設けられ、その対向空間内に静
   磁場を発生させる静磁場発生手段と、前記各々の静磁場
   発生手段の近傍に配置され、前記静磁場領域における静
   磁場の均一性を高める一対の磁場補正手段と、前記静磁
   場発生手段及び前記磁場補正手段を保持する一対の磁気
   プレート手段とを備えた磁気共鳴イメージング装置にお
   いて、 前記各磁気プレート手段の側面から前記静磁場領域にお
   ける静磁場の均一性を調整するための整磁材を挿入し、
   任意の位置に設置することによって前記静磁場領域にお
   ける静磁場の均一性を調整するように構成された整磁材
   設置手段を設けたことを特徴とする磁気共鳴イメージン
   グ装置。