JP2002148579A - 液晶素子および液晶素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型の光学素子用の液晶素子を提供する。 【解決手段】 電極などが形成された２枚のガラス基板
を用いて製造される液晶素子の製造方法であって、２枚
のガラス基板をシール剤を介して間隙をもって貼り合わ
せて複数のセルを一体に形成し、細長いステック状に切
断した後に、液晶の注入と封止をし、前記細長いステッ
ク状のガラス基板を切断して、個々の液晶素子に切断し
て製造される液晶素子において、前記シール剤のパター
ンの外縁と、スクライブラインの距離を確認するため
の、パターンを有している液晶素子。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶素子および液
晶素子の製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は
第１の基板と第２の基板を重ね合わせた後に、複数個の
液晶表示パネルを得る液晶表示パネルの構造および製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来技術における液晶素子は、量産性を
考慮して大型の基板に複数個の液晶素子を形成してい
る。以下、従来技術を液晶素子を例にして図３と図４と
を用いて説明する。図３は従来技術における液晶素子を
示す平面図であり、図４は従来技術における液晶素子を
示す断面図である。

【０００３】図３と図４に示すように、従来技術の液晶
素子は、第１の基板１１と第２の基板１２に、酸化イン
ジウムスズ（以下ＩＴＯと記載する）で構成し、表示を
おこなうための第１の表示電極１３と第２の表示電極１
４とを設ける。さらに、ＩＴＯで構成し、第１の基板１
１と第２の基板１２の位置合わせに必要な第１のアライ
メントマーク１５と第２のアライメントマーク１６とを
大型基板の四隅の位置に設ける。

【０００４】さらにまた、第１の表示電極１３と第２の
表示電極１４の上面には、液晶２２を配向させるための
第１の配向膜１８と第２の配向膜１９とを有する。さら
にまた、第１の基板１１と第２の基板１２との間のギャ
ップを所定の寸法に保つためのスペーサー２１と、ギャ
ップを所定の寸法に保ちしかも液晶２２を第１の基板１
１と第２の基板１２の間に封じ込めるためのシール２０
とを備える。さらに、第１の基板１１と第２の基板１２
とのあいだには、表示を行うための液晶２２を有する。

【０００５】なおここで、シール２０より内側で第１の
表示電極１３と第２の表示電極１４で構成される領域を
表示部２３と呼び、この表示部２３より外側の領域を非
表示部２４と呼ぶことにする。

【０００６】つぎに上記構造を得るための製造方法につ
いて説明する。洗浄した第１の基板１１と第２の基板１
２に、それぞれスパッタリング法によりＩＴＯを２００
ｎｍの厚さで形成する。その後、所定のフォトマスクを
用いて露光処理と現像処理とをおこない、さらにエッチ
ング処理により第１の表示電極１３と、第２の表示電極
１４と、第１の基板１１と第２の基板１２の位置合わせ
に必要な第１のアライメントマーク１５と第２のアライ
メントマーク１６とを形成する。

【０００７】その後、第１の基板１１と第２の基板１２
を洗浄し、シール２０の内側である第１の表示電極１３
と第２の表示電極１４で構成する表示部２３に、ポリイ
ミド樹脂からなる第１の配向膜１８と第２の配向膜１９
を印刷法により形成し、クリーンオーブンを用いて熱処
理をおこなう。その後、第１の基板１１と第２の基板１
２の表面を、ラビング法によりコットンの布を巻きつけ
たロールで擦り配向処理をおこなう。

【０００８】その後、熱硬化性のエポキシ樹脂に、所定
のギャップにあうガラスファイバーを混合したシール２
０を、第１の基板１１の表示部２３の周囲にスクリーン
印刷法により形成する。

【０００９】さらに、アルコールと純水との混合溶液
に、所定のギャップ寸法に合致するプラスチックビーズ
を分散した溶液を第２の基板１２に散布して、スペーサ
ー２１を形成する。

【００１０】その後、第１のアライメントマーク１５と
第２のアライメントマーク１６を用いて位置合わせをし
て、第１の基板１１と第２の基板１２の重ね合わせをお
こなう。そしてさらに双眼顕微鏡を用いて、第１のアラ
イメントマーク１５と第２のアライメントマーク１６と
の位置合わせの微調整をおこない、第１の基板１１と第
２の基板１２とを重ね合わせる。このとき重ね合わせた
第１の基板１１と第２の基板１２との周囲領域の複数点
を紫外線硬化接着剤で固定する。

【００１１】その後、このように重ね合わせた第１の基
板１１と第２の基板１２をシール硬化治具にセットし、
所定圧力にて加圧しながら焼成炉で熱処理をおこないシ
ール２０を硬化させる。

【００１２】この結果、第１の基板１１と第２の基板１
２とのシール２０の内側の隙間に液晶２２を注入してな
く、複数の液晶素子が連続した複数個の液晶素子を形成
する。

【００１３】その後、シール２０を硬化させた第１の基
板１１と第２の基板１２を、スクライブ工程と、ブレイ
ク工程とをおこない、複数個に分離した液晶素子を得
る。ここで、スクライブ工程とブレイク工程について説
明する。透明ガラス基板の切断工程は、ガラス基板の切
断すべき箇所に沿ってスクライブライン（切断案内線、
溝）を形成する。（スクライブ工程）その後、スクライ
ブラインに沿って破断応力を加えて切断（分割）する
（ブレーク工程）。

【００１４】透明基板のスクライブ工程においては、ダ
イヤモンドからなるカッターホイールをガラス基板の切
断箇所に沿って回転させて、ガラス基板にスクライブ溝
を形成する。ブレーク工程においては、スクライブライ
ンを形成した面と反対側のガラス面をウレタンゴム等か
らなるスキージで叩いて、ガラス基板に曲げ応力を加え
るか、あるいわローラ等によりガラス基板自体をまげ
て、スクライブラインに発生した基板面に対して垂直方
向のクラックを進展させてガラス基板を切断する。

【００１５】さらにその後、第１の基板１１と第２の基
板１２とのシール２０の内側の隙間に液晶２２を注入す
る。この結果、液晶素子を形成することができる。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】液晶素子を光学素子と
して利用する場合に、小型の液晶素子が使われる。そし
て、小型の液晶素子においては、寸法精度が要求される
ことが多い。特に小型セルにおいて、スクライブライン
とシールの位置はセルの外形精度に大きく影響してくる
為シール位置とスクライブ位置は厳密に管理する必要が
ある。本発明の目的は小型の、光学素子用の液晶素子を
提供することにある。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の、本発明の液晶素子は次の構成である。電極などが形
成された２枚のガラス基板を用いて製造される液晶素子
あって、２枚のガラス基板をシール剤を介して間隙をも
って貼り合わせて複数のセルを一体に形成した後、細長
いステック状に切断した後に、液晶の注入と封止をし、
前記細長いステック状のガラス基板を切断して、個々の
液晶素子に切断して製造される液晶素子において、前記
シール剤のパターンの外縁と、スクライブラインの距離
を確認するための、パターンを有している。

【００１８】また、シール剤のパターンの外縁とスクラ
イブラインの距離を確認するための前記パターンはの一
端はスクライブラインと同位置である。そしてさらに、
シール剤のパターンの外縁とスクライブラインの距離を
確認するための前記パターンに目盛がある。

【００１９】上記目的を達成するための、本発明の液晶
素子の製造方法は次の構成である。電極などが形成され
た２枚のガラス基板を用いて製造される液晶素子の製造
方法であって、２枚のガラス基板をシール剤を介して間
隙をもって貼り合わせて複数のセルを一体に形成した
後、細長いステック状に切断した後に、液晶の注入と封
止をし、前記細長いステック状のガラス基板を切断し
て、個々の液晶素子を切断して製造する液晶素子の製造
方法であって、シール剤のパターンの外縁とスクライブ
ラインの距離を、前記パターンをによって測定子、その
結果によってスクライブラインをずらして、切断するこ
とをと特徴とする液晶素子の製造方法。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、図面を基に本発明を説明す
る。図１は、本発明を説明する概念図である。図２は、
本発明の、シール剤のパターンの外縁とスクライブライ
ンの距離を確認するためのパターン例を示す図である。

【００２１】図１は、測定結果を説明するための図であ
る。下基板１と上基板２と下基板と上基板の間に形成さ
れたシールである。ここで、下基板と上基板は、透明な
ガラス基板である。スクライブライン５で上基板は切断
されている。

【００２２】シール剤のパターン３の外縁とスクライブ
ラインの距離ａを確認するためのパターン５が基板に設
けられている。ここで基板の厚さはそれぞれ、０．７ｍ
ｍである。上基板と下基板の間隙はほぼ５μｍである。
シールで形成された液室の中には、液晶が封入されてい
る。（図示せず）図１において、ａは、シール外縁から
スクライブラインまでの距離を示している。

【００２３】本発明の液晶素子の実施の形態では、電極
などが形成された２枚のガラス基板を用いて製造される
液晶素子である。２枚のガラス基板をシール剤を介して
間隙をもって貼り合わせて複数のセルを一体に形成した
後、 細長いステック状に切断した後に、液晶の注入と
封止をし、前記細長いステック状のガラス基板を切断し
て、個々の液晶素子に切断して製造される液晶素子にお
いて、前記シール剤のパターンの外縁と、スクライブラ
インの距離を確認するための、パターンを有している。

【００２４】シール剤のパターンの外縁とスクライブラ
インの距離を確認するための前記パターンはの一端はス
クライブラインと同位置である。

【００２５】シール剤のパターンの外縁とスクライブラ
インの距離を確認するための前記パターンに目盛があ
る。

【００２６】本発明の液晶素子の製造方法の実施の形態
では、電極などが形成された２枚のガラス基板を用いて
製造される液晶素子の製造方法であって、２枚のガラス
基板をシール剤を介して間隙をもって貼り合わせて複数
のセルを一体に形成した後、細長いステック状に切断し
た後に、液晶の注入と封止をし、前記細長いステック状
のガラス基板を切断して、個々の液晶素子を切断して製
造する液晶素子の製造方法である。

【００２７】そして、シール剤のパターンの外縁とスク
ライブラインの距離を、前記パターンをによって測定
子、その結果によってスクライブラインをずらして、切
断することを特徴とする液晶素子の製造方法である。

【００２８】ここで、本発明による液晶セルの組立工程
を説明する。液晶セル組立工程は、配向膜を形成し、基
板上にスペーサを一様に散布し、基板上にシール剤をス
クリーン印刷により塗布する。

【００２９】ここにおいて、本発明の「シール剤のパタ
ーンの外縁とスクライブラインの距離を確認するための
パターン」によって、シールの印刷塗布精度の確認をす
ることができる。

【００３０】次に２枚の基板を重ね合わせ、２枚の基板
を適度に加圧しながらシール剤を硬化させて、液晶セル
を形成する。ここにおいても、本発明の「シール剤のパ
ターンの外縁とスクライブラインの距離を確認するため
のパターン」によって、シールの印刷塗布精度の確認を
することができる。次に液晶の封入、封止工程、スクラ
イブ・ブレイク工程を経て、液晶素子は製造される。

【００３１】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、特に「シール剤のパターンの外縁とスクライブ
ラインの距離を確認するためのパターン」によって、小
型セルにおいて、スクライブラインとシールの位置を厳
密に管理することができる。本発明の目的である、小型
の光学素子用の液晶素子を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態を示す概念図である。

【図２】本発明の、シール剤のパターンの外縁とスクラ
イブラインの距離を確認するためのパターン例を示す図
である。

【図３】従来技術を説明するための図である

【図４】従来技術を説明するための図である

【符号の説明】

１ 上基板 ２ 下基板 ３ シール剤のパターン ４ スクライブライン ５ シール剤のパターンの外縁とスクライブラインの距
離を確認するためのパターン

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電極などが形成された２枚のガラス基板
   を用いて製造される液晶素子の製造方法であって、２枚
   のガラス基板をシール剤を介して間隙をもって貼り合わ
   せて複数のセルを一体に形成し、細長いステック状に切
   断した後に液晶の注入と封止をし、前記細長いステック
   状のガラス基板を切断して、個々の液晶素子に切断して
   製造される液晶素子において、 前記シール剤のパターンの外縁と、スクライブラインの
   距離を確認するための、パターンを有していることを特
   徴とする液晶素子。
2. 【請求項２】 シール剤のパターンの外縁とスクライブ
   ラインの距離を確認するための前記パターンの一端はス
   クライブラインと同位置であることを特徴とする請求項
   １記載の液晶素子。
3. 【請求項３】 シール剤のパターンの外縁とスクライブ
   ラインの距離を確認するための前記パターンに目盛があ
   ることを特徴とする請求項２記載の液晶素子。
4. 【請求項４】 電極などが形成された２枚のガラス基板
   を用いて製造される液晶素子の製造方法であって、２枚
   のガラス基板をシール剤を介して間隙をもって貼り合わ
   せて複数のセルを一体に形成し、細長いステック状に切
   断した後に液晶の注入と封止をし、前記細長いステック
   状のガラス基板を切断して、個々の液晶素子を切断して
   製造する液晶素子の製造方法であって、 シール剤のパターンの外縁とスクライブラインの距離
   を、前記パターンをによって測定子、その結果によって
   スクライブラインをずらして、切断することを特徴とす
   る液晶素子の製造方法。