JP2002145858A - イミド化合物、これを含有する樹脂組成物、液晶配向膜、液晶組成物および液晶表示素子 - Google Patents
イミド化合物、これを含有する樹脂組成物、液晶配向膜、液晶組成物および液晶表示素子Info
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Abstract
チルト角を持たせることができる液晶配向膜を提供する
こと。これらの原料であるイミド化合物およびこのイミ
ド化合物を含有する樹脂組成物を提供すること。さら
に、該液晶配向膜を用いた液晶表示素子を提供するこ
と。 【解決手段】式(1) 【化1】 (式中、R11はイミド基を含まない1価の有機基または
水素、R12は2個以上の環構造を含み、イミド基を含ま
ない1価の有機基である)で表されるイミド化合物。 式(2) 【化2】 (式中、R13は1価の有機基、G1は2価の有機基、G2
は3価の有機基、A1、A2は、単結合または2価の有機
基、nは0または1である)で表されるイミド化合物。 式(3) 【化3】 (式中、R14は1価の有機基であり、R15、R16はそれ
ぞれ独立して1価の有機基または水素である)で表され
るイミド化合物。これらのイミド化合物を含有する樹脂
組成物、この樹脂組成物からなる液晶配向膜およびこの
液晶配向膜を用いた液晶表示素子。
Description
これを含有する樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた液晶
配向膜、該液晶配向膜を用いた液晶表示素子、該イミド
化合物を含有する液晶組成物および該液晶組成物を用い
た液晶表示素子に関する。
子には、上、下2枚で一対をなす電極基板の間でネマチ
ック液晶分子の配列方向を90度に捻った構造のツイス
ト・ネマチック(以下、TNと略す)モードが主に採用
されている。また、ねじれ角を180〜300度と大き
くしたスーパーツイステッドネマチック(以下STNと
略す)モードも開発され、大画面でも表示品位の良好な
液晶表示素子が得られるようになった。さらに、近年で
は、マトリクス表示やカラー表示等を行うようになって
きたため、多数の画素電極とこれらのオン−オフを行う
ことのできるアクテイブ型ツイストネマチックモードを
採用したMIM(金属−絶縁相−金属)素子や、TFT
(電界効果型薄膜トランジスタ)素子の開発が盛んにな
ってきた。
て、同一画面を長時間表示した後、他の画面に移ると前
の画像が残像として残る、焼き付きと呼ばれる現象が生
じることが挙げられる。特に、高品位の液晶表示素子を
得るためには、この焼き付きを改善することが非常に重
要な問題である。焼き付きの原因は、配向膜表面の液晶
中に含まれる不純物のイオン成分が、液晶表示素子に印
加される電圧のDC成分によって電気二重層を形成し、
その結果上下の基板の間で電荷の偏りが起こり、その偏
りが安定に保たれることによって生じる電位差であると
考えられている。特にTFT素子においては、素子の特
性上印加電圧からDC成分を除去することができないの
で、焼き付きはTN素子やSTN素子よりも目立ちやす
く深刻である。また、応答性を良くし、双安定性を確実
にするため、基板面と液晶分子の間に高いプレチルト角
を持たせなければならない。
の問題点を解決することである。焼き付きがなく、表示
品位が良好で、高いプレチルト角を持たせることができ
る液晶配向膜、液晶組成物を提供することであり、これ
らの原料であるイミド化合物およびこのイミド化合物を
含有する樹脂組成物を提供することである。そして、該
液晶配向膜を用いた液晶表示素子および該液晶組成物を
用いた液晶表示素子を提供することである。
開発を進めた結果、ある特定の構造を持つイミド化合物
を含有する特定の樹脂組成物を配向膜に用いること、ま
たは該イミド化合物を含有した液晶組成物を用いること
により、焼き付きがなく、表示品位が良好で、高いプレ
チルト角を持たせることができる液晶配向膜、液晶表示
素子が得られること見いだし、本発明を完成させるに至
った。即ち、本発明は次のような構成を有するものであ
る。 [1]式(1)で表されるイミド化合物。
ない1価の有機基、R12は、2個以上の環構造を含み、
イミド基を含まない1価の有機基である) [2]式(2)で表されるイミド化合物。
の有機基、G2は3価の有機基、A1、A2は、単結合ま
たは2価の有機基、nは0または1である) [3]式(3)で表されるイミド化合物。
R15、R16はそれぞれ独立して1価の有機基または水素
である) [4]R12が、2個のシクロヘキシル基を含む1価の基
である、[1]に記載のイミド化合物。 [5]R13が環構造を含む1価の基である、[2]に記
載のイミド化合物。 [6]R14が環構造を含む1価の基である、[3]に記
載のイミド化合物。 [7]R15及びR16がともに1価の有機基である、
[3]に記載のイミド化合物。
を脱水閉環して得られるポリイミドと、[1]または
[4]のいずれか1項に記載のイミド化合物を含有する
樹脂組成物。 [9]ポリアミド酸、またはポリアミド酸を脱水閉環し
て得られるポリイミドと、[2]または[5]のいずれ
か1項に記載のイミド化合物を含有する樹脂組成物。 [10]ポリアミド酸、またはポリアミド酸を脱水閉環
して得られるポリイミドと、[3]、[6]または
[7]のいずれか1項に記載のイミド化合物を含有する
樹脂組成物。
または化学処理することにより得られる樹脂成分を含
む、液晶配向膜。 [12][9]に記載の樹脂組成物を加熱または化学処
理することにより得られる樹脂成分を含む、液晶配向
膜。 [13][10]に記載の樹脂組成物を加熱または化学
処理することにより得られる樹脂成分を含む、液晶配向
膜。
項に記載のイミド化合物を含有する液晶組成物。 [15][2]または[5]のいずれか1項に記載のイ
ミド化合物を含有する液晶組成物。 [16][3]、[6]または[7]のいずれか1項に
記載のイミド化合物を含有する液晶組成物。 [17][14]〜[16]のいずれか1項に記載の液
晶組成物を用いた液晶表示素子。
板と、その表示画素電極に対向する範囲に対向電極が形
成された第二の基板とからなり、これら双方の基板表面
に[11]に記載の液晶配向膜が形成され、かつ互いに
一定の間隔になるように保持されたこれらの基板の間に
液晶組成物が挟持されていることを特徴とする液晶表示
素子。 [19]表示画素電極が形成さた第一の基板と、その表
示画素電極に対向する範囲に対向電極が形成された第二
の基板とからなり、これら双方の基板表面に[12]に
記載の液晶配向膜が形成され、かつ互いに一定の間隔に
なるように保持されたこれらの基板の間に液晶組成物が
挟持されていることを特徴とする液晶表示素子。 [20]表示画素電極が形成さた第一の基板と、その表
示画素電極に対向する範囲に対向電極が形成された第二
の基板とからなり、これら双方の基板表面に[13]に
記載の液晶配向膜が形成され、かつ互いに一定の間隔に
なるように保持されたこれらの基板の間に液晶組成物が
挟持されていることを特徴とする液晶表示素子。 [21]液晶組成物が、式(I)、(II)または(III)
で表される化合物群から選択される化合物を少なくとも
1種含有する液晶組成物である、[18]〜[20]の
いずれか1項に記載の液晶表示素子。
アルキルであり、この基の任意の−CH2−は−O−ま
たは−CH=CH−で置換されてもよいが、−O−が隣
接することはなく、また、この基の任意の水素はフッ素
で置換されてもよく;X1はフッ素、塩素、−CF3、−
OCF3、−OCF2H、−CF2H、−CFH2、−OC
F2CF2Hまたは−OCF2CFHCF3であり;L1お
よびL2は各々独立して水素またはフッ素であり;Z1お
よびZ2は各々独立して−(CH2)2−、−(CH2)4
−、−COO−、−OCO−、−CF2O−、−OCF2
−、−CH=CH−または単結合であり;環Bは1,4
−シクロヘキシレン、1,3−ジオキサン−2、5−ジ
イル、1,4−フェニレンまたは環の水素がフッ素原子
で置換された1,4−フェニレンあり;環Cは1,4−
シクロヘキシレン、1,4−フェニレンまたは環の水素
がフッ素で置換された1,4−フェニレンである) [22]液晶組成物が、式(IV)または(V)で表され
る化合物群から選択される化合物を少なくとも1種含有
する液晶組成物である、[18]〜[20]のいずれか
1項に記載の液晶表示素子。
して炭素数1〜10のアルキルであり、この基の任意の
−CH2−は−O−または−CH=CH−で置換されて
もよいが、−O−が隣接することはなく、またこの基の
任意の水素はフッ素で置換されてもよく;X2は−CN
または−C≡C−CNであり;環Dは1,4−シクロヘ
キシレン、1,4−フェニレン、1,3−ジオキサン−
2、5−ジイル、またはピリミジン−2,5−ジイルで
あり;環Eは1,4−シクロヘキシレン、ピリミジン−
2,5−ジイル、1,4−フェニレンまたは環の水素が
フッ素で置換された1,4−フェニレンであり;環Fは
1,4−シクロヘキシレンまたは1,4−フェニレンで
あり;Z3は−(CH2)2−、−COO−、−OCO−
または単結合であり;L3、L4およびL5は各々独立し
て水素またはフッ素であり;e,fおよびgは各々独立
して0または1である) [23]液晶組成物が、式(VI)、(VII)または(VII
I)で表される化合物群から選択される化合物を少なく
とも1種含有する液晶組成物である、[18]〜[2
0]のいずれか1項に記載の液晶表示素子。
して炭素数1〜10のアルキルであり、この基の任意の
−CH2−は−O−または−CH=CH−で置換されて
もよいが、−O−が隣接することはなく、またこの基の
任意の水素はフッ素で置換されてもよく;環Gおよび環
Iは各々独立して1、4−シクロヘキシレンまたは1,
4−フェニレンであり;L6およびL7は各々独立して水
素またはフッ素を示すが、L6およびL7が同時に水素で
あることはなく;Z4およびZ5は各々独立して−(CH
2)2−、−COO−、−OCO−または単結合である)
前記式(I)、(II)または(III)で表される化合物群
から選択される化合物を少なくとも1種含有し、第2成
分として、式(IX)、(X)または(XI)で表される化
合物群から選択される化合物を少なくとも1種含有する
液晶組成物である、[18]〜[20]のいずれか1項
に記載の液晶表示素子。
して炭素数1〜10のアルキルであり、この基の任意の
−CH2−は−O−または−CH=CH−で置換されて
もよいが、−O−が隣接することはなく、またこの基の
任意の水素はフッ素で置換されてもよく;環J、環Kお
よび環Mは各々独立して1,4−シクロヘキシレン、ピ
リミジン−2,5−ジイル、1,4−フェニレンまたは
環の水素がフッ素で置換された1,4−フェニレンであ
り;Z6およびZ7は各々独立して−(CH2)2−、−C
≡C−、−COO−、−OCO−、−CH=CH−また
は単結合である)
前記式(IV)または(V)で表される化合物群から選択
される化合物を少なくとも1種含有し、第2成分とし
て、前記式(IX)、(X)または(XI)で表される化合
物群から選択される化合物を少なくとも1種含有する液
晶組成物である、[18]〜[20]にのいずれか1項
記載の液晶表示素子。 [26]液晶組成物が、第1成分として、前記式(V
I)、(VII)または(VIII)で表される化合物群から選
択される化合物を少なくとも1種含有し、第2成分とし
て、式(IX)、(X)または(XI)で表される化合物群
から選択される化合物を少なくとも1種含有する液晶組
成物である、[18]〜[20]のいずれか1項に記載
の液晶表示素子。 [27]液晶組成物が、第1成分として、前記式
(I)、(II)または(III)で表される化合物群から選
択される化合物を少なくとも1種含有し、第2成分とし
て、前記式(IV)または(V)で表される化合物群から
選択される化合物を少なくとも1種含有し、第3成分と
して、前記式(IX)、(X)または(XI)で表される化
合物群から選択される化合物を少なくとも1種含有する
液晶組成物である、[18]〜[20]のいずれか1項
に記載の液晶表示素子。
ド化合物の具体例としては、
り;R17は水素または炭素数1〜10のアルキルを示
し、この基の任意の−CH2−は−O−または−CH=
CH−で置換されてもよいが、−O−が隣接することは
なく、またこの基の任意の水素はフッ素で置換されても
よく;R18は1価の基であり;hは1〜12の整数であ
る)等をあげることができる。なかでも、合成のしやす
さ等の観点から、より好ましいものとして、
表される化合物は、例えばR11を置換基として持つフタ
ル酸無水物と、R12で表される構造を持つアミンとを脱
水縮合することで得ることができる。あるいは、R18の
構造を持つアルコール類やフェノール類と、トリメリッ
ト酸無水物ハライドを反応させてトリメリット酸無水物
エステルを得、次にこのものとR12で表される構造を持
つアミンとを脱水縮合することで得ることができる。式
(2)で表される本発明のイミド化合物の具体例として
は、
0]の記載と同じであり;R19は2価の基であり;hは
1〜12の整数である)等をあげることができる。なか
でも、合成のしやすさ等の観点から、より好ましいもの
として、
表される化合物は、例えばニトロ基を置換基として持つ
フタル酸無水物誘導体と、R13で表される構造を持つア
ミンとを脱水縮合し、次に前述のニトロ基を還元してア
ミノ基とし、このものと酸無水物とを脱水縮合すること
で得ることができる。また、n=1の場合には、例えば
ニトロ基を置換基として持つフタル酸無水物誘導体と、
R13で表される構造を持つアミンとを脱水縮合し、次に
ニトロ基を還元してアミノ基とする。ここにニトロ基を
持つ酸無水物をさらに脱水縮合させ、このニトロ基を還
元してアミノ基とし、このものと酸無水物とを脱水縮合
することで得ることができる。式(3)で表される本発
明のイミド化合物の具体例としては、
0]の記載と同じであり;R20は炭素数1〜12のアル
キルであり、hは1〜12の整数である)等をあげるこ
とができる。なかでも、合成のしやすさ等の観点から、
より好ましいものとして、
表される化合物は、例えばR14で表される構造を持つア
ミンと、トリメリット酸無水物ハライドを反応させて脱
水縮合し、場合により、生成したアミド基の水素を水酸
化カリウム、水酸化ナトリウム、水素化ナトリウム、ア
ルキルリチウム、ナトリウムアルコキシド等の塩基を用
いてメタル化し、アルキルハライド等を反応させること
で得ることができる。あるいは、R15、R16を置換基と
して持つ2級アミンと、トリメリット酸無水物ハライド
を反応させてトリメリット酸無水物アミドを得、次にこ
のものとR14で表される構造を持つアミンとを脱水縮合
することで得ることができる。
る。本発明の樹脂組成物は、(a)ポリアミド酸、また
はポリアミド酸を脱水閉環して得られるポリイミドと、
式(1)で表されるイミド化合物を含有する樹脂組成
物、(b)ポリアミド酸、またはポリアミド酸を脱水閉
環して得られるポリイミドと、式(2)で表されるイミ
ド化合物を含有する樹脂組成物、(c)ポリアミド酸、
またはポリアミド酸を脱水閉環して得られるポリイミド
と、式(3)で表されるイミド化合物を含有する樹脂組
成物である。本発明の樹脂組成物における式(1)、式
(2)または式(3)で表される成分の含有量は、経済
上の観点などから好ましくは0.01〜80%、更に好
ましくは0.1〜50%である。
環して得られるポリイミドの製造に用いるジアミンとし
ては、炭素数2〜12の脂肪族系ジアミン、炭素数4〜
36の脂環式系ジアミン、炭素数6〜36の芳香族系ジ
アミン、または式(4)
〜3のアルキレンまたはフェニレンであり、R100はそ
れぞれ独立して炭素数1〜3のアルキルまたはフェニル
であり、b、cおよびdは0または1である)で表され
るポリシロキサン基を有するジアミンなどが挙げられ
る。具体的には、炭素数2〜12の脂肪族系ジアミンと
して、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、4,4−ジメチルヘプタ
メチレンジアミン、2,11−ドデカンジアミンなど、
炭素数4〜36個の脂環式系ジアミンとしては、1,4
−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−ジアミノジシク
ロヘキシルメタン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジ
メチルジシクロヘキシルメタン、4,4’−ジアミノ−
3,3’−ジメチルジシクロヘキシルなどをあげること
ができる。
しては、ビス(4−アミノフェニル)エーテル、ビス
(4−アミノフェニル)メタン、ビス(4−アミノ−3
−メチルフェニル)メタン、ビス(4−アミノ−3,5
−ジメチルフェニル)メタン、ビス(4−アミノフェニ
ル)スルフォン、ビス(4−アミノフェニル)サルフィ
ド、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)ス
ルフォン、2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキ
シ)フェニル)プロパン、ビス(4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル)スルフォン、1,2−ジアミノベン
ゼン、1,3−ジアミノベンゼン、1,4−ジアミノベ
ンゼン、1,4−ジアミノ−2−ブチルベンゼン、1,
4−ジアミノ−2−ドデシロキシベンゼン、ベンジジ
ン、2,2’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ジ
アミノベンゾフェノン、2,2−ビス(4−アミノフェ
ニル)プロパン、1,5−ジアミノナフタリン、1,5
−ジアミノナフタリン、4,4’−ジアミノ−3−オク
チルジフェニルメタン、2,2−ビス(4−(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル)−1,1,1,3,3,3−
ヘキサフルオロプロパン、4,4’−ビス(4−アミノ
フェノキシ)ビフェニル、1,2−ビス(4−アミノフ
ェニル)エタン、1,2−ビス(4−アミノ−2−メチ
ルフェニル)エタン、1,1−ビス(4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス
(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)−4−プロ
ピルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−(4−アミノ
ベンジル)フェニル)シクロヘキサン、1,3−ビス
(4−(4−アミノベンジル)フェニル)プロパン、
1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス
−p−アミノフェニルアニリンなどをあげることができ
る。これらの化合物には異性体が存在するものもある
が、それらを含む混合物であってもかまわない。
基を有するジアミンの具体例として、次の式で表される
両末端ジアミノポリシロキサン類をあげることができ
る。
上の整数である) これらのジアミン化合物は2種以上の化合物を併用して
もよい。なお、本発明に使用するジアミンは、上記の例
示化合物に限定されるものではない。ポリアミド酸また
はポリアミド酸を脱水閉環して得られるポリイミドの製
造に用いるテトラカルボン酸二無水物としては、カルボ
キシル基を除いた残基として炭素数4〜30個の4価の
基を有するものが好ましい。その具体例として、ピロメ
リット酸二無水物、3,3’4,4’−ビフェニルテト
ラカルボン酸二無水物、2,2’3,3’−ビフェニル
テトラカルボン酸二無水物、2,3,3’4’−ビフェ
ニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’4,4’−ベ
ンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,
3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水
物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)
エ−テル二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)スルホン二無水物、1,2,5,6−ナフタリンテ
トラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタリン
テトラカルボン酸二無水物、ビス(ジカルボキシフェニ
ル)メタン二無水物、シクロブタンテトラカルボン酸二
無水物、ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペン
タンテトラカルボン酸二無水物、シクロヘキサンテトラ
カルボン酸二無水物、ジシクロヘキサンテトラカルボン
酸二無水物、ジシクロペンタンテトラカルボン酸二無水
物、ビス(ジカルボキシシクロヘキシル)エ−テル二無
水物、ビス(ジカルボキシシクロヘキシル)スルフォン
二無水物、ビス(ジカルボキシシクロヘキシル)メタン
二無水物、および次に示す化学構造式の化合物などをあ
げることができる。
化合物には異性体が存在するものもあるが、それらを含
む混合物であってもかまわない。また、2種以上の化合
物を併用してもよい。なお、本発明に使用するテトラカ
ルボン酸二無水物は、上記の例示化合物に限定されるも
のではない。
ド酸またはポリアミド酸を脱水閉環して得られるポリイ
ミドにあっては、それらの分子末端に式(5)
ンまたはフェニレンであり、R42は炭素数1〜10のア
ルキル、炭素数2〜10のアルケニルまたはフェニルで
あり、R43は炭素数1〜10のアルキル、炭素数2〜1
0のアルケニルまたはアルコキシアルキルであり、qは
1〜3の整数である)で表されるアルコキシシリル基を
導入してもよい。こうすることによって、この樹脂組成
物を基板上に塗布し加熱処理によって液晶配向膜を形成
させるに際し、末端のアルコキシシラン同士が縮合反応
し、三次元ポリマー化して、膜の強度や基板への密着性
が改善される。このアルコキシシリル基を導入するため
の化合物として、N−(2−アミノエチル)−3−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチ
ル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−
(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメ
トキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、3−アミノプロピ
ルメチルジエトキシシラン、3−アミノプロピルトリス
(2−メトキシエトキシ)シラン、2−アミノエチルト
リメトキシシラン、2−アミノエチルトリエトキシシラ
ン、2−アミノエチルメチルジメトキシシラン、2−ア
ミノエチルメチルジエトキシシラン、4−アミノブチル
トリメトキシシラン、4−アミノフェニルトリメトキシ
シラン、4−アミノフェニルトリエトキシシラン、4−
アミノフェニルメチルジメトキシシラン、4−アミノフ
ェニルメチルジエトキシシラン、4−アミノフェニルト
リス(2−メトキシエトキシ)シラン、3−(4−アミ
ノフェニル)プロピルトリメトキシシラン、3−(4−
アミノフェニル)プロピルトリエトキシシラン、3−ア
ミノフェニルトリメトキシシラン、3−アミノフェニル
トリエトキシシラン、3−(4−アミノフェニル)プロ
ピルメチルジメトキシシラン、3−(4−アミノフェニ
ル)プロピルメチルジエトキシシラン、3−アミノフェ
ニルメチルジメトキシシラン、3−アミノフェニルメチ
ルジエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシ
シラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシ
ラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル
トリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリエトキシシラン、2−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)エチルメチルジメトキシシラン
などのシラン化合物をあげることができる。
ド酸は、前記のジアミンとテトラカルボン酸二無水物
を、場合によってアミノシリコン化合物を更に加え、N
−メチル−2−ピロリドンなどのよく知られた溶媒の存
在下、公知の方法により得ることができる。なお、これ
らの原料はランダム共重合を行ってもよく、ブロック共
重合を行ってもよく、または異なる組成で(共)重合し
たポリマーを混合してもよい。ポリアミド酸を脱水閉環
して得られるポリイミドは、上記のようにして得たポリ
アミド酸溶液を、例えばそのまま加熱するなどの熱によ
る方法、あるいは例えば無水酢酸とピリジンを加えて加
熱するなどの化学反応的手法で得ることができる。ま
た、このようにして得たポリアミド酸溶液、またはポリ
アミド酸を脱水閉環して得られるポリイミド溶液は、
水、メタノール、エタノール、アセトン等に注ぎ、ポリ
マーを沈澱させて、ろ過し、次いで場合により水、メタ
ノール、エタノール、アセトン等で洗浄するか、または
還流させて、ポリマーを精製しても良い。このようにし
て得たポリアミド酸、またはポリアミド酸を脱水閉環し
て得られるポリイミドと、式(1)、式(2)または式
(3)で表される化合物を混合するか、場合によりさら
に溶媒を加えて混合溶解することで、本発明の樹脂組成
物を得ることができる。
(a)、(b)または(c)で示す樹脂組成物を基板上
に塗布し、加熱処理することにより形成することができ
る。更に具体的に説明すると、まず樹脂組成物を、N−
メチル−2−ピロリドン(NMP)、ジメチルアセトア
ミド(DMAc)、ジメチルホルムアミド(DMF)、
ジメチルスルホキシド(DMSO)、エチレングリコー
ルモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテルなどの溶剤に溶解し、0.1〜30重量%溶
液、好ましくは1〜10重量%溶液を調製する。この溶
液を刷毛塗り法、浸漬法、回転塗布法、スプレー法、印
刷法などにより基板上に塗布し、塗膜を形成させる。塗
膜形成後、50〜140℃好ましくは80〜120℃で
溶媒を蒸発させた後、140〜280℃で加熱処理を行
い高分子膜を設ける。ポリアミド酸を含む樹脂組成物で
ある場合には、加熱処理時に脱水閉環によるイミド化反
応が起こるが、このイミド化率は100%である必要は
なく、100%以下のイミド化でも用途によっては使用
可能である。塗布前に基板表面上をシランカップリング
剤で処理し、その上に高分子膜を形成させれば、高分子
膜と基板との接着性を改善することができる。しかる
後、この被膜面を布などで一方向にラビングして、液晶
配向膜を得る。
晶成分と、式(1)、式(2)または式(3)で表され
るイミド化合物とを混合し、高温度下で互いに溶解させ
る方法など、一般に慣用される方法により調製すること
ができる。
方法で作製する。すなわち、ガラスなどの基板上にIT
O(酸化インジウム−酸化スズ)や酸化スズなどの透明
電極を形成し、次いで電極上に前記配向膜を形成させ
る。このように処理された二枚の板を、それぞれ配向膜
を内側にして一定の間隔をあけて保持し、周囲をエポキ
シ樹脂などで封止してセルとする。その後、このセル内
に液晶を注入し、注入口を封止して徐冷することにより
液晶表示素子を作製する。あるいは、液晶を電極、配向
膜の形成された二枚の板の配向膜上に散布し重ね合わ
せ、液晶が漏れないように密封して液晶表示素子を作製
してもよい。さらにセルの外側に必要に応じて文字、図
形、カラーフィルターなどを印刷したり、偏光板、反射
板、照明などを配置してもよい。
らのアルカリ溶出を防止するための絶縁膜、カラーフィ
ルター、カラーフィルターオーバーコートなどのアンダ
ーコート膜を設けてもよく、電極上に絶縁膜、カラーフ
ィルター膜などのオーバーコート膜を設けてもよい。ま
た、前記二枚の板を一定の間隔をあけて保持する場合、
セルギャップを保持するために、通常ギャップ剤を散布
する。ギャップ剤としてはガラスビーズ、シリカ、アル
ミナ、合成樹脂の球状粒子などが使用される。
は、式(I)〜(XI)のいずれかで表される化合物群か
ら、液晶組成物の目的に応じて適宜選択される化合物を
混合することにより調製される。さらに、しきい値電
圧、液晶相温度範囲、屈折率異方性、誘電率異方性およ
び粘度などを調整する目的で、公知の化合物を混合する
こともできる。また、これらの化合物を構成する原子
は、その同位体で置換されていてもよい。式(I)〜(I
II)で表される化合物の好ましい例、式(IV)および
(V)で表される化合物の好ましい例、および式(IX)
〜(XI)で表される化合物の好ましい例として、それぞ
れ特開平11−29557号公報(引例1)の[004
5]〜[0053]、[0055]〜[0058]およ
び[0060]〜[0063]の段落に記載された化合
物が例示できる。同様に、本発明の液晶表示素子用の液
晶組成物に用いられる一般式(VI)〜(VIII)で表され
る化合物の好ましい例として、特開平11−29581
号公報(引例2)の[0079]、[0082]の段落
に記載された化合物が例示できる。
ならびに液晶組成物の全重量に対する好ましい含有量
は、引例1の段落[0054]に記載されている。式
(I)〜(III)で表される化合物は、TFT用の液晶組
成物を調製する場合にきわめて有用であるが、STNま
たはTN用の液晶組成物を調製する場合も使用すること
ができる。この場合は50重量%以下の使用量が好まし
い。
特徴ならびに液晶組成物の全重量に対する好ましい含有
量は、引例1の段落[0059]に記載されている。式
(VI)〜(VIII)で表される化合物の特徴ならびに液晶
組成物の全重量に対する好ましい含有量は、引例2の段
落[0083]および[0084]に記載されている。
式(IX)〜(XI)で表される化合物の特徴ならびに液晶
組成物の全重量に対する好ましい含有量は、引例1の段
落[0064]に記載されている。
(Optically Compensated Birefringence)モード用液
晶組成物などの特別な場合を除き、液晶組成物のらせん
構造を誘起して必要なねじれ角を調整し、逆ねじれ(re
verse twist)を防ぐ目的で、通常光学活性化合物を添
加する。このような目的で公知のいかなる光学活性化合
物も使用できるが、好ましい例として、前記引例1の段
落[0065]に記載された化合物を例示できる。本発
明の液晶表示素子に使用される液晶組成物は、通常、こ
れらの光学活性化合物を添加して、ねじれのピッチを調
整する。ねじれのピッチの好ましい値等は、引例1の段
落[0067]に記載されている。本発明の液晶表示素
子に用いる液晶組成物は、引例1の段落[0069]に
記載されている方法によって調製することができる。
れる液晶組成物中に、メロシアニン系、スチリル系、ア
ゾ系、アゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、ア
ントラキノン系およびテトラジン系などの二色性色素を
含んだゲスト−ホスト(GH)モ−ドの液晶表示素子;
ネマチック液晶をマイクロカプセル化して作製したNC
AP;液晶中に三次元網目状高分子を形成して作製され
たポリマーネットワーク液晶表示素子(PNLCD)に
代表されるポリマー分散型液晶表示素子(PDLC
D);複屈折制御(ECB)モ−ドや動的散乱(DS)
モードの液晶表示素子などが含まれる。本発明のイミド
化合物は液晶配向膜用樹脂以外にも、ポリアミド樹脂、
ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリ尿素樹脂
等の改質剤などとして用いることができる。また、本発
明の樹脂組成物は、液晶配向膜用樹脂以外にも、各種コ
ーテイング剤、あるいは樹脂成形品、フィルム、繊維、
などに利用することができる。
細に例示する。なお、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。実施例中においてCは結晶、Nはネ
マチック相、Iは等方性液相を示し、相転移温度の単位
は全て℃である。また、以下に示す実施例において、焼
き付きの度合いは次の方法により評価した。まず、0.
01mm幅の透明電極を0.01mmの間隔でストライ
プ状に付したガラス基板上に、配向膜を形成する。透明
電極と平行にラビングした後、2枚のガラス基板をラビ
ング方向が直交するように、つまり透明電極が上下の基
板で直交するようにガラス基板を組み立てる。次いで、
液晶を注入し、液晶表示素子を作製する。この液晶表示
素子は上から見ると、上下の基板の透明電極が直交して
いるため、マトリックス状に上下に電極のない部分がで
きる。こうして得た液晶表示素子に5Vの直流を3時間
印加した後、いったん上下の基板の電極間をショートさ
せる。この素子を4V、0.01Hzの交流で駆動しな
がら顕微鏡で観察する。セルに焼き付きが生じると、電
極のない部分の液晶は印加された電圧に追随できないた
め、上下に電極のある部分と比較して、液晶の駆動に遅
れを生じる。すなわち、上下に電極のない部分が電極の
ある部分と比較して、点灯または消灯の遅れる時間の長
さを観測することで、セルの焼き付きの程度を評価する
ことができるのである。また、プレチルト角の測定はク
リスタルローテーション法により行った。
ミン27.5g、20%−水酸化パラジウム−カーボン
(含水)3.0g、トルエン100ml、およびエタノ
ール200mlを1Lのオートクレーブに入れ、水素ガ
スで置換後、水素ガスを供給しながら60℃、600k
Paで8時間攪拌した。ガスクロマトグラフィーで反応
の終了を確認した後、触媒をろ過して除き、溶媒を減圧
留去することにより、4−プロピルシクロヘキシルアミ
ン27gを得た。この化合物はアミノ基の結合位置にお
ける異性体の混合物であった。
脱水装置を付した300mlの三ツ口フラスコに、前工
程で得られた4−プロピルシクロヘキシルアミン10.
0g、トルエン60gを入れ、室温で攪拌しながら4−
ニトロフタル酸無水物13.5gを投入した。30分攪
拌後、p−トルエンスルホン酸水和物0.15gを入
れ、水の共沸がなくなるまで3時間共沸脱水を行った。
室温まで冷却した反応混合物を水、炭酸水素ナトリウム
水溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去することで、N−(4−プロピルシ
クロヘキシル)−4−ニトロフタルイミド19.0gを
得た。
した300mlのナスフラスコに、前工程で得られたN
−(4−プロピルシクロヘキシル)−4−ニトロフタル
イミド18.0g、5%−パラジウム・カーボン(含
水)1.0g、テトラヒドロフラン80gを入れ、水素
ガスで置換後、水素ガスを供給しながら、水素ガスの吸
収がなくなるまで、常圧で8時間攪拌した。液体クロマ
トグラフィーで反応の終了を確認した後、触媒をろ過し
て除き、溶媒を減圧留去することにより、N−(4−プ
ロピルシクロヘキシル)−4−アミノフタルイミド1
7.0gを得た。
脱水装置を付した500mlの三ツ口フラスコに、前工
程で得られたN−(4−プロピルシクロヘキシル)−4
−アミノフタルイミド17.0g、トルエン90gおよ
びN−メチル−2−ピロリドン10gを入れ、室温で攪
拌しながらフタル酸無水物11.5gを投入した。30
分攪拌後、p−トルエンスルホン酸水和物0.15gを
入れ、水の共沸がなくなるまで3時間共沸脱水を行っ
た。室温まで冷却した後、水150mlおよび水酸化ナ
トリウム1.3gを入れ、40℃で2時間攪拌した。有
機層を水で3回洗浄し、溶媒を減圧留去し、トルエンか
ら再結晶精製することで、下記の「イミド化合物A」1
3.0gを得た。この化合物は、2種の異性体の混合物
であり、その分子量はGC−MS分析により、ともに4
16であった。
35.0g、ベンジルアミン18.0g、20%−水酸
化パラジウム−カーボン(含水)3.0g、トルエン3
00ml、およびエタノール400mlを1.5Lのオ
ートクレーブに入れ、水素ガスで置換後、水素ガスを供
給しながら60度、600kPaで8時間攪拌した。ガ
スクロマトグラフィーで反応の終了を確認した後、触媒
をろ過して除き、溶媒を減圧留去することにより、4−
(4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルアミン
35.0gを得た。この化合物はアミノ基の結合位置に
おける異性体の混合物であった。
脱水装置を付した300mlの三ツ口フラスコに、前工
程で得られた4−(4−ペンチルシクロヘキシル)シク
ロヘキシルアミン15.0g、トルエン75g、および
N−メチル−2−ピロリドン10mlを入れ、室温で攪
拌しながら4−ニトロフタル酸無水物11.5gを投入
した。30分攪拌後、p−トルエンスルホン酸水和物
0.15gを入れ、水の共沸がなくなるまで3時間共沸
脱水を行った。室温まで冷却した後、反応混合物をエタ
ノール300ml中に注ぎ、結晶をろ別し、エタノール
で洗浄することで、N−(4−(4−ペンチルシクロヘ
キシル)シクロヘキシル)−4−ニトロフタルイミド1
2.7gを得た。
−(4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)−
4−ニトロフタルイミド12.5g、チオ尿素88g、
テトラヒドロフラン550ml、およびエタノール25
0gを入れ、加熱して固形物を溶解させた後、室温まで
冷却した。結晶をろ別し、ろ液を濃縮した。結晶を1モ
ル/L−塩酸水200mlおよびジクロロメタン100
mlの混合液に加え、溶解し、分液した有機層の溶媒を
減圧留去して結晶を得た。液体クロマトグラフィー分析
におけるその面積比から、この結晶はcis/tran
s=7/93であった。一方、濃縮したろ液を同様な操
作で処理したところ、得られた結晶はcis/tran
s=94/6であった。以上の包摂操作をもう一度繰り
返すことにより、cis体5.5g、trans体1.
7gを得た。尚、本実施例ではcis体とtrans体
を分離したが、用途により、分離せずにそのまま用いて
も何ら差し支えない。
00mlのナスフラスコに、前工程で得られたN−(4
−(4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)−
4−ニトロフタルイミド(cis体)4.0g、5%−
パラジウム・カーボン(含水)0.3g、テトラヒドロ
フラン40gを入れ、水素ガスで置換後、水素ガスを供
給しながら、水素ガスの吸収がなくなるまで、常圧で8
時間攪拌した。液体クロマトグラフィーで反応の終了を
確認した後、触媒をろ過して除き、溶媒を減圧留去する
ことにより、N−(4−(4−ペンチルシクロヘキシ
ル)シクロヘキシル)−4−アミノフタルイミド(ci
s体)3.9gを得た。得られた結晶は精製せずに、次
の反応に用いた。
置を付した300mlの三ツ口フラスコに、前工程で得
られたN−(4−(4−ペンチルシクロヘキシル)シク
ロヘキシル)−4−アミノフタルイミド(cis体)
3.9g、トルエン40gおよびN−メチル−2−ピロ
リドン8gを入れ、室温で攪拌しながらフタル酸無水物
1.94gを投入した。30分攪拌後、p−トルエンス
ルホン酸水和物0.1gを入れ、水の共沸がなくなるま
で3時間共沸脱水を行った。室温まで冷却した後、トル
エン50ml、水100mlおよび水酸化ナトリウム
0.2gを入れ、40度で2時間攪拌した。有機層を水
で3回洗浄し、溶媒を減圧留去した後、トルエン/エタ
ノール=1/1から再結晶することで、下記の「イミド
化合物B」3.5gを得た。この化合物の融点は、14
3.1−144.0゜Cであった。
0mlのナスフラスコに、前工程で得られたN−(4−
(4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシル)−4
−ニトロフタルイミド(trans体)1.2g、5%
−パラジウム・カーボン(含水)0.1g、テトラヒド
ロフラン10gを入れ、水素ガスで置換後、水素ガスを
供給しながら、水素ガスの吸収がなくなるまで、常圧で
8時間攪拌した。液体クロマトグラフィーで反応の終了
を確認した後、触媒をろ過して除き、溶媒を減圧留去す
ることにより、N−(4−(4−ペンチルシクロヘキシ
ル)シクロヘキシル)−4−アミノフタルイミド(tr
ans体)1.1gを得た。得られた結晶は精製をせず
に、次の反応に用いた。
置を付した200mlの三ツ口フラスコに、前工程で得
られたN−(4−(4−ペンチルシクロヘキシル)シク
ロヘキシル)−4−アミノフタルイミド(trans
体)0.8g、トルエン10gおよびN−メチル−2−
ピロリドン2gを入れ、室温で攪拌しながらフタル酸無
水物0.45gを投入した。30分攪拌後、p−トルエ
ンスルホン酸水和物0.08gを入れ、水の共沸がなく
なるまで3時間共沸脱水を行った。室温まで冷却した
後、トルエン50ml、水50mlおよび水酸化ナトリ
ウム0.06gを入れ、40度で2時間攪拌した。有機
層を水で3回洗浄し、溶媒を減圧留去し、トルエンから
再結晶することで、下記の「イミド化合物C」0.8g
を得た。相転移点 C・220.0・N・290.6・
I
することができる。
00mlの三ツ口フラスコに、実施例2で得られた中間
体である、4−(4−ペンチルシクロヘキシル)シクロ
ヘキシルアミン(cis体、trans体の混合物)
1.0g、トルエン4gおよびN−メチル−2−ピロリ
ドン1.5gを入れ、室温で攪拌しながらフタル酸無水
物0.77gを投入した。30分攪拌後、p−トルエン
スルホン酸水和物0.1gを入れ、水の共沸がなくなる
まで3時間共沸脱水を行った。室温まで冷却した後、水
15mlおよび水酸化ナトリウム0.14gを入れ、室
温で2時間攪拌した。有機層を水で3回洗浄した後、溶
媒を減圧留去し、トルエン/エタノール=1/1から再
結晶精製することで、下記の「イミド化合物D」1.2
gを得た。 この化合物は、2種の異性体の混合物であ
り、その分子量はGC−MS分析により、ともに381
であった。
することができる。
00mlの三ツ口フラスコに、前工程で得られた4−
(4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルアミン
(cis体、trans体の混合物)8.0g、トルエ
ン50gおよびN−メチル−2−ピロリドン14gを入
れ、室温で攪拌しながらトリメリット酸無水物クロリド
3.2gを投入した。30分攪拌後、p−トルエンスル
ホン酸水和物0.15gを入れ、水の共沸がなくなるま
で3時間共沸脱水を行った。反応混合物を室温まで冷却
した後、アセトン500mlと水100mlの混合液中
に注ぎ、生成した結晶をろ別し、アセトンで洗浄して乾
燥した。次に、この結晶4.0gをN−メチル−2−ピ
ロリドン20gに溶解し、水素化ナトリウム(60%油
性)0.5gを投入した。氷冷しながら、ヨウ化メチル
2.1gを10分かけて滴下し、氷浴を外し室温で2時
間攪拌した。反応混合物を水300ml中に注ぎ、生成
した結晶をろ別し、乾燥して、下記の「イミド化合物
E」8.2gを得た。この化合物は、液体クロマトグラ
フィーによる分析では数種の異性体の混合物であり、マ
ススペクトルによる分析では、分子量は673であっ
た。
することができる。
付した500mlの四ツ口フラスコに、脱水精製したN
−メチル−2−ピロリドン135.00g、次いで4,
4’−ジアミノジフェニルメタン2.97g(15.0
mmol)、4,4’−ジアミノ−3、3’−ジメチル
ジフェニルメタン3.39g(15.0mmol)を入
れ、乾燥窒素気流下攪拌溶解した。温度を20℃に保ち
ながらピロメリット酸二無水物3.27g(15.0m
mol)およびシクロブタンテトラカルボン酸二無水物
2.94g(15.0mmol)を添加し、5時間反応
させポリアミド酸を合成した後、4−ブチロラクトン:
2−n−ブトキシエタノール=1:1の溶剤を加えてポ
リマー濃度3%の溶液とした。以下、この処方によって
得られるポリアミド酸を「ポリマーA」とする。
A、B、C、DおよびEを表1に示した割合で混合溶解
し、樹脂組成物を得た。この溶液を、片面にITO電極
を設けた透明ガラス基板上に回転塗布法(スピンナー
法)で塗布した。回転条件は、2500rpm、15秒
であった。塗布後90℃で5分乾燥してから、150℃
で60分間加熱処理を行い、膜厚約60nmの樹脂膜を
得た。この樹脂膜が形成された基板2枚の塗膜面をそれ
ぞれラビング処理して液晶配向膜とし、ラビング方向が
90度になるようにセル厚9μmの液晶セルを組み立
て、下記3種の化合物の等量混合物からなる液晶組成物
を封入した。封入後110℃で30分間アイソトロピッ
ク処理を行い、室温まで徐冷して液晶表示素子を得た。
この液晶表示素子の焼き付きを評価した。イミド化合物
を用いないで作成した液晶セルによる比較例1と共に、
評価結果を表1に示す。同様に、液晶配向膜を設けた基
板を、ラビング方向が互いに逆平行となるようにセル厚
20μmの液晶セルを組み立て、下記3種の化合物の等
量混合物からなる液晶組成物を封入した。封入後110
℃で30分間アイソトロピック処理を行い、室温まで徐
冷して液晶表示素子を得た。この液晶表示素子を用い
て、クリスタルローテーション法によってプレチルト角
を測定した結果を、表1に合わせて示す。
5の重量比で混合し、120度に加熱して均一溶液とし
た後室温まで冷却し、液晶組成物を得た。ポリマー濃度
3%のポリマーA溶液を用いて、実施例6の方法と同様
にセル厚9μmの液晶セルを組み立て、この液晶組成物
を封入した。110℃で30分間アイソトロピック処理
を行い、室温まで徐冷して液晶表示素子を得た。この液
晶表示素子の焼き付きを評価したところ、上下に電極の
ない部分が電極のある部分と比較して、点灯または消灯
の遅れる時間はほとんどなかった。
これを用いた樹脂組成物、液晶配向膜、液晶組成物およ
び液晶表示素子が提供された。該イミド化合物を原料と
して用いた樹脂組成物は、液晶配向膜として優れた効果
を有する。例えば、該液晶配向膜を用いた液晶表示素子
は、焼き付きがなく、表示品位が優れたものとなる。ま
た、該イミド化合物を成分として用いた液晶組成物は、
焼き付きがなく、表示品位が優れた液晶表示素子を与え
る。このような特徴をもつ本発明のイミド化合物は、液
晶配向膜の原料成分としてデザインされたが、その他の
ポリイミド、ポリアミド等の高分子化合物およびその改
質にも使用可能であり、高分子化合物に新しい特性を導
入することが期待できる。本発明の樹脂組成物は、TF
T素子(TN型TFT、IPS素子)において特に好ま
しく用いられるが、STN素子、強誘電性液晶、反強誘
電性液晶表示素子用配向剤としても使用可能である。
又、本樹脂組成物による薄膜は、保護膜、絶縁膜として
用いることもできる。
Claims (27)
- 【請求項1】 式(1)で表されるイミド化合物。 【化1】 (式中、R11はイミド基を含まない1価の有機基または
水素、R12は2個以上の環構造を含み、イミド基を含ま
ない1価の有機基である) - 【請求項2】 式(2)で表されるイミド化合物。 【化2】 (式中、R13は1価の有機基、G1は2価の有機基、G2
は3価の有機基、A1、A2は、単結合または2価の有機
基、nは0または1である) - 【請求項3】 式(3)で表されるイミド化合物。 【化3】 (式中、R14は1価の有機基であり、R15、R16はそれ
ぞれ独立して1価の有機基または水素である) - 【請求項4】 R12が、2個のシクロヘキシル基を含む
1価の基である、請求項1に記載のイミド化合物。 - 【請求項5】 R13が環構造を含む1価の基である、請
求項2に記載のイミド化合物。 - 【請求項6】 R14が環構造を含む1価の基である、請
求項3に記載のイミド化合物。 - 【請求項7】 R15及びR16がともに1価の有機基であ
る、請求項3に記載のイミド化合物。 - 【請求項8】 ポリアミド酸、またはポリアミド酸を脱
水閉環して得られるポリイミドと、請求項1または4の
いずれか1項に記載のイミド化合物を含有する樹脂組成
物。 - 【請求項9】 ポリアミド酸、またはポリアミド酸を脱
水閉環して得られるポリイミドと、請求項2または5の
いずれか1項に記載のイミド化合物を含有する樹脂組成
物。 - 【請求項10】 ポリアミド酸、またはポリアミド酸を
脱水閉環して得られるポリイミドと、請求項3、6また
は7のいずれか1項に記載のイミド化合物を含有する樹
脂組成物。 - 【請求項11】 請求項8に記載の樹脂組成物を加熱ま
たは化学処理することにより得られる樹脂成分を含む、
液晶配向膜。 - 【請求項12】 請求項9に記載の樹脂組成物を加熱ま
たは化学処理することにより得られる樹脂成分を含む、
液晶配向膜。 - 【請求項13】 請求項10に記載の樹脂組成物を加熱
または化学処理することにより得られる樹脂成分を含
む、液晶配向膜。 - 【請求項14】 請求項1または4のいずれか1項に記
載のイミド化合物を含有する液晶組成物。 - 【請求項15】 請求項2または5のいずれか1項に記
載のイミド化合物を含有する液晶組成物。 - 【請求項16】 請求項3、6または7のいずれか1項
に記載のイミド化合物を含有する液晶組成物。 - 【請求項17】 請求項14〜16のいずれか1項に記
載の液晶組成物を用いた液晶表示素子。 - 【請求項18】 表示画素電極が形成さた第一の基板
と、その表示画素電極に対向する範囲に対向電極が形成
された第二の基板とからなり、これら双方の基板表面に
請求項11に記載の液晶配向膜が形成され、かつ互いに
一定の間隔になるように保持されたこれらの基板の間に
液晶組成物が挟持されていることを特徴とする液晶表示
素子。 - 【請求項19】 表示画素電極が形成さた第一の基板
と、その表示画素電極に対向する範囲に対向電極が形成
された第二の基板とからなり、これら双方の基板表面に
請求項12に記載の液晶配向膜が形成され、かつ互いに
一定の間隔になるように保持されたこれらの基板の間に
液晶組成物が挟持されていることを特徴とする液晶表示
素子。 - 【請求項20】 表示画素電極が形成さた第一の基板
と、その表示画素電極に対向する範囲に対向電極が形成
された第二の基板とからなり、これら双方の基板表面に
請求項13に記載の液晶配向膜が形成され、かつ互いに
一定の間隔になるように保持されたこれらの基板の間に
液晶組成物が挟持されていることを特徴とする液晶表示
素子。 - 【請求項21】 液晶組成物が、式(I)、(II)また
は(III)で表される化合物群から選択される化合物を
少なくとも1種含有する液晶組成物である、請求項18
〜20のいずれか1項に記載の液晶表示素子。 【化4】 (これらの式中、R1は炭素数1〜10のアルキルであ
り、この基の任意の−CH2−は−O−または−CH=
CH−で置換されてもよいが、−O−が隣接することは
なく、また、この基の任意の水素はフッ素で置換されて
もよく;X1はフッ素、塩素、−CF3、−OCF3、−
OCF2H、−CF2H、−CFH2、−OCF2CF2H
または−OCF2CFHCF3であり;L1およびL2は各
々独立して水素またはフッ素であり;Z1およびZ2は各
々独立して−(CH2)2−、−(CH2)4−、−COO
−、−OCO−、−CF2O−、−OCF2−、−CH=
CH−または単結合であり;環Bは1,4−シクロヘキ
シレン、1,3−ジオキサン−2,5−ジイル、1,4
−フェニレンまたは環の水素がフッ素で置換された1,
4−フェニレンであり;環Cは1,4−シクロヘキシレ
ン、1,4−フェニレンまたは環の水素がフッ素で置換
された1,4−フェニレンである) - 【請求項22】 液晶組成物が、式(IV)または(V)
で表される化合物群から選択される化合物を少なくとも
1種含有する液晶組成物である、請求項18〜20のい
ずれか1項に記載の液晶表示素子。 【化5】 (これらの式中、R2およびR3は各々独立して炭素数1
〜10のアルキルであり、この基の任意の−CH2−は
−O−または−CH=CH−で置換されてもよいが、−
O−が隣接することはなく、またこの基の任意の水素は
フッ素で置換されてもよく;X2は−CNまたは−C≡
C−CNであり;環Dは1,4−シクロヘキシレン、
1,4−フェニレン、1,3−ジオキサン−2,5−ジ
イル、またはピリミジン−2,5−ジイルであり;環E
は1,4−シクロヘキシレン、ピリミジン−2,5−ジ
イル、1,4−フェニレンまたは環の水素がフッ素で置
換された1,4−フェニレンであり;環Fは1,4−シ
クロヘキシレンまたは1,4−フェニレンであり;Z3
は−(CH2)2−、−COO−、−OCO−または単結
合であり;L3、L4およびL5は各々独立して水素また
はフッ素であり;e,fおよびgは各々独立して0また
は1である) - 【請求項23】 液晶組成物が、式(VI)、(VII)ま
たは(VIII)で表される化合物群から選択される化合物
を少なくとも1種含有する液晶組成物である、請求項1
8〜20のいずれか1項に記載の液晶表示素子。 【化6】 (これらの式中、R4およびR5は各々独立して炭素数1
〜10のアルキルであり、この基の任意の−CH2−は
−O−または−CH=CH−で置換されてもよいが、−
O−が隣接することはなく、またこの基の任意の水素は
フッ素で置換されてもよく;環Gおよび環Iは各々独立
して1,4−シクロヘキシレンまたは1,4−フェニレ
ンであり;L6およびL7は各々独立して水素またはフッ
素であるが、L6およびL7が同時に水素であることはな
く;Z4およびZ5は各々独立して−(CH2)2−、−C
OO−、−OCO−または単結合である) - 【請求項24】 液晶組成物が、第1成分として、前記
式(I)、(II)または(III)で表される化合物群から
選択される化合物を少なくとも1種含有し、第2成分と
して、式(IX)、(X)または(XI)で表される化合物
群から選択される化合物を少なくとも1種含有する液晶
組成物である、請求項18〜20のいずれか1項に記載
の液晶表示素子。 【化7】 (これらの式中、R6およびR7は各々独立して炭素数1
〜10のアルキルであり、この基の任意の−CH2−は
−O−または−CH=CH−で置換されてもよいが、−
O−が隣接することはなく、またこの基の任意の水素は
フッ素で置換されてもよく;環J、環Kおよび環Mは各
々独立して1,4−シクロヘキシレン、ピリミジン−
2,5−ジイル、1,4−フェニレンまたは環の水素が
フッ素で置換された1,4−フェニレンであり;Z6お
よびZ7は各々独立して−(CH2)2−、−C≡C−、
−COO−、−OCO−、−CH=CH−または単結合
である) - 【請求項25】 液晶組成物が、第1成分として、前記
式(IV)または(V)で表される化合物群から選択され
る化合物を少なくとも1種含有し、第2成分として、前
記式(IX)、(X)または(XI)で表される化合物群か
ら選択される化合物を少なくとも1種含有する液晶組成
物である、請求項18〜20のいずれか1項に記載の液
晶表示素子。 - 【請求項26】 液晶組成物が、第1成分として、前記
式(VI)、(VII)または(VIII)で表される化合物群
から選択される化合物を少なくとも1種含有し、第2成
分として、式(IX)、(X)または(XI)で表される化
合物群から選択される化合物を少なくとも1種含有する
液晶組成物である、請求項18〜20のいずれか1項に
記載の液晶表示素子。 - 【請求項27】 液晶組成物が、第1成分として、前記
式(I)、(II)または(III)で表される化合物群から
選択される化合物を少なくとも1種含有し、第2成分と
して、前記式(IV)または(V)で表される化合物群か
ら選択される化合物を少なくとも1種含有し、第3成分
として、前記式(IX)、(X)または(XI)で表される
化合物群から選択される化合物を少なくとも1種含有す
る液晶組成物である、請求項18〜20のいずれか1項
に記載の液晶表示素子。
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