JP2002145822A - フッ素含有ベンズアルデヒドの製造方法 - Google Patents
フッ素含有ベンズアルデヒドの製造方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/41—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by hydrogenolysis or reduction of carboxylic groups or functional derivatives thereof
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 高い空時収率で有毒廃棄物の発生なしにフッ
素含有ベンズアルデヒドを製造する方法の提供。 【解決手段】 対応する芳香族酸塩化物をパラジウム触
媒及び触媒調節剤の存在下に水素と反応させる一般式Ｉ
のフッ素含有ベンズアルデヒドの製造方法。具体例とし
て３−ブロモ−４−トリフルオロメトキシベンゾイルク
ロライドから３−ブロモ−４−トリフルオロメトキシベ
ンズアルデヒドを得る方法がある。 （ｎは１又は２を、Ｒ１〜Ｒ３は独立して水素、フッ
素、塩素、臭素、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ６−
フルオロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６−フルオロアルコキシ又
はＣ１〜Ｃ６−フルオロアルキルチオを表し、Ｒ１〜Ｒ
３の一つ以上はフッ素又はフッ素含有基であり、Ｒ１〜
Ｒ３の二つ以上は臭素、Ｃ１〜Ｃ６−フルオロアルコキ
シ及び／又はＣ１〜Ｃ６−フルオロアルキルチオではな
い。）
素含有ベンズアルデヒドを製造する方法の提供。 【解決手段】 対応する芳香族酸塩化物をパラジウム触
媒及び触媒調節剤の存在下に水素と反応させる一般式Ｉ
のフッ素含有ベンズアルデヒドの製造方法。具体例とし
て３−ブロモ−４−トリフルオロメトキシベンゾイルク
ロライドから３−ブロモ−４−トリフルオロメトキシベ
ンズアルデヒドを得る方法がある。 （ｎは１又は２を、Ｒ１〜Ｒ３は独立して水素、フッ
素、塩素、臭素、Ｃ１〜Ｃ６−アルキル、Ｃ１〜Ｃ６−
フルオロアルキル、Ｃ１〜Ｃ６−フルオロアルコキシ又
はＣ１〜Ｃ６−フルオロアルキルチオを表し、Ｒ１〜Ｒ
３の一つ以上はフッ素又はフッ素含有基であり、Ｒ１〜
Ｒ３の二つ以上は臭素、Ｃ１〜Ｃ６−フルオロアルコキ
シ及び／又はＣ１〜Ｃ６−フルオロアルキルチオではな
い。）
Description
【０００１】本発明はフッ素−含有ベンズアルデヒドの
対応する芳香族酸塩化物の還元による製造方法に関す
る。
対応する芳香族酸塩化物の還元による製造方法に関す
る。
【０００２】フッ素化ベンズアルデヒドは医薬部門にお
ける活性化合物のための構成単位として重要である。そ
れらはまた還元することにより医薬部門において活性化
合物のために同様に幅広い範囲の用途を有するベンジル
アルコールに転化することができる。
ける活性化合物のための構成単位として重要である。そ
れらはまた還元することにより医薬部門において活性化
合物のために同様に幅広い範囲の用途を有するベンジル
アルコールに転化することができる。
【０００３】フッ素−含有ベンズアルデヒドの製造方法
は知られている。かくしてフッ素化ベンゾイルクロライ
ドを、溶媒としてスルホラン中でローゼンムンド反応
（Ｒｏｓｅｎｍｕｎｄ ｒｅａｃｔｉｏｎ）（Ｏｒｇ．
Ｒｅａｃｔ． 第４巻、３６２頁参照）により対応する
ベンズアルデヒドに還元される（欧州特許出願（ＥＰ−
Ａ）第１７１０６５号）。この方法により高い収率が得
られるがしかし溶媒を使用することによりこの方法は低
い空時収率及び高い材料コストという欠点を有する。さ
ら３，５−ビス−（トリフルオロメチル）−ベンゾイル
クロライドの場合特にベンゾイルクロライドの対応する
ベンゼンへの過水素化（ｏｖｅｒｈｙｄｒｏｇｅｎａｔ
ｉｏｎ）の増加が観察される。
は知られている。かくしてフッ素化ベンゾイルクロライ
ドを、溶媒としてスルホラン中でローゼンムンド反応
（Ｒｏｓｅｎｍｕｎｄ ｒｅａｃｔｉｏｎ）（Ｏｒｇ．
Ｒｅａｃｔ． 第４巻、３６２頁参照）により対応する
ベンズアルデヒドに還元される（欧州特許出願（ＥＰ−
Ａ）第１７１０６５号）。この方法により高い収率が得
られるがしかし溶媒を使用することによりこの方法は低
い空時収率及び高い材料コストという欠点を有する。さ
ら３，５−ビス−（トリフルオロメチル）−ベンゾイル
クロライドの場合特にベンゾイルクロライドの対応する
ベンゼンへの過水素化（ｏｖｅｒｈｙｄｒｏｇｅｎａｔ
ｉｏｎ）の増加が観察される。
【０００４】３，５−ビス−（トリフルオロメチル）−
ベンズアルデヒドの製造の場合特に多くの製造方法が知
られているがしかしそれらのすべてが比較的大規模な製
造に適してはいない。かくして対応するブロモベンゼン
をブチルリチウム及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと
反応させていた（Ｊ． Ｍｅｄ． Ｃｈｅｍ． １６，
１３９９（１９７３）及びＣｈｅｍ． Ｂｅｒ． １
２９，２３３（１９６６））。発火性の有機リチウム化
合物を取り扱うことから、この方法は殊に高い安全性に
関する要求が存する。
ベンズアルデヒドの製造の場合特に多くの製造方法が知
られているがしかしそれらのすべてが比較的大規模な製
造に適してはいない。かくして対応するブロモベンゼン
をブチルリチウム及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドと
反応させていた（Ｊ． Ｍｅｄ． Ｃｈｅｍ． １６，
１３９９（１９７３）及びＣｈｅｍ． Ｂｅｒ． １
２９，２３３（１９６６））。発火性の有機リチウム化
合物を取り扱うことから、この方法は殊に高い安全性に
関する要求が存する。
【０００５】対応するブロモベンゼンとマグネシウムと
トリエチルオルトホルメートのグリニヤール反応（Ｅｕ
ｒ． Ｊ． Ｍｅｄ． Ｃｈｅｍ． Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅ
ｒ．１４，４１１（１９７９））の場合も同様で、有機
マグネシウム化合物の取扱に同様の高度の安全に対する
要求が存在する。
トリエチルオルトホルメートのグリニヤール反応（Ｅｕ
ｒ． Ｊ． Ｍｅｄ． Ｃｈｅｍ． Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅ
ｒ．１４，４１１（１９７９））の場合も同様で、有機
マグネシウム化合物の取扱に同様の高度の安全に対する
要求が存在する。
【０００６】工業的に入手が困難な３，５−ビス−（ト
リフルオロメチル）−ベンジルアルコールもまたピリジ
ニウムジクロメートを用いてそこそこの収率で酸化され
る（Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． １０７，
２４４２（１９８５））。これは有毒なクロム−含有廃
棄物が生成し、コストのかかる廃棄処分が必要である。
リフルオロメチル）−ベンジルアルコールもまたピリジ
ニウムジクロメートを用いてそこそこの収率で酸化され
る（Ｊ．Ａｍｅｒ．Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ． １０７，
２４４２（１９８５））。これは有毒なクロム−含有廃
棄物が生成し、コストのかかる廃棄処分が必要である。
【０００７】塩化錫（II）／塩化水素ガスを使用した対
応するニトリルのステファン還元（Ｊ． Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ． Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ． ２，１９８
７，６３９）では化学量論量の有毒な錫塩が廃棄生成物
として発生する。
応するニトリルのステファン還元（Ｊ． Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ． Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ． ２，１９８
７，６３９）では化学量論量の有毒な錫塩が廃棄生成物
として発生する。
【０００８】ベンゾイルクロライドのジグリム（ｄｉｇ
ｌｙｍｅ）中のトリ−ｔ−ブトキシ−リチウムアルミニ
ウムハイドライドを使用した還元もまた記述されている
（Ｊ． Ｍｅｄ． Ｃｈｅｍ． １５，７７５（１９７
２））。我々の経験ではアルミニウムハイドライドがト
リフルオロメチル基に作用する。さらなる不利益は廃棄
が必要とされる化学量論量のアルミニウム塩の生成にあ
る。
ｌｙｍｅ）中のトリ−ｔ−ブトキシ−リチウムアルミニ
ウムハイドライドを使用した還元もまた記述されている
（Ｊ． Ｍｅｄ． Ｃｈｅｍ． １５，７７５（１９７
２））。我々の経験ではアルミニウムハイドライドがト
リフルオロメチル基に作用する。さらなる不利益は廃棄
が必要とされる化学量論量のアルミニウム塩の生成にあ
る。
【０００９】我々はついに下記式
【００１０】
【化３】
【００１１】式中、ｎは１又は２を表し、Ｒ1、Ｒ2及び
Ｒ3はそれぞれ互いに独立して水素、フッ素、塩素、臭
素、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルキ
ル、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルコキシ又はＣ1〜Ｃ6−フル
オロアルキルチオを表し、ここで基Ｒ1〜Ｒ3の少なくと
も一つはフッ素又はフッ素含有基を表しそして基Ｒ1〜
Ｒ3の二つより多くは臭素、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルコ
キシ及び／又はＣ1〜Ｃ6−フルオロアルキルチオを表わ
さない、のフッ素含有ベンズアルデヒドの製造方法であ
って、下記式
Ｒ3はそれぞれ互いに独立して水素、フッ素、塩素、臭
素、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルキ
ル、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルコキシ又はＣ1〜Ｃ6−フル
オロアルキルチオを表し、ここで基Ｒ1〜Ｒ3の少なくと
も一つはフッ素又はフッ素含有基を表しそして基Ｒ1〜
Ｒ3の二つより多くは臭素、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルコ
キシ及び／又はＣ1〜Ｃ6−フルオロアルキルチオを表わ
さない、のフッ素含有ベンズアルデヒドの製造方法であ
って、下記式
【００１２】
【化４】
【００１３】式中、使用される記号は式（Ｉ）で定義さ
れた通りである、の芳香族酸塩化物を担持パラジウム触
媒及び触媒調節剤の存在下に水素と反応させることを特
徴とする方法を見いだした。
れた通りである、の芳香族酸塩化物を担持パラジウム触
媒及び触媒調節剤の存在下に水素と反応させることを特
徴とする方法を見いだした。
【００１４】もし基Ｒ1〜Ｒ3がＣ1〜Ｃ6−フルオロアル
キル、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルコキシ又はＣ1〜Ｃ6−フ
ルオロアルキルチオであるならば、それらは１フッ素
化、多フッ素化、又はペルフッ素化（ｐｅｒｆｌｕｏｒ
ｉｎａｔｅｄ）Ｃ1〜Ｃ6−アルキル−、Ｃ1〜Ｃ6−アル
コキシ−又はＣ1〜Ｃ6−フルオロアルキルチオ基である
ことができる。
キル、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルコキシ又はＣ1〜Ｃ6−フ
ルオロアルキルチオであるならば、それらは１フッ素
化、多フッ素化、又はペルフッ素化（ｐｅｒｆｌｕｏｒ
ｉｎａｔｅｄ）Ｃ1〜Ｃ6−アルキル−、Ｃ1〜Ｃ6−アル
コキシ−又はＣ1〜Ｃ6−フルオロアルキルチオ基である
ことができる。
【００１５】基Ｒ1〜Ｒ3は好ましくはそれぞれ互いに独
立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＨ3、Ｃ2Ｈ5、ＣＦ3、Ｃ
Ｆ2ＣＨ3、Ｃ2Ｆ5、ＯＣＦ3又はＳＣＦ3であり、ここで
基Ｒ1〜Ｒ4の少なくとも一つはＦ、ＣＦ3、ＣＦ2Ｃ
Ｈ3、Ｃ2Ｆ5、ＯＣＦ3又はＳＣＦ3を表しそして基Ｒ1〜
Ｒ4の１つより多くは臭素、ＯＣＦ3又はＳＣＦ3を表わ
さない。
立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＣＨ3、Ｃ2Ｈ5、ＣＦ3、Ｃ
Ｆ2ＣＨ3、Ｃ2Ｆ5、ＯＣＦ3又はＳＣＦ3であり、ここで
基Ｒ1〜Ｒ4の少なくとも一つはＦ、ＣＦ3、ＣＦ2Ｃ
Ｈ3、Ｃ2Ｆ5、ＯＣＦ3又はＳＣＦ3を表しそして基Ｒ1〜
Ｒ4の１つより多くは臭素、ＯＣＦ3又はＳＣＦ3を表わ
さない。
【００１６】もし基Ｒ1〜Ｒ3が水素ではなくそしてＣＯ
Ｃｌ基が一つのみ存在するならば、それは好ましくはＣ
ＯＣｌ基に対して３、４及び５の位置に存在する。
Ｃｌ基が一つのみ存在するならば、それは好ましくはＣ
ＯＣｌ基に対して３、４及び５の位置に存在する。
【００１７】本発明の方法及び対応するフッ素含有ベン
ズアルデヒドの製造においてモノ−、ジ−及びトリフル
オロベンゾイルクロライド、モノ−及びビス−トリフル
オロメチルベンゾイルクロライド、モノトリフルオロメ
トキシベンゾイルクロライド並びにモノクロロ−及びモ
ノブロモトリフルオロメチルベンゾイルクロライドの使
用が殊に好ましい。
ズアルデヒドの製造においてモノ−、ジ−及びトリフル
オロベンゾイルクロライド、モノ−及びビス−トリフル
オロメチルベンゾイルクロライド、モノトリフルオロメ
トキシベンゾイルクロライド並びにモノクロロ−及びモ
ノブロモトリフルオロメチルベンゾイルクロライドの使
用が殊に好ましい。
【００１８】水素は例えば０．５乃至３バールの範囲の
圧力で用いることができる。大気圧で用いることが好ま
しい。水素は反応混合物中を例えばチューブ又はフリッ
トを用いて通過させることができる。水素をまた混合物
上のスペースに通過させることができる。水素は好まし
くは反応混合物中を通過する。
圧力で用いることができる。大気圧で用いることが好ま
しい。水素は反応混合物中を例えばチューブ又はフリッ
トを用いて通過させることができる。水素をまた混合物
上のスペースに通過させることができる。水素は好まし
くは反応混合物中を通過する。
【００１９】担持パラジウム触媒のための好適な担体材
料は例えばカーボン、酸化アルミニウム、シリケート、
シリカ及び硫酸バリウムである。カーボン及び硫酸バリ
ウムが好適である。担持パラジウム触媒は例えば１乃至
１０重量％のパラジウムを含有することができる。担持
パラジウム触媒の使用される芳香族酸塩化物に対する重
量比は例えば１：２乃至１：１０００である。それは好
ましくは１：５乃至１：５００である。
料は例えばカーボン、酸化アルミニウム、シリケート、
シリカ及び硫酸バリウムである。カーボン及び硫酸バリ
ウムが好適である。担持パラジウム触媒は例えば１乃至
１０重量％のパラジウムを含有することができる。担持
パラジウム触媒の使用される芳香族酸塩化物に対する重
量比は例えば１：２乃至１：１０００である。それは好
ましくは１：５乃至１：５００である。
【００２０】好適な触媒調節剤は例えば有機硫黄化合物
である。好ましくはチオフェノール、チオアンソール、
チオ尿素、スルホラン及びキノリン−硫黄錯体(complex
es)である。特に好ましくは例えばオルグ・リアクショ
ンズ（Ｏｒｇ．Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）第４巻３６２に記
載されるキノリン−硫黄錯体であるか又は本明細書の実
施例１に記載されるとおりに得ることができるもの又は
それらと類似する方法により得ることができるものであ
る。
である。好ましくはチオフェノール、チオアンソール、
チオ尿素、スルホラン及びキノリン−硫黄錯体(complex
es)である。特に好ましくは例えばオルグ・リアクショ
ンズ（Ｏｒｇ．Ｒｅａｃｔｉｏｎｓ）第４巻３６２に記
載されるキノリン−硫黄錯体であるか又は本明細書の実
施例１に記載されるとおりに得ることができるもの又は
それらと類似する方法により得ることができるものであ
る。
【００２１】触媒調節剤の担持パラジウム触媒に対する
重量比は例えば１：１〜１５００であることができる。
それは好ましくは１：１０乃至１：２００である。
重量比は例えば１：１〜１５００であることができる。
それは好ましくは１：１０乃至１：２００である。
【００２２】触媒調節剤は例えば芳香族酸塩化物と触媒
と共に最初に充填することができる。また担持パラジウ
ム触媒を必要により助剤の存在下にまず触媒調節剤と接
触させ、そして触媒／調節剤の組合せを次に本発明の方
法において使用することも可能である。
と共に最初に充填することができる。また担持パラジウ
ム触媒を必要により助剤の存在下にまず触媒調節剤と接
触させ、そして触媒／調節剤の組合せを次に本発明の方
法において使用することも可能である。
【００２３】反応が完了した後触媒を例えば濾過により
分離しそして次の反応に再使用することができる。この
再利用は５回又はそれ以上繰り返すことができる。再利
用触媒は一般に触媒調節剤をさらに添加することなく使
用することできる。
分離しそして次の反応に再使用することができる。この
再利用は５回又はそれ以上繰り返すことができる。再利
用触媒は一般に触媒調節剤をさらに添加することなく使
用することできる。
【００２４】助剤は例えば少量の芳香族炭化水素、ハロ
ゲン化炭化水素、ハロゲノ芳香族、非プロトン性アミ
ド、非環式又は環式エーテル又はスルホンである。本発
明の目的において「少量」という用語は例えば使用され
る芳香族酸塩化物１００ｇ当り２．５ｍｌまでの量であ
る。この量は好ましくは使用される芳香族酸塩化物１０
０ｇ当り０．０２乃至０．５ｍｌである。
ゲン化炭化水素、ハロゲノ芳香族、非プロトン性アミ
ド、非環式又は環式エーテル又はスルホンである。本発
明の目的において「少量」という用語は例えば使用され
る芳香族酸塩化物１００ｇ当り２．５ｍｌまでの量であ
る。この量は好ましくは使用される芳香族酸塩化物１０
０ｇ当り０．０２乃至０．５ｍｌである。
【００２５】助剤は担持パラジウム触媒と触媒調節剤と
の間の接触を改善するばかりでなく、例えば芳香族酸塩
化物の添加前に触媒調節剤をすでに含有する担持パラジ
ウム触媒のスラリー化に役立つことができる。
の間の接触を改善するばかりでなく、例えば芳香族酸塩
化物の添加前に触媒調節剤をすでに含有する担持パラジ
ウム触媒のスラリー化に役立つことができる。
【００２６】本発明の反応は出発材料が液体である温
度、例えば２０乃至２００℃の範囲の温度で行われる。
もし出発材料が２０℃以上の融点を有する場合、出発材
料の融点が可能な最低の反応温度である。もし出発材料
が大気圧下で２００℃より低い温度で沸騰するならば出
発材料が液体状態を保持するように反応を過圧（ｓｕｐ
ｅｒａｔｍｏｓｐｈｅｒｉｃ ｐｒｅｓｓｕｒｅ）下で
行うことができる。本発明の反応を個々の生成物が液体
である温度及び圧力で行うことも又有利である。一般に
本発明の反応は７０乃至１３０℃の温度範囲で大気圧で
行うことができる。特に好ましい反応温度は８０乃至１
２０℃の範囲である。
度、例えば２０乃至２００℃の範囲の温度で行われる。
もし出発材料が２０℃以上の融点を有する場合、出発材
料の融点が可能な最低の反応温度である。もし出発材料
が大気圧下で２００℃より低い温度で沸騰するならば出
発材料が液体状態を保持するように反応を過圧（ｓｕｐ
ｅｒａｔｍｏｓｐｈｅｒｉｃ ｐｒｅｓｓｕｒｅ）下で
行うことができる。本発明の反応を個々の生成物が液体
である温度及び圧力で行うことも又有利である。一般に
本発明の反応は７０乃至１３０℃の温度範囲で大気圧で
行うことができる。特に好ましい反応温度は８０乃至１
２０℃の範囲である。
【００２７】本発明の反応は例えばまず芳香族酸塩化
物、触媒調節剤を含有する担持パラジウム触媒及び必要
により少量の助剤を充填しそして水素を導入しながら反
応条件を設定することにより行うことができる。芳香族
酸塩化物、担持パラジウム触媒、触媒調節剤及び必要に
より少量の助剤をまず充填しそして水素を導入しながら
反応条件を設定することも可能である。
物、触媒調節剤を含有する担持パラジウム触媒及び必要
により少量の助剤を充填しそして水素を導入しながら反
応条件を設定することにより行うことができる。芳香族
酸塩化物、担持パラジウム触媒、触媒調節剤及び必要に
より少量の助剤をまず充填しそして水素を導入しながら
反応条件を設定することも可能である。
【００２８】反応から発生する排出ガスが酸反応を示さ
なくなるとき反応が完了する。必要により冷却及び減圧
後反応混合物の処理（ｗｏｒｋ−ｕｐ）は様々な方法、
例えば反応混合物から直接調製された弗素含有ベンズア
ルデヒドを必要により減圧下に蒸留することにより行う
ことができる。
なくなるとき反応が完了する。必要により冷却及び減圧
後反応混合物の処理（ｗｏｒｋ−ｕｐ）は様々な方法、
例えば反応混合物から直接調製された弗素含有ベンズア
ルデヒドを必要により減圧下に蒸留することにより行う
ことができる。
【００２９】まず例えば濾過により触媒を分離し、そし
て生成物を次に濾液から必要により減圧下に蒸留するこ
とにより単離することも可能である。この場合、少量の
過水素化生成物（ｏｖｅｒｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｅｄ
ｐｒｏｄｕｃｔ）（＝ベンゼン誘導体）及び／又は少量
の使用されたいずれかの助剤が最初の留分として得るこ
とがあるかもしれない。
て生成物を次に濾液から必要により減圧下に蒸留するこ
とにより単離することも可能である。この場合、少量の
過水素化生成物（ｏｖｅｒｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｅｄ
ｐｒｏｄｕｃｔ）（＝ベンゼン誘導体）及び／又は少量
の使用されたいずれかの助剤が最初の留分として得るこ
とがあるかもしれない。
【００３０】触媒を分離した後得られる粗生成物をしば
しばそのままさらに例えば還元によりフッ素化ベンジル
アルコールの製造のために使用することができる。
しばそのままさらに例えば還元によりフッ素化ベンジル
アルコールの製造のために使用することができる。
【００３１】本発明の方法により式（Ｉ）のフッ素化ベ
ンズアルデヒドをより高い空時収率で、溶媒を使用せず
そしてこれまでの方法よりもベンゼン段階への過水素化
が少なく、有毒廃棄物が発生せずそして特別な安全方法
を講じることなく製造することが可能となる。
ンズアルデヒドをより高い空時収率で、溶媒を使用せず
そしてこれまでの方法よりもベンゼン段階への過水素化
が少なく、有毒廃棄物が発生せずそして特別な安全方法
を講じることなく製造することが可能となる。
【００３２】
【実施例】実施例１ ６０ｇの新たに蒸留されたキノリン及び１０ｇの硫黄を
５時間撹拌しながら還流した。冷却された混合物を７０
０ｍｌのトルエンを用いて希釈した。これにより１ｍｌ
当り１００ｍｇの錯体を含有するキノリン−硫黄錯体溶
液が得られた。
５時間撹拌しながら還流した。冷却された混合物を７０
０ｍｌのトルエンを用いて希釈した。これにより１ｍｌ
当り１００ｍｇの錯体を含有するキノリン−硫黄錯体溶
液が得られた。
【００３３】硫酸バリウム上に担持された２．５ｇの５
％パラジウム、０．２５ｍｌの錯体溶液及び２５０ｇの
３，５−ビス−（トリフルオロメチル）−ベンゾイルク
ロライドを反応容器中に水を排除して室温で導入した。
水素ガスの穏やかな流れを次に大気圧で混合物中に通過
させた。混合物を続いて１００〜１１０℃に加熱しそし
て水素を連続して大気圧下に導入した。酸性の排出ガス
の発生が止んだ後（１２時間）、混合物を冷却し、触媒
を濾過により分離しそして濾液を２７ミリバールで蒸留
した。沸点７９℃の収量１９０．０ｇの３，５−ビス−
（トリフルオロメチル）−ベンズアルデヒドが得られ
た。これは理論量の８６％の収率に相当する。少量のト
ルエンと３，５−ビス−（トリフルオロメチル）−ベン
ゼンの混合物が最初の留分として得られた。 実施例２ 硫酸バリウム上に担持された１ｇの５％パラジウム（実
施例１からの回収物）及び１００ｇの４−トリフルオロ
メチルベンゾイルクロライドを反応容器中に水を排除し
て室温で導入した。水素ガスの穏やかな流れを次に大気
圧で導入した。混合物を続いて１００〜１１０℃に加熱
しそして水素を連続して大気圧下に導入した。酸性の排
出ガスの発生が止んだ後（６．５時間）、混合物を室温
に冷却し、触媒を濾過により分離しそして濾液を３３ミ
リバールで蒸留した。沸点８２〜８６℃を有する４−ト
リフルオロメチルベンズアルデヒドが４５．９ｇの収量
で得られた。これは理論量の５４％の収率に相当する。 実施例３ 硫酸バリウム上に担持された０．５ｇの５％パラジウム
（実施例１からの回収物）及び４８ｇの３−ブロモ−４
−トリフルオロメトキシベンゾイルクロライドを反応容
器中に水を排除して室温で導入した。水素ガスの穏やか
な流れを次に大気圧で導入した。混合物を続いて１００
〜１１０℃に加熱しそして水素を連続して大気圧下に導
入した。酸性の排出ガスの発生が止んだ後（１１時
間）、混合物を室温に冷却し、触媒を濾過により分離し
そして濾液を２５ミリバールで蒸留した。沸点１１２℃
を有する３−ブロモ−４−トリフルオロメトキシベンズ
アルデヒドが３１．３ｇの収量で得られた。これは理論
量の７４％の収率に相当する。 実施例４ 硫酸バリウム上に担持された０．５ｇの５％パラジウム
（実施例１からの回収物）及び５０ｇの３−フルオロベ
ンゾイルクロライドを反応容器中に水を排除して室温で
導入した。水素ガスの穏やかな流れを次に大気圧で混合
物中に通過させた。混合物を続いて８０〜９０℃に加熱
しそして水素を連続して大気圧下に導入した。酸性の排
出ガスの発生が止んだ後（９．５時間）、混合物を冷却
し、触媒を濾過により分離しそして濾液を２８ミリバー
ルで蒸留した。沸点７３℃を有する３−フルオロベンズ
アルデヒドが２３．０ｇの収量で得られた。これは理論
量の５７％の収率に相当する。 実施例５（本発明に従うものではない） ３７ｇの３，５−ビス−（トリフルオロメチル）−ベン
ズアルデヒド及び４ｇのラネーニッケルを１５０ｍｌの
トルエンともに室温で反応容器中に導入した。容器を３
０バールの水素ガスを用いて加圧しそして混合物を撹拌
しながら５０℃で７．５時間水素化した。混合物を続い
て室温に冷却し圧抜きしそして触媒を濾過して分離し
た。濾液を蒸発させそしてこの方法で得られた粗生成物
を１７ミリバールで蒸留した。沸点９７℃の３，５−ビ
ス−（トリフルオロメチル）−ベンジルアルコールが収
量３１．５ｇ及び純度９７．７％で得られた。これは理
論量の８２．５％の収率に相当する。
％パラジウム、０．２５ｍｌの錯体溶液及び２５０ｇの
３，５−ビス−（トリフルオロメチル）−ベンゾイルク
ロライドを反応容器中に水を排除して室温で導入した。
水素ガスの穏やかな流れを次に大気圧で混合物中に通過
させた。混合物を続いて１００〜１１０℃に加熱しそし
て水素を連続して大気圧下に導入した。酸性の排出ガス
の発生が止んだ後（１２時間）、混合物を冷却し、触媒
を濾過により分離しそして濾液を２７ミリバールで蒸留
した。沸点７９℃の収量１９０．０ｇの３，５−ビス−
（トリフルオロメチル）−ベンズアルデヒドが得られ
た。これは理論量の８６％の収率に相当する。少量のト
ルエンと３，５−ビス−（トリフルオロメチル）−ベン
ゼンの混合物が最初の留分として得られた。 実施例２ 硫酸バリウム上に担持された１ｇの５％パラジウム（実
施例１からの回収物）及び１００ｇの４−トリフルオロ
メチルベンゾイルクロライドを反応容器中に水を排除し
て室温で導入した。水素ガスの穏やかな流れを次に大気
圧で導入した。混合物を続いて１００〜１１０℃に加熱
しそして水素を連続して大気圧下に導入した。酸性の排
出ガスの発生が止んだ後（６．５時間）、混合物を室温
に冷却し、触媒を濾過により分離しそして濾液を３３ミ
リバールで蒸留した。沸点８２〜８６℃を有する４−ト
リフルオロメチルベンズアルデヒドが４５．９ｇの収量
で得られた。これは理論量の５４％の収率に相当する。 実施例３ 硫酸バリウム上に担持された０．５ｇの５％パラジウム
（実施例１からの回収物）及び４８ｇの３−ブロモ−４
−トリフルオロメトキシベンゾイルクロライドを反応容
器中に水を排除して室温で導入した。水素ガスの穏やか
な流れを次に大気圧で導入した。混合物を続いて１００
〜１１０℃に加熱しそして水素を連続して大気圧下に導
入した。酸性の排出ガスの発生が止んだ後（１１時
間）、混合物を室温に冷却し、触媒を濾過により分離し
そして濾液を２５ミリバールで蒸留した。沸点１１２℃
を有する３−ブロモ−４−トリフルオロメトキシベンズ
アルデヒドが３１．３ｇの収量で得られた。これは理論
量の７４％の収率に相当する。 実施例４ 硫酸バリウム上に担持された０．５ｇの５％パラジウム
（実施例１からの回収物）及び５０ｇの３−フルオロベ
ンゾイルクロライドを反応容器中に水を排除して室温で
導入した。水素ガスの穏やかな流れを次に大気圧で混合
物中に通過させた。混合物を続いて８０〜９０℃に加熱
しそして水素を連続して大気圧下に導入した。酸性の排
出ガスの発生が止んだ後（９．５時間）、混合物を冷却
し、触媒を濾過により分離しそして濾液を２８ミリバー
ルで蒸留した。沸点７３℃を有する３−フルオロベンズ
アルデヒドが２３．０ｇの収量で得られた。これは理論
量の５７％の収率に相当する。 実施例５（本発明に従うものではない） ３７ｇの３，５−ビス−（トリフルオロメチル）−ベン
ズアルデヒド及び４ｇのラネーニッケルを１５０ｍｌの
トルエンともに室温で反応容器中に導入した。容器を３
０バールの水素ガスを用いて加圧しそして混合物を撹拌
しながら５０℃で７．５時間水素化した。混合物を続い
て室温に冷却し圧抜きしそして触媒を濾過して分離し
た。濾液を蒸発させそしてこの方法で得られた粗生成物
を１７ミリバールで蒸留した。沸点９７℃の３，５−ビ
ス−（トリフルオロメチル）−ベンジルアルコールが収
量３１．５ｇ及び純度９７．７％で得られた。これは理
論量の８２．５％の収率に相当する。
【００３４】本発明の主な構成と態様は以下の通りであ
る。
る。
【００３５】１．下記式
【００３６】
【化５】
【００３７】式中、ｎは１又は２を表し、Ｒ1、Ｒ2及び
Ｒ3はそれぞれ互いに独立して水素、フッ素、塩素、臭
素、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルキ
ル、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルコキシ又はＣ1〜Ｃ6−フル
オロアルキルチオを表し、ここで基Ｒ1〜Ｒ3の少なくと
も一つはフッ素又はフッ素含有基でありそして基Ｒ1〜
Ｒ3の二つより多くは臭素、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルコ
キシ及び／又はＣ1〜Ｃ6−フルオロアルキルチオを表わ
さない、のフッ素含有ベンズアルデヒドの製造方法であ
って、下記式
Ｒ3はそれぞれ互いに独立して水素、フッ素、塩素、臭
素、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルキ
ル、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルコキシ又はＣ1〜Ｃ6−フル
オロアルキルチオを表し、ここで基Ｒ1〜Ｒ3の少なくと
も一つはフッ素又はフッ素含有基でありそして基Ｒ1〜
Ｒ3の二つより多くは臭素、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルコ
キシ及び／又はＣ1〜Ｃ6−フルオロアルキルチオを表わ
さない、のフッ素含有ベンズアルデヒドの製造方法であ
って、下記式
【００３８】
【化６】
【００３９】式中、使用される記号は式（Ｉ）で定義さ
れた通りである、の芳香族酸塩化物を担持パラジウム触
媒及び触媒調節剤の存在下に水素と反応させることを特
徴とする方法。
れた通りである、の芳香族酸塩化物を担持パラジウム触
媒及び触媒調節剤の存在下に水素と反応させることを特
徴とする方法。
【００４０】２．それぞれ式（Ｉ）及び（II）において
基Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ互いに独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂ
ｒ、ＣＨ3、Ｃ2Ｈ5、ＣＦ3、ＣＦ2ＣＨ3、Ｃ2Ｆ5、ＯＣ
Ｆ3又はＳＣＦ3であり、ここで基Ｒ1〜Ｒ3の少なくとも
一つはＦ、ＣＦ3、ＣＦ2ＣＨ3、Ｃ2Ｆ5、ＯＣＦ3又はＳ
ＣＦ3を表しそして基Ｒ1〜Ｒ3の１つより多くは臭素を
表わさないことを特徴とする上記記載の方法。
基Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ互いに独立してＨ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂ
ｒ、ＣＨ3、Ｃ2Ｈ5、ＣＦ3、ＣＦ2ＣＨ3、Ｃ2Ｆ5、ＯＣ
Ｆ3又はＳＣＦ3であり、ここで基Ｒ1〜Ｒ3の少なくとも
一つはＦ、ＣＦ3、ＣＦ2ＣＨ3、Ｃ2Ｆ5、ＯＣＦ3又はＳ
ＣＦ3を表しそして基Ｒ1〜Ｒ3の１つより多くは臭素を
表わさないことを特徴とする上記記載の方法。
【００４１】３．水素が０．５〜３バールの範囲の圧力
でそして２０〜２００℃の反応温度で用いられることを
特徴とする上記１又は上記２記載の方法。
でそして２０〜２００℃の反応温度で用いられることを
特徴とする上記１又は上記２記載の方法。
【００４２】４．担持パラジウム触媒が担体材料として
カーボン、酸化アルミニウム、シリケート、シリカ又は
硫酸バリウム、及び１乃至１０重量％のパラジウムを含
んでなることを特徴とする上記１乃至上記３記載の方
法。
カーボン、酸化アルミニウム、シリケート、シリカ又は
硫酸バリウム、及び１乃至１０重量％のパラジウムを含
んでなることを特徴とする上記１乃至上記３記載の方
法。
【００４３】５．担持パラジウム触媒の使用される芳香
族酸塩化物に対する重量比が１：２乃至１：１０００で
あることを特徴とする上記１乃至上記４記載の方法。
族酸塩化物に対する重量比が１：２乃至１：１０００で
あることを特徴とする上記１乃至上記４記載の方法。
【００４４】６．使用される触媒調節剤が有機硫黄化合
物を含んでなることを特徴とする上記１乃至上記５記載
の方法。
物を含んでなることを特徴とする上記１乃至上記５記載
の方法。
【００４５】７．触媒調節剤の担持パラジウム触媒に対
する重量比が１：１〜１：５００であることを特徴とす
る上記１乃至上記６記載の方法。
する重量比が１：１〜１：５００であることを特徴とす
る上記１乃至上記６記載の方法。
【００４６】８．触媒が反応の完了後に分離されそして
さらに触媒調節剤を添加することなしに再使用されるこ
とを特徴とする上記１乃至上記６記載の方法。
さらに触媒調節剤を添加することなしに再使用されるこ
とを特徴とする上記１乃至上記６記載の方法。
【００４７】９．助剤として芳香族炭化水素、ハロゲン
化炭化水素、ハロゲノ芳香族、非プロトン性アミド、非
環式又は環式エーテル又はスルホンが、使用される芳香
族酸塩化物１００ｇ当り２．５ｍｌまでの量で使用され
ることを特徴とする上記１乃至上記７記載の方法。
化炭化水素、ハロゲノ芳香族、非プロトン性アミド、非
環式又は環式エーテル又はスルホンが、使用される芳香
族酸塩化物１００ｇ当り２．５ｍｌまでの量で使用され
ることを特徴とする上記１乃至上記７記載の方法。
【００４８】１０．製造されたフッ素含有ベンズアルデ
ヒドを反応完了後、必要により触媒から分離した後に、
必要により減圧下に蒸留することにより単離することを
特徴とする上記１乃至上記９記載の方法。
ヒドを反応完了後、必要により触媒から分離した後に、
必要により減圧下に蒸留することにより単離することを
特徴とする上記１乃至上記９記載の方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 591063187 Ｂａｙｅｒｗｒｋ，Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅ ｎ，ＢＲＤ Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC45 BA25 BA51 BA52 BA81 BE20 4H039 CA62 CE40 CG20
Claims (1)
- 【請求項１】 下記式 【化１】 式中、 ｎは１又は２を表し、 Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ互いに独立して水素、フッ
素、塩素、臭素、Ｃ1〜Ｃ6−アルキル、Ｃ1〜Ｃ6−フル
オロアルキル、Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルコキシ又はＣ1
〜Ｃ6−フルオロアルキルチオを表し、 ここで基Ｒ1〜Ｒ3の少なくとも一つはフッ素又はフッ素
含有基を表しそして基Ｒ1〜Ｒ3の二つより多くは臭素、
Ｃ1〜Ｃ6−フルオロアルコキシ及び／又はＣ1〜Ｃ6−フ
ルオロアルキルチオを表わさない、のフッ素含有ベンズ
アルデヒドの製造方法であって、下記式 【化２】 式中、使用される記号は式（Ｉ）で定義された通りであ
る、の芳香族酸塩化物を担持パラジウム触媒及び触媒調
節剤の存在下に水素と反応させることを特徴とする方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10047293A DE10047293A1 (de) | 2000-09-25 | 2000-09-25 | Verfahren zur Herstellung von Fluor enthaltenden Benzaldehyden |
| DE10047293.1 | 2000-09-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002145822A true JP2002145822A (ja) | 2002-05-22 |
Family
ID=7657439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001286553A Withdrawn JP2002145822A (ja) | 2000-09-25 | 2001-09-20 | フッ素含有ベンズアルデヒドの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6596906B2 (ja) |
| EP (1) | EP1191012B1 (ja) |
| JP (1) | JP2002145822A (ja) |
| DE (2) | DE10047293A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009184976A (ja) * | 2008-02-07 | 2009-08-20 | Central Glass Co Ltd | １−ブロモ−３−フルオロ−５−ジフルオロメチルベンゼンの製造方法 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006015317A2 (en) | 2004-07-30 | 2006-02-09 | Acrymed, Inc. | Antimicrobial devices and compositions |
| US8525131B2 (en) | 2009-11-25 | 2013-09-03 | The Regents Of The University Of Michigan | Phosphorescent organic compounds |
| WO2012061831A1 (en) | 2010-11-05 | 2012-05-10 | Salutaris Llp | Ergonomic protective air filtration devices and methods for manufacturing the same |
| US20140228579A1 (en) * | 2013-02-14 | 2014-08-14 | Brock Unviersity | Method for the catalytic reduction of acid chlorides and imidoyl chlorides |
| CN114195635A (zh) * | 2021-11-30 | 2022-03-18 | 江西永通科技股份有限公司 | 一种邻三氟甲基苯甲酰氯的合成方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3129273A1 (de) | 1981-07-24 | 1983-02-10 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von aldehyden |
| EP0071065A1 (de) * | 1981-07-24 | 1983-02-09 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von durch Fluor substituierten Carbonsäurechloriden und Aldehyden |
-
2000
- 2000-09-25 DE DE10047293A patent/DE10047293A1/de not_active Withdrawn
-
2001
- 2001-09-12 EP EP01121625A patent/EP1191012B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-12 DE DE50111886T patent/DE50111886D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-20 JP JP2001286553A patent/JP2002145822A/ja not_active Withdrawn
- 2001-09-21 US US09/957,979 patent/US6596906B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009184976A (ja) * | 2008-02-07 | 2009-08-20 | Central Glass Co Ltd | １−ブロモ−３−フルオロ−５−ジフルオロメチルベンゼンの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1191012B1 (de) | 2007-01-17 |
| DE50111886D1 (de) | 2007-03-08 |
| US6596906B2 (en) | 2003-07-22 |
| US20020038055A1 (en) | 2002-03-28 |
| EP1191012A1 (de) | 2002-03-27 |
| DE10047293A1 (de) | 2002-04-11 |
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