JP2002134440A - Substrate treating method and tray used therefor - Google Patents
Substrate treating method and tray used thereforInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、表面に金属パター
ン層を形成した基板の処理方法およびそれに用いる器具
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for treating a substrate having a metal pattern layer formed on a surface thereof and an apparatus used for the method.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般に半導体ウェハー基板、たとえばシ
リコン基板上を金属パターン層を形成した基板をダイシ
ング加工する場合、従来、平坦なベークライト板にワッ
クスで基板を張付け、ダイヤモンド・ブレードでダイシ
ングした後に、ベークライト板に熱を加えてワックスを
溶かして得られた半導体素子個片すなわちチップを有機
洗浄剤および水で洗浄している。2. Description of the Related Art Generally, when dicing a semiconductor wafer substrate, for example, a substrate having a metal pattern layer formed on a silicon substrate, the substrate is pasted on a flat bakelite plate with wax, diced with a diamond blade, and then baked. Semiconductor elements or chips obtained by melting the wax by applying heat to the plate are washed with an organic detergent and water.
【0003】しかし、上記方法は、チップをばらばらの
状態で洗浄するために、チップ同士が重なり、洗浄・乾
燥の効率が悪く、チップの表面が損傷し易い。そのた
め、たとえば特開昭59−172292号、特開昭58
−142543号に開示されるように、基板を通常ウェ
ーハーシートと呼ばれる粘着シートに貼り付け、ダイヤ
モンド・ブレードを用いてハーフカットまたはフルカッ
トし、ハーフカットの場合は、ブレーキング工程を経て
チップに分割し、粘着テープに貼り付けた状態で洗浄等
を行うことが公知である。However, in the above-mentioned method, since the chips are washed in a separated state, the chips are overlapped with each other, the efficiency of washing and drying is low, and the surface of the chips is easily damaged. Therefore, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. Sho 59-172292 and
As disclosed in JP-A-142543, a substrate is attached to an adhesive sheet usually called a wafer sheet, and half-cut or full-cut using a diamond blade, and in the case of half-cut, divided into chips through a breaking process. It is known that washing or the like is performed in a state of being attached to an adhesive tape.
【0004】しかし、これら従来の技術には、次の問題
がみられる。 1) チップ表面が切り粉により汚染され易い。基板表
面には金属パターン層が形成されており凹凸を有するた
め切り粉が付着し易く、また研削液の比抵抗が高いと切
り粉が静電気を帯びて一層、付着し易くなる。However, these conventional techniques have the following problems. 1) The chip surface is easily contaminated by chips. Since a metal pattern layer is formed on the surface of the substrate and has irregularities, chips tend to adhere, and if the specific resistance of the grinding fluid is high, the chips are more likely to adhere due to static electricity.
【0005】切り粉が十分に洗浄されずに残存している
と、後工程において、たとえばワイヤー・ボンディング
の接合不良や電極配線の切断あるいはチップの損傷など
を生ずるおそれがある。[0005] If the cutting powder remains without being sufficiently washed, in a later step, for example, there is a possibility that defective bonding of wire bonding, cutting of electrode wiring or damage of a chip may occur.
【0006】2) チップをばらばらの状態で洗浄する
場合は、チップ同士が重なり、洗浄・乾燥の効率が悪
く、かつチップの表面が損傷し易い。さらに組立工程に
おいてボンディング作業の前にチップ整列処理という余
分な工程が必要となる。2) When the chips are washed in a separated state, the chips are overlapped with each other, the efficiency of washing and drying is low, and the surface of the chips is easily damaged. Further, an extra step of chip alignment processing is required before the bonding operation in the assembling process.
【0007】3) セラミック基板のような硬い素材の
ものを切断した場合、切断抵抗が高いために切断時にチ
ップが粘着シートから剥がれて飛散し易い。[0007] 3) When a hard material such as a ceramic substrate is cut, the chip is easily peeled off from the adhesive sheet at the time of cutting because of high cutting resistance.
【0008】4) セラミック基板のような脆い素材の
場合、「カケ」が発生し易い。[0008] 4) In the case of a brittle material such as a ceramic substrate, chipping is likely to occur.
【0009】5) セラミック基板をハーフカットし、
ブレーキング工程を経てチップに分割する場合、切り残
したセラミックがそのまま「バリ」となり易くチップの
寸法精度が得られない。5) Cut the ceramic substrate in half,
When the chip is divided into chips after the breaking step, the uncut ceramic tends to be "burr" as it is, and the dimensional accuracy of the chip cannot be obtained.
【0010】6) 基板の表面に形成された金属パター
ン層が、切断の際に、「バリ」を生じ易く、特に金属パ
ターン層の厚みが大きい場合にその傾向が大きい。[0010] 6) The metal pattern layer formed on the surface of the substrate is liable to generate “burrs” at the time of cutting, particularly when the thickness of the metal pattern layer is large.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の問題
に鑑み、チップ表面の切り粉などによる汚染並びに基板
の「カケ」や「バリ」を防止するとともに、ダイシング
後もチップ整列を乱すことなく、洗浄・乾燥及び検査な
どの後工程を効率的に実施することのできる基板の処理
方法及びそれに用いる器具を提供することを目的とす
る。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, the present invention prevents contamination by chips on the chip surface and the like, and also prevents chipping and burrs of a substrate and disturbs chip alignment after dicing. In addition, an object of the present invention is to provide a substrate processing method and a tool used therefor, which can efficiently perform post-processes such as cleaning, drying, and inspection.
【0012】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明によると、上記課
題は、次のようにして解決される。 (1) 金属パターン層を形成した基板の表面に、保護層
を接着剤により積層し、前記基板を少なくとも前記保護
層に至るまでダイシングして分割し、台板の上面に突条
を備えたトレー上に、前記保護層が積層された基板を、
トレーの前記突条を基板のダイシングによって生じた切
り溝に遊嵌させた状態で載置して剥離液中に浸漬し、前
記接着剤を溶解させて前記保護層を前記基板から分離す
ることを特徴とする基板の処理方法とする。According to the present invention, the above-mentioned problem is solved as follows. (1) A protective layer is laminated with an adhesive on the surface of a substrate on which a metal pattern layer is formed, and the substrate is diced and divided at least up to the protective layer. On top, the substrate on which the protective layer is laminated,
Disposing the protrusions of the tray in a state in which the protrusions are loosely fitted into the cut grooves formed by dicing the substrate, immersing the same in a stripping solution, dissolving the adhesive, and separating the protective layer from the substrate. This is a method for processing a substrate which is a feature of the present invention.
【0013】(2) 上記(1)項の処理に続いて、基板を
トレーに載置したままの状態で洗浄し乾燥するものとす
る。(2) Subsequent to the processing of the above item (1), it is assumed that the substrate is washed and dried while being placed on the tray.
【0014】(3) 金属パターン層を形成した基板の表
裏両表面に、保護層を接着剤により積層し、一方の保護
層の方から少なくとも他方の保護層に至るまで基板をダ
イシングして分割し、突条を備えたトレー上に、ダイシ
ングを開始した表面側に位置する保護層を下側にして前
記基板を、トレーの前記突条を前記基板のダイシングに
よって生じた切り溝に遊嵌させた状態で載置して剥離液
中に浸漬し、前記接着剤を溶解させて基板の上側に位置
する保護層を前記基板から分離することを特徴とする基
板の処理方法とする。(3) A protective layer is laminated by an adhesive on both front and back surfaces of the substrate on which the metal pattern layer is formed, and the substrate is diced and divided from one protective layer to at least the other protective layer. The substrate was loosely fitted on the tray provided with the ridge with the protection layer located on the surface side where the dicing was started facing downward, with the ridge of the tray being cut by the dicing of the substrate. The substrate processing method is characterized in that the substrate is placed in a state, immersed in a stripping solution, the adhesive is dissolved, and a protective layer located above the substrate is separated from the substrate.
【0015】(4) 上記(3)項の処理に続いて、基板を
トレーに載置したままの状態で洗浄し乾燥するものとす
る。(4) Subsequent to the processing of the above item (3), it is assumed that the substrate is washed and dried while being placed on the tray.
【0016】(5) 上記(3)項または(4)項の処理に続
いて、前記トレーと同型のトレーを、両トレーの突条先
端同士を当接し重ね合わせて上下反転させ、基板を他方
のトレーに移し、前記基板の上側表面に位置している保
護層を分離するものとする。(5) Subsequent to the treatment of the above item (3) or (4), the trays of the same type as the tray are turned upside down by abutting the tips of the ridges of both trays, and turning the substrate upside down. To separate the protective layer located on the upper surface of the substrate.
【0017】(6) 上記(5)項において、基板を他方の
トレーに移した後に、基板の比重よりも小さく保護層の
比重よりも大きい比重を有する液体中に浸漬し、比重の
差を利用して前記保護層を前記基板から分離するものと
する。(6) In the above item (5), after transferring the substrate to the other tray, the substrate is immersed in a liquid having a specific gravity smaller than the specific gravity of the substrate and larger than the specific gravity of the protective layer, and the difference in specific gravity is used. Then, the protective layer is separated from the substrate.
【0018】(7) 上記(1)項〜(6)項のいずれかにお
いて、保護層の素材をガラスとする。(7) In any one of the above items (1) to (6), the material of the protective layer is glass.
【0019】(8) 上記(1)項〜(7)項のいずれかにお
いて、トレーの前記台板に、表裏に貫通する多数の孔を
穿設したものとする。(8) In any one of the above items (1) to (7), the base plate of the tray is provided with a large number of holes penetrating from front to back.
【0020】(9) 金属パターン層を形成した基板を、
その表面に接着剤により積層された保護層に至るまでダ
イシングし分割することによって生じた切り溝に、遊嵌
し得る突条を、台板上面に備えたことを特徴とする基板
処理用トレーとする。(9) The substrate on which the metal pattern layer is formed is
A substrate processing tray, characterized in that a ridge that can be loosely fitted to a kerf formed by dicing and dividing up to a protective layer laminated on the surface with an adhesive is provided on the upper surface of the base plate. I do.
【0021】(10) 上記(9)項において、トレーの前記
突条を、前記台板上面に格子状に設けたものとする。(10) In the above item (9), the ridges of the tray are provided on the upper surface of the base plate in a grid pattern.
【0022】(11) 上記(9)項または(10)項において、
トレーの前記台板に、表裏に貫通する多数の孔を穿設し
たものとする。(11) In the above item (9) or (10),
It is assumed that a large number of holes penetrating from front to back are formed in the base plate of the tray.
【0023】[0023]
【発明の実施の形態】図1〜図8は、本発明の基板の処
理方法について説明するための図面である。本発明にお
いて対象とする基板は、基材層の表面に金属パターン層
たとえば配線パターン、はんだパターン、抵抗パターン
などの各種のメタライズパターンが形成された基板であ
れば特に制限されない。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIGS. 1 to 8 are views for explaining a substrate processing method of the present invention. The substrate to be used in the present invention is not particularly limited as long as a metal pattern layer such as a wiring pattern, a solder pattern, and a resistance pattern is formed on the surface of the base material layer.
【0024】基材層の材質としては、シリコン等の半導
体や、銅、アルミニウム等の金属、さらに窒化アルミニ
ウム、酸化ベリリウム、炭化珪素、アルミナ、ムライ
ト、窒化ホウ素等のセラミックス、ホウケイ酸ガラス等
のガラス、及びポリイミド、エポキシ等の樹脂などの公
知のものが任意に使用される。The material of the base layer may be a semiconductor such as silicon, a metal such as copper or aluminum, a ceramic such as aluminum nitride, beryllium oxide, silicon carbide, alumina, mullite or boron nitride, or a glass such as borosilicate glass. A known material such as a resin such as polyimide, epoxy, or the like is arbitrarily used.
【0025】金属パターン層を形成する金属としては、
チタニウム、クロム、モリブデン、タングステン、タン
グステンチタニウム、アルミニウム、ニッケルクロム、
タンタル、窒化タンタル、その他の公知の導電性金属の
中から、基材層との密着性や用途等を考慮して適宜、選
択して用いればよい。As the metal forming the metal pattern layer,
Titanium, chromium, molybdenum, tungsten, tungsten titanium, aluminum, nickel chrome,
The material may be appropriately selected from tantalum, tantalum nitride, and other known conductive metals in consideration of the adhesion to the base material layer, the application, and the like.
【0026】図1においては、基板1として、基材層2
の両面に金属パターン層3a、3bが形成されたものを示し
たが、片面のみに金属パターン層が形成されていてもよ
い。In FIG. 1, as a substrate 1, a base material layer 2
Although the metal pattern layers 3a and 3b are formed on both surfaces of the substrate, the metal pattern layers may be formed on only one surface.
【0027】本発明の基板の処理方法においては、かか
る金属パターン層3a,3bを形成した基板1の表面に、保
護層4,5を接着剤6a,6bにより積層する。In the substrate processing method of the present invention, the protective layers 4 and 5 are laminated on the surface of the substrate 1 on which the metal pattern layers 3a and 3b are formed by using the adhesives 6a and 6b.
【0028】保護層は、基板1の下側に積層する受用と
しての保護層4と、基板1の上側に積層する押え用とし
ての保護層5の両者を用いることが好ましい。両保護層
4,5とも、基板1の上下表面の金属パターン層3a,3b
が、ダイシングの際に切り粉等で汚染されることを防止
する役目を有する。As the protective layer, it is preferable to use both the protective layer 4 for receiving laminated below the substrate 1 and the protective layer 5 for retaining laminated above the substrate 1. Both protective layers 4 and 5 are metal pattern layers 3a and 3b on the upper and lower surfaces of substrate 1, respectively.
Has the role of preventing contamination with cutting chips and the like during dicing.
【0029】ダイシングは、図3に示すように高速回転
させたダイヤモンド・ブレード7の切断刃7aを、保護
層4,5を積層した基板1の上側から当てて行う。その
ため上側の金属パターン層3aは、外側から切断刃7aが
当たるのでバリが発生しないが、下側の金属パターン層
3bは内側から切断刃7aが当たるためにバリが発生し易
い。As shown in FIG. 3, dicing is performed by applying a cutting blade 7a of a diamond blade 7 rotated at a high speed from above the substrate 1 on which the protective layers 4 and 5 are laminated. Therefore, the upper metal pattern layer 3a does not generate burrs because the cutting blade 7a hits from the outside, but the lower metal pattern layer 3a does not.
3b is likely to generate burrs because the cutting blade 7a hits from the inside.
【0030】このバリは、受用の保護層4に、金属パタ
ーン層3bの素材よりも展性、延性の小さい素材を用いる
ことによって効果的に防止することができる。This burr can be effectively prevented by using a material having lower malleability and ductility than the material of the metal pattern layer 3b for the receiving protective layer 4.
【0031】具体的には、前記受用の保護層4の素材と
して、ガラス、シリコン基板、ベークライト板、ポリ塩
化ビニルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムなどが好ましく用いられる。また、一般的には、押え
用の保護層5も、受用の保護層4と同じ素材を用いるこ
とが望ましい。Specifically, glass, a silicon substrate, a bakelite plate, a polyvinyl chloride film, a polyethylene terephthalate film, or the like is preferably used as a material of the receiving protective layer 4. In general, it is desirable to use the same material for the pressing protective layer 5 as the receiving protective layer 4.
【0032】保護層4,5の厚みは、接着時における保
護層の取り扱いの容易さ及びダイシング時の切断抵抗の
点から、通常0.1〜1mm程度とし、押え用よりも受用の
保護層の厚みを大きくすることが好ましい。The thickness of the protective layers 4 and 5 is usually about 0.1 to 1 mm from the viewpoint of easy handling of the protective layer at the time of bonding and cutting resistance at the time of dicing. It is preferable to make it larger.
【0033】保護層4,5を基板1に積層する接着剤6
a,6bとしては、基板1と保護層4,5間の接着機能を
有し、金属パターン層3a,3bを汚染させずに、後記する
剥離液によって溶解するものであれば特に制限されない
が、通常は、ワックス、瞬間接着剤などを用いればよ
い。剥離液は、接着剤の種類によっても異なるが、通常
は、アセトンなどの有機溶剤や温水などが用いられる。Adhesive 6 for laminating protective layers 4 and 5 on substrate 1
The materials a and 6b are not particularly limited as long as they have an adhesive function between the substrate 1 and the protective layers 4 and 5 and do not contaminate the metal pattern layers 3a and 3b and are dissolved by a stripping solution described later. Usually, a wax, an instant adhesive or the like may be used. The stripping solution varies depending on the type of the adhesive, but usually, an organic solvent such as acetone, hot water, or the like is used.
【0034】本発明においては、図3に示すように、基
板1を、少なくとも受用の保護層4に至るまでダイシン
グして分割する。次いで、図4に示すように前記ダイシ
ングした基板1と保護層4,5の一体物を、特定のトレ
ー9に載置して、容器10の中に満した剥離液11中に
浸漬する。In the present invention, as shown in FIG. 3, the substrate 1 is diced and divided at least up to the receiving protective layer 4. Next, as shown in FIG. 4, the integrated body of the diced substrate 1 and the protective layers 4 and 5 is placed on a specific tray 9 and immersed in a stripper 11 filled in a container 10.
【0035】前記トレー9は、台板9aの上面に突条9bを
備えた構造を有し、前記突条9bは、前記基板1をダイシ
ングした際に生ずる切り溝8に遊嵌し得る形態となって
いる。The tray 9 has a structure in which a ridge 9b is provided on the upper surface of a base plate 9a, and the ridge 9b can be loosely fitted into a cut groove 8 generated when the substrate 1 is diced. Has become.
【0036】ダイヤモンド・ブレード7の切断刃7aの
厚みは、通常0.1〜0.5mmであり、切り溝8の溝幅
Aは、切断刃7aの厚みよりやや大きい寸法となる。The thickness of the cutting blade 7a of the diamond blade 7 is usually 0.1 to 0.5 mm, and the groove width A of the cutting groove 8 is slightly larger than the thickness of the cutting blade 7a.
【0037】トレー9の突条9bを、前記切り溝8に遊嵌
させるためには、前記突条9bの厚みBを切り溝8の溝幅
Aよりもやや小さい寸法とすることが必要である。In order to allow the protrusion 9b of the tray 9 to be loosely fitted in the cut groove 8, it is necessary that the thickness B of the protrusion 9b is slightly smaller than the groove width A of the cut groove 8. .
【0038】突条9bの高さは、基板のダイシングによっ
て得られた隣接するチップ同士の接触を避けるために、
基板1の厚みより少し大きい寸法であることが望ましい
が、必ずしもこの寸法に限定されるものではない。ま
た、該突条9bは、上記チップ同士の接触を避ける作用が
維持される限り、間断部が設けられていても良い。The height of the ridge 9b is set to avoid contact between adjacent chips obtained by dicing the substrate.
It is desirable that the dimension be slightly larger than the thickness of the substrate 1, but it is not necessarily limited to this dimension. Further, the protruding ridge 9b may be provided with a cut-off portion as long as the action of avoiding the contact between the chips is maintained.
【0039】一般に基板1は、一定の寸法にダイシング
される。そのためトレー9の代表的な実施形態は、図9
に斜視図を示すように、台板9aの上面に突条9bが格子状
に立設された構造となる。Generally, the substrate 1 is diced to a certain size. Therefore, a typical embodiment of the tray 9 is shown in FIG.
As shown in a perspective view, a ridge 9b is provided on the upper surface of the base plate 9a in a lattice shape.
【0040】図4に示すように、トレー9に載置した基
板1と保護層4,5の一体物を剥離液11中に浸漬する
ことによって、接着剤6a、6b、たとえばワックスは、剥
離液11によって溶解し、基板1の金属パターン層3a,
3bと保護層4,5間の固着は解かれ、図4における浸漬
状態で上側に位置する保護層4を上に引き上げることに
よって、その保護層4は基板1から容易に分離される。As shown in FIG. 4, by immersing the integrated body of the substrate 1 and the protective layers 4 and 5 placed on the tray 9 in the stripping solution 11, the adhesives 6a and 6b, for example, the wax are removed. 11, the metal pattern layer 3a of the substrate 1
The adhesion between the protective layer 3b and the protective layers 4 and 5 is released, and the protective layer 4 is easily separated from the substrate 1 by pulling up the protective layer 4 located above in the immersion state in FIG.
【0041】接着剤6a,6bと剥離液11の接触を良好に
して、短時間で接着剤6a,6bを剥離液11に溶解させる
には、トレー9の台板9aに、表裏に貫通する多数の孔9c
を穿設することが望ましい。In order to improve the contact between the adhesives 6a and 6b and the stripping solution 11 and to dissolve the adhesives 6a and 6b in the stripping solution 11 in a short time, a large number of Hole 9c
It is desirable to drill.
【0042】台板9aの厚みは、強度及び貫通孔9c内の剥
離液11の流れを良好に保持するために、通常0.5〜1.0
mm程度の寸法とするのがよい。The thickness of the base plate 9a is usually 0.5 to 1.0 in order to maintain the strength and the flow of the stripping solution 11 in the through-hole 9c in a good condition.
It is preferable to set the dimensions to about mm.
【0043】トレー9の素材は、剥離液11に腐食され
ず、高い精度の加工を行なう必要から、マグネシウム合
金、アルミニウム合金、シリコンや窒化アルミニウムの
ようなセラミックスなどが用いられ、特にマグネシウム
合金が好ましく用いられる。Since the material of the tray 9 is not corroded by the stripping liquid 11 and needs to be processed with high precision, a magnesium alloy, an aluminum alloy, ceramics such as silicon or aluminum nitride are used, and a magnesium alloy is particularly preferable. Used.
【0044】図5は、上側に位置する保護層4を基板1
から分離した状態を示す。次いで、基板1をトレー9に
載置したままの状態で洗浄し乾燥する。FIG. 5 shows that the upper protective layer 4 is
Shows a state separated from. Next, the substrate 1 is washed and dried while being placed on the tray 9.
【0045】基板1のダイシングによって得られた各チ
ップは、トレー9の突条9bによって区画されているため
に、洗浄や乾燥の際に、チップ同士が重なりあって損傷
することがなく、かつ洗浄や乾燥の効率も良好である。Since the chips obtained by dicing the substrate 1 are partitioned by the ridges 9b of the tray 9, the chips do not overlap and are not damaged during cleaning or drying. The drying efficiency is also good.
【0046】洗浄及び乾燥は、基板1をダイシングした
後に、通常実施されている公知の洗浄及び乾燥の方法、
たとえばアセトンのような有機溶剤中での超音波洗浄及
びイソプロピルアルコールによる蒸気乾燥の方法で行え
ばよい。After the dicing of the substrate 1, the washing and drying are performed by a known washing and drying method which is usually performed.
For example, ultrasonic cleaning in an organic solvent such as acetone and vapor drying with isopropyl alcohol may be used.
【0047】次いで、基板1とトレー9の台板9aの間に
位置する保護層5を分離するために、次のようにする。
すなわち、図6に示すように、前記トレー9と同型のト
レー12を、両トレー9,12の突条9a,12aの先端同
士を隣接させて重ね合わせ上下反転させて、図7に示す
ように、ダイシングされた基板1を他方のトレー12に
移す。Next, in order to separate the protective layer 5 located between the substrate 1 and the base plate 9a of the tray 9, the following is performed.
That is, as shown in FIG. 6, a tray 12 of the same type as the tray 9 is overlapped with the tips of the ridges 9a and 12a of both trays 9 and 12 adjacent to each other and turned upside down, as shown in FIG. Then, the diced substrate 1 is transferred to the other tray 12.
【0048】次いで、ダイシングされた各基板1の上側
表面に位置している押え用の保護層5を分離する。Next, the pressing protective layer 5 located on the upper surface of each diced substrate 1 is separated.
【0049】前記保護層5と基板1間を固着していたワ
ックスなどの接着剤6aは、前記の剥離液11中への浸漬
によって溶解しているために容易に保護層5を分離する
ことができる。前記の押え用の保護層5は、受用の保護
層4と異なり、ダイシングされて小片に分割されている
ために、その小片個々を手で分離するには手数を必要と
する。The adhesive 6a, such as wax, which has fixed between the protective layer 5 and the substrate 1 is dissolved by dipping in the stripping solution 11, so that the protective layer 5 can be easily separated. it can. Unlike the receiving protective layer 4, the holding protective layer 5 is diced and divided into small pieces, and therefore, it takes time to separate the individual pieces by hand.
【0050】その対策として、図7に示したダイシング
された基板1と保護層5をトレー12に載置したままの
状態で、基板1の比重よりも小さく、保護層の比重より
も大きい比重を有する液体中に浸漬し、比重の差を利用
して、前記保護層5を基板1から分離する方法が推奨さ
れる。たとえば、基板1がセラミック基板、保護層5が
ガラスである場合は、ブロモホルム液中に浸漬すること
によって容易にガラスの保護層5をセラミックの基板1
から分離することができる。As a countermeasure, while the diced substrate 1 and the protective layer 5 shown in FIG. 7 are placed on the tray 12, the specific gravity of the substrate 1 is made smaller than the specific gravity of the substrate 1 and larger than the specific gravity of the protective layer. It is recommended that the protective layer 5 be separated from the substrate 1 by immersing the protective layer 5 in a liquid having the specific gravity and utilizing the difference in specific gravity. For example, when the substrate 1 is a ceramic substrate and the protective layer 5 is glass, the glass protective layer 5 can be easily immersed in a bromoform solution.
Can be separated from
【0051】[0051]
【発明の効果】本発明によると、次のような効果を奏す
ることができる。 (1) 請求項1記載の発明によれば、基板の表面に保護
層が積層されているために、基板をダイシングして得ら
れたチップ表面の切り粉などによる汚染が防止される。
そのためチップ表面の切り粉の残存に起因するチップの
損傷あるいは後工程における、たとえばワイヤー・ボン
ディングの接合不良や電極配線の切断などのトラブルを
防止することができる。また前記保護層の積層により、
ダイシング時における基板の「カケ」や「バリ」が防止
され、良品なチップが得られ歩留りを向上させることが
できる。さらに、得られた各チップは、トレーの突条に
よって区画され整列状態にあるために、洗浄・乾燥及び
検査などの後工程を効率よく行うことができる。According to the present invention, the following effects can be obtained. (1) According to the first aspect of the present invention, since the protective layer is laminated on the surface of the substrate, contamination of the chip surface obtained by dicing the substrate due to chips or the like is prevented.
Therefore, it is possible to prevent the chip from being damaged due to the remaining chips on the chip surface or troubles such as defective bonding of the wire bonding and disconnection of the electrode wiring in a later process. Further, by laminating the protective layer,
"Dirt" and "burr" of the substrate at the time of dicing can be prevented, a good chip can be obtained, and the yield can be improved. Further, since the obtained chips are partitioned by the protrusions of the tray and are in an aligned state, it is possible to efficiently perform post-processes such as cleaning, drying, and inspection.
【0052】(2) 請求項2記載の発明によれば、洗浄
及び乾燥の工程における作業を、仕上げを良好に、かつ
作業効率を良好に行うことができる。(2) According to the second aspect of the present invention, the work in the washing and drying steps can be performed with good finishing and good work efficiency.
【0053】(3) 請求項3記載の発明によれば、基板
の両面において前記(1)項に記載したのと同様な効果が
得られる。(3) According to the third aspect of the invention, the same effects as described in the above (1) can be obtained on both surfaces of the substrate.
【0054】(4) 請求項4記載の発明によれば、前記
(2)項に記載したのと同様な効果が得られる。(4) According to the fourth aspect of the present invention,
The same effect as described in the item (2) can be obtained.
【0055】(5) 請求項5記載の発明によれば、チッ
プの整列状態を乱すことなく基板の上側表面に位置して
いる保護層を容易に分離することができる。(5) According to the fifth aspect of the invention, the protective layer located on the upper surface of the substrate can be easily separated without disturbing the alignment of the chips.
【0056】(6) 請求項6記載の発明によれば、基板
のダイシングの際に、同時に多数の小片に分割された保
護層を手数を必要とせず効率的に分離することができ
る。(6) According to the sixth aspect of the invention, at the time of dicing the substrate, the protective layer divided into a number of small pieces can be efficiently separated without requiring any trouble.
【0057】(7) 請求項7記載の発明によれば、ガラ
スは、展性、延性が殆んどないために、基板のダイシン
グの際に生じ易い金属パターン層の「バリ」を効果的に
防止することができる。(7) According to the seventh aspect of the present invention, since the glass has almost no malleability and ductility, the "burr" of the metal pattern layer which is likely to be generated at the time of dicing the substrate can be effectively prevented. Can be prevented.
【0058】(8) 請求項8記載の発明によれば、保護
層の剥離工程や基板をダイシングして得られたチップの
洗浄及び乾燥の工程において、剥離液や洗浄液あるいは
乾燥用気体がトレーの台板の貫通孔を通して、要所に良
好に接触するために前記の剥離、洗浄、乾燥の各工程を
効率的に行うことができる。(8) According to the eighth aspect of the present invention, in the step of peeling the protective layer and the step of cleaning and drying the chip obtained by dicing the substrate, a peeling liquid, a cleaning liquid or a drying gas is supplied to the tray. The above-described steps of peeling, washing, and drying can be efficiently performed in order to make good contact with important points through the through holes of the base plate.
【0059】(9) 請求項9記載の発明によれば請求項
1〜8に記載の発明を実施するために必要な器具である
トレーが得られる。(9) According to the ninth aspect of the present invention, a tray which is an instrument necessary for carrying out the first to eighth aspects of the present invention can be obtained.
【0060】(10) 請求項10記載の発明によれば、基
板をダイシングして得られる各チップを、隣接するチッ
プ同士の接触を防止して整列状態にすることが容易にで
きるトレーが得られる。(10) According to the tenth aspect of the present invention, there can be obtained a tray in which chips obtained by dicing a substrate can be easily aligned by preventing contact between adjacent chips. .
【0061】(11) 請求項11記載の発明によれば、前
記(8)項に記載したのと同様な効果を有するトレーが得
られる。(11) According to the eleventh aspect of the invention, a tray having the same effect as described in the above (8) can be obtained.
【図1】本発明で処理対象とする基板の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a substrate to be processed in the present invention.
【図2】前記基板の表裏面に接着剤を用いて保護層を積
層した断面図である。FIG. 2 is a sectional view in which a protective layer is laminated on the front and back surfaces of the substrate using an adhesive.
【図3】図2に示した保護層を積層した基板を、ダイシ
ングして分割する工程を説明する図面である。FIG. 3 is a view illustrating a process of dicing and dividing the substrate on which the protective layer shown in FIG. 2 is laminated.
【図4】ダイシングした基板を、上下反転してトレーに
載置し剥離液中に浸漬した状態を示す図面である。FIG. 4 is a drawing showing a state in which a diced substrate is turned upside down, placed on a tray, and immersed in a stripping solution.
【図5】受用の保護層を基板から分離した状態を示す図
面である。FIG. 5 is a view showing a state in which a receiving protective layer is separated from a substrate.
【図6】基板を一方のトレーから他方のトレーに移す態
様を説明する図面である。FIG. 6 is a view for explaining a mode of transferring a substrate from one tray to another tray.
【図7】基板を他方のトレーに移した状態を示す図面で
ある。FIG. 7 is a view showing a state where a substrate is transferred to another tray.
【図8】小片に分割された押え用の保護層を、基板から
分離する状態を示す図面である。FIG. 8 is a view showing a state in which a holding protective layer divided into small pieces is separated from a substrate.
【図9】本発明のトレーの実施形態を示す斜視図であ
る。FIG. 9 is a perspective view showing an embodiment of the tray of the present invention.
(1)基板 (2)基材層 (3a),(3b)金属パターン層 (4)保護層(受用) (5)保護層(押え用) (6a),(6b) 接着剤 (7)ダイヤモンド・ブレード (7a)切断刃 (8)切り溝 (9)トレー (9a)台板 (9b)突条 (9c)貫通孔 (10)容器 (11)剥離液 (12)トレー (12a)台板 (12b)突条 (12c)貫通孔 (1) Substrate (2) Base layer (3a), (3b) Metal pattern layer (4) Protective layer (for receiving) (5) Protective layer (for holding) (6a), (6b) Adhesive (7) Diamond・ Blade (7a) Cutting blade (8) Groove (9) Tray (9a) Plate (9b) Ridge (9c) Through hole (10) Container (11) Stripper (12) Tray (12a) Plate ( 12b) Ridge (12c) Through hole
Claims (11)
に、保護層を接着剤により積層し、前記基板を少なくと
も前記保護層に至るまでダイシングして分割し、台板の
上面に突条を備えたトレー上に、前記保護層が積層され
た基板を、トレーの前記突条を基板のダイシングによっ
て生じた切り溝に遊嵌させた状態で載置して剥離液中に
浸漬し、前記接着剤を溶解させて前記保護層を前記基板
から分離することを特徴とする基板の処理方法。1. A protective layer is laminated with an adhesive on a surface of a substrate on which a metal pattern layer is formed, and the substrate is diced and divided at least up to the protective layer. The substrate on which the protective layer is laminated is placed on the tray with the protrusions of the tray loosely fitted in the cut grooves formed by dicing the substrate, and immersed in a stripping solution, and And dissolving the protective layer to separate the protective layer from the substrate.
ングされた基板をトレーに載置したままの状態で洗浄し
乾燥することを特徴とする基板の処理方法。2. A method for processing a substrate, comprising: washing and drying the diced substrate while remaining on the tray, following the process according to claim 1.
表面に、保護層を接着剤により積層し、一方の保護層の
方から少なくとも他方の保護層に至るまで基板をダイシ
ングして分割し、突条を備えたトレー上に、ダイシング
を開始した表面側に位置する保護層を下側にして前記基
板を、トレーの前記突条を前記基板のダイシングによっ
て生じた切り溝に遊嵌させた状態で載置して剥離液中に
浸漬し、前記接着剤を溶解させて基板の上側に位置する
保護層を前記基板から分離することを特徴とする基板の
処理方法。3. A protective layer is laminated with an adhesive on both front and back surfaces of the substrate on which the metal pattern layer is formed, and the substrate is divided by dicing from one of the protective layers to at least the other protective layer. A state in which the protective layer located on the surface side where dicing has been started is placed on the lower side of the tray provided with the ridges, and the substrate is loosely fitted into the kerf formed by dicing the substrate with the ridges of the tray. And immersing it in a stripper, dissolving the adhesive, and separating the protective layer located above the substrate from the substrate.
ングされた基板をトレーに載置したままの状態で洗浄し
乾燥することを特徴とする基板の処理方法。4. A method of processing a substrate, comprising washing and drying the diced substrate in a state of being placed on a tray, subsequent to the processing according to claim 3.
いて、前記トレーと同型のトレーを、両トレーの突条先
端同士を隣接し重ね合わせて上下反転させ、基板を他方
のトレーに移し、前記基板の上側表面に位置している保
護層を分離することを特徴とする基板の処理方法。5. The process according to claim 3 or 4, wherein the tray of the same type as the tray is turned upside down with the ridge tips of both trays adjacent to each other and overlapped, and the substrate is placed on the other tray. And separating the protective layer located on the upper surface of the substrate.
ーに移した後に、基板の比重よりも小さく保護層の比重
よりも大きい比重を有する液体中に浸漬し、比重の差を
利用して前記保護層を前記基板から分離することを特徴
とする基板の処理方法。6. The method according to claim 5, wherein after transferring the substrate to the other tray, the substrate is immersed in a liquid having a specific gravity smaller than the specific gravity of the substrate and larger than the specific gravity of the protective layer, and utilizing the difference in specific gravity. A method for treating a substrate, comprising separating a protective layer from the substrate.
とする請求項1〜6のいずれかに記載の基板の処理方
法。7. The method for processing a substrate according to claim 1, wherein the material of the protective layer is glass.
数の孔を穿設したことを特徴とする請求項1〜7のいず
れかに記載の基板の処理方法。8. The substrate processing method according to claim 1, wherein a number of holes penetrating from front to back are formed in the base plate of the tray.
表面に接着剤により積層された保護層に至るまでダイシ
ングし分割することによって生じた切り溝に、遊嵌し得
る突条を、台板上面に備えたことを特徴とする基板処理
用トレー。9. A ridge which can be loosely fitted into a cut groove formed by dicing and dividing a substrate on which a metal pattern layer is formed up to a protective layer laminated on the surface thereof with an adhesive. A substrate processing tray provided on an upper surface.
格子状に設けたことを特徴とする請求項9記載の基板処
理用トレー。10. The substrate processing tray according to claim 9, wherein the projections of the tray are provided in a grid on the upper surface of the base plate.
多数の孔を穿設したことを特徴とする請求項9または1
0に記載の基板処理用トレー。11. The tray according to claim 9, wherein the base plate of the tray has a large number of holes penetrating therethrough.
0. The substrate processing tray according to 0.
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