JP2002134019A - プラズマディスプレイパネルの製造方法および製造装置およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル - Google Patents
プラズマディスプレイパネルの製造方法および製造装置およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネルInfo
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- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ＰＤＰの封着工程において外周封止部材を加
熱した際に放出される、炭化水素系ガスを主体とする不
純物ガスがＰＤＰのガス放電空間内に混入し、放電特性
の劣化をまねく。 【解決手段】 前面基板と背面基板と外周封止部材とで
囲まれたプラズマディスプレイパネルのガス放電空間の
圧力が、プラズマディスプレイパネル外部空間の圧力よ
りも高い状態で封着する。
熱した際に放出される、炭化水素系ガスを主体とする不
純物ガスがＰＤＰのガス放電空間内に混入し、放電特性
の劣化をまねく。 【解決手段】 前面基板と背面基板と外周封止部材とで
囲まれたプラズマディスプレイパネルのガス放電空間の
圧力が、プラズマディスプレイパネル外部空間の圧力よ
りも高い状態で封着する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルおよびその製造方法およびその製造装置に関
する。
レイパネルおよびその製造方法およびその製造装置に関
する。
【０００２】プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰ
と称する）は、ブラウン管にかわる表示デバイスとして
注目されており、ハイビジョンテレビ等の大型ディスプ
レイの用途で有望視されている。
と称する）は、ブラウン管にかわる表示デバイスとして
注目されており、ハイビジョンテレビ等の大型ディスプ
レイの用途で有望視されている。
【０００３】
【従来の技術】一般的なＡＣ型ＰＤＰの構造を図５に示
す。互いに相対して対をなす表示電極１０１、表示スキ
ャン電極１０２群がガラス基板１０３上に形成される。
これらの電極は透明電極と、透明電極の電気抵抗による
電圧低下を防ぐためのバス電極からなる。これらの表示
電極１０１、表示スキャン電極１０２群は誘電体層１０
４で被覆され、さらにＭｇＯ保護膜１０５で被覆され
る。これに対し、一方のガラス基板１０６にはストライ
ブ状のアドレス電極１０７が形成される。アドレス電極
１０７は誘電体層１０８に被覆されさらに、アドレス電
極１０７に隣接するようにリブ１０９が形成される。リ
ブ１０９はアドレス放電時の隣接セルへの影響を断ち、
光のクロストークを防ぐ働きがある。次にそれぞれのリ
ブに赤、青、緑の蛍光体１１０がアドレス電極１０７を
被覆するように塗り分けられる。ガラス基板１０３とガ
ラス基板１０６は表示電極ギャップを保ちながら組み合
わされ、ガラスフリットにより周囲を密閉する(封着工
程）。その後、ガラス基板に設けられた放電ガス通気口
を通して、加熱しながらパネル内を排気し（排気工
程）、終了後にＮｅ等の不活性ガスを主体とする放電ガ
スを封入し（ガス封入工程）、放電ガス通気口を塞いだ
（封止工程）構造となっている。
す。互いに相対して対をなす表示電極１０１、表示スキ
ャン電極１０２群がガラス基板１０３上に形成される。
これらの電極は透明電極と、透明電極の電気抵抗による
電圧低下を防ぐためのバス電極からなる。これらの表示
電極１０１、表示スキャン電極１０２群は誘電体層１０
４で被覆され、さらにＭｇＯ保護膜１０５で被覆され
る。これに対し、一方のガラス基板１０６にはストライ
ブ状のアドレス電極１０７が形成される。アドレス電極
１０７は誘電体層１０８に被覆されさらに、アドレス電
極１０７に隣接するようにリブ１０９が形成される。リ
ブ１０９はアドレス放電時の隣接セルへの影響を断ち、
光のクロストークを防ぐ働きがある。次にそれぞれのリ
ブに赤、青、緑の蛍光体１１０がアドレス電極１０７を
被覆するように塗り分けられる。ガラス基板１０３とガ
ラス基板１０６は表示電極ギャップを保ちながら組み合
わされ、ガラスフリットにより周囲を密閉する(封着工
程）。その後、ガラス基板に設けられた放電ガス通気口
を通して、加熱しながらパネル内を排気し（排気工
程）、終了後にＮｅ等の不活性ガスを主体とする放電ガ
スを封入し（ガス封入工程）、放電ガス通気口を塞いだ
（封止工程）構造となっている。
【０００４】従来法の封着工程では、２枚のガラス基板
と外周封止部材とで囲まれたＰＤＰのガス放電空間内に
はガスの出し入れは行われない状態で、ガラスフリット
を溶融させるための加熱がおこなわれ、ガラスフリット
の軟化する温度よりも高い温度で、所定の時間だけ維持
された後に、常温まで冷却される。これにより、２枚の
ガラス基板はガラスフリットでもって密閉されることと
なる。すなわち、２枚のガラス基板とガラスフリットと
で囲まれたＰＤＰのガス放電空間内の圧力とＰＤＰの設
置されているＰＤＰ外部空間とは同一の圧力で封着が行
われている。
と外周封止部材とで囲まれたＰＤＰのガス放電空間内に
はガスの出し入れは行われない状態で、ガラスフリット
を溶融させるための加熱がおこなわれ、ガラスフリット
の軟化する温度よりも高い温度で、所定の時間だけ維持
された後に、常温まで冷却される。これにより、２枚の
ガラス基板はガラスフリットでもって密閉されることと
なる。すなわち、２枚のガラス基板とガラスフリットと
で囲まれたＰＤＰのガス放電空間内の圧力とＰＤＰの設
置されているＰＤＰ外部空間とは同一の圧力で封着が行
われている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、２枚の
ガラス基板とガラスフリットとで囲まれたＰＤＰのガス
放電空間内の圧力とＰＤＰの設置されているＰＤＰ外部
空間とが同一の圧力下で封着が行われると、ガラスフリ
ットを加熱した際に放出される、炭化水素系ガスを主体
とする不純物ガスがＰＤＰのガス放電空間内に混入する
こととなる。これらの不純物ガスは、排気工程でＰＤＰ
のガス放電空間から排除されるが、完全に除去されなか
った残留不純物ガスは、ＰＤＰの点灯時に放電特性を劣
化させることとなる。特にＰＤＰの点灯初期段階での放
電特性の劣化をひきおこすため、この劣化の対策とし
て、所定の時間だけ点灯を行うことにより、点灯による
プラズマの効果で、ＰＤＰのガス放電空間内部に付着し
た不純物ガスを、ＰＤＰのガス放電空間内部でも放電特
性に影響しない場所に叩き出すようなことが行われる。
ガラス基板とガラスフリットとで囲まれたＰＤＰのガス
放電空間内の圧力とＰＤＰの設置されているＰＤＰ外部
空間とが同一の圧力下で封着が行われると、ガラスフリ
ットを加熱した際に放出される、炭化水素系ガスを主体
とする不純物ガスがＰＤＰのガス放電空間内に混入する
こととなる。これらの不純物ガスは、排気工程でＰＤＰ
のガス放電空間から排除されるが、完全に除去されなか
った残留不純物ガスは、ＰＤＰの点灯時に放電特性を劣
化させることとなる。特にＰＤＰの点灯初期段階での放
電特性の劣化をひきおこすため、この劣化の対策とし
て、所定の時間だけ点灯を行うことにより、点灯による
プラズマの効果で、ＰＤＰのガス放電空間内部に付着し
た不純物ガスを、ＰＤＰのガス放電空間内部でも放電特
性に影響しない場所に叩き出すようなことが行われる。
【０００６】このように、２枚のガラス基板とガラスフ
リットとで囲まれたＰＤＰのガス放電空間内の圧力とＰ
ＤＰの設置されているＰＤＰ外部空間とが同一の圧力下
で封着が行われ、ガラスフリットを加熱した際に放出さ
れる不純物ガスがＰＤＰのガス放電空間内部に多量に混
入すると、放電特性の劣化が発生し、その対策として、
排気工程を十分に行いＰＤＰのガス放電空間内の残留不
純物ガスを十分に除去したり、エージングを十分に行っ
たりする必要があり、ＰＤＰの製造工程の中でも特に排
気工程やエージング工程にかかる時間を長くするという
問題を抱えていた。
リットとで囲まれたＰＤＰのガス放電空間内の圧力とＰ
ＤＰの設置されているＰＤＰ外部空間とが同一の圧力下
で封着が行われ、ガラスフリットを加熱した際に放出さ
れる不純物ガスがＰＤＰのガス放電空間内部に多量に混
入すると、放電特性の劣化が発生し、その対策として、
排気工程を十分に行いＰＤＰのガス放電空間内の残留不
純物ガスを十分に除去したり、エージングを十分に行っ
たりする必要があり、ＰＤＰの製造工程の中でも特に排
気工程やエージング工程にかかる時間を長くするという
問題を抱えていた。
【０００７】本発明は上述の問題に鑑み、ＰＤＰの封着
工程において、外周封止部材を加熱した際に放出される
不純物ガスをＰＤＰのガス放電空間内に混入させること
なくＰＤＰの外部に排出させるプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法を提供することを目的としている。
工程において、外周封止部材を加熱した際に放出される
不純物ガスをＰＤＰのガス放電空間内に混入させること
なくＰＤＰの外部に排出させるプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法
は、前面基板と背面基板と外周封止部材によりガス放電
空間を形成し、外周封止部材を溶融して封着するプラズ
マディスプレイパネルの封着工程を有するプラズマディ
スプレイパネルの製造方法であって、前面基板と背面基
板と外周封止部材とで囲まれたプラズマディスプレイパ
ネルのガス放電空間の圧力が、プラズマディスプレイパ
ネル外部空間の圧力よりも高い状態で封着する手段を用
いる。
に、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法
は、前面基板と背面基板と外周封止部材によりガス放電
空間を形成し、外周封止部材を溶融して封着するプラズ
マディスプレイパネルの封着工程を有するプラズマディ
スプレイパネルの製造方法であって、前面基板と背面基
板と外周封止部材とで囲まれたプラズマディスプレイパ
ネルのガス放電空間の圧力が、プラズマディスプレイパ
ネル外部空間の圧力よりも高い状態で封着する手段を用
いる。
【０００９】本手段を用いることにより、ＰＤＰの封着
工程において、外周封止部材を加熱した際に放出される
不純物ガスをＰＤＰのガス放電空間内に混入させること
なくＰＤＰの外部に排出させるプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法を提供することができる。
工程において、外周封止部材を加熱した際に放出される
不純物ガスをＰＤＰのガス放電空間内に混入させること
なくＰＤＰの外部に排出させるプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法を提供することができる。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係るＰＤＰ用製造
装置の構成を模式的に表す図である。ＰＤＰ１には図５
に示す一般的な構造のものを用いており、それぞれ必要
な構成要素が形成されたガラス基板１０３とガラス基板
１０６を一定のギャップを保ちながら組み合わせ、図示
しない板バネで固定した後に、ガラス基板１０６側に設
けたガス通気口２およびガス通気口２と接続されたガス
通気管３をとおして本製造装置とつなぎあわされてい
る。ここで、外周封止部材４にはガラスフリットを用
い、ＰＤＰ１の外周部に図２に示す様にＰＤＰ１の外周
部にあらかじめガラス基板１０６側に塗布し、１２０℃
で乾燥させている。また、ガス通気口２は画像表示領域
５以外の図２に示す位置に設けられている。ガス通気管
３には円筒状のガラス管を用い、ガス通気口２とガス通
気管３はガラスフリットを用いて接続されている。ガス
通気管３と製造装置側の配管６とは接続冶具７を用いて
接続され、接続冶具７には図示しないがガス通気管３と
配管６を密閉することができるようにＯリングが埋設さ
れている。配管６はガスを導入するためのガス導入系
８、および、真空排気するための排気系９にガス導入系
バルブ１０、および、排気系バルブ１１を介して接続さ
れている。また、ＰＤＰ１は全体を加熱装置１２で覆っ
ている。以上、本発明におけるＰＤＰ製造装置構成を示
した。
装置の構成を模式的に表す図である。ＰＤＰ１には図５
に示す一般的な構造のものを用いており、それぞれ必要
な構成要素が形成されたガラス基板１０３とガラス基板
１０６を一定のギャップを保ちながら組み合わせ、図示
しない板バネで固定した後に、ガラス基板１０６側に設
けたガス通気口２およびガス通気口２と接続されたガス
通気管３をとおして本製造装置とつなぎあわされてい
る。ここで、外周封止部材４にはガラスフリットを用
い、ＰＤＰ１の外周部に図２に示す様にＰＤＰ１の外周
部にあらかじめガラス基板１０６側に塗布し、１２０℃
で乾燥させている。また、ガス通気口２は画像表示領域
５以外の図２に示す位置に設けられている。ガス通気管
３には円筒状のガラス管を用い、ガス通気口２とガス通
気管３はガラスフリットを用いて接続されている。ガス
通気管３と製造装置側の配管６とは接続冶具７を用いて
接続され、接続冶具７には図示しないがガス通気管３と
配管６を密閉することができるようにＯリングが埋設さ
れている。配管６はガスを導入するためのガス導入系
８、および、真空排気するための排気系９にガス導入系
バルブ１０、および、排気系バルブ１１を介して接続さ
れている。また、ＰＤＰ１は全体を加熱装置１２で覆っ
ている。以上、本発明におけるＰＤＰ製造装置構成を示
した。
【００１１】
【実施例】次に本装置接続後の本実施の形態に係る実施
例を示す。本装置接続時はガス導入系バルブ１０、排気
系バルブ１１は閉じられている。まず、ガス導入系バル
ブ１０を開放し、ＰＤＰ１の２枚のガラス基板と外周封
止部材４で囲まれたガス放電空間１３にガスを導入す
る。導入するガスには窒素ガスを用い、ガス放電空間１
３にガスを流しつづけた。流しつづけたガス流量は図示
しない、ガス導入系８に取り付けられたマスフローコン
トローラを用いて１０ｃｃｍ〜５００ｃｃｍ（１０×１
０-6ｍ3／ｍｉｎ〜５×１０-4ｍ3／ｍｉｎ）程度に設定
し、ガス放電空間１３の内部の圧力を大気圧より高い状
態に設定した。この時、ＰＤＰ１の外周部はガラス基板
１０６側に形成された外周封止部材４とガラス基板１０
３とが接触しているが、まだ、溶融温度まで加熱されて
いないため、外周封止部材４とガラス基板１０３の間に
は隙間が存在し、ガス放電空間１３の圧力がその外部空
間の圧力より高いために、ＰＤＰ１のガス放電空間１３
に導入された窒素ガスはＰＤＰ１の外周部を通してＰＤ
Ｐ１の外部空間に流れる状態となる。また、図２におけ
る外周封止部材のＡ−Ａ断面を図３に示す。図３に示さ
れるように、外周封止部材４が凹凸形状をしていると、
ＰＤＰ１のガス放電空間１３から外部空間に対してより
ガスが流れやすくなることは言うまでもない。この状態
で、ＰＤＰ１を加熱装置１２を用いて加熱を行う。封着
工程時のＰＤＰ１の温度プロファイルを図４に示す。外
周封止部材４の材料であるガラスフリットの温度が軟化
点を超えると、外周封止部材４は溶融し、ＰＤＰ１の２
枚のガラス基板と外周封止部材４は密閉される。この
時、ＰＤＰ１の２枚のガラス基板と外周封止部材４で囲
まれたガス放電空間１３の圧力が高すぎると、外周封止
部材４の隙間にエアーの流れが形成されてしまい、その
部分が封着されずに穴として残り、封着ミスを起こす原
因となるので、この圧力は高すぎない適切な値に設定さ
れている必要がある。以上のようにすることにより、Ｐ
ＤＰ１を加熱した際に、外周封止部材４から放出された
不純物ガスはＰＤＰ１のガス放電空間１３に混入するこ
となくガスの流れにそって、ＰＤＰ１の外部に排出され
ることとなる。ＰＤＰ１の加熱は図４で示すようにＰＤ
Ｐ１の外周封止部材４の軟化点以上の温度で一定時間維
持された後に常温まで冷却される。この途中で、ＰＤＰ
１の２枚のガラス基板と外周封止部材４が密閉されると
ガスはＰＤＰ１の外部に流れなくなるためＰＤＰ１のガ
ス放電空間１３の圧力は上昇するおそれがあるので、導
入するガスは図示しない減圧弁を通してＰＤＰ１の外部
空間の圧力より少し高い程度に適切に調整されている。
また、封着工程におけるＰＤＰ１の温度上昇時にＰＤＰ
１のガス放電空間１３の圧力の変化からＰＤＰ１の２枚
のガラス基板と外周封止部材４が密着したことが確認さ
れた段階で、ガス導入系バルブ１０を閉じ、ガスの導入
を停止した。ＰＤＰ１の温度が常温まで冷却された後
に、排気系バルブ１１を開放して、ＰＤＰ１のガス放電
空間１３を排気しながら再度加熱装置１２を用いてＰＤ
Ｐ１の加熱を行い（排気工程）、終了後にＮｅ等の不活
性ガスを主体とする放電ガスを封入し（ガス封入工
程）、放電ガス通気管３をバーナーを用いて封止する
(封止工程)ことにより、ＰＤＰを作製した。放電ガスに
はＮｅ−Ｘｅの混合気体を用い、この放電ガス封入圧力
は１００〜７６０Ｔｏｒｒ（１３．３〜１０１．０８ｋ
Ｐａ）程度に設定した。本手法を用いて作製したＰＤＰ
では、外周封止部材を加熱した際に放出される不純物ガ
スをＰＤＰ１のガス放電空間内１３に混入させることな
くＰＤＰの外部に排出させ、それにより、ＰＤＰ１のガ
ス放電空間１３から不純物ガスを除去する排気工程の時
間が短くなり、また、エージング工程における放電特性
の安定化時間が短くなることが確認できた。
例を示す。本装置接続時はガス導入系バルブ１０、排気
系バルブ１１は閉じられている。まず、ガス導入系バル
ブ１０を開放し、ＰＤＰ１の２枚のガラス基板と外周封
止部材４で囲まれたガス放電空間１３にガスを導入す
る。導入するガスには窒素ガスを用い、ガス放電空間１
３にガスを流しつづけた。流しつづけたガス流量は図示
しない、ガス導入系８に取り付けられたマスフローコン
トローラを用いて１０ｃｃｍ〜５００ｃｃｍ（１０×１
０-6ｍ3／ｍｉｎ〜５×１０-4ｍ3／ｍｉｎ）程度に設定
し、ガス放電空間１３の内部の圧力を大気圧より高い状
態に設定した。この時、ＰＤＰ１の外周部はガラス基板
１０６側に形成された外周封止部材４とガラス基板１０
３とが接触しているが、まだ、溶融温度まで加熱されて
いないため、外周封止部材４とガラス基板１０３の間に
は隙間が存在し、ガス放電空間１３の圧力がその外部空
間の圧力より高いために、ＰＤＰ１のガス放電空間１３
に導入された窒素ガスはＰＤＰ１の外周部を通してＰＤ
Ｐ１の外部空間に流れる状態となる。また、図２におけ
る外周封止部材のＡ−Ａ断面を図３に示す。図３に示さ
れるように、外周封止部材４が凹凸形状をしていると、
ＰＤＰ１のガス放電空間１３から外部空間に対してより
ガスが流れやすくなることは言うまでもない。この状態
で、ＰＤＰ１を加熱装置１２を用いて加熱を行う。封着
工程時のＰＤＰ１の温度プロファイルを図４に示す。外
周封止部材４の材料であるガラスフリットの温度が軟化
点を超えると、外周封止部材４は溶融し、ＰＤＰ１の２
枚のガラス基板と外周封止部材４は密閉される。この
時、ＰＤＰ１の２枚のガラス基板と外周封止部材４で囲
まれたガス放電空間１３の圧力が高すぎると、外周封止
部材４の隙間にエアーの流れが形成されてしまい、その
部分が封着されずに穴として残り、封着ミスを起こす原
因となるので、この圧力は高すぎない適切な値に設定さ
れている必要がある。以上のようにすることにより、Ｐ
ＤＰ１を加熱した際に、外周封止部材４から放出された
不純物ガスはＰＤＰ１のガス放電空間１３に混入するこ
となくガスの流れにそって、ＰＤＰ１の外部に排出され
ることとなる。ＰＤＰ１の加熱は図４で示すようにＰＤ
Ｐ１の外周封止部材４の軟化点以上の温度で一定時間維
持された後に常温まで冷却される。この途中で、ＰＤＰ
１の２枚のガラス基板と外周封止部材４が密閉されると
ガスはＰＤＰ１の外部に流れなくなるためＰＤＰ１のガ
ス放電空間１３の圧力は上昇するおそれがあるので、導
入するガスは図示しない減圧弁を通してＰＤＰ１の外部
空間の圧力より少し高い程度に適切に調整されている。
また、封着工程におけるＰＤＰ１の温度上昇時にＰＤＰ
１のガス放電空間１３の圧力の変化からＰＤＰ１の２枚
のガラス基板と外周封止部材４が密着したことが確認さ
れた段階で、ガス導入系バルブ１０を閉じ、ガスの導入
を停止した。ＰＤＰ１の温度が常温まで冷却された後
に、排気系バルブ１１を開放して、ＰＤＰ１のガス放電
空間１３を排気しながら再度加熱装置１２を用いてＰＤ
Ｐ１の加熱を行い（排気工程）、終了後にＮｅ等の不活
性ガスを主体とする放電ガスを封入し（ガス封入工
程）、放電ガス通気管３をバーナーを用いて封止する
(封止工程)ことにより、ＰＤＰを作製した。放電ガスに
はＮｅ−Ｘｅの混合気体を用い、この放電ガス封入圧力
は１００〜７６０Ｔｏｒｒ（１３．３〜１０１．０８ｋ
Ｐａ）程度に設定した。本手法を用いて作製したＰＤＰ
では、外周封止部材を加熱した際に放出される不純物ガ
スをＰＤＰ１のガス放電空間内１３に混入させることな
くＰＤＰの外部に排出させ、それにより、ＰＤＰ１のガ
ス放電空間１３から不純物ガスを除去する排気工程の時
間が短くなり、また、エージング工程における放電特性
の安定化時間が短くなることが確認できた。
【００１２】本実施例では、封着時の導入ガスに窒素ガ
スを用いたが、酸素ガスや希ガスを用いても同様の効果
を得ることができる。また、乾燥空気等の乾燥ガスを用
いても同様の効果が得ることができる。
スを用いたが、酸素ガスや希ガスを用いても同様の効果
を得ることができる。また、乾燥空気等の乾燥ガスを用
いても同様の効果が得ることができる。
【００１３】また、導入するガスを加熱すると、不純物
ガスを放出する効果を高めることができる。
ガスを放出する効果を高めることができる。
【００１４】また、前記実施例と同様の装置構成の上
で、ＰＤＰ１を真空排気装置内に位置させることによ
り、ＰＤＰ１の外部空間を真空排気しながら、ＰＤＰ１
のガス放電空間１３にガスを導入すると、よりガスがＰ
ＤＰ１の外周部を通してＰＤＰ１の外部空間に流れやす
くなり、同様の効果を得ることができる。
で、ＰＤＰ１を真空排気装置内に位置させることによ
り、ＰＤＰ１の外部空間を真空排気しながら、ＰＤＰ１
のガス放電空間１３にガスを導入すると、よりガスがＰ
ＤＰ１の外周部を通してＰＤＰ１の外部空間に流れやす
くなり、同様の効果を得ることができる。
【００１５】また、ガスを導入するためのガス通気口は
本実施例においては一ヶ所に設けているが、これに限ら
れるものではない。
本実施例においては一ヶ所に設けているが、これに限ら
れるものではない。
【００１６】以上のように、本実施例によれば、本手段
を用いることにより、ＰＤＰの封着工程において、外周
封止部材を加熱した際に放出される不純物ガスをＰＤＰ
のガス放電空間内に混入させることなくＰＤＰの外部に
排出させるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提
供することができる。
を用いることにより、ＰＤＰの封着工程において、外周
封止部材を加熱した際に放出される不純物ガスをＰＤＰ
のガス放電空間内に混入させることなくＰＤＰの外部に
排出させるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提
供することができる。
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば、ＰＤＰの封着工程にお
いて、外周封止部材を加熱した際に放出される不純物ガ
スをＰＤＰのガス放電空間内に混入させることなくＰＤ
Ｐの外部に排出させるプラズマディスプレイパネルの製
造方法を提供することができる。
いて、外周封止部材を加熱した際に放出される不純物ガ
スをＰＤＰのガス放電空間内に混入させることなくＰＤ
Ｐの外部に排出させるプラズマディスプレイパネルの製
造方法を提供することができる。
【図１】本発明に係るＰＤＰ用製造装置構成模式図
【図２】本発明に係るＰＤＰの平面図
【図３】本発明に係る外周封止部材の断面図
【図４】本発明に係る封着工程温度プロファイルを示す
図
図
【図５】ＰＤＰパネルを示す斜視図
１ プラズマディスプレイパネル ２ ガス通気口 ３ ガス通気管 ４ 外周封止部材 ５ 画像表示領域 ６ 配管 ７ 接続冶具 ８ ガス導入系 ９ 排気系 １０ ガス導入系バルブ １１ 排気系バルブ １２ 加熱装置 １３ ガス放電空間 １０１ 表示電極 １０２ 表示スキャン電極 １０３ ガラス基板 １０４ 誘電体層 １０５ ＭｇＯ保護膜 １０６ ガラス基板 １０７ アドレス電極 １０８ 誘電体層 １０９ リブ １１０ 蛍光体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安井 秀明 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 加道 博行 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 大河 政文 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 5C012 AA09 BC03 5C040 FA01 GB03 GB14 HA01 HA04 MA20
Claims (12)
- 【請求項１】 前面基板と背面基板と外周封止部材によ
りガス放電空間を形成し、外周封止部材を溶融して封着
するプラズマディスプレイパネルの封着工程を有するプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法であって、 前面基板と背面基板と外周封止部材とで囲まれたプラズ
マディスプレイパネルのガス放電空間の圧力が、プラズ
マディスプレイパネル外部空間の圧力よりも高い状態で
封着することを特徴とするプラズマディスプレイパネル
の製造方法。 - 【請求項２】 前面基板と背面基板と外周封止部材とで
囲まれたプラズマディスプレイパネルのガス放電空間の
圧力が、プラズマディスプレイパネル外部空間の圧力よ
りも高い状態を、封着工程における外周封止部材を溶融
させるための加熱の開始から、外周封止部材がその軟化
する温度以上になるまでの間維持することを特徴とする
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
法。 - 【請求項３】 プラズマディスプレイパネルの前面基板
と背面基板の一方の外周に形成された外周封止部材が凹
凸形状を有していることを特徴とする請求項１または２
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項４】 前面基板と背面基板と外周封止部材とで
囲まれたプラズマディスプレイパネルのガス放電空間が
少なくとも一ヶ所以上のガス通気口を有し、前記ガス通
気口からガスを導入しながら外周封止部材を溶融して封
着することを特徴とする請求項１から３のいずれかに記
載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項５】 導入するガスが加熱されていることを特
徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネル
の製造方法。 - 【請求項６】 導入するガスが乾燥ガスであることを特
徴とする請求項４または５に記載のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法。 - 【請求項７】 導入するガスが乾燥空気であることを特
徴とする請求項４から６のいずれかに記載のプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項８】 導入するガスが少なくとも窒素を含んで
いることを特徴とする請求項４から６のいずれかに記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項９】 導入するガスが少なくとも酸素を含んで
いることを特徴とする請求項４から６のいずれかに記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。 - 【請求項１０】 プラズマディスプレイパネルを真空排
気可能な密閉空間に位置させて前記密閉空間を真空排気
させながら外周封止部材を溶融して封着することを特徴
とする請求項１から９のいずれかに記載のプラズマディ
スプレイパネルの製造方法。 - 【請求項１１】 請求項１から１０のいずれかに記載の
製造方法を実現するプラズマディスプレイパネルの製造
装置。 - 【請求項１２】 請求項１から１０のいずれかに記載の
製造方法で製造されたプラズマディスプレイパネル。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000330216A JP2002134019A (ja) | 2000-10-30 | 2000-10-30 | プラズマディスプレイパネルの製造方法および製造装置およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000330216A JP2002134019A (ja) | 2000-10-30 | 2000-10-30 | プラズマディスプレイパネルの製造方法および製造装置およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002134019A true JP2002134019A (ja) | 2002-05-10 |
Family
ID=18806776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000330216A Pending JP2002134019A (ja) | 2000-10-30 | 2000-10-30 | プラズマディスプレイパネルの製造方法および製造装置およびそれらを用いて製造したプラズマディスプレイパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002134019A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100657953B1 (ko) * | 2005-02-23 | 2006-12-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 전계 방출 표시장치의 실링 구조 및 그 제조 방법 |
| JP2010027389A (ja) * | 2008-07-18 | 2010-02-04 | Panasonic Corp | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
| JP2010267436A (ja) * | 2009-05-13 | 2010-11-25 | Panasonic Corp | プラズマディスプレイパネルの製造方法 |
-
2000
- 2000-10-30 JP JP2000330216A patent/JP2002134019A/ja active Pending
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| US7541730B2 (en) | 2005-02-23 | 2009-06-02 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Sealing structure of field emission display device and method of manufacturing the same |
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