JP2002131900A - マスク作成用原板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 可視光線に対して高感度で、高い解像力を有
し、かつ優れた膜物性を与える光重合層を備えるマスク
作成用原板を提供する。 【解決手段】 透明な支持体上に金属薄膜を設け、その
上に熱可塑性高分子結合剤、下記一般式（Ｉ）で表され
る構造を有する化合物および光重合開始剤を含有する光
重合層を設けたことを特徴とするマスク作成用原板 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はフォトマスクの製造
工程において、透明な支持体上に金属薄膜を設け、その
上に光重合層を設けて得られる積層物（本発明において
「マスク作成用原板」と呼ぶ。）に関し、更に詳しくは
アルゴンレーザー光、ＦＤ−ＹＡＧレーザー光、ヘリウ
ム−ネオンレーザー光、バイオレットレーザー等の可視
光線にて描画可能な、高感度で高い解像力を有するマス
ク作成用原板に関する。

【０００２】

【従来の技術】フォトマスクの製造方法として、一般に
銀塩フィルムにて作成する方法、フォトファブリケーシ
ョンレジストを使用する方法等が知られている。フォト
ファブリケーションレジストを使用する方法、すなわち
ガラス基板上にスパッタリング等により金属の薄膜の塗
設、フォトファブリケーションレジストの塗布、画像露
光、レジストの除去、金属薄膜のエッチング等の工程で
作成したマスクは、寸度安定性が高く、耐光性、耐久性
が高いので、測定器などの光学マスク、スクリーン印刷
等のマスクに使用されている。従来、このような方法に
よってマスクを作成するために、カゼイン等の水溶性化
合物と重クロム酸塩、感光基としてアジド、ジアゾ、ケ
イ皮酸を有する化合物または高分子化合物、ビスアジド
化合物と環化ゴム、バインダー樹脂、モノマー、光開始
剤からなる光重合性組成物等が使用されてきた。

【０００３】一方、近年のコンピューター技術の進展は
著しく、マスクの画像をパソコン等で作成しそのデジタ
ルデータをレーザーを用い、フォトファブリケーション
用レジストに直接露光し、工程の効率化を高める研究が
行われている。このようなレーザーを用いたマスクの作
製方法によりフォトマスクの作製において重要な解像力
の向上が期待される。しかし上記のレジストはアルゴ
ン、ＦＤ−ＹＡＧ、ヘリウム−ネオン、バイオレットレ
ーザー等の可視レーザーで描画するには、感光波長が短
く、感度が十分でなかった。

【０００４】光重合層を形成する光重合性組成物におい
て、感度を高める研究が進められ、多くの光重合開始系
が提案されてきた。例えば、米国特許第2448828号明細
書に記載のベンゾインエーテル類、米国特許第3046127
号明細書に記載のアンスラキノン類、特公昭49−11936
号公報に記載のアミノフェニルケトンと活性メチレンま
たはアミノ化合物、米国特許第3682641号明細書に記載
のミヒラーズケトンとベンゾフェノン、特公昭48−3840
3号公報に記載のベンゾフェノンと４−Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアミノベンゾフェノン、特公昭48−38403号公報に記
載のミヒラーズケトンとロフィン二量体、特開昭56−35
134号公報に記載のロフィン二量体、と光重合体エチレ
ン性不飽和単量体、特開昭59−478339号公報に記載の４
−Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノベンゾフェノンおよび有機
ハロゲン化合物の三元系などである。これらの光重合開
始系は感度の向上は見られるものの、感光波長として４
５０nm以下であり、アルゴン、ＦＤ−ＹＡＧ、へリウム
−ネオンレーザー等の可視レーザーに対しほとんど感度
がないため、これらのレーザーにより画像を作成するこ
とは不可能であった。これに対し、特開平８−３３４８
９７号公報には、アルゴン、ＦＤ−ＹＡＧ、へリウム−
ネオンレーザー等の可視レーザーに対し感度を有する光
重合性組成物を用いた平版印刷版が開示されている。し
かし、従来の光重合層は、フォトマスク作成用原板とし
て可視光線に対する解像力や感度に関して充分とは言え
ない状況にあった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、アル
ゴン、ＦＤ−ＹＡＧ、ヘリウム−ネオンレーザー、バイ
オレットレーザー等の可視光線に対し高感度で、高い解
像力を有し、かつ優れた膜物性を与える光重合層を備え
るマスク作成用原板を提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは種々検討を
重ねた結果、ある特定の光重合性化合物を含有する光重
合層をマスク作成用原板に使用することにより、可視光
に対し飛躍的な高感度を得ることができ、また優れた膜
物性を与えることを発見し、本発明に到達した。すなわ
ち、透明な支持体上に金属薄膜を設け、その上に熱可塑
性高分子結合剤、下記一般式（Ｉ）で表される構造を有
する化合物および光重合開始剤を含有する光重合層を設
けたことを特徴とするマスク作成用原板により、アルゴ
ン、ＦＤ−ＹＡＧ、ヘリウム−ネオンレーザー、バイオ
レットレーザー等の可視光線に対し高感度で、高い解像
力を有し、かつ優れた膜物性を与える光重合層を備える
作成用原板が得られることを見いだし、本発明を完成す
るに至った。

【０００７】

【化２】

【０００８】（一般式（Ｉ）中、Ｑ¹は、シアノ基(Ｃ
Ｎ)、または式ＣＯＸ²で表される基であり、Ｘ¹とＸ
²は、各々独立して、ヘテロ原子又はハロゲン原子を表
す。Ｒ^a、Ｒ^bは、各々独立して、水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基又は有機残基を表す。また、Ｘ¹とＸ²、Ｒ
^aとＲ^b、Ｘ¹とＲ^aあるいはＲ^bとが互いに結合して環状
構造を形成してもよい。）

【０００９】従来から最も一般的なラジカル重合性の化
合物として、重合性が高いアクリル酸エステル、アクリ
ル酸アミド、メタクリル酸エステル基、メタクリル酸ア
ミド等を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーなどが
利用されてきたが、これらのものでは、酸素による重合
阻害を受けるため、十分な感度が得られなかった。これ
に対して、α位にヘテロ原子をあるいはハロゲン原子が
置換した重合性基を有する構造を含有する化合物を光重
合開始剤とともにマスク作成用原板の光重合層に用いる
ことにより、酸素の重合阻害の影響を大幅に低減でき、
優れた高感度を達成できることを見出したものである。
また、これにより本発明のマスク作成用原板はオーバー
コート層を不要とすることもできる。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明のマスク作成用原板
に関して詳細に説明する。本発明のマスク作成用原板
は、透明な支持体上に金属薄膜を設け、その上に熱可塑
性高分子結合剤、上記一般式（Ｉ）で表される構造を有
する化合物および光重合開始剤を含有する光重合層を設
けることにより作成される。

【００１１】＜一般式（I）で表される構造を有する化
合物＞本発明における特徴の化合物は、一般式（Ｉ）で
表される構造を有する。一般式（Ｉ）で示される構造
は、１価の置換基となっていてもよいし、一般式（Ｉ）
におけるＲ^a、Ｒ^b、Ｘ¹、Ｘ²が全て末端基を表して、そ
れ自身で１つの化合物となっていてもよい。一般式
（Ｉ）で示される構造が１価あるいは２価以上の置換基
となっている場合には、一般式（Ｉ）におけるＲ^a、
Ｒ^b、Ｘ¹、Ｘ²のうち少なくとも１つが、１つ以上の結
合手を有する。更に、Ｘ¹、Ｘ²がｎ個の連結可能な部位
を有する連結基となって、その末端に一般式（Ｉ）で示
される基をｎ個連結していても良い（ｎは２以上の整
数）（多量体）。さらに、Ｘ¹、Ｘ²のうち少なくとも１
つで、重合体鎖に結合していてもよい。即ち、重合体鎖
の側鎖に一般式（Ｉ）で表される構造が存在する形態を
取っていてもよい。ここで、重合体鎖としては後述の線
状有機高分子重合体が挙げられる。具体的には、ポリウ
レタン、ノボラック、ポリビニルアルコール等のような
ビニル系高分子、ポリヒドロシスチレン、ポリスチレ
ン、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリ(メタ)アクリ
ル酸アミド、ポリアセタール等が挙げられる。これら重
合体はホモポリマーでも、コポリマー(共重合体)でもよ
い。

【００１２】該一般式（Ｉ）において、Ｑ¹は、シアノ
基(ＣＮ)、または式ＣＯＸ²で表される基であり、Ｘ¹と
Ｘ²は、各々独立して、ヘテロ原子又はハロゲン原子を
表すが、それらが末端基になってもよいし、また連結基
となることもある。ヘテロ原子としては、好ましくは非
金属原子であり、具体的には酸素原子、イオウ原子、窒
素原子、リン原子が挙げられる。ハロゲン原子として
は、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等が
挙げられる。Ｘ¹として好ましくは、ハロゲン原子、あ
るいはＸ¹が連結基となり、そこに他の置換基が連結さ
れている基として、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メ
ルカプト基、置換チオ基、アミノ基、置換アミノ基、ス
ルホ基、スルホナト基、置換スルフィニル基、置換スル
ホニル基、ホスホノ基、置換ホスホノ基、ホスホナト
基、置換ホスホナト基、ニトロ基、ヘテロ環基（但し、
ヘテロ原子で連結している）を表す。Ｘ²として好まし
くは、ハロゲン原子、あるいはＸ²が連結基となり、そ
こに他の置換基が連結されている基として、ヒドロキシ
ル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基、アミ
ノ基、置換アミノ基、ヘテロ環基（但し、ヘテロ原子で
連結している）を表す。

【００１３】Ｘ¹又はＸ²が連結基となり、そこに他の置
換基が連結されてもよい。また、Ｘ¹、Ｘ²が互いに結合
し環構造を形成しても良い。

【００１４】Ｒ^a、Ｒ^bは各々独立して、より好ましく
は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、あるいは有機
残基として、置換基を有していても良くかつ不飽和結合
を含んでいても良い炭化水素基、置換オキシ基、置換チ
オ基、置換アミノ基、置換カルボニル基、カルボキシラ
ート基を表し、またＲ^aとＲ^bは互いに結合し環状構造を
形成していても良い。

【００１５】次に、一般式（Ｉ）におけるＸ¹、Ｘ²、Ｒ
^a、Ｒ^bにおける上述の各置換基の例を示す。上記、置換
基を有していても良くかつ不飽和結合を含んでいても良
い炭化水素基としては、アルキル基、置換アルキル基、
アリール基、置換アリール基、アルケニル基、置換アル
ケニル基、アルキニル基及び置換アルキニル基が挙げら
れる。

【００１６】アルキル基としては炭素原子数が１から２
０までの直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基をあ
げることができ、その具体例としては、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル
基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウ
ンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、
イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペン
チル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘ
キシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボ
ルニル基をあげることができる。これらの中では、炭素
原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２
までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環
状のアルキル基がより好ましい。

【００１７】置換アルキル基は置換基とアルキレン基と
の結合により構成され、その置換基としては、水素を除
く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例として
は、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒ
ドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカ
プト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジ
チオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールア
ミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
リールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、
アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルア
ミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、
Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウ
レイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジ
アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール
ウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′
−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−
ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール
−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリ
ールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
ルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−
Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ
基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−
Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ
−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−
アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル
基、カルボキシル基及びその共役塩基基（以下、カルボ
キシラートと称す）、アルコキシカルボニル基、アリー
ロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ
−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバ
モイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル
基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル
基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ス
ルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スル
ホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロ
キシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキル
スルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモ
イル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ
アリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アル
キルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモ
イル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリール
スルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びそ
の共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル
基（−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩
基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−Ｓ
Ｏ₂ＮＨＳＯ₂（ａｌｌｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ
−アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ
₂（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基、Ｎ−アリール
スルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂（ａｌｌ
ｙｌ））及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−
Ｓｉ（Ｏａｌｋｙｌ）₃）、アリーロキシシリル基（−
Ｓｉ（Ｏａｌｌｙｌ）₃）、ヒドロキシシリル基（−Ｓ
ｉ（ＯＨ）₃）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−Ｐ
Ｏ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以下、ホスホナト基と称
す）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙ
ｌ）₂）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｒｙｌ）
₂）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ₃（ａｌｋｙ
ｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ
₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アル
キルホスホナト基と称す）、モノアリールホスホノ基
（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基基（以
後、アリールホスホナト基と称す）、ホスホノオキシ基
（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以後、ホスホナ
トオキシ基と称す）、ジアルキルホスホノオキシ基（−
ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）₂）、ジアリールホスホノオキシ
基（−ＯＰＯ₃（ａｒｙｌ）₂）、アルキルアリールホス
ホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙ
ｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ
（ａｌｋｙｌ））及びその共役塩基基（以後、アルキル
ホスホナトオキシ基と称す）、モノアリールホスホノオ
キシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））及びその共役塩基
基（以後、アリールホスホナトオキシ基と称す）、シア
ノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基があげられる。

【００１８】これらの置換基における、アルキル基の具
体例としては、前述のアルキル基があげられ、アリール
基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル
基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェ
ノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロ
キシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオ
フェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノ
フェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフ
ェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカ
ルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル
基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル
基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェ
ニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、
ホスホナトフェニル基などをあげることができる。ま
た、アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペ
ニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−
１−エテニル基、等があげられ、アルキニル基の例とし
ては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル
基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基
等があげられる。

【００１９】上述のアシル基（Ｒ⁴ＣＯ−）としては、
Ｒ⁴が水素原子及び上記のアルキル基、アリール基、ア
ルケニル基、アルキニル基をあげることができる。一
方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述
の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のい
ずれか１つを除し、２価の有機残基としたものをあげる
ことができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直
鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素
原子数５から１０までの環状のアルキレン基をあげるこ
とができる。好ましい置換アルキル基の具体例として
は、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチ
ル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メト
キシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノ
キシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル
基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル
基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、
ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバ
モイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキ
シエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベン
ゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オ
キソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカル
ボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルブチル基、エトキシカルボニルメチル基、
ブトキシカルボニルメチル基、アリルオキシカルボニル
メチル基、ベンジルオキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルフェニルメチル基、トリクロロメチルカル
ボニルメチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、ク
ロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチ
ル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニ
ル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホ
フェニル）カルバモイルメチル基、スルホプロピル基、
スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイル
ブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ
−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルス
ルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノ
フェニル）スルファモイルオクチル基、

【００２０】

【化３】

【００２１】ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル
基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプ
ロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナト
ブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナ
トヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナト
オキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ
−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プ
ロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル
基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル
基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等をあげること
ができる。

【００２２】アリール基としては１個から３個のベンゼ
ン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和
環が縮合環を形成したものをあげることができ、具体例
としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フ
ェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フ
ルオレニル基、をあげることができ、これらのなかで
は、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。

【００２３】置換アリール基は、置換基がアリール基に
結合したものであり、前述のアリール基の環形成炭素原
子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を
有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては
前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置
換アルキル基における置換基として示したものをあげる
ことができる。これらの、置換アリール基の好ましい具
体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル
基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル
基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、
メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニ
ルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチル
アミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオ
キシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェ
ニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフ
ェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カ
ルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、
アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシ
カルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−
メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカ
ルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カル
バモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニ
ル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スル
ホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エ
チルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルス
ルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフ
ェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スル
ファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナ
トフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニ
ルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メ
チルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル
基、トリルホスホナトフェニル基、アリル基、１−プロ
ペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフ
ェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロ
ピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチ
ニルフェニル基、等をあげることができる。

【００２４】アルケニル基としては、上述のものを挙げ
ることができる。置換アルケニル基は、置換基がアルケ
ニル基の水素原子と置き換わり結合したものであり、こ
の置換基としては、上述の置換アルキル基における置換
基が用いられ、一方アルケニル基は上述のアルケニル基
を用いることができる。好ましい置換アルケニル基の例
としては

【００２５】

【化４】

【００２６】等をあげることができる。アルキニル基と
しては、上述のものを挙げることができる。置換アルキ
ニル基は、置換基がアルキニル基の水素原子と置き換わ
り、結合したものであり、この置換基としては、上述の
置換アルキル基における置換基が用いられ、一方アルキ
ニル基は上述のアルキニル基を用いることができる。

【００２７】ヘテロ環基とは、ヘテロ環上の水素を１つ
除した一価の基及びこの一価の基からさらに水素を１つ
除し、上述の置換アルキル基における置換基が結合して
できた一価の基（置換ヘテロ環基）である。好ましいヘ
テロ環の例としては、

【００２８】

【化５】

【００２９】

【化６】

【００３０】等をあげることができる。

【００３１】置換オキシ基（Ｒ⁵Ｏ−）としては、Ｒ⁵が
水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いること
ができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキシ
基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリ
ールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバ
モイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキ
シ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホ
スホノオキシ基、ホスホナトオキシ基をあげる事ができ
る。これらにおけるアルキル基、ならびにアリール基と
しては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに、ア
リール基、置換アリール基として示したものをあげる事
ができる。また、アシルオキシ基におけるアシル基（Ｒ
⁶ＣＯ−）としては、Ｒ⁶が、前述のアルキル基、置換ア
ルキル基、アリール基ならびに置換アリール基のものを
あげることができる。これらの置換基の中では、アルコ
キシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリールス
ルホキシ基、がより好ましい。好ましい置換オキシ基の
具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオ
キシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペン
チルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、
ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ
基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエ
チルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メ
トキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエ
トキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モル
ホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリ
ロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキ
シ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニル
オキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニ
ルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニル
オキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナ
フチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスホ
ノオキシ基、ホスホナトオキシ等が挙げられる。

【００３２】置換チオ基（Ｒ⁷Ｓ−）としてはＲ⁷が水素
を除く一価の非金属原子団のものを使用できる。好まし
い置換チオ基の例としては、アルキルチオ基、アリール
チオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アシル
チオ基をあげることができる。これらにおけるアルキル
基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキ
ル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示し
たものをあげることができ、アシルチオ基におけるアシ
ル基（Ｒ⁶ＣＯ−）のＲ⁶は前述のとおりである。これら
の中ではアルキルチオ基、ならびにアリールチオ基がよ
り好ましい。好ましい置換チオ基の具体例としては、メ
チルチオ基、エチルチオ基、フェニルチオ基、エトキシ
エチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、メトキシカル
ボニルチオ基等があげられる。

【００３３】置換アミノ基（Ｒ⁸ＮＨ−，（Ｒ⁹）
（Ｒ¹⁰）Ｎ−）としては、Ｒ⁸，Ｒ⁹，Ｒ¹⁰が水素を除く
一価の非金属原子団のものを使用できる。置換アミノ基
の好ましい例としては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ
−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ
−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールア
ミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ
基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−
アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド
基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリー
ルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイ
ド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド
基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−
アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアル
キル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウ
レイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレ
イド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイ
ド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキル
ウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−ア
リールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ア
リーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−ア
ルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリ
ーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アル
コキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリー
ロキシカルボニルアミノ基があげられる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものをあげることができ、アシルアミノ
基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシル
アミノ基におけるアシル基（Ｒ⁶ＣＯ−）のＲ⁶は前述の
とおりである。これらの内、より好ましいものとして
は、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ
基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基、があげら
れる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチル
アミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホ
リノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ
基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等があげら
れる。

【００３４】置換カルボニル基（Ｒ¹¹−ＣＯ−）として
は、Ｒ¹¹が一価の非金属原子団のものを使用できる。置
換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、ア
シル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ア
リーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキ
ルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル
基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基があげられる。これらにおけるアルキル基、アリ
ール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、な
らびにアリール基、置換アリール基として示したものを
あげることができる。これらの内、より好ましい置換カ
ルボニル基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、があげられ、更により好ましいものと
しては、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル
基ならびにアリーロキシカルボニル基があげられる。好
ましい置換カルボニル基の具体例としては、ホルミル
基、アセチル基、ベンゾイル基、カルボキシル基、メト
キシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、Ｎ−メ
チルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、モルホリノカルボニ
ル基等があげられる。

【００３５】置換スルフィニル基（Ｒ¹²−ＳＯ−）とし
てはＲ¹²が一価の非金属原子団のものを使用できる。好
ましい例としては、アルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルス
ルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイ
ル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリー
ルスルフィナモイル基があげられる。これらにおけるア
ルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換
アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基とし
て示したものをあげることができる。これらの内、より
好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリール
スルフィニル基、があげられる。このような置換スルフ
ィニル基の具体例としては、へキシルスルフィニル基、
ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等があ
げられる。

【００３６】置換スルホニル基（Ｒ¹³−ＳＯ₂−）とし
ては、Ｒ¹³が一価の非金属原子団のものを使用できる。
より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基をあげることができる。これらにおけ
るアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、
置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基
として示したものをあげることができる。このような、
置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル
基、クロロフェニルスルホニル基等があげられる。

【００３７】スルホナト基（−ＳＯ₃ ^-）は前述のとお
り、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意
味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが好まし
い。このような対陽イオンとしては、一般に知られるも
の、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、ス
ルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジ
ニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃ
ａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）があげられる。

【００３８】カルボキシラート基（−ＣＯ₂ ^-）は前述の
とおり、カルボキシル基（ＣＯ₂Ｈ）の共役塩基陰イオ
ン基を意味し、通常は対陽イオンと共に使用されるのが
好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知ら
れるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム
類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類、アジニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎ
ａ⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）があげられる。

【００３９】置換ホスホノ基とはホスホノ基上の水酸基
の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換さ
れたものを意味し、好ましい例としては、前述のジアル
キルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリ
ールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリー
ルホスホノ基があげられる。これらの中ではジアルキル
ホスホノ基、ならびにジアリールホスホノ基がより好ま
しい。このような具体例としては、ジエチルホスホノ
基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基等があ
げられる。

【００４０】ホスホナト基（−ＰＯ₃ ^2-、−ＰＯ₃Ｈ^-）
とは前述のとおり、ホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ₂）の、酸第
一解離もしくは、酸第二解離に由来する共役塩基陰イオ
ン基を意味する。通常は対陽イオンと共に使用されるの
が好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知
られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウ
ム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム
類：アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ
⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）があげられる。

【００４１】置換ホスホナト基とは前述の置換ホスホノ
基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共
役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノ
アルキルホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｌｋｙｌ））、モ
ノアリールホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（ａｒｙｌ））の共
役塩基をあげることができる。通常は対陽イオンと共に
使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとして
は、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類
（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、
ヨードニウム類、アジニウム類、等）、ならびに金属イ
オン類（Ｎａ⁺、Ｋ⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｎ²⁺等）があげられ
る。

【００４２】次に、Ｘ¹とＸ²、Ｒ^aとＲ^b、又はＸ¹とＲ^a
あるいはＲ^bとが互いに結合して形成する環状構造の例
を示す。Ｘ¹とＸ²、Ｒ^aとＲ^b、又はＸ¹とＲ^aあるいはＲ
^bとが互いに結合して形成する脂肪族環としては、５員
環、６員環、７員環及び８員環の脂肪族環をあげること
ができ、より好ましくは、５員環、６員環の脂肪族環を
あげることができる。これらは更に、これらを構成する
炭素原子上に置換基を有していても良く（置換基の例と
しては、前述の置換アルキル基上の置換基をあげること
ができる）、また、環構成炭素の一部が、ヘテロ原子
（酸素原子、硫黄原子、窒素原子等）で置換されていて
も良い。また更に、この脂肪族環の一部が芳香族環の一
部を形成していても良い。次に、一般式（I）で表され
る構造を有する化合物の具体例を示す。

【００４３】

【表１】

【００４４】

【表２】

【００４５】

【表３】

【００４６】

【表４】

【００４７】

【表５】

【００４８】

【表６】

【００４９】

【表７】

【００５０】

【表８】

【００５１】本発明の化合物としては、最も好ましくは
分子内に一般式（Ｉ）で示される構造を２個以上有する
多官能型（２官能以上と高分子型）のもの或いは、分子
内に一般式（Ｉ）で示される構造と他のラジカル重合性
の基を併せ持つ、実質光重合において多官能の寄与をす
るものである。本発明の光重合性組成物では、付加重合
可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物として上記
の一般式（Ｉ）で示される構造を有する化合物単独及び
それらの２種以上の混合物、或いは以下に述べる従来公
知の付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合
物との混合物が使用される。従来公知の付加重合可能な
エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、例え
ば、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、上記不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物と
のアミド等があげられる。

【００５２】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、へキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオ
キシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。

【００５３】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、へキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（アクリルオキシエトキシ）
フェニル〕ジメチルメタン等がある。イタコン酸エステ
ルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロ
ピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオ
ールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコ
ネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペ
ンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテト
ライタコネート等がある。

【００５４】クロトン酸エステルとしては、エチレング
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロ
トン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソク
ロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネー卜等がある。マ
レイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレ
ート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリ
スリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等
がある。さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあ
げることができる。また、脂肪族多価アミン化合物と不
飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例として
は、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メ
タクリルアミド、１，６−へキサメチレンビス−アクリ
ルアミド、１，６−へキサメチレンビス−メタクリルア
ミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キ
シリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリ
ルアミド等がある。

【００５５】その他の例としては、特公昭４８−４１７
０８号公報中に記載されている１分子に２個以上のイソ
シアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下
記の一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニルモ
ノマーを付加した１分子中に２個以上の重合性ビニル基
を含有するビニルウレタン化合物等があげられる。 ＣＨ₂＝Ｃ（Ｒ）ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｒ′）ＯＨ （Ａ） （ただし、ＲおよびＲ′はＨまたはＣＨ₃を示す。）

【００５６】また、特開昭５１−３７１９３号に記載さ
れているようなウレタンアクリレー卜類、特開昭４８−
６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２
−３０４９０号公報に記載されているようなポリエステ
ルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸
を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアク
リレートやメタクリレートをあげることができる。さら
に日本接着協会誌vol.２０、No．７、３００〜３０８ぺ
ージ（１９８４年）に光硬化性モノマー及びオリゴマー
として紹介されているものも使用することができる。本
発明において、これらのモノマーはプレポリマー、すな
わち２量体、３量体およびオリゴマー、またはそれらの
混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態で使
用しうる。

【００５７】一般式（Ｉ）で示される構造を有する化合
物を含む、全ての重合性基含有化合物の使用量は光重合
性組成物の全成分の重量に対して、通常５〜９５％、好
ましくは１０〜９０％、更に好ましくは３０〜８０％の
量が使される。（ここで言う％は重量％である）。但
し、全ての重合性基含有化合物中に含有される本発明の
一般式（Ｉ）の化合物の含有量は、５〜１００重量％、
好ましくは１０〜１００重量％、更に好ましくは、５０
〜１００重量％であり、この量が５重量％以上におい
て、本発明の効果がより良好に発揮できる。

【００５８】次に本発明の光重合性組成物に使用される
光重合開始剤について説明する。好ましい光重合開始剤
としては（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）芳香族オニウム
塩化合物、（ｃ）有機過酸化物、（ｄ）チオ化合物、
（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｆ）ケ
トオキシムエステル化合物、（ｇ）ボレート化合物、
（ｈ）アジニウム化合物、（ｉ）メタロセン化合物、
（ｊ）活性エステル化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を
有する化合物等が挙げられる。

【００５９】（ａ）芳香族ケトン類の好ましい例として
は、「RADIATION CURING IN POLYMERSCIENCE AND TECHN
OLOGY」J.P.FOUASSIER J.F.RABEK (1993)、p77〜117記
載のベンゾフェノン骨格或いはチオキサントン骨格を有
する化合物、より好ましい（ａ）芳香族ケトン類の例と
しては、特公昭４７−６４１６記載のα−チオベンゾフ
ェノン化合物、特公昭４７−３９８１記載のベンゾイン
エーテル化合物、特公昭４７−２２３２６記載のα−置
換ベンゾイン化合物、特公昭４７−２３６６４記載のベ
ンゾイン誘導体、特開昭５７−３０７０４記載のアロイ
ルホスホン酸エステル、特公昭６０−２６４８３記載の
ジアルコキシベンゾフェノン、特公昭６０−２６４０
３、特開昭６２−８１３４５記載のベンゾインエーテル
類、特公平１−３４２４２、米国特許第４，３１８，７
９１号、ヨーロッパ特許０２８４５６１Ａ１号記載のα
−アミノベンゾフェノン類、特開平２−２１１４５２記
載のｐ−ジ（ジメチルアミノベンゾイル）ベンゼン、特
開昭６１−１９４０６２記載のチオ置換芳香族ケトン、
特公平２−９５９７記載のアシルホスフィンスルフィ
ド、特公平２−９５９６記載のアシルホスフィン、特公
昭６３−６１９５０記載のチオキサントン類、特公昭５
９−４２８６４記載のクマリン類等を挙げることができ
る。

【００６０】また、別の例である（ｂ）芳香族オニウム
塩としては、周期律表の第Ｖ、VIおよびVII族の元素、
具体的にはＮ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、
Ｔｅ、またはＩの芳香族オニウム塩が含まれる。このよ
うな芳香族オニウム塩の例としては、特公昭５２−１４
２７７号、特公昭５２−１４２７８号、特公昭５２−１
４２７９号に示されている化合物を挙げることができ
る。

【００６１】本発明に使用できる光重合開始剤の他の例
である（ｃ）「有機過酸化物」としては分子中に酸素−
酸素結合を１個以上有する有機化合物のほとんど全てが
含まれるが、その例としては、メチルエチルケトンパー
オキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、３，
３，５−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、
メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセ
トンパーオキサイド、１，１−ビス（ターシャリイブチ
ルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサ
ン、１，１−ビス（ターシャリイブチルパーオキシ）シ
クロヘキサン、２，２−ビス（ターシャリイブチルパー
オキシ）ブタン、ターシャリイブチルハイドロパーオキ
サイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピ
ルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメタンハイド
ロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキサン−２，５
−ジハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラ
メチルブチルハイドロパーオキサイド、ジターシャリイ
ブチルパーオキサイド、ターシャリイブチルクミルパー
オキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス（ターシャ
リイブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、２，５
−ジメチル−２，５−ジ（ターシャリイブチルパーオキ
シ）ヘキサン、２，５−キサノイルパーオキサイド、過
酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、２，４−ジクロロベ
ンゾイルパーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサ
イド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−
２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２
−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキ
シイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ（３−メチ
ル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネート、
ターシャリイブチルパーオキシアセテート、ターシャリ
イブチルパーオキシピバレート、ターシャリイブチルパ
ーオキシネオデカノエート、ターシャリイブチルパーオ
キシオクタノエート、ターシャリイブチルパーオキシ−
３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ターシャリイ
ブチルパーオキシラウレート、ターシャリーカーボネー
ト、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ブチルパーオキ
シカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′−テ
トラ−（ｔ−アミルパーオキシカルボニル）ベンゾフェ
ノン、３，３′４，４′−テトラ−（ｔ−ヘキシルパー
オキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′
−テトラ−（ｔ−オクチルパーオキシカルボニル）ベン
ゾフェノン、３，３′４，４′−テトラ−（クミルパー
オキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３′４，４′
−テトラ−（ｐ−イソプロピルクミルパーオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノン、カルボニルジ（ｔ−ブチルパー
オキシ二水素二フタレート）、カルボニルジ（ｔ−ヘキ
シルパーオキシ二水素二フタレート）等がある。これら
の中で、過酸化エステル系が好ましい。

【００６２】本発明で使用できる光重合開始剤としての
（ｄ）チオ化合物は、下記一般式[II]で示される。

【００６３】

【化７】

【００６４】（ここで、Ｒ²⁰はアルキル基、アリール基
または置換アリール基を示し、Ｒ²¹は水素原子またはア
ルキル基を示す。また、Ｒ²⁰とＲ²¹は、互いに結合して
酸素、硫黄および窒素原子から選ばれたヘテロ原子を含
んでもよい５員ないし７員環を形成するのに必要な非金
属原子群を示す。） 上記一般式[II]におけるアルキル基としては炭素原子数
１〜４個のものが好ましい。またアリール基としてはフ
ェニル、ナフチルのような炭素原子数６〜１０個のもの
が好ましく、置換アリール基としては、上記のようなア
リール基に塩素原子のようなハロゲン原子、メチル基の
ようなアルキル基、メトシキ基、エトキシ基のようなア
ルコキシ基で置換されたものが含まれる。Ｒ²¹は、好ま
しくは炭素原子数１〜４個のアルキル基である。

【００６５】本発明に使用できる光重合開始剤の他の例
である（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾールとしては、
特公昭４５−３７３７７号、特公昭４４−８６５１６号
記載のロフィンダイマー類等が挙げられる。

【００６６】本発明に使用できる光重合開始剤の他の例
である（ｆ）ケトオキシムエステルとしては３−ベンゾ
イロキシイミノブタン−２−オン、３−アセトキシイミ
ノブタン−２−オン、３−プロピオニルオキシイミノブ
タン−２−オン、２−アセトキシイミノペンタン−３−
オン、２−アセトキシイミノ−１−フェニルプロパン−
１−オン、２−ベンゾイロキシイミノ−１−フェニルプ
ロパン−１−オン、３−ｐ−トルエンスルホニルオキシ
イミノブタン−２−オン、２−エトキシカルボニルオキ
シイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン等が挙げら
れる。本発明に使用できる光重合開始剤の他の例である
（ｇ）ボレート塩の例としては下記一般式[III] で表わ
される化合物をあげる事ができる。

【００６７】

【化８】

【００６８】（ここで、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴およびＲ²⁵は
互いに同一でも異なっていてもよく、各々置換もしくは
非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール
基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは
非置換のアルキニル基、又は置換もしくは非置換の複素
環基を示し、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴およびＲ²⁵はその２個以
上の基が結合して環状構造を形成してもよい。ただし、
Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴およびＲ²⁵のうち、少なくとも１つは
置換もしくは非置換のアルキル基である。Ｚ⁺はアルカ
リ金属カチオンまたは第４級アンモニウムカチオンを示
す）。上記Ｒ²²〜Ｒ²⁵のアルキル基としては、直鎖、分
枝、環状のものが含まれ、炭素原子数１〜１８のものが
好ましい。具体的にはメチル、エチル、プロピル、イソ
プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ス
テアリル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シルなどが含まれる。また置換アルキル基としては、上
記のようなアルキル基に、ハロゲン原子（例えば−Ｃ
ｌ、−Ｂｒなど）、シアノ基、ニトロ基、アリール基
（好ましくはフェニル基）、ヒドロキシ基、

【００６９】

【化９】

【００７０】（ここでＲ²⁶、Ｒ²⁷は独立して水素原子、
炭素数１〜１４のアルキル基、又はアリール基を示
す。）、−ＣＯＯＲ²⁸（ここでＲ²⁸は水素原子、炭素数
１〜１４のアルキル基、又はアリール基を示す。）、−
ＯＣＯＲ²⁹又は−ＯＲ³⁰（ここでＲ²⁹、Ｒ³⁰は炭素数１
〜１４のアルキル基、又はアリール基を示す。）を置換
基として有するものが含まれる。上記Ｒ²²〜Ｒ²⁵のアリ
ール基としては、フェニル基、ナフチル基などの１〜３
環のアリール基が含まれ、置換アリール基としては、上
記のようなアリール基に前述の置換アルキル基の置換基
又は、炭素数１〜１４のアルキル基を有するものが含ま
れる。上記Ｒ²²〜Ｒ²⁵のアルケニル基としては、炭素数
２〜１８の直鎖、分枝、環状のものが含まれ。置換アル
ケニル基の置換基としては、前記の置換アルキル基の置
換基として挙げたものが含まれる。上記Ｒ²²〜Ｒ²⁵のア
ルキニル基としては、炭素数２〜２８の直鎖又は分枝の
ものが含まれ、置換アルキニル基の置換基としては、前
記置換アルキル基の置換基として挙げたものが含まれ
る。また、上記Ｒ²²〜Ｒ²⁵の複素環基としてはＮ、Ｓお
よびＯの少なくとも１つを含む５員環以上、好ましくは
５〜７員環の複素環基が挙げられ、この複素環基には縮
合環が含まれていてもよい。更に置換基として前述の置
換アリール基の置換基として挙げたものを有していても
よい。一般式[III] で示される化合物例としては具体的
には米国特許３，５６７，４５３号、同４，３４３，８
９１号、ヨーロッパ特許１０９，７７２号、同１０９，
７７３号に記載されている化合物等が挙げられる。

【００７１】本発明に使用できる光重合開始剤の他の例
である（ｈ）アジニウム塩化合物の例としては、特開昭
６３−１３８３４５号、特開昭６３−１４２３４５号、
特開昭６３−１４２３４６号、特開昭６３−１４３５３
７号ならびに特公昭４６−４２３６３号記載のＮ−Ｏ結
合を有する化合物群をあげることができる。

【００７２】光重合開始剤の他の例である（ｉ）メタロ
セン化合物の例としては、特開昭５９−１５２３９６
号、特開昭６１−１５１１９７号、特開昭６３−４１４
８４号、特開平２−２４９号、特開平２−４７０５号記
載のチタノセン化合物ならびに、特開平１−３０４４５
３号、特開平１−１５２１０９号記載の鉄−アレーン錯
体をあげることができる。

【００７３】上記チタノセン化合物の具体例としては、
ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ
−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−
シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，
６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフル
オロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔ
ｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イ
ル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−２，６−ジフル
オロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔ
ｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−
メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，
４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−メ
チルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，
６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシク
ロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフ
ェニ−１−イル、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス
（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニ
ル）チタニウム、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（メチルスルホンアミド）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチルビアロイル−
アミノ）フェニル〕チタン、

【００７４】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルアセチルアミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−メチルアセチルアミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルプロピオ
ニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチル
−（２，２−ジメチルブタノイル）アミノ）フェニル〕
チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−
ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（２，２−ジメチルブ
タノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペ
ンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−
ペンチル−（２，２−ジメチルブタノイル）アミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル）−（２，
２−ジメチルブタノイル）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−メチルブチリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−メチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタ
ン、

【００７５】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルシクロヘキシルカル
ボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチ
ルイソブチリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シク
ロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−エチルアセチルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（２，２，５，５−テトラメチル−１，２，５−ア
ザジシロリジニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（オクチルスルホンアミド）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（４−トリルスルホンアミド）フェニル〕チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（４−ドデシルフェニルスルホニルアミ
ド）フェニル〕チタン、

【００７６】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（４−（１−ペンチルヘプチル）
フェニルスルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（エチルスルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（（４−ブロモフェニル）−スルホニルアミド）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（２−ナフチルスルホニル
アミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ヘキサデシルス
ルホニルアミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−メ
チル−（４−ドデシルフェニル）スルホニルアミド）フ
ェニル〕チタン、

【００７７】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−メチル−４−（１−ペンチ
ルヘプチル）フェニル）スルホニルアミド）〕チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４−トリル）−スルホニル
アミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ピロリジン−
２，５−ジオニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（３，４−ジメチル−３−ピロリジン−２，５−ジ
オニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（フタル
イミド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−イソブトキシカル
ボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（エトキシ
カルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペ
ンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（（２
−クロロエトキシ）−カルボニルアミノ）フェニル〕チ
タン、

【００７８】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（フェノキシカルボニルアミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（３−フェニルチオウレイ
ド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−ブチルチオウレ
イド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−フェニルウ
レイド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−ブチルウレ
イド）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ，Ｎ−ジアセ
チルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３，３−ジ
メチルウレイド）フェニル〕チタン、

【００７９】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（アセチルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（ブチリルアミノ）フェニル〕チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（デカノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（オクタデカノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（イソブチリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（２−エチルヘキサノイルアミノ）フェニル〕チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（２−メチルブタノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（ピバロイルアミノ）フェニル〕
チタン、

【００８０】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（２，２−ジメチルブタノイルア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２−エチル−２
−メチルヘプタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（シクロヘキシルカルボニルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパ
ノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３−フェ
ニルプロパノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（２−クロロメチル−２−メチル−３−クロロプロパノ
イルアミノ）フェニル〕チタン、

【００８１】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（３，４−キシロイルアミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（４−エチルベンゾイルア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，４，６−メ
シチルカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロ
ペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ
−（３−フェニルプロピル）ベンゾイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−エチルヘプチル）−
２，２−ジメチルペンタノイルアミノ〕フェニルチタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−（４−トルイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチルベン
ゾイルアミノ）フェニル〕チタン、

【００８２】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチルピバ
ロイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（オ
クソラニ−２−イルメチル）ベンゾイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−エチルヘプチル）−
２，２−ジメチルブタノイルアミノ）フェニル〕チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロピル−（４−ト
ルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−
（オクソラニ−２−イルメチル）−（４−トルイル）ア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−トル
イルメチル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、

【００８３】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−トルイルメチル）−
（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−ブチルベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（Ｎ−ブチル−（４−トルイル）アミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４−トルイ
ル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２，
４−ジメチルペンチル）−２，２−ジメチルブタノイル
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，４−ジメチ
ルペンチル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）
フェニル〕チタン、

【００８４】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（（４−トルイル）アミノ）フェ
ニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（２，２−ジメチルペンタ
ノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（２，２−
ジメチル−３−エトキシプロパノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（２，２−ジメチル−３−アリル
オキシプロパノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−アリルアセチルアミノ）フェニル〕チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（２−エチルブタノイルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチルベンゾイル
アミノ）フェニル〕チタン、

【００８５】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチル−
（４−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−（２−エチルヘキシル）ベンゾイルアミノ）フェ
ニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソプロピルベンゾ
イルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−
フェニルプロピル）−２，２−ジメチルペンタノイル）
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシルベ
ンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シ
クロヘキシルメチル−２，２−ジメチルペンタノイル）
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチルベン
ゾイルアミノ）フェニル〕チタン、

【００８６】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−エチルヘキシル）−
２，２−ジメチルペンタノイル）アミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−２，２−ジメチルペン
タノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イ
ソプロピル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロ
ピル）ピバロイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−ブチル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−メトキシエチ
ル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、

【００８７】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベンジルベンゾイルアミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベンジル−（４
−トルイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロ
ペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ
−（２−メトキシエチル）−（４−トルイル）アミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−メチルフェニ
ルメチル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−メトキシエチ
ル）−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチル−
（２−エチル−２−メチルヘプタノイル）アミノ）フェ
ニル〕チタン、

【００８８】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−クロロベン
ゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘ
キシル−（２−エチル−２−メチルブタノイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシル
−２，２−ジメチルペンタノイル）アミノ）フェニル〕
チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−
ジフルオロ−３−（Ｎ−（オクソラニ−２−イルメチ
ル）−２，２−ジメチルペンタノイル）アミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシル−（４−ク
ロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シ
クロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−シクロヘキシル−（２−クロロベンゾイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（３，３−ジメチル−
２−アゼチジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、

【００８９】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−イソシアナトフェニル）チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（Ｎ−エチル−（４−トリルスルホニル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４
−トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−ブチル−（４−トリルスルホニル）アミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−（４−
トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−ブチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプ
ロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、

【００９０】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３−フェニルプロパノイ
ル）−２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）ア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキ
シルメチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノ
イル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソ
ブチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイ
ル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（２−
クロロメチル−２−メチル−３−クロロプロパノイル）
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（ブチルチオカル
ボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（フェニル
チオカルボニルアミノ）フェニル〕チタン、

【００９１】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−イソシアナトフェニル）チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（Ｎ−エチル−（４−トリルスルホニル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（４
−トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−ブチル−（４−トリルスルホニル）アミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−（４−
トリルスルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（Ｎ−ブチル−（２，２−ジメチル−３−クロロプ
ロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロ
ペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ
−（３−フェニルプロパノイル）−２，２−ジメチル−
３−クロロプロパノイル）アミノ）フェニル〕チタン、

【００９２】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルメチル−
（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソブチル−
（２，２−ジメチル−３−クロロプロパノイル）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（２−クロロメチ
ル−２−メチル−３−クロロプロパノイル）アミノ）フ
ェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（ブチルチオカルボニルア
ミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（フェニルチオカ
ルボニルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（メチルシク
ロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−
（Ｎ−ヘキシル−２，２−ジメチルブタノイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、

【００９３】ビス（メチルシクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−２，２−
ジメチルペンタノイルアミノ）フェニル〕チタン、ビス
（メチルシクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフル
オロ−３−（Ｎ−エチルアセチルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（メチルシクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−エチルプロピオニルアミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（トリメチルシリルペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチ
ル−２，２−ジメチルプロパノイルアミノ）フェニル〕
チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−
ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−メトキシエチル）−トリ
メチルシリルアミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロ
ペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ
−ブチルヘキシルジメチルシリルアミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（Ｎ−エチル−（１，１，２，−トリメ
チルプロピル）ジメチルシリルアミノ）フェニル〕チタ
ン、

【００９４】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（３−エトキシメチル−３−メチ
ル−２−アゼチオジノニ−１−イル）フェニル〕チタ
ン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフ
ルオロ−３−（３−アリルオキシメチル−３−メチル−
２−アゼチジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス
（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−
３−（３−クロロメチル−３−メチル−２−アゼチジノ
ニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベン
ジル−２，２−ジメチルプロパノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（５，５−ジメチル−２−ピロリ
ジノニ−１−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペ
ンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（６，
６−ジフェニル−２−ピペリジノニ−１−イル）フェニ
ル〕チタン、

【００９５】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２，３−ジヒドロ−１，
２−ベンジソチアゾロ−３−オン（１，１−ジオキシ
ド）−２−イル）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘ
キシル−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕
チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−
ジフルオロ−３−（Ｎ−ヘキシル−（２−クロロベンゾ
イル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタ
ジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−イソ
プロピル−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（４−メチルフェニルメチ
ル）−（４−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チ
タン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジ
フルオロ−３−（Ｎ−（４−メチルフェニルメチル）−
（２−クロロベンゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、

【００９６】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ブチル−（４−クロロベン
ゾイル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペン
タジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−ベ
ンジル−２，２−ジメチルペンタノイルアミノ）フェニ
ル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（２−エチルヘキシル）−
４−トリル−スルホニル）アミノ）フェニル〕チタン、
ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオ
ロ−３−（Ｎ−（３−オキサヘプチル）ベンゾイルアミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，６−ジオ
キサデシル）ベンゾイルアミノ）フェニル〕チタン、ビ
ス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，６−ジフルオロ
−３−（トリフルオロメチルスルホニル）アミノ）フェ
ニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（トリフルオロアセチルア
ミノ）フェニル〕チタン、

【００９７】ビス（シクロペンタジエニル）ビス〔２，
６−ジフルオロ−３−（２−クロロベンゾイル）アミ
ノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）
ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（４−クロロベンゾイ
ル）アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジ
エニル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，
６−ジオキサデシル）−２，２−ジメチルペンタノイル
アミノ）フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニ
ル）ビス〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−（３，７−
ジメチル−７−メトキシオクチル）ベンゾイルアミノ）
フェニル〕チタン、ビス（シクロペンタジエニル）ビス
〔２，６−ジフルオロ−３−（Ｎ−シクロヘキシルベン
ゾイルアミノ）フェニル〕チタン、等を挙げることがで
きる。

【００９８】光重合開始剤の他の例である（ｊ）活性エ
ステル化合物の例としては特公昭６２−６２２３記載の
イミドスルホネート化合物、特公昭６３−１４３４０
号、特開昭５９−１７４８３１号記載の活性スルホネー
ト類をあげることができる。

【００９９】光重合開始剤の一例である（ｋ）炭素ハロ
ゲン結合を有する化合物の好ましい例としては、下記一
般式[IV]から[X] のものを挙げることができる。

【０１００】

【化１０】

【０１０１】（式中、Ｘ²はハロゲン原子を表わす。Ｙ²
は−Ｃ（Ｘ²）₃、−ＮＨ₂、−ＮＨＲ^{3 2}、−ＮＲ³²、−
ＯＲ³²を表わす。ここでＲ³²はアルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基、置換アリール基を表わす。またＲ³¹
は−Ｃ（Ｘ²）₃、アルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、置換アルケニル基、を表わ
す。）で表わされる化合物。

【０１０２】

【化１１】

【０１０３】（ただし、Ｒ³³は、アルキル基、置換アル
キル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール
基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置
換アルコキシル基、ニトロ基又はシアノ基であり、Ｘ³
はハロゲン原子であり、ｎは１〜３の整数である。）で
表わされる化合物。

【０１０４】

【化１２】

【０１０５】（ただし、Ｒ³⁴は、アリール基又は置換ア
リール基であり、Ｒ³⁵は

【０１０６】

【化１３】

【０１０７】又はハロゲンであり、Ｚ²は−Ｃ（＝Ｏ）
−、−Ｃ（＝Ｓ）−又は−ＳＯ₂−であり、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷
はアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換ア
ルケニル基、アリール基又は置換アリール基であり、Ｒ
³⁸は一般式[IV] 中のＲ³²と同じであり、Ｘ³はハロゲン
原子であり、ｍは１又は２である。）で表わされる化合
物。

【０１０８】

【化１４】

【０１０９】ただし、式中、Ｒ³⁹は置換されていてもよ
いアリール基又は複素環式基であり、Ｒ⁴⁰は炭素原子１
〜３個を有するトリハロアルキル基又はトリハロアルケ
ニル基であり、ｐは１、２又は３である。

【０１１０】

【化１５】

【０１１１】（ただし、Ｌは水素原子又は式：ＣＯ−
（Ｒ⁴¹）q（Ｃ（Ｘ⁴）₃）rの置換基であり、Ｑはイオ
ウ、セレン又は酸素原子、ジアルキルメチレン基、アル
ケン−１，２−イレン基、１，２−フェニレン基又はＮ
−Ｒ基であり、Ｍは置換又は非置換のアルキレン基又は
アルケニレン基であるか、又は１，２−アリーレン基で
あり、Ｒ⁴²はアルキル基、アラルキル基又はアルコキシ
アルキル基であり、Ｒ⁴¹は炭素環式又は複素環式の２価
の芳香族基であり、Ｘ⁴は塩素、臭素またはヨウ素原子
であり、ｑ＝０及びｒ＝１であるか又はｑ＝１及びｒ＝
１又は２である。）で表わされる、トリハロゲノメチル
基を有するカルボニルメチレン複素環式化合物。

【０１１２】

【化１６】

【０１１３】（ただし、Ｘ⁵はハロゲン原子であり、ｔ
は１〜３の整数であり、ｓは１〜４の整数であり、Ｒ⁴³
は水素原子又はＣＨ_3-tＸ_5t基であり、Ｒ⁴⁴はｓ価の置
換されていてもよい不飽和有機基である）で表わされ
る、４−ハロゲノ−５−（ハロゲノメチル−フェニル）
−オキサゾール誘導体。

【０１１４】

【化１７】

【０１１５】（ただし、Ｘ⁶はハロゲン原子であり、ｖ
は１〜３の整数であり、ｕは１〜４の整数であり、Ｒ⁴⁵
は水素原子又はＣＨ_3-vＸ_6v基であり、Ｒ⁴⁶はｕ価の置
換されていてもよい不飽和有機基である。）で表わされ
る、２−（ハロゲノメチル−フェニル）−４−ハロゲノ
−オキサゾール誘導体。

【０１１６】このような炭素−ハロゲン結合を有する化
合物の具体例としては、たとえば、若林ら著、Bull. Ch
em. Soc. Japan，４２、２９２４（１９６９）記載の化
合物、その他、英国特許１３８８４９２号明細書記載の
化合物、特開昭５３−１３３４２８号記載の化合物、独
国特許３３３７０２４号明細書記載の化合物、等を挙げ
ることができる。また、F. C. Schaefer等によるJ. Or
g. Chem. ２９、１５２７（１９６４）記載の化合物を
挙げることができる。さらに特開昭６２−５８２４１号
記載の化合物等を挙げることができる。更に特開平５−
２８１７２８号記載の化合物等を挙げることができる。
あるいはさらにM. P. Hutt、E. F. ElslagerおよびL.
M. Herbel著「Journalof Heterocyclic chemistry」第
７巻（Ｎｏ．３）、第５１１頁以降（１９７０年）に記
載されている合成方法に準じて、当業者が容易に合成す
ることができる化合物群あるいは、ドイツ特許第２６４
１１００号に記載されているような化合物、あるいはド
イツ特許第３３３３４５０号に記載されている化合物、
あるいはドイツ特許第３０２１５９０号に記載の化合物
群、あるいはドイツ特許第３０２１５９９号に記載の化
合物群等を挙げることができる。本発明に使用できる光
重合開始剤のより好ましい例としては、波長３００ｎｍ
〜１２００ｎｍのレーザー光の作用によりラジカルを発
生する光重合開始剤が好ましい。

【０１１７】本発明に使用できる光重合開始剤のさらに
より好ましい例としては、上述の（ａ）芳香族ケトン
類、（ｂ）芳香族オニウム塩、（ｃ）有機過酸化物、
（ｅ）ヘキサアリールビイミダゾール、（ｉ）メタロセ
ン化合物、（ｋ）炭素ハロゲン結合を有する化合物をあ
げることができ、さらに最も好ましい例としては、芳香
族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、チタノセン
化合物、一般式[ＩＶ]であらわされるトリハロメチル−
Ｓ−トリアジン化合物をあげることができる。本発明に
使用できる光重合開始剤は単独もしくは２種以上の併用
によって好適に用いられる。

【０１１８】次に、本発明においては、光重合層中に増
感色素を含有していてもよく、かかる増感色素として
は、分光増感色素、光源の光を吸収して光重合開始剤と
相互作用する染料あるいは顔料があげられる。好ましい
分光増感色素または染料としては、多核芳香族類（例え
ば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン）、キサンテン
類（例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシ
ン、ローダミンＢ、ローズベンガル）、シアニン類（例
えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン）、
メロシアニン類（例えば、メロシアニン、カルボメロシ
アニン）、チアジン類（例えば、チオニン、メチレンブ
ルー、トルイジンブルー）、アクリジン類（例えば、ア
クリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビ
ン）、フタロシアニン類（例えば、フタロシアニン、メ
タルフタロシアニン）、ポルフィリン類（例えば、テト
ラフェニルポルフィリン、中心金属置換ポルフィリ
ン）、クロロフィル類（例えば、クロロフィル、クロロ
フィリン、中心金属置換クロロフィル）、金属錯体、ア
ントラキノン類、例えば（アントラキノン）、スクアリ
ウム類、例えば（スクアリウム）等が挙げられる。

【０１１９】より好ましい分光増感色素又は染料の例と
しては、特公平３７−１３０３４号記載のスチリル系色
素、特開昭６２−１４３０４４号記載の陽イオン染料、
特公昭５９−２４１４７号記載のキノキサリニウム塩、
特開昭６４−３３１０４号記載の新メチレンブルー化合
物、特開昭６４−５６７６７号記載のアントラキノン
類、特開平２−１７１４号記載のベンゾキサンテン染
料。特開平２−２２６１４８号及び特開平２−２２６１
４９号記載のアクリジン類、特公昭４０−２８４９９号
記載のピリリウム塩類、特公昭４６−４２３６３号記載
のシアニン類、特開平２−６３０５３号記載のベンゾフ
ラン色素、特開平２−８５８５８号、特開平２−２１６
１５４号の共役ケトン色素、特開昭５７−１０６０５号
記載の色素、特公平２−３０３２１号記載のアゾシンナ
ミリデン誘導体、特開平１−２８７１０５号記載のシア
ニン系色素、特開昭６２−３１８４４号、特開昭６２−
３１８４８号、特開昭６２−１４３０４３号記載のキサ
ンテン系色素、特公昭５９−２８３２５号記載のアミノ
スチリルケトン、特公昭６１−９６２１号記載のメロシ
アニン色素、特開平２−１７９６４３号記載の色素、特
開平２−２４４０５０号記載のメロシアニン色素、特公
昭５９−２８３２６号記載のメロシアニン色素、特開昭
５９−８９３０３号記載のメロシアニン色素、特願平６
−２６９０４７号記載のメロシアニン色素、特願平７−
１６４５８３号記載のベンゾピラン系色素、等を挙げる
ことができる。

【０１２０】その他、増感色素として特に以下の赤外線
吸収剤（染料或いは顔料）も好適に使用される。好まし
い前記染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４
６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２
８２９号、特開昭６０−７８７８７号公報等に記載され
ているシアニン染料、英国特許４３４，８７５号明細書
記載のシアニン染料等を挙げることができる。

【０１２１】また、米国特許第５，１５６，９３８号明
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、さら
に、米国特許第３，８８１，９２４号明細書に記載の置
換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭
５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９
号）公報に記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭
５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５
９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８
４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６
０６１号公報に記載のピリリウム系化合物、特開昭５９
−２１６１４６号公報に記載のシアニン色素、米国特許
第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチ
オピリリウム塩等や、特公平５−１３５１４号、同５−
１９７０２号公報に記載されているピリリウム化合物も
好ましく用いられる。

【０１２２】また、米国特許第４，７５６，９９３号明
細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外
吸収染料、ＥＰ９１６５１３Ａ２号明細書に記載のフタ
ロシアニン系染料も好ましい染料として挙げることがで
きる。

【０１２３】さらに、特願平１０−７９９１２号公報に
記載のアニオン性赤外線吸収剤も、好適に使用すること
ができる。アニオン性赤外線吸収剤とは、実質的に赤外
線を吸収する色素の母核にカチオン構造がなく、アニオ
ン構造を有するものを示す。例えば、（ｃ１）アニオン
性金属錯体、（ｃ２）アニオン性カーボンブラック、
（ｃ３）アニオン性フタロシアニン、さらに（ｃ４）下
記一般式６で表される化合物などが挙げられる。これら
のアニオン性赤外線吸収剤の対カチオンは、プロトンを
含む一価の陽イオン、あるいは多価の陽イオンである。

【０１２４】

【化１８】

【０１２５】ここで、（ｃ１）アニオン性金属錯体と
は、実質的に光を吸収する錯体部の中心金属および配位
子全体でアニオンとなるものを示す。

【０１２６】（ｃ２）アニオン性カーボンブラックは、
置換基としてスルホン酸、カルボン酸、ホスホン酸基等
のアニオン基が結合しているカーボンブラックが挙げら
れる。これらの基をカーボンブラックに導入するには、
カーボンブラック便覧第三版（カーボンブラック協会
編、１９９５年４月５日、カーボンブラック協会発行）
第１２頁に記載されるように、所定の酸でカーボンブラ
ックを酸化する等の手段をとればよい。

【０１２７】（ｃ３）アニオン性フタロシアニンは、フ
タロシアニン骨格に、置換基として、先に（ｃ２）の説
明において挙げたアニオン基が結合し、全体としてアニ
オンとなっているものを示す。

【０１２８】次に、前記（ｃ４）一般式６で表される化
合物について、詳細に説明する。前記一般式６中、Ｇ_a ^-
はアニオン性置換基を表し、Ｇ_bは中性の置換基を表
す。Ｘ^{m +}は、プロトンを含む１〜ｍ価のカチオンを表
し、ｍは１ないし６の整数を表す。Ｍは共役鎖を表し、
この共役鎖Ｍは置換基や環構造を有していてもよい。共
役鎖Ｍは、下記式で表すことができる。

【０１２９】

【化１９】

【０１３０】前記式中、Ｒ¹、Ｒ²，Ｒ³はそれぞれ独立
に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、
アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル
基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ
基、アミノ基を表し、これらは互いに連結して環構造を
形成していてもよい。ｎは、１〜８の整数を表す。

【０１３１】また、カチオン性赤外線吸収剤、非イオン
性赤外線吸収剤も好ましく使用できる。

【０１３２】他の染料としては、市販の染料及び例えば
「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）
等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具
体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンア
ゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタ
ロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染
料、メチン染料、ジインモニウム染料、アミニウム染
料、スクワリリウム色素、金属チオレート錯体等の染料
が挙げられる。

【０１３３】また、増感色素として、他の顔料として
は、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便
覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７
年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６
年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年
刊）に記載されている顔料が利用できる。例えば、顔料
の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素
が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレー
キ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシア
ニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリ
ノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔
料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キ
ノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニ
トロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔
料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料の
うち好ましいものはカーボンブラックである。

【０１３４】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。前記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載されている。

【０１３５】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍであ
るのが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍであるのがさら
に好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍであるのが特に好
ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満のときは、分散
物の画像記録層塗布液中での安定性の点で好ましくな
く、また、１０μｍを越えると画像記録層の均一性の点
で好ましくない。

【０１３６】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１
９８６年刊）に記載されている。

【０１３７】本発明における増感色素のさらにより好ま
しい例としては、上述の特公昭６１−９６２１号記載の
メロシアニン色素、特開平２−１７９６４３号記載のメ
ロシアニン色素、特開平２−２４４０５０号記載のメロ
シアニン色素、特公昭５９−２８３２６号記載のメロシ
アニン色素、特開昭５９−８９３０３号記載のメロシア
ニン色素、特願平６−２６９０４７号記載のメロシアニ
ン色素及び特願平７−１６４５８３号記載のベンゾピラ
ン系色素を挙げることができる。及び上述の特開平11-2
09001号記載の赤外線吸収剤を挙げることができる。本
発明における増感色素も単独もしくは２種以上の併用に
よって好適に用いられる。

【０１３８】さらに本発明の光重合性組成物には、感度
を一層向上させる、あるいは酸素による重合阻害を抑制
する等の作用を有する公知の化合物を共増感剤として加
えても良い。この様な共増感剤の例としては、アミン
類、例えばM. R. Sanderら著「Journal of Polymer Soc
iety」第１０巻３１７３頁（１９７２）、特公昭４４−
２０１８９号、特開昭５１−８２１０２号、特開昭５２
−１３４６９２号、特開昭５９−１３８２０５、特開昭
６０−８４３０５号、特開昭６２−１８５３７号、特開
昭６４−３３１０４号、Research Disclosure ３３８２
５号記載の化合物、等があげられ、具体的には、トリエ
タノールアミン、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエ
ステル、ｐ−ホルミルジメチルアニリン、ｐ−メチルチ
オジメチルアニリン、等があげられる。

【０１３９】共増感剤の別の例としてはチオールおよび
スルフィド類、例えば、特開昭５３−７０２号、特公昭
５５−５００８０６号、特開平５−１４２７７２号記載
のチオール化合物、特開昭５６−７５６４３号のジスル
フィド化合物等があげられ、具体的には、２−メルカプ
トベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾー
ル、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプ
ト−４（３Ｈ）−キナゾリン、β−メルカプトナフタレ
ン等があげられる。

【０１４０】また別の例としては、アミノ酸化合物
（例、Ｎ−フェニルグリシン等）、特公昭４８−４２９
６５号記載の有機金属化合物（例、トリブチル錫アセテ
ート等）、特公昭５５−３４４１４号記載の水素供与
体、特願平５−９１０８９号記載のイオウ化合物（例、
トリチアン等）、特願平５−３２１４７号記載のリン化
合物（ジエチルホスファイト等）、特願平６−１９１６
０５号記載のＳｉ−Ｈ、Ｇｅ−Ｈ化合物等があげられ
る。

【０１４１】本発明における光重合組成物中の光重合開
始剤の使用量は光重合組成物の全成分の重量に対し、0.
01〜60重量％、より好ましくは0.05〜３０重量％であ
る。また、本発明において増感色素を用いる場合、光重
合組成物中の光重合開始剤と増感色素のモル比は100：
０〜1：９９であり、より好ましくは、９０：１０〜１
０：９０であり、最も好ましくは８０：２０〜２０：８
０である。上記共増感剤を使用する場合には光重合開始
剤１重量部に対して、0.01〜50重量部使用するのが適当
であり、より好ましくは０．０２〜２０重量部、最も好
ましくは０．０５〜１０重量部である。

【０１４２】本発明においては、光重合組成物を着色さ
せたり、保存安定性を付与したりする目的に染料を用い
ることができる。好適な染料の例は、ブリリアントグリ
ーン硫酸塩、エオシン、エチルバイオレット、エリスロ
シンＢ、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベ
イシックフクシン、フェノールフタレイン、１，３−ジ
フェニルトリアジン、アリザリンレッドＳ、チモールフ
タレイン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッ
ド、ローズベンガル、メタニルーイエロー、チモールス
ルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレン
ジ、オレンジＮ、ジフェニルチオカルバゾン、２，７−
ジクロロフルオレセイン、パラメチルレッド、コンゴー
レッド、ベンゾブルプリン４Ｂ、α−ナフチル−レッ
ド、ナイルブルーＡ、フェナセタリン、メチルバイオレ
ッド、マラカイトグリーンシュウ酸塩、パラフクシン、
オイルブルー＃６０３（オリエント化学工業（株）
製）、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ等である。特に好
ましい染料は、マラカイトグリーンシュウ酸塩である。

【０１４３】本発明の光重合性組成物には、更に熱重合
禁止剤を加えることが好ましい。熱重合禁止剤の具体例
としては、例えば、ｐ−メトキシフェノール、ハイドロ
キノン、アルキルまたはアリール置換ハイドロキノン、
ｔ−ブチルカテコール、ピロガロール、塩化第一銅、ク
ロラニール、ナフチルアミン、β−ナフトール、２，６
−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピリジン、ニトロ
ベンゼン、ジニトロベンゼン、ｐ−トルイジン、メチレ
ンブルー、有機銅、サリチル酸メチルなどがある。これ
らの熱重合禁止剤は、多官能モノマーに対して０.００
１〜５重量％の範囲で含有てされるのが好ましい。

【０１４４】本発明においては、膜物性をコントロール
するために、可塑剤を添加してもよく、代表例として
は、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチ
ルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジオクチルフ
タレート、オクチルカブリールフタレート、ジシクロヘ
キシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ブチルベ
ンジルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジアリー
ルフタレートなどのフタル酸エステル類、ジメチルグリ
コースフタレート、エチルフタリールエチルグリコレー
ト、メチルフタリールエチルグリコレート、ブチルフタ
リールブチルグリコレート、トリエチレングリコールジ
カブリル酸エステルなどのグリコールエステル類、トリ
クレジールフォスフェート、トリフェニルフォスフェー
トなどの燐酸エステル類、ジイソブチルアジペート、ジ
オクチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセ
バケート、ジオクチルセバケート、ジブチルマレートな
どの脂肪酸二塩基酸エステル類、ベンゼンスルホンアミ
ド、ｐ−トルエンスルホンアミド、Ｎ−ｎ−ブチルアセ
トアミドなどのアミド類、クエン酸トリエチル、グリセ
リントリアセチルエステル、ラウリル酸ブチルなどがあ
る。

【０１４５】本発明においては、密着性を向上させるた
めに、公知のいわゆる密着促進剤を用いることができ
る。例えば、特公昭50−9177号、特公昭54−5,292号、
特公昭55−22,481号、特開昭51−64,919号、特開昭51−
64,920号、特開昭50−63,087号、特開昭52−2,724号、
特開昭53−702号、特開昭53−124,541号、特開昭53−12
4,594号、特開昭54−133,585号、特開昭54−133,586
号、特開昭55−65,947号、特公昭57−46,053号、特公昭
57−46,054号、特開昭56−11,904号、特開昭57−21,697
号、特開昭56−75,642号、特開昭56−67,844号、特公昭
57−40,500号、特開昭56−99,202号、特開昭56−100,80
3号、特開昭57−60,327号、特開昭57−62,047号、ＤＡ
Ｓ2,448,850号、ＵＳ4,629,679号、特公昭57−49,894
号、特開昭57−148,392号、特開昭57−192,946号、特開
昭58−100,844号、特開昭59−113,432号、特開昭59−12
5,725号、特開昭59−125,726号、特開昭59−125,727
号、特開昭59−125,728号、特開昭59−152,439号、特開
昭59−154,440号、特開昭59−154,441号、特開昭59−16
5,051号、特開昭60−12,543号、特開昭60−12,544号、
特開昭60−135,931号、特開昭60−138,540号、特開昭60
−146,233号、特開昭61−4,038号、特開昭61−6,644
号、特開昭61−6,646号、特開昭61−166,541号、特開昭
61−172,139号、特開昭61−186,952号、特開昭61−190,
330号、特開昭61−198,146号、特開昭61−223,836号、
特開昭61−282,835号、特開昭61−360,237号、特開昭62
−91,935号、特開昭62−96,939号、特開昭62−180,354
号、特開昭62−180,355号、特開昭62−180,356号、特開
昭62−180,357号、特開昭62−181,303号、特開昭62−20
8,042号、特開昭62−240,950号、特開昭62−277,405
号、特開昭62−286,035号、特開昭62−290,702号、特公
昭63−13,526号、特開昭63−24,243号、特開昭63−57,6
22号、特開昭63−61,241号各公報または明細書に記載の
化合物がある。具体的には、ベンズイミダゾール、ベン
ズオキサゾール、ベンズチアゾール、２−メルカプトベ
ンズイミダゾール、２−メルカプトベンズオキサゾー
ル、２−メルカプトベンズチアゾール、３−モルホリノ
メチル−１−フェニル−トリアゾール−２−チオン、３
−モルホリノメチル−５−フェニル−オキサジアゾール
−２−チオン、５−アミノ−３−モルホリノメチル−チ
アジアゾール−２−チオン、２−メルカプト−５−メチ
ルチオ−チアジアゾールなどがある。特に好ましい化合
物としては３−モルホリノメチル−１−フェニルトリア
ゾール−２−チオンが挙げられる。

【０１４６】本発明の光重合性組成物に含有される、そ
の他の主成分である熱可塑性高分子結合剤は特に制限さ
れるものではなく、例えば下記に挙げる各化合物を使用
することができる。前記熱可塑性高分子結合剤は、広範
な種類の合成、半合成、天然の高分子物質の中から次の
条件を満足するものが用いられる。即ち、エチレン性不
飽和化合物、光重合開始剤、有機ハロゲン化合物、ロイ
コ色素との相溶性が塗布液の調製から、塗布、乾燥に至
る製造工程および得られる塗布物の保存中に脱混合を起
こさない程度に良いこと、本発明の使用法に応じた性
質、例えば、テンティング用フォトレジストの形で用ら
れる場合には結合剤の強度、延伸性、耐摩耗性、耐薬品
性などが適当であること、更に、結合剤の分子量、分子
間力、硬さ、軟化温度、結晶性、破壊伸度などが適切な
ことである。

【０１４７】結合剤の具体例を挙げると塩素化ポリエチ
レン、塩素化ポリプロピレンなどの塩素化ポリオレフィ
ン、ポリメチル（メタ）アクリレートなどのポリ（メ
タ）アクリル酸アルキルエステル（アルキル基として
は、メチル基、エチル基、ブチル基など）、（メタ）ア
クリル酸と（メタ）アクリル酸アルキルエステル（アル
キル基は同上）との共重合物、ポリ（メタ）アクリル
酸、（メタ）アクキル酸アルキルエステル（アルキル基
は同上）とアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、スチレン、ブタジエン等のモノマーの少くとも一
種との共重合物、ポリ塩化ビニル、塩化ビニルとアクリ
ロニトリルとの共重合物、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビ
ニリデンとアクリロニトリルとの共重合物、酢酸ビニル
と塩化ビニルとの共重合物、ポリアクリロニトリル、ア
クリロニトリルとスチレンとの共重合物、アクリロニト
リルとブタジエン及びスチレンとの共重合物、スチレン
と無水マレイン酸などの不飽和二塩基酸無水物との共重
合物、ポリビニルブチラール、スチレンブタジエンゴ
ム、塩化ゴム、環化ゴム、アセチルセルロースなどのホ
モポリマー又は共重合物などかある。共重合物の場合、
その成分モノマーの含有比は広範囲の値をとりうるが、
一般には他の共重合モノマーがモル比で５％以上含まれ
ているものが好適である。またこれら以外のポリマーで
あっても、前記の条件を満たすものであれば、本発明の
結合剤として用いることが出来る。

【０１４８】上記のポリマーの内、本発明の結合剤とし
て特に好適に用いられるものは、塩素化ポリエチレン、
塩素化ポリプロピレン、ポリメチルメタアクリレート、
メチルメタクリレート−アクリロニトリル共重合物（メ
チルメタクリレートのモル含量２０〜８０％）、メチル
メタクリレート−アリルメタクリレート共重合物、アク
リル酸−アリルメタクリレート共重合物、塩化ビニル−
アクリロニトリル共重合物（塩化ビニルのモル含量２０
〜８０％）、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合
物（塩化ビニリデンのモル含量２０〜８０％）、スチレ
ン−無水マレイン酸共重合物、特願昭59−114736号（結
合剤は、メタクリル酸メチル／メタクリル酸／２−エチ
ルヘキシルメタクリレート／ベンジルメタクリレート四
元共重合体である）、特公昭54−34327号（結合剤は、
例えばメタクリル酸メチル／メタクリル酸２−エチルヘ
キシル／メタクリル酸の三元共重合体である）、特公昭
55−38961号（結合剤は例えばスチレン／マレイン酸モ
ノ−ｎ−ブチルエステル共重合体である）、特公昭54−
25957号（結合剤は例えばエチレン／メタクリル酸メチ
ル／アクリル酸エチル／メタクリル酸の四元共重合体で
ある）、特開昭52−99810号（結合剤は例えばメタクリ
ル酸ベンジル／メタクリル酸共重合体である）、特公昭
58−12577号（結合剤は例えばアクリロニトリル／メタ
クリル酸２−エチルヘキシル／メタクリル酸の三元共重
合体である）および特公昭55−6210号（結合剤は例えば
メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル／アクリル酸の
三元共重合体とイソプロパノールで一部分エステル化し
たスチレン／マレイン酸無水物共重合体の２種である）
の各公報または明細書に記載の結合剤などである。

【０１４９】これらの結合剤は、単独で結合剤として用
いてもよいが、二種以上の塗布液の調製から、塗布、乾
燥に至る製造工程中および得られる塗布物の保存中に脱
混合を起さない程度に互いに相溶性のあるポリマーを適
当な比で混合して結合剤として用いることが出来る。結
合剤として用いられる高分子物質の分子量は、ポリマー
の種類によって広範な値をとりうるが、一般的には５,
０００〜２,０００,０００、より好ましくは、５０,０
００〜１,０００,０００の範囲のものが本発明に好適に
用いられる。結合剤の量は光重合性組成物の固形分に対
して５〜９５wt％、好ましくは４０〜８０wt％である。

【０１５０】上記の如く調製される本発明の光重合性組
成物は、フォトマスク作成用のフォトレジストとして支
持体上に設けられる。その際、溶剤に溶解または分散し
て塗布液とし、スピナーやホイラー等を用いて支持体上
に直接塗布し、乾燥を行って成膜される。必要に応じそ
の上に、酸素を遮断する目的でオーバーコートを設けて
もよい。前記塗布液を適当な支持体上に適当な方法で塗
布し、乾燥し、もし必要ならばその上に保護フィルムを
重ねて画像形成材料（ドライフィルムジレスト）として
用い、支持体上に付着されるのが一般的である。

【０１５１】塗布液とする時の溶剤としては、例えばメ
タノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパ
ノール、ｎ−ブタノール、sec −ブタノール、ｎ−ヘキ
サノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジ
イソブチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブ
チル、酢酸−ｎ−アミル、蟻酸メチル、プロピオン酸エ
チル、フタル酸ジメチル、安息香酸エチルなどのエステ
ル類、トルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼン
などの芳香族炭化水素類、四塩化炭素、トリクロロエチ
レン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、
塩化メチレン、モノクロロベンゼン、などのハロゲン化
炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパ
ノールなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキサイドなどがある。

【０１５２】前記支持体としては透明な支持体、例え
ば、ガラス、セラミック材料、プラスティックフィルム
上に、クロム、チタン、マンガン、ニッケル、タングス
テン等の金属をスパッタリング、蒸着、メッキ等により
設けたもの等が用いられる。マスクとしての遮へい効
果、エッチング等の特性よりクロムが一般的に使用され
ることが多い。支持体として用いられるプラスチックフ
ィルムとしては光の透過性が良好であること及び表面が
均一であることが必要である。具体的には、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、三
酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ（メタ）アク
リル酸アルキルエステル、ポリ（メタ）アクリル酸エス
テル共重合体、ポリ塩化ビル、ポリビニルアルコール、
ポリカーボネート、ポリスチレン、セロファン、ポリ塩
化ビニリデン共重合物、ポリアミド、ポリイミド、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリテトラフロロエチレ
ン、ポリトリフロロエチレン等の各種のプラスチックフ
ィルムが使用できる。更にこれ等の二種以上からなる複
合材料も使用することができる。この支持体は、一般的
には５〜１５０μmのもの、好ましくは１０〜５０μmの
ものが使用されるが、上記以外の範囲でも使用すること
ができる。支持体上に設けられる、前記光重合性組成物
の層の厚さは、最終的に形成される画像の所望の機能を
果たすような厚さで設けられるが、一般的には０.１〜
５０μmの範囲であり、好ましくは、０.５〜１０μmの
範囲である。また、必要に応じて、光重合性組成物層の
上に保護フィルムを設けることができる。かかる保護フ
ィルムとしては、前記支持体に使用されるものおよび、
紙、たとえばポリエチレン、ポリプロピレンなどがラミ
ネートされた紙などの中から適宜選ぶことができる。厚
さは５〜１００μmが一般的であり１０〜５０μmがより
好ましい。

【０１５３】また支持体および保護フィルムの少なくと
も一方を表面処理することにより、前記のような接着力
の関係を満たすことができる。支持体の表面処理は光重
合性組成物層との接着力を高めるために施されるのが一
般的であり、例えば、下塗層の塗設、コロナ放電処理、
火焔処理、紫外線照射処理、高周波照射処理、グロー放
電照射処理、活性プラズマ照射処理、レーザー光線照射
処理などがある。また、保護フィルムの表面処理は、上
記支持体の表面処理とは逆に、光重合性組成物層との接
着力を低めるために施されるのが一般的であり、例えば
ポリオルガノシロキサン、弗素化ポリオレフィン、ポリ
フルオロエチレンなどを下塗層として設ける方法があ
る。塗布後の乾燥は一般的には３０℃〜１５０℃、特に
５０℃〜１２０℃で１〜３０分間行うのがよい。画像形
成材料が保護フィルムを有する場合には、それぞれを剥
がして光重合性組成物層の表面を露出させ、これを所望
の清浄化したマスク形成用基板の表面に加圧して積層す
る。光重合性組成物層のマスク形成用基板への積層は室
温（１５〜３０℃）或いは加熱下（３０〜１８０℃）で
行うことが出来、特に８０〜１４０℃で行うのが好まし
い。

【０１５４】フォトマスクの作成は、以下のようにして
行うことができる。即ち、本発明の光重合性組成物を含
有するフォトレジストまたはフォトマスク形成材料を上
記の如く支持体上に適用して光重合層を形成した後、光
重合層をマスクを通してパターンを露光し、もしくはレ
ーザー光線を走査して回路パターンの潜像を形成する。
光源としては、前記光重合開始系に対して活性な電磁波
であり、具体的には、可視領域もしくは紫外〜可視領域
の波長の光源、即ち波長が３１０〜７００nm、より好ま
しくは３５０〜５００nmの範囲の紫外−可視光線を発す
る光源が用いられる。例えば、アルゴンレーザー光、Ｆ
Ｄ−ＹＡＧレーザー光、ヘリウム−ネオンレーザー光が
直接描画可能なことから好ましいが、その他にも高圧水
銀灯、キセノンランプ、カーボンアーク灯、ハロゲンラ
ンプ、複写用の蛍光管等を用いることもできる。画像状
に露光した後、適当な現像液、例えば、有機溶剤、有機
溶剤を含有したアルカリ水溶液またはアルカリ水溶液な
どで未露光部を溶出し、マスク用基板上に光硬化した画
像を得る。

【０１５５】画像形成後、塩化銅水溶液、塩化第二鉄水
溶液などの公知のエッチング液を用いて露出した金属を
エッチングしたり、ピロリン酸銅、硫酸銅などの公知の
メッキ液を用いて露出した金属上にメッキをすることが
出来る。本発明の光重合性層は可視光に対する感度が高
いだけでなく、膜物性にも優れ、特に膜の伸縮性が高い
ために、酸性エッチング液に対する耐性が高い。従っ
て、従来のようにエッチング工程において光硬化部分が
溶出してその下の金属の画像パターンが消失するような
ことが無くなり、画像パターンを設計通りに正確に形成
することができる。

【０１５６】

【実施例】以下、実施例によって本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
尚、「部」は特に断りのない限り「重量部」を意味す
る。

【０１５７】＜一般式（I）で表される構造を有する化
合物の合成＞上記一般式（Ｉ）の化合物は対応するアク
リル基含有化合物から日本接着学会発行の「接着の技
術」 Vol.14 No.4（1995）通巻37号 ｐ.２に記載の
方法により容易に合成することができる。

【０１５８】実施例１〜１０、比較例１〜４ ガラス支持体上にスパッタリングによりクロムの薄膜を
設けた。下記に示した素材を混合して均一な溶液を調整
した（以下これを母液と称する）。 メチルメタクリレート／アリルメタクリレート共重合体 ５０部 （モル比２０／８０、重量平均分子量４，５万） パラメトキシフェノール ０．５部 ＭＦＫ １２０部 ＭＦＧ ５５部

【０１５９】上記の母液に表−Ａの実施例１〜１０また
は比較例１〜４に示した量のモノマー、増感色素、ラジ
カル重合開始剤をそれぞれ添加した。更に攪拌、溶解し
た後、各々の塗布液を、上述したクロムの薄膜を設けた
ラス支持体上に塗布し、１００℃で２分間乾燥し、約1.
５μm厚の感光性塗布膜を得た。さらに実施例１〜５、
比較例１〜３においては、この上にポリビニルアルコー
ル（ケン化度８５％、重合度１０００）の３％水溶液を
塗布し、１００℃で３分間乾燥し、約２μm厚のオーバ
ーコート層を設けた。次にＦＤ−ＴＡＧレーザーで、種
々の露光量にて、下記パターンをレーザー走査にて描画
した。レーザーの１本のビーム径は6.８μmになるよう
に調整した。 パターン：ライン幅／スペース幅＝１／１、ライン幅＝
１０μm〜５０μm（各ラインが５本ずつある。） 露光後、１％炭酸ナトリウム水溶液（３０℃）で３分間
スプレー現像し、その後２０℃の水で４０秒間水洗し
た。このようにして得られたレジストパターンを光学顕
微鏡で観察した。評価は以下の様に行った。

【０１６０】＜最高解像度＞まずパターンを０.０５ｍ
Ｊ／cm² で描画し、得られたパターンを観察し、５本の
ラインが剥がれたり、現像されない部分が残ったりして
いない最も細いラインの幅（解像度）を記録した。つい
で０.０５ｍＪ／cm² 間隔で露光量を増やしながら露光
し、各サンプルの解像度を記録した。一般に、低露光量
域ではレジストパターンが剥がれやすいため細いライン
幅の画像が得られない。逆に高露光領域ではライン間に
詰まりを生じやすく、狭い線幅のラインほどその傾向が
大きく、解像度には極小値がある。ここでは上述の方法
で得られた解像度のうち、最も小さな値を最高解像度と
した。 ＜感度＞上記実験において２０μmの線幅が５本ともし
っかり出た最低露光量を感度とした。値が小さいほど感
度が高いことを示す。最高解像度、感度の評価結果を表
−Ａに示す。また上記最高解像度に相当する露光量のサ
ンプルを、塩化鉄水溶液にてスプレーした後、水をスプ
レーし、ガラス支持体上のクロムをエッチング除去し
た。その結果を表−Ａに示す。

【０１６１】

【表９】

【０１６２】

【表１０】

【０１６３】表−Ａから明らかなように、本発明の光重
合層は、ＦＤ−ＹＡＧレーザー光に対し高感度を示し、
優れた解像度及びエッチング耐性を有することが認めら
れた。

【０１６４】

【発明の効果】以上のように、本発明のフォトマスク作
成用原板を使用することにより従来のようにエッチング
液により光硬化部分が溶出し、その下の金属の画像パタ
ーンが消失するようなことが無く、画像パターンを設計
通りに正確に形成することができる。また、上記光重合
層を使用してフォトマスクを作成することにより、可視
光線（可視レーザー光）に対して飛躍的に感度が向上
し、その結果高い解像力を有し、かつ優れた膜物性を有
するフォトマスクを得ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/028 Ｇ０３Ｆ 7/028 7/033 7/033 7/11 ５０３ 7/11 ５０３ Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AA02 AA13 AB08 AC01 AD01 BC32 BC38 CA00 CB00 DA19 DA30 FA03 FA15 FA40 2H095 BC06 4J011 PA64 PA65 PA66 PA69 PA70 PB40 PC02 QA03 QA13 QA22 QA23 QA24 QA34 QA37 QA38 QA39 QA40 QA45 RA01 RA03 RA04 RA05 RA10 SA25 SA32 SA64 SA74 SA83 SA84 SA85 SA86 SA87 SA88 TA01 TA05 UA01 VA01 WA01 4J026 AA17 AA24 AA43 AA45 AA49 AA54 AC09 BA27 BA28 BA29 BA30 BA31 BA39 BA40 BA44 DB06 DB11 DB36 GA08

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明な支持体上に金属薄膜を設け、その
   上に熱可塑性高分子結合剤、下記一般式（Ｉ）で表され
   る構造を有する化合物および光重合開始剤を含有する光
   重合層を設けたことを特徴とするマスク作成用原板。 【化１】 （一般式（Ｉ）中、Ｑ¹は、シアノ基(ＣＮ)、または式
   ＣＯＸ²で表される基であり、Ｘ¹とＸ²は、各々独立し
   て、ヘテロ原子又はハロゲン原子を表す。Ｒ^a、Ｒ^bは、
   各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は
   有機残基を表す。また、Ｘ¹とＸ²、Ｒ^aとＲ^b、Ｘ¹とＲ^a
   あるいはＲ^bとが互いに結合して環状構造を形成しても
   よい。）
2. 【請求項２】 オーバーコート層を有しない請求項１記
   載のマスク作成用原板。