JP2002129359A - 金属スズまたはスズ合金をエッチングする方法ならびに金属スズまたはスズ合金のエッチング液 - Google Patents
金属スズまたはスズ合金をエッチングする方法ならびに金属スズまたはスズ合金のエッチング液Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ガラスを浸食せずかつ窒素酸化物を発生させず
に金属スズ、スズ合金をエッチングすることのでき、し
かもスラッジの発生が少なく廃液の処理が容易なエッチ
ング液を提供する。 【解決手段】塩化スズ（IV）含有水溶液を被処理材に接
触させて金属スズ、スズ合金をエッチングする。連続的
にエッチングするには、水溶液中に生じたスズ（II）を
酸化剤の添加、酸素や空気との接触、電解で陽極側で酸
化させる等により酸化してスズ（IV）に戻してエッチン
グする。
に金属スズ、スズ合金をエッチングすることのでき、し
かもスラッジの発生が少なく廃液の処理が容易なエッチ
ング液を提供する。 【解決手段】塩化スズ（IV）含有水溶液を被処理材に接
触させて金属スズ、スズ合金をエッチングする。連続的
にエッチングするには、水溶液中に生じたスズ（II）を
酸化剤の添加、酸素や空気との接触、電解で陽極側で酸
化させる等により酸化してスズ（IV）に戻してエッチン
グする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばプリント配
線板の製造において銅のエッチングレジストとして使用
したスズめっきの剥離に有用な、金属スズまたはスズ合
金をエッチングする方法ならびにその方法に使用するエ
ッチング液に関する。
線板の製造において銅のエッチングレジストとして使用
したスズめっきの剥離に有用な、金属スズまたはスズ合
金をエッチングする方法ならびにその方法に使用するエ
ッチング液に関する。
【０００２】
【従来の技術】金属スズのエッチング液として、従来か
らフッ素化合物を主成分とする液（特開昭５９−７４２
８１号公報参照）、ニトロベンゼンスルホン酸を主成分
とする液（特開平１−１２９４９１号公報参照）、硝酸
を主成分とする液（特開平７−２７８８４６号公報参
照）などが使用されている。
らフッ素化合物を主成分とする液（特開昭５９−７４２
８１号公報参照）、ニトロベンゼンスルホン酸を主成分
とする液（特開平１−１２９４９１号公報参照）、硝酸
を主成分とする液（特開平７−２７８８４６号公報参
照）などが使用されている。
【０００３】しかしながらフッ素化合物を主成分とする
液を用いた場合、ガラス繊維含有絶縁層を有するプリン
ト配線板を処理すると、ガラスを浸食するという問題が
ある。またニトロベンゼンスルホン酸を主成分とする液
を用いた場合、エッチング液中にスラッジが生じやすい
という問題がある。さらに硝酸を主成分とする液を用い
た場合、金属スズをエッチングする際にチッ素酸化物が
発生し、作業環境を悪化させるという問題がある。
液を用いた場合、ガラス繊維含有絶縁層を有するプリン
ト配線板を処理すると、ガラスを浸食するという問題が
ある。またニトロベンゼンスルホン酸を主成分とする液
を用いた場合、エッチング液中にスラッジが生じやすい
という問題がある。さらに硝酸を主成分とする液を用い
た場合、金属スズをエッチングする際にチッ素酸化物が
発生し、作業環境を悪化させるという問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ガラスを浸
食せずかつ窒素酸化物を発生させずに金属スズまたはス
ズ合金をエッチングすることのでき、しかもスラッジの
発生が少なく廃液の処理が容易なエッチング方法ならび
にエッチング液を提供することを目的とする。
食せずかつ窒素酸化物を発生させずに金属スズまたはス
ズ合金をエッチングすることのでき、しかもスラッジの
発生が少なく廃液の処理が容易なエッチング方法ならび
にエッチング液を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の手段は、４価のスズの化合物を含む水溶液を
金属スズまたはスズ合金を有する被処理材に接触させ、
金属スズまたはスズ合金をエッチングする方法ならびに
４価のスズの化合物を含む水溶液からなる金属スズまた
はスズ合金のエッチング液である。
の本発明の手段は、４価のスズの化合物を含む水溶液を
金属スズまたはスズ合金を有する被処理材に接触させ、
金属スズまたはスズ合金をエッチングする方法ならびに
４価のスズの化合物を含む水溶液からなる金属スズまた
はスズ合金のエッチング液である。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて詳細に説明する。本発明のエッチング方法には、４
価のスズの化合物を含む水溶液が使用される。４価のス
ズの化合物としては、例えば塩化スズ（IV）、酸化スズ
（IV）、硫酸スズ（IV）、スズ酸ナトリウム、スズ酸カ
リウムなどがあげられ、これらの化合物は１種を用いて
もよく、２種以上を併用してもよい。また４価のスズの
化合物は水溶液中で４価になるものであればよく、例え
ば２価の塩化スズ（II）の水溶液を調製し、それを酸化
させて水溶液中で４価にしてもよい。
いて詳細に説明する。本発明のエッチング方法には、４
価のスズの化合物を含む水溶液が使用される。４価のス
ズの化合物としては、例えば塩化スズ（IV）、酸化スズ
（IV）、硫酸スズ（IV）、スズ酸ナトリウム、スズ酸カ
リウムなどがあげられ、これらの化合物は１種を用いて
もよく、２種以上を併用してもよい。また４価のスズの
化合物は水溶液中で４価になるものであればよく、例え
ば２価の塩化スズ（II）の水溶液を調製し、それを酸化
させて水溶液中で４価にしてもよい。
【０００７】前記水溶液中の４価のスズの化合物の濃度
は、４価のスズイオンとして１〜２５％（重量％、以下
同様）が好ましく、５〜２０％がさらに好ましい。前記
濃度が１％未満ではスズのエッチング速度が遅くなり、
一方２０％を超えても添加量の増加に見合う効果（エッ
チング速度の向上など）の増大が得られない。
は、４価のスズイオンとして１〜２５％（重量％、以下
同様）が好ましく、５〜２０％がさらに好ましい。前記
濃度が１％未満ではスズのエッチング速度が遅くなり、
一方２０％を超えても添加量の増加に見合う効果（エッ
チング速度の向上など）の増大が得られない。
【０００８】前記水溶液を金属スズまたはスズ合金を有
する被処理材に接触させることにより、次式 Ｓｎ0＋Ｓｎ4+ → ２Ｓｎ2+ （１） に示されるように反応が進み、スズをエッチングするこ
とができる。
する被処理材に接触させることにより、次式 Ｓｎ0＋Ｓｎ4+ → ２Ｓｎ2+ （１） に示されるように反応が進み、スズをエッチングするこ
とができる。
【０００９】前記水溶液を被処理材に接触させる方法と
しては、例えば前記水溶液中に被処理材を浸漬する方
法、前記水溶液を被処理材にスプレーする方法などがあ
げられる。
しては、例えば前記水溶液中に被処理材を浸漬する方
法、前記水溶液を被処理材にスプレーする方法などがあ
げられる。
【００１０】前記水溶液で金属スズまたはスズ合金をエ
ッチングすると、前記式（１）に示されるように水溶液
中の４価のスズが２価に還元される。しかしながら２価
のスズは金属スズまたはスズ合金をエッチングする能力
がないため、連続してエッチングするためには、還元さ
れたスズを酸化して４価のスズに戻しながらエッチング
することが好ましい。酸化の方法としては、前記水溶
液に酸化剤を添加する方法、前記水溶液を酸素または
空気と接触させる方法、電解によって陽極側で酸化さ
せる方法などがあげられる。
ッチングすると、前記式（１）に示されるように水溶液
中の４価のスズが２価に還元される。しかしながら２価
のスズは金属スズまたはスズ合金をエッチングする能力
がないため、連続してエッチングするためには、還元さ
れたスズを酸化して４価のスズに戻しながらエッチング
することが好ましい。酸化の方法としては、前記水溶
液に酸化剤を添加する方法、前記水溶液を酸素または
空気と接触させる方法、電解によって陽極側で酸化さ
せる方法などがあげられる。
【００１１】まず上記の、前記水溶液に酸化剤を添加
して２価のスズを４価のスズに戻しながらエッチングす
る方法について説明する。
して２価のスズを４価のスズに戻しながらエッチングす
る方法について説明する。
【００１２】酸化剤としては、例えば過酸化水素、塩素
ガス、塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム、硝
酸、３価の鉄を含む化合物（塩化鉄（III）など）、２価
の銅を含む化合物（塩化銅（II）など）、ニトロベンゼ
ンスルホン酸などがあげられる。前記酸化剤は１種を用
いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中で
は過酸化水素が、反応後に生じるものが水であり、エッ
チング速度に悪影響を及ぼしにくいという点から好まし
い。
ガス、塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム、硝
酸、３価の鉄を含む化合物（塩化鉄（III）など）、２価
の銅を含む化合物（塩化銅（II）など）、ニトロベンゼ
ンスルホン酸などがあげられる。前記酸化剤は１種を用
いてもよく、２種以上を併用してもよい。これらの中で
は過酸化水素が、反応後に生じるものが水であり、エッ
チング速度に悪影響を及ぼしにくいという点から好まし
い。
【００１３】酸化剤を添加する方法としては、エッチン
グにより生じる２価のスズ量を算出しておき、それを４
価のスズに戻すのに必要な量の酸化剤をあらかじめ添加
しておく方法、エッチングにより生じる２価のスズ量に
応じて酸化剤を逐次添加する方法などがあげられる。な
お水溶液中の２価のスズの有無は酸化還元電位を測定す
ることなどにより容易に求めることができる。前記方法
の中では、前者の方法はエッチング中に酸化剤濃度を管
理する必要がないという点から好ましく、後者の方法は
エッチング液の酸化力が安定するという点から好まし
い。
グにより生じる２価のスズ量を算出しておき、それを４
価のスズに戻すのに必要な量の酸化剤をあらかじめ添加
しておく方法、エッチングにより生じる２価のスズ量に
応じて酸化剤を逐次添加する方法などがあげられる。な
お水溶液中の２価のスズの有無は酸化還元電位を測定す
ることなどにより容易に求めることができる。前記方法
の中では、前者の方法はエッチング中に酸化剤濃度を管
理する必要がないという点から好ましく、後者の方法は
エッチング液の酸化力が安定するという点から好まし
い。
【００１４】酸化剤の添加量は被処理材の種類に応じて
調整される。例えば銅上に形成されたスズめっきをエッ
チングする場合には、酸化剤の添加量はエッチングによ
り生じる２価のスズを４価のスズに戻すのに必要な量で
あればよい。これによって下地の銅をエッチングするこ
となく、スズめっきのみをエッチングすることができ
る。またスズのみならず、下地の銅や中間に形成された
銅スズ合金も同時にエッチングする場合には、酸化剤を
過剰に添加してエッチング液の酸化力を高めればよい。
したがって、例えば銅上のスズめっきのみを溶解する場
合の酸化剤の添加方法としては、酸化剤を逐次添加する
方法が、エッチング液の酸化力が強くなりすぎないよう
に酸化力を制御しやすいので好ましい。
調整される。例えば銅上に形成されたスズめっきをエッ
チングする場合には、酸化剤の添加量はエッチングによ
り生じる２価のスズを４価のスズに戻すのに必要な量で
あればよい。これによって下地の銅をエッチングするこ
となく、スズめっきのみをエッチングすることができ
る。またスズのみならず、下地の銅や中間に形成された
銅スズ合金も同時にエッチングする場合には、酸化剤を
過剰に添加してエッチング液の酸化力を高めればよい。
したがって、例えば銅上のスズめっきのみを溶解する場
合の酸化剤の添加方法としては、酸化剤を逐次添加する
方法が、エッチング液の酸化力が強くなりすぎないよう
に酸化力を制御しやすいので好ましい。
【００１５】前記水溶液には、エッチング速度を速くす
るために塩素イオンを存在させることが好ましい。塩素
イオン源としては、前述の塩化スズ（IV）、塩化スズ
（II）、塩酸、塩化アンモニウム、塩化ナトリウム、塩
化カリウムなどがあげられる。水溶液中の塩素イオン濃
度は、１〜３５％（重量％、以下同様）が好ましく、３
〜３０％がさらに好ましい。塩素イオン濃度が１％未満
ではスズのエッチング速度を上げる作用が不十分であ
る。一方塩素イオン濃度が３５％を超えると添加量の増
加に見合う効果が得られず、例えば塩素イオン源として
塩酸を用いた場合には塩化水素ガスによる刺激臭のため
作業環境が悪化する。
るために塩素イオンを存在させることが好ましい。塩素
イオン源としては、前述の塩化スズ（IV）、塩化スズ
（II）、塩酸、塩化アンモニウム、塩化ナトリウム、塩
化カリウムなどがあげられる。水溶液中の塩素イオン濃
度は、１〜３５％（重量％、以下同様）が好ましく、３
〜３０％がさらに好ましい。塩素イオン濃度が１％未満
ではスズのエッチング速度を上げる作用が不十分であ
る。一方塩素イオン濃度が３５％を超えると添加量の増
加に見合う効果が得られず、例えば塩素イオン源として
塩酸を用いた場合には塩化水素ガスによる刺激臭のため
作業環境が悪化する。
【００１６】また前記水溶液には必要に応じて他の成分
を含有させてもよい。例えばスズの溶解量を増やすため
に、硝酸、硫酸などの無機酸や、クエン酸、リンゴ酸な
どの有機酸を添加してもよい。
を含有させてもよい。例えばスズの溶解量を増やすため
に、硝酸、硫酸などの無機酸や、クエン酸、リンゴ酸な
どの有機酸を添加してもよい。
【００１７】次に上記の、２価のスズを酸化して４価
のスズに戻すために前記水溶液を酸素または空気と接触
させる方法について説明する。
のスズに戻すために前記水溶液を酸素または空気と接触
させる方法について説明する。
【００１８】前記水溶液を酸素または空気と接触させる
には、例えば前記水溶液に酸素または空気を吹き込む、
前記水溶液を被処理材と接触させる際にスプレー法を用
いる、前記水溶液を充填塔や気泡塔などのガス吸収装置
を通過させる、などの操作を行えばよい。
には、例えば前記水溶液に酸素または空気を吹き込む、
前記水溶液を被処理材と接触させる際にスプレー法を用
いる、前記水溶液を充填塔や気泡塔などのガス吸収装置
を通過させる、などの操作を行えばよい。
【００１９】この方法においても、エッチング速度を速
くするために前記水溶液中に塩素イオンを存在させるこ
とが好ましい。塩素イオンの濃度は１〜２５％が好まし
く、３〜２０％がさらに好ましい。塩素イオンの濃度が
１％未満では金属スズまたはスズ合金のエッチング速度
を上げる作用が不十分であり、一方塩素イオンの濃度が
２５％を超えると２価のスズを効率よく酸化することが
できず、連続してエッチングした場合にエッチング速度
が低下する。
くするために前記水溶液中に塩素イオンを存在させるこ
とが好ましい。塩素イオンの濃度は１〜２５％が好まし
く、３〜２０％がさらに好ましい。塩素イオンの濃度が
１％未満では金属スズまたはスズ合金のエッチング速度
を上げる作用が不十分であり、一方塩素イオンの濃度が
２５％を超えると２価のスズを効率よく酸化することが
できず、連続してエッチングした場合にエッチング速度
が低下する。
【００２０】前記水溶液を酸素または空気と接触させる
方法においても、必要に応じて他の成分を含有させても
よい。例えばスズの最大溶解量を増やすために硝酸、硫
酸などの無機酸や、クエン酸、リンゴ酸などの有機酸を
添加してもよい。またエッチング速度を向上させる場合
や、銅などスズ以外の金属をエッチングする場合は、過
酸化水素、塩素酸ナトリウム、ニトロベンゼンスルホン
酸などの酸化剤を添加してもよい。
方法においても、必要に応じて他の成分を含有させても
よい。例えばスズの最大溶解量を増やすために硝酸、硫
酸などの無機酸や、クエン酸、リンゴ酸などの有機酸を
添加してもよい。またエッチング速度を向上させる場合
や、銅などスズ以外の金属をエッチングする場合は、過
酸化水素、塩素酸ナトリウム、ニトロベンゼンスルホン
酸などの酸化剤を添加してもよい。
【００２１】前記水溶液を酸素または空気と接触させる
場合、酸素量または空気量などの条件は前記水溶液中に
生じる２価のスズ量に対応させればよい。例えば前記水
溶液中に生じる２価のスズ量はエッチング量に比例する
ため、エッチング量、すなわち生じる２価のスズ量に応
じた酸化条件を採用することにより連続的にエッチング
することができる。
場合、酸素量または空気量などの条件は前記水溶液中に
生じる２価のスズ量に対応させればよい。例えば前記水
溶液中に生じる２価のスズ量はエッチング量に比例する
ため、エッチング量、すなわち生じる２価のスズ量に応
じた酸化条件を採用することにより連続的にエッチング
することができる。
【００２２】最後にの、前記エッチングによって生じ
た２価のスズを電解酸化して４価のスズに戻しながらエ
ッチングする方法について説明する。
た２価のスズを電解酸化して４価のスズに戻しながらエ
ッチングする方法について説明する。
【００２３】例えば、陽極と陰極とがアニオン交換膜で
隔てられた電解層を用意し、この陽極側にエッチングに
使用した２価のスズを含むエッチング液を入れ、陰極側
にエッチング液と同じ陰イオンを含む酸として塩酸を入
れて電解を行なう。これにより、陽極側で２価のスズが
酸化されて４価になり、陽極側の液がエッチング液とし
て再生される。再生されたエッチング液は、塩酸や水な
どを添加して、塩素イオン濃度を調整するのが好まし
い。
隔てられた電解層を用意し、この陽極側にエッチングに
使用した２価のスズを含むエッチング液を入れ、陰極側
にエッチング液と同じ陰イオンを含む酸として塩酸を入
れて電解を行なう。これにより、陽極側で２価のスズが
酸化されて４価になり、陽極側の液がエッチング液とし
て再生される。再生されたエッチング液は、塩酸や水な
どを添加して、塩素イオン濃度を調整するのが好まし
い。
【００２４】本発明は、例えばプリント配線板の製造に
おいて、銅のエッチングレジストとして使用したスズめ
っきの剥離に有用である。この場合、スズと銅との間に
生成しているスズ銅合金層も剥離する必要がある。した
がってスズ層とスズ銅合金を一工程で剥離するために、
本発明のエッチング液の酸化力を高めて使用するのが好
ましい。あるいは本発明のエッチング液でスズ層のみを
剥離したのち、スズ銅合金の剥離液（メック株式会社製
のＳ−６５１Ｂなど）を用いてスズ銅合金を剥離するの
が好ましい。
おいて、銅のエッチングレジストとして使用したスズめ
っきの剥離に有用である。この場合、スズと銅との間に
生成しているスズ銅合金層も剥離する必要がある。した
がってスズ層とスズ銅合金を一工程で剥離するために、
本発明のエッチング液の酸化力を高めて使用するのが好
ましい。あるいは本発明のエッチング液でスズ層のみを
剥離したのち、スズ銅合金の剥離液（メック株式会社製
のＳ−６５１Ｂなど）を用いてスズ銅合金を剥離するの
が好ましい。
【００２５】本発明のエッチング液は、リードフレー
ム、電子部品の電極、装飾品など、種々の部材の金属ス
ズおよびスズ合金のエッチングに有用である。
ム、電子部品の電極、装飾品など、種々の部材の金属ス
ズおよびスズ合金のエッチングに有用である。
【００２６】
【実施例】実施例１ 塩化スズ（IV）・５水和物２８０ｇ、濃度３５％の塩酸
１０６ｇおよびイオン交換水６１４ｇからなるエッチン
グ液１０００ｇを調製した。被処理材には純スズ板
（１．０ｍｍ厚）を使用した。
１０６ｇおよびイオン交換水６１４ｇからなるエッチン
グ液１０００ｇを調製した。被処理材には純スズ板
（１．０ｍｍ厚）を使用した。
【００２７】前記エッチング液（３５℃）に被処理材を
浸漬し、揺動させてスズをエッチングした。なおエッチ
ングにより生じた２価スズを４価に戻すため、エッチン
グ液中に空気を吹き込みながらエッチングを行なった。
エッチング速度は８．１μｍ／分であった。
浸漬し、揺動させてスズをエッチングした。なおエッチ
ングにより生じた２価スズを４価に戻すため、エッチン
グ液中に空気を吹き込みながらエッチングを行なった。
エッチング速度は８．１μｍ／分であった。
【００２８】スズを１０ｇ溶解したところでエッチング
速度が６．５μｍ／分に低下してきたので、希塩酸（濃
度１７．５％）９２．８ｇを添加し、塩素イオン濃度お
よび４価のスズイオン濃度を当初の濃度とほぼ同じ値に
回復させた。これによりエッチング速度が当初の水準に
回復した。
速度が６．５μｍ／分に低下してきたので、希塩酸（濃
度１７．５％）９２．８ｇを添加し、塩素イオン濃度お
よび４価のスズイオン濃度を当初の濃度とほぼ同じ値に
回復させた。これによりエッチング速度が当初の水準に
回復した。
【００２９】この液から１０００ｇを取り出し、さらに
スズを溶解量が１０ｇになるまで溶解させた。上記サイ
クルすなわち、（１）エッチング液１０００ｇにスズ１
０ｇ溶解、（２）希塩酸９２．８ｇ補給、（３）エッチ
ング液１０００ｇ取り出し、を計５サイクル行なった
が、エッチング性能（エッチング速度）は維持されてい
た。
スズを溶解量が１０ｇになるまで溶解させた。上記サイ
クルすなわち、（１）エッチング液１０００ｇにスズ１
０ｇ溶解、（２）希塩酸９２．８ｇ補給、（３）エッチ
ング液１０００ｇ取り出し、を計５サイクル行なった
が、エッチング性能（エッチング速度）は維持されてい
た。
【００３０】上記エッチング液は１ｋｇ当たり９４．８
ｇのスズを溶解することができ、塩酸のみを補給するこ
とにより連続して使用することができた。
ｇのスズを溶解することができ、塩酸のみを補給するこ
とにより連続して使用することができた。
【００３１】実施例２ 塩化スズ（IV）・５水和物４３２ｇ、濃度３５％の塩酸
１００ｇおよびイオン交換水４６８ｇからなるエッチン
グ液１０００ｇを調製した。被処理材には純スズ板
（１．０ｍｍ厚）を使用した。
１００ｇおよびイオン交換水４６８ｇからなるエッチン
グ液１０００ｇを調製した。被処理材には純スズ板
（１．０ｍｍ厚）を使用した。
【００３２】前記エッチング液（３５℃）に被処理材を
浸漬し、揺動させてスズをエッチングした。エッチング
速度は１１．９μｍ／分であった。なおエッチングによ
り２価スズが生じると酸化還元電位が大幅に低下するの
で、これを監視し、随時濃度３５％の過酸化水素を添加
して酸化還元電位を元の値に戻した。
浸漬し、揺動させてスズをエッチングした。エッチング
速度は１１．９μｍ／分であった。なおエッチングによ
り２価スズが生じると酸化還元電位が大幅に低下するの
で、これを監視し、随時濃度３５％の過酸化水素を添加
して酸化還元電位を元の値に戻した。
【００３３】スズを１０ｇ溶解したところで過酸化水素
を添加して酸化還元電位を元に戻しても、エッチング速
度が１０．３μｍ／分までしか回復しなくなった。添加
した過酸化水素（３５％）の合計量は、１６．４ｇであ
った。そこで塩酸（濃度３５％）４２．０ｇを添加し、
塩素イオン濃度および４価のスズイオン濃度を当初の濃
度とほぼ同じ値に回復させた。これによりエッチング速
度が当初の水準に回復した。
を添加して酸化還元電位を元に戻しても、エッチング速
度が１０．３μｍ／分までしか回復しなくなった。添加
した過酸化水素（３５％）の合計量は、１６．４ｇであ
った。そこで塩酸（濃度３５％）４２．０ｇを添加し、
塩素イオン濃度および４価のスズイオン濃度を当初の濃
度とほぼ同じ値に回復させた。これによりエッチング速
度が当初の水準に回復した。
【００３４】この液から１０００ｇを取り出し、過酸化
水素の添加により酸化還元電位を保ちながらスズを溶解
量が１０ｇになるまで溶解させた。上記サイクルすなわ
ち、（１）酸化還元電位を保ちながらエッチング液１０
００ｇにスズ１０ｇ溶解、（２）塩酸４２．０ｇ補給、
（３）エッチング液１０００ｇ取り出し、を計５サイク
ル行なったが、エッチング性能（エッチング速度）は維
持されていた。
水素の添加により酸化還元電位を保ちながらスズを溶解
量が１０ｇになるまで溶解させた。上記サイクルすなわ
ち、（１）酸化還元電位を保ちながらエッチング液１０
００ｇにスズ１０ｇ溶解、（２）塩酸４２．０ｇ補給、
（３）エッチング液１０００ｇ取り出し、を計５サイク
ル行なったが、エッチング性能（エッチング速度）は維
持されていた。
【００３５】上記エッチング液は１ｋｇ当たり１４６．
２ｇのスズを溶解することができ、過酸化水素と塩酸の
みを補給することにより連続して使用することができ
た。
２ｇのスズを溶解することができ、過酸化水素と塩酸の
みを補給することにより連続して使用することができ
た。
【００３６】
【発明の効果】本発明のエッチング方法およびエッチン
グ液は、スズの溶解により低下したエッチング性能を高
価な薬品を使用することなく回復させることができるの
で、従来のエッチング方法およびエッチング液に比べて
きわめて低いコストで金属スズまたはスズ合金を連続的
にエッチングすることができる。
グ液は、スズの溶解により低下したエッチング性能を高
価な薬品を使用することなく回復させることができるの
で、従来のエッチング方法およびエッチング液に比べて
きわめて低いコストで金属スズまたはスズ合金を連続的
にエッチングすることができる。
【００３７】また本発明のエッチング方法およびエッチ
ング液は、ガラスを浸食せず、かつ窒素酸化物を発生さ
せずに金属スズまたはスズ合金をエッチングすることが
できる。
ング液は、ガラスを浸食せず、かつ窒素酸化物を発生さ
せずに金属スズまたはスズ合金をエッチングすることが
できる。
【００３８】さらに本発明のエッチング方法およびエッ
チング液は、スラッジの発生がほとんどなく、廃液の処
理が容易である。
チング液は、スラッジの発生がほとんどなく、廃液の処
理が容易である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｈ０５Ｋ 3/06 Ｃ Ｆターム(参考） 4K057 WA18 WB01 WE03 WE08 WE11 WE13 WE30 WG03 WH01 WH02 WH04 WH05 WL03 WM03 WM04 5E339 BC01 BC02 BD11 BE13 BE17 CD05 CE17 CG04
Claims (6)
- 【請求項１】４価のスズの化合物を含む水溶液を金属ス
ズまたはスズ合金を有する被処理材に接触させることを
特徴とする金属スズまたはスズ合金をエッチングする方
法。 - 【請求項２】４価のスズの化合物を含む水溶液を金属ス
ズまたはスズ合金を有する被処理材に接触させて金属ス
ズまたはスズ合金をエッチングしつつ、それによって前
記水溶液中に生じた２価のスズを酸化して４価のスズに
戻し、金属スズまたはスズ合金を連続的にエッチングす
ることを特徴とする金属スズまたはスズ合金をエッチン
グする方法。 - 【請求項３】酸化が、前記水溶液に酸化剤を添加する方
法、前記水溶液を酸素もしくは空気と接触させる方法ま
たは、前記水溶液を電解によって陽極側で酸化させる方
法で行なわれることを特徴とする請求項２記載の金属ス
ズまたはスズ合金をエッチングする方法。 - 【請求項４】４価のスズの化合物が塩化スズ（IV）であ
ることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載の
金属スズまたはスズ合金をエッチングする方法。 - 【請求項５】４価のスズの化合物を含む水溶液からなる
ことを特徴とする金属スズまたはスズ合金のエッチング
液。 - 【請求項６】４価のスズの化合物が塩化スズ（IV）であ
ることを特徴とする請求項５記載の金属スズまたはスズ
合金のエッチング液。
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