JP2002127169A - 溶液製膜方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 幅１．６ｍ以上のベルトを用いても、乾
燥ムラ、ベルト温度ムラ、ベルト平面性等の問題のない
フィルムを製造でき、もってフィルムの生産性を向上で
きる溶液製膜方法を提供する。 【解決手段】 上記課題は、ダイから流延されたポリマ
ー溶液のフィルムを支持する支持体として幅１．６ｍ以
上のベルトを使用し、該ベルトの蛇行量をベルト幅に対
し±０．５％以下とし、かつダイからのフィルムの流延
幅をベルト幅の７０％以上でベルト幅−（蛇行量×４）
以下とすることを特徴とする溶液製膜方法によって解決
される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、溶液製膜法による
フィルムの製造方法、並びに該フィルムを用いた偏光板
保護フィルム及び該フィルムが装着されている偏光板に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、セルロースアセテート、ポリカ
ーボネート、セロファン等のフィルムの一部は溶液製膜
法で製造されている。この溶液製膜法は、ダイから流延
されたポリマー溶液のフィルムをベルト式又はドラム式
の支持体で支持して搬送しながら固化し、支持体から剥
ぎ取って乾燥するものである。ベルト式支持体として用
いられるベルトの幅は溶液製膜装置のメーカーの能力に
よって上限があり、一般に２〜２．５ｍ以下である。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】溶液製膜法においても
フィルムの生産性を向上させることは重要である。本発
明者らは、このフィルム生産性を向上させる手段とし
て、まずフィルムの流延厚みをなくして横延伸すること
を考えたが、これはフィルムの光学特性等の性能変化が
生じるためフィルムの用途が制限されてしまう。そこ
で、発明者らは次に支持体のベルトを広くしてフィルム
の流延幅を広げる方法を検討したが、ベルトの幅を１．
６ｍ以上にすると、乾燥ムラ、ベルト温度ムラ、ベルト
平面性等の問題を生じた。

【０００４】本発明の目的は、上記問題点を解決して、
幅１．６ｍ以上のベルトを用いても、乾燥ムラ、ベルト
温度ムラ、ベルト平面性等の問題のないフィルムを製造
でき、もってフィルムの生産性を向上できる溶液製膜方
法を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するべく鋭意検討の結果、乾燥ムラは、幅方向の給
排気均一化・ガス濃度均一化を行い、ベルト幅方向温度
ムラはベルトに接する温調ドラムの表面温度均一化によ
り改善できた。そして、ベルトの平面性の問題は、エン
ドレスベルトの蛇行量と密接な関係があることが判明し
た。すなわち、蛇行が大きい場合、ベルト耳部の歪が増
大して平面性が悪化し、結果的に流延したフィルムの平
面性も悪化する。したがって、ベルトの蛇行量をベルト
テンション最適化・位置制御を行い、大幅に低減するこ
とにより、ベルト耳部の平面性悪化を防止することがで
き、ダイ流延幅を広げることが可能となった。一方ベル
ト幅に対して流延幅がかなり小さい場合は以下の問題が
生じる。流延された部分は溶剤の蒸発により温度が大き
く低下するが、広い未流延の部分は乾燥風により昇温
し、大きな温度差によってベルトが幅方向に湾曲し、ベ
ルト搬送工程で安定したベルトの搬送が困難となること
がある。したがって、ベルト幅に対して、最小のダイ流
延幅が存在する。この最小のダイ流延幅をクリアし、ベ
ルトの蛇行を抑制することにより、ベルト幅に対して最
大のダイ流延幅を得ることができる。一方、ダイの流延
幅をベルト幅いっぱいまで広くすることも考えられる
が、蛇行等により、ベルト耳部の平面性が悪化し、その
結果製品の耳部に欠陥が生じる。これも流延幅の上限を
特定範囲に制限することによって上記ベルト蛇行量の極
小化で解決しうることを見出した。

【０００６】一本のベルトの幅はベルトメーカーの能力
によって上限があるが、その場合、複数のベルト（通常
２本）を溶接して幅を広くすることができる。この場
合、この溶接部も研磨によって鏡面とされるが、それで
もベルト溶接部の研磨跡が精密なフィルムに対して無視
できず、欠陥（微小な変形）となる。本発明者らは、流
延時のポリマー溶液の粘度を、あるレベル以上とするこ
とによって研磨跡が流延されたフィルムに転写されにく
くなり、フィルムを使用上問題のない性状で得られるこ
とを見出した。ただし、粘度が高すぎる場合は、レベリ
ングが遅れ別のベコ状の外観となり、最適な範囲が存在
する。

【０００７】本発明は、これらの知見に基づいてなされ
たものであり、ダイから流延されたポリマー溶液のフィ
ルムを支持する支持体として幅１．６ｍ以上のベルトを
使用し、該ベルトの蛇行量をベルト幅に対し±０．５％
以下とし、かつダイからのフィルムの流延幅をベルト幅
の７０％以上でベルト幅−（蛇行量×４）以下とするこ
とを特徴とする溶液製膜方法と、ベルトが複数のベルト
の側縁間を溶接して一体化されたものであり、かつ流延
されるポリマー溶液の粘度を落球法で６０〜２００秒と
することを特徴とする上記記載の溶液製膜方法に関する
ものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の溶液製膜方法で使用され
る装置は支持体のベルトとダイの幅を広げ、すなわち、
装置の製膜部分の幅を広げたほかは通常の装置と同様で
よい。

【０００９】まず、ダイは単層フィルムを流延するもの
のほか多層フィルムを流延する共流延ダイであってもよ
い。また、ダイはコートハンガーダイタイプでダイタイ
プ等如何なる形状であってもよい。本発明において、フ
ィルムの流延幅を定めるダイスロットの長さは、フィル
ムの流延幅がベルト幅の７０％以上、好ましくは７５％
以上、さらに好ましくは８０％以上、特に好ましくは８
５％以上であり、上限はフィルムの流延幅がベルト幅の
両端から蛇行量の２倍づつを差し引いた幅、好ましくは
蛇行量の５倍づつを差し引いた幅になる長さである。

【００１０】支持体のベルトの幅は１．６ｍ以上、好ま
しくは１．８ｍ以上である。幅の上限は本発明の効果を
奏する限り制限されないが、例えば３ｍ程度付近まで可
能である。このベルトは当初から１本のもの(シームレ
スベルト)と２本以上の各ベルトの側縁間を溶接して幅
を広くしたもの（センターシームベルト）であってもよ
い。

【００１１】本発明にあっては、支持体のベルトの蛇行
量を極小化することを大きな特徴としている。蛇行量と
は、ベルトを連続で運転したときのベルト端の幅方向の
最大移動量、すなわちベルト端が蛇行によってベルト幅
方向に左右に振れるがその全振幅であって、少なくとも
１００周以上運転してその最大振幅を求める。この蛇行
量の測定はスケールによる目視、あるいは外部に光学式
のセンサーを固定し、センサーで運転中のベルト端部の
位置を検出して求める。このベルトの蛇行量をベルト幅
に対し±０．５％以下、好ましくは±０．３％以下、さ
らに好ましくは±０．２％とする。ベルトの蛇行量を減
少させる方法としては、ベルトテンションの調整、位置
制御、ベルトを受けているドラム（プーリー）の形状調
整等がある。ベルトテンションは、高くするほうが一般
に蛇行量は小さくなる。一方、一般に左右のテンション
バランスは調整しない。蛇行の原因によるがベルト自身
が曲がっていた場合は、強力にテンションをかけて強引
に曲がりを修正するケースもある。また、位置制御はベ
ルト位置を検出して、ベルトが所定の位置になるようロ
ール、ドラム等の傾きを調整する。

【００１２】流延速度ｖは、通常３ｍ／分〜１５０ｍ／
分の範囲で設定し、好ましくは１０ｍ／分〜１００ｍ／
分の範囲で設定するのがよいが、これに限定されるもの
ではない。

【００１３】本発明の溶液製膜方法に用いるポリマー溶
液の素材ポリマーとしては、セルロースアシレート、ポ
リカーボネート等が用いられる。セルロースアシレート
の詳細について、以下に記載する。好ましいセルロース
アシレートは、セルロースの水酸基への置換度が下記式
〜のすべてを満足するものである。 ２．６≦Ａ＋Ｂ≦３．０ ２．０≦Ａ≦３．０ ０≦Ｂ≦０．８ １．９＜Ａ−Ｂ

【００１４】ここで、式中Ａ及びＢはセルロースの水酸
基に置換されているアシル基の置換基を表し、Ａはアセ
チル基の置換度、またＢは炭素原子数３〜５のアシル基
の置換度である。セルロースには１グルコース単位に３
個の水酸基があり、上記の数字はその水酸基３．０に対
する置換度を表すもので、最大の置換度が３．０であ
る。セルローストリアセテートは一般にＡの置換度が
２．６以上３．０以下であり（この場合、置換されなか
った水酸基が最大０．４もある）、Ｂ＝０の場合がセル
ローストリアセテートである。本発明の溶液製膜方法の
ポリマー溶液に用いるセルロースアシレートは、アシル
基が全部アセチル基のセルローストリアセテート、及び
アセチル基が２．０以上で、炭素原子数が３〜５のアシ
ル基が０．８以下、置換されなかった水酸基が０．４以
下のものが好ましく、置換度２．６〜３．０のセルロー
ストリアセテートが特に好ましい。なお、置換度は、セ
ルロースの水酸基に置換する酢酸及び炭素原子数３〜５
の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって得られる。測
定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて
実施することが出来る。

【００１５】アセチル基の他の炭素原子数３〜５のアシ
ル基はプロピオニル基（Ｃ_２Ｈ_５ＣＯ−）、ブチリル基
（Ｃ_３Ｈ_７ＣＯ−）（ｎ−、ｉｓｏ−）、バレリル基
（Ｃ_４Ｈ_９ＣＯ−）（ｎ−、ｉｓｏ−、ｓｅｃ−、ｔｅ
ｒｔ−）で、これらのうちｎ−置換のものがフィルムに
した時の機械的強さ、溶解し易さ等から好ましく、特に
ｎ−プロピオニル基が好ましい。また、アセチル基の置
換度が低いと機械的強さ、耐湿熱性が低下する。炭素原
子数３〜５のアシル基の置換度が高いと有機溶剤への溶
解性は向上するが、それぞれの置換度が前記の範囲であ
れば良好な物性を示す。

【００１６】セルロースアシレートの重合度（粘度平
均）は２００〜７００が好ましく、特に２５０〜５５０
のものが好ましい。粘度平均重合度（ＤＰ）は、オスト
ワルド粘度計で求めることができ、測定されたセルロー
スアシレートの固有粘度［η］から下記式により求めら
れる。 ＤＰ＝［η］／Ｋｍ(式中、Ｋｍは定数６×１０^−４)

【００１７】セルロースアシレート原料のセルロースと
しては、綿花リンターや木材パルプなどがあるが、何れ
の原料セルロースから得られるセルロースアシレートで
も使用でき、また、これらを混合して使用してもよい。

【００１８】ポリマー溶液におけるポリマーの濃度は好
ましくは１０質量％以上、さらに好ましくは１５質量％
以上、特に好ましくは１９質量％以上である。濃度の上
限はポリマー溶液の流動性などによって定まり、一般に
３０質量％程度である。ベルトが２本以上を溶接して幅
広にしたシームベルトである場合にはポリマー溶液の粘
度を落球法で６０〜２００秒になるようにすることによ
って、溶接部の研磨跡の転写を起こしにくくして製品欠
陥を解消することができる。好ましい粘度は８０〜１８
０秒であり、特に好ましくは１００〜１７０秒である。
この落球法は、内径４０ｍｍの粘度管を溶液で満たし、
温度３５℃とし、溶液中に鋼球直径６．３４２〜６．３
５０ｍｍ、鋼球重量１．０２６〜１．０３９ｇの鋼球を
投下し、２５０ｍｍの落下に要する時間（秒）を測定す
ることによって求められた粘度である。粘度の調節はポ
リマー濃度のほか、溶剤の選択、増粘剤や粘度調整剤の
添加などによって行うことができる。

【００１９】セルロースアシレートを溶解する有機溶剤
の例には、炭化水素（例：ベンゼン、トルエン、シクロ
ペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオ
クタン）、ハロゲン化炭化水素（例：メチレンクロライ
ド、クロロベンゼン）、アルコール（例：メタノール、
エタノール、ジエチレングリコール、ｎ−プロピルアル
コール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、プ
ロパノール、イソ−プロパノール、１−ブタノール、ｔ
−ブタノール、２−メチル−２−ブタノール、２−メト
キシエタノール、２−ブトキシエタノール）、ケトン
（例：アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケト
ン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシ
クロヘキサノン）、エステル（例：酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸プロピル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸
ペンチル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル及び２−エトキシ
−エチルアセテート）及びエーテル（例：テトラヒドロ
フラン、メチルセロソルブ、ジイソプロピルエーテル、
ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキ
サン、１，３−ジオキソラン、アニソール、フェネトー
ル）などがあげられる。

【００２０】炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が
好ましく用いられ、メチレンクロライドが最も好ましく
用いられる。セルロースアシレートの溶解性、支持体か
らの剥ぎ取り性、フィルムの機械強度等、光学特性等の
物性の観点から、メチレンクロライドの他に炭素原子数
１〜５のアルコールを一種、ないし数種類混合すること
が好ましい。アルコールの含有量は、溶剤全体に対し２
〜２５質量％が好ましく、５〜２０質量％がより好まし
い。アルコールの具体例としては、メタノール、エタノ
ール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタ
ノール等があげられるが、メタノール、エタノール、ｎ
−ブタノール、あるいはこれらの混合物が好ましく用い
られる。

【００２１】溶剤はセルロースエステルフィルムの形成
において除去する。溶剤の残留量は一般に５質量％未満
である。残留量は、１質量％未満であることが好まし
く、０．５質量％未満であることがさらに好ましい。

【００２２】本発明の溶液製膜方法に用いるポリマー溶
液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤
（例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、微粒子
粉体、離型剤、光学特性調整剤、フッ素系界面活性剤）
を加えることができる。またその添加する時期はポリマ
ー溶液作製工程において何れでも添加しても良いが、ポ
リマー溶液調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し
調製する工程を加えて行ってもよい。

【００２３】前記可塑剤としては、リン酸エステル又は
カルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例
には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）及びトリ
クレジルフォスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニ
ルフォスフェート、オクチルジフェニルフォスフェー
ト、ジフェニルビフェニルフォスフェート、トリオクチ
ルフォスフェート、トリブチルフォスフェート等があげ
られる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステ
ル及びクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エス
テルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチ
ルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢ
Ｐ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフ
タレート（ＤＰＰ）及びジエチルヘキシルフタレート
（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、
Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）及びＯ
−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン
酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチルが
含まれる。

【００２４】その他のカルボン酸エステルの例には、オ
レイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシ
ン酸ジブチル、トリメチルトリメリテート等のトリメリ
ット酸エステルが含まれる。グリコール酸エステルの例
としては、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリ
ルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレ
ート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタ
リルブチルグリコレートなどがある。

【００２５】以上に例示した可塑剤の中でも、トリフェ
ニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェ
ート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニ
ルフォスフェート、トリブチルフォスフェート、ジメチ
ルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレー
ト、ジオクチルフタレート、ジエチルヘキシルフタレー
ト、トリアセチン、エチルフタリルエチルグリコレー
ト、トリメチルトリメリテートらを用いることが好まし
い。特にトリフェニルフォスフェート、ビフェニルジフ
ェニルフォスフェート、ジエチルフタレート、エチルフ
タリルエチルグリコレート、トリメチルトリメリテート
が好ましい。

【００２６】以上のような可塑剤は１種でもよいし２種
以上併用してもよい。可塑剤の添加量は、セルロースア
シレートに対して０．１〜２０質量％が好ましく、５〜
１５質量％がより好ましい。添加量が０．１質量％未満
では添加効果を十分に発揮することができず、添加量が
２０質量％を超えると、フィルム表面にブリードアウト
する場合がある。

【００２７】その他、本発明においてはその光学的異方
性を小さくする可塑剤として、特開平１１−１２４４４
５号記載の（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、特
開平１１−２４６７０４号記載のグリセロールエステル
類、特開２０００−６３５６０号記載のジグリセロール
エステル類、特開平１１−９２５７４号記載のクエン酸
エステル類、特開平１１−９０９４６号記載の置換フェ
ニルリン酸エステル類などが好ましく用いられる。

【００２８】前記紫外線吸収剤は、目的に応じ任意の種
類のものを選択することができ、サリチル酸エステル
系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾ
エート系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の
吸収剤を用いることができるが、ベンゾフェノン系、ベ
ンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系が好まし
い。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、２，４
−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
アセトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−
４，４’−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−
４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−
４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−
４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキ
シベンゾフェノン等をあげることができる。ベンゾトリ
アゾール系紫外線吸収剤としては、２（２’−ヒドロキ
シ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）
−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキ
シ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒ
ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−
ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒド
ロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾト
リアゾール等をあげることができる。サリチル酸エステ
ル系としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフ
ェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサ
リシレート等をあげることができる。これら例示した紫
外線吸収剤の中でも、特に２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４，
４’−メトキシベンゾフェノン、２（２’−ヒドロキシ
−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−
５−クロルベンゾトリアゾール、２（２’−ヒドロキシ
−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ
−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２’−ヒ
ドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）−５−クロルベンゾトリアゾールが特に好ましい。

【００２９】紫外線吸収剤は、吸収波長の異なる複数の
吸収剤を複合して用いることが、広い波長範囲で高い遮
断効果を得ることができるので好ましい。液晶用紫外線
吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ
以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ、液晶表示性の観点
から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないもの
が好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、
ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化
合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系
化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。特に
好ましい紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系化合物
やベンゾフェノン系化合物である。中でも、ベンゾトリ
アゾール系化合物は、セルロースエステルに対する不要
な着色が少ないことから、好ましい。

【００３０】また、紫外線吸収剤については、特開昭６
０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０１号、同５
−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２
７１４７１号、同６−１０７８５４号、同６−１１８２
３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、
同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９
６１９号、同８−２３９５０９号、特開２０００−２０
４１７３号の各公報に記載がある。

【００３１】紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシ
レートに対し０．００１〜５質量％が好ましく、０．０
１〜１質量％がより好ましい。添加量が０．００１質量
％未満では添加効果を十分に発揮することができず、添
加量が５質量％を超えると、フィルム表面へ紫外線吸収
剤がブリードアウトする場合がある。

【００３２】また、紫外線吸収剤はセルロースアシレー
ト溶解時に同時に添加しても良いし、溶解後のポリマー
溶液に添加しても良い。特にスタティックミキサ等を用
い、流延直前にポリマー溶液に紫外線吸収剤溶液を添加
する形態が、分光吸収特性を容易に調整することができ
るので好ましい。

【００３３】前記劣化防止剤は、セルローストリアセテ
ート等が劣化、分解するのを防止することができる。劣
化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化
合物（特開平８−３２５５３７号公報）、グアニジン化
合物（特開平５−２７１４７１号公報）、ベンゾトリア
ゾール系ＵＶ吸収剤（特開平６−２３５８１９号公
報）、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤（特開平６−１１８
２３３号公報）などの化合物がある。

【００３４】このうち、ヒンダードアミン化合物の例と
しては、ｔ−ブチルアミン、トリフェニルアミン、トリ
ベンジルアミン等がある。また、グアニジン誘導体とし
て、下記式（１ａ）、（１ｂ）で示される化合物等があ
る。

【００３５】

【化１】

【００３６】劣化防止剤の添加量は、０．００１〜５％
が好ましく、０．０１〜１％がより好ましい。添加量が
０．００１％未満であると添加効果が少なく、添加量が
５％を超えると、原料コストが上昇して不利である。

【００３７】前記微粒子粉体としては、シリカ、カオリ
ン、タルク、ケイソウ土、石英、炭酸カルシウム、硫酸
バリウム、酸化チタン、アルミナなどを目的に応じ、任
意に用いることができる。これら微粒子粉体はポリマー
溶液に添加する前に、高速ミキサー、ボールミル、アト
ライター、超音波分散機等、任意の手段でバインダー溶
液中に分散を行うことが好ましい。バインダーとしては
セルロースアシレートが好ましい。紫外線吸収剤等、他
の添加物と共に分散を行うことも好ましい。分散溶媒は
任意であるが、ポリマー溶液溶媒と近い組成であること
が好ましい。

【００３８】微粒子粉体の数平均粒径は０．０１〜１０
０μｍが好ましく、０．１〜１０μｍが特に好ましい。
上記の分散液はセルロースアシレート溶解工程に同時に
添加しても良いし、任意の工程でポリマー溶液に添加で
きるが、紫外線吸収剤同様スタティックミキサ等を用
い、流延直前に添加する形態が好ましい。

【００３９】微粒子粉体の含有量は、セルロースアシレ
ートに対して０．００１〜５質量％であることが好まし
く、０．０１〜１質量％であることがより好ましい。添
加量が０．００１質量％未満では添加効果を十分に発揮
することができず、添加量が５質量％を超えると、外観
面状が悪くなる場合がある。

【００４０】前記離型剤としては、界面活性剤が有効で
あり、リン酸系、スルフォン酸系、カルボン酸系、ノニ
オン系、カチオン系など特に限定されない。これらは、
例えば特開昭６１−２４３８３７号などに記載されてい
る。離型剤の添加量は、セルロースアシレートに対して
０．００１〜２質量％が好ましく、０．０１〜１質量％
がより好ましい。添加量が０．００１質量％未満であれ
ば添加効果を十分に発揮することができず、添加量が２
質量％を超えると、析出したり、不溶解物を生じたりす
ることがある。

【００４１】ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキ
シエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレ
ン、ポリグリシジルやソルビタンをノニオン性親水性基
とする界面活性剤であり、具体的には、ポリオキシエチ
レンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフ
ェニールエーテル、ポリオキシエチレン−ポリオキシプ
ロピレングリコール、多価アルコール脂肪酸部分エステ
ル、ポリオキシエチレン多価アルコール脂肪酸部分エス
テル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリグリセ
リン脂肪酸エステル、脂肪酸ジエタノールアミド、トリ
エタノールアミン脂肪酸部分エステルを挙げることがで
きる。

【００４２】アニオン系界面活性剤としてはカルボン酸
塩、硫酸塩、スルフォン酸塩、リン酸エステル塩であ
り、代表的なものとしては脂肪酸塩、アルキルベンゼン
スルフォン酸塩、アルキルナフタレンスルフォン酸塩、
アルキルスルフォン酸塩、α−オレフィンスルフォン酸
塩、ジアルキルスルフォコハク酸塩、α−スルフォン化
脂肪酸塩、Ｎ−メチルーＮオレイルタウリン、石油スル
フォン酸塩、アルキル硫酸塩、硫酸化油脂、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレン
アルキルフェニールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレ
ンスチレン化フェニールエーテル硫酸塩、アルキルリン
酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、
ナフタレンスルフォン酸塩ホルムアルデヒド縮合物など
である。

【００４３】カチオン系界面活性剤としてはアミン塩、
４級アンモニウム塩、ピリジュム塩などを挙げることが
でき、第一〜第３脂肪アミン塩、第４級アンモニウム塩
（テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジ
ルアンモニウム塩、アルキルピリジウム塩、アルキルイ
ミダゾリウム塩など）を挙げることが出来る。両性系界
面活性剤としてはカルボキシベタイン、スルフォベタイ
ンなどであり、Ｎ−トリアルキル−Ｎ−カルボキシメチ
ルアンモニウムベタイン、Ｎ−トリアルキル−Ｎ−スル
フォアルキレンアンモニウムベタインなどである。

【００４４】前記フッ素系界面活性剤を添加することに
より、帯電防止効果を発揮することができる。フッ素系
界面活性剤の添加量は、セルロースアシレートに対して
０．００２〜２質量％が好ましく、０．０１〜０．５質
量％がより好ましい。添加量が０．００２質量％未満で
あれば添加効果を十分に発揮することができず、添加量
が２質量％を超えると、析出したり、不溶解物を生じた
りすることがある。

【００４５】本発明においては、レターデーション上昇
剤（光学特性調整剤）を添加することができる。レター
デーション上昇剤を添加することにより、光学異方性を
コントロールすることができる。レターデーション上昇
剤は、セルロースアシレートフイルムのレターデーショ
ンを調整するため、少なくとも二つの芳香族環を有する
芳香族化合物を使用することが好ましい。芳香族化合物
は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．
０１〜２０質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、
セルロースアセレート１００質量部に対して、０．０５
〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１
〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。
二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香族化
合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香
族性ヘテロ環を含む。

【００４６】芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、
ベンゼン環）であることが特に好ましい。芳香族性ヘテ
ロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ
環は、５員環、６員環又は７員環であることが好まし
く、５員環又は６員環であることがさらに好ましい。芳
香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘ
テロ原子としては、窒素原子、酸素原子及び硫黄原子が
好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環
の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキ
サゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソ
チアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザ
ン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダ
ジン環、ピリミジン環、ピラジン環及び１，３，５−ト
リアジン環が含まれる。

【００４７】本発明においては、着色剤を添加すること
ができる。着色剤を添加することにより、感光材料支持
体等に用いる場合、ライトパイピングを防止することが
できる。着色剤の添加量は、セルロースアシレートに対
する重量割合で１０〜１０００ｐｐｍが好ましく、５０
〜５００ｐｐｍが更に好ましい。

【００４８】また、本発明におけるポリマー溶液には、
ルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属の塩な
どの熱安定剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤など
を、必要に応じて適宜添加することができる。

【００４９】本発明の溶液製膜方法により製造されるフ
ィルムの光学特性について記す。まず、フィルムの面内
のレターデーション（Ｒｅ）について記すと、その測定
法はエリプソメーター（偏光解析計ＡＥＰ−１００：島
津製作所（株）製）を用いて、波長６３２．８ｎｍにお
ける面内の縦横の屈折率差にフィルム膜厚さを乗じたも
のであり、下記の式で求められる。 Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ ｎｘ：横方向の屈折率 ｎｙ：縦方向の屈折率

【００５０】レターデーション（Ｒｅ）は、小さいほど
面内方向の光学異方性がないことを示し、０〜３００ｎ
ｍの範囲で用途に応じて用いられる。また、フィルムの
厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）も重要であり、
波長６３２．８ｎｍにおける厚さ方向の複屈折にフィル
ム膜厚さを乗じたものであり、下記の式で求められる。 Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ ｎｘ：横方向の屈折率 ｎｙ：縦方向の屈折率 ｎｚ：厚さ方向の屈折率

【００５１】厚さ方向の屈折率が小さいほど、厚さ方向
の光学異方性がないことを示すが、その使用用途によっ
て好ましい範囲は定まる。一般には、本発明により製造
されたセルロースアシレートフィルムのＲｔｈは１００
μｍ当たり、０ｎｍ〜６００ｎｍであり、さらには０ｎ
ｍ〜４００ｎｍで用いられる。

【００５２】本発明の溶液製膜方法で製造されるフィル
ムは、例えば、偏光板保護膜、光学補償シート、ＡＲ、
ＬＲ、ＡＧ膜用支持体フィルム等の光学用途フィルム、
写真感光材料用支持体フィルムとしても利用することが
できる。

【００５３】本発明の溶液製膜方法で製造されるフィル
ムを光学補償シートに利用する場合、フイルムそのもの
を光学補償シートとして用いることができる。なお、フ
イルムそのものを光学補償シートとして用いる場合は、
偏光板の透過軸と、光学補償シートの遅相軸とを実質的
に平行又は垂直になるように配置することが好ましい。
このような偏光板と光学補償シートとの配置について
は、特開平１０−４８４２０号公報に記載がある。液晶
表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる
液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光板、及び該
液晶セルと該偏光板との間に少なくとも一枚の光学補償
シートを配置した構成を有している。

【００５４】液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板
の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封
入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明
な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガ
スバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の
接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けて
もよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液
晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有す
る。

【００５５】光学補償シートは複屈折性を有し、液晶表
示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を
改善したりする目的で用いられる。本発明によるセルロ
ースアシレートフィルムそのものを、光学補償シートと
して用いることができる。さらに反射防止層、防眩性
層、λ／４層や２軸延伸セルロースアシレートフィルム
として機能を付与してもよい。また、液晶表示装置の視
野角を改良するため、本技術のセルロースアシレートフ
ィルムと、それとは（正／負の関係が）逆の複屈折を示
すフィルムを重ねて光学補償シートとして用いてもよ
い。

【００５６】また、支持体の上に液晶性化合物（特にデ
ィスコティック液晶性分子）を含む光学的異方性層を設
けた光学補償シートも提案されている（特開平３−９３
２５号、同６−１４８４２９号、同８−５０２０６号、
同９−２６５７２号の各公報記載）。本発明の溶液製膜
方法で製造されるフィルムそのような光学補償シートの
支持体としても用いることができる。

【００５７】前記偏光板の偏光素子には、ヨウ素系偏光
膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光
膜がある。いずれの偏光素子も、一般にポリビニルアル
コール系フィルムを用いて製造する。偏光板の保護膜
は、２５〜３５０μｍの厚さを有することが好ましく、
４０〜２００μｍの厚さを有することがさらに好まし
い。液晶表示装置には、表面処理膜を設けてもよい。表
面処理膜の機能には、ハードコート、防曇処理、防眩処
理及び反射防止処理が含まれる。

【００５８】前記光学的異方性層は、負の一軸性を有し
傾斜配向したディスコティック液晶性分子を含む層であ
ることが好ましい。ディスコティック液晶性分子を含む
層が、円盤面と支持体面とのなす角が光学的異方性層の
深さ方向において変化したハイブリッド配向していても
構わないし、円盤面が支持体面と平行なホメオトロピッ
ク配向、円盤面が支持体面と垂直なホモジニアス配向、
又は、円盤面が光学的異方性層の深さ方向でねじれてい
るツイスト配向を取っていても構わない。また、これら
の配向が混在した配向（例えば、ハイブリッド配向＋ツ
イスト配向）していても構わない。そのなかでもハイブ
リッド配向していることが好ましい。ディスコティック
液晶性分子ひとつひとつの光軸は、円盤面の法線方向に
存在する。しかし、ディスコティック液晶性分子がハイ
ブリッド配向している層全体としては、光軸は存在しな
い。

【００５９】本発明の溶液製膜方法により製造されるフ
ィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることが
できる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、Ｉ
ＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬ
Ｃ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙ
ｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃ
ｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏ
ｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎ
ｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａ
ｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅ
ｄ）及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍ
ａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されてい
る。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも
提案されている。セルロースアシレートフィルムは、い
ずれの表示モードの液晶表示装置においても有効であ
る。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表
示装置においても有効である。

【００６０】本発明の溶液製膜方法で製造されるフィル
ムをＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置
の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＴＮモ
ードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古く
から良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光
学補償シートについては、特開平３−９３２５号、同６
−１４８４２９号、同８−５０２０６号、同９−２６５
７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）
他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．
３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐ
ｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６
８）に記載がある。ＴＮ型液晶表示装置については、特
開平１０−１２３４７８号、ＷＯ９８４８３２０号、特
許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。

【００６１】本発明の溶液製膜方法で製造されるフィル
ムをＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示
装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一
般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液
晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒
状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ
（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲
にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シート
については、特開２０００−１０５３１６号公報に記載
がある。

【００６２】本発明の溶液製膜方法で製造されるフィル
ムをＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置
の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＶＡ型
液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデー
ションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面
内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＶＡ型
液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質は、
光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質及び
光学的異方性層と支持体との配置により決定される。Ｖ
Ａ型液晶表示装置に光学補償シートを二枚使用する場合
は、光学補償シートの面内レターデーションを、−５ｎ
ｍ〜５ｎｍの範囲内にすることが好ましい。従って、二
枚の光学補償シートのそれぞれの面内レターデーション
の絶対値は、０〜５とすることが好ましい。ＶＡ型液晶
表示装置に光学補償シートを一枚使用する場合は、光学
補償シートの面内レターデーションを、−１０ｎｍ〜１
０ｎｍの範囲内にすることが好ましい。

【００６３】本発明の溶液製膜方法で製造されるフィル
ムを、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表
示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ
型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いて
もよい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表
示装置に用いる光学補償シートには、レターデーション
の絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも
法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶
表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補
償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性
質、支持体の光学的性質及び光学的異方性層と支持体と
の配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるい
はＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについ
ては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。ま
た、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐ
ｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３
７）に記載がある。

【００６４】本発明の溶液製膜方法で製造されるフィル
ムをＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌ
ｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを
有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体
として用いてもよい。ＡＳＭモードの液晶セルは、セル
の厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持され
ているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの
液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳ
Ｍ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）外の論
文（Ｋｕｍｅ ｅｔ ａｌ．，ＳＩＤ ９８ Ｄｉｇｅｓｔ
１０８９（１９９８））に記載がある。

【００６５】また、可塑剤や紫外線吸収剤、劣化防止剤
などの添加剤を加えてもよい。

【００６６】フィルムの厚みｔは、２０〜５００μｍが
好ましく、３０〜３００μｍがより好ましく、３５〜２
００μｍが最も好ましいが、これに限定されるものでは
ない。

【００６７】本発明の方法で得られたフィルムは、極め
て均一な光学特性が必要で、また反射防止層等の機能性
膜を精密に塗布する偏光板用の保護フィルムとして使用
することができる。

【００６８】偏光板は延伸されたＰＶＡ膜と、それをサ
ンドイッチしている保護フィルムで構成され、保護フィ
ルムの平面性、光学特性、機械物性により大きく性能が
左右される。一般に、保護フィルムには平滑な外観、均
一な厚さ、異方性が小さい光学特性、適度の強度と柔軟
性を有し、寸度変化が小さい物理特性が要求される。

【００６９】

【実施例】［実施例１］下記ポリマー溶液を、ＳＵＳ製
のエンドレス支持体（ベルト）上にダイを用いて流延
し、工程状況及び剥ぎ取ったフィルムの外観を評価し
た。

【００７０】ポリマー溶液：固形分として、セルロース
トリアセテート１００重量部、トリフェニルホスフェー
ト１２重量部を塩化メチレン、メタノール混合溶媒に、
固形分濃度１９質量％となるように作製。評価結果を表
１に示す。

【００７１】

【表１】 Ｗ：ベルト幅

【００７２】［実施例２］ ＜内層用セルローストリアセテート溶液の作製＞攪拌羽
根を有するステンレス性溶解タンクに、下記の溶媒混合
溶液によく攪拌しつつ、セルローストリアセテート粉体
（平均サイズ２ｍｍ）を徐々に添加して仕込んだ。添加
後、室温（２５℃）にて３時間，２５℃にて放置し、セ
ルローストリアセテートを膨潤させた。なお、溶媒であ
る酢酸メチルとシクロペンタノン、アセトン、メタノー
ル及びエタノールは、すべてその含水率が０．２質量％
以下のものを利用した。

【００７３】 セルローストリアセテート １６質量部 （置換度２．８３、粘度平均重合度３２０、含水率０．４質量％、メチレンク ロライド溶液中６質量％の粘度３０５ｍＰａ・ｓ） 酢酸メチル ５３質量部 シクロペンタン １０質量部 アセトン ５質量部 メタノール ５質量部 エタノール ５質量部 可塑剤Ａ（ジペンタエリスリトールヘキサアセテート） ３質量部 可塑剤Ｂ（トリフェニルフォスフェート） ３質量部 微粒子（シリカ：粒径２０ｎｍ） ０．１質量部 ＵＶ剤ａ ０．１質量部 （２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ −ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン ＵＶ剤ｂ ０．１質量部 （２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５ −クロルベンゾトリアゾール） ＶＵ剤ｃ ０．１質量部 （２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５ −クロルベンゾトリアゾール） Ｃ₁₂Ｈ₂₅ＯＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−Ｐ(＝Ｏ)−(ＯＫ)₂ ０．０５質量部

【００７４】なお、後述する冷却溶解法で得られたこの
溶液の粘度は１６０Ｐａ・ｓ（４５℃）であった。

【００７５】＜内層用セルローストリアセテート溶液の
冷却溶解＞上述したセルローストリアセテート溶液をス
クリュー押し出し機で送液して、−７０℃で３分間とな
るように冷却部分を通過させた。冷却は冷凍機で冷却し
た−８０℃の冷媒（３Ｍ社製，『フロリナート』）を用
いて実施した。そして、冷却により得られた溶液は静止
型混合器を設置した熱交換器により１２０℃まで温度を
上昇させ、３分間保持した後、冷却し５０℃としてステ
ンレス製の容器に移送し、５０℃で２時間撹拌し脱泡を
行った。このセルローストリアセテート溶液を絶対濾過
精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製，『＃６
３』）で濾過し、さらに、絶対濾過精度０．００２５ｍ
ｍの濾紙（ポール社製，『ＦＨ ０２５』）で濾過し
た。

【００７６】＜外層用セルローストリアセテート溶液の
作製＞上述した内層用セルローストリアセテート溶液に
おいて、セルローストリアセテートを１９質量部、酢酸
メチルを４４質量部に変更した他は、同様に仕込んだ。
なお、冷却溶解法で得られたこの溶液の粘度は２５Ｐａ
・Ｓ（４５℃）であった。

【００７７】＜外層用セルローストリアセテート溶液の
冷却溶解＞上述したセルローストリアセテート溶液をス
クリュー押し出し機で送液して、−７０℃で３分間とな
るように冷却部分を通過させた。冷却は冷凍機で冷却し
た−８０℃の冷媒（３Ｍ社製，『フロリナート』）を用
いて実施した。そして、冷却により得られた溶液は静止
型混合器を設置した熱交換器により１２０℃まで温度を
上昇させ、３分間保持した後、冷却し５０℃としてステ
ンレス製の容器に移送し、５０℃で２時間撹拌し脱泡を
行った。このセルローストリアセテート溶液を絶対濾過
精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製，『＃６
３』）で濾過し、さらに、絶対濾過精度０．００２５ｍ
ｍの濾紙（ポール社製，『ＦＨ ０２５』）で濾過し
た。

【００７８】＜セルローストリアセテートフィルムの作
製＞上述したセルローストリアセテート溶液を三層共流
延ダイを用い、内層用セルローストリアセテート溶液が
内側に、外層用セルローストリアセテート溶液が両表面
側になるように配置してＳＵＳ製のエンドレス支持体
（ベルト）上に同時に吐出させて重層流延した。その
後、流延膜を支持体から剥ぎ取り、乾燥して、三層構造
のセルローストリアセテートフィルム積層体（内層の厚
さ：４０μｍ、各外層の厚さ：１μｍ）を作製した。こ
のセルローストリアセテートフィルム積層体の外観を評
価した。評価結果を、表２に示す。

【００７９】

【表２】

【００８０】［偏光板の作製及び評価］ポリビニルアル
コールを延伸してヨウ素を吸着させた偏光素子の両面
に、ポリビニルアルコール系接着剤で、実施例１及び２
で優れた工程、外観評価結果を得たフィルムをそれぞれ
貼合して、偏光板サンプルを作製した。

【００８１】これらの偏光板サンプルを６０℃，９０％
ＲＨの雰囲気下で５００時間暴露し、偏光度を測定し
た。偏光度は、いずれの実施例においても９９．６％以
上であり、十分な耐久性が認められた。

【００８２】なお、偏光度の測定は、以下の方法により
行った。分光光度計により可視領域における並行透過率
Ｙｐ、直行透過率Ｙｃを求め次式に基づき偏光度Ｐを決
定する。 Ｐ＝√（（Ｙｐ−Ｙｃ）／（Ｙｐ＋Ｙｃ））

【００８３】［液晶表示装置での評価］上記偏光板１組
をＴＦＴ（薄膜トランジスター）方式の液晶表示装置に
実装した。その結果、良好な視野角及びコントラストを
得ることができた。

【００８４】

【発明の効果】本発明により、溶液製膜法によるフィル
ムの生産性を向上させることができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｋ 3/00 Ｃ０８Ｋ 3/00 5/00 5/00 Ｃ０８Ｌ 1/12 Ｃ０８Ｌ 1/12 Ｇ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｂ 5/30 Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５１０ //(Ｃ０８Ｌ 1/12 (Ｃ０８Ｌ 1/12 71:02） 71:02） Ｂ２９Ｋ 1:00 Ｂ２９Ｋ 1:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA27 BB33 BB51 BC01 BC22 2H091 FA08X FA08Z FC01 GA16 LA12 4F071 AA09 AB30 AC10 AC11 AC12 AC15 AE04 AE05 AE17 AH12 BA03 BB02 BC01 4F205 AA01 AB07 AB10 AB11 AB14 AC05 AG01 AG03 AH73 AR20 GA07 GB02 GB26 GF24 GN24 GN28 4J002 AB021 CH052 DE138 DE148 DE238 DG048 DJ008 DJ018 DJ038 DJ048 EH059 EH096 EH146 EJ017 EJ067 EN109 EU177 EV259 EW046 EW049 FD018 FD026 FD057 FD162 FD169 FD312 FD319 GP00

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ダイから流延されたポリマー溶液のフィ
   ルムを支持する支持体として幅１．６ｍ以上のベルトを
   使用し、該ベルトの蛇行量をベルト幅に対し±０．５％
   以下とし、かつダイからのフィルムの流延幅をベルト幅
   の７０％以上でベルト幅−（蛇行量×４）以下とするこ
   とを特徴とする溶液製膜方法
2. 【請求項２】 ベルトが複数のベルトの側縁間を溶接し
   て一体化されたものであり、かつ流延されるポリマー溶
   液の粘度を落球法で６０〜２００秒とすることを特徴と
   する請求項１記載の溶液製膜方法
3. 【請求項３】 ポリマー溶液がセルローストリアセテー
   トを１０質量％以上含む請求項１又は２記載の溶液製膜
   方法
4. 【請求項４】 前記ポリマー溶液がセルロースアシレー
   ト溶液であって、その溶媒が酢酸メチル、ケトン及びア
   ルコールからなり、その溶媒比率が酢酸メチルが２０〜
   ９０質量％、ケトンが５〜６０質量％、アルコールが５
   〜３０質量％である請求項１又は２記載の溶液製膜方
   法。
5. 【請求項５】 前記ポリマー溶液がセルロースアシレー
   ト溶液であり、かつ、少なくとも一種の可塑剤をセルロ
   ースアシレートに対して０．１〜２０質量％含有してい
   る請求項１、２又は４記載の溶液製膜方法。
6. 【請求項６】 前記ポリマー溶液がセルロースアシレー
   ト溶液であり、かつ、少なくとも一種の紫外線吸収剤を
   セルロースアシレートに対して０．００１〜５質量％含
   有している請求項１、２、４又は５記載の溶液製膜方
   法。
7. 【請求項７】 前記ポリマー溶液がセルロースアシレー
   ト溶液であり、かつ、少なくとも一種の微粒子粉体をセ
   ルロースアシレートに対して０．００１〜５質量％含有
   している請求項１、２、４、５又は６記載の溶液製膜方
   法。
8. 【請求項８】 前記ポリマー溶液がセルロースアシレー
   ト溶液であり、かつ、少なくとも一種の離型剤をセルロ
   ースアシレートに対して０．００１〜２質量％含有して
   いる請求項１、２、４、５、６又は７記載の溶液製膜方
   法。
9. 【請求項９】 前記ポリマー溶液がセルロースアシレー
   ト溶液であり、かつ、少なくとも一種のフッ素系界面活
   性剤をセルロースアシレートに対して０．００２〜２質
   量％含有していることを特徴とする請求項１、２、４、
   ５、６、７又は８記載の溶液製膜方法。
10. 【請求項１０】 前記ダイよりポリマー溶液を流延する
    際、２種類以上のセルロースアシレート溶液からなるポ
    リマー溶液を共流延することを特徴とする請求項１、
    ２、４、５，６、７、８又は９記載の溶液製膜方法。
11. 【請求項１１】 請求項１、２、３、４、５、６、７、
    ８、９又は１０記載の溶液製膜方法で製造されたフィル
    ムよりなる偏光板保護フィルム。
12. 【請求項１２】 請求項１１記載の偏光板保護フィルム
    が装着されている偏光板。
13. 【請求項１３】 請求項１１記載の偏光板保護フィルム
    又は請求項１２記載の偏光板を用いた液晶表示装置。