JP2002122705A - 反射防止材及び光学部材 - Google Patents
反射防止材及び光学部材Info
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- JP2002122705A JP2002122705A JP2001217952A JP2001217952A JP2002122705A JP 2002122705 A JP2002122705 A JP 2002122705A JP 2001217952 A JP2001217952 A JP 2001217952A JP 2001217952 A JP2001217952 A JP 2001217952A JP 2002122705 A JP2002122705 A JP 2002122705A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】人間の目の感度の比較的高い４５０ｎｍ〜６５
０ｎｍの範囲での分光反射率が１％以下とすることを目
的とし、更に好ましくは０．５％以下の波長域をより広
域化するをとともに、実用性に優れた反射防止フィルム
等の反射防止材ならびに光学部材を安価で且つ容易に提
供することが望まれていた。 【解決手段】透明基材上の少なくとも片面に、屈折率の
異なる金属酸化物を順次交互に積層した反射防止層を有
し、前記反射防止層の高屈折率層及び低屈折率層が、各
々同じ金属酸化物で形成されるとともに、前記高屈折率
層の屈折率が各々１．９以上２．５以下で各前記高屈折
率層は透明基材に近い順に屈折率が高く、前記低屈折率
層の屈折率が各々１．３以上１．５以下で各前記高屈折
率層は透明基材に近い順に屈折率が高いことを特徴とす
る反射防止材を提供する。
０ｎｍの範囲での分光反射率が１％以下とすることを目
的とし、更に好ましくは０．５％以下の波長域をより広
域化するをとともに、実用性に優れた反射防止フィルム
等の反射防止材ならびに光学部材を安価で且つ容易に提
供することが望まれていた。 【解決手段】透明基材上の少なくとも片面に、屈折率の
異なる金属酸化物を順次交互に積層した反射防止層を有
し、前記反射防止層の高屈折率層及び低屈折率層が、各
々同じ金属酸化物で形成されるとともに、前記高屈折率
層の屈折率が各々１．９以上２．５以下で各前記高屈折
率層は透明基材に近い順に屈折率が高く、前記低屈折率
層の屈折率が各々１．３以上１．５以下で各前記高屈折
率層は透明基材に近い順に屈折率が高いことを特徴とす
る反射防止材を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ディスプレイの表
示画面表面に適用される反射防止フィルム等の反射防止
材に係わり、更に詳しくは、可視光に対し広波長域で反
射防止効果を有する反射防止フィルム、及びこれを有す
る光学部材に関する。
示画面表面に適用される反射防止フィルム等の反射防止
材に係わり、更に詳しくは、可視光に対し広波長域で反
射防止効果を有する反射防止フィルム、及びこれを有す
る光学部材に関する。
【０００２】
【従来の技術】ディスプレイの多くは、室内外を問わず
外光などが入射するような環境下で使用される。この外
光などの入射光は、ディスプレイ表面等において正反射
され、反射像が表示光と混合し表示品質を低下させ表示
画像を見にくくしている。
外光などが入射するような環境下で使用される。この外
光などの入射光は、ディスプレイ表面等において正反射
され、反射像が表示光と混合し表示品質を低下させ表示
画像を見にくくしている。
【０００３】これを防止するため、透明基材の表面に金
属酸化物などから成る高屈折率層と低屈折率層を積層し
た、或いは無機や有機フッ素化合物などの低屈折率層を
形成した反射防止効果を有するフィルムをディスプレイ
表面などに貼り合わせる等して、利用することが知られ
ている。
属酸化物などから成る高屈折率層と低屈折率層を積層し
た、或いは無機や有機フッ素化合物などの低屈折率層を
形成した反射防止効果を有するフィルムをディスプレイ
表面などに貼り合わせる等して、利用することが知られ
ている。
【０００４】一方、これとは別に、透明基材の表面に透
明な微粒子を含むコーティング層を形成し、凸凹状の表
面により外光を乱反射させるなどしても、同様の効果を
得られることが知られている。
明な微粒子を含むコーティング層を形成し、凸凹状の表
面により外光を乱反射させるなどしても、同様の効果を
得られることが知られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】最近のオフィスのＯＡ
化に伴い、コンピューターを使用する頻度が増し、ＣＲ
Ｔや液晶ディスプレイと人間が相対していることが長時
間化した。これにより反射像等による表示品質の低下
は、目の疲労など健康障害等を引き起こす要因とも考え
られ、これまで以上に、可視光の広範囲にわたってより
高い反射防止効果を有する反射防止材や光学部材の要求
が高まってきた。
化に伴い、コンピューターを使用する頻度が増し、ＣＲ
Ｔや液晶ディスプレイと人間が相対していることが長時
間化した。これにより反射像等による表示品質の低下
は、目の疲労など健康障害等を引き起こす要因とも考え
られ、これまで以上に、可視光の広範囲にわたってより
高い反射防止効果を有する反射防止材や光学部材の要求
が高まってきた。
【０００６】更には、近年ではアウトドアライフの普及
に伴い、テレビや液晶ディスプレイを室外で使用する機
会が益々増える傾向にあり、表示品質をより向上して表
示画像を明確に認識できるように、同様に可視光の広範
囲にわたってより高い反射防止効果を有するフィルム等
の反射防止材や光学部材の要求が出てきている。
に伴い、テレビや液晶ディスプレイを室外で使用する機
会が益々増える傾向にあり、表示品質をより向上して表
示画像を明確に認識できるように、同様に可視光の広範
囲にわたってより高い反射防止効果を有するフィルム等
の反射防止材や光学部材の要求が出てきている。
【０００７】しかしながら、無機物や有機物の低屈折率
物質を単層で形成した反射防止層では緑色を中心とした
可視光線の主要部の低屈折率化に重きを置き、赤色、紫
色等の低屈折率化がなかなか果たせずに４００ｎｍ及び
７００ｎｍ近辺ばかりではなく、人間の目の感度の比較
的高い４５０ｎｍ及び６５０ｎｍ近辺の波長での屈折率
が高いＵ型の分光反射特性を示し、可視光の広範囲にわ
たる高い反射防止効果を得ることはできない。また異な
る屈折率層を積層した多層構成によるものでは、高屈折
率層と低屈折率層の層構成の多層化、膜厚の増加、不均
質を利用した複雑な材料設計、さらには中間屈折率物質
などを使用することにより、上記反射特性を得られるも
のの、複雑な構成による安定成膜の困難化、反射防止特
性の安定性低下や、使用材料の増加などによって、作製
技術の高度化、歩留まりの低下、コストの上昇を招き、
実用化、商品化に関しては問題となる。
物質を単層で形成した反射防止層では緑色を中心とした
可視光線の主要部の低屈折率化に重きを置き、赤色、紫
色等の低屈折率化がなかなか果たせずに４００ｎｍ及び
７００ｎｍ近辺ばかりではなく、人間の目の感度の比較
的高い４５０ｎｍ及び６５０ｎｍ近辺の波長での屈折率
が高いＵ型の分光反射特性を示し、可視光の広範囲にわ
たる高い反射防止効果を得ることはできない。また異な
る屈折率層を積層した多層構成によるものでは、高屈折
率層と低屈折率層の層構成の多層化、膜厚の増加、不均
質を利用した複雑な材料設計、さらには中間屈折率物質
などを使用することにより、上記反射特性を得られるも
のの、複雑な構成による安定成膜の困難化、反射防止特
性の安定性低下や、使用材料の増加などによって、作製
技術の高度化、歩留まりの低下、コストの上昇を招き、
実用化、商品化に関しては問題となる。
【０００８】本発明は、このような問題点に着目しなさ
れたもので、その目的とするところは、人間の目の感度
の比較的高い４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲での分光反
射率が１％以下とすることを目的とし、更に好ましくは
０．５％以下の波長域をより広域化するをとともに、実
用性に優れた反射防止フィルム等の反射防止材ならびに
光学部材を安価で且つ容易に提供することにある。
れたもので、その目的とするところは、人間の目の感度
の比較的高い４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲での分光反
射率が１％以下とすることを目的とし、更に好ましくは
０．５％以下の波長域をより広域化するをとともに、実
用性に優れた反射防止フィルム等の反射防止材ならびに
光学部材を安価で且つ容易に提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決する手
段として、本発明の第１の発明は、透明基材上の少なく
とも片面に、屈折率の異なる金属酸化物を順次交互に積
層した反射防止層を有し、前記反射防止層の高屈折率層
及び低屈折率層が、各々同じ金属酸化物で形成されると
ともに、前記高屈折率層の屈折率が各々１．９以上２．
５以下で各前記高屈折率層は透明基材に近い順に屈折率
が高く、前記低屈折率層の屈折率が各々１．３以上１．
５以下で各前記高屈折率層は透明基材に近い順に屈折率
が高いことを特徴とする反射防止材である。
段として、本発明の第１の発明は、透明基材上の少なく
とも片面に、屈折率の異なる金属酸化物を順次交互に積
層した反射防止層を有し、前記反射防止層の高屈折率層
及び低屈折率層が、各々同じ金属酸化物で形成されると
ともに、前記高屈折率層の屈折率が各々１．９以上２．
５以下で各前記高屈折率層は透明基材に近い順に屈折率
が高く、前記低屈折率層の屈折率が各々１．３以上１．
５以下で各前記高屈折率層は透明基材に近い順に屈折率
が高いことを特徴とする反射防止材である。
【００１０】具体的に式に表すと、透明基材上の少なく
とも片面に、屈折率の異なる金属酸化物を順次交互に積
層した反射防止層を有し、前記反射防止層の高屈折率層
及び低屈折率層が、各々同じ金属酸化物で形成するとと
もに、更に各々の層の屈折率が積層順に、 高屈折率層：２．５≧ｎH1、ｎH2、・・・・・ 、ｎHn≧１．９ ｎH1＞ｎH2＞・・・・・＞ｎHn-1＞ｎHn 低屈折率層：１．５≧ｎL1、ｎL2、・・・・・ 、ｎLn≧１．３ ｎL1＞ｎL2＞・・・・・＞ｎLn-1＞ｎLn の屈折率の条件で積層されていることを特徴とする。
とも片面に、屈折率の異なる金属酸化物を順次交互に積
層した反射防止層を有し、前記反射防止層の高屈折率層
及び低屈折率層が、各々同じ金属酸化物で形成するとと
もに、更に各々の層の屈折率が積層順に、 高屈折率層：２．５≧ｎH1、ｎH2、・・・・・ 、ｎHn≧１．９ ｎH1＞ｎH2＞・・・・・＞ｎHn-1＞ｎHn 低屈折率層：１．５≧ｎL1、ｎL2、・・・・・ 、ｎLn≧１．３ ｎL1＞ｎL2＞・・・・・＞ｎLn-1＞ｎLn の屈折率の条件で積層されていることを特徴とする。
【００１１】また、第２の発明は、前記の反射防止材を
形成する金属酸化物の少なくとも１種類が、導電性を有
していることを特徴とする。
形成する金属酸化物の少なくとも１種類が、導電性を有
していることを特徴とする。
【００１２】また、第３の発明は前記の反射防止層の上
に防汚層を形成したことを特徴とする。
に防汚層を形成したことを特徴とする。
【００１３】また、第４の発明は前記の透明基材との反
射防止層の間に耐摩禍性を有する透明ハードコート層が
形成されたことを特徴とする。
射防止層の間に耐摩禍性を有する透明ハードコート層が
形成されたことを特徴とする。
【００１４】また、第５の発明は、前記の透明基材と反
射防止層の間に、耐摩禍性を有する透明ハードコート層
が形成されていることを特徴し、更には、前記のハード
コート層に平均粒子径０．０１〜３μｍの透明な超微粒
子を含むことを特徴とする。
射防止層の間に、耐摩禍性を有する透明ハードコート層
が形成されていることを特徴し、更には、前記のハード
コート層に平均粒子径０．０１〜３μｍの透明な超微粒
子を含むことを特徴とする。
【００１５】また、第６の発明は、前記の発明によって
得られた反射防止材を貼り合わせる等により、これを有
する光学部材であることを特徴とする。
得られた反射防止材を貼り合わせる等により、これを有
する光学部材であることを特徴とする。
【００１６】また、第７の発明は、前記の透明基板が光
学部材である反射防止材であることを特徴とする。
学部材である反射防止材であることを特徴とする。
【００１７】以上の様に、本発明によれば、反射防止層
の高屈折率層及び低屈折率層を各々を同じ金属酸化物に
よって形成し、更に積層順に従って各々の屈折率を低屈
折率化することにより、膜厚構成を変えずに可視光の広
範囲にわたって低い反射率特性を実現できる。
の高屈折率層及び低屈折率層を各々を同じ金属酸化物に
よって形成し、更に積層順に従って各々の屈折率を低屈
折率化することにより、膜厚構成を変えずに可視光の広
範囲にわたって低い反射率特性を実現できる。
【００１８】更に、反射防止層に導電性を有する金属酸
化物を用いることによって、反射防止効果に加え導電
性、帯電防止性を付加でき、また反射防止層の上に撥水
層を形成することにより、防汚性を付与でき、より高機
能化、実用性に富む反射防止材とすることができる。
化物を用いることによって、反射防止効果に加え導電
性、帯電防止性を付加でき、また反射防止層の上に撥水
層を形成することにより、防汚性を付与でき、より高機
能化、実用性に富む反射防止材とすることができる。
【００１９】また、前記の反射防止材を貼り合わせるな
どして得られた光学部材をディスプレイに用いることに
よって、表示品質が向上し、表示画像をより明確に認識
できるようになる。
どして得られた光学部材をディスプレイに用いることに
よって、表示品質が向上し、表示画像をより明確に認識
できるようになる。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の反射防止材につい
て、図面を用いて詳細に説明する。本発明の請求項１記
載の反射防止材の一構成を示す断面図を図１に示す。ま
た本発明の請求項２記載の反射防止材の一構成を示す断
面図を図２に、更に本発明の請求項４〜６記載の反射防
止材の一構成を示す断面図を図３〜５に示す。
て、図面を用いて詳細に説明する。本発明の請求項１記
載の反射防止材の一構成を示す断面図を図１に示す。ま
た本発明の請求項２記載の反射防止材の一構成を示す断
面図を図２に、更に本発明の請求項４〜６記載の反射防
止材の一構成を示す断面図を図３〜５に示す。
【００２１】本発明による反射防止材は、図１に示す様
に透明プラスチックフィルム等からなる透明基材１に反
射防止層２を形成したもので、反射防止層２は、高屈折
率層２ａと低屈折率層２ｂを交互に積層し、低屈折率層
２ａが最上層となるよう構成されている。
に透明プラスチックフィルム等からなる透明基材１に反
射防止層２を形成したもので、反射防止層２は、高屈折
率層２ａと低屈折率層２ｂを交互に積層し、低屈折率層
２ａが最上層となるよう構成されている。
【００２２】反射防止層を形成する透明基材１には、透
明性のある基材であれば良く、プラスチックフィルムに
限られず、条件さえ合えばプラスチック板、ガラス、天
然樹脂等でも良いが、プラスチックフィルムの場合は、
例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリスチレン、ポリエチレンサルファイド、ポリエ
ーテルスルホン、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセ
ルロース等が使用でき、目的・用途によって適宜選択さ
れる。
明性のある基材であれば良く、プラスチックフィルムに
限られず、条件さえ合えばプラスチック板、ガラス、天
然樹脂等でも良いが、プラスチックフィルムの場合は、
例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネー
ト、ポリスチレン、ポリエチレンサルファイド、ポリエ
ーテルスルホン、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセ
ルロース等が使用でき、目的・用途によって適宜選択さ
れる。
【００２３】反射防止層２は、高屈折率層２ａと低屈折
率層２ｂを交互に所定の光学膜厚ｎｄ(屈折率ｎ×形状
膜厚ｄの積)となるように積層し、低屈折率層２ａが最
上層となるよう構成することにより反射防止機能を発現
している。
率層２ｂを交互に所定の光学膜厚ｎｄ(屈折率ｎ×形状
膜厚ｄの積)となるように積層し、低屈折率層２ａが最
上層となるよう構成することにより反射防止機能を発現
している。
【００２４】反射防止層２を構成する高屈折率層２ａと
低屈折率層２ｂは、各々が同じ金属酸化物で構成されて
おり、高屈折率層２ａの屈折率ｎＨは１．９〜２．５、
低屈折率層２ｂの屈折率は１．３〜１．５の範囲のもの
が使用できる。
低屈折率層２ｂは、各々が同じ金属酸化物で構成されて
おり、高屈折率層２ａの屈折率ｎＨは１．９〜２．５、
低屈折率層２ｂの屈折率は１．３〜１．５の範囲のもの
が使用できる。
【００２５】この高屈折率層２ａと低屈折率層２ｂの屈
折率は、各々の積層順に従って、高屈折率層２ａが
ｎH1、・・・・、ｎHnと、低屈折率層２ｂはｎL1、・・・・、ｎ
Lnと示してあり、各々の積層順に従って屈折率が低く、
つまりｎH1からｎHnへ、またｎL1からｎLnへ向って低屈
折率の層となっている。
折率は、各々の積層順に従って、高屈折率層２ａが
ｎH1、・・・・、ｎHnと、低屈折率層２ｂはｎL1、・・・・、ｎ
Lnと示してあり、各々の積層順に従って屈折率が低く、
つまりｎH1からｎHnへ、またｎL1からｎLnへ向って低屈
折率の層となっている。
【００２６】高屈折率層２ａとしては、屈折率ｎHが
１．９〜２．５の範囲の金属酸化物であれば特に限定さ
れるものではなく、例えば酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化ハフニウム、酸化セリウム、酸化タンタル等の
電気絶縁性金属酸化物の他、酸化インジウム、酸化錫、
インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛等の導電性
金属酸化物も使用できる。導電性金属酸化物を用いた場
合は、反射防止効果に加え導電性を付加できる。一方、
低屈折率層２ｂとしては、屈折率ｎLが１．３〜１．５
の範囲の金属酸化物であれば特に限定されるものではな
く、代表的な酸化物として酸化珪素が上げられる。本発
明においては、金属酸化物に特定しているが、高屈折率
層２ａ及び低屈折率層２ｂの屈折率範囲を満たす透明層
であれば特に限定されるものではなく、金属酸化物の混
合物、金属酸化物以外でも無機や有機の弗化物などが使
用できる。
１．９〜２．５の範囲の金属酸化物であれば特に限定さ
れるものではなく、例えば酸化チタン、酸化ジルコニウ
ム、酸化ハフニウム、酸化セリウム、酸化タンタル等の
電気絶縁性金属酸化物の他、酸化インジウム、酸化錫、
インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛等の導電性
金属酸化物も使用できる。導電性金属酸化物を用いた場
合は、反射防止効果に加え導電性を付加できる。一方、
低屈折率層２ｂとしては、屈折率ｎLが１．３〜１．５
の範囲の金属酸化物であれば特に限定されるものではな
く、代表的な酸化物として酸化珪素が上げられる。本発
明においては、金属酸化物に特定しているが、高屈折率
層２ａ及び低屈折率層２ｂの屈折率範囲を満たす透明層
であれば特に限定されるものではなく、金属酸化物の混
合物、金属酸化物以外でも無機や有機の弗化物などが使
用できる。
【００２７】反射防止層２は、真空蒸着法、反応性蒸着
法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタリング法、
イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などの真空
成膜プロセスによって形成することができる。屈折率を
変化させるには、成膜条件であるガス圧力、ガス導入
量、イオンビームパワー、プラズマ電力、ガス種などを
変化させる他、成膜粒子の基材に対する入射角を調整す
ることによっても可能であり、屈折率を制御できる方法
であれば、いかなる成膜方法であっても構わない。
法、イオンビームアシスト蒸着法、スパッタリング法、
イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などの真空
成膜プロセスによって形成することができる。屈折率を
変化させるには、成膜条件であるガス圧力、ガス導入
量、イオンビームパワー、プラズマ電力、ガス種などを
変化させる他、成膜粒子の基材に対する入射角を調整す
ることによっても可能であり、屈折率を制御できる方法
であれば、いかなる成膜方法であっても構わない。
【００２８】本発明による反射特性は、一般的に可視光
とされる４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲において、人間
の目の感度の比較的高い４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲
での分光反射率が１％以下とすることを目的とし、更に
好ましくは０．５％以下の波長域をより広域化するを目
的としている。この様な反射特性を有し、更に生産性、
コスト等を考慮すると全積層数は少ない方がよく、現実
的には積層数を４層構成とした場合が好ましく、更には
１層目と２層目を等価膜とした４層構成が最も好まし
い。
とされる４００ｎｍ〜７００ｎｍの範囲において、人間
の目の感度の比較的高い４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの範囲
での分光反射率が１％以下とすることを目的とし、更に
好ましくは０．５％以下の波長域をより広域化するを目
的としている。この様な反射特性を有し、更に生産性、
コスト等を考慮すると全積層数は少ない方がよく、現実
的には積層数を４層構成とした場合が好ましく、更には
１層目と２層目を等価膜とした４層構成が最も好まし
い。
【００２９】本発明による防汚層は、本発明の反射防止
層の表面を保護し、更に防汚性を高めるものであり、要
求性能を満たすものであれば、いかなる材料であっても
制限されるものでない。例えば、疎水性や撥油性を示す
化合物が良く、適した化合物としては、フルオロカーボ
ンやパーフルオロシラン等が、またこれらの高分子化合
物等が好適である。これらの材料は、材料に応じて真空
蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、
プラズマＣＶＤ法、プラズマ重合法などの真空成膜プロ
セスや、マイクログラビア、スクリーン等のウェットプ
ロセスの各種コーティング方法を用いて、撥水層を形成
することができる。撥水層の厚さは反射防止層の機能を
損なわないように設定されなければならず、形状膜厚１
０ｎｍ以下とすることが好ましい。
層の表面を保護し、更に防汚性を高めるものであり、要
求性能を満たすものであれば、いかなる材料であっても
制限されるものでない。例えば、疎水性や撥油性を示す
化合物が良く、適した化合物としては、フルオロカーボ
ンやパーフルオロシラン等が、またこれらの高分子化合
物等が好適である。これらの材料は、材料に応じて真空
蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、
プラズマＣＶＤ法、プラズマ重合法などの真空成膜プロ
セスや、マイクログラビア、スクリーン等のウェットプ
ロセスの各種コーティング方法を用いて、撥水層を形成
することができる。撥水層の厚さは反射防止層の機能を
損なわないように設定されなければならず、形状膜厚１
０ｎｍ以下とすることが好ましい。
【００３０】本発明によるハードコート層は、透明性を
有し、適度な硬度があれば特に限定はされない。電離放
射線や紫外線照射による硬化樹脂や熱硬化性の樹脂が使
用でき、特に紫外線照射硬化型のアクリル系や有機珪素
系の樹脂や、熱硬化型のポリシロキサン樹脂が好適であ
る。これらの樹脂は、透明プラスチックフィルム基材１
と屈折率が同等もしくは近似していることがより好まし
いが、形状膜厚が５μｍ以上の場合は特にこの必要はな
い。
有し、適度な硬度があれば特に限定はされない。電離放
射線や紫外線照射による硬化樹脂や熱硬化性の樹脂が使
用でき、特に紫外線照射硬化型のアクリル系や有機珪素
系の樹脂や、熱硬化型のポリシロキサン樹脂が好適であ
る。これらの樹脂は、透明プラスチックフィルム基材１
と屈折率が同等もしくは近似していることがより好まし
いが、形状膜厚が５μｍ以上の場合は特にこの必要はな
い。
【００３１】また、前記のハードコート層に平均粒子径
０．０１〜３μｍの透明な無機或いは有機の超微粒子を
混合分散させことにより、一般にアンチグレアと呼ばれ
る光拡散性の処理を施すことができる。これらの超微粒
子は、透明であれば特に限定されるものではないが、低
屈折率材料が好ましく、無機の酸化珪素、弗化マグネシ
ウムが安定性、耐熱性等で好適である。これらのハード
コート層は平滑に且つ均一に塗布されるものであり、塗
布方法はいかなる方法でも構わない。
０．０１〜３μｍの透明な無機或いは有機の超微粒子を
混合分散させことにより、一般にアンチグレアと呼ばれ
る光拡散性の処理を施すことができる。これらの超微粒
子は、透明であれば特に限定されるものではないが、低
屈折率材料が好ましく、無機の酸化珪素、弗化マグネシ
ウムが安定性、耐熱性等で好適である。これらのハード
コート層は平滑に且つ均一に塗布されるものであり、塗
布方法はいかなる方法でも構わない。
【００３２】これら本発明による反射防止フィルムを粘
着剤、接着剤等を用いてガラス板、プラスチック板、偏
光板等と貼り合わせることによって、反射防止性の有す
る光学部材が得られる。
着剤、接着剤等を用いてガラス板、プラスチック板、偏
光板等と貼り合わせることによって、反射防止性の有す
る光学部材が得られる。
【００３３】
【実施例】次に本発明を、具体的な実施例を挙げて詳細
に説明する。 ＜実施例１＞透明基材１のトリアセチルセルロースフィ
ルム８０μｍ上に、高屈折率層２ａに酸化チタン、低屈
折率層２ｂに酸化珪素からなる反射防止層をプラズマア
シスト蒸着法により形成し、全層数は４層とした。各層
の屈折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５０ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４５ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．００ ｎｄ＝１２０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４０ ｎｄ＝１４０ｎ
ｍ） とした。各層の屈折率は、予め成膜条件を適性化し上記
値となるように設定し、特に３層目と４層目は、蒸着粒
子の入射角を斜入射として低屈折率化した。光学膜厚
は、光学式の膜厚モニターにより監視し、目的光量値に
達した時シャッターを閉じて所定の光学膜厚を得た。こ
の反射防止層の絶対反射測定による分光反射特性を図６
に示す。光の波長の４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ以上にわた
って反射率が０．６％以下であり、高い反射防止性を広
波長域で実現できた。
に説明する。 ＜実施例１＞透明基材１のトリアセチルセルロースフィ
ルム８０μｍ上に、高屈折率層２ａに酸化チタン、低屈
折率層２ｂに酸化珪素からなる反射防止層をプラズマア
シスト蒸着法により形成し、全層数は４層とした。各層
の屈折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５０ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４５ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．００ ｎｄ＝１２０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４０ ｎｄ＝１４０ｎ
ｍ） とした。各層の屈折率は、予め成膜条件を適性化し上記
値となるように設定し、特に３層目と４層目は、蒸着粒
子の入射角を斜入射として低屈折率化した。光学膜厚
は、光学式の膜厚モニターにより監視し、目的光量値に
達した時シャッターを閉じて所定の光学膜厚を得た。こ
の反射防止層の絶対反射測定による分光反射特性を図６
に示す。光の波長の４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ以上にわた
って反射率が０．６％以下であり、高い反射防止性を広
波長域で実現できた。
【００３４】＜実施例２＞透明基材１のトリアセチルセ
ルロースフィルム８０μｍ上に、高屈折率層２ａに酸化
チタン、低屈折率層２ｂに酸化珪素からなる反射防止層
をプラズマアシスト蒸着法により形成し、全層数は４層
とした。各層の屈折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５０ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４５ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．１５ ｎｄ＝１２０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４３ ｎｄ＝１４０ｎ
ｍ） とした。各層の屈折率は、予め成膜条件を適性化し上記
値となるように設定し、特に３層目と４層目は、蒸着中
の圧力を高くして低屈折率化した。光学膜厚は、光学式
の膜厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時シ
ャッターを閉じて所定の光学膜厚を得た。この反射防止
層の絶対反射測定の分光反射特性を図６に示す。光の波
長の４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにわたって反射率が０．６
％以下であり、特に４５０ｎｍ〜６３０ｎｍにわたって
反射率が０．３％以下となり高い反射防止性を広波長域
で実現できた。
ルロースフィルム８０μｍ上に、高屈折率層２ａに酸化
チタン、低屈折率層２ｂに酸化珪素からなる反射防止層
をプラズマアシスト蒸着法により形成し、全層数は４層
とした。各層の屈折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５０ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４５ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．１５ ｎｄ＝１２０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４３ ｎｄ＝１４０ｎ
ｍ） とした。各層の屈折率は、予め成膜条件を適性化し上記
値となるように設定し、特に３層目と４層目は、蒸着中
の圧力を高くして低屈折率化した。光学膜厚は、光学式
の膜厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時シ
ャッターを閉じて所定の光学膜厚を得た。この反射防止
層の絶対反射測定の分光反射特性を図６に示す。光の波
長の４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにわたって反射率が０．６
％以下であり、特に４５０ｎｍ〜６３０ｎｍにわたって
反射率が０．３％以下となり高い反射防止性を広波長域
で実現できた。
【００３５】＜実施例３＞透明基材１のポリエチレンテ
レフタレートフィルム１００μｍ上に、高屈折率層２ａ
に酸化チタン、低屈折率層２ｂに酸化珪素からなる反射
防止層をプラズマアシスト蒸着法により形成し、全層数
は４層とした。各層の屈折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５５ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４０ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．００ ｎｄ＝１１０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４０ ｎｄ＝１４５ｎ
ｍ） とした。各層の屈折率は、予め成膜条件を適性化し上記
値となるように設定し、特に３層目と４層目は、蒸着粒
子の入射角を斜入射として低屈折率化した。光学膜厚
は、光学式の膜厚モニターにより監視し、目的光量値に
達した時シャッターを閉じて所定の光学膜厚を得た。こ
の反射防止層の絶対反射測定の分光反射特性を図７に示
す。光の波長の４３０ｎｍ〜７００ｎｍ以上にわたって
反射率が０．６％以下であり、高い反射防止性を広波長
域で実現できた。
レフタレートフィルム１００μｍ上に、高屈折率層２ａ
に酸化チタン、低屈折率層２ｂに酸化珪素からなる反射
防止層をプラズマアシスト蒸着法により形成し、全層数
は４層とした。各層の屈折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５５ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４０ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．００ ｎｄ＝１１０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４０ ｎｄ＝１４５ｎ
ｍ） とした。各層の屈折率は、予め成膜条件を適性化し上記
値となるように設定し、特に３層目と４層目は、蒸着粒
子の入射角を斜入射として低屈折率化した。光学膜厚
は、光学式の膜厚モニターにより監視し、目的光量値に
達した時シャッターを閉じて所定の光学膜厚を得た。こ
の反射防止層の絶対反射測定の分光反射特性を図７に示
す。光の波長の４３０ｎｍ〜７００ｎｍ以上にわたって
反射率が０．６％以下であり、高い反射防止性を広波長
域で実現できた。
【００３６】＜実施例４＞透明基材１のポリエチレンテ
レフタレートフィルム１００μｍ上に、高屈折率層２ａ
に酸化チタン、低屈折率層２ｂに酸化珪素からなる反射
防止層をプラズマアシスト蒸着法により形成し、全層数
は４層とした。各層の屈折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５５ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４０ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．１５ ｎｄ＝１１０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４３ ｎｄ＝１４５ｎ
ｍ） とした。各層の屈折率は、予め成膜条件を適性化し上記
値となるように設定し、特に３層目と４層目は、蒸着中
の圧力を高くして低屈折率化した。光学膜厚は、光学式
の膜厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時シ
ャッターを閉じて所定の光学膜厚を得た。この反射防止
層の絶対反射測定の分光反射特性を図７に示す。光の波
長の４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ以上にわたって反射率が
０．６％以下であり、特に４５０ｎｍ〜６３０ｎｍにわ
たって反射率が０．３％以下となり高い反射防止性を広
波長域で実現できた。
レフタレートフィルム１００μｍ上に、高屈折率層２ａ
に酸化チタン、低屈折率層２ｂに酸化珪素からなる反射
防止層をプラズマアシスト蒸着法により形成し、全層数
は４層とした。各層の屈折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５５ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４０ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．１５ ｎｄ＝１１０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４３ ｎｄ＝１４５ｎ
ｍ） とした。各層の屈折率は、予め成膜条件を適性化し上記
値となるように設定し、特に３層目と４層目は、蒸着中
の圧力を高くして低屈折率化した。光学膜厚は、光学式
の膜厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時シ
ャッターを閉じて所定の光学膜厚を得た。この反射防止
層の絶対反射測定の分光反射特性を図７に示す。光の波
長の４５０ｎｍ〜６５０ｎｍ以上にわたって反射率が
０．６％以下であり、特に４５０ｎｍ〜６３０ｎｍにわ
たって反射率が０．３％以下となり高い反射防止性を広
波長域で実現できた。
【００３７】＜実施例５＞透明基材１のトリアセチルセ
ルロースフィルム８０μｍ上に、紫外線硬化型のアクリ
ル樹脂をマイクログラビアコート法により塗布し、紫外
線照射により硬化したハードコート層４を厚さ５μｍで
形成した。更に高屈折率層２ａに酸化チタン、低屈折率
層２ｂに酸化珪素からなる反射防止層をプラズマアシス
ト蒸着法により形成し、全層数は４層とした。各層の屈
折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５０ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４５ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．１５ ｎｄ＝１２０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４３ ｎｄ＝１４０ｎ
ｍ） とした。各層の屈折率は、予め成膜条件を適性化し上記
値となるように設定し、特に３層目と４層目は、蒸着粒
子の入射角を斜入射として低屈折率化した。光学膜厚
は、光学式の膜厚モニターにより監視し、目的光量値に
達した時シャッターを閉じて所定の光学膜厚を得た。更
に反射防止層の上に、プラズマＣＶＤ法により形状膜厚
で４０ｎｍのパーフルオロシランからなる防汚層を形成
し反射防止フィルムを作製した。この反射防止層の絶対
反射測定の分光反射特性を図８に示す。光の波長の４５
０ｎｍ〜６５０ｎｍ以上にわたって反射率が０．６％以
下であり、高い反射防止性を広波長域で実現できた。
ルロースフィルム８０μｍ上に、紫外線硬化型のアクリ
ル樹脂をマイクログラビアコート法により塗布し、紫外
線照射により硬化したハードコート層４を厚さ５μｍで
形成した。更に高屈折率層２ａに酸化チタン、低屈折率
層２ｂに酸化珪素からなる反射防止層をプラズマアシス
ト蒸着法により形成し、全層数は４層とした。各層の屈
折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５０ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４５ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．１５ ｎｄ＝１２０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４３ ｎｄ＝１４０ｎ
ｍ） とした。各層の屈折率は、予め成膜条件を適性化し上記
値となるように設定し、特に３層目と４層目は、蒸着粒
子の入射角を斜入射として低屈折率化した。光学膜厚
は、光学式の膜厚モニターにより監視し、目的光量値に
達した時シャッターを閉じて所定の光学膜厚を得た。更
に反射防止層の上に、プラズマＣＶＤ法により形状膜厚
で４０ｎｍのパーフルオロシランからなる防汚層を形成
し反射防止フィルムを作製した。この反射防止層の絶対
反射測定の分光反射特性を図８に示す。光の波長の４５
０ｎｍ〜６５０ｎｍ以上にわたって反射率が０．６％以
下であり、高い反射防止性を広波長域で実現できた。
【００３８】＜実施例６＞透明基材１のトリアセチルセ
ルロースフィルム８０μｍ上に、紫外線硬化型のアクリ
ル樹脂をマイクログラビアコート法により塗布し、紫外
線照射により硬化したハードコート層４を厚さ５μｍで
形成した。更に高屈折率層２ａに酸化チタン、低屈折率
層２ｂに酸化珪素からなる反射防止層をプラズマアシス
ト蒸着法により形成し、全層数は４層とした。各層の屈
折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５０ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４５ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．１５ ｎｄ＝１２０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４３ ｎｄ＝１４０ｎ
ｍ） とした。各層の屈折率は、予め成膜条件を適性化し上記
値となるように設定し、特に３層目と４層目は、蒸着中
の圧力を高くして低屈折率化した。光学膜厚は、光学式
の膜厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時シ
ャッターを閉じて所定の光学膜厚を得た。更に反射防止
層の上に、プラズマＣＶＤ法により形状膜厚で４０ｎｍ
のパーフルオロシランからなる防汚層を形成し反射防止
フィルムを作製した。この反射防止層の絶対反射測定の
分光反射特性を図８に示す。光の波長の４５０ｎｍ〜６
５０ｎｍ以上にわたって反射率が０．６％以下であり、
特に４５０ｎｍ〜６３０ｎｍにわたって反射率が０．３
％以下となり高い反射防止性を広波長域で実現できた。
ルロースフィルム８０μｍ上に、紫外線硬化型のアクリ
ル樹脂をマイクログラビアコート法により塗布し、紫外
線照射により硬化したハードコート層４を厚さ５μｍで
形成した。更に高屈折率層２ａに酸化チタン、低屈折率
層２ｂに酸化珪素からなる反射防止層をプラズマアシス
ト蒸着法により形成し、全層数は４層とした。各層の屈
折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５０ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４５ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．１５ ｎｄ＝１２０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４３ ｎｄ＝１４０ｎ
ｍ） とした。各層の屈折率は、予め成膜条件を適性化し上記
値となるように設定し、特に３層目と４層目は、蒸着中
の圧力を高くして低屈折率化した。光学膜厚は、光学式
の膜厚モニターにより監視し、目的光量値に達した時シ
ャッターを閉じて所定の光学膜厚を得た。更に反射防止
層の上に、プラズマＣＶＤ法により形状膜厚で４０ｎｍ
のパーフルオロシランからなる防汚層を形成し反射防止
フィルムを作製した。この反射防止層の絶対反射測定の
分光反射特性を図８に示す。光の波長の４５０ｎｍ〜６
５０ｎｍ以上にわたって反射率が０．６％以下であり、
特に４５０ｎｍ〜６３０ｎｍにわたって反射率が０．３
％以下となり高い反射防止性を広波長域で実現できた。
【００３９】＜実施例７＞前記、実施例６のハードコー
ト層に平均粒子径０．５μｍの酸化珪素の超微粒子を均
一に分散させて、その上に実施例６同様に反射防止層、
防汚層を順次形成し、反射防止材を作製した。ただし、
光学モニターによる監視は、基材フィルムである本実施
例では光の散乱により不可能なので、近傍に設置したモ
ニター用フィルムを用いて設定の光学膜厚を得た。この
反射防止材は、光拡散性を持つため鏡面光沢がなく、ま
た分光反射特性も拡散反射測定で測定した結果、実施例
６とほぼ同様であり、高い反射防止性を広波長域で実現
できた。
ト層に平均粒子径０．５μｍの酸化珪素の超微粒子を均
一に分散させて、その上に実施例６同様に反射防止層、
防汚層を順次形成し、反射防止材を作製した。ただし、
光学モニターによる監視は、基材フィルムである本実施
例では光の散乱により不可能なので、近傍に設置したモ
ニター用フィルムを用いて設定の光学膜厚を得た。この
反射防止材は、光拡散性を持つため鏡面光沢がなく、ま
た分光反射特性も拡散反射測定で測定した結果、実施例
６とほぼ同様であり、高い反射防止性を広波長域で実現
できた。
【００４０】前記実施例では、電気絶縁性の酸化チタン
を用いたが、電気伝導性を有する酸化インジウム、酸化
錫、インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）などを高屈折率層
として使用し、屈折率、光学膜厚を最適化することによ
って、同様の反射防止性を有し、且つ電気伝導性を付与
した反射防止材を作製・実現できる。
を用いたが、電気伝導性を有する酸化インジウム、酸化
錫、インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）などを高屈折率層
として使用し、屈折率、光学膜厚を最適化することによ
って、同様の反射防止性を有し、且つ電気伝導性を付与
した反射防止材を作製・実現できる。
【００４１】＜比較例１＞透明基材１のポリエチレンテ
レフタレートフィルム１００μｍ上に、高屈折率層２ａ
に酸化チタン、低屈折率層２ｂに酸化珪素からなる反射
防止層をプラズマアシスト蒸着法により形成し、全層数
は４層とした。各層の屈折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５５ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４０ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．２５ ｎｄ＝１１０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４６ ｎｄ＝１４５ｎ
ｍ） とし、高屈折率層２ａ及び低屈折率層２ｂの各々の屈折
率が積層順に関係なく一定となるよう、成膜条件を変え
ずに成膜した。この反射防止層の絶対反射測定の分光反
射特性を図９に示す。実施例３及び４と比較して、近紫
外側及び近赤外側の反射率が光の各波長毎に２倍以上と
なり、反射率が０．６％以下の波長範囲が明らかに狭
く、実施例の方が反射防止性が広波長域であった。
レフタレートフィルム１００μｍ上に、高屈折率層２ａ
に酸化チタン、低屈折率層２ｂに酸化珪素からなる反射
防止層をプラズマアシスト蒸着法により形成し、全層数
は４層とした。各層の屈折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５５ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４０ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．２５ ｎｄ＝１１０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４６ ｎｄ＝１４５ｎ
ｍ） とし、高屈折率層２ａ及び低屈折率層２ｂの各々の屈折
率が積層順に関係なく一定となるよう、成膜条件を変え
ずに成膜した。この反射防止層の絶対反射測定の分光反
射特性を図９に示す。実施例３及び４と比較して、近紫
外側及び近赤外側の反射率が光の各波長毎に２倍以上と
なり、反射率が０．６％以下の波長範囲が明らかに狭
く、実施例の方が反射防止性が広波長域であった。
【００４２】＜比較例２＞透明基材１のトリアセチルセ
ルロースフィルム８０μｍ上に、紫外線硬化型のアクリ
ル樹脂をマイクログラビアコート法により塗布し、紫外
線照射により硬化したハードコート層４を厚さ５μｍで
形成した。更に高屈折率層２ａに酸化チタン、低屈折率
層２ｂに酸化珪素からなる反射防止層をプラズマアシス
ト蒸着法により形成し、全層数は４層とした。各層の屈
折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５０ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４５ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．１５ ｎｄ＝１２０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４３ ｎｄ＝１４０ｎ
ｍ） とした。高屈折率層２ａ及び低屈折率層２ｂの各々の屈
折率が積層順に関係なく一定となるよう、成膜条件を変
えずに成膜した。更に反射防止層の上に、プラズマＣＶ
Ｄ法により形状膜厚で４０ｎｍのパーフルオロシランか
らなる防汚層を形成し反射防止材を作製した。この反射
防止層の絶対反射測定の分光反射特性を図１０に示す。
実施例５及び６と比較して、近紫外側及び近赤外側の反
射率が光の各波長毎に２倍以上となり、反射率が０．６
％以下の波長範囲が明らかに狭く、実施例の方が反射防
止性が広波長域であった。
ルロースフィルム８０μｍ上に、紫外線硬化型のアクリ
ル樹脂をマイクログラビアコート法により塗布し、紫外
線照射により硬化したハードコート層４を厚さ５μｍで
形成した。更に高屈折率層２ａに酸化チタン、低屈折率
層２ｂに酸化珪素からなる反射防止層をプラズマアシス
ト蒸着法により形成し、全層数は４層とした。各層の屈
折率及び光学膜厚ｎｄは、 １層目：ＴｉＯ2（ｎH1＝２．２５ ｎｄ＝５０ｎｍ） ２層目：ＳｉＯ2（ｎL1＝１．４６ ｎｄ＝４５ｎｍ） ３層目：ＴｉＯ2（ｎH2＝２．１５ ｎｄ＝１２０ｎ
ｍ） ４層目：ＳｉＯ2（ｎL2＝１．４３ ｎｄ＝１４０ｎ
ｍ） とした。高屈折率層２ａ及び低屈折率層２ｂの各々の屈
折率が積層順に関係なく一定となるよう、成膜条件を変
えずに成膜した。更に反射防止層の上に、プラズマＣＶ
Ｄ法により形状膜厚で４０ｎｍのパーフルオロシランか
らなる防汚層を形成し反射防止材を作製した。この反射
防止層の絶対反射測定の分光反射特性を図１０に示す。
実施例５及び６と比較して、近紫外側及び近赤外側の反
射率が光の各波長毎に２倍以上となり、反射率が０．６
％以下の波長範囲が明らかに狭く、実施例の方が反射防
止性が広波長域であった。
【００４３】
【発明の効果】以上の様に、本発明によれば、各々同じ
金属酸化物によって形成される反射防止層の高屈折率層
及び低屈折率層の屈折率を、積層順に従って低屈折率化
することにより、層構成の多層化、膜厚の増加、中間屈
折率層などの使用材料の追加等をせずに、また複雑な膜
構成としなくても可視光の広範囲にわたり低い反射率特
性を有する実用性に優れた反射防止材を安価で且つ容易
に提供できる。
金属酸化物によって形成される反射防止層の高屈折率層
及び低屈折率層の屈折率を、積層順に従って低屈折率化
することにより、層構成の多層化、膜厚の増加、中間屈
折率層などの使用材料の追加等をせずに、また複雑な膜
構成としなくても可視光の広範囲にわたり低い反射率特
性を有する実用性に優れた反射防止材を安価で且つ容易
に提供できる。
【００４４】更に、反射防止層に導電性を有する金属酸
化物を用いたり、反射防止層の上に撥水層を形成するこ
とにより、導電性、帯電防止性、防汚性を付与でき、前
記効果に加えてより高機能な付加価値の高い反射防止材
が提供できる。
化物を用いたり、反射防止層の上に撥水層を形成するこ
とにより、導電性、帯電防止性、防汚性を付与でき、前
記効果に加えてより高機能な付加価値の高い反射防止材
が提供できる。
【００４５】また、本発明による反射防止材を貼り合わ
せるなどして得られた光学部材を用いることによって、
表示品質が向上し、表示画像をより明確に認識でき、健
康に優しいディスプレイを得ることができる。
せるなどして得られた光学部材を用いることによって、
表示品質が向上し、表示画像をより明確に認識でき、健
康に優しいディスプレイを得ることができる。
【００４６】
【図１】請求項１記載の反射防止材の一実施例の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図２】請求項２記載の反射防止材の一実施例の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図３】請求項４記載の反射防止材の一実施例の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図４】請求項５記載の反射防止材の一実施例の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図５】請求項６記載の反射防止材の一実施例の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図６】実施例１、２の反射防止材の絶対反射測定によ
る分光反射スペクトルである。
る分光反射スペクトルである。
【図７】実施例３、４の反射防止材の絶対反射測定によ
る分光反射スペクトルである。
る分光反射スペクトルである。
【図８】実施例５、６の反射防止材の絶対反射測定によ
る分光反射スペクトルである。
る分光反射スペクトルである。
【図９】比較例１の反射防止材の絶対反射測定による分
光反射スペクトルである。
光反射スペクトルである。
【図１０】比較例２の反射防止材の絶対反射測定による
分光反射スペクトルである。
分光反射スペクトルである。
１：透明基材 ２：反射防止層・・・・ ２−ａ：高屈折率層・・・・ ２−ｂ：低屈折率層 ３：撥水層 ４：ハードコート層 ５：平均粒子径０．０１〜３μｍの透明な超微粒子を均
一に分散させたハードコート層（光拡散層、アンチグレ
ア層）
一に分散させたハードコート層（光拡散層、アンチグレ
ア層）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA03 AA07 AA12 AA15 BB24 BB28 CC03 CC09 CC24 CC26 CC42 DD03 DD04 EE03 EE05 4F100 AA17B AA17C AA21 AJ04 AK42 AT00A BA02 BA03 BA04 BA05 BA07 BA10A BA10C BA10D BA26 CA23E EH66 GB41 JG01B JG01C JK09E JK12E JL06D JN01A JN01E JN06B JN06C JN18B JN18C 5G435 AA00 AA01 AA14 AA16 DD12 GG32 HH02 HH03 HH12 KK07
Claims (7)
- 【請求項１】透明基材上の少なくとも片面に、屈折率の
異なる金属酸化物を順次交互に積層した反射防止層を有
し、前記反射防止層の高屈折率層及び低屈折率層が、各
々同じ金属酸化物で形成されるとともに、前記高屈折率
層の屈折率が各々１．９以上２．５以下で各前記高屈折
率層は透明基材に近い順に屈折率が高く、前記低屈折率
層の屈折率が各々１．３以上１．５以下で各前記高屈折
率層は透明基材に近い順に屈折率が高いことを特徴とす
る反射防止材。 - 【請求項２】前記、反射防止材を形成する金属酸化物の
少なくとも１種類が、導電性を有していることを特徴と
する請求項１記載の反射防止材。 - 【請求項３】前記反射防止層の上に防汚層を形成したこ
とを特徴とする請求項１又は２の何れかに記載の反射防
止材。 - 【請求項４】前記透明基材と反射防止層の間に、耐摩禍
性を有する透明ハードコート層が形成されていることを
特徴とする請求項１〜３の何れかに記載の反射防止材。 - 【請求項５】前記ハードコート層に平均粒子径０．０１
〜３μｍの透明な無機或いは有機の超微粒子を含む請求
項４に記載の反射防止材。 - 【請求項６】請求項１〜５の何れかに記載の反射防止材
を有する光学部材。 - 【請求項７】透明基板が光学部材である請求項１〜５の
何れかに記載の反射防止材。
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| JP2001217952A JP3750570B2 (ja) | 2001-07-18 | 2001-07-18 | 反射防止材の製造方法及び光学部材 |
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|---|---|---|---|---|
| WO2006035475A1 (ja) * | 2004-09-27 | 2006-04-06 | Jsr Corporation | 積層体およびその製造方法 |
| JP2008509829A (ja) * | 2004-08-17 | 2008-04-03 | セット ヨーロッパ リミテッド | 反射防止及びグレア防止特性を備えた樹脂成型部品及びその製造方法 |
| JP2009037180A (ja) * | 2007-08-03 | 2009-02-19 | Largan Precision Co Ltd | 樹脂製光学素子用多層薄膜真空蒸着方法とその樹脂製光学素子を持つ撮影素子 |
-
2001
- 2001-07-18 JP JP2001217952A patent/JP3750570B2/ja not_active Expired - Fee Related
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