JP2002122699A - 電子ビーム処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電子ビーム管の電子ビーム出射窓に応力がか
からず、しかも、処理室内に被処理物を搬入する際と処
理室内から被処理物を搬出する際にも電子ビーム管の電
子ビーム出射窓に応力がかからない電子ビーム処理装置
を提供することにある。 【解決手段】 本発明の電子ビーム処理装置は、被処理
物を処理するための処理室２に、電子ビーム管１の電子
ビーム出射窓１２が露出した電子ビーム処理装置であっ
て、処理室２は、電子ビーム出射窓１５が露出し内圧が
変化しないように減圧状態に保たれた内圧固定室２１
と、この内圧固定室２１に連結され内圧が変化する内圧
変動室２２とよりなることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本発明は、電子ビームを照射
することによって、各種材料の表面処理、各種化合物の
生成処理を行う電子ビーム処理装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子ビームを利用して、各種材料
の表面処理、各種化合物の生成処理などが行われるよう
になっている。このような電子ビームを発生する電子ビ
ーム管としては、図１に示すようなものが提案されてい
る。

【０００３】電子ビーム管１は、ガラスよりなる真空容
器１１と、この真空容器１１内に設けられた電子ビーム
発生器１２を有するものである。

【０００４】電子ビーム発生器１２は、フィラメント１
２１とグリッド１２２を有し、フィラメント１２１とグ
リッド１２２には、端子１３を介して直流高電圧電源か
ら例えば３０〜７０ｋＶの高電圧が印加されている。ま
た、フィラメント１２１には端子１３を介して、別のフ
ィラメント電源から電流が供給されることによりフィラ
メントが加熱され、熱電子を放出する。放出された電子
はグリッド１２２によって生じる電界によりビーム形状
に整えられる。

【０００５】真空容器１１の一端側にはシリコン製の蓋
部材１４が設けられており、この蓋部材１４は、電子ビ
ームが通過するスリット１４１が形成されている。この
スリット１４１前方には、スリット１４１を気密に覆う
ようにシリコンよりなる薄膜状の電子ビーム出射窓１５
が形成されており、電子ビーム発生器１２から発生した
電子ビームが、この電子ビーム出射窓１５を透過し、電
子ビーム管１の外に出射される。そして、電子ビーム管
１から出射された電子ビームは、例えば、半導体ウエハ
や印刷物等の被処理物に照射され、レジストの硬化やイ
ンクの乾燥等が行われている。

【０００６】従来、このような電子ビーム管１を用いて
インキの乾燥を行う場合、図６に示すように、電子ビー
ム管１の下方を移動するテーブルＴ上に被処理物である
印刷物Ｗを載置し、電子ビーム管１に対してテーブルＴ
を移動させることにより、印刷物Ｗに電子ビームを照射
し、インキの乾燥を行っていた。

【０００７】また、他の方法として、図７に示すよう
に、電子ビーム管１の電子ビーム出射窓１５が処理室２
内に露出した装置において、処理室２内のテーブルＴ上
に被処理物であるレジストＷを載置し、処理室２内を減
圧状態にして、レジストＷに電子ビームを照射し、レジ
ストの硬化を行うこともあった。この場合、処理室２内
を減圧にすることにより、酸素濃度を低くし、レジスト
の重合反応や、被処理物が印刷物であるときも重合反応
を促進させることができるものである。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、電子ビ
ーム管１は、真空容器１１内で発生した電子ビームが減
衰しないように、真空容器１１内は真空、具体的には１
０^-6Ｔｏｒｒ以下の状態になっている。そして、図６に
示す電子ビーム処理装置の場合、電子ビーム出射窓１５
は、大気に露出した状態になっているので、真空容器内
１１の圧力と大気圧との差圧により、図８に示すよう
に、常に、電子ビーム出射窓１５には真空容器１１内に
向かう方向に応力が加わっており、この応力によって電
子ビーム出射窓１５には歪みが蓄積されている。このよ
うに、電子ビーム出射窓１５に応力が加わっている状態
で、長時間に渡って電子ビームが電子ビーム出射窓１５
を透過すると、電子の透過の際に発生する熱によって電
子ビーム出射窓１５が高温になり、蓄積された歪みが助
長され、電子ビーム出射窓１５が破壊されるという問題
があった。

【０００９】また、図７に示す電子ビーム処理装置の場
合、電子ビーム照射中は、処理室２内が大気圧以下、例
えば、１０Ｔｏｒｒ程度になっている場合は、真空容器
１１の内部と処理室２内との圧力差が小さく、電子ビー
ム出射窓１５に対して図８に示すような応力が問題にな
らない程度に加わっているが、処理室２に印刷物Ｗを搬
入する時に処理室２内の圧力を予めガス導入系Ｑによっ
て外気圧まで上げて搬送口Ｈを開くことになり、電子ビ
ームを照射して印刷物Ｗを処理する時には処理室２内の
圧力を真空ポンプＰによって減圧状態にまで下げ、さら
に、処理後は印刷物Ｗを搬出するために再び処理室２内
の圧力をガス導入系Ｑによって大気圧まで上昇させて搬
送口Ｈを開くことになる。

【００１０】つまり、図７に示す電子ビーム処理装置の
場合、印刷物Ｗを電子ビームで処理する際に、処理室２
内の圧力が大気圧状態、減圧状態、大気圧状態と変化
し、この変化にともない電子ビーム出射窓１５に、図８
に示すような空容器１１内に向かう方向に断続的に応力
が加わり、この繰返し発生する応力によって電子ビーム
出射窓１５の機械的強度が劣化し、電子ビーム出射窓１
５が破壊されるという問題があった。

【００１１】特に、被処理物Ｗの反応を促進させるため
に、被処理物Ｗを加熱源Ｒによって加熱して電子ビーム
を照射するような場合、電子ビーム出射窓１５が加熱さ
れ、熱応力が発生し、また、処理室２内のガスとの反応
促進作用が加わり、電子ビーム出射窓１５が容易に破壊
されやすくなる。

【００１２】さらに、図９に示すように、この電子ビー
ム処理装置は、被処理物の面積に応じて電子ビーム管の
数を増やし大面積処理を行うことができる。この電子ビ
ーム処理装置の場合、複数の電子ビーム管１の電子ビー
ム出射窓１５が、大気中あるいは図９に示すように内圧
が変化する処理室２内に露出しているので、前述したよ
うに全ての電子ビーム管１の電子ビーム出射窓１５に応
力がかかっており、どれか１つでも電子ビーム管１の電
子ビーム出射窓１５が破損した場合、装置を停止し破損
した電子ビーム管１の取り替えを行わなければならず、
装置のメンテナンス性が悪いという問題があった。

【００１３】本発明の目的は、上記の種々の問題に鑑み
て、電子ビーム管の電子ビーム出射窓に応力がかから
ず、しかも、処理室内に被処理物を搬入する際と処理室
内から被処理物を搬出する際にも電子ビーム管の電子ビ
ーム出射窓に応力がかからない電子ビーム処理装置を提
供することにある。また、被処理物の面積に応じて電子
ビーム管の数を増やして大面積処理を行える装置におい
ても、各全ての電子ビーム出射窓に応力がかからない電
子ビーム処理装置を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１に記載の電子ビーム処理装置は、被処理物
を処理するための処理室に、前面に電子ビーム出射窓が
形成された真空容器の内部に電子ビーム発生器が設けら
れた電子ビーム管の電子ビーム出射窓が露出した電子ビ
ーム処理装置であって、前記処理室は、前記電子ビーム
管の電子ビーム出射窓が露出し被処理物の搬入搬出時に
内圧が変化しないように常に減圧状態に保たれた内圧固
定室と、当該内圧固定室に連結され被処理物の搬入搬出
時に大気圧状態から減圧状態、又は、減圧状態から大気
圧状態に変化する内圧変動室とよりなることを特徴とす
る。

【００１５】請求項２に記載の電子ビーム処理装置は、
請求項１に記載の電子ビーム処理装置であって、特に、
前記電子ビーム管の電子ビーム出射窓は、シリコン又は
シリコン化合物よりなり、厚みが５μｍ以下であること
を特徴とする。

【００１６】

【発明の実施の形態】図２は、本発明の電子ビーム処理
装置の説明図である。電子ビーム管１は、従来技術で説
明した電子ビーム管と同一のものであり、真空容器１１
内部に電子ビーム発生器１２を有し、電子ビーム照射窓
１５が処理室２内に露出するように構成されている。電
子ビーム発生器１２は、加速電圧が８０kＶ以下と低加
速電圧で電子を照射することができるものである。電子
ビーム照射窓１５は、シリコンよりなり、電子ビーム発
生器１２から発生した電子ビームを良好に透過するよう
に厚みが５μｍである。電子ビーム照射窓１５の厚みが
５μｍ以上であると、電子がこのシリコン製の電子ビー
ム照射窓１５に吸収される割合が大きくなり、電子ビー
ムの透過が少なくなり、電子ビーム管の特徴である低加
速電子を効率よく照射できなくなる。

【００１７】処理室２は、電子ビーム照射窓１５が露出
している内圧固定室２１と、ゲートＧを介して連結され
た内圧変動室２２とに区画されている。内圧固定室２１
は、真空ポンプＰ１により、常に、例えば１０Ｔｏｏｒ
まで減圧されており、電子ビーム管１の真空容器１１内
の圧力とほぼ同じ圧力か、あるいは、内圧固定室２１の
内圧によって電子ビーム照射窓１５に応力が加わってい
ても許容範囲内の応力に収まる程度になるまで内圧固定
室が減圧されている。

【００１８】内圧変動室２２は、真空ポンプＰ２によっ
て内圧を変えることができ、処理室２に被処理物Ｗを搬
入する際、予め内圧変動室２２の内圧を外気圧まで上げ
ておき、この状態で搬送口Ｈを開け被処理物Ｗを内圧変
動室２２に搬入する。その後、内圧変動室２２内を真空
ポンプＰ２で減圧していき、内圧固定室２１の内圧と等
しくなるまで減圧する。そして、内圧変動室２２と内圧
固定室２１の内圧が等しくなった時点で、ゲートＧを開
けて、被処理物Ｗを内圧固定室２１のテーブルＴに搬送
し、電子ビーム管１から電子ビームを照射して、被処理
物Ｗを処理するものである。

【００１９】そして、被処理物Ｗが電子ビーム処理され
た後、再び、被処理物Ｗを内圧変動室２２に搬送し、そ
の後、ゲートＧを閉じ、再び、内圧変動室２２内を真空
ポンプＰ２によって外気圧まで上げ、外気圧と等しくな
った時点で、搬送口Ｈを開けて被処理物Ｗを処理室２外
に取り出すものである。

【００２０】つまり、このような本発明の電子ビーム処
理装置によれば、内圧固定室２１と内圧変動室２２はゲ
ートＧによって区画されているので、被処理物Ｗを処理
室２内に搬入搬出する際に、内圧変動室２２の内圧が変
化しても、ゲートＧによって内圧変動室２２の内圧と内
圧固定室２１の内圧は、相互に影響されることなく完全
に独立して制御されているので、内圧固定室２１内の減
圧状態が変化しないので、電子ビーム出射窓１５には真
空容器１１内に向かう方向に応力がかからず、電子ビー
ム出射窓１５には歪みが蓄積されず、長時間に渡って電
子ビームが電子ビーム出射窓１５を透過しても電子ビー
ム出射窓１５が破壊されることがない。

【００２１】なお、被処理物Ｗの反応を促進させるため
に、被処理物Ｗを加熱源Ｒによって加熱して電子ビーム
を照射するような場合、電子ビーム出射窓１５が加熱さ
れるが、この電子ビーム出射窓１５に真空容器１１と処
理室２の圧力差から生じる応力が発生しないので、電子
ビーム出射窓１５の蓄積された熱が窓を破壊する熱応力
にならず、被処理物Ｗを加熱してもなんら窓の破壊に結
びつくものではない。

【００２２】また、内圧固定室２１と内圧変動室２２は
ゲートＧによって区画されており、被処理物Ｗを処理室
２内に搬入搬出する際に、内圧変動室２２の内圧が変化
しても、ゲートＧによって内圧変動室２２の内圧の変化
が内圧固定室２１に影響を与えることがなく、内圧固定
室２１の減圧状態が常に一定であるので、電子ビーム出
射窓１５には、図７に示す従来の電子ビーム処理装置の
ように電子ビーム照射窓１５に繰り返し応力が発生する
ことがないので、電子ビーム出射窓１５の機械的な劣化
が起こらず破損することがない。

【００２３】図３は、本発明の他の電子ビーム処理装置
の説明図である。この電子ビーム照射装置も、内部に電
子ビーム発生器１２を有した電子ビーム管１の電子ビー
ム照射窓１５が処理室２内に露出するように構成されて
いる。具体的には、処理室２は、電子ビーム照射窓１５
が露出している内圧固定室２１と、この内圧固定室２１
の両側にゲートＧａ、Ｇｂを介して連結された内圧変動
室２２ａ、２２ｂとに区画されている。内圧固定室２１
は、図２の装置と同様に、真空ポンプＰ１により、常
に、例えば１０Ｔｏｏｒまで減圧されており、電子ビー
ム管１の真空容器１１内の圧力とほぼ同じ圧力か、ある
いは、内圧固定室２１の内圧によって電子ビーム照射窓
１５に応力が加わっていても許容範囲内の応力に収まる
程度になるまで内圧固定室が減圧されている。

【００２４】内圧変動室２１ａ、２１ｂは、真空ポンプ
Ｐ２ａ、Ｐ２ｂによって内圧を変えることができ、処理
室２に被処理物Ｗを搬入する際、予め内圧変動室２２ａ
の内圧を外気圧まで上げておき、この状態で搬送口Ｈ１
を開け被処理物Ｗを内圧変動室２２ａに搬入する。その
後、内圧変動室２２ａ内を真空ポンプＰ２ａで減圧して
いき、内圧固定室２１の内圧と等しくなるまで減圧す
る。そして、内圧変動室２２ａと内圧固定室２１の内圧
が等しくなった時点で、ゲートＧａを開けて、被処理物
Ｗを内圧固定室２１のテーブルＴに搬送し、電子ビーム
管１から電子ビームを照射して、被処理物Ｗを処理する
ものである。

【００２５】そして、被処理物Ｗが電子ビーム処理され
た後、予め、内圧固定室２１と同じ内圧まで真空ポンプ
Ｐ２ｂで減圧されている内圧変動室２１ｂにつながるゲ
ートＧｂを開き、被処理物Ｗを内圧変動室２２ｂに搬送
し、その後、ゲートＧｂを閉じ、内圧変動室２２ｂ内を
真空ポンプＰ２ｂによって外気圧まで上げ、外気圧と等
しくなった時点で、搬送口Ｈ２を開けて被処理物Ｗを処
理室２外に取り出すものである。

【００２６】つまり、このような図３に示す本発明の電
子ビーム処理装置によれば、内圧固定室２１と内圧変動
室２２ａ、２２ｂはゲートＧａ、Ｇｂによって区画され
ているので、被処理物Ｗを処理室２内に搬入搬出する際
に、内圧変動室２２ａ、２２ｂの内圧が変化しても、ゲ
ートＧａ、Ｇｂによって内圧変動室２２ａ、２２ｂの内
圧と内圧固定室２１の内圧は、相互に影響されることな
く完全に独立して制御されているので、内圧固定室２１
内の減圧状態が変化しないので、電子ビーム出射窓１５
には真空容器１１内に向かう方向に応力がかからず、電
子ビーム出射窓１５には歪みが蓄積されず、長時間に渡
って電子ビームが電子ビーム出射窓１５を透過しても電
子ビーム出射窓１５が破壊されることがない。

【００２７】また、内圧固定室２１と内圧変動室２２
ａ、２２ｂはゲートＧａ、Ｇｂによって区画されてお
り、被処理物Ｗを処理室２内に搬入搬出する際に、内圧
変動室２２ａ、２２ｂの内圧が変化しても、ゲートＧ
ａ、Ｇｂによって内圧変動室２２ａ、２２ｂの内圧の変
化が内圧固定室２１に影響を与えることがなく、内圧固
定室２１の減圧状態が常に一定であるので、電子ビーム
出射窓１５には、図７に示す従来の電子ビーム処理装置
のように電子ビーム照射窓１５に繰り返し応力が発生す
ることがないので、電子ビーム出射窓１５の機械的な劣
化が起こらず破損することがない。

【００２８】図４は、本発明の他の電子ビーム処理装置
の説明図である。この電子ビーム照射装置も、内部に電
子ビーム発生器１２を有した電子ビーム管１の電子ビー
ム照射窓１５が処理室２内に露出するように構成されて
いる。具体的には、処理室２は、処理室２内に設けられ
た開閉自在のシャッターＳによって処理室２が電子ビー
ム管１側と被処理物Ｗ側に２分割されており、電子ビー
ム管１側が内圧固定室２１となっており、被処理物Ｗ側
が内圧変動室２２になっている。

【００２９】処理室２内は、予め、シャッターＳを開い
た状態で、つまり、内圧固定室２１と内圧変動室２２が
連通した状態の時に、真空ポンプＰにより、例えば１０
Ｔｏｏｒまで減圧されており、電子ビーム管１の真空容
器１１内の圧力とほぼ同じ圧力か、あるいは、処理室２
の内圧によって電子ビーム照射窓１５に応力が加わって
いても許容範囲内の応力に収まる程度になるまで内圧固
定室が減圧されている。

【００３０】この状態の時に、シャッターＳを閉じ、内
圧固定室２１と内圧変動室２２をシャッターＳによって
区画する。そして、処理室２に被処理物Ｗを搬入する
際、内圧変動室２２の内圧を真空ポンプＰによって外気
圧まで上げておき、この状態で搬送口Ｈを開け被処理物
Ｗを内圧変動室２２に搬入する。その後、内圧変動室２
２内を真空ポンプＰで減圧していき、内圧固定室２１の
内圧と等しくなるまで減圧する。そして、内圧変動室２
２と内圧固定室２１の内圧が等しくなった時点で、シャ
ッターＳを開けて、被処理物Ｗに電子ビーム管１からの
電子ビームを照射して、被処理物Ｗを処理するものであ
る。

【００３１】そして、被処理物Ｗが電子ビーム処理され
た後、シャッターＳを閉じ、内圧固定室２１と内圧変動
室２２を区画し、内圧変動室２２内を真空ポンプＰによ
って外気圧まで上げ、外気圧と等しくなった時点で、搬
送口Ｈを開けて被処理物Ｗを処理室２外に取り出すもの
である。

【００３２】この結果、このような図４に示す本発明の
電子ビーム処理装置によれば、図２および図３に示す電
子ビーム処理装置と同様に、被処理物Ｗを処理室２内に
搬入搬出する際に、内圧固定室２１内の減圧状態が変化
しないので、電子ビーム出射窓１５には真空容器１１内
に向かう方向に応力がかからず、電子ビーム出射窓１５
には歪みが蓄積されず、長時間に渡って電子ビームが電
子ビーム出射窓１５を透過しても電子ビーム出射窓１５
が破壊されることがない。

【００３３】また、内圧固定室２１と内圧変動室２２は
シャッターＳによって区画されており、被処理物Ｗを処
理室２内に搬入搬出する際に、内圧変動室２２の内圧の
変化が内圧固定室２１に影響を与えることがなく、内圧
固定室２１の減圧状態が常に一定であるので、電子ビー
ム出射窓１５には、図７に示す従来の電子ビーム処理装
置のように電子ビーム照射窓１５に繰り返し応力が発生
することがないので、電子ビーム出射窓１５の機械的な
劣化が起こらず破損することがない。

【００３４】図５に示す本発明の電子ビーム処理装置
は、処理室の内圧固定室２１に、複数の電子ビーム管１
の各々の電子ビーム出射窓１５が露出する構造になって
いる。この電子ビーム処理装置は、被処理物の面積に応
じて電子ビーム管１の数を増やし大面積処理を行うこと
ができる。このような電子ビーム処理装置によれば、処
理室２の内圧固定室２１に、複数の電子ビーム管１の各
々の電子ビーム出射窓１５が露出した構造であり、前述
した図２の装置と同様ように被処理物Ｗの搬入搬出の際
に内圧が変化する内圧変動室２２と内圧が常に一定減圧
状態である内圧固定室２２がゲートＧによって区画され
ているので、各全ての電子ビーム管１の電子ビーム照射
窓１５に対して応力がかからず、各電子ビーム管１の電
子ビーム照射窓１５が破損しないので、装置のメンテナ
ンス性が向上するものである。なお、図２と同一符号は
同一部分であり説明は省略する。また、被処理物Ｗの処
理装置２内への搬入方法、搬出方法は同じであり、内圧
固定室２１と内圧変動室２２の動作も同じである。

【００３５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の電子ビー
ム照射装置によれば、処理室が、電子ビーム管の電子ビ
ーム出射窓が露出し被処理物の搬入搬出時に内圧が変化
しないように常に減圧状態に保たれた内圧固定室と、こ
の内圧固定室に連結され被処理物の搬入搬出時に大気圧
状態から減圧状態、又は、減圧状態から大気圧状態に変
化する内圧変動室とに区画されているので、被処理物を
処理室内に搬入搬出する際に、内圧変動室の内圧が変化
しても、内圧変動室の内圧と内圧固定室の内圧は、相互
に影響されることなく完全に独立しているので、内圧固
定室内の減圧状態が変化しないので、電子ビーム出射窓
には真空容器内に向かう方向に応力がかからず、電子ビ
ーム出射窓には歪みが蓄積されず、長時間に渡って電子
ビームが電子ビーム出射窓を透過しても電子ビーム出射
窓が破壊されることがない。

【００３６】また、内圧固定室と内圧変動室は完全に区
画されており、被処理物を処理室内に搬入搬出する際
に、内圧変動室の内圧が変化しても、内圧固定室に影響
を与えることがなく、内圧固定室の減圧状態が常に一定
であるので、電子ビーム出射窓には、従来の電子ビーム
処理装置のように電子ビーム照射窓に繰り返し応力が発
生することがないので、電子ビーム出射窓の機械的な劣
化が起こらず破損することがない。

【００３７】さらに、電子ビーム管の電子ビーム出射窓
が、シリコン又はシリコン化合物よりなり、厚みが５μ
ｍ以下であるので、電子ビームがこの電子ビーム出射窓
に吸収される割合を小さくでき、電子ビーム出射窓に発
生する熱を低減することができ、窓の破裂を防ぐことが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】電子ビーム管の説明図である。

【図２】本発明の電子ビーム処理装置の説明図である。

【図３】本発明の電子ビーム処理装置の説明図である。

【図４】本発明の電子ビーム処理装置の説明図である。

【図５】本発明の電子ビーム管を複数用いた電子ビーム
処理装置の説明図である。

【図６】従来の電子ビーム処理装置の説明図である。

【図７】従来の電子ビーム処理装置の説明図である。

【図８】従来の電子ビーム処理装置において電子ビーム
管の電子ビーム出射窓にかかる応力状態を示す説明図で
ある。

【図９】従来の電子ビーム管を複数用いた電子ビーム処
理装置の説明図である。

【符号の説明】

１ 電子ビーム管 １１ 真空容器 １２ 電子ビーム発生器 １２１ フィラメント １２２ グリッド １３ 端子 １４ 蓋部材 １５ 電子ビーム出射窓 ２ 処理装置 ２１ 内圧固定室 ２２ 内圧変動室 ２２ａ 内圧変動室 ２２ｂ 内圧変動室 Ｐ 真空ポンプ Ｑ ガス導入系 Ｇ ゲート Ｇａ ゲート Ｇｂ ゲート Ｓ シャッター Ｔ テーブル Ｒ 加熱源 Ｗ 被処理物 Ｈ 搬送口

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ２１Ｋ 5/04 Ｇ２１Ｋ 5/04 Ｍ Ｈ０１Ｊ 37/301 Ｈ０１Ｊ 37/301 Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｇ０３Ｆ 7/20 ５０４ // Ｇ０３Ｆ 7/20 ５０４ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５４１Ｐ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理物を処理するための処理室に、前
   面に電子ビーム出射窓が形成された真空容器の内部に電
   子ビーム発生器が設けられた電子ビーム管の電子ビーム
   出射窓が露出した電子ビーム処理装置であって、 前記処理室は、前記電子ビーム管の電子ビーム出射窓が
   露出し被処理物の搬入搬出時に内圧が変化しないように
   常に減圧状態に保たれた内圧固定室と、当該内圧固定室
   に連結され被処理物の搬入搬出時に大気圧状態から減圧
   状態、又は、減圧状態から大気圧状態に変化する内圧変
   動室とよりなることを特徴とする電子ビーム処理装置。
2. 【請求項２】 前記電子ビーム管の電子ビーム出射窓
   は、シリコ又はシリコン化合物よりなり、厚みが５μｍ
   以下であることを特徴とする請求項１に記載の電子ビー
   ム処理装置。