JP2002116559A - 電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法 - Google Patents
電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 温純水引き上げ乾燥時、純水引き上げ乾燥
時、または洗浄液から基体を引き上げる時などに基体表
面及び内面に残留する水滴を完全に除去すると共にゴミ
の再付着を防止して感光層に塗布ムラを発生させない電
子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法を得る。 【解決手段】 電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法
において、クリーン度クラス１００００以下の環境にて
円筒状基体を洗浄液から引き上げながら、または引き上
げた後、クリーン度クラス１００以下のエアーを用いて
エアーナイフにより円筒状基体の表内面をブローする。
時、または洗浄液から基体を引き上げる時などに基体表
面及び内面に残留する水滴を完全に除去すると共にゴミ
の再付着を防止して感光層に塗布ムラを発生させない電
子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法を得る。 【解決手段】 電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法
において、クリーン度クラス１００００以下の環境にて
円筒状基体を洗浄液から引き上げながら、または引き上
げた後、クリーン度クラス１００以下のエアーを用いて
エアーナイフにより円筒状基体の表内面をブローする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は電子写真感光体基体
の洗浄方法に関し、詳しくは被洗浄物をエアーナイフで
ブローする電子写真感光体基体の洗浄方法に関する。
の洗浄方法に関し、詳しくは被洗浄物をエアーナイフで
ブローする電子写真感光体基体の洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子写真感光体用円筒状基体（以降基
体）は、その加工時には、灯油、ポリブテン等の加工
油、潤滑油、防錆油などが用いられる。そのため、加工
後の基体には必ず油分が残留しており、さらに切削分や
空気中の粉塵等が付着しているので、これらの付着物を
洗浄してから用いる必要がある。
体）は、その加工時には、灯油、ポリブテン等の加工
油、潤滑油、防錆油などが用いられる。そのため、加工
後の基体には必ず油分が残留しており、さらに切削分や
空気中の粉塵等が付着しているので、これらの付着物を
洗浄してから用いる必要がある。
【０００３】基体の洗浄方法としては、溶剤、準水系洗
浄剤、水系洗浄剤、または純水を用いて洗浄する方法が
あるが、現在は、オゾン層破壊や地球温暖化、大気汚染
等の環境問題及び人体にも悪影響を及ぼすことから塩素
系溶剤の削減、全廃の方向に移行しており、水系洗浄剤
または純水を用いて基体を洗浄する方法が行われてい
る。
浄剤、水系洗浄剤、または純水を用いて洗浄する方法が
あるが、現在は、オゾン層破壊や地球温暖化、大気汚染
等の環境問題及び人体にも悪影響を及ぼすことから塩素
系溶剤の削減、全廃の方向に移行しており、水系洗浄剤
または純水を用いて基体を洗浄する方法が行われてい
る。
【０００４】水系洗浄剤または純水を用いて洗浄する場
合には乾燥工程が溶剤を用いる場合と比較して困難であ
る。一般的に、水系洗浄剤または純水を使用して洗浄す
る場合、乾燥工程は温純水引き上げ乾燥または純水引き
上げ乾燥を行うことが多く、その後に熱風による乾燥を
付加することが多い。
合には乾燥工程が溶剤を用いる場合と比較して困難であ
る。一般的に、水系洗浄剤または純水を使用して洗浄す
る場合、乾燥工程は温純水引き上げ乾燥または純水引き
上げ乾燥を行うことが多く、その後に熱風による乾燥を
付加することが多い。
【０００５】温純水引き上げ乾燥または純水引き上げ乾
燥は、基体を温純水または純水から引き上げる時に、温
純水または純水の表面張力により基体表面及び内面の水
を引き離す効果を利用している。しかし、水面の状態や
引き上げ速度、基体の表面状態により基体表面及び内面
に水滴が残留し易い。基体表面に水滴が残留すると、そ
の後熱風乾燥により乾燥させても次工程の塗工工程で感
光層を形成した場合、感光層に塗布ムラが生じて画像欠
陥を引き起こすといった問題が生じた。また、基体内面
に水滴が残留した場合、水滴が次工程の塗工工程に持ち
込まれ、塗工液の中に混入して感光層に塗布ムラを生じ
させる原因になっていた。さらに基体内面の水滴をその
後熱風乾燥により乾燥させる場合、その水滴が基体表面
に回り込み、感光層に塗布ムラを生じさせた。
燥は、基体を温純水または純水から引き上げる時に、温
純水または純水の表面張力により基体表面及び内面の水
を引き離す効果を利用している。しかし、水面の状態や
引き上げ速度、基体の表面状態により基体表面及び内面
に水滴が残留し易い。基体表面に水滴が残留すると、そ
の後熱風乾燥により乾燥させても次工程の塗工工程で感
光層を形成した場合、感光層に塗布ムラが生じて画像欠
陥を引き起こすといった問題が生じた。また、基体内面
に水滴が残留した場合、水滴が次工程の塗工工程に持ち
込まれ、塗工液の中に混入して感光層に塗布ムラを生じ
させる原因になっていた。さらに基体内面の水滴をその
後熱風乾燥により乾燥させる場合、その水滴が基体表面
に回り込み、感光層に塗布ムラを生じさせた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】特開平６−１１８４７
号公報にはエアーナイフで基体をブローして洗浄する方
法が記載されており、これによれば基体表面に付着する
水滴を除去することができるが、それでも感光層に塗布
ムラを生じさせる問題は完全には解消できない。
号公報にはエアーナイフで基体をブローして洗浄する方
法が記載されており、これによれば基体表面に付着する
水滴を除去することができるが、それでも感光層に塗布
ムラを生じさせる問題は完全には解消できない。
【０００７】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
で、温純水引き上げ乾燥時、純水引き上げ乾燥時及び洗
浄液から基体を引き上げる時に、基体表面及び内面に残
留する水滴を完全に除去し、さらに基体表面に粉塵を再
付着させないようにして感光層の塗布ムラを防止し、良
好な画像が得られる電子写真感光体用円筒状基体の洗浄
方法を得ることを目的とする。
で、温純水引き上げ乾燥時、純水引き上げ乾燥時及び洗
浄液から基体を引き上げる時に、基体表面及び内面に残
留する水滴を完全に除去し、さらに基体表面に粉塵を再
付着させないようにして感光層の塗布ムラを防止し、良
好な画像が得られる電子写真感光体用円筒状基体の洗浄
方法を得ることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題点
に関して検討し、温純水引き上げ乾燥時、純水引き上げ
乾燥時及び洗浄液から基体を引き上げる時の環境のクリ
ーン度、またエアーナイフで使用するエアーのクリーン
度を規定することにより感光層の塗布ムラが防止され良
好な画像が得られることを知り、本発明に至った。すな
わち、本発明によれば、第一に、電子写真感光体用円筒
状基体の洗浄方法において、クリーン度クラス１０００
０以下の環境にて円筒状基体を洗浄液から引き上げなが
ら、または引き上げた後、エアーナイフによりクリーン
度クラス１００以下のエアーを円筒状基体の表内面にブ
ローすることを特徴とする電子写真感光体用円筒状基体
の洗浄方法が提供される。
に関して検討し、温純水引き上げ乾燥時、純水引き上げ
乾燥時及び洗浄液から基体を引き上げる時の環境のクリ
ーン度、またエアーナイフで使用するエアーのクリーン
度を規定することにより感光層の塗布ムラが防止され良
好な画像が得られることを知り、本発明に至った。すな
わち、本発明によれば、第一に、電子写真感光体用円筒
状基体の洗浄方法において、クリーン度クラス１０００
０以下の環境にて円筒状基体を洗浄液から引き上げなが
ら、または引き上げた後、エアーナイフによりクリーン
度クラス１００以下のエアーを円筒状基体の表内面にブ
ローすることを特徴とする電子写真感光体用円筒状基体
の洗浄方法が提供される。
【０００９】第二に、上記第一に記載した電子写真感光
体用円筒状基体の洗浄方法において、上記環境がクリー
ン度クラス１０００以下であることを特徴とする電子写
真感光体用円筒状基体の洗浄方法が提供される。
体用円筒状基体の洗浄方法において、上記環境がクリー
ン度クラス１０００以下であることを特徴とする電子写
真感光体用円筒状基体の洗浄方法が提供される。
【００１０】第三に、上記第一または第二に記載した電
子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法において、上記エ
アーが湿度２５〜６０％ＲＨであることを特徴とする電
子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法が提供される。
子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法において、上記エ
アーが湿度２５〜６０％ＲＨであることを特徴とする電
子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法が提供される。
【００１１】第四に、上記第一、第二または第三に記載
した電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法において、
上記エアーの吹き付け角度が０〜−３０度であることを
特徴とする電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法が提
供される。
した電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法において、
上記エアーの吹き付け角度が０〜−３０度であることを
特徴とする電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法が提
供される。
【００１２】第五に、上記第一、第二、第三または第四
に記載した電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法にお
いて、上記エアーの吹き付け圧力が０．０５〜０．７Ｍ
Ｐａであることを特徴とする電子写真感光体用円筒状基
体の洗浄方法が提供される。
に記載した電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法にお
いて、上記エアーの吹き付け圧力が０．０５〜０．７Ｍ
Ｐａであることを特徴とする電子写真感光体用円筒状基
体の洗浄方法が提供される。
【００１３】第六に、上記第一、第二、第三、第四また
は第五に記載した電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方
法において、エアーナイフでブローする前にスプレーノ
ズルを用いて円筒状基体に純水をスプレーすることを特
徴とする電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法が提供
される。
は第五に記載した電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方
法において、エアーナイフでブローする前にスプレーノ
ズルを用いて円筒状基体に純水をスプレーすることを特
徴とする電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法が提供
される。
【００１４】第七に、上記第六に記載した電子写真感光
体用円筒状基体の洗浄方法において、スプレーの吹き付
け角度が０〜−３０度であることを特徴とする電子写真
感光体用円筒状基体の洗浄方法が提供される。
体用円筒状基体の洗浄方法において、スプレーの吹き付
け角度が０〜−３０度であることを特徴とする電子写真
感光体用円筒状基体の洗浄方法が提供される。
【００１５】第八に、上記第六または第七に記載した電
子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法において、スプレ
ーの吹き付け圧力が０．０２〜０．５ＭＰａであること
を特徴とする電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法が
提供される。
子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法において、スプレ
ーの吹き付け圧力が０．０２〜０．５ＭＰａであること
を特徴とする電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法が
提供される。
【００１６】第九に、上記第一に記載した電子写真感光
体用円筒状基体の洗浄方法において、基体内面用のエア
ーナイフの形状が外側開口のリング状であることを特徴
とする電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法が提供さ
れる。
体用円筒状基体の洗浄方法において、基体内面用のエア
ーナイフの形状が外側開口のリング状であることを特徴
とする電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法が提供さ
れる。
【００１７】第十に、上記第一に記載した電子写真感光
体用円筒状基体の洗浄方法において、基体表面用のエア
ーナイフの形状が内側開口のリング状であることを特徴
とする電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法が提供さ
れる。
体用円筒状基体の洗浄方法において、基体表面用のエア
ーナイフの形状が内側開口のリング状であることを特徴
とする電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法が提供さ
れる。
【００１８】第十一に、上記第六に記載した電子写真感
光体用円筒状基体の洗浄方法において、上記スプレーノ
ズルの形状が内側開口のリング状であることを特徴とす
る電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法が提供され
る。
光体用円筒状基体の洗浄方法において、上記スプレーノ
ズルの形状が内側開口のリング状であることを特徴とす
る電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法が提供され
る。
【００１９】第十二に、上記第一に記載した電子写真感
光体用円筒状基体の洗浄方法において、上記洗浄液が界
面活性剤を含む水であることを特徴とする電子写真感光
体用円筒状基体の洗浄方法が提供される。
光体用円筒状基体の洗浄方法において、上記洗浄液が界
面活性剤を含む水であることを特徴とする電子写真感光
体用円筒状基体の洗浄方法が提供される。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
図１は本発明の基体の洗浄方法の概略を示すものであ
る。クリーン度を管理した部屋または洗浄機内で、基体
１を把持具２により把持させ、基体１と把持具２を横移
動昇降装置３（以降スライダー）により下降する。この
とき、雰囲気のクリーン度はクラス１００００以下、好
ましくは１０００以下が良い。また、雰囲気のクリーン
度は、クリーン度がいくら高くても問題ない。温純水ま
たは純水の満たされた乾燥槽４の上部に待機している基
体保持具５を具備した昇降装置６（以降リフター）に基
体１を受け渡す。基体１を受け渡した後、リフター６は
温純水または純水の中に基体１を浸漬させる。
図１は本発明の基体の洗浄方法の概略を示すものであ
る。クリーン度を管理した部屋または洗浄機内で、基体
１を把持具２により把持させ、基体１と把持具２を横移
動昇降装置３（以降スライダー）により下降する。この
とき、雰囲気のクリーン度はクラス１００００以下、好
ましくは１０００以下が良い。また、雰囲気のクリーン
度は、クリーン度がいくら高くても問題ない。温純水ま
たは純水の満たされた乾燥槽４の上部に待機している基
体保持具５を具備した昇降装置６（以降リフター）に基
体１を受け渡す。基体１を受け渡した後、リフター６は
温純水または純水の中に基体１を浸漬させる。
【００２１】一定時間温純水または純水の中に基体１を
浸漬させた後、リフター６により基体１を温純水または
純水の中より引き上げる。基体１の上端部が液面付近に
達した時、引き上げ速度を低速にする。この時の引き上
げ速度は５０ｍｍ／秒以下、好ましくは１０〜３０ｍｍ
／秒である。この時に基体１内面が通過する位置に配置
した内面用エアーナイフ７によりエアーを吹き付け、基
体１内面に付着している水滴を乾燥槽４側に脱落させ
る。使用するエアーは、エアーブローによりゴミや油分
が付着しないように、クリーン処理されたエアーがよ
く、好ましくはクリーン度クラス１００以下のエアーが
良い。また、エアーブローに使用するエアーのクリーン
度は、クリーン度がいくら高くても問題ない。
浸漬させた後、リフター６により基体１を温純水または
純水の中より引き上げる。基体１の上端部が液面付近に
達した時、引き上げ速度を低速にする。この時の引き上
げ速度は５０ｍｍ／秒以下、好ましくは１０〜３０ｍｍ
／秒である。この時に基体１内面が通過する位置に配置
した内面用エアーナイフ７によりエアーを吹き付け、基
体１内面に付着している水滴を乾燥槽４側に脱落させ
る。使用するエアーは、エアーブローによりゴミや油分
が付着しないように、クリーン処理されたエアーがよ
く、好ましくはクリーン度クラス１００以下のエアーが
良い。また、エアーブローに使用するエアーのクリーン
度は、クリーン度がいくら高くても問題ない。
【００２２】この内面用エアーナイフ７は、エアーブロ
ーにより水滴が飛散しないようにエアーがスリット状に
吹き出す形状が好ましく、基体１内面全体に均一にエア
ーブローすることが好ましい。また、内面用エアーナイ
フ７を外側開口のリング状にすることにより、口径の小
さい基体１にも対応できる。スライダー３に具備された
把持具２に基体１を把持させ、受け渡し、スライダー３
を上昇させ、基体１をより上方に引き上げる。この基体
１内面へのエアーブローは基体１が内面用エアーナイフ
７が外れた時に停止させる。
ーにより水滴が飛散しないようにエアーがスリット状に
吹き出す形状が好ましく、基体１内面全体に均一にエア
ーブローすることが好ましい。また、内面用エアーナイ
フ７を外側開口のリング状にすることにより、口径の小
さい基体１にも対応できる。スライダー３に具備された
把持具２に基体１を把持させ、受け渡し、スライダー３
を上昇させ、基体１をより上方に引き上げる。この基体
１内面へのエアーブローは基体１が内面用エアーナイフ
７が外れた時に停止させる。
【００２３】同時に基体１表面が通過する位置に配置し
た表面用エアーナイフ８によりエアーを吹き付け、基体
１表面に付着している水滴を乾燥槽４に脱落させる。使
用するエアーはエアーブローによりゴミや油分が付着し
ないように、クリーン処理されたエアーが良く、好まし
くはクリーン度クラス１００以下のエアーである。この
表面用エアーナイフ８はエアーブローにより水滴が飛散
しないようエアーがスリット状に吹き出す形状のものが
好ましく、基体１表面全体に均一にエアーブローするこ
とが好ましいため、内側開口のリング状にすることが好
ましい。スライダー３に具備された把持具２に基体１を
把持させ受け渡し、スライダー３を上昇させ、基体１を
より上方に引き上げる。この基体１表面へのエアーブロ
ーは基体１が表面用エアーナイフから外れた時に停止さ
せる。
た表面用エアーナイフ８によりエアーを吹き付け、基体
１表面に付着している水滴を乾燥槽４に脱落させる。使
用するエアーはエアーブローによりゴミや油分が付着し
ないように、クリーン処理されたエアーが良く、好まし
くはクリーン度クラス１００以下のエアーである。この
表面用エアーナイフ８はエアーブローにより水滴が飛散
しないようエアーがスリット状に吹き出す形状のものが
好ましく、基体１表面全体に均一にエアーブローするこ
とが好ましいため、内側開口のリング状にすることが好
ましい。スライダー３に具備された把持具２に基体１を
把持させ受け渡し、スライダー３を上昇させ、基体１を
より上方に引き上げる。この基体１表面へのエアーブロ
ーは基体１が表面用エアーナイフから外れた時に停止さ
せる。
【００２４】また、基体１表面及び内面を同時にエアー
ブローすることにより、基体１表面及び内面のエアーの
力の関係の釣り合いがとれ、基体１が基体保持具５より
脱落することがない。スライダー３が下降し、把持具２
により基体１を把持させ、スライダー３が上昇し、洗浄
の次工程へ基体１を搬送する。この時、把持具２には水
滴が付着することがなく、次工程で基体１の受け渡し時
の把持具２への基体１の張り付きによる搬送不良を防止
することができる。
ブローすることにより、基体１表面及び内面のエアーの
力の関係の釣り合いがとれ、基体１が基体保持具５より
脱落することがない。スライダー３が下降し、把持具２
により基体１を把持させ、スライダー３が上昇し、洗浄
の次工程へ基体１を搬送する。この時、把持具２には水
滴が付着することがなく、次工程で基体１の受け渡し時
の把持具２への基体１の張り付きによる搬送不良を防止
することができる。
【００２５】また、基体１表面をエアーブローする直前
に、基体１表面を純水用シャワーノズル９により純水を
スプレーすることにより、引き上げ時に基体１表面に付
着したゴミ等の異物を洗い流す。この時、スプレーの圧
力は０．０５〜０．１ＭＰａが好ましい。スプレーの角
度は水平より下向きが良く、好ましくは０〜−３０度が
良い。また、この時、純水用シャワーノズルは、基体１
表面にスリット状に均一にシャワーする構造が好まし
く、内側開口のリング状にすることが好ましい。
に、基体１表面を純水用シャワーノズル９により純水を
スプレーすることにより、引き上げ時に基体１表面に付
着したゴミ等の異物を洗い流す。この時、スプレーの圧
力は０．０５〜０．１ＭＰａが好ましい。スプレーの角
度は水平より下向きが良く、好ましくは０〜−３０度が
良い。また、この時、純水用シャワーノズルは、基体１
表面にスリット状に均一にシャワーする構造が好まし
く、内側開口のリング状にすることが好ましい。
【００２６】
【実施例】次に、実施例によって本発明をさらに詳細に
説明する。ただし、本発明は以下の実施例によって限定
されるものではない。なお、実施例中、部はすべて重量
部を表わす。
説明する。ただし、本発明は以下の実施例によって限定
されるものではない。なお、実施例中、部はすべて重量
部を表わす。
【００２７】実施例１ 外径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍのアルミニウム製の円筒
状基体を図１で示した構造の洗浄装置により洗浄した。
まず純水を満たした洗浄槽に１０秒間浸漬洗浄し、その
後、リフターにより引き上げ速度２０ｍｍ／秒で引き上
げた。表面用のエアーナイフは、エアーが表面全体に均
一にスリット状に当たるように配置した。内面用のエア
ーナイフも表面用と同様に配置した。エアーナイフは表
面、内面とも−２０度（下向き２０度）とした。また表
面、内面ともリング状のものを使用した。エアーはクリ
ーン度クラス１００以上１０００未満、湿度５０％Ｒ
Ｈ、圧力０．３ＭＰａのものを使用した。洗浄はクリー
ン度クラス１００００の雰囲気で行い、ワークを１００
０本洗浄した。
状基体を図１で示した構造の洗浄装置により洗浄した。
まず純水を満たした洗浄槽に１０秒間浸漬洗浄し、その
後、リフターにより引き上げ速度２０ｍｍ／秒で引き上
げた。表面用のエアーナイフは、エアーが表面全体に均
一にスリット状に当たるように配置した。内面用のエア
ーナイフも表面用と同様に配置した。エアーナイフは表
面、内面とも−２０度（下向き２０度）とした。また表
面、内面ともリング状のものを使用した。エアーはクリ
ーン度クラス１００以上１０００未満、湿度５０％Ｒ
Ｈ、圧力０．３ＭＰａのものを使用した。洗浄はクリー
ン度クラス１００００の雰囲気で行い、ワークを１００
０本洗浄した。
【００２８】次に洗浄した基体表面に下記構成の各塗布
液を用いて下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を順次
浸漬塗工により形成し積層型の電子写真感光体を作製し
た。 《下引き層塗布液》 可溶性ナイロン（東レ社製アラミンＣＭ−８０００） ５部 メタノール ９５部 《電荷発生層塗布液》 構造式１に示す電荷発生物質 １０部
液を用いて下引き層、電荷発生層及び電荷輸送層を順次
浸漬塗工により形成し積層型の電子写真感光体を作製し
た。 《下引き層塗布液》 可溶性ナイロン（東レ社製アラミンＣＭ−８０００） ５部 メタノール ９５部 《電荷発生層塗布液》 構造式１に示す電荷発生物質 １０部
【００２９】
【化１】 ポリビニルブチラール ７部 テトラヒドロフラン １４５部 をボールミルに入れ、７２時間ミリングした。更にテト
ラヒドロフラン２００部を加えて１時間分散を行った。
分散を終了した液を更にテトラヒドロフランで希釈して
電荷発生層塗布液とした。 《電荷輸送層塗布液》 構造式２に示す電荷輸送物質 ７部
ラヒドロフラン２００部を加えて１時間分散を行った。
分散を終了した液を更にテトラヒドロフランで希釈して
電荷発生層塗布液とした。 《電荷輸送層塗布液》 構造式２に示す電荷輸送物質 ７部
【００３０】
【化２】 ポリカーボネート （帝人化成社製パンライトＣ−１４００） １０部 ジクロルメタン ８３部 を溶解して電荷輸送層塗布液とした。得られた電子写真
感光体について、塗布ムラ及び塗膜欠陥を観察した。結
果を表１に示す。また、同様の試験を繰り返し実施した
結果、バラツキは見られなかった。
感光体について、塗布ムラ及び塗膜欠陥を観察した。結
果を表１に示す。また、同様の試験を繰り返し実施した
結果、バラツキは見られなかった。
【００３１】実施例２ 使用するエアーをクリーン度クラス１００未満とした以
外は実施例１と同様にして基体を洗浄し、洗浄済みの基
体に感光層を塗工し、塗布ムラと塗膜欠陥を観察した。
結果を表１に示す。
外は実施例１と同様にして基体を洗浄し、洗浄済みの基
体に感光層を塗工し、塗布ムラと塗膜欠陥を観察した。
結果を表１に示す。
【００３２】実施例３ 洗浄する雰囲気をクリーン度クラス１０００で行った以
外は実施例２と同様にして基体を洗浄し、感光層を塗工
し、塗布ムラと塗膜欠陥を観察した。結果を表１に示
す。
外は実施例２と同様にして基体を洗浄し、感光層を塗工
し、塗布ムラと塗膜欠陥を観察した。結果を表１に示
す。
【００３３】実施例４ 実施例３において、エアーナイフでエアーブローする直
前に、基体表面をスプレーノズルにより純水のスプレー
を行った以外は実施例３と同様にして基体を洗浄し、洗
浄済みの基体に感光層を塗工し、塗布ムラと塗膜欠陥を
観察した。結果を表１に示す。
前に、基体表面をスプレーノズルにより純水のスプレー
を行った以外は実施例３と同様にして基体を洗浄し、洗
浄済みの基体に感光層を塗工し、塗布ムラと塗膜欠陥を
観察した。結果を表１に示す。
【００３４】比較例１ 洗浄する雰囲気を一般の雰囲気（クリーン度クラス１０
００００）、エアーブローに使用したエアーも一般の雰
囲気のエアー（クリーン度クラス１０００００）で行っ
た以外は実施例１と同様にして基体を洗浄し、洗浄済み
の基体に感光層を塗工し、塗布ムラと塗膜欠陥を観察し
た。結果を表１に示す。
００００）、エアーブローに使用したエアーも一般の雰
囲気のエアー（クリーン度クラス１０００００）で行っ
た以外は実施例１と同様にして基体を洗浄し、洗浄済み
の基体に感光層を塗工し、塗布ムラと塗膜欠陥を観察し
た。結果を表１に示す。
【００３５】比較例２ 洗浄する雰囲気を一般の雰囲気（クリーン度クラス１０
００００）とした以外は実施例４と同様にして基体を洗
浄し、洗浄済みの基体に感光層を塗工し、塗布ムラと塗
膜欠陥を観察した。結果を表１に示す。
００００）とした以外は実施例４と同様にして基体を洗
浄し、洗浄済みの基体に感光層を塗工し、塗布ムラと塗
膜欠陥を観察した。結果を表１に示す。
【００３６】
【表１】 （注）良品率＝基体の良品数／基体の投入数×１００
【００３７】
【発明の効果】以上のように、請求項１の発明は、電子
写真感光体用円筒状基体の洗浄方法において、クリーン
度クラス１００００以下の環境にて円筒状基体を洗浄液
から引き上げながら、または引き上げた後、エアーナイ
フによりクリーン度クラス１００以下のエアーを円筒状
基体の表内面にブローするため、基体表面及び内面に残
留する水滴を除去するのみでなく、基体表面にゴミを再
付着することがないため感光層の塗布ムラや塗膜欠陥の
発生を高率で抑えることができ、良好な画像を得ること
ができる。
写真感光体用円筒状基体の洗浄方法において、クリーン
度クラス１００００以下の環境にて円筒状基体を洗浄液
から引き上げながら、または引き上げた後、エアーナイ
フによりクリーン度クラス１００以下のエアーを円筒状
基体の表内面にブローするため、基体表面及び内面に残
留する水滴を除去するのみでなく、基体表面にゴミを再
付着することがないため感光層の塗布ムラや塗膜欠陥の
発生を高率で抑えることができ、良好な画像を得ること
ができる。
【００３８】請求項２の発明は、上記環境がクリーン度
クラス１０００以下であるため、上述の効果をより向上
させることができる。
クラス１０００以下であるため、上述の効果をより向上
させることができる。
【００３９】請求項３の発明は、上記エアーが湿度２５
〜６０％ＲＨであるため、基体内外面に付着する水滴の
除去作用がさらに向上する。
〜６０％ＲＨであるため、基体内外面に付着する水滴の
除去作用がさらに向上する。
【００４０】請求項４の発明は、上記エアーの吹き付け
角度が０〜−３０度であるため、吹き付けたエアーが上
方に巻き上がらず、除去した水滴を再付着することがな
いため、水滴の除去作用がさらに向上する。
角度が０〜−３０度であるため、吹き付けたエアーが上
方に巻き上がらず、除去した水滴を再付着することがな
いため、水滴の除去作用がさらに向上する。
【００４１】請求項５の発明は、上記エアーの吹き付け
圧力が０．０５〜０．７ＭＰａであるため、基体表面に
付着する水滴の除去作用が好適に行われる。
圧力が０．０５〜０．７ＭＰａであるため、基体表面に
付着する水滴の除去作用が好適に行われる。
【００４２】請求項６の発明は、上記エアーナイフでブ
ローする前にスプレーノズルを用いて円筒状基体に純水
をスプレーするため、円筒状基体を洗浄液から引き上げ
時、基体表面に付着したゴミ等の異物を洗い流すことが
できる。
ローする前にスプレーノズルを用いて円筒状基体に純水
をスプレーするため、円筒状基体を洗浄液から引き上げ
時、基体表面に付着したゴミ等の異物を洗い流すことが
できる。
【００４３】請求項７の発明は、上記スプレーの吹き付
け角度が０〜−３０度であるため、吹き付けた純水が巻
き上がらず、除去したゴミなどの異物を再付着すること
がないため、ゴミなどの異物を洗い流す作用がさらに向
上する。
け角度が０〜−３０度であるため、吹き付けた純水が巻
き上がらず、除去したゴミなどの異物を再付着すること
がないため、ゴミなどの異物を洗い流す作用がさらに向
上する。
【００４４】請求項８の発明は、上記スプレーの吹き付
け圧力が０．０２〜０．５ＭＰａであるため、純水のス
プレー作用を好適に行うことができる。
け圧力が０．０２〜０．５ＭＰａであるため、純水のス
プレー作用を好適に行うことができる。
【００４５】請求項９の発明は、上記被洗浄物が円筒状
基体であって、該基体内面用のエアーナイフの形状が外
側開口のリング状であるため、エアーをスリット状に吹
き出すことができ、水滴を飛散させないのみか、口径の
小さい基体にも対応することができる。
基体であって、該基体内面用のエアーナイフの形状が外
側開口のリング状であるため、エアーをスリット状に吹
き出すことができ、水滴を飛散させないのみか、口径の
小さい基体にも対応することができる。
【００４６】請求項１０の発明は、上記被洗浄物が円筒
状基体であって、該基体表面用のエアーナイフの形状が
内側開口のリング状であるため、エアーをスリット状に
吹き出すことができ、水滴を飛散させないのみか、基体
表面全体に均一にエアーブローすることができる。
状基体であって、該基体表面用のエアーナイフの形状が
内側開口のリング状であるため、エアーをスリット状に
吹き出すことができ、水滴を飛散させないのみか、基体
表面全体に均一にエアーブローすることができる。
【００４７】請求項１１の発明は、上記被洗浄物が円筒
状基体であって、スプレーノズルの形状が内側開口のリ
ング状であるため、基体表面に純水をスリット状に均一
にスプレーすることができる。
状基体であって、スプレーノズルの形状が内側開口のリ
ング状であるため、基体表面に純水をスリット状に均一
にスプレーすることができる。
【００４８】請求項１２の発明は、上記洗浄液が界面活
性剤を含む水であるため、ゴミや油分の洗浄効果が高い
のみかエアーブローによる水滴の除去効果も優れてい
る。
性剤を含む水であるため、ゴミや油分の洗浄効果が高い
のみかエアーブローによる水滴の除去効果も優れてい
る。
【図１】本発明による洗浄方法の一例を示す説明図。
【図２】基体内面用エアーナイフの説明図。
【図３】基体表面用エアーナイフの説明図。
【図４】純水用シャワーノズルの説明図。
１ 基体 ２ ワーク把持具 ３ スライダー ４ 洗浄槽 ５ 基体保持具 ６ リフター ７ 基体内面用エアーナイフ ８ 基体表面用エアーナイフ ９ 純水用シャワーノズル
フロントページの続き (72)発明者 高下 泰秀 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 鈴木 栄 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 Ｆターム(参考） 2H068 AA54 EA05 EA36
Claims (12)
- 【請求項１】 電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法
において、クリーン度クラス１００００以下の環境にて
円筒状基体を洗浄液から引き上げながら、または引き上
げた後、エアーナイフによりクリーン度クラス１００以
下のエアーを円筒状基体の表内面にブローすることを特
徴とする電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法。 - 【請求項２】 請求項１記載の電子写真感光体用円筒状
基体の洗浄方法において、前記環境がクリーン度クラス
１０００以下であることを特徴とする電子写真感光体用
円筒状基体の洗浄方法。 - 【請求項３】 請求項１または２記載の電子写真感光体
用円筒状基体の洗浄方法において、前記エアーが湿度２
５〜６０％ＲＨであることを特徴とする電子写真感光体
用円筒状基体の洗浄方法。 - 【請求項４】 請求項１、２または３記載の電子写真感
光体用円筒状基体の洗浄方法において、前記エアーの吹
き付け角度が０〜−３０度であることを特徴とする電子
写真感光体用円筒状基体の洗浄方法。 - 【請求項５】 請求項１、２、３または４記載の電子写
真感光体用円筒状基体の洗浄方法において、前記エアー
の吹き付け圧力が０．０５〜０．７ＭＰａであることを
特徴とする電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法。 - 【請求項６】 請求項１、２、３、４または５記載の電
子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法において、エアー
ナイフでブローする前にスプレーノズルを用いて円筒状
基体に純水をスプレーすることを特徴とする電子写真感
光体用円筒状基体の洗浄方法。 - 【請求項７】 請求項６記載の電子写真感光体用円筒状
基体の洗浄方法において、スプレーの吹き付け角度が０
〜−３０度であることを特徴とする電子写真感光体用円
筒状基体の洗浄方法。 - 【請求項８】 請求項６または７記載の電子写真感光体
用円筒状基体の洗浄方法において、スプレーの吹き付け
圧力が０．０２〜０．５ＭＰａであることを特徴とする
電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法。 - 【請求項９】 請求項１記載の電子写真感光体用円筒状
基体の洗浄方法において、基体内面用のエアーナイフの
形状が外側開口のリング状であることを特徴とする電子
写真感光体用円筒状基体の洗浄方法。 - 【請求項１０】 請求項１記載の電子写真感光体用円筒
状基体の洗浄方法において、基体表面用のエアーナイフ
の形状が内側開口のリング状であることを特徴とする電
子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法。 - 【請求項１１】 請求項６記載の電子写真感光体用円筒
状基体の洗浄方法において、前記スプレーノズルの形状
が内側開口のリング状であることを特徴とする電子写真
感光体用円筒状基体の洗浄方法。 - 【請求項１２】 請求項１記載の電子写真感光体用円筒
状基体の洗浄方法において、前記洗浄液が界面活性剤を
含む水であることを特徴とする電子写真感光体用円筒状
基体の洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000305164A JP2002116559A (ja) | 2000-10-04 | 2000-10-04 | 電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000305164A JP2002116559A (ja) | 2000-10-04 | 2000-10-04 | 電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002116559A true JP2002116559A (ja) | 2002-04-19 |
Family
ID=18786077
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000305164A Pending JP2002116559A (ja) | 2000-10-04 | 2000-10-04 | 電子写真感光体用円筒状基体の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002116559A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011041901A (ja) * | 2009-08-20 | 2011-03-03 | Canon Inc | 円筒状基体の洗浄装置、洗浄方法および電子写真感光体の製造方法 |
-
2000
- 2000-10-04 JP JP2000305164A patent/JP2002116559A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011041901A (ja) * | 2009-08-20 | 2011-03-03 | Canon Inc | 円筒状基体の洗浄装置、洗浄方法および電子写真感光体の製造方法 |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070710 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090318 |