JP2002114970A - Aqueous lapping liquid and aqueous lapping agent - Google Patents

Aqueous lapping liquid and aqueous lapping agent

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JP2002114970A
JP2002114970A JP2000304999A JP2000304999A JP2002114970A JP 2002114970 A JP2002114970 A JP 2002114970A JP 2000304999 A JP2000304999 A JP 2000304999A JP 2000304999 A JP2000304999 A JP 2000304999A JP 2002114970 A JP2002114970 A JP 2002114970A
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aqueous
acid
lapping
water
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JP2000304999A
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Japanese (ja)
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Taiga Kawamata
大雅 川俣
Kaoru Komiya
薫 小宮
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Adeka Corp
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Asahi Denka Kogyo KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lapping agent giving no unfavorable effect on abrasive performance, having the same dispersion stability of abrasive grain with an alkylphenol added with ethylene oxides, and having almost no unfavorable effect on environment. SOLUTION: This aqueous lapping liquid contains as component (A) an abrasive grain dispersant represented by formula (1): R1-O-(R2O)n-H (wherein R1 is a saturated alcohol synthesized by the oxo method from propylene or an olefin derived from a butylene oligomer, or an alcohol residue obtained by dimerization of the alcohol, R2O an oxyalkylene group, and (n) is a number of greater than 1), as component (B) a lubricating base oil, and as component (C) water, and the aqueous lapping agent contains an abrasive grain in the lapping liquid.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、分散された砥粒を
利用して、半導体、セラミックス、水晶、ガラス、超硬
工具等の脆性材料を切断加工又は研磨加工するために用
いられる水系ラップ液又は水系ラップ剤に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an aqueous lapping liquid used for cutting or polishing brittle materials such as semiconductors, ceramics, quartz, glass, and carbide tools by using dispersed abrasive grains. Or, it relates to an aqueous wrap.

【0002】[0002]

【従来の技術】被加工物と工具の間に、砥粒を分散させ
たスラリー状の加工液を入れ、両者に圧力を加えながら
相対運動をさせることにより、被加工物の切断や研磨を
行なう加工方法がある。このような方法は、主に、剪断
変形では加工できない脆性材料、例えば、半導体、水
晶、ガラス、超硬工具等の加工に用いられている。こう
した加工で用いられる砥粒を分散させた加工液を、ラッ
プ剤と呼ぶ。
2. Description of the Related Art A slurry-like working fluid in which abrasive grains are dispersed is placed between a workpiece and a tool, and the workpiece is cut or polished by causing relative movement while applying pressure. There is a processing method. Such a method is mainly used for processing brittle materials that cannot be processed by shear deformation, for example, semiconductors, quartz, glass, and carbide tools. A processing liquid in which abrasive grains used in such processing are dispersed is called a lapping agent.

【0003】砥粒は、予め液に分散された形態で使用業
者に供給されることもあるが、輸送及び貯蔵場所等の問
題から、使用業者が作業現場において、濃厚な加工液を
必要に応じて水等で希釈した後、砥粒を分散させて用い
られることが多い。この、砥粒を分散させる前の濃厚な
加工液は、ラップ液と呼ばれている。尚、ラップ剤を用
いた研磨加工をラッピングと言うが、砥粒がコロイダル
シリカ等の微粒子であるラップ剤を用いた精密研磨加工
を、特にポリッシングと呼ぶ場合がある。
[0003] Abrasive grains are sometimes supplied to a user in a form dispersed in a liquid in advance. However, due to problems such as transportation and a storage location, the user needs a concentrated processing liquid at a work site as necessary. After dilution with water or the like, the abrasive grains are often used after being dispersed. The thick working liquid before the abrasive grains are dispersed is called a lapping liquid. The polishing using a lapping agent is referred to as lapping, and the precision polishing using a lapping agent in which abrasive grains are fine particles such as colloidal silica may be particularly referred to as polishing.

【0004】ラップ剤は通常、水、鉱油、合成油、油脂
等の液体に微細粉末状の砥粒を分散させたものである
が、加工精度を維持するには、砥粒をラップ剤中に長時
間安定に分散させることが必要である。砥粒の分散が不
安定であると、砥粒の沈降、不均一分散が生じ、加工能
率及び加工精度が著しく低下する。
[0004] The lapping agent is usually a dispersion of fine powdery abrasive particles in a liquid such as water, mineral oil, synthetic oil, oil or fat. To maintain the processing accuracy, the abrasive particles are added to the lapping agent. It is necessary to stably disperse for a long time. If the dispersion of the abrasive grains is unstable, sedimentation and non-uniform dispersion of the abrasive grains occur, and the processing efficiency and processing accuracy are significantly reduced.

【0005】このため、特開昭53−67191号公報
では、鉱油に、油脂又はグリース等を添加したラップ剤
が提案されている。しかし、鉱油を使用したラップ剤は
水に不溶なため、加工後に被加工物を有機溶剤等で洗浄
した後、更に界面活性剤を使用し水洗することが不可欠
となり、工程が長くなるという問題がある。これに対し
て、砥粒分散性及び洗浄性を改良するため、特開昭56
−145968号公報では、アルキルフェノールのエチ
レンオキサイド付加物を添加したラップ剤が、特開平9
−314459号公報では、鉱油に脂肪酸エステル系界
面活性剤及びアルキルフェノールのエチレンオキサイド
付加物を添加したラップ剤が提案されている。
For this reason, Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 53-67191 proposes a wrapping agent obtained by adding fats or oils or grease to mineral oil. However, since lapping agents using mineral oil are insoluble in water, it is indispensable to wash the workpiece after processing with an organic solvent, etc., and then further use a surfactant to wash with water. is there. On the other hand, Japanese Patent Application Laid-Open No.
JP-A-145968 discloses a wrapping agent to which an ethylene oxide adduct of an alkylphenol is added.
JP-A-314449 proposes a wrapping agent obtained by adding a fatty acid ester-based surfactant and an ethylene oxide adduct of alkylphenol to mineral oil.

【0006】しかしながら、アルキルフェノールのエチ
レンオキサイド付加物は、砥粒分散性、研磨剤の洗浄性
等に優れた効果を示すが、難生分解性であるため、環境
中へ放出された場合に長期間分解を受けず、環境を汚染
するおそれがあった。また、近年ではノニルフェノール
が生物に対して擬似ホルモン作用を発現し、生物の内分
泌系を撹乱する作用があるのではないかという、いわゆ
るエンドクリン問題の懸念もあり、アルキルフェノール
のエチレンオキサイド付加物についても代替品が模索さ
れていた。
[0006] However, ethylene oxide adducts of alkylphenols exhibit excellent effects such as abrasive grain dispersibility and abrasive cleaning properties. However, since they are hardly biodegradable, they have long-term effects when released into the environment. It was not decomposed and could pollute the environment. In recent years, there has been concern about the so-called endocrine problem that nonylphenol may exert a pseudohormonal effect on living organisms and disrupt the endocrine system of living organisms. Alternatives were being sought.

【0007】アルキルフェノールのエチレンオキサイド
付加物を使用しないラップ剤としては、特開平3−18
1598号公報でポリアルキレングリコール誘導体又は
高分子多糖類を増粘剤としたラップ剤が、特開平9−3
6074号公報でプルロニック型又はPO/EOランダ
ム重合型のポリエーテル系界面活性剤を砥粒分散剤とし
たラップ剤が提案されているが、アルキルフェノールの
エチレンオキサイド付加物を添加したものに比べて砥粒
の分散が不安定であった。
As a wrapping agent which does not use an ethylene oxide adduct of an alkylphenol, JP-A No. 3-18 / 1990
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 1598/1997, a wrapping agent using a polyalkylene glycol derivative or a high molecular weight polysaccharide as a thickener is disclosed in
Japanese Patent No. 6074 proposes a lapping agent using a pluronic type or a PO / EO random polymerization type polyether-based surfactant as an abrasive dispersant. The dispersion of the grains was unstable.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは鋭意
検討し、ラップ剤に特定の構造を有する砥粒分散剤を添
加することで、研磨性能に悪影響を与えず、砥粒の分散
安定性がアルキルフェノールのエチレンオキサイド付加
物と同等で、しかも環境に対する悪影響がほとんど無い
ラップ剤が得られることを見い出し本発明を完成させ
た。即ち、本発明は、(A)成分として、下記の一般式
(1) で表わされる砥粒分散剤;(B)成分として、潤滑性基
油;及び(C)成分として、水を含有することを特徴と
する水系ラップ液、及び該ラップ液に砥粒を含有させた
水系ラップ剤である。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have studied diligently, and by adding an abrasive dispersant having a specific structure to a lapping agent, the polishing performance is not adversely affected, and the dispersion of the abrasive is stabilized. The present inventors have found that a wrap agent having the same properties as an ethylene oxide adduct of an alkylphenol and having almost no adverse effect on the environment can be obtained, and completed the present invention. That is, the present invention provides, as a component (A), the following general formula (1) A water-based lapping liquid characterized by containing a lubricating base oil as a component (B); and water as a component (C); and abrasive grains in the lapping liquid. It is an aqueous wrap.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】まず、本発明の(A)成分につい
て説明する。本発明の(A)成分は、前記一般式(1)
で表わされる砥粒分散剤である。一般式(1)におい
て、R1は、プロピレン又はブチレンのオリゴマーから
誘導されたオレフィンから、オキソ法によって合成され
た飽和アルコール、又はこのアルコールを2量化して得
られたアルコールの残基を表わす。プロピレン又はブチ
レンのオリゴマーとしては、プロピレン又はブチレンの
2〜5量体程度の重合体が挙げられる。例えば、プロピ
レンダイマー(炭素数6)、プロピレントリマー(炭素
数9)、プロピレンテトラマー(炭素数12)、プロピ
レンペンタマー(炭素数15)、ブチレンダイマー(炭
素数8)、ブチレントリマー(炭素数12)、ブチレン
テトラマー(炭素数16)等が挙げられる。尚、これら
は分枝を持ったオレフィンの構造異性体の混合物であ
る。R1は、これらのオレフィンからオキソ法によって
合成された飽和アルコールの残基である。
First, the component (A) of the present invention will be described. The component (A) of the present invention has the general formula (1)
Is an abrasive dispersant represented by the formula: In the general formula (1), R 1 represents a saturated alcohol synthesized by an oxo method from an olefin derived from an oligomer of propylene or butylene, or a residue of an alcohol obtained by dimerizing the alcohol. Examples of the oligomer of propylene or butylene include a polymer of about 2 to pentamer of propylene or butylene. For example, propylene dimer (carbon number 6), propylene trimer (carbon number 9), propylene tetramer (carbon number 12), propylene pentamer (carbon number 15), butylene dimer (carbon number 8), butylene trimer (carbon number 12) And butylene tetramer (having 16 carbon atoms). These are mixtures of structural isomers of branched olefins. R 1 is a residue of a saturated alcohol synthesized from these olefins by the oxo method.

【0010】オキソ法とは、オレフィンに一酸化炭素を
反応させてアルデヒドとした後、水素で還元してアルコ
ールを得る合成方法であり、従って、得られるアルコー
ルの炭素数はオレフィンの炭素数よりも1つ多くなる。
合成された飽和アルコールのうち、主成分は1級アルコ
ールである。従って、合成された飽和アルコールのうち
主成分は、アルキル基の種々の位置に多数の分枝を持っ
た飽和1級アルコールの混合物である。こうしたアルコ
ールとしては、例えば、イソヘプタノール(プロピレン
ダイマーを原料とする。)、イソノナノール(ブチレン
ダイマーを原料とする。)、イソデカノール(プロピレ
ントリマーを原料とする。)、イソトリデカノール(プ
ロピレンテトラマー又はブチレントリマーを原料とす
る。)、イソヘキサデカノール(プロピレンペンタマー
を原料とする。)、イソヘプタデカノール(ブチレンテ
トラマーを原料とする。)等が挙げられる。
The oxo method is a synthesis method in which an olefin is reacted with carbon monoxide to form an aldehyde and then reduced with hydrogen to obtain an alcohol. Therefore, the carbon number of the obtained alcohol is larger than that of the olefin. One more.
The main component of the synthesized saturated alcohol is a primary alcohol. Therefore, the main component of the synthesized saturated alcohol is a mixture of a saturated primary alcohol having many branches at various positions of the alkyl group. Examples of such alcohols include isoheptanol (using propylene dimer as a raw material), isononanol (using butylene dimer as a raw material), isodecanol (using propylene trimer as a raw material), and isotridecanol (using propylene tetramer or propylene tetramer). Butylene trimer as a raw material), isohexadecanol (propylene pentamer as a raw material), isoheptadecanol (butylene tetramer as a raw material), and the like.

【0011】また、R1は、プロピレン又はブチレンの
オリゴマーから誘導されたオレフィンから、オキソ法に
よって合成された飽和アルコールを、更に2量化して得
られたアルコールの残基でもよい。2量化の方法として
は、Guerbet反応が一般的に用いられている。Guerbet反
応は、金属ナトリウムの存在下で1級アルコールを2分
子縮合し、β分枝の1級アルコールを得る反応である。
また、オキソ法の中間体であるアルデヒドをアルドール
反応により2量化してから水素で還元してアルコールと
する方法でもよい。こうしたアルコールとしては、例え
ば、イソミリスチルアルコール(イソヘプタノールの2
量体)、イソステアリルアルコール(イソノナノールの
2量体)等が挙げられる。
Further, R 1 may be an alcohol residue obtained by further dimerizing a saturated alcohol synthesized by an oxo method from an olefin derived from an oligomer of propylene or butylene. As a method for dimerization, Guerbet reaction is generally used. The Guerbet reaction is a reaction in which two molecules of a primary alcohol are condensed in the presence of sodium metal to obtain a β-branched primary alcohol.
Alternatively, a method may be used in which an aldehyde which is an intermediate of the oxo method is dimerized by an aldol reaction and then reduced with hydrogen to obtain an alcohol. Such alcohols include, for example, isomyristyl alcohol (2 of isoheptanol).
Monomer), isostearyl alcohol (a dimer of isononanol) and the like.

【0012】これらのアルコールは、多数の分枝がある
ことに特徴があり、公知の分析方法、例えば、1H−N
MR、13C−NMR、種々のクロマトグラフィー等を用
いることにより判別することができる。このようなR1
の炭素数としては、10〜18が好ましく、13〜14
がより好ましいが、砥粒分散性が優れる13が最も好ま
しい。
These alcohols are characterized by having a large number of branches, and are known by known analytical methods, for example, 1 H-N
It can be determined by using MR, 13 C-NMR, various types of chromatography, and the like. Such R 1
Is preferably 10 to 18, and 13 to 14
Is more preferable, but 13 having excellent abrasive grain dispersibility is most preferable.

【0013】また、一般式(1)において、R2Oはオ
キシアルキレン基を表わす。オキシアルキレン基として
は、炭素数2〜4のオキシアルキレン基であることが好
ましく、オキシエチレン基であることがより好ましい。
一般式(1)の(R2O)nの部分は、エチレンオキサイ
ド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、テト
ラヒドロフラン(1,4−ブチレンオキサイド)、長鎖
α−オレフィンオキサイド、スチレンオキサイド等のア
ルキレンオキサイド等を付加重合することにより得るこ
とができる。
In the general formula (1), R 2 O represents an oxyalkylene group. The oxyalkylene group is preferably an oxyalkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and more preferably an oxyethylene group.
The part of (R 2 O) n in the general formula (1) is an alkylene oxide such as ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, tetrahydrofuran (1,4-butylene oxide), long-chain α-olefin oxide and styrene oxide. It can be obtained by addition polymerization.

【0014】アルキレンオキサイド等を付加することに
よって(R2O)nの部分を形成する場合は、付加させる
アルキレンオキサイド等によりR2が決定される。付加
させるアルキレンオキサイド等の重合形態は特に限定さ
れず、1種類のアルキレンオキサイド等の単独重合、2
種類以上のアルキレンオキサイド等のランダム共重合、
ブロック共重合又はランダム/ブロック共重合等であっ
てよい。
When the (R 2 O) n portion is formed by adding an alkylene oxide or the like, R 2 is determined by the alkylene oxide or the like to be added. The polymerization form of the alkylene oxide or the like to be added is not particularly limited, and homopolymerization of one kind of alkylene oxide or the like, 2
Random copolymerization of more than one kind of alkylene oxide,
Block copolymerization or random / block copolymerization may be used.

【0015】R2Oが2種以上のオキシアルキレン基で
ある場合は、1種はオキシエチレン基であることが好ま
しい。(R2O)nの部分は、好ましくはオキシエチレン
基を50〜100モル%、より好ましくは60〜100
モル%含有するポリオキシアルキレン鎖であるとよい。
重合度nは1以上の数であり、好ましくは1〜200、
より好ましくは1〜100、更に好ましくは2〜50で
ある。一般式(1)で表わされる砥粒分散剤の1%曇点
(1質量%水溶液を低温から高温へ加熱した時に、曇り
始める温度。)は、20℃以上が好ましく、30℃以上
がより好ましい。
When R 2 O is two or more oxyalkylene groups, one is preferably an oxyethylene group. (R 2 O) n moiety of preferably 50 to 100 mole% of oxyethylene groups, more preferably 60 to 100
It is preferred that the polyoxyalkylene chain contain mol%.
The polymerization degree n is a number of 1 or more, preferably 1 to 200,
It is more preferably from 1 to 100, further preferably from 2 to 50. The 1% cloud point of the abrasive dispersant represented by the general formula (1) (the temperature at which clouding starts when a 1% by mass aqueous solution is heated from a low temperature to a high temperature) is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 30 ° C. or higher. .

【0016】本発明の(A)成分である一般式(1)で
表わされる砥粒分散剤は、従来のノニルフェノール系の
砥粒分散剤と比較して生分解性に優れているため、環境
中に長期間残留することが少ない。また、ノニルフェニ
ル基を持たないため、ノニルフェノールに由来する、い
わゆるエンドクリン問題への懸念が解消される。従っ
て、本発明のラップ剤が環境中に排出されたとしても、
環境への悪影響は極めて少ない。また、本発明の砥粒分
散剤は、上記のようにそのアルキル鎖の部分が多数の分
枝を有する構造のため、従来の直鎖型又は単純な分枝鎖
のアルコール又はその誘導体を砥粒分散剤として用いた
場合よりも砥粒の分散が安定しており、砥粒分散性につ
いてはノニルフェノール系の砥粒分散剤と同等かそれ以
上である。
The abrasive dispersant represented by the general formula (1), which is the component (A) of the present invention, is superior in biodegradability as compared with the conventional nonylphenol-based abrasive dispersant. Rarely remain for a long time. In addition, since it has no nonylphenyl group, the concern about the so-called endocrine problem derived from nonylphenol is solved. Therefore, even if the wrapping agent of the present invention is discharged into the environment,
The adverse effects on the environment are extremely small. Further, the abrasive dispersant of the present invention has a structure in which the alkyl chain portion has a large number of branches as described above. The dispersion of the abrasive grains is more stable than when used as a dispersant, and the dispersibility of the abrasive grains is equal to or higher than that of a nonylphenol-based abrasive dispersant.

【0017】また、アルキルフェノールのエチレンオキ
サイド付加物は、ラップ剤に水に不溶な成分を加える場
合、こうした不溶成分の水に対する、乳化剤、分散剤、
乃至は可溶化剤等としての効果もあったが、一般式
(1)で表わされる砥粒分散剤は、こうした効果におい
ても、ノニルフェノール系の砥粒分散剤と同等かそれ以
上である。
When an ethylene oxide adduct of an alkyl phenol is added to a wrapping agent with a water-insoluble component, an emulsifier, a dispersant,
In addition, the abrasive dispersant represented by the general formula (1) is equal to or more effective than the nonylphenol-based abrasive dispersant in such an effect.

【0018】次に、本発明の(B)成分である潤滑性基
油について説明する。本発明の(B)成分である潤滑性
基油としては、公知の潤滑性基油を使用することができ
る。こうした潤滑性基油としては、例えば、鉱油、合成
油、油脂等が挙げられる。ここで、鉱油とは、天然の原
油から分離、蒸留、精製されるものをいい、パラフィン
系、ナフテン系、或いはこれらを水素化処理、溶剤精製
したもの等が挙げられる。これらのなかには、いわゆる
スピンドル油、マシン油、タービン油、シリンダー油と
称されている鉱油が含まれる。
Next, the lubricating base oil which is the component (B) of the present invention will be described. As the lubricating base oil which is the component (B) of the present invention, a known lubricating base oil can be used. Such lubricating base oils include, for example, mineral oils, synthetic oils, fats and oils, and the like. Here, the mineral oil refers to one that is separated, distilled, and refined from natural crude oil, and examples thereof include paraffinic, naphthenic, and those obtained by subjecting these to hydrogenation treatment and solvent purification. These include mineral oils called so-called spindle oils, machine oils, turbine oils, and cylinder oils.

【0019】また、合成油とは、化学的に合成された潤
滑油であって、例えば、ポリ−α−オレフィン、ポリイ
ソブチレン(ポリブテン)、ジカルボン酸エステル、ポ
リオールエステル、リン酸エステル、ケイ酸エステル、
ポリアルキレングリコール、ポリフェニルエーテル、シ
リコーン、フッ素化化合物、アルキルベンゼン、アルキ
ルナフタレン等が挙げられる。また、油脂とは、例え
ば、牛脂、豚脂、ナタネ油、ヤシ油、パーム油、ヌカ
油、大豆油或いはこれらの水素添加物等が挙げられる。
なかでも好ましいのは、パラフィン系若しくはナフテン
系の鉱油、又は下記一般式(2) で表わされるポリエーテル化合物である。
The synthetic oil is a chemically synthesized lubricating oil, for example, poly-α-olefin, polyisobutylene (polybutene), dicarboxylic acid ester, polyol ester, phosphate ester, silicate ester. ,
Examples thereof include polyalkylene glycol, polyphenyl ether, silicone, fluorinated compound, alkylbenzene, and alkylnaphthalene. The fats and oils include, for example, beef tallow, lard, rapeseed oil, coconut oil, palm oil, bran oil, soybean oil, and hydrogenated products thereof.
Among them, preferred are paraffinic or naphthenic mineral oils, or the following general formula (2) Is a polyether compound represented by

【0020】パラフィン系又はナフテン系の鉱油として
は、40℃での動粘度が、好ましくは0.5〜100m
2/s、より好ましくは1〜60mm2/sのものがよ
い。鉱油の40℃での動粘度が0.5mm2/s以下の
場合は、加工能率や被加工物の表面粗さが悪化すること
があり、100mm2/sを超える場合は、加工後の被
加工物の洗浄性が悪化することがあるためである。
The paraffinic or naphthenic mineral oil has a kinematic viscosity at 40 ° C. of preferably 0.5 to 100 m
m 2 / s, more preferably 1 to 60 mm 2 / s. If the kinematic viscosity at 40 ° C. in mineral oil is less than 0.5 mm 2 / s, there is the surface roughness of the machining efficiency and the workpiece is deteriorated, when it exceeds 100 mm 2 / s, the post-processed This is because the cleanability of the workpiece may be deteriorated.

【0021】また、前記一般式(2)で表わされるポリ
エーテル化合物において、R3は、2価以上のポリオー
ルから水酸基を除いた残基を表わす。こうしたポリオー
ルとしては、例えば、エチレングリコール、プロピレン
グリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタン
ジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタン
ジオール、ネオペンチルグリコール、イソプレングリコ
ール(3−メチル−1,3−ブタンジオール)、1,2
−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、3−
メチル−1,5−ペンタンジオール、1,2−オクタン
ジオール、オクタンジオール(2−エチル−1,3−ヘ
キサンジオール)、2−ブチル−2−エチル−1,3−
プロパンジオール、1,2−デカンジオール、1,2−
ドデカンジオール、1,2−テトラデカンジオール、
1,2−ヘキサデカンジオール、1,2−オクタデカン
ジオール、1,12−オクタデカンジオール、1,2−
シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジオ
ール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、水素化ビ
スフェノールA、ソルバイド、メチルジエタノールアミ
ン等の2価アルコール;グリセリン、1,2,3−ブタ
ントリオール、1,2,4−ブタントリオール、2−メ
チル−1,2,3−プロパントリオール、1,2,3−
ペンタントリオール、1,2,4−ペンタントリオー
ル、1,3,5−ペンタントリオール、2,3,4−ペ
ンタントリオール、2−メチル−2,3,4−ブタント
リオール、トリメチロールエタン、2,3,4−ヘキサ
ントリオール、2−エチル−1,2,3−ブタントリオ
ール、トリメチロールプロパン、4−プロピル−3,
4,5−ヘプタントリオール、ペンタメチルグリセリン
(2,4−ジメチル−2,3,4−ペンタントリオー
ル)、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールア
ミン等の3価アルコール;ペンタエリスリトール、1,
2,3,4−ペンタンテトロール、2,3,4,5−ヘ
キサンテトロール、1,2,4,5−ペンタンテトロー
ル、1,3,4,5−ヘキサンテトロール、ジグリセリ
ン、ジトリメチロールプロパン、ソルビタン、N,N,
N’,N’−テトラキス(2−ヒドロキシエチル)エチ
レンジアミン、N,N,N’,N’−テトラキス(2−
ヒドロキシプロピル)エチレンジアミン等の4価アルコ
ール;アドニトール、アラビトール、キシリトール、ト
リグリセリン等の5価アルコール;ジペンタエリスリト
ール、ソルビトール、マンニトール、イジトール、イノ
シトール、ダルシトール、タロース、アロース等の6価
アルコール;蔗糖等の8価アルコール等が挙げられる。
bは、これらのポリオールの水酸基の数と同数を表わす
2以上の数である。こうしたポリオールとしては、炭素
数2〜20のポリオールが好ましく、更に炭素数2〜1
4の2〜4価のポリオールが好ましい。
In the polyether compound represented by the general formula (2), R 3 represents a residue obtained by removing a hydroxyl group from a divalent or higher polyol. Such polyols include, for example, ethylene glycol, propylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, isoprene glycol (3- Methyl-1,3-butanediol), 1,2
-Hexanediol, 1,6-hexanediol, 3-
Methyl-1,5-pentanediol, 1,2-octanediol, octanediol (2-ethyl-1,3-hexanediol), 2-butyl-2-ethyl-1,3-
Propanediol, 1,2-decanediol, 1,2-
Dodecanediol, 1,2-tetradecanediol,
1,2-hexadecanediol, 1,2-octadecanediol, 1,12-octadecanediol, 1,2-
Dihydric alcohols such as cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, hydrogenated bisphenol A, sorbide and methyldiethanolamine; glycerin, 1,2,3-butanetriol, 1,2,4- Butanetriol, 2-methyl-1,2,3-propanetriol, 1,2,3-
Pentanetriol, 1,2,4-pentanetriol, 1,3,5-pentanetriol, 2,3,4-pentanetriol, 2-methyl-2,3,4-butanetriol, trimethylolethane, 2,3 , 4-hexanetriol, 2-ethyl-1,2,3-butanetriol, trimethylolpropane, 4-propyl-3,
Trihydric alcohols such as 4,5-heptanetriol, pentamethylglycerin (2,4-dimethyl-2,3,4-pentanetriol), triethanolamine and triisopropanolamine; pentaerythritol,
2,3,4-pentane tetrol, 2,3,4,5-hexane tetrol, 1,2,4,5-pentane tetrol, 1,3,4,5-hexane tetrol, diglycerin, ditri Methylolpropane, sorbitan, N, N,
N ′, N′-tetrakis (2-hydroxyethyl) ethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetrakis (2-
(Hydroxypropyl) tetrahydric alcohols such as ethylenediamine; pentahydric alcohols such as adonitol, arabitol, xylitol and triglycerin; hexahydric alcohols such as dipentaerythritol, sorbitol, mannitol, iditol, inositol, darcitol, talose, allose; Octahydric alcohols and the like can be mentioned.
b is a number of 2 or more representing the same number as the number of hydroxyl groups of these polyols. As such a polyol, a polyol having 2 to 20 carbon atoms is preferable.
A divalent to tetravalent polyol of 4 is preferred.

【0022】また、一般式(2)において、R4Oはオ
キシアルキレン基を表わす。オキシアルキレン基として
は、炭素数2〜4のオキシアルキレン基であることが好
ましい。一般式(2)の(R4O)aの部分は、エチレン
オキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイ
ド、テトラヒドロフラン(1,4−ブチレンオキサイ
ド)、長鎖α−オレフィンオキサイド、スチレンオキサ
イド等のアルキレンオキサイド等を付加重合することに
より得ることができる。付加させるアルキレンオキサイ
ド等の重合形態は特に限定されず、1種類のアルキレン
オキサイド等の単独重合、2種類以上のアルキレンオキ
サイド等のランダム共重合、ブロック共重合又はランダ
ム/ブロック共重合等であってよいが、ブロック共重合
の方が、被加工物の加工精度が向上するので好ましい。
4Oが2種以上のオキシアルキレン基である場合は、
1種はオキシエチレン基であることが好ましく、オキシ
エチレン基とオキシプロピレン基であることが更に好ま
しい。
In the general formula (2), R 4 O represents an oxyalkylene group. The oxyalkylene group is preferably an oxyalkylene group having 2 to 4 carbon atoms. The part of (R 4 O) a in the general formula (2) is an alkylene oxide such as ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, tetrahydrofuran (1,4-butylene oxide), long-chain α-olefin oxide, and styrene oxide. It can be obtained by addition polymerization. The polymerization form of the alkylene oxide or the like to be added is not particularly limited, and may be homopolymerization of one kind of alkylene oxide or the like, random copolymerization of two or more kinds of alkylene oxides or the like, block copolymerization, or random / block copolymerization or the like. However, block copolymerization is preferred because the processing accuracy of the workpiece is improved.
When R 4 O is two or more oxyalkylene groups,
One type is preferably an oxyethylene group, more preferably an oxyethylene group and an oxypropylene group.

【0023】(R4O)aの部分に含まれるオキシエチレ
ン基の量の好ましい範囲は、(R4O)aの部分の重合形
態により異なる。即ち、(R4O)aの部分が2種以上の
オキシアルキレン基のランダム共重合である場合には、
(R4O)aの部分に含まれるオキシエチレン基の量は、
好ましくは5〜95モル%、より好ましくは20〜80
モル%である。また、(R4O)aの部分が2種以上のオ
キシアルキレン基のブロック共重合である場合は、(R
4O)aの部分に含まれるオキシエチレン基の量は、好ま
しくは5〜70モル%、より好ましくは10〜50モル
%である。(R4O)aの部分が2種以上のオキシアルキ
レン基のブロック共重合であって、オキシエチレン基の
含有量が70モル%以上である場合は、泡立ちが大きく
作業性が低下することがあるためである。
[0023] (R 4 O) amount of the preferred range of the oxyethylene groups contained in the portion of a varies by polymerization forms part of (R 4 O) a. That is, when the (R 4 O) a portion is a random copolymer of two or more oxyalkylene groups,
(R 4 O) The amount of oxyethylene groups contained in the portion a is
Preferably 5-95 mol%, more preferably 20-80
Mol%. When the (R 4 O) a portion is a block copolymer of two or more oxyalkylene groups, (R
4 O) The amount of oxyethylene groups contained in the portion a is preferably 5 to 70 mol%, more preferably 10 to 50 mol%. A block copolymer of (R 4 O) a portion of two or more oxyalkylene groups, when the content of oxyethylene groups is 70 mol% or more, that the effervescence increases workability is lowered Because there is.

【0024】また、重合度aは2以上の数であり、一般
式(2)で表わされるポリエーテル化合物の数平均分子
量が、好ましくは500〜50,000、より好ましく
は700〜20,000以上、更に好ましくは800〜
10,000となる数であることが好ましい。分子量が
500に満たない場合は、被加工物の加工精度が下がる
場合があり、20,000を超える場合は、加工の際に
周囲に飛び散って乾燥したラップ剤を洗浄しにくくなる
場合がある。
The degree of polymerization a is a number of 2 or more, and the number average molecular weight of the polyether compound represented by the general formula (2) is preferably 500 to 50,000, more preferably 700 to 20,000 or more. , More preferably 800 to
The number is preferably 10,000. If the molecular weight is less than 500, the processing accuracy of the workpiece may be reduced, and if it is more than 20,000, it may be difficult to wash the dried lapping agent by scattering around during processing.

【0025】このような、一般式(2)で表わされるポ
リエーテル化合物のなかでも、下記の一般式(3)〜
(6)で表わされるポリエーテル化合物が好ましい。
Among the polyether compounds represented by the general formula (2), the following general formulas (3) to (3)
The polyether compound represented by (6) is preferred.

【0026】一般式(3)〜(6)において、EOはオ
キシエチレン基を表わし、POはオキシプロピレン基を
表わす。また、オキシエチレン基の重合度c、e、g及
びi、又はオキシプロピレン基の重合度d、f、h及び
jは、それぞれ1以上の数を表わす。
In the general formulas (3) to (6), EO represents an oxyethylene group, and PO represents an oxypropylene group. Further, the polymerization degrees c, e, g and i of the oxyethylene group or the polymerization degrees d, f, h and j of the oxypropylene group each represent a number of 1 or more.

【0027】c〜jは、一般式(1)で表わされるポリ
エーテル化合物の場合と同様に、一般式(3)〜(6)
で表わされるポリエーテル化合物の数平均分子量が、好
ましくは500〜50,000、より好ましくは700
〜20,000以上、更に好ましくは800〜10,0
00となる数であることが好ましい。また、ポリオキシ
アルキレン鎖中のオキシエチレン基の含量は、一般式
(3)又は一般式(5)で表わされるポリエーテル化合
物については5〜20モル%、一般式(4)又は一般式
(6)で表わされるポリエーテル化合物については5〜
50モル%であることが好ましい。
In the same manner as in the case of the polyether compound represented by the general formula (1), c to j represent the general formulas (3) to (6)
The number average molecular weight of the polyether compound represented by the formula is preferably 500 to 50,000, more preferably 700.
~ 20,000 or more, more preferably 800 ~ 10,0
It is preferable that the number be 00. The content of the oxyethylene group in the polyoxyalkylene chain is 5 to 20 mol% for the polyether compound represented by the general formula (3) or (5), and the general formula (4) or the general formula (6). )) For the polyether compound represented by
Preferably it is 50 mol%.

【0028】本発明の水系ラップ液は、上記(A)成分
及び(B)成分に加えて、(C)成分である水を含有す
る。本発明の水系ラップ液において、(A)成分の含量
は、ラップ液全量に対して3〜70質量%であることが
好ましく、5〜50質量%であることが更に好ましい。
(A)成分の含量が3質量%未満の場合は、砥粒の分散
性及び分散安定性が低下することがあり、70質量%を
超える場合は、(B)成分の相対的な含量が減り、加工
精度が低下することがあるためである。
The aqueous wrap solution of the present invention contains water as the component (C) in addition to the components (A) and (B). In the aqueous lapping liquid of the present invention, the content of the component (A) is preferably from 3 to 70% by mass, more preferably from 5 to 50% by mass, based on the total amount of the lapping solution.
When the content of the component (A) is less than 3% by mass, the dispersibility and dispersion stability of the abrasive grains may decrease. When the content exceeds 70% by mass, the relative content of the component (B) decreases. This is because the processing accuracy may be reduced.

【0029】また、(B)成分の含量は10〜50質量
%であることが好ましく、15〜40質量%であること
が更に好ましい。(B)成分の含量が10質量%未満の
場合は、加工精度が低下することがあるためである。ま
た、(C)成分の含量は、10〜80質量%であること
が好ましく、15〜50質量%であることが更に好まし
い。(C)成分の含量が10質量%未満の場合は、
(A)成分と(B)成分が分離を起こすことがあり、8
0質量%を超える場合は、ラップ液という濃厚液の形態
で供給する意義が薄れ、ラップ液の輸送、取り扱い、貯
蔵場所等の問題が起こるためである。
The content of component (B) is preferably from 10 to 50% by mass, more preferably from 15 to 40% by mass. If the content of the component (B) is less than 10% by mass, the processing accuracy may be reduced. Further, the content of the component (C) is preferably from 10 to 80% by mass, and more preferably from 15 to 50% by mass. When the content of the component (C) is less than 10% by mass,
The components (A) and (B) may cause separation,
If the content is more than 0% by mass, the significance of supplying the liquid in the form of a concentrated liquid called a wrapping liquid is diminished, and problems such as transportation, handling, and storage of the lapping liquid occur.

【0030】本発明の水系ラップ液は、工具及び機械等
の錆を防止するために、更に(D)成分として、防錆剤
を含有することが好ましい。防錆剤としては、例えば、
カルボン酸塩、スルホン酸塩、酸性リン酸エステル塩、
ホスホン酸塩、無機酸塩、アルキルアミンのエチレンオ
キサイド付加物、多価アルコール部分エステル、カルボ
ン酸アミド等が挙げられる。
The aqueous lapping liquid of the present invention preferably further contains a rust preventive agent as a component (D) in order to prevent rust of tools and machines. As a rust inhibitor, for example,
Carboxylate, sulfonate, acid phosphate,
Examples include phosphonates, inorganic acid salts, ethylene oxide adducts of alkylamines, partial esters of polyhydric alcohols, carboxylic acid amides and the like.

【0031】カルボン酸塩のカルボン酸としては、例え
ば、ヘキサン酸、オクタン酸、2−エチルヘキサン酸、
ノナン酸、イソノナン酸、デカン酸、ラウリン酸、イソ
デカン酸、ドデカン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸、イソステアリン酸、ウンデセン酸、オレ
イン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキン酸、ベヘン
酸、12−ヒドロキシステアリン酸、リシノール酸等の
脂肪族一塩基酸;マロン酸、コハク酸、グルタル酸、ア
ジピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、アゼライン酸、セ
バシン酸、ドデカン二酸、ブラシル酸、アルケニルコハ
ク酸等の脂肪族二塩基酸;サリチル酸、アルキルサリチ
ル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ヘミメ
リット酸、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリッ
ト酸、ナフタレンカルボン酸等の芳香族カルボン酸;ダ
イマー酸、トリマー酸、ナフテン酸、9(又は10)−
(4−ヒドロキシフェニル)オクタデカン酸等が挙げら
れる。これらの中には、分散剤、乳化剤、油性剤又は防
腐剤として作用するものもある。
Examples of the carboxylic acid of the carboxylate include hexanoic acid, octanoic acid, 2-ethylhexanoic acid,
Nonanoic acid, isononanoic acid, decanoic acid, lauric acid, isodecanoic acid, dodecanoic acid, myristic acid, palmitic acid,
Aliphatic monobasic acids such as stearic acid, isostearic acid, undecenoic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid, arachinic acid, behenic acid, 12-hydroxystearic acid, ricinoleic acid; malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipine Acids, pimelic acid, spearic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecane diacid, brassic acid, alkenyl succinic acid and other aliphatic dibasic acids; salicylic acid, alkyl salicylic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, hemi-mellitic acid, Aromatic carboxylic acids such as trimellitic acid, trimesic acid, pyromellitic acid and naphthalene carboxylic acid; dimer acid, trimer acid, naphthenic acid, 9 (or 10)-
(4-hydroxyphenyl) octadecanoic acid and the like. Some of these act as dispersants, emulsifiers, oil agents or preservatives.

【0032】スルホン酸塩のスルホン酸としては、例え
ば、石油スルホン酸、アルキルベンゼンスルホン酸、α
−オレフィンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等が挙
げられる。これらの中には、分散剤、乳化剤として作用
するものもある。
Examples of the sulfonic acid of the sulfonic acid salt include petroleum sulfonic acid, alkylbenzene sulfonic acid, α
-Olefin sulfonic acid, naphthalene sulfonic acid and the like. Some of these act as dispersants and emulsifiers.

【0033】酸性リン酸エステル塩の酸性リン酸エステ
ルとしては、例えば、オクタノールの(モノ又はジ)リ
ン酸エステル、ラウリルアルコールの(モノ又はジ)リ
ン酸エステル、オレイルアルコールの(モノ又はジ)リ
ン酸エステル、ブチルアルコールエトキシレートの(モ
ノ又はジ)リン酸エステル、オレイルアルコールエトキ
シレートの(モノ又はジ)リン酸エステル等が挙げられ
る。これらの中には、分散剤、乳化剤として作用するも
のもある。
Examples of the acidic phosphate of the acidic phosphate include: (mono or di) phosphate of octanol, (mono or di) phosphate of lauryl alcohol, and (mono or di) phosphate of oleyl alcohol. Acid esters, (mono or di) phosphates of butyl alcohol ethoxylate, (mono or di) phosphates of oleyl alcohol ethoxylate and the like can be mentioned. Some of these act as dispersants and emulsifiers.

【0034】ホスホン酸塩のホスホン酸としては、例え
ば、アミノトリメチレンホスホン酸、1−ヒドロキシエ
チリデン−1,1−ジホスホン酸等が挙げられる。ま
た、無機酸としては、例えば、(ポリ)リン酸、ケイ
酸、ホウ酸等が挙げられる。
Examples of the phosphonic acid of the phosphonate include aminotrimethylenephosphonic acid, 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid and the like. Examples of the inorganic acid include (poly) phosphoric acid, silicic acid, boric acid, and the like.

【0035】これらの酸と塩を形成する塩基成分として
は、例えば、無機アルカリ、アミン等が挙げられる。無
機アルカリとしては、例えば、水酸化カリウム、水酸化
ナトリウム、水酸化セシウム、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム等のアルカリ金属水酸化物又はアルカリ金属炭酸
塩;水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、酸化カル
シウム、酸化マグネシウム等のアルカリ土類金属水酸化
物又はアルカリ土類金属酸化物等が挙げられる。
Examples of the base component which forms a salt with these acids include inorganic alkalis and amines. Examples of the inorganic alkali include alkali metal hydroxides or carbonates such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, cesium hydroxide, potassium carbonate, and sodium carbonate; calcium hydroxide, magnesium hydroxide, calcium oxide, and magnesium oxide. And alkaline earth metal hydroxides or alkaline earth metal oxides.

【0036】アミンとしては、例えば、アンモニア;
(モノ、ジ、又はトリ)メチルアミン、(モノ、ジ、又
はトリ)エチルアミン、(モノ、ジ、又はトリ)プロピ
ルアミン、(モノ、ジ、又はトリ)イソプロピルアミ
ン、(モノ、ジ、又はトリ)ブチルアミン、(モノ、
ジ、又はトリ)オクチルアミン、(モノ、ジ、又はト
リ)2−エチルヘキシルアミン、(モノ、ジ、又はト
リ)デシルアミン、(モノ又はジ)ドデシルアミン、
(モノ又はジ)トリデシルアミン、(モノ又はジ)テト
ラデシルアミン、(モノ又はジ)ヘキサデシルアミン、
(モノ又はジ)オクタデシルアミン、(モノ又はジ)オ
レイルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、ピペラジン、1−(2−
アミノエチル)ピペラジン、N−メチルピペラジン、シ
クロヘキシルアミン、ベンジルアミン、モルホリン等の
脂肪族アミン;(モノ、ジ、又はトリ)エタノールアミ
ン、(モノ、ジ、又はトリ)イソプロパノールアミン、
N−メチルジエタノールアミン、N,N−ジメチルエタ
ノールアミン、N−エチルジエタノールアミン、N−ブ
チルジエタノールアミン、N−オクチルジエタノールア
ミン、N−(2−エチルヘキシル)ジエタノールアミ
ン、N−デシルジエタノールアミン、N−ドデシルジエ
タノールアミン、N−トリデシルジエタノールアミン、
N−テトラデシルジエタノールアミン、N−ヘキサデシ
ルジエタノールアミン、N−オクタデシルジエタノール
アミン、N−ヤシ油由来アルキルジエタノールアミン、
N−牛脂由来アルキルジエタノールアミン、N−大豆油
由来アルキルジエタノールアミン、N−オレイルジエタ
ノールアミン、N−(β−アミノエチル)エタノールア
ミン、N−シクロヘキシルジエタノールアミン、N,
N,N’,N’−テトラキス(2−ヒドロキシエチル)
エチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラキス
(2−ヒドロキシプロピル)エチレンジアミン等のアル
カノールアミン等が挙げられる。
As the amine, for example, ammonia;
(Mono, di, or tri) methylamine, (mono, di, or tri) ethylamine, (mono, di, or tri) propylamine, (mono, di, or tri) isopropylamine, (mono, di, or tri) ) Butylamine, (mono,
Di or tri) octylamine, (mono, di or tri) 2-ethylhexylamine, (mono, di or tri) decylamine, (mono or di) dodecylamine,
(Mono or di) tridecylamine, (mono or di) tetradecylamine, (mono or di) hexadecylamine,
(Mono or di) octadecylamine, (mono or di) oleylamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, hexamethylenediamine, piperazine, 1- (2-
(Aminoethyl) piperazine, N-methylpiperazine, cyclohexylamine, benzylamine, aliphatic amines such as morpholine; (mono, di or tri) ethanolamine, (mono, di or tri) isopropanolamine,
N-methyldiethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, N-ethyldiethanolamine, N-butyldiethanolamine, N-octyldiethanolamine, N- (2-ethylhexyl) diethanolamine, N-decyldiethanolamine, N-dodecyldiethanolamine, N-triethylamine Decyldiethanolamine,
N-tetradecyldiethanolamine, N-hexadecyldiethanolamine, N-octadecyldiethanolamine, alkyldiethanolamine derived from N-coconut oil,
N-tallow-derived alkyldiethanolamine, N-soybean-derived alkyldiethanolamine, N-oleyldiethanolamine, N- (β-aminoethyl) ethanolamine, N-cyclohexyldiethanolamine, N,
N, N ', N'-tetrakis (2-hydroxyethyl)
Alkanolamines such as ethylenediamine, N, N, N ', N'-tetrakis (2-hydroxypropyl) ethylenediamine;

【0037】また、多価アルコール部分エステルとして
は、例えば、グリセリン(モノ又はジ)ラウレート、グ
リセリン(モノ又はジ)ミリステート、グリセリン(モ
ノ又はジ)パルミテート、グリセリン(モノ又はジ)ス
テアレート、グリセリン(モノ又はジ)オレート等のグ
リセリン部分エステル;ジグリセリン(モノ、ジ又はト
リ)ステアレート、ジグリセリン(モノ、ジ又はトリ)
オレート等のジグリセリン部分エステル;ソルビタン
(モノ、ジ又はトリ)ラウレート、ソルビタン(モノ、
ジ又はトリ)ミリステート、ソルビタン(モノ、ジ又は
トリ)パルミテート、ソルビタン(モノ、ジ又はトリ)
ステアレート、ソルビタン(モノ、ジ又はトリ)オレー
ト等のソルビタン部分エステル等が挙げられる。これら
の中には、分散剤、乳化剤又は油性剤として作用するも
のもある。
Examples of the polyhydric alcohol partial ester include glycerin (mono or di) laurate, glycerin (mono or di) myristate, glycerin (mono or di) palmitate, glycerin (mono or di) stearate, and glycerin. Glycerin partial esters such as (mono or di) oleate; diglycerin (mono, di or tri) stearate, diglycerin (mono, di or tri)
Diglycerin partial esters such as oleate; sorbitan (mono, di or tri) laurate, sorbitan (mono,
Di or tri) myristate, sorbitan (mono, di or tri) palmitate, sorbitan (mono, di or tri)
And sorbitan partial esters such as stearate and sorbitan (mono, di or tri) oleate. Some of these act as dispersants, emulsifiers or oil agents.

【0038】また、カルボン酸アミドとしては、例え
ば、アルケニルコハク酸アミド、ラウリン酸モノエタノ
ールアミド、ラウリン酸ジエタノールアミド、ミリスチ
ン酸モノエタノールアミド、ミリスチンン酸ジエタノー
ルアミド、パルミチン酸モノエタノールアミド、パルミ
チン酸ジエタノールアミド、ステアリン酸モノエタノー
ルアミド、ステアリン酸ジエタノールアミド等が挙げら
れる。これらの中には、分散剤、乳化剤、油性剤として
作用するものもある。
Examples of the carboxylic acid amide include alkenyl succinamide, lauric acid monoethanolamide, lauric acid diethanolamide, myristic acid monoethanolamide, myristic acid diethanolamide, palmitic acid monoethanolamide, and palmitic acid diethanolamide. , Stearic acid monoethanolamide, stearic acid diethanolamide and the like. Some of these act as dispersants, emulsifiers, and oil agents.

【0039】こうした防錆剤のなかでも、カルボン酸塩
が好ましく、特に脂肪族二塩基酸塩が好ましい。また、
カルボン酸塩のカルボン酸と塩を形成する塩基成分とし
ては、アルカノールアミンが好ましい。(D)成分であ
る防錆剤の含量は、ラップ液全量に対して0.5〜30
質量%であることが好ましい。(D)成分の含量が0.
5質量%に満たない場合は、防錆効果が十分でない場合
があり、30質量%を超える場合は、相対的に(A)成
分や(B)成分の含量が減少するので加工精度が低下す
る場合がある。
Of these rust inhibitors, carboxylate salts are preferred, and aliphatic dibasic acid salts are particularly preferred. Also,
As the base component forming a salt with the carboxylic acid of the carboxylate, an alkanolamine is preferable. (D) The content of the rust inhibitor as a component is 0.5 to 30 with respect to the total amount of the wrapping liquid.
It is preferable that the content is mass%. When the content of the component (D) is 0.
If the amount is less than 5% by mass, the rust-preventing effect may not be sufficient. If the amount exceeds 30% by mass, the content of the component (A) or the component (B) is relatively reduced, so that the processing accuracy is reduced. There are cases.

【0040】本発明の水系ラップ液においては、必要に
応じて、増粘剤、乳化剤、消泡剤、溶剤、防腐剤、金属
不活性化剤等を添加することができる。また、これらは
本発明の水系ラップ液に砥粒を分散させてラップ剤とす
る段階で添加してもよい。増粘剤としては、例えば、キ
タンサンガム、メチルセルロース、エチルセルロース、
ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセル
ロース、カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアル
コール、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリピ
ロリドン、ポリエチレンオキシド、水溶性ウレタン化合
物等が挙げられる。
In the aqueous wrap solution of the present invention, a thickener, an emulsifier, an antifoaming agent, a solvent, a preservative, a metal deactivator, and the like can be added as required. These may be added at the stage of dispersing the abrasive grains in the aqueous lapping liquid of the present invention to form a lapping agent. Examples of the thickener include chitansan gum, methylcellulose, ethylcellulose,
Examples include hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, carboxymethyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyacrylamide, polypyrrolidone, polyethylene oxide, and water-soluble urethane compounds.

【0041】乳化剤としては、例えば、長鎖アルコール
エトキシレート、長鎖アルコールエトキシレート硫酸エ
ステル塩、長鎖アルコール硫酸エステル塩、アルキルス
ルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩等が挙げら
れる。消泡剤としては、例えば、ポリオキシプロピレン
アルキルエーテル、シリコーン油、フルオロシリコーン
油等が挙げられる。
Examples of the emulsifier include long-chain alcohol ethoxylate, long-chain alcohol ethoxylate sulfate, long-chain alcohol sulfate, alkyl sulfonate, and alkylbenzene sulfonate. Examples of the antifoaming agent include polyoxypropylene alkyl ether, silicone oil, fluorosilicone oil and the like.

【0042】溶剤としては、例えば、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリ
プロピレングリコール、グリセリン、メチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ、メチルカルビトール、ブチルカ
ルビトール、プロピレングリコールメチルエーテル、ジ
プロピレングリコールメチルエーテル、トリプロピレン
グリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールブ
チルエーテル等が挙げられる。
Examples of the solvent include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol,
Propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, glycerin, methyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl carbitol, butyl carbitol, propylene glycol methyl ether, dipropylene glycol methyl ether, tripropylene glycol methyl ether, dipropylene glycol butyl ether, and the like. Can be

【0043】防腐剤としては、例えば、2−メチル−4
−イソチアゾリン−3−オン、5−クロル−2−メチル
−4−イソチアゾリン−3−オン、ベンズ−4−イソチ
アゾリン−3−オン、2−オクチル−4−イソチアゾリ
ン−3−オン、デヒドロ酢酸、ピリジン−2−チオール
−1−オキシド塩、N,N’,N’’−トリス(2−ヒ
ドロキシエチル)ヘキサヒドロ−S−トリアジン、2,
2−ジブロム−2−ニトロトリエタノール、パラクロル
メタクレゾール、2−ブロム−2−ニトロ−1,3−プ
ロパンジオール、パラオキシ安息香酸エステル、塩化ベ
ンザルコニウム、1,2−ジブロム−2,4−ジシアノ
ブタン等が挙げられる。金属不活性化剤としては、例え
ば、メルカプトベンゾチアゾール、ベンゾトリアゾー
ル、トリルトリアゾール、ベンズイミダゾール等が挙げ
られる。
As the preservative, for example, 2-methyl-4
-Isothiazolin-3-one, 5-chloro-2-methyl-4-isothiazolin-3-one, benz-4-isothiazolin-3-one, 2-octyl-4-isothiazolin-3-one, dehydroacetic acid, pyridine- 2-thiol-1-oxide salt, N, N ′, N ″ -tris (2-hydroxyethyl) hexahydro-S-triazine, 2,
2-dibromo-2-nitrotriethanol, parachloromethcresol, 2-bromo-2-nitro-1,3-propanediol, paraoxybenzoate, benzalkonium chloride, 1,2-dibromo-2,4- Dicyanobutane and the like. Examples of the metal deactivator include mercaptobenzothiazole, benzotriazole, tolyltriazole, benzimidazole and the like.

【0044】本発明の水系ラップ液は、水で希釈した
後、砥粒を添加・分散させたラップ剤として、切断加
工、研磨加工等に使用される。水による希釈倍率は、加
工方法、加工条件、被加工物の種類、被加工物の形状等
によって異なるが、5〜150質量倍であることが好ま
しく、10〜100質量倍が更に好ましい。希釈する倍
率が、150質量倍を超える場合は、砥粒の分散安定性
が低下することがあるためである。
The water-based lapping liquid of the present invention is diluted with water and then used as a lapping agent in which abrasive grains are added and dispersed, for example, for cutting and polishing. The dilution ratio with water varies depending on the processing method, processing conditions, type of the workpiece, shape of the workpiece, and the like, but is preferably 5 to 150 times by mass, and more preferably 10 to 100 times by mass. If the dilution ratio exceeds 150 times by mass, the dispersion stability of the abrasive grains may be reduced.

【0045】本発明の水系ラップ液に添加・分散させる
砥粒(ラッピング用研磨剤)は、通常用いられているも
のであればよい。例えば、アルミナ、シリカ、酸化チタ
ン、酸化鉄、エメリー、酸化クロム、酸化セリウム、酸
化ジルコニウム、窒化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ
素、炭化タングステン、炭化チタン、炭化ジルコニウ
ム、炭化チタン、ダイヤモンド等が挙げられる。通常、
粒径は、3〜16μm程度である。
The abrasive particles (lapping abrasive) to be added to and dispersed in the aqueous lapping liquid of the present invention may be those which are commonly used. Examples include alumina, silica, titanium oxide, iron oxide, emery, chromium oxide, cerium oxide, zirconium oxide, boron nitride, silicon carbide, boron carbide, tungsten carbide, titanium carbide, zirconium carbide, titanium carbide, diamond, and the like. Normal,
The particle size is about 3 to 16 μm.

【0046】本発明の水系ラップ液に添加する砥粒の量
は、砥粒添加後の水系ラップ剤中の砥粒含有量が、水系
ラップ剤全量に対して10〜60質量%であることが好
ましい。砥粒の添加量が10質量%未満では、加工効率
が悪くなることがあり、60質量%を超えると、水系ラ
ップ剤の粘度が上昇し作業性が悪化すると共に砥粒の分
散安定性が悪くなることがあるためである。
The amount of the abrasive added to the aqueous lapping liquid of the present invention is such that the content of the abrasive in the aqueous lapping agent after adding the abrasive is 10 to 60% by mass based on the total amount of the aqueous lapping agent. preferable. If the added amount of the abrasive grains is less than 10% by mass, the processing efficiency may be deteriorated. If the added amount is more than 60% by mass, the viscosity of the water-based lapping agent increases, the workability is deteriorated, and the dispersion stability of the abrasive particles is deteriorated. This is because it may be.

【0047】本発明の水系ラップ液又は水系ラップ剤
は、従来、ラップ剤が用いられてきた加工分野、即ち、
半導体、水晶、超硬工具、金属部品、ガラス、セラミッ
クス等の脆性材料の切断加工の分野、又は、研磨加工の
分野で使用することができる。切断加工の分野において
は、外周刃による切断法、内周刃による切断法、ワイヤ
ソーによる切断法、ブレードソーによる切断法等の様々
な切断方法に使用できる。また、研磨加工においては、
被加工物の形状は、ウェーハのような平面状のものだけ
でなく、レンズのような曲面状のものや、ギアや歯車の
ような複雑な形状をもつものの加工にも使用でき、表面
の超精密な仕上げ加工であるいわゆるポリッシング加工
にも使用できる。
The aqueous wrapping liquid or aqueous wrapping agent of the present invention is used in a processing field where a wrapping agent has been conventionally used, that is,
It can be used in the field of cutting of brittle materials such as semiconductors, quartz, carbide tools, metal parts, glass and ceramics, or in the field of polishing. In the field of cutting, it can be used for various cutting methods such as a cutting method using an outer peripheral blade, a cutting method using an inner peripheral blade, a cutting method using a wire saw, and a cutting method using a blade saw. In the polishing process,
The shape of the workpiece can be used for processing not only planar shapes such as wafers, but also curved shapes such as lenses and complicated shapes such as gears and gears. It can also be used for so-called polishing, which is precision finishing.

【0048】特に、半導体ウェーハの研磨加工において
は、研磨加工後のウェーハの清浄性が求められることか
ら、(B)成分として前記一般式(2)で表わされるポ
リエーテル化合物が好ましく、なかでも前記一般式
(3)〜(6)で表わされるポリエーテル化合物が更に
好ましい。こうした半導体ウェーハとしては、例えば、
シリコン、ガリウムヒ素、ガリウムリン、インジウムリ
ン等からなるウェーハが挙げられる。
In particular, in the polishing of a semiconductor wafer, since the cleanliness of the wafer after the polishing is required, the polyether compound represented by the general formula (2) is preferable as the component (B). Polyether compounds represented by formulas (3) to (6) are more preferred. As such a semiconductor wafer, for example,
Wafers made of silicon, gallium arsenide, gallium phosphide, indium phosphide, and the like are included.

【0049】[0049]

【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明する。尚、以下の実施例中、%は特に記載が無い限り
質量基準である。以下の表中、「EO」はオキシエチレ
ン基の、「PO」はオキシプロピレン基の略である。以
下に示す化合物を用いて、表1に示す配合比にて実施例
1〜11及び比較例1〜8の水系ラップ液を調製した。
EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. In the following examples,% is based on mass unless otherwise specified. In the following tables, “EO” is an abbreviation for oxyethylene group, and “PO” is an abbreviation for oxypropylene group. Using the compounds shown below, aqueous wrap solutions of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 8 were prepared at the compounding ratios shown in Table 1.

【0050】<A成分:砥粒分散剤> (A−1)ポリオキシエチレン(4)イソトリデシルエ
ーテル (A−2)ポリオキシエチレン(8)イソトリデシルエ
ーテル (A−3)ポリオキシエチレン(30)イソトリデシル
エーテル (A−4)ポリオキシエチレン(10)ポリオキシプロ
ピレン(3)イソトリデシルエーテル (ブロック重
合) (A−5)ポリオキシエチレン(10)ポリオキシプロ
ピレン(3)イソトリデシルエーテル (ランダム重
合) (A−6)ポリオキシエチレン(10)イソテトラデシ
ルエーテル
<A component: abrasive dispersant> (A-1) polyoxyethylene (4) isotridecyl ether (A-2) polyoxyethylene (8) isotridecyl ether (A-3) polyoxyethylene (30) isotridecyl ether (A-4) polyoxyethylene (10) polyoxypropylene (3) isotridecyl ether (block polymerization) (A-5) polyoxyethylene (10) polyoxypropylene (3) iso Tridecyl ether (random polymerization) (A-6) Polyoxyethylene (10) isotetradecyl ether

【0051】尚、A−1〜A−3の原料であるイソトリ
デシルアルコールは、プロピレンのテトラマーからオキ
ソ法によって合成されたアルコールである。A−4及び
A−5の原料であるイソトリデシルアルコールは、イソ
ブテンのトリマーからオキソ法によって合成されたアル
コールである。A−6は、プロピレンのダイマーからオ
キソ法によって合成されたイソヘプタノールを、Guerbe
t反応によって2量化して合成されたアルコールであ
る。
The isotridecyl alcohol as a raw material for A-1 to A-3 is an alcohol synthesized from a propylene tetramer by an oxo method. Isotridecyl alcohol, which is a raw material of A-4 and A-5, is an alcohol synthesized from an isobutene trimer by an oxo method. A-6 is an isoheptanol synthesized from a propylene dimer by the oxo method, by Guerbe.
It is an alcohol synthesized by dimerization by the t reaction.

【0052】<比較のための砥粒分散剤> (A’−1)ポリオキシエチレン(8)ノニルフェニル
エーテル (A’−2)ポリオキシエチレン(7)C12〜C14
飽和合成2級アルキルエーテル (A’−3)ポリオキシエチレン(8)C12〜C14
直鎖オキソアルキルエーテル (A’−4)ポリオキシエチレン(8)ラウリルエーテ
ル (A’−5)ポリオキシエチレン(8)オレイルエーテ
<Abrasive Dispersant for Comparison> (A′-1) polyoxyethylene (8) nonylphenyl ether (A′-2) polyoxyethylene (7) C12 to C14
Saturated synthetic secondary alkyl ether (A'-3) polyoxyethylene (8) C12-C14
Linear oxoalkyl ether (A'-4) polyoxyethylene (8) lauryl ether (A'-5) polyoxyethylene (8) oleyl ether

【0053】<B成分:潤滑性基油> (B−1)HO−(EO)12(PO)30(EO)12−H (B−2)HO−(EO)3(PO)40(EO)3−H (B−3)HO−(PO)20(EO)20(PO)20−H (B−4) (B−5)HO−(EO)75−H (B−6)グリセリンのポリオキシエチレン/ポリオキ
シプロピレンランダム共重合物(EO含量55モル%、
数平均分子量2,500) (B−7)パラフィン系蒸留精製鉱油(40℃での動粘
度1.7mm2/s、沸点220〜250℃) (B−8)パラフィン系溶剤精製鉱油(40℃での動粘
度32mm2/s) (B−9)ビス(ドデシル)ベンゼン
<Component B: lubricating base oil> (B-1) HO- (EO) 12 (PO) 30 (EO) 12- H (B-2) HO- (EO) 3 (PO) 40 (EO) ) 3 -H (B-3) HO- (PO) 20 (EO) 20 (PO) 20 -H (B-4) (B-5) HO- (EO) 75- H (B-6) glycerin polyoxyethylene / polyoxypropylene random copolymer (EO content 55 mol%,
(B-7) Paraffin-based distilled and refined mineral oil (kinematic viscosity at 40 ° C: 1.7 mm 2 / s, boiling point: 220 to 250 ° C) (B-8) Paraffin-based solvent-refined mineral oil (40 ° C) kinematic viscosity 32mm 2 / s) (B- 9) bis in (dodecyl) benzene

【0054】<C成分:水>イオン交換水 <D成分:防錆剤> (D−1)オレイン酸トリエタノールアミン塩 (D−2)ドデカン二酸N−シクロヘキシルジエタノー
ルアミン塩 <その他の成分>プロピレングリコール(溶剤)
<Component C: water> Deionized water <Component D: rust inhibitor> (D-1) Triethanolamine oleate (D-2) N-cyclohexyldiethanolamine dodecanedioate <Other components> Propylene Glycol (solvent)

【0055】 [0055]

【0056】<砥粒分散性評価試験>上記表1に示すラ
ップ液をイオン交換水にて50質量倍に希釈した液10
0mlを、共栓付き100mlメスシリンダーに取り、
アルミナ砥粒(フジミインコーポレーテッド FO#1
200)を20g加えた。この共栓付きメスシリンダー
を100回、上下に振蘯して上記ラップ液に配合された
アルミナ砥粒を含む成分を分散、懸濁させてラップ剤と
した。その後、メスシリンダーを静置し、沈降固相が最
高高さに達するまでの時間により、砥粒分散性を評価し
た。尚、砥粒分散性の評価判定は、以下の基準にて行っ
た。 ◎:静置後60分以上でも完全に沈降せず。 ○:静置後41〜60分で沈降した。 △:静置後21〜40分で沈降した。 ×:静置後20分以内で沈降した。
<Evaluation Test of Abrasive Dispersibility> A solution obtained by diluting the lapping liquid shown in Table 1 above by 50 times by mass with ion-exchanged water.
Take 0 ml into a 100 ml measuring cylinder with a stopper,
Alumina abrasive (Fujimi Incorporated FO # 1
20) was added. The graduated cylinder with a stopper was shaken up and down 100 times to disperse and suspend the components containing the alumina abrasive grains blended in the above lapping liquid to prepare a lapping agent. Thereafter, the graduated cylinder was allowed to stand, and the abrasive particle dispersibility was evaluated based on the time until the sedimented solid phase reached the maximum height. In addition, the evaluation judgment of the abrasive grain dispersibility was performed based on the following criteria. :: Not completely settled even after 60 minutes or more after standing. :: Settled 41 to 60 minutes after standing. Δ: sedimented 21 to 40 minutes after standing. X: Sedimented within 20 minutes after standing.

【0057】<砥粒再分散性評価試験>上記の砥粒分散
性評価試験後のメスシリンダーを、更に24時間静置し
た。この後、メスシリンダーを10回上下に倒置させ砥
粒の再分散性を評価した。尚、砥粒再分散性の評価判定
は以下の基準にて行った。 ○:砥粒が完全に再分散する。 △:一部沈殿が残る。 ×:ほとんど分散しない。
<Abrasive Grain Redispersibility Evaluation Test> The graduated cylinder after the above abrasive grain dispersibility evaluation test was allowed to stand still for 24 hours. Thereafter, the measuring cylinder was turned upside down ten times to evaluate the redispersibility of the abrasive grains. In addition, evaluation judgment of abrasive grain re-dispersibility was performed based on the following criteria. :: The abrasive grains are completely redispersed. Δ: Part of the precipitate remains. X: Almost no dispersion.

【0058】 [0058]

【0059】上記表2の結果から明らかなように、本発
明の水系ラップ剤は、砥粒分散性及び砥粒再分散性にお
いて、ノニルフェニルエトキシレート系の砥粒分散剤を
用いたラップ剤(比較例1及び比較例6)と同程度であ
り、他の砥粒分散剤を用いたラップ剤(比較例2〜5、
7及び8)よりも優れた性能を示している。
As is clear from the results shown in Table 2, the water-based lapping agent of the present invention is characterized in that the lapping agent using a nonylphenylethoxylate-based abrasive particle dispersing agent in terms of abrasive particle dispersibility and abrasive particle redispersibility. Comparative Examples 1 and 6) and a lapping agent using other abrasive dispersants (Comparative Examples 2 to 5,
7 and 8).

【0060】<切断加工試験>上記の砥粒分散性評価試
験及び砥粒再分散性評価試験と同様の組成のラップ剤を
使用し、マルチワイヤソーにて人工水晶(幅65mm、
高さ20mm、長さ170mm)及びシリコン単結晶
(直径102mm、長さ190mm)を以下の条件で切
断(スライシング)した。結果を表3に示す。尚、評価
項目の加工時間は、被加工物1個当たりの加工に要した
時間である。 ・ワイヤの種類:SWPブラスメッキ ・ワイヤ線径:0.16φmm ・ワイヤ張力:1.5kg ・ワイヤ本数:106本 ・ワイヤ繰出量:20m/min ・ラップ剤温度:20℃
<Cutting Test> Using a lapping agent having the same composition as that of the above-mentioned abrasive grain dispersibility evaluation test and abrasive grain redispersibility evaluation test, an artificial quartz (width 65 mm,
A 20 mm high, 170 mm long) and a silicon single crystal (102 mm in diameter, 190 mm in length) were cut (sliced) under the following conditions. Table 3 shows the results. Note that the processing time of the evaluation item is the time required for processing per workpiece. -Type of wire: SWP brass plating-Wire diameter: 0.16 mm-Wire tension: 1.5 kg-Number of wires: 106-Wire feeding amount: 20 m / min-Lapping agent temperature: 20 ° C

【0061】 [0061]

【0062】<研磨加工試験>実施例1〜8及び比較例
1〜5のラップ剤を使用して、シリコンウェーハ用ラッ
ピング装置にてスライシングした、直径102mmのシ
リコンウェーハについて研磨加工(ラッピング)を行な
った。尚、各ラップ剤についてそれぞれ約200枚の研
磨加工を行ない、研磨後のシリコンウェーハについて、
擦り傷、割れ、及びウェーハ表面の微小なクラックの発
生率を求めた。結果を表4に示す。
<Polishing Test> Using the lapping agents of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 5, polishing (lapping) was performed on a silicon wafer having a diameter of 102 mm, which was sliced by a silicon wafer lapping apparatus. Was. In addition, about 200 pieces of each lapping agent are polished, and the polished silicon wafer is
The occurrence rates of scratches, cracks, and minute cracks on the wafer surface were determined. Table 4 shows the results.

【0063】 [0063]

【0064】<生分解性試験>JIS−K−0102に
定められた工業排水試験方法の生物化学的酸素消費量
(BOD)測定法に準じて、(A)成分である砥粒分散
剤0.1%水溶液のBODを測定した。但し、JIS−
K−0102に定められた放置日数は5日間であるが、
本試験では放置日数は14日間とした。結果を表5に示
す。
<Biodegradability Test> According to the method for measuring biochemical oxygen consumption (BOD) of the industrial wastewater test method specified in JIS-K-0102, the abrasive dispersant (A), which is a component of (A) component, has a concentration of 0.1%. The BOD of a 1% aqueous solution was measured. However, JIS-
The number of days left in K-0102 is five days,
In this test, the number of days left was 14 days. Table 5 shows the results.

【0065】 [0065]

【0066】[0066]

【発明の効果】本発明の水系ラップ液又は水系ラップ剤
は、アルキルフェノール系の化合物を使用していないた
め、化学物質が生物の内分泌系を撹乱するというエンド
クリン問題の懸念がないにも関わらず、アルキルフェノ
ール系の砥粒分散剤を用いたラップ液又はラップ剤と同
等の、優れた砥粒分散性、切断加工性及び研磨加工性を
有する。
As described above, the aqueous wrapping liquid or aqueous wrapping agent of the present invention does not use an alkylphenol-based compound, so that there is no concern about the endocrine problem that chemical substances disturb the endocrine system of living organisms. It has excellent abrasive particle dispersibility, cutting workability and polishing workability equivalent to a lapping liquid or a lapping agent using an alkylphenol-based abrasive dispersant.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08K 5/00 C08K 5/00 C08L 71/00 C08L 71/00 Y C10M 101/02 C10M 101/02 129/16 129/16 133/14 133/14 145/26 145/26 149/14 149/14 173/00 173/00 H01L 21/304 622 H01L 21/304 622C // C10N 20:04 C10N 20:04 30:04 30:04 30:12 30:12 40:00 40:00 Z 40:22 ZAB 40:22 ZAB Fターム(参考) 3C047 GG20 3C058 AA07 AC04 CA05 CA06 4H104 AA01C BB14C BB44C BE04C BG06C BH03C BH11C CB14C CE19C DA02A EA03C EA08C EB10 EB20 FA01 LA02 LA06 PA22 QA01 RA01 4J002 CH02W CH02X CH053 DH026 DJ006 DJ017 DK006 EG026 EG036 EH056 EN006 EP006 EV256 EW046 EW126 GH02 HA07 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08K 5/00 C08K 5/00 C08L 71/00 C08L 71/00 Y C10M 101/02 C10M 101/02 129 / 16 129/16 133/14 133/14 145/26 145/26 149/14 149/14 173/00 173/00 H01L 21/304 622 H01L 21/304 622C // C10N 20:04 C10N 20:04 30: 04 30:04 30:12 30:12 40:00 40:00 Z 40:22 ZAB 40:22 ZAB F term (reference) 3C047 GG20 3C058 AA07 AC04 CA05 CA06 4H104 AA01C BB14C BB44C BE04C BG06C BH03C BH11C CB14C CE19C DA02A EB10 EB20 FA01 LA02 LA06 PA22 QA01 RA01 4J002 CH02W CH02X CH053 DH026 DJ006 DJ017 DK006 EG026 EG036 EH056 EN006 EP006 EV256 EW046 EW126 GH02 HA07

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)成分として、下記の一般式(1) で表わされる砥粒分散剤;(B)成分として、潤滑性基
油;及び(C)成分として、水を含有することを特徴と
する水系ラップ液。
1. Component (A) represented by the following general formula (1) A water-based lapping liquid comprising: an abrasive dispersant represented by the formula: a lubricating base oil as a component (B); and water as a component (C).
【請求項2】 (B)成分である潤滑性基油が、パラフ
ィン系又はナフテン系の鉱油である請求項1に記載の水
系ラップ液。
2. The aqueous lapping liquid according to claim 1, wherein the lubricating base oil as the component (B) is a paraffinic or naphthenic mineral oil.
【請求項3】 (B)成分である潤滑性基油が、一般式
(2) で表わされるポリエーテル化合物である請求項1に記載
の水系ラップ液。
3. The lubricating base oil as the component (B) is represented by the general formula (2): The aqueous lap liquid according to claim 1, which is a polyether compound represented by the following formula:
【請求項4】 一般式(2)で表わされるポリエーテル
化合物の数平均分子量が、500〜50,000である
請求項3に記載の水系ラップ液。
4. The aqueous lapping liquid according to claim 3, wherein the polyether compound represented by the general formula (2) has a number average molecular weight of 500 to 50,000.
【請求項5】 (B)成分である潤滑性基油が、下記の
一般式(3)〜(6) で表わされるポリエーテル化合物の、何れか1種又は2
種以上の混合物である請求項1に記載の水系ラップ液。
5. The lubricating base oil as the component (B) is represented by the following general formulas (3) to (6): Any one or two of the polyether compounds represented by
The aqueous wrap liquid according to claim 1, which is a mixture of at least one kind.
【請求項6】 更に、(D)成分として防錆剤を含有す
る請求項1乃至5の何れか1項に記載の水系ラップ液。
6. The aqueous wrap liquid according to claim 1, further comprising a rust preventive as a component (D).
【請求項7】 請求項1乃至6の何れか1項に記載の水
系ラップ液又はその希釈液に、更に砥粒を含有すること
を特徴とする水系ラップ剤。
7. A water-based lapping agent characterized in that the water-based lapping liquid or the diluting liquid according to any one of claims 1 to 6 further contains abrasive grains.
【請求項8】 切断加工用である請求項1乃至7の何れ
か1項に記載の水系ラップ液又は水系ラップ剤。
8. The aqueous wrap liquid or aqueous wrap agent according to claim 1, which is used for cutting.
【請求項9】 研磨加工用である請求項1乃至7の何れ
か1項に記載の水系ラップ液又は水系ラップ剤。
9. The water-based lap liquid or water-based lapping agent according to claim 1, which is used for polishing.
【請求項10】 半導体研磨加工用である請求項1乃至
7の何れか1項に記載の水系ラップ液又は水系ラップ
剤。
10. The water-based lapping liquid or water-based lapping agent according to claim 1, which is used for polishing semiconductors.
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