JP2002104951A - 炭酸ジアルキルからなる保湿剤ならびに該保湿剤を含有する化粧料、洗浄料および入浴剤 - Google Patents
炭酸ジアルキルからなる保湿剤ならびに該保湿剤を含有する化粧料、洗浄料および入浴剤Info
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- JP2002104951A JP2002104951A JP2000294171A JP2000294171A JP2002104951A JP 2002104951 A JP2002104951 A JP 2002104951A JP 2000294171 A JP2000294171 A JP 2000294171A JP 2000294171 A JP2000294171 A JP 2000294171A JP 2002104951 A JP2002104951 A JP 2002104951A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 皮膚に対して極めて安全で、べたつき感のな
い保湿剤並びに化粧料、洗浄料及び入浴剤の提供。 【解決手段】 式（Ｉ）で示される炭酸ジアルキルから
なることを特徴とする保湿剤、並びに、該保湿剤を含有
する化粧料、洗浄料及び入浴剤。 式（Ｉ）：Ｏ＝Ｃ［Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍＲ１］［Ｏ
（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＲ２］ （Ｉ） ［式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ炭素数が５〜１５で
ある飽和の炭化水素基であり、ｍおよびｎは、それぞれ
０または１〜１００の数である］。特に好ましい炭酸ジ
アルキルは炭酸ジカプリルである。
い保湿剤並びに化粧料、洗浄料及び入浴剤の提供。 【解決手段】 式（Ｉ）で示される炭酸ジアルキルから
なることを特徴とする保湿剤、並びに、該保湿剤を含有
する化粧料、洗浄料及び入浴剤。 式（Ｉ）：Ｏ＝Ｃ［Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍＲ１］［Ｏ
（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｎＲ２］ （Ｉ） ［式中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ炭素数が５〜１５で
ある飽和の炭化水素基であり、ｍおよびｎは、それぞれ
０または１〜１００の数である］。特に好ましい炭酸ジ
アルキルは炭酸ジカプリルである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、皮膚に対して極め
て安全であるにもかかわらず、べたつきがなく、使用感
が良好な保湿剤、ならびに、該保湿剤を含有する化粧
料、洗浄料および入浴剤に関する。
て安全であるにもかかわらず、べたつきがなく、使用感
が良好な保湿剤、ならびに、該保湿剤を含有する化粧
料、洗浄料および入浴剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、化粧用のエモリエントとして
脂肪酸エステルが一般的に使われていた。これらの脂肪
酸エステルは、優れた潤滑作用および保湿作用を有し、
化粧料原料として広範囲に使われている。しかし、これ
らの脂肪酸エステルには、軽い感触のものが少なく、皮
膚感触のよい化粧料を調製するときに使う脂肪酸エステ
ルは限定されていた。しかし、軽い感触の脂肪酸エステ
ルであっても刺激性が高く、低刺激性の化粧料を調製す
ることは極めて困難であった。
脂肪酸エステルが一般的に使われていた。これらの脂肪
酸エステルは、優れた潤滑作用および保湿作用を有し、
化粧料原料として広範囲に使われている。しかし、これ
らの脂肪酸エステルには、軽い感触のものが少なく、皮
膚感触のよい化粧料を調製するときに使う脂肪酸エステ
ルは限定されていた。しかし、軽い感触の脂肪酸エステ
ルであっても刺激性が高く、低刺激性の化粧料を調製す
ることは極めて困難であった。
【０００３】低分子量の流動パラフィンなども軽い感触
の化粧料を調製する際に有効であるが、このものは脂肪
酸エステルよりさらに刺激性が高く、化粧料原料として
使うことは好ましくなかった。また、軽い感触の化粧料
原料としてシリコーンが挙げられるが、シリコーンは乳
化するのが困難であり、化粧料調製時の安定性などの問
題が挙げられていた。
の化粧料を調製する際に有効であるが、このものは脂肪
酸エステルよりさらに刺激性が高く、化粧料原料として
使うことは好ましくなかった。また、軽い感触の化粧料
原料としてシリコーンが挙げられるが、シリコーンは乳
化するのが困難であり、化粧料調製時の安定性などの問
題が挙げられていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】皮膚感触のよい化粧料
を調製するためには、保湿作用が高く、かつ、軽い感触
の化粧品原料を選択することが不可欠である。しかし、
従来の軽い感触の化粧品原料を使用すると、化粧料の皮
膚刺激性が高まるという問題があった。すなわち、当分
野では、保湿作用が高く、軽い皮膚感触を持ち、かつ低
刺激性である化粧料原料が必要とされていた。
を調製するためには、保湿作用が高く、かつ、軽い感触
の化粧品原料を選択することが不可欠である。しかし、
従来の軽い感触の化粧品原料を使用すると、化粧料の皮
膚刺激性が高まるという問題があった。すなわち、当分
野では、保湿作用が高く、軽い皮膚感触を持ち、かつ低
刺激性である化粧料原料が必要とされていた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明者は鋭意検討した結果、炭酸ジアルキル
が、保湿作用が高く、軽い皮膚感触を持ち、かつ皮膚に
対して極めて低刺激性である保湿剤となることを見い出
し、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明は
炭酸ジアルキルからなることを特徴とする保湿剤、なら
びに、該保湿剤を含有する低刺激性の化粧料、洗浄料お
よび入浴剤を提供するものである。
めに、本発明者は鋭意検討した結果、炭酸ジアルキル
が、保湿作用が高く、軽い皮膚感触を持ち、かつ皮膚に
対して極めて低刺激性である保湿剤となることを見い出
し、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明は
炭酸ジアルキルからなることを特徴とする保湿剤、なら
びに、該保湿剤を含有する低刺激性の化粧料、洗浄料お
よび入浴剤を提供するものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明において用いる炭酸ジアル
キルは、以下の式(Ｉ)：
キルは、以下の式(Ｉ)：
【化２】 Ｏ＝Ｃ[Ｏ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)mＲ1][Ｏ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)nＲ2] (Ｉ) [式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ炭素数が５〜１５で
ある飽和の炭化水素基であり、ｍおよびｎは、それぞれ
０または１〜１００の数である]で示される。
ある飽和の炭化水素基であり、ｍおよびｎは、それぞれ
０または１〜１００の数である]で示される。
【０００７】式(Ｉ)において、Ｒ1およびＲ2は、好まし
くは炭素数がそれぞれ６〜１０であり、さらに好ましく
は８である。ｍおよびｎは両方とも０であるのが好まし
い。
くは炭素数がそれぞれ６〜１０であり、さらに好ましく
は８である。ｍおよびｎは両方とも０であるのが好まし
い。
【０００８】式(Ｉ)で示される炭酸ジアルキルは、既知
の方法によって、例えばジメチルまたはジエチルカーボ
ネートと対応するアルコール化合物とのエステル交換に
よって製造することができる。
の方法によって、例えばジメチルまたはジエチルカーボ
ネートと対応するアルコール化合物とのエステル交換に
よって製造することができる。
【０００９】式(Ｉ)で示される炭酸ジアルキルからなる
保湿剤を化粧料、洗浄料および入浴剤に配合するにあた
り、その配合量に特に制限はなく、好ましい配合量はこ
れら調製物の剤型によって変化する。
保湿剤を化粧料、洗浄料および入浴剤に配合するにあた
り、その配合量に特に制限はなく、好ましい配合量はこ
れら調製物の剤型によって変化する。
【００１０】本発明の化粧料、洗浄料および入浴剤の剤
型にも特に制限はなく、例えばエモリエントクリーム、
スキンローション、クレンジングクリーム、サンスクリ
ーンクリーム、化粧水、乳液、洗顔料、ファンデーショ
ン、シャンプー、リンス、コンディショナー、スタイリ
ング剤などに用いられる。
型にも特に制限はなく、例えばエモリエントクリーム、
スキンローション、クレンジングクリーム、サンスクリ
ーンクリーム、化粧水、乳液、洗顔料、ファンデーショ
ン、シャンプー、リンス、コンディショナー、スタイリ
ング剤などに用いられる。
【００１１】本発明の保湿剤を、化粧料、洗浄料および
入浴剤に用いる場合、配合する他の原料に制限はなく、
これら調製物に普通に使用される種々の成分を配合する
ことができる。
入浴剤に用いる場合、配合する他の原料に制限はなく、
これら調製物に普通に使用される種々の成分を配合する
ことができる。
【００１２】本発明の保湿剤を上記の化粧料などに添加
した場合、皮膚および頭皮に対して極めて刺激の少ない
安全な製品を調製することができる。
した場合、皮膚および頭皮に対して極めて刺激の少ない
安全な製品を調製することができる。
【００１３】本発明の保湿剤を乳液などのエマルション
に添加した場合、乳化安定性が良好かつ皮膚感触が良好
な乳化物を調製することができる。
に添加した場合、乳化安定性が良好かつ皮膚感触が良好
な乳化物を調製することができる。
【００１４】本発明の保湿剤をクレンジングクリームに
添加した場合、顕著にクレンジング効果の高いクリーム
を調製することができる。
添加した場合、顕著にクレンジング効果の高いクリーム
を調製することができる。
【００１５】本発明の保湿剤をサンスクリーン剤に用い
た場合、ＵＶ吸収剤の溶解性が向上し、ＵＶ吸収性の高
いサンスクリーン剤が得られる。また、酸化チタンなど
のＵＶ散乱剤の分散性が向上し、ＵＶ吸収性が高く凝集
が起こりにくいサンスクリーン剤が得られる。
た場合、ＵＶ吸収剤の溶解性が向上し、ＵＶ吸収性の高
いサンスクリーン剤が得られる。また、酸化チタンなど
のＵＶ散乱剤の分散性が向上し、ＵＶ吸収性が高く凝集
が起こりにくいサンスクリーン剤が得られる。
【００１６】
【実施例】以下に実施例および比較例を挙げて本発明を
さらに詳しく説明する。尚、本発明は、ここに挙げた実
施例に限定されるものではない。
さらに詳しく説明する。尚、本発明は、ここに挙げた実
施例に限定されるものではない。
【００１７】実施例１：ヒトパッチテスト 炭酸ジアルキルの原液および以下に示す化粧料を用いて
ヒトパッチテストを実施した。炭酸ジアルキルとしては
炭酸ジカプリルを用いた。比較として分子量の近いｎ-
ヘキサデカンを用いた。パッチテストは２４時間の閉塞
で行い、判定は陰性(−)、擬陽性(±)、陽性(＋)、強陽
性(＋＋)で行った。パネル数は５０人で行った。結果に
おいて、擬陽性は陽性として数えなかった。
ヒトパッチテストを実施した。炭酸ジアルキルとしては
炭酸ジカプリルを用いた。比較として分子量の近いｎ-
ヘキサデカンを用いた。パッチテストは２４時間の閉塞
で行い、判定は陰性(−)、擬陽性(±)、陽性(＋)、強陽
性(＋＋)で行った。パネル数は５０人で行った。結果に
おいて、擬陽性は陽性として数えなかった。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【表２】
【００２０】実施例２：乳液の皮膚感触試験 以下の処方を用いて皮膚感触のパネルテストを行った。
比較として、流動パラフィンおよびミリスチン酸イソプ
ロピルを用いた。パネル数は２０名であり、評価は各質
問事項に対し、非常によい(５)、よい(４)、どちらとも
いえない(３)、悪い(２)、非常に悪い(１)により行っ
た。評価はそれぞれの平均点で表した。
比較として、流動パラフィンおよびミリスチン酸イソプ
ロピルを用いた。パネル数は２０名であり、評価は各質
問事項に対し、非常によい(５)、よい(４)、どちらとも
いえない(３)、悪い(２)、非常に悪い(１)により行っ
た。評価はそれぞれの平均点で表した。
【００２１】
【表３】
【００２２】
【表４】
【００２３】実施例３：クレンジング試験(１) 以下の処方を用いてクレンジングのパネルテストを行っ
た。比較として、流動パラフィンおよびミリスチン酸イ
ソプロピルを用いた。パネル数は２０名であり、評価は
各質問事項に対し、非常によい(５)、よい(４)、どちら
ともいえない(３)、悪い(２)、非常に悪い(１)により行
った。評価はそれぞれの平均点で表した。
た。比較として、流動パラフィンおよびミリスチン酸イ
ソプロピルを用いた。パネル数は２０名であり、評価は
各質問事項に対し、非常によい(５)、よい(４)、どちら
ともいえない(３)、悪い(２)、非常に悪い(１)により行
った。評価はそれぞれの平均点で表した。
【００２４】
【表５】
【００２５】
【表６】
【００２６】実施例４：クレンジング試験(２) 以下の処方を用いてクレンジングのパネルテストを行っ
た。比較として、流動パラフィンおよびミリスチン酸イ
ソプロピルを用いた。パネル数は２０名であり、評価は
各質問事項に対し、非常によい(５)、よい(４)、どちら
ともいえない(３)、悪い(２)、非常に悪い(１)で行っ
た。評価はそれぞれの平均点で表した。
た。比較として、流動パラフィンおよびミリスチン酸イ
ソプロピルを用いた。パネル数は２０名であり、評価は
各質問事項に対し、非常によい(５)、よい(４)、どちら
ともいえない(３)、悪い(２)、非常に悪い(１)で行っ
た。評価はそれぞれの平均点で表した。
【００２７】
【表７】
【００２８】
【表８】
【００２９】実施例５：ＵＶ吸収剤の溶解性
【表９】
【００３０】実施例６：微粒子酸化チタンの分散性 炭酸ジカプリル(本発明)またはシクロメチコーン(比較
例)と微粒子酸化チタンを８０：２０(重量比)の割合で
一定の撹拌条件のもとで混合し、その分散性を調べた。
図１に示すように、炭酸ジカプリルはシクロメチコーン
に比べ高い分散性を示した。
例)と微粒子酸化チタンを８０：２０(重量比)の割合で
一定の撹拌条件のもとで混合し、その分散性を調べた。
図１に示すように、炭酸ジカプリルはシクロメチコーン
に比べ高い分散性を示した。
【００３１】実施例７：シャンプーのコンディショニン
グ効果 以下の処方を用いてシャンプーのパネルテストを行っ
た。パネル数は２０名であり、評価は各質問事項に対
し、非常によい(５)、よい(４)、どちらともいえない
(３)、悪い(２)、非常に悪い(１)で行った。評価はそれ
ぞれの平均点で表した。
グ効果 以下の処方を用いてシャンプーのパネルテストを行っ
た。パネル数は２０名であり、評価は各質問事項に対
し、非常によい(５)、よい(４)、どちらともいえない
(３)、悪い(２)、非常に悪い(１)で行った。評価はそれ
ぞれの平均点で表した。
【００３２】
【表１０】
【００３３】
【表１１】
【００３４】実施例８：リンスのコンディショニング効
果 以下の処方を用いてリンスのパネルテストを行った。パ
ネル数は２０名であり、評価は各質問事項に対し、非常
によい(５)、よい(４)、どちらともいえない(３)、悪い
(２)、非常に悪い(１)で行った。評価はそれぞれの平均
点で表した。
果 以下の処方を用いてリンスのパネルテストを行った。パ
ネル数は２０名であり、評価は各質問事項に対し、非常
によい(５)、よい(４)、どちらともいえない(３)、悪い
(２)、非常に悪い(１)で行った。評価はそれぞれの平均
点で表した。
【００３５】
【表１２】
【００３６】
【表１３】
【００３７】実施例９：入浴剤の試験 以下の処方を用いて入浴剤のパネルテストを行った。パ
ネル数は２０名であり、評価は各質問事項に対し、非常
によい(５)、よい(４)、どちらともいえない(３)、悪い
(２)、非常に悪い(１)で行った。評価はそれぞれの平均
点で表した。
ネル数は２０名であり、評価は各質問事項に対し、非常
によい(５)、よい(４)、どちらともいえない(３)、悪い
(２)、非常に悪い(１)で行った。評価はそれぞれの平均
点で表した。
【００３８】
【表１４】
【００３９】
【表１５】
【図１】 炭酸ジカプリル(本発明)またはシクロメチコ
ーン(比較例)と微粒子酸化チタンの８０：２０(重量比)
混合物の皮膜の顕微鏡写真である。
ーン(比較例)と微粒子酸化チタンの８０：２０(重量比)
混合物の皮膜の顕微鏡写真である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4C083 AA122 AB032 AB052 AB242 AC012 AC022 AC072 AC122 AC302 AC331 AC332 AC352 AC392 AC642 AC692 AC712 AC792 AC902 AD092 AD152 AD662 CC02 CC24 CC25 CC38 CC39 DD23 DD27 DD31 EE10 EE11 EE41 4H003 AB31 AC13 AD04 DA02 EB08 EB09 FA02 FA21
Claims (4)
- 【請求項１】 以下の式(Ｉ)： 【化１】 Ｏ＝Ｃ[Ｏ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)mＲ1][Ｏ(ＣＨ2ＣＨ2Ｏ)nＲ2] (Ｉ) [式中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ炭素数が５〜１５で
ある飽和の炭化水素基であり、ｍおよびｎは、それぞれ
０または１〜１００の数である]で示される炭酸ジアル
キルからなることを特徴とする保湿剤。 - 【請求項２】 Ｒ1およびＲ2がそれぞれ炭素数６〜１０
の飽和炭化水素基であり、ｍおよびｎの両方が０である
式(Ｉ)の炭酸ジアルキルからなる請求項１に記載の保湿
剤。 - 【請求項３】 炭酸ジカプリルからなる請求項２に記載
の保湿剤。 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の保湿剤
を含有することを特徴とする化粧料、洗浄料および入浴
剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000294171A JP2002104951A (ja) | 2000-09-27 | 2000-09-27 | 炭酸ジアルキルからなる保湿剤ならびに該保湿剤を含有する化粧料、洗浄料および入浴剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000294171A JP2002104951A (ja) | 2000-09-27 | 2000-09-27 | 炭酸ジアルキルからなる保湿剤ならびに該保湿剤を含有する化粧料、洗浄料および入浴剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002104951A true JP2002104951A (ja) | 2002-04-10 |
Family
ID=18776831
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000294171A Pending JP2002104951A (ja) | 2000-09-27 | 2000-09-27 | 炭酸ジアルキルからなる保湿剤ならびに該保湿剤を含有する化粧料、洗浄料および入浴剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002104951A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004050044A3 (de) * | 2002-12-04 | 2005-01-13 | Cognis Deutschland Gmbh | Verwendung von emulgatorengemischen zur herstellung kosmetischer mittel |
| JP2006143656A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-08 | Kanebo Cosmetics Inc | 乳化化粧料 |
| JP2006298866A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Pola Chem Ind Inc | クレンジング用の皮膚外用剤 |
-
2000
- 2000-09-27 JP JP2000294171A patent/JP2002104951A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004050044A3 (de) * | 2002-12-04 | 2005-01-13 | Cognis Deutschland Gmbh | Verwendung von emulgatorengemischen zur herstellung kosmetischer mittel |
| JP2006143656A (ja) * | 2004-11-19 | 2006-06-08 | Kanebo Cosmetics Inc | 乳化化粧料 |
| JP2006298866A (ja) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Pola Chem Ind Inc | クレンジング用の皮膚外用剤 |
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