JP2002102638A - ケミカルフィルタ - Google Patents
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- B01D53/02—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
- B01D53/04—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography with stationary adsorbents
- B01D53/0407—Constructional details of adsorbing systems
- B01D53/0415—Beds in cartridges
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D39/00—Filtering material for liquid or gaseous fluids
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
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- B01D—SEPARATION
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- B01D—SEPARATION
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- B01D2259/40083—Regeneration of adsorbents in processes other than pressure or temperature swing adsorption
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- Y02C—CAPTURE, STORAGE, SEQUESTRATION OR DISPOSAL OF GREENHOUSE GASES [GHG]
- Y02C20/00—Capture or disposal of greenhouse gases
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
- Gas Separation By Absorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体の製造装置などで従来よりも支障をき
たしにくいクリーンな気体を供給することができるケミ
カルフィルタを提供しようとするもの。 【解決手段】 ユニット本体10に収容された吸着剤２に
よりガスを吸着するケミカルフィルタであって、アンモ
ニア濃度と沸点約１５０℃以上の有機物ガス濃度とがそ
れぞれ約１ｐｐｂ（ｖ）以下の気体を供給するようにし
た。
たしにくいクリーンな気体を供給することができるケミ
カルフィルタを提供しようとするもの。 【解決手段】 ユニット本体10に収容された吸着剤２に
よりガスを吸着するケミカルフィルタであって、アンモ
ニア濃度と沸点約１５０℃以上の有機物ガス濃度とがそ
れぞれ約１ｐｐｂ（ｖ）以下の気体を供給するようにし
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体の製造装
置などに用いられるインラインのケミカルフィルタに関
するものである。
置などに用いられるインラインのケミカルフィルタに関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体製造装置などのエアラ
インでケミカルフィルタが使用されているが、ケミカル
フィルタで除塵した清浄空気や窒素ガスなどにガス状の
汚染物が微量ながら混在していることがある。
インでケミカルフィルタが使用されているが、ケミカル
フィルタで除塵した清浄空気や窒素ガスなどにガス状の
汚染物が微量ながら混在していることがある。
【０００３】ところで、半導体のパターンの微細化の進
展に伴い、混在していた微量のガス状の汚染物が半導体
製造装置の露光レンズに付着して生じる曇りが次世代の
問題として浮上してきた。すなわち微細パターン化が進
むと、露光レンズの曇りにより焦点が極小最適化した状
態で結ぶことできず、基板への光学的処理が上手く行え
なくなるのである。
展に伴い、混在していた微量のガス状の汚染物が半導体
製造装置の露光レンズに付着して生じる曇りが次世代の
問題として浮上してきた。すなわち微細パターン化が進
むと、露光レンズの曇りにより焦点が極小最適化した状
態で結ぶことできず、基板への光学的処理が上手く行え
なくなるのである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこでこの発明は、半
導体の製造装置などで従来よりも支障をきたしにくいク
リーンな気体を供給することができるケミカルフィルタ
を提供しようとするものである。
導体の製造装置などで従来よりも支障をきたしにくいク
リーンな気体を供給することができるケミカルフィルタ
を提供しようとするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
この発明では次のような技術的手段を講じている。 この発明のケミカルフィルタは、ユニット本体に収
容された吸着剤によりガスを吸着するケミカルフィルタ
であって、アンモニア濃度と沸点約１５０℃以上の有機
物ガス濃度とがそれぞれ約１ｐｐｂ（ｖ）以下の気体を
供給するようにしたことを特徴とする。
この発明では次のような技術的手段を講じている。 この発明のケミカルフィルタは、ユニット本体に収
容された吸着剤によりガスを吸着するケミカルフィルタ
であって、アンモニア濃度と沸点約１５０℃以上の有機
物ガス濃度とがそれぞれ約１ｐｐｂ（ｖ）以下の気体を
供給するようにしたことを特徴とする。
【０００６】沸点約１５０℃以上の有機物ガスはシリコ
ンウエハなどに付着しやすいが、この有機物ガスが露光
装置のレンズの曇りを生じさせたりウエハに付着する
と、ゲート絶縁膜破壊現象の原因や酸化膜耐圧の劣化の
原因となり、アンモニアも同様に露光装置のレンズやミ
ラー、ウエハ表面の曇りの原因になる。
ンウエハなどに付着しやすいが、この有機物ガスが露光
装置のレンズの曇りを生じさせたりウエハに付着する
と、ゲート絶縁膜破壊現象の原因や酸化膜耐圧の劣化の
原因となり、アンモニアも同様に露光装置のレンズやミ
ラー、ウエハ表面の曇りの原因になる。
【０００７】このケミカルフィルタによると、前記のよ
うなガスの濃度を特に約１ｐｐｂ（ｖ）以下と設定した
ので、汚染で問題となるレベル以下のクリーンな気体を
供給することができる。なお、前記気体としてガスやエ
アーを例示することができる。 前記ユニット本体は有機溶剤又は／及び純水にて洗
浄処理された後、清浄気体を流しながら約１００〜３０
０℃の温度でベーキング処理されたものであることとし
てもよい。
うなガスの濃度を特に約１ｐｐｂ（ｖ）以下と設定した
ので、汚染で問題となるレベル以下のクリーンな気体を
供給することができる。なお、前記気体としてガスやエ
アーを例示することができる。 前記ユニット本体は有機溶剤又は／及び純水にて洗
浄処理された後、清浄気体を流しながら約１００〜３０
０℃の温度でベーキング処理されたものであることとし
てもよい。
【０００８】このように構成すると、ユニット本体に付
着していた加工時の切削油などを従来よりも十分に除去
することができる。なお洗浄処理の仕方としては、超音
波洗浄を行うことが洗浄を促進することができる点から
好ましい。
着していた加工時の切削油などを従来よりも十分に除去
することができる。なお洗浄処理の仕方としては、超音
波洗浄を行うことが洗浄を促進することができる点から
好ましい。
【０００９】ここでベーキング温度が約１００℃よりも
低いとユニット本体に有機溶剤（ＩＰＡなど）が残留す
ることがあり、約３００℃よりも高いと冷却に非常に時
間がかかってしまうという不具合があった。
低いとユニット本体に有機溶剤（ＩＰＡなど）が残留す
ることがあり、約３００℃よりも高いと冷却に非常に時
間がかかってしまうという不具合があった。
【００１０】なお前記ユニット本体の材質は、アウトガ
スが少なく耐圧強度に優れたＳＵＳを用いることが好ま
しい。前記清浄気体としてクリーンエアーや不活性ガス
などを例示することができ、前記不活性ガスとしてヘリ
ウムガスや窒素ガスを例示することができる。 前記ユニット本体はベーキング処理した後、清浄気
体を流しながら冷却するようにしてもよい。
スが少なく耐圧強度に優れたＳＵＳを用いることが好ま
しい。前記清浄気体としてクリーンエアーや不活性ガス
などを例示することができ、前記不活性ガスとしてヘリ
ウムガスや窒素ガスを例示することができる。 前記ユニット本体はベーキング処理した後、清浄気
体を流しながら冷却するようにしてもよい。
【００１１】このように構成すると、雰囲気中の有害ガ
スが冷却中にユニット本体に再付着することを防止する
ことができる。 前記ユニット本体における吸着剤を交換するための
開閉部はクランプにより固定され、前記吸着剤の上流側
にバッフル材、下流側にスペーサが配置され、シール部
分には加硫したフッ素ゴムが用いられたこととしてもよ
い。
スが冷却中にユニット本体に再付着することを防止する
ことができる。 前記ユニット本体における吸着剤を交換するための
開閉部はクランプにより固定され、前記吸着剤の上流側
にバッフル材、下流側にスペーサが配置され、シール部
分には加硫したフッ素ゴムが用いられたこととしてもよ
い。
【００１２】このように吸着剤を交換するための開閉部
をクランプにより固定すると、開閉部を固定するために
ボルトを用いる必要がなくアウトガスの発生を抑制する
ことができる。また気体が吸着剤に至る前に、その上流
側のバッフル材に衝突することにより拡散され、吸着剤
間を万遍なく通過させることができる。さらに、ガス吸
着剤の下流側にスペーサを配置せしめると、このスペー
サによって空間が形成されるので、流入した気体がガス
吸着剤の中央域ばかりを通過することを防止して吸着剤
間を万遍なく通過させることができる。なお前記シール
部分のフッ素ゴムの加硫は、二次以上とすることがアウ
トガスの発生をより低減することができる点から好まし
い。 アルミラミネート製の袋に真空脱気され封入されて
梱包されたこととしてもよい。このように構成すると、
ケミカルフィルタの製品としての清浄性を好適に維持す
ることができる。
をクランプにより固定すると、開閉部を固定するために
ボルトを用いる必要がなくアウトガスの発生を抑制する
ことができる。また気体が吸着剤に至る前に、その上流
側のバッフル材に衝突することにより拡散され、吸着剤
間を万遍なく通過させることができる。さらに、ガス吸
着剤の下流側にスペーサを配置せしめると、このスペー
サによって空間が形成されるので、流入した気体がガス
吸着剤の中央域ばかりを通過することを防止して吸着剤
間を万遍なく通過させることができる。なお前記シール
部分のフッ素ゴムの加硫は、二次以上とすることがアウ
トガスの発生をより低減することができる点から好まし
い。 アルミラミネート製の袋に真空脱気され封入されて
梱包されたこととしてもよい。このように構成すると、
ケミカルフィルタの製品としての清浄性を好適に維持す
ることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
【００１４】図１乃至図４に示すように、この実施形態
のケミカルフィルタ１は、処理すべき気体（空気や窒素
ガス等）の流通路（半導体の製造装置のエアライン等）
に配設され、ガス吸着剤２が収容されると共に、前記ガ
ス吸着剤２は不織布３（図４参照）で囲繞されている。
４は、流通路でのケミカルフィルタ１との接続用のプラ
グである。
のケミカルフィルタ１は、処理すべき気体（空気や窒素
ガス等）の流通路（半導体の製造装置のエアライン等）
に配設され、ガス吸着剤２が収容されると共に、前記ガ
ス吸着剤２は不織布３（図４参照）で囲繞されている。
４は、流通路でのケミカルフィルタ１との接続用のプラ
グである。
【００１５】図４に示すように、前記ガス吸着剤２は複
数の種類のものを気体の流通方向に積層しており、複数
のガスの種類に対応してこれらを除去することができ
る。図中、2aはアルカリ系ガス吸着用の１層の吸着剤、
2bは有機系ガス吸着用の３層の吸着剤、2cは酸性ガス吸
着用の１層の吸着剤である。
数の種類のものを気体の流通方向に積層しており、複数
のガスの種類に対応してこれらを除去することができ
る。図中、2aはアルカリ系ガス吸着用の１層の吸着剤、
2bは有機系ガス吸着用の３層の吸着剤、2cは酸性ガス吸
着用の１層の吸着剤である。
【００１６】図１乃至図４に示すように、前記ガス吸着
剤２を交換するための開閉部７はクランプ８により固定
している。クランプ８は、６角のナット９により固定を
する。またケミカルフィルタ１の前後のＳＵＳ製の開閉
部７とＳＵＳ製のユニット本体10の間には、それぞれフ
ッ素ゴム製のＯリング11（商標バイトン）を介在せしめ
ている。
剤２を交換するための開閉部７はクランプ８により固定
している。クランプ８は、６角のナット９により固定を
する。またケミカルフィルタ１の前後のＳＵＳ製の開閉
部７とＳＵＳ製のユニット本体10の間には、それぞれフ
ッ素ゴム製のＯリング11（商標バイトン）を介在せしめ
ている。
【００１７】図３及び図４に示すように、前記ケミカル
フィルタ１内のガス吸着剤２の上流側にバッフル材12を
配置せしめていると共に、下流側にスペーサ13としてラ
ス網を配置せしめている。
フィルタ１内のガス吸着剤２の上流側にバッフル材12を
配置せしめていると共に、下流側にスペーサ13としてラ
ス網を配置せしめている。
【００１８】このケミカルフィルタ１によると、前記ガ
ス吸着剤２を交換するための開閉部７はクランプ８によ
り固定しているので、開閉部７を固定するためにボルト
を用いる必要がなくアウトガスの発生を抑制することが
できるという利点がある。また、クランプ８はワンタッ
チで開閉部７の取外しができると共に、洗浄し易いとい
う利点もある。
ス吸着剤２を交換するための開閉部７はクランプ８によ
り固定しているので、開閉部７を固定するためにボルト
を用いる必要がなくアウトガスの発生を抑制することが
できるという利点がある。また、クランプ８はワンタッ
チで開閉部７の取外しができると共に、洗浄し易いとい
う利点もある。
【００１９】前記ケミカルフィルタ１内のガス吸着剤２
の上流側にはバッフル材12を配置せしめているので、気
体がガス吸着剤２に至る前にバッフル材12に衝突するこ
とにより拡散され、吸着剤２間を万遍なく通過させるこ
とができるという利点がある。
の上流側にはバッフル材12を配置せしめているので、気
体がガス吸着剤２に至る前にバッフル材12に衝突するこ
とにより拡散され、吸着剤２間を万遍なく通過させるこ
とができるという利点がある。
【００２０】前記ケミカルフィルタ１内のガス吸着剤２
の下流側にスペーサ13を配置せしめており、このスペー
サ13によって空間14（図４参照）が形成されるので、プ
ラグ４から流入した気体がガス吸着剤２の中央域ばかり
を通過することを防止して吸着剤２間を万遍なく通過さ
せることができるという利点がある。
の下流側にスペーサ13を配置せしめており、このスペー
サ13によって空間14（図４参照）が形成されるので、プ
ラグ４から流入した気体がガス吸着剤２の中央域ばかり
を通過することを防止して吸着剤２間を万遍なく通過さ
せることができるという利点がある。
【００２１】この円筒状としたケミカルフィルタ１の気
体の流量は５０リットル／ｍｉｎ、圧力損失は約３０Ｐ
ａであった。なお、配管の圧損の大きさとこのケミカル
フィルタ１の圧損の大きさとを比較すると、このケミカ
ルフィルタの圧損はそれ程大きくはなかった。
体の流量は５０リットル／ｍｉｎ、圧力損失は約３０Ｐ
ａであった。なお、配管の圧損の大きさとこのケミカル
フィルタ１の圧損の大きさとを比較すると、このケミカ
ルフィルタの圧損はそれ程大きくはなかった。
【００２２】
【実施例】次に、このケミカルフィルタについてより具
体的に説明する。 〔Ａ〕ユニット本体の洗浄・ベーキング処理 次のようにして、ユニット本体10の洗浄・ベーキング処
理を行った。 （比較例１）ユニット本体10を苛性ソーダ（ＮａＯＨ）
溶液（７０〜８０℃）に２０ｍｉｎ浸漬して流水で水洗
いし、硝酸フッ化水素酸溶液に５〜６ｈｒ浸漬して流水
で水洗いし、トリクロロエチレンに３〜５ｍｉｎ浸漬し
て４０〜８５℃にて乾燥し、その後ＩＰＡ（イソプロピ
ルアルコール）に６ｈｒ浸漬した後に自然乾燥すること
により、金属加工時の油などを脱脂洗浄した。 （比較例２）ユニット本体10は比較例１の処理に加え
て、純水（抵抗値１８Ｍオーム・ｃｍ、以下同様）、溶
剤たるＩＰＡ（特級を使用、以下同様）の順で１０分づ
つ超音波洗浄を行った。次いで図５に示すように、洗浄
したユニット本体10をＳＵＳ製収容容器（容量５Ｌ）に
入れ、加熱オーブン中で５Ｌ／ｍｉｎでクリーンエアー
（圧縮エアーをシリカゲル、エアーフィルター、ケミカ
ルフィルターに通した）か不活性ガス（９９．９９９％
以上の純度の窒素ガスをケミカルフィルターに通した）
を流しながら５０℃で３０分ベーキングした。その後オ
ーブンを停止し、そのままクリーンエアーを流しながら
３０分冷却した。 （実施例１）５０℃ではなく、１５０℃で３０分ベーキ
ングする以外は比較例２と同様の処理を行った。 （実施例２）ＩＰＡ、純水の順で超音波洗浄し、２００
℃で３０分ベーキングする以外は比較例２と同様の処理
を行った。 〔Ｂ〕比較例１、２及び実施例１、２のアウトガスの評
価 次のようにして、アウトガスの評価を行った。
体的に説明する。 〔Ａ〕ユニット本体の洗浄・ベーキング処理 次のようにして、ユニット本体10の洗浄・ベーキング処
理を行った。 （比較例１）ユニット本体10を苛性ソーダ（ＮａＯＨ）
溶液（７０〜８０℃）に２０ｍｉｎ浸漬して流水で水洗
いし、硝酸フッ化水素酸溶液に５〜６ｈｒ浸漬して流水
で水洗いし、トリクロロエチレンに３〜５ｍｉｎ浸漬し
て４０〜８５℃にて乾燥し、その後ＩＰＡ（イソプロピ
ルアルコール）に６ｈｒ浸漬した後に自然乾燥すること
により、金属加工時の油などを脱脂洗浄した。 （比較例２）ユニット本体10は比較例１の処理に加え
て、純水（抵抗値１８Ｍオーム・ｃｍ、以下同様）、溶
剤たるＩＰＡ（特級を使用、以下同様）の順で１０分づ
つ超音波洗浄を行った。次いで図５に示すように、洗浄
したユニット本体10をＳＵＳ製収容容器（容量５Ｌ）に
入れ、加熱オーブン中で５Ｌ／ｍｉｎでクリーンエアー
（圧縮エアーをシリカゲル、エアーフィルター、ケミカ
ルフィルターに通した）か不活性ガス（９９．９９９％
以上の純度の窒素ガスをケミカルフィルターに通した）
を流しながら５０℃で３０分ベーキングした。その後オ
ーブンを停止し、そのままクリーンエアーを流しながら
３０分冷却した。 （実施例１）５０℃ではなく、１５０℃で３０分ベーキ
ングする以外は比較例２と同様の処理を行った。 （実施例２）ＩＰＡ、純水の順で超音波洗浄し、２００
℃で３０分ベーキングする以外は比較例２と同様の処理
を行った。 〔Ｂ〕比較例１、２及び実施例１、２のアウトガスの評
価 次のようにして、アウトガスの評価を行った。
【００２３】各ユニット本体をＳＵＳ製の収容容器に入
れ、オーブン中で２〜３００ｍＬ／ｍｉｎのクリーンエ
アーを流しながら５０℃に加熱した。このエアーをＴｅ
ｎａｘ捕集管（ガスを吸着する充填剤、商標Ｔｅｎａｘ
ＧＲの種類を使用）にて捕集した。
れ、オーブン中で２〜３００ｍＬ／ｍｉｎのクリーンエ
アーを流しながら５０℃に加熱した。このエアーをＴｅ
ｎａｘ捕集管（ガスを吸着する充填剤、商標Ｔｅｎａｘ
ＧＲの種類を使用）にて捕集した。
【００２４】これをサーマルデソープションコールドト
ラップインジェクタ（ジーエルサイエンス社製、型式Ｃ
Ｐ４０２０）で濃縮し、ガスクロマト質量分析装置ＧＣ
−ＭＳ（サーモクエスト社製、型式ＭＤ８００）で分析
した。このクロマトチャートの面積値からトルエンに換
算して定量し、サンプリング量で割って気中の濃度を算
出した。結果は次の通りであった。 （比較例１）捕集された酢酸、ジエチレングリコール、
デカナールのトルエン換算値ＴＯＣは０．１９３μｇ／
ｈｒであった。 （比較例２）捕集されたＩＰＡのトルエン換算値ＴＯＣ
は２６．８４５μｇ／ｈｒであった。これは、５０℃加
熱で洗浄処理に用いたＩＰＡが残留していたと考えられ
る。なお、ＩＰＡの沸点は８２．４℃である。 （実施例１）大きなピークは特になく、トルエン換算値
ＴＯＣは０．０２２μｇ／ｈｒであった。１５０℃加熱
では殆どＩＰＡは残留しておらず、比較例１の約１／１
０まで洗浄されていた。 （実施例２）大きなピークは特になく、トルエン換算値
ＴＯＣは０．０２３μｇ／ｈｒであった。２００℃加熱
でも１５０℃と同等の効果があった。 〔Ｃ〕ケミカルフィルタのシール部分 ケミカルフィルタのシール部分には、アウトガスが極力
少ないものを用いることが好ましい。シール部分にはク
ロロプレンゴムやＥＰＴ、フッ素ゴム（商標バイトン）
の通常品（一次加硫品）のＯリング11が考えられるが、
アウトガス低減の観点からフッ素ゴム（商標バイトン）
の二次加硫品が良好であった。
ラップインジェクタ（ジーエルサイエンス社製、型式Ｃ
Ｐ４０２０）で濃縮し、ガスクロマト質量分析装置ＧＣ
−ＭＳ（サーモクエスト社製、型式ＭＤ８００）で分析
した。このクロマトチャートの面積値からトルエンに換
算して定量し、サンプリング量で割って気中の濃度を算
出した。結果は次の通りであった。 （比較例１）捕集された酢酸、ジエチレングリコール、
デカナールのトルエン換算値ＴＯＣは０．１９３μｇ／
ｈｒであった。 （比較例２）捕集されたＩＰＡのトルエン換算値ＴＯＣ
は２６．８４５μｇ／ｈｒであった。これは、５０℃加
熱で洗浄処理に用いたＩＰＡが残留していたと考えられ
る。なお、ＩＰＡの沸点は８２．４℃である。 （実施例１）大きなピークは特になく、トルエン換算値
ＴＯＣは０．０２２μｇ／ｈｒであった。１５０℃加熱
では殆どＩＰＡは残留しておらず、比較例１の約１／１
０まで洗浄されていた。 （実施例２）大きなピークは特になく、トルエン換算値
ＴＯＣは０．０２３μｇ／ｈｒであった。２００℃加熱
でも１５０℃と同等の効果があった。 〔Ｃ〕ケミカルフィルタのシール部分 ケミカルフィルタのシール部分には、アウトガスが極力
少ないものを用いることが好ましい。シール部分にはク
ロロプレンゴムやＥＰＴ、フッ素ゴム（商標バイトン）
の通常品（一次加硫品）のＯリング11が考えられるが、
アウトガス低減の観点からフッ素ゴム（商標バイトン）
の二次加硫品が良好であった。
【００２５】すなわち、図６に示すように、フッ素ゴム
（商標バイトン）のＯリング11の一次加硫品と同二次加
硫品とをそれぞれＳＵＳ製チャンバーに入れ、５０℃で
１時間加熱してアウトガスをサンプリングしたＴｅｎａ
ｘ（商標）管をＴＣＴに取り付けてＧＣ−ＭＳにより定
性定量を行った。
（商標バイトン）のＯリング11の一次加硫品と同二次加
硫品とをそれぞれＳＵＳ製チャンバーに入れ、５０℃で
１時間加熱してアウトガスをサンプリングしたＴｅｎａ
ｘ（商標）管をＴＣＴに取り付けてＧＣ−ＭＳにより定
性定量を行った。
【００２６】すると、フッ素ゴム（商標バイトン）のＯ
リング11の一次加硫品のアウトガスは０．１６５μｇ／
ｇ・ｈｒであったのに対し、同二次加硫品のアウトガス
は０．００２μｇ／ｇ・ｈｒであった。 〔Ｄ〕アンモニアの除去効率 上記実施例２のユニット本体10を用いたケミカルフィル
タ１により、アンモニアの除去効率を測定した。
リング11の一次加硫品のアウトガスは０．１６５μｇ／
ｇ・ｈｒであったのに対し、同二次加硫品のアウトガス
は０．００２μｇ／ｇ・ｈｒであった。 〔Ｄ〕アンモニアの除去効率 上記実施例２のユニット本体10を用いたケミカルフィル
タ１により、アンモニアの除去効率を測定した。
【００２７】図７に示すように、ケミカルフィルタ１に
エアーを流し、上下流を純水バブリングにてサンプリン
グし、液中濃度をイオンクロマトグラフィーで測定し
た。分析装置として、日本ダイオネクス社製のイオンク
ロマトグラフィー型式ＤＸ−１００を用いた。
エアーを流し、上下流を純水バブリングにてサンプリン
グし、液中濃度をイオンクロマトグラフィーで測定し
た。分析装置として、日本ダイオネクス社製のイオンク
ロマトグラフィー型式ＤＸ−１００を用いた。
【００２８】その結果、ケミカルフィルタの上流側の濃
度が３．７５μｇ／ｍ3 であったのが下流側では０．２
６μｇ／ｍ3 に減少しており除去効率は９３％であっ
た。 〔Ｅ〕有機物の除去効率 上記実施例２のユニット本体10を用いたケミカルフィル
タ１により、有機物の除去効率を測定した。
度が３．７５μｇ／ｍ3 であったのが下流側では０．２
６μｇ／ｍ3 に減少しており除去効率は９３％であっ
た。 〔Ｅ〕有機物の除去効率 上記実施例２のユニット本体10を用いたケミカルフィル
タ１により、有機物の除去効率を測定した。
【００２９】図８に示すように、前記ケミカルフィルタ
１にエアーを流し、上下流をＴｅｎａｘ（商標）管にて
サンプリングし、有機物濃度を測定した。ケミカルフィ
ルタ１に流すエアー量は５０Ｌ／ｍｉｎとした。
１にエアーを流し、上下流をＴｅｎａｘ（商標）管にて
サンプリングし、有機物濃度を測定した。ケミカルフィ
ルタ１に流すエアー量は５０Ｌ／ｍｉｎとした。
【００３０】ケミカルフィルタ１の上流側でＴＯＣ（ト
ルエン換算値）の濃度が３５７．８μｇ／ｍ3 であった
のが下流側では１．２２μｇ／ｍ3 に減少しており、除
去効率は９９．７％であった。
ルエン換算値）の濃度が３５７．８μｇ／ｍ3 であった
のが下流側では１．２２μｇ／ｍ3 に減少しており、除
去効率は９９．７％であった。
【００３１】またケミカルフィルタの上流側でキシレン
以降の濃度が２９６．３μｇ／ｍ3であったのが下流側
では０．０１μｇ／ｍ3 未満に減少しており、除去効率
は９９．９９％以上であった。
以降の濃度が２９６．３μｇ／ｍ3であったのが下流側
では０．０１μｇ／ｍ3 未満に減少しており、除去効率
は９９．９９％以上であった。
【００３２】以上の測定結果により、洗浄によりユニッ
ト本体からのアウトガスが低減でき且つケミカルフィル
タを通過させることにより、沸点１５０℃以上の有機物
ガスとアンモニア濃度がそれぞれ約１ｐｐｂ（ｖ）以下
の気体を供給することができた。
ト本体からのアウトガスが低減でき且つケミカルフィル
タを通過させることにより、沸点１５０℃以上の有機物
ガスとアンモニア濃度がそれぞれ約１ｐｐｂ（ｖ）以下
の気体を供給することができた。
【００３３】
【発明の効果】この発明は上述のような構成であり、次
の効果を有する。
の効果を有する。
【００３４】汚染で問題となるレベル以下のクリーンな
気体を供給することができるので、半導体の製造装置な
どで従来よりも支障をきたしにくくすることができるケ
ミカルフィルタを提供することができる。
気体を供給することができるので、半導体の製造装置な
どで従来よりも支障をきたしにくくすることができるケ
ミカルフィルタを提供することができる。
【図１】この発明のケミカルフィルタの実施形態を説明
する全体斜視図。
する全体斜視図。
【図２】図１のケミカルフィルタの側面図。
【図３】図１のケミカルフィルタの分解斜視図。
【図４】図１のケミカルフィルタの半断面図。
【図５】ベーキングする装置を説明する図。
【図６】Ｏリングからのアウトガスの測定方法を説明す
る図。
る図。
【図７】アンモニアの除去効率の測定方法を説明する
図。
図。
【図８】有機物の除去効率の測定方法を説明する図。
２ 吸着剤 ７ 開閉部 ８ クランプ 10 ユニット本体 12 バッフル材 13 スペーサ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 住岡 將行 奈良県大和郡山市池沢町172 ニッタ株式 会社奈良工場内 (72)発明者 荒牧 大 東京都中央区銀座８−２−１ ニッタ株式 会社東京支店内 Ｆターム(参考） 4D012 CA10 CA11 CB06 CE03 CF10 5F045 BB14 EG08
Claims (5)
- 【請求項１】 ユニット本体に収容された吸着剤により
ガスを吸着するケミカルフィルタであって、アンモニア
濃度と沸点約１５０℃以上の有機物ガス濃度とがそれぞ
れ約１ｐｐｂ（ｖ）以下の気体を供給するようにしたこ
とを特徴とするケミカルフィルタ。 - 【請求項２】 前記ユニット本体は有機溶剤又は／及び
純水にて洗浄処理された後、清浄気体を流しながら約１
００〜３００℃の温度でベーキング処理されたものであ
る請求項１記載のケミカルフィルタ。 - 【請求項３】 前記ユニット本体はベーキング処理した
後、清浄気体を流しながら冷却するようにした請求項２
記載のケミカルフィルタ。 - 【請求項４】 前記ユニット本体における吸着剤を交換
するための開閉部はクランプにより固定され、前記吸着
剤の上流側にバッフル材、下流側にスペーサが配置さ
れ、シール部分には加硫したフッ素ゴムが用いられた請
求項１乃至３のいずれかに記載のケミカルフィルタ。 - 【請求項５】 アルミラミネート製の袋に真空脱気され
封入されて梱包された請求項１乃至４のいずれかに記載
のケミカルフィルタ。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP2000303884A JP2002102638A (ja) | 2000-10-03 | 2000-10-03 | ケミカルフィルタ |
| KR1020010059910A KR20020026825A (ko) | 2000-10-03 | 2001-09-27 | 케미컬 필터 |
| EP01308415A EP1195188A1 (en) | 2000-10-03 | 2001-10-02 | Chemical filter |
| SG200106132A SG101489A1 (en) | 2000-10-03 | 2001-10-03 | Chemical filter |
| CN01130322A CN1357403A (zh) | 2000-10-03 | 2001-10-03 | 化学过滤器 |
| US09/969,693 US20020014160A1 (en) | 2000-03-10 | 2001-10-03 | Chemical Filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000303884A JP2002102638A (ja) | 2000-10-03 | 2000-10-03 | ケミカルフィルタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002102638A true JP2002102638A (ja) | 2002-04-09 |
Family
ID=18785020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000303884A Pending JP2002102638A (ja) | 2000-03-10 | 2000-10-03 | ケミカルフィルタ |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20020014160A1 (ja) |
| EP (1) | EP1195188A1 (ja) |
| JP (1) | JP2002102638A (ja) |
| KR (1) | KR20020026825A (ja) |
| CN (1) | CN1357403A (ja) |
| SG (1) | SG101489A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009190021A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-08-27 | Dainichi Shoji Kk | ケミカルフィルタ及びその梱包体並びにレチクル保管ボックス |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7185550B2 (en) * | 2003-06-18 | 2007-03-06 | Johns Hopkins University | Time domain resolving chemical sampler using sorbent material |
| US7132011B2 (en) | 2003-09-02 | 2006-11-07 | Entegris, Inc. | Reactive gas filter |
| CN110694424B (zh) * | 2019-09-25 | 2023-04-07 | 浙江新环合成材料有限公司 | 一种化工制药用有害气体过滤设备 |
| WO2023186404A1 (en) * | 2022-03-29 | 2023-10-05 | Zf Cv Systems Europe Bv | Air-dryer cartridge, air supply unit, pneumatic system and vehicle |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3961920A (en) * | 1974-01-24 | 1976-06-08 | Humphrey Gilbert | Gas adsorber cell test sampler |
| US5964927A (en) * | 1997-07-11 | 1999-10-12 | Donaldson Company, Inc. | Adsorption apparatus |
| JP3977514B2 (ja) * | 1998-05-26 | 2007-09-19 | 高砂熱学工業株式会社 | 空気浄化フィルタ及びその製造方法及び高度清浄装置 |
| US6352579B1 (en) * | 1998-08-05 | 2002-03-05 | Toray Industries, Inc. | Chemical filter unit and gas purification system |
| US20010029843A1 (en) * | 2000-01-31 | 2001-10-18 | Nichias Co., Ltd. | Chemical filter and manufacturing method thereof |
-
2000
- 2000-10-03 JP JP2000303884A patent/JP2002102638A/ja active Pending
-
2001
- 2001-09-27 KR KR1020010059910A patent/KR20020026825A/ko not_active Application Discontinuation
- 2001-10-02 EP EP01308415A patent/EP1195188A1/en not_active Withdrawn
- 2001-10-03 SG SG200106132A patent/SG101489A1/en unknown
- 2001-10-03 CN CN01130322A patent/CN1357403A/zh active Pending
- 2001-10-03 US US09/969,693 patent/US20020014160A1/en not_active Abandoned
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009190021A (ja) * | 2008-01-18 | 2009-08-27 | Dainichi Shoji Kk | ケミカルフィルタ及びその梱包体並びにレチクル保管ボックス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR20020026825A (ko) | 2002-04-12 |
| CN1357403A (zh) | 2002-07-10 |
| US20020014160A1 (en) | 2002-02-07 |
| SG101489A1 (en) | 2004-01-30 |
| EP1195188A1 (en) | 2002-04-10 |
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