JP2002100479A - Organic electroluminescence element and manufacturing method thereof - Google Patents

Organic electroluminescence element and manufacturing method thereof

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JP2002100479A
JP2002100479A JP2000292478A JP2000292478A JP2002100479A JP 2002100479 A JP2002100479 A JP 2002100479A JP 2000292478 A JP2000292478 A JP 2000292478A JP 2000292478 A JP2000292478 A JP 2000292478A JP 2002100479 A JP2002100479 A JP 2002100479A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescence element, capable of emitting the light with high light-emitting efficiency with stable drivability. SOLUTION: This organic electroluminescence element is formed by arranging an anode 2, a light-emitting layer 5, an electron hole checking layer 6, an electron transport layer 7 and a cathode 8, in this order on a base board 1. The electron transport layer 7 includes a host material, having molecular weight of not less than 400 and a dopant material having molecular weight less than 400, and electron mobility of the dopant material is higher than the electron mobility of the host material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は有機電界発光素子に
関するものであり、詳しくは、有機化合物から成る発光
層に電界をかけて光を放出する薄膜型デバイスに関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic electroluminescent device, and more particularly, to a thin film device which emits light by applying an electric field to a light emitting layer made of an organic compound.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、薄膜型の電界発光(EL)素子と
しては、無機材料のII−VI族化合物半導体であるZn
S、CaS、SrS等に、発光中心であるMnや希土類
元素(Eu、Ce、Tb、Sm等)をドープしたものが
一般的であるが、上記の無機材料から作製したEL素子
は、 1)交流駆動が必要(50〜1000Hz)、 2)駆動電圧が高い(約200V)、 3)フルカラー化が困難(特に青色に難がある)、 4)周辺駆動回路のコストが高い、という問題点を有し
ている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a thin film type electroluminescent (EL) element, Zn, which is a group II-VI compound semiconductor of an inorganic material, is used.
In general, S, CaS, SrS, and the like are doped with Mn or a rare earth element (Eu, Ce, Tb, Sm, or the like) which is a luminescence center. However, EL devices manufactured from the above inorganic materials include: 1) AC drive is required (50-1000Hz), 2) High drive voltage (about 200V), 3) Full color is difficult (especially blue), 4) Peripheral drive circuit is expensive. Have.

【0003】しかし、近年、上記問題点の改良のため、
有機薄膜を用いたEL素子の開発が行われるようになっ
た。特に、発光効率を高めるため、電極からのキャリア
ー注入の効率向上を目的として電極の種類の最適化を行
い、芳香族ジアミンから成る正孔輸送層と8−ヒドロキ
シキノリンのアルミニウム錯体から成る発光層とを設け
た有機電界発光素子の開発(Appl. Phys. Lett., 51巻,
913頁,1987年)により、従来のアントラセン等の単結
晶を用いたEL素子と比較して発光効率の大幅な改善が
なされている。また、例えば、8−ヒドロキシキノリン
のアルミニウム錯体をホスト材料として、クマリン等の
レーザー用蛍光色素をドープすること(J. Appl. Phy
s., 65巻, 3610頁,1989年)で、発光効率の向上や発光
波長の変換等も行われており、実用特性に近づいてい
る。
However, in recent years, in order to improve the above problems,
Development of EL devices using organic thin films has been started. In particular, in order to enhance the luminous efficiency, the type of the electrode was optimized for the purpose of improving the efficiency of carrier injection from the electrode, and a hole transport layer composed of an aromatic diamine and a luminescent layer composed of an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline were used. Of an organic electroluminescent device equipped with an organic layer (Appl. Phys. Lett., Vol. 51,
913, 1987), the luminous efficiency is greatly improved as compared with the conventional EL device using a single crystal such as anthracene. For example, doping a fluorescent dye for laser such as coumarin using an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline as a host material (J. Appl. Phy.
s., Vol. 65, p. 3610, 1989), the improvement of the luminous efficiency, the conversion of the luminous wavelength, and the like are also performed, and the characteristics are approaching the practical characteristics.

【0004】上記の様な低分子材料を用いた電界発光素
子の他にも、発光層の材料として、ポリ(p-フェニレン
ビニレン)、ポリ[2-メトキシ-5-(2-エチルヘキシルオ
キシ)-1,4-フェニレンビニレン]、ポリ(3-アルキルチ
オフェン)等の高分子材料を用いた電界発光素子の開発
や、ポリビニルカルバゾール等の高分子に低分子の発光
材料と電子移動材料を混合した素子の開発も行われてい
る。
In addition to the electroluminescent device using a low molecular material as described above, poly (p-phenylenevinylene) and poly [2-methoxy-5- (2-ethylhexyloxy)- Development of electroluminescent devices using polymer materials such as 1,4-phenylenevinylene] and poly (3-alkylthiophene), and devices in which a low molecular light emitting material and an electron transfer material are mixed with a polymer such as polyvinyl carbazole Is also being developed.

【0005】このような有機電界発光素子をフラットパ
ネル・ディスプレイの分野に応用する際の大きな課題の
一つとして、発光効率の向上が挙げられる。特に、携帯
機器の表示素子への応用においては、低消費電力がポイ
ントとなる。また、小型文字表示素子への応用において
は、主として、単純マトリクス駆動法が採用されるが、
この方法では、高デューティ比で素子を極めて短時間に
高輝度で光らせる必要があり、そのために電圧が高くな
り、電力発光効率が低下するという問題がある。
[0005] One of the major problems in applying such an organic electroluminescent device to the field of flat panel displays is to improve the luminous efficiency. In particular, low power consumption is an important point in application to a display element of a portable device. In application to a small character display element, a simple matrix driving method is mainly used.
In this method, it is necessary to illuminate the element with a high duty ratio at a high luminance in a very short time, so that there is a problem that the voltage is increased and the power emission efficiency is reduced.

【0006】これまでに報告されている有機電界発光素
子では、基本的には正孔輸送層と電子輸送層の組み合わ
せにより発光を行っている。即ち、陽極から注入された
正孔は正孔輸送層を移動し、陰極から注入されて電子輸
送層を移動してくる電子と、両層の界面近傍で再結合を
し、正孔輸送層及び/又は電子輸送層を励起させて発光
させるのが原理である。
[0006] The organic electroluminescent devices reported so far basically emit light by a combination of a hole transport layer and an electron transport layer. That is, the holes injected from the anode move through the hole transport layer, and recombine near the interface between the two layers with the electrons injected from the cathode and move through the electron transport layer. In principle, light is emitted by exciting the electron transport layer.

【0007】従来、電子の輸送能力が高い電子輸送材料
としては、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体
等が報告されているが、これらは昇華性が良好で真空蒸
着後の膜質が優れた物質である反面、その電子移動度は
一般的な正孔輸送性物質の正孔移動度と比べると2桁ほ
ど低く充分とは言えなかった。
Conventionally, as an electron transporting material having a high electron transporting ability, an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline has been reported. However, these are substances having good sublimability and excellent film quality after vacuum deposition. On the other hand, the electron mobility was lower than the hole mobility of a general hole transporting substance by about two orders of magnitude and was not sufficient.

【0008】また、オキサジアゾール誘導体、キノキサ
リン誘導体、フェナントロリン誘導体などで特に分子量
が400未満の低分子量化合物は、高い電子移動度を示
すが、Tgが低く結晶化しやすい等の理由で、電子輸送材
料として単独で用いるのは困難であった。
Low-molecular-weight compounds having a molecular weight of less than 400, such as oxadiazole derivatives, quinoxaline derivatives, and phenanthroline derivatives, exhibit high electron mobility, but have low Tg and are easily crystallized. Was difficult to use alone.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】このように、有機電界
発光素子の発光効率の向上のためには、陰極から注入さ
れた電子を効率よく発光層に輸送すること、及び、発光
層を通過する正孔を完全に阻止し、再結合に寄与しない
電流量を減らすことが必要であり、高発光効率かつ安定
な素子を作製するための素子構造及び材料に対して、更
なる改良検討が望まれていた。
As described above, in order to improve the luminous efficiency of the organic electroluminescent device, it is necessary to efficiently transport electrons injected from the cathode to the luminescent layer and to pass through the luminescent layer. It is necessary to completely block holes and reduce the amount of current that does not contribute to recombination, and further improvement studies are desired for device structures and materials for producing devices with high luminous efficiency and stability. I was

【0010】本発明は、上記従来の実状に鑑みてなされ
たものであって、高発光効率で発光させることができ、
安定に駆動させることができる有機電界発光素子を提供
することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional situation, and can emit light with high luminous efficiency.
It is an object of the present invention to provide an organic electroluminescent device that can be driven stably.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、下記
〜に示される有機電界発光素子に存する。 基板上に、陽極、発光層、電子輸送層及び陰極がこ
の順で形成された有機電界発光素子において、該電子輸
送層は分子量400以上のホスト材料と、分子量400
未満のドーパント材料とを含有し、該ドーパント材料の
電子移動度が該ホスト材料の電子移動度よりも高い有機
電界発光素子。 該電子輸送層のドーパント材料が、オキサジアゾー
ル誘導体、キノキサリン誘導体、フェナントロリン誘導
体から選ばれるに記載の有機電界発光素子。 該電子輸送層のホスト材料が金属錯体である又は
に記載の有機電界発光素子。 該発光層と電子輸送層との間に正孔阻止層を有し、
該正孔阻止層のイオン化ポテンシャルが発光層のイオン
化ポテンシャルより0.1eV以上大きい〜に記載の有
機電界発光素子。 該正孔阻止層が金属錯体、スチリル化合物、トリア
ゾール誘導体、又はフェナントロリン誘導体を含有する
〜に記載の有機電界発光素子。 正孔阻止層の膜厚が、0.5〜50nmの範囲にある〜
に記載の有機電界発光素子。
The gist of the present invention resides in the following organic electroluminescent devices. In an organic electroluminescent device in which an anode, a light emitting layer, an electron transporting layer, and a cathode are formed in this order on a substrate, the electron transporting layer comprises a host material having a molecular weight of 400 or more and a molecular weight of 400 or more.
An organic electroluminescent device comprising: a dopant material having an electron mobility of less than that of the host material. 4. The organic electroluminescent device according to the item 1, wherein the dopant material of the electron transport layer is selected from oxadiazole derivatives, quinoxaline derivatives, and phenanthroline derivatives. 3. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the host material of the electron transport layer is a metal complex. Having a hole blocking layer between the light emitting layer and the electron transporting layer,
The organic electroluminescence device according to the above-mentioned, wherein the ionization potential of the hole blocking layer is 0.1 eV or more larger than the ionization potential of the light emitting layer. The organic electroluminescent device according to the above, wherein the hole blocking layer contains a metal complex, a styryl compound, a triazole derivative, or a phenanthroline derivative. The thickness of the hole blocking layer is in the range of 0.5 to 50 nm
3. The organic electroluminescent device according to claim 1.

【0012】即ち、本発明者等は、高発光効率で発光さ
せ、安定に駆動させることができる有機電界発光素子を
提供することを目的として、次のような検討を行った。
That is, the present inventors have made the following studies with the aim of providing an organic electroluminescent device that can emit light with high luminous efficiency and can be driven stably.

【0013】まず、電子輸送層として8−ヒドロキシキ
ノリンのアルミニウム錯体で代表される金属錯体をホス
ト材料とし、オキサジアゾール誘導体、キノキサリン誘
導体、フェナントロリン誘導体から選ばれる物質のうち
特に分子量が400未満の電子輸送性化合物をドーパン
ト材料として、これらを共に用いることで高い電子移動
度と優れた膜質を両立させることを可能とした。
First, a metal complex typified by an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline is used as a host material for the electron transport layer, and an electron having a molecular weight of less than 400 is selected from among oxadiazole derivatives, quinoxaline derivatives, and phenanthroline derivatives. By using a transportable compound as a dopant material and using them together, it has become possible to achieve both high electron mobility and excellent film quality.

【0014】なお、分子量が400未満の電子輸送性化
合物をドープすることにより、電子輸送層の電子移動性
は改善されるものの、陽極から注入された正孔のうち、
電子と再結合することなく陰極に達してしまうものを防
ぐ作用効果については顕著な効果は得られなかった。
By doping an electron transporting compound having a molecular weight of less than 400, the electron mobility of the electron transporting layer is improved, but of the holes injected from the anode,
No remarkable effect was obtained as to the effect of preventing what reaches the cathode without recombination with electrons.

【0015】よって、本発明者らは更に検討を重ねた結
果、発光層の陰極側の界面に接するように、発光層のイ
オン化ポテンシャルよりも0.1eV以上大きいイオン化ポ
テンシャルを有する正孔阻止層を設け、この正孔阻止層
よりも陰極側に、上記した2種以上の電子輸送性材料を
含む電子輸送層を設けることにより、高い電子輸送性、
優れた膜質を両立し、かつ再結合に寄与しない電流量を
減らして発光効率を向上させることが可能となるため更
に好ましいことを見出した。
Therefore, the present inventors have further studied and found that a hole blocking layer having an ionization potential of 0.1 eV or more larger than the ionization potential of the light emitting layer is provided so as to be in contact with the interface of the light emitting layer on the cathode side. By providing an electron transport layer containing two or more of the above-described electron transport materials on the cathode side of the hole blocking layer, high electron transport properties can be obtained.
The present inventors have found that it is more preferable because both excellent film quality can be achieved and the luminous efficiency can be improved by reducing the amount of current that does not contribute to recombination.

【0016】本発明においては、正孔阻止層の材料とし
ては金属錯体、スチリル化合物、トリアゾール誘導体、
又はフェナントロリン誘導体を用いるのが好ましく、正
孔阻止層の膜厚は0.5〜50nmであることが好ましい。
In the present invention, the material of the hole blocking layer is a metal complex, a styryl compound, a triazole derivative,
Alternatively, a phenanthroline derivative is preferably used, and the thickness of the hole blocking layer is preferably 0.5 to 50 nm.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の有
機電界発光素子の実施の形態を詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the organic electroluminescent device of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0018】図1,2は本発明の実施の形態に係る有機
電界発光素子の構造の一例を模式的に示す断面図であ
り、1は基板、2は陽極、3は陽極バッファ層、4は正
孔輸送層、5は発光層、6は正孔阻止層、7は電子輸送
層、8は陰極を各々表わす。
FIGS. 1 and 2 are cross-sectional views schematically showing an example of the structure of an organic electroluminescent device according to an embodiment of the present invention, wherein 1 is a substrate, 2 is an anode, 3 is an anode buffer layer, and 4 is A hole transport layer, 5 is a light emitting layer, 6 is a hole blocking layer, 7 is an electron transport layer, and 8 is a cathode.

【0019】基板1は有機電界発光素子の支持体となる
ものであり、石英やガラスの板、金属板や金属箔、プラ
スチックフィルムやシートなどが用いられる。特にガラ
ス板や、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリカー
ボネート、ポリスルホンなどの透明な合成樹脂の板が好
ましい。合成樹脂基板を使用する場合にはガスバリア性
に留意する必要がある。基板のガスバリア性が小さすぎ
ると、基板を通過した外気により有機電界発光素子が劣
化することがあるので好ましくない。このため、合成樹
脂基板の少なくとも片面に緻密なシリコン酸化膜等を設
けてガスバリア性を確保する方法も好ましい方法の一つ
である。
The substrate 1 serves as a support for the organic electroluminescent device, and is made of a quartz or glass plate, a metal plate or a metal foil, a plastic film or a sheet, or the like. Particularly, a glass plate or a plate of a transparent synthetic resin such as polyester, polymethacrylate, polycarbonate, and polysulfone is preferable. When using a synthetic resin substrate, it is necessary to pay attention to gas barrier properties. If the gas barrier property of the substrate is too small, the organic electroluminescent device may be deteriorated by the outside air passing through the substrate, which is not preferable. For this reason, a method of providing a dense silicon oxide film or the like on at least one surface of the synthetic resin substrate to secure gas barrier properties is also a preferable method.

【0020】基板1上には陽極2が設けられるが、陽極
2は正孔輸送層4への正孔注入の役割を果たすものであ
る。この陽極は、通常、アルミニウム、金、銀、ニッケ
ル、パラジウム、白金等の金属、インジウム及び/又は
スズの酸化物などの金属酸化物、ヨウ化銅などのハロゲ
ン化金属、カーボンブラック、或いは、ポリ(3-メチル
チオフェン)、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性
高分子などにより構成される。陽極2の形成は通常、ス
パッタリング法、真空蒸着法などにより行われることが
多い。また、銀などの金属微粒子、ヨウ化銅などの微粒
子、カーボンブラック、導電性の金属酸化物微粒子、導
電性高分子微粉末などの場合には、適当なバインダー樹
脂溶液に分散し、基板1上に塗布することにより陽極2
を形成することもできる。更に、導電性高分子の場合は
電解重合により直接基板1上に薄膜を形成したり、基板
1上に導電性高分子を塗布して陽極2を形成することも
できる(Appl.Phys.Lett.,60巻,2711頁,1992
年)。陽極2は異なる物質で積層して形成することも可
能である。陽極2の厚みは、必要とする透明性により異
なる。透明性が必要とされる場合は、可視光の透過率
を、通常、60%以上、好ましくは80%以上とすることが
望ましく、この場合、陽極2の厚みは、通常、5〜1000
nm、好ましくは10〜500nm程度である。不透明でよい場合
は陽極2は基板1と同一でもよい。また、更には上記の
陽極2の上に異なる導電材料を積層することも可能であ
る。
The anode 2 is provided on the substrate 1, and the anode 2 plays a role of injecting holes into the hole transport layer 4. This anode is usually made of a metal such as aluminum, gold, silver, nickel, palladium, platinum, a metal oxide such as an oxide of indium and / or tin, a metal halide such as copper iodide, carbon black, or poly. (3-methylthiophene), conductive polymers such as polypyrrole and polyaniline. Usually, the formation of the anode 2 is often performed by a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like. In the case of fine metal particles such as silver, fine particles such as copper iodide, carbon black, conductive metal oxide fine particles, or conductive polymer fine powder, they are dispersed in a suitable binder resin solution and Anode 2 by applying to
Can also be formed. Further, in the case of a conductive polymer, a thin film can be formed directly on the substrate 1 by electrolytic polymerization, or the conductive polymer can be applied on the substrate 1 to form the anode 2 (Appl. Phys. Lett. , 60, 2711, 1992
Year). The anode 2 can be formed by laminating different materials. The thickness of the anode 2 depends on the required transparency. When transparency is required, it is desirable that the transmittance of visible light is usually 60% or more, preferably 80% or more. In this case, the thickness of the anode 2 is usually 5 to 1000%.
nm, preferably about 10 to 500 nm. If opaque, the anode 2 may be the same as the substrate 1. Further, it is also possible to laminate a different conductive material on the anode 2.

【0021】陽極2の上には正孔輸送層4が設けられ
る。正孔輸送層4の材料に要求される条件としては、陽
極からの正孔注入効率が高く、かつ、注入された正孔を
効率よく輸送することが挙げられる。そのためには、イ
オン化ポテンシャルが小さく、可視光の光に対して透明
性が高く、しかも正孔移動度が大きく、更に安定性に優
れ、トラップとなる不純物が製造時や使用時に発生しに
くいことが要求される。また、発光層の発光を消光する
ような物質を含まないことが必要とされる。上記の一般
的要求以外に、車載表示用の応用を考えた場合、素子に
は更に耐熱性が要求される。従って、Tgとして70℃以上
の値を有する材料が望ましく、85℃以上であれば更に
望ましい。
On the anode 2, a hole transport layer 4 is provided. The conditions required for the material of the hole transport layer 4 include high hole injection efficiency from the anode and efficient transport of the injected holes. Therefore, the ionization potential is small, the transparency to visible light is high, the hole mobility is large, the stability is further improved, and impurities serving as traps are hardly generated at the time of manufacture or use. Required. Further, it is necessary that a substance that quenches light emitted from the light-emitting layer is not contained. In addition to the above general requirements, when considering applications for in-vehicle display, the element is required to have further heat resistance. Therefore, a material having a Tg value of 70 ° C. or more is desirable, and a material having a Tg of 85 ° C. or more is more desirable.

【0022】このような正孔輸送材料としては、例え
ば、1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニ
ル)シクロヘキサン、4,4'-ビス[N-(1-ナフチル)-N-
フェニルアミノ]ビフェニルで代表される2個以上の3
級アミンを含み2個以上の縮合芳香族環が窒素原子に置
換した芳香族ジアミン(特開平5−234681号公報)、4,
4',4"-トリス(1-ナフチルフェニルアミノ)トリフェニル
アミン等のスターバースト構造を有する芳香族アミン化
合物(J. Lumin., 72-74巻、985頁、1997年)、トリフ
ェニルアミンの四量体から成る芳香族アミン化合物(Ch
em.Commun., 2175頁、1996年)、トリフェニルベンゼン
の誘導体でスターバースト構造を有する芳香族トリアミ
ン(米国特許第4,923,774号)、N,N’−ジ
フェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)ビフ
ェニル−4,4’−ジアミン等、ピレニル基に芳香族ジ
アミノ基が複数個置換した化合物、スチリル構造を有す
る芳香族ジアミン(特開平4−290851号公報)、
チオフェン基で芳香族3級アミンユニットを連結したも
の(特開平4−304466号公報)、スターバースト
型芳香族トリアミン(特開平4−308688号公
報)、フルオレン基で3級アミンを連結したもの(特開
平5−25473号公報)、トリアミン化合物(特開平
5−239455号公報)、ビスジピリジルアミノビフ
ェニル、N,N,N−トリフェニルアミン誘導体(特開
平6−1972号公報)、フェノキサジン構造を有する
芳香族ジアミン(特開平7−138562号公報)、ジ
アミノフェニルフェナントリジン誘導体(特開平7−2
52474号公報)、シラザン化合物(米国特許第4,
950,950号公報)、シラナミン誘導体(特開平6
−49079号公報)、ホスファミン誘導体(特開平6
−25659号公報)、2,2',7,7'-テトラキス-(ジフェ
ニルアミノ)-9,9'-スピロビフルオレン等のスピロ化合
物(Synth. Metals, 91巻、209頁、1997年)等が挙げら
れる。これらの化合物は、単独で用いてもよいし、必要
に応じて2種以上を混合して用いてもよい。
Examples of such a hole transport material include 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl) cyclohexane and 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-
Two or more 3 represented by phenylamino] biphenyl
Aromatic diamines containing a secondary amine and having two or more condensed aromatic rings substituted by nitrogen atoms (JP-A-5-234681);
Aromatic amine compounds having a starburst structure such as 4 ', 4 "-tris (1-naphthylphenylamino) triphenylamine (J. Lumin., 72-74, 985, 1997); Aromatic amine compounds composed of tetramers (Ch
em. Commun., p. 2175, 1996), a derivative of triphenylbenzene and an aromatic triamine having a starburst structure (U.S. Pat. No. 4,923,774), N, N'-diphenyl-N, N'- Bis (3-methylphenyl) biphenyl-4,4'-diamine and the like, compounds in which a pyrenyl group is substituted with a plurality of aromatic diamino groups, aromatic diamines having a styryl structure (JP-A-4-290851),
Those in which an aromatic tertiary amine unit is linked by a thiophene group (JP-A-4-304466), those in which a starburst-type aromatic triamine (JP-A-4-308688) is linked, and those in which a tertiary amine is linked by a fluorene group ( JP-A-5-25473), triamine compounds (JP-A-5-239455), bisdipyridylaminobiphenyl, N, N, N-triphenylamine derivatives (JP-A-6-1972), and phenoxazine structures. Aromatic diamine (JP-A-7-138562) and diaminophenylphenanthridine derivative (JP-A-7-2
No. 52474), silazane compounds (U.S. Pat.
950,950), silanamine derivatives (Japanese Unexamined Patent Publication No.
49079), phosphamine derivatives (Japanese Unexamined Patent Publication No.
-25659), spiro compounds such as 2,2 ', 7,7'-tetrakis- (diphenylamino) -9,9'-spirobifluorene (Synth. Metals, vol. 91, p. 209, 1997), etc. Is mentioned. These compounds may be used alone or as a mixture of two or more as necessary.

【0023】上記の化合物以外に、正孔輸送層4の材料
として、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルトリフェ
ニルアミン(特開平7− 53953号公報)、テトラフェニ
ルベンジジンを含有するポリアリーレンエーテルサルホ
ン(Polym. Adv. Tech., 7巻、33頁、1996年)等の高分
子材料を用いることもできる。
In addition to the above compounds, as a material of the hole transport layer 4, polyarylene ether sulfone (Polym. Adv) containing polyvinyl carbazole, polyvinyl triphenylamine (JP-A-7-39553), and tetraphenylbenzidine is used. Tech., Vol. 7, p. 33, 1996).

【0024】正孔輸送層4は、上記の正孔輸送材料を塗
布法或いは真空蒸着法により前記陽極2上に積層するこ
とにより形成される。
The hole transport layer 4 is formed by laminating the above-described hole transport material on the anode 2 by a coating method or a vacuum evaporation method.

【0025】塗布法の場合は、正孔輸送材料を1種又は
2種以上と、必要により正孔のトラップにならないバイ
ンダー樹脂や塗布性改良剤などの添加剤とを添加し、溶
解して塗布溶液を調製し、スピンコート法などの方法に
より陽極2上に塗布し、乾燥して正孔輸送層を形成す
る。バインダー樹脂としては、ポリカーボネート、ポリ
アリレート、ポリエステル等が挙げられる。バインダー
樹脂は添加量が多いと正孔移動度を低下させるので、少
ない方が望ましく、通常、50重量%以下とすることが
好ましい。
In the case of the coating method, one or more hole transport materials and, if necessary, additives such as a binder resin or a coating property improving agent which do not trap holes are added, dissolved and coated. A solution is prepared, applied on the anode 2 by a method such as spin coating, and dried to form a hole transport layer. Examples of the binder resin include polycarbonate, polyarylate, and polyester. If the amount of the binder resin added is large, the hole mobility is reduced. Therefore, it is desirable that the amount of the binder resin is small.

【0026】真空蒸着法の場合には、正孔輸送材料を真
空容器内に設置されたルツボに入れ、真空容器内を適当
な真空ポンプで10-4Pa程度にまで排気した後、ルツボを
加熱して、正孔輸送材料を蒸発させ、ルツボと向き合っ
て置かれた、陽極が形成された基板1上に正孔輸送層4
を形成させる。
In the case of the vacuum evaporation method, the hole transporting material is put into a crucible placed in a vacuum vessel, and the inside of the vacuum vessel is evacuated to about 10 -4 Pa by a suitable vacuum pump, and then the crucible is heated. Then, the hole transport material is evaporated, and the hole transport layer 4 is formed on the substrate 1 on which the anode is formed, which is placed facing the crucible.
Is formed.

【0027】正孔輸送層4の膜厚は、通常、10〜300n
m、好ましくは30〜100nmである。この様に薄い膜を一様
に形成するためには、一般に真空蒸着法がよく用いられ
る。
The thickness of the hole transport layer 4 is usually 10 to 300 n.
m, preferably 30-100 nm. In order to uniformly form such a thin film, generally, a vacuum deposition method is often used.

【0028】本発明においては、正孔注入の効率を更に
向上させ、かつ、有機層全体の陽極2への付着力を改善
させる目的で、図2に示す如く正孔輸送層4と陽極2と
の間に陽極バッファ層3を挿入してもよい。陽極バッフ
ァ層3を挿入することで、初期の素子の駆動電圧が下が
ると同時に、素子を定電流で連続駆動した時の電圧上昇
も抑制される効果がある。陽極バッファ層に用いられる
材料に要求される条件としては、陽極とのコンタクトが
よく均一な薄膜が形成でき、熱的に安定、即ち、融点及
びガラス転移温度が高いことが挙げられ、融点としては
300℃以上、ガラス転移温度としては 100℃以上が要求
される。更に、イオン化ポテンシャルが低く陽極2から
の正孔注入が容易なこと、正孔移動度が大きいことが挙
げられる。
In the present invention, for the purpose of further improving the efficiency of hole injection and improving the adhesion of the whole organic layer to the anode 2, as shown in FIG. The anode buffer layer 3 may be inserted between them. The insertion of the anode buffer layer 3 has the effect of reducing the initial drive voltage of the device and suppressing the voltage rise when the device is continuously driven with a constant current. The conditions required for the material used for the anode buffer layer are that a uniform thin film can be formed with good contact with the anode and that it is thermally stable, that is, the melting point and the glass transition temperature are high.
300 ° C or higher and glass transition temperature of 100 ° C or higher are required. In addition, the ionization potential is low, holes can be easily injected from the anode 2, and the hole mobility is high.

【0029】この目的のために、これまでにポルフィリ
ン誘導体やフタロシアニン化合物(特開昭63−295695号
公報)、ヒドラゾン化合物、アルコキシ置換の芳香族ジ
アミン誘導体、p−(9−アントリル)−N,N−ジ−
p−トリルアニリン、ポリチエニレンビニレンやポリ−
p−フェニレンビニレン、ポリアニリン(Appl. Phys.
Lett., 64巻、1245頁,1994年)、ポリチオフェン(Opti
cal Materials, 9巻、125頁、1998年)、スターバスト
型芳香族トリアミン(特開平4-308688号公報)等の有機
化合物や、スパッタ・カーボン膜(Synth. Met., 91
巻、73頁、1997年)や、バナジウム酸化物、ルテニウム
酸化物、モリブデン酸化物等の金属酸化物(J.Phys. D,
29巻、2750頁、1996年)が報告されている。
For this purpose, porphyrin derivatives, phthalocyanine compounds (JP-A-63-295695), hydrazone compounds, alkoxy-substituted aromatic diamine derivatives, p- (9-anthryl) -N, N -Ji-
p-tolylaniline, polythienylenevinylene and poly-
p-phenylenevinylene, polyaniline (Appl. Phys.
Lett., 64, 1245, 1994), polythiophene (Opti
Cal Materials, vol. 9, p. 125, 1998), organic compounds such as star-bust type aromatic triamines (JP-A-4-308688), and sputtered carbon films (Synth. Met., 91).
Vol. 73, 1997) and metal oxides such as vanadium oxide, ruthenium oxide and molybdenum oxide (J. Phys. D,
29, 2750, 1996).

【0030】上記陽極バッファ層3の材料としてよく使
用される化合物としては、ポルフィリン化合物又はフタ
ロシアニン化合物が挙げられる。これらの化合物は中心
金属を有していてもよいし、無金属のものでもよい。好
ましいこれらの化合物の具体例としては、以下の化合物
が挙げられる。 ポルフィン 5,10,15,20−テトラフェニル−21H,23
H−ポルフィン 5,10,15,20−テトラフェニル−21H,23
H−ポルフィンコバルト(II) 5,10,15,20−テトラフェニル−21H,23
H−ポルフィン銅(II) 5,10,15,20−テトラフェニル−21H,23
H−ポルフィン亜鉛(II) 5,10,15,20−テトラフェニル−21H,23
H−ポルフィンバナジウム(IV)オキシド 5,10,15,20−テトラ(4−ピリジル)−21
H,23H−ポルフィン 29H,31H−フタロシアニン 銅(II)フタロシアニン 亜鉛(II)フタロシアニン チタンフタロシアニンオキシド マグネシウムフタロシアニン 鉛フタロシアニン 銅(II)4,4’,4'',4''' −テトラアザ−29
H,31H−フタロシアニン
As a compound frequently used as a material of the anode buffer layer 3, a porphyrin compound or a phthalocyanine compound is exemplified. These compounds may have a central metal or may be non-metallic. Specific examples of preferred such compounds include the following compounds. Porphine 5,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23
H-porphine 5,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23
H-porphine cobalt (II) 5,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23
H-porphine copper (II) 5,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23
H-porphine zinc (II) 5,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23
H-porphine vanadium (IV) oxide 5,10,15,20-tetra (4-pyridyl) -21
H, 23H-porphine 29H, 31H-phthalocyanine copper (II) phthalocyanine zinc (II) phthalocyanine titanium phthalocyanine oxide magnesium phthalocyanine lead phthalocyanine copper (II) 4,4 ′, 4 ″, 4 ′ ″-tetraaza-29
H, 31H-phthalocyanine

【0031】陽極バッファ層3も、正孔輸送層4と同様
にして薄膜形成可能であるが、無機物の場合には、更
に、スパッタ法や電子ビーム蒸着法、プラズマCVD法
が用いられる。
The anode buffer layer 3 can be formed as a thin film in the same manner as the hole transport layer 4. However, in the case of an inorganic substance, a sputtering method, an electron beam evaporation method, or a plasma CVD method is used.

【0032】以上の様にして形成される陽極バッファ層
3の膜厚は、通常、3〜200nm、好ましくは10〜100nmで
ある。
The thickness of the anode buffer layer 3 formed as described above is usually 3 to 200 nm, preferably 10 to 100 nm.

【0033】正孔輸送層4の上には発光層5が設けられ
る。発光層5は、電界を与えられた電極間において、陽
極2から注入されて正孔輸送層4を移動する正孔と、陰
極8から注入されて電子輸送層7を移動する電子との再
結合により励起されて強い発光を示す蛍光性化合物より
形成される。
The light emitting layer 5 is provided on the hole transport layer 4. The light emitting layer 5 is a recombination between the holes injected from the anode 2 and moving through the hole transport layer 4 and the electrons injected from the cathode 8 and moving through the electron transport layer 7 between the electrodes to which the electric field is applied. Formed from a fluorescent compound that is excited by and emits strong light.

【0034】発光層5に用いられる蛍光性化合物として
は、安定な薄膜形状を有し、固体状態で高い蛍光収率を
示し、正孔及び/又は電子を効率よく輸送することがで
きる化合物であることが必要である。更に電気化学的か
つ化学的に安定であり、トラップとなる不純物が製造時
や使用時に発生しにくい化合物であることが要求され
る。
The fluorescent compound used in the light emitting layer 5 is a compound having a stable thin film shape, exhibiting a high fluorescence yield in a solid state, and capable of efficiently transporting holes and / or electrons. It is necessary. Further, it is required that the compound be electrochemically and chemically stable, and hardly generate impurities serving as traps at the time of production or use.

【0035】このような条件を満たす材料としては、8
−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯
体(特開昭59−194393号公報)、10-ヒドロキシベンゾ
[h]キノリンの金属錯体(特開平6−322362号公報)、
ビススチリルベンゼン誘導体(特開平1−245087号公
報、同2−222484号公報)、ビススチリルアリーレン誘
導体(特開平2−247278号公報)、(2-ヒドロキシフェ
ニル)ベンゾチアゾールの金属錯体(特開平8−315983
号公報)、シロール誘導体等が挙げられる。これらの発
光層材料は、通常は真空蒸着法により正孔輸送層上に積
層される。
Materials satisfying such conditions include 8
Metal complexes such as aluminum complexes of -hydroxyquinoline (JP-A-59-194393);
[h] quinoline metal complex (JP-A-6-322362),
Bisstyrylbenzene derivatives (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 1-245087 and 2-222484), bisstyrylarylene derivatives (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-247278), and metal complexes of (2-hydroxyphenyl) benzothiazole (Japanese Patent Application Laid-open No. −315983
Publication), silole derivatives and the like. These light emitting layer materials are usually laminated on the hole transport layer by a vacuum evaporation method.

【0036】また、前述の正孔輸送層材料のうち、蛍光
性を有する芳香族アミン系化合物も発光層材料として用
いることができる。
In addition, among the above-described hole transport layer materials, an aromatic amine compound having a fluorescent property can also be used as a light emitting layer material.

【0037】発光層5の膜厚は、通常、3〜200 nm、好
ましくは5〜100 nmである。
The thickness of the light emitting layer 5 is usually 3 to 200 nm, preferably 5 to 100 nm.

【0038】発光層5も正孔輸送層4と同様の方法で形
成することができるが、通常は真空蒸着法が用いられ
る。
The light emitting layer 5 can be formed in the same manner as the hole transporting layer 4, but usually a vacuum evaporation method is used.

【0039】素子の発光効率を向上させるとともに発光
色を変える目的で、例えば、8−ヒドロキシキノリンの
アルミニウム錯体をホスト材料として、クマリン等のレ
ーザ用蛍光色素をドープすること(J. Appl. Phys., 65
巻, 3610頁, 1989年)等が行われている。このドーピン
グ手法は、発光層5にも適用でき、ドープ用材料として
は、クマリン以外にも各種の蛍光色素が使用できる。青
色発光を与える蛍光色素としては、ペリレン、ピレン、
アントラセン及びそれらの誘導体等が挙げられる。緑色
蛍光色素としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導
体等が挙げられる。黄色蛍光色素としては、ルブレン、
ペリミドン誘導体等が挙げられる。赤色蛍光色素として
は、DCM等のベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導
体、ベンゾチオキサンテン誘導体、アザベンゾチオキサ
ンテン等が挙げられる。
For the purpose of improving the luminous efficiency of the device and changing the luminescent color, for example, doping a fluorescent dye for laser such as coumarin using an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline as a host material (J. Appl. Phys. , 65
Vol. 3610, 1989). This doping method can be applied to the light emitting layer 5, and as the doping material, various fluorescent dyes other than coumarin can be used. Fluorescent dyes that emit blue light include perylene, pyrene,
And anthracene and derivatives thereof. Green fluorescent dyes include quinacridone derivatives, coumarin derivatives and the like. As the yellow fluorescent dye, rubrene,
Perimidone derivatives and the like. Examples of the red fluorescent dye include benzopyran derivatives such as DCM, rhodamine derivatives, benzothioxanthene derivatives, and azabenzothioxanthenes.

【0040】上記のドープ用蛍光色素以外にも、ホスト
材料に応じて、レーザー研究,8巻, 694頁, 803頁,
958頁(1980年);同9巻,85頁(1981年)、に列挙さ
れている蛍光色素を発光層用のドープ材料として使用す
ることができる。
In addition to the above-described fluorescent dyes for doping, depending on the host material, laser studies, Vol. 8, p. 694, p.
958 (1980); Vol. 9, pp. 85 (1981) can be used as a doping material for the light emitting layer.

【0041】ホスト材料に対して上記蛍光色素がドープ
される量は、10-3〜10重量%が好ましい。
The amount of the fluorescent material to be doped with respect to the host material is preferably 10 -3 to 10% by weight.

【0042】上述の蛍光色素を発光層5のホスト材料に
ドープする方法を以下に説明する。
A method for doping the above-mentioned fluorescent dye into the host material of the light emitting layer 5 will be described below.

【0043】塗布の場合は、前記ホスト材料と、ドープ
用蛍光色素、更に必要により、電子のトラップや発光の
消光剤とならないバインダー樹脂や、レベリング剤等の
塗布性改良剤などの添加剤を添加して溶解した塗布溶液
を調製し、スピンコート法などの方法により正孔輸送層
4上に塗布し、乾燥して発光層5を形成する。バインダ
ー樹脂としては、ポリカーボネート、ポリアリレート、
ポリエステル等が挙げられる。バインダー樹脂は添加量
が多いと正孔/電子移動度を低下させるので、少ない方
が望ましく、50重量%以下が好ましい。
In the case of coating, the host material, a fluorescent dye for doping, and if necessary, additives such as a binder resin which does not act as an electron trap or a quencher of light emission, and a coating property improving agent such as a leveling agent are added. A coating solution is prepared by dissolving the solution, and the solution is applied onto the hole transport layer 4 by a method such as spin coating, and dried to form the light emitting layer 5. As the binder resin, polycarbonate, polyarylate,
Polyester and the like. If the amount of the binder resin is large, the hole / electron mobility is reduced. Therefore, a small amount is desirable, and 50% by weight or less is preferable.

【0044】真空蒸着法の場合には、前記ホスト材料を
真空容器内に設置されたルツボに入れ、ドープする蛍光
色素を別のルツボに入れ、真空容器内を適当な真空ポン
プで10-6Torr程度にまで排気した後、各々のルツボを同
時に加熱して蒸発させ、ルツボと向き合って置かれた基
板上に層を形成する。また、他の方法として、上記の材
料を予め所定比で混合したものを同一のルツボに入れて
蒸発させてもよい。
In the case of the vacuum deposition method, the host material is placed in a crucible placed in a vacuum vessel, the fluorescent dye to be doped is placed in another crucible, and the inside of the vacuum vessel is placed at 10 -6 Torr by a suitable vacuum pump. After evacuating to a degree, each crucible is simultaneously heated and evaporated to form a layer on the substrate placed facing the crucible. As another method, a mixture of the above materials at a predetermined ratio may be put in the same crucible and evaporated.

【0045】ドーパントとしての上記の蛍光色素が発光
層中にドープされる場合、発光層5の膜厚方向において
均一にドープされるが、膜厚方向において濃度分布があ
っても構わない。例えば、正孔輸送層4との界面近傍に
のみドープしたり、逆に、後述の正孔阻止層6の界面近
傍にのみドープしてもよい。
When the above-mentioned fluorescent dye as a dopant is doped into the light emitting layer, it is uniformly doped in the thickness direction of the light emitting layer 5, but may have a concentration distribution in the film thickness direction. For example, doping may be performed only in the vicinity of the interface with the hole transport layer 4 or, conversely, may be performed only in the vicinity of the interface of the hole blocking layer 6 described later.

【0046】発光層5の上には正孔阻止層6が設けられ
る。正孔阻止層6は、正孔輸送層4から移動してくる正
孔が陰極8に到達するのを阻止する役割と、電子輸送層
7から注入された電子を効率よく発光層5の方向に輸送
することができる化合物より形成され、イオン化ポテン
シャルが発光層5のイオン化ポテンシャルより0.1eV大
きい層である。正孔阻止層6は、発光層5で再結合によ
る生成するエキシトンを発光層内に閉じこめるために、
発光層材料よりは広いバンドギャップを有することが必
要である。この場合のバンドギャップは、電気化学的に
決定される酸化電位−還元電位の差、又は、光吸収端か
ら求められる。正孔阻止層6は電荷キャリアとエキシト
ンの両方を発光層5内に閉じこめて、発光効率を向上さ
せる機能を有する。
The hole blocking layer 6 is provided on the light emitting layer 5. The hole blocking layer 6 functions to prevent holes moving from the hole transport layer 4 from reaching the cathode 8 and to efficiently transfer electrons injected from the electron transport layer 7 toward the light emitting layer 5. This layer is formed of a compound that can be transported and has an ionization potential 0.1 eV higher than the ionization potential of the light emitting layer 5. The hole blocking layer 6 is used to trap exciton generated by recombination in the light emitting layer 5 in the light emitting layer.
It is necessary to have a wider band gap than the light emitting layer material. The band gap in this case is determined from the difference between the oxidation potential and the reduction potential determined electrochemically or from the light absorption edge. The hole blocking layer 6 has a function of confining both charge carriers and excitons in the light emitting layer 5 to improve the light emission efficiency.

【0047】このような条件を満たす正孔阻止層材料と
しては、混合配位子錯体、二核金属錯体等の金属錯体、
ジスチリルビフェニル誘導体等のスチリル化合物(特開
平11-242996)、3−(4−ビフェニルイル)−4−フ
ェニル−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,2、
4−トリアゾール等のトリアゾール誘導体(特開平7−
41759号公報)、バソクプロイン等のフェナントロリン
誘導体(特開平10− 79297号公報)が挙げられる。
Materials for the hole blocking layer satisfying such conditions include metal complexes such as mixed ligand complexes and binuclear metal complexes;
Styryl compounds such as distyrylbiphenyl derivatives (JP-A-11-242996), 3- (4-biphenylyl) -4-phenyl-5- (4-tert-butylphenyl) -1,2,
Triazole derivatives such as 4-triazole (Japanese Unexamined Patent Publication No.
No. 41759) and phenanthroline derivatives such as bathocuproin (Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-79297).

【0048】混合配位子錯体の具体例としては、ビス
(2−メチル−8−キノリノラト)(フェノラト)アル
ミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(オ
ルト−クレゾラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−
8−キノリノラト)(メタ−クレゾラト)アルミニウ
ム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(パラ−ク
レゾラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノ
リノラト)(オルト−フェニルフェノラト)アルミニウ
ム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(メタ−フ
ェニルフェノラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−
8−キノリノラト)(パラ−フェニルフェノラト)アル
ミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)
(2,3−ジメチルフェノラト)アルミニウム、ビス
(2−メチル−8−キノリノラト)(2,6−ジメチル
フェノラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キ
ノリノラト)(3,4−ジメチルフェノラト)アルミニ
ウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(3,5
−ジメチルフェノラト)アルミニウム、ビス(2−メチ
ル−8−キノリノラト)(3,5−ジ−tert−ブチ
ルフェノラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−
キノリノラト)(2,6−ジフェニルフェノラト)アル
ミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)
(2,4,6−トリフェニルフェノラト)アルミニウ
ム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(2,4,
6−トリメチルフェノラト)アルミニウム、ビス(2−
メチル−8−キノリノラト)(2,3,6−トリメチル
フェノラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キ
ノリノラト)(2,3,5,6−テトラメチルフェノラ
ト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラ
ト)(1−ナフトラト)アルミニウム、ビス(2−メチ
ル−8−キノリノラト)(2−ナフトラト)アルミニウ
ム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(トリフェ
ニルシラノラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−8
−キノリノラト)(トリフェニルゲルマノラト)アルミ
ニウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(トリ
ス(4,4−ビフェニル)シラノラト)アルミニウム、
ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラト)(オルト
−フェニルフェノラト)アルミニウム、ビス(2,4−
ジメチル−8−キノリノラト)(パラ−フェニルフェノ
ラト)アルミニウム、ビス(2,4−ジメチル−8−キ
ノリノラト)(メタ−フェニルフェノラト)アルミニウ
ム、ビス(2,4−ジメチル−8−キノリノラト)
(3,5−ジメチルフェノラト)アルミニウム、ビス
(2,4−ジメチル−8−キノリノラト)(3,5−ジ
−tert−ブチルフェノラト)アルミニウム、ビス
(2−メチル−4−エチル−8−キノリノラト)(パラ
−クレゾラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−4−
メトキシ−8−キノリノラト)(パラ−フェニルフェノ
ラト)アルミニウム、ビス(2−メチル−5−シアノ−
8−キノリノラト)(オルト−クレゾラト)アルミニウ
ム、ビス(2−メチル−6−トリフルオロメチル−8−
キノリノラト)(2−ナフトラト)アルミニウム、ビス
(2−メチル−8−キノリノラト)(フェノラト)ガリ
ウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(オルト
−クレゾラト)ガリウム、ビス(2−メチル−8−キノ
リノラト)(パラ−フェニルフェノラトガリウム、ビス
(2−メチル−8−キノリノラト)(1−ナフトラト)
ガリウム、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(2
−ナフトラト)ガリウム、ビス(2−メチル−8−キノ
リノラト)(トリフェニルシラノラト)ガリウム、ビス
(2−メチル−8−キノリノラト)(トリス(4,4−
ビフェニル)シラノラト)ガリウム、等が挙げられる。
特に好ましくは、ビス(2−メチル−8−キノリノラ
ト)(トリフェニルシラノラト)アルミニウムが挙げら
れる。
Specific examples of the mixed ligand complex include bis (2-methyl-8-quinolinolato) (phenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (ortho-cresolato) aluminum, Methyl-
8-quinolinolato) (meta-cresolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (para-cresolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (ortho-phenylphenolato) aluminum, bis (2 -Methyl-8-quinolinolato) (meta-phenylphenolato) aluminum, bis (2-methyl-
8-quinolinolato) (para-phenylphenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato)
(2,3-dimethylphenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,6-dimethylphenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (3,4-dimethylphenolato) ) Aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (3,5
-Dimethylphenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (3,5-di-tert-butylphenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-
Quinolinolato) (2,6-diphenylphenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato)
(2,4,6-triphenylphenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,4
6-trimethylphenolato) aluminum, bis (2-
Methyl-8-quinolinolato) (2,3,6-trimethylphenolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,3,5,6-tetramethylphenolato) aluminum, bis (2-methyl -8-quinolinolato) (1-naphtolat) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2-naphtolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (triphenylsilanolato) aluminum, bis (2 -Methyl-8
-Quinolinolato) (triphenylgermanolato) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (tris (4,4-biphenyl) silanolato) aluminum,
Bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) (ortho-phenylphenolato) aluminum, bis (2,4-
Dimethyl-8-quinolinolato) (para-phenylphenolato) aluminum, bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) (meta-phenylphenolato) aluminum, bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato)
(3,5-dimethylphenolato) aluminum, bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) (3,5-di-tert-butylphenolato) aluminum, bis (2-methyl-4-ethyl-8-) Quinolinolato) (para-cresolato) aluminum, bis (2-methyl-4-)
Methoxy-8-quinolinolato) (para-phenylphenolato) aluminum, bis (2-methyl-5-cyano-)
8-quinolinolato) (ortho-cresolato) aluminum, bis (2-methyl-6-trifluoromethyl-8-
Quinolinolato) (2-naphtolat) aluminum, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (phenolato) gallium, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (ortho-cresolato) gallium, bis (2-methyl-8-quinolinolato) ) (Para-phenylphenolatogallium, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (1-naphthrat)
Gallium, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2
-Naphthrat) gallium, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (triphenylsilanolato) gallium, bis (2-methyl-8-quinolinolato) (tris (4,4-
Biphenyl) silanolato) gallium, and the like.
Particularly preferred is bis (2-methyl-8-quinolinolato) (triphenylsilanolato) aluminum.

【0049】二核金属錯体の具体例としては、ビス(2
−メチル−8−キノラト)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス−(2−メチル−8−キノリラト)アルミニウム、
ビス(2,4−ジメチル−8−キノラト)アルミニウム
−μ−オキソ−ビス−(2,4−ジメチル−8−キノリ
ラト)アルミニウム、ビス(4−エチル−2−メチル−
8−キノリノラト)アルミニウム−μ−オキソ−ビス−
(4−エチル−2−メチル−8−キノリノラト)アルミ
ニウム、ビス(2−メチル−4−メトキシキノリノラ
ト)アルミニウム−μ−オキソ−ビス−(2−メチル−
4−メトキシキノリノラト)アルミニウム、ビス(5−
シアノ−2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム
−μ−オキソ−ビス(5−シアノ−2−メチル−8−キ
ノリノラト)アルミニウム、ビス(5−クロロ−2−メ
チル−8−キノリノラト)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス−(5−クロロ−2−メチル−8−キノリノラト)
アルミニウム、ビス(2−メチル−5−トリフルオロメ
チル−8−キノリノラト)アルミニウム−μ−オキソ−
ビス−(2−メチル−5−トリフルオロメチル−8−キ
ノリノラト)アルミニウム等が挙げられる。特に好まし
くは、ビス(2−メチル−8−キノラト)アルミニウム
−μ−オキソ−ビス−(2−メチル−8−キノリラト)
アルミニウムが挙げられる。
As a specific example of the binuclear metal complex, bis (2
-Methyl-8-quinolato) aluminum-μ-oxo-
Bis- (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum,
Bis (2,4-dimethyl-8-quinolato) aluminum-μ-oxo-bis- (2,4-dimethyl-8-quinolylato) aluminum, bis (4-ethyl-2-methyl-
8-quinolinolato) aluminum-μ-oxo-bis-
(4-ethyl-2-methyl-8-quinolinolato) aluminum, bis (2-methyl-4-methoxyquinolinolato) aluminum-μ-oxo-bis- (2-methyl-
4-methoxyquinolinolato) aluminum, bis (5-
Cyano-2-methyl-8-quinolinolato) aluminum-μ-oxo-bis (5-cyano-2-methyl-8-quinolinolato) aluminum, bis (5-chloro-2-methyl-8-quinolinolato) aluminum-μ- Oxo
Bis- (5-chloro-2-methyl-8-quinolinolato)
Aluminum, bis (2-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolato) aluminum-μ-oxo-
Bis- (2-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolato) aluminum; Particularly preferably, bis (2-methyl-8-quinolato) aluminum-μ-oxo-bis- (2-methyl-8-quinolate)
Aluminum.

【0050】正孔阻止材料として用いるスチリル化合物
の具体例としては、以下に示すジスチリルアリーレン誘
導体が挙げられる。
Specific examples of the styryl compound used as a hole blocking material include the following distyryl arylene derivatives.

【0051】[0051]

【化1】 Embedded image

【0052】トリアゾール誘導体としては、以下の構造
式で示される1,2,4−トリアゾール環残基を少なく
とも1個有する化合物を用いることができる。
As the triazole derivative, a compound having at least one 1,2,4-triazole ring residue represented by the following structural formula can be used.

【0053】[0053]

【化2】 Embedded image

【0054】前記構造式で表わされる1,2,4−トリ
アゾール環残基を少なくとも1個有する化合物の具体例
を以下に示す。
Specific examples of the compound having at least one 1,2,4-triazole ring residue represented by the above structural formula are shown below.

【0055】[0055]

【化3】 Embedded image

【0056】フェナントロリン誘導体とは、以下の構造
式で示されるフェナントロリン環を少なくとも1個有す
る化合物を示す。
The phenanthroline derivative is a compound having at least one phenanthroline ring represented by the following structural formula.

【0057】[0057]

【化4】 Embedded image

【0058】前記構造式で表わされるフェナントロリン
環を少なくとも1個有する化合物の具体例を以下に示
す。
Specific examples of the compound having at least one phenanthroline ring represented by the above structural formula are shown below.

【0059】[0059]

【化5】 Embedded image

【0060】このうち特に好ましくは、バソクプロイン
が挙げられる。
Of these, particularly preferred is bathocuproin.

【0061】なお、前述したジスチリルアリーレン誘導
体、トリアゾール誘導体、及びフェナントロリン誘導体
の例示化合物は、構造式中には記載していないが、各化
合物における芳香族環が更に置換されていてもよく、該
置換基としては、例えばメチル基、エチル基、ブチル基
などの炭素数1〜6のアルキル基;メトキシ基、エトキ
シ基、ブトキシ基などの炭素数1〜6のアルコキシド
基;ハロゲン原子;シアノ基などが挙げられる。
Although the above-mentioned exemplary compounds of the distyrylarylene derivative, the triazole derivative and the phenanthroline derivative are not described in the structural formula, the aromatic ring in each compound may be further substituted. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group and a butyl group; an alkoxide group having 1 to 6 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group and a butoxy group; a halogen atom; Is mentioned.

【0062】これらの化合物は、単独で用いてもよい
し、必要に応じて2種以上を混合して用いてもよい。
These compounds may be used alone or as a mixture of two or more as necessary.

【0063】正孔阻止層6の膜厚は、通常、 0.3〜 100
nm、好ましくは 0.5〜50nmである。
The thickness of the hole blocking layer 6 is usually 0.3 to 100
nm, preferably 0.5 to 50 nm.

【0064】このような正孔阻止層6も正孔輸送層4と
同様の方法で形成することができるが、通常は真空蒸着
法が用いられる。
The hole blocking layer 6 can be formed by the same method as the hole transport layer 4, but usually, a vacuum evaporation method is used.

【0065】素子の発光効率を更に向上させることを目
的として、正孔阻止層6の上には、電子輸送層7が設け
られる。電子輸送層7は、電界を与えられた電極間にお
いて陰極8から注入された電子を効率よく発光層5の方
向に輸送することができる化合物より形成される。電子
輸送層7は、発光層5での再結合により生成するエキシ
トンが拡散して陰極8で消光されるのを防ぐ効果を有す
る。
For the purpose of further improving the luminous efficiency of the device, an electron transport layer 7 is provided on the hole blocking layer 6. The electron transport layer 7 is formed of a compound capable of efficiently transporting electrons injected from the cathode 8 between the electrodes to which an electric field is applied in the direction of the light emitting layer 5. The electron transport layer 7 has an effect of preventing excitons generated by recombination in the light emitting layer 5 from being diffused and quenched by the cathode 8.

【0066】電子輸送層7に用いられる電子輸送性化合
物としては、陰極8からの電子注入効率が高く、かつ、
高い電子移動度を有し注入された電子を効率よく輸送す
ることができる化合物であることが必要である。
The electron transporting compound used for the electron transporting layer 7 has a high electron injection efficiency from the cathode 8 and
It is necessary that the compound has high electron mobility and can efficiently transport injected electrons.

【0067】このような条件を満たす材料としては、8
−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体などの金属錯
体(特開昭59−194393号公報)、10-ヒドロキシベンゾ
[h]キノリンの金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ジ
スチリルビフェニル誘導体、シロール誘導体、3-又は5-
ヒドロキシフラボン金属錯体、ベンズオキサゾール金属
錯体、ベンゾチアゾール金属錯体、トリスベンズイミダ
ゾリルベンゼン(米国特許第 5,645,948号)、キノキサ
リン誘導体(米国特許第 5,077,142号、特開平6−2071
69号公報)、フェナントロリン誘導体(特開平5−3314
59号公報)、2-t-ブチル-9,10-N,N'-ジシアノアントラ
キノンジイミンなどが従来から知られている。
Materials satisfying such conditions include 8
Metal complexes such as aluminum complexes of -hydroxyquinoline (JP-A-59-194393);
[h] metal complex of quinoline, oxadiazole derivative, distyrylbiphenyl derivative, silole derivative, 3- or 5-
Hydroxyflavone metal complex, benzoxazole metal complex, benzothiazole metal complex, trisbenzimidazolylbenzene (US Pat. No. 5,645,948), quinoxaline derivative (US Pat. No. 5,077,142, JP-A-6-2071)
No. 69), phenanthroline derivatives (JP-A-5-3314)
No. 59), 2-t-butyl-9,10-N, N'-dicyanoanthraquinonediimine and the like have been conventionally known.

【0068】これらの物質のうち、特にオキサジアゾー
ル誘導体、キノキサリン誘導体、フェナントロリン誘導
体で分子量が400未満の低分子量化合物は、高い電子
移動度を示すが、Tgが低く結晶化しやすい等の理由で、
単独で用いるのは困難であった。また、8−ヒドロキシ
キノリンのアルミニウム錯体などの金属錯体は、昇華性
が良好で真空蒸着後の膜質が優れた物質であるが、その
電子移動度は正孔輸送性物質の正孔移動度と比べると2
桁ほど低く充分とは言えなかった。
Among these substances, low-molecular-weight compounds having a molecular weight of less than 400, such as oxadiazole derivatives, quinoxaline derivatives, and phenanthroline derivatives, exhibit high electron mobility, but have low Tg and are easily crystallized.
It was difficult to use alone. Further, a metal complex such as an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline is a substance having good sublimability and excellent film quality after vacuum deposition, and its electron mobility is compared with the hole mobility of the hole transporting substance. And 2
The order of magnitude was not enough.

【0069】本発明では、電子輸送層として分子量40
0以上のもの、好ましくは8−ヒドロキシキノリンのア
ルミニウム錯体で代表される分子量400〜800の金
属錯体をホスト材料とし、分子量が400未満、好まし
くは130〜399の低分子量化合物をドーパント材料
として、これらを共に用いることで高い電子移動度と優
れた膜質を両立させることを可能とした。
In the present invention, the electron transport layer has a molecular weight of 40.
A metal complex having a molecular weight of 400 to 800 represented by an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline as a host material, and a low molecular weight compound having a molecular weight of less than 400, preferably 130 to 399 as a dopant material. By using both, it is possible to achieve both high electron mobility and excellent film quality.

【0070】なお、本発明において、電子輸送層にドー
プするドーパント材料の割合が少ないと、高い電子移動
度を得ることができず、逆に多過ぎると膜質が劣るもの
となることから、ドーパント材料のドープ割合はモル比
で、ホスト材料:ドーパント材料=99:1〜50:5
0となるようにするのが好ましい。
In the present invention, if the proportion of the dopant material doped into the electron transporting layer is small, high electron mobility cannot be obtained, and if too large, the film quality deteriorates. Is a molar ratio of host material: dopant material = 99: 1 to 50: 5.
It is preferably set to 0.

【0071】分子量(Mol. Wt.)400以上の金属錯体
の具体例としては、以下に示す金属錯体の他、正孔阻止
層で例示した混合配位子錯体、二核金属錯体等の金属錯
体が挙げられる。
Specific examples of the metal complexes having a molecular weight (Mol. Wt.) Of 400 or more include the following metal complexes, and metal complexes such as mixed ligand complexes and binuclear metal complexes exemplified in the hole blocking layer. Is mentioned.

【0072】[0072]

【化6】 Embedded image

【0073】なお、上記構造式で表される各化合物も、
正孔阻止層材料として前述したジスチリルアリーレン誘
導体等と同様に、各化合物中の芳香族環が更に置換され
ていてもよく、該置換基としては、ジスチルアリーレン
誘導体等におけると同様の基が挙げられる。
The compounds represented by the above structural formulas are also
As in the distyrylarylene derivative and the like described above as the hole blocking layer material, the aromatic ring in each compound may be further substituted, and the substituent may be the same group as in the distyrarylene derivative or the like. No.

【0074】これらのうち電子輸送層として特に好まし
くは、8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯体、2
−メチル−8−ヒドロキシキノリンのアルミニウム錯
体、10-ヒドロキシベンゾ[h]キノリンのアルミニウム錯
体が挙げられる。
Among these, an aluminum complex of 8-hydroxyquinoline is particularly preferable as the electron transporting layer.
Aluminum complexes of -methyl-8-hydroxyquinoline and aluminum complexes of 10-hydroxybenzo [h] quinoline.

【0075】ドーパント材料としてはオキサジアゾール
誘導体、キノキサリン誘導体、フェナントロリン誘導体
から選ばれる物質が好ましい。具体的には、例えばオキ
サジアゾール誘導体としては、以下の構造式で示される
2,4−オキサジアゾール環残基を少なくとも1個有す
る化合物を用いることができる。
As the dopant material, a substance selected from oxadiazole derivatives, quinoxaline derivatives, and phenanthroline derivatives is preferable. Specifically, for example, as the oxadiazole derivative, a compound having at least one 2,4-oxadiazole ring residue represented by the following structural formula can be used.

【0076】[0076]

【化7】 Embedded image

【0077】上記構造式で表わされる2,4−オキサジ
アゾール環残基を少なくとも1個有する化合物のうち分
子量(Mol. Wt.)が400未満のものの具体例を以下に
示す。
Specific examples of compounds having a molecular weight (Mol. Wt.) Of less than 400 among compounds having at least one 2,4-oxadiazole ring residue represented by the above structural formula are shown below.

【0078】[0078]

【化8】 Embedded image

【0079】キノキサリン誘導体で分子量(Mol. Wt.)
が400未満のものの具体例としては、下記のものが挙
げられる。
Molecular weight (Mol. Wt.) Of quinoxaline derivative
The following are specific examples of those having a value of less than 400.

【0080】[0080]

【化9】 Embedded image

【0081】フェナントロリン誘導体の具体例として
は、正孔阻止材料として例示したもののうち分子量(Mo
l. Wt.)が400未満の下記のものが挙げられる。
Specific examples of the phenanthroline derivative include those having a molecular weight (Mo
l. Wt.) is less than 400.

【0082】[0082]

【化10】 Embedded image

【0083】なお、電子輸送層のホスト材料及びドーパ
ント材料の電子移動度は、Time−of−fligh
t(TOF)法を用いて測定する。TOF法は、測定試
料に電界を印加しつつ、試料表面にパスル光を照射し、
生成したチャージキャリアが薄膜中を移動することによ
り生じる過渡光電流を測定することで、チャージキャリ
ア移動度を測定する方法である。この時、印加する電界
の強度や試料の状態(単一の化合物からなるのか、バイ
ンダ樹脂に分散されているのか、など)などにより移動
度の絶対値は異なるが、ホスト材料とドーパント材料の
電子移動度の相対的な大小関係が本発明の関係を満たし
ていればよい。
Note that the electron mobility of the host material and the dopant material of the electron transporting layer is Time-of-flight.
It is measured using the t (TOF) method. The TOF method irradiates the sample surface with pulse light while applying an electric field to the measurement sample,
This is a method of measuring the charge carrier mobility by measuring a transient photocurrent generated by the generated charge carriers moving in the thin film. At this time, the absolute value of the mobility differs depending on the strength of the applied electric field and the state of the sample (whether it is composed of a single compound or dispersed in a binder resin, etc.), but the electron of the host material and the dopant material is different. It suffices that the relative magnitude relationship of the mobility satisfies the relationship of the present invention.

【0084】この電子輸送層6の膜厚は、通常、5〜200
nm、好ましくは10〜100 nmである。
The thickness of the electron transport layer 6 is usually 5 to 200
nm, preferably 10-100 nm.

【0085】電子輸送層7は、発光層5と同様にして塗
布法或いは真空蒸着法により発光層5上に積層すること
により形成される。通常は、真空蒸着法が用いられる。
The electron transport layer 7 is formed by laminating on the light emitting layer 5 by a coating method or a vacuum evaporation method in the same manner as the light emitting layer 5. Usually, a vacuum evaporation method is used.

【0086】真空蒸着法の場合には、発光層5の蒸着時
と同様に、前記ホスト材料としての金属錯体を真空容器
内に設置されたルツボに入れ、共蒸着するドーパント材
料としてのオキサジアゾール誘導体、キノキサリン誘導
体、フェナントロリン誘導体から選ばれた物質を別のル
ツボに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで10-6Torr
程度にまで排気した後、各々のルツボを同時に加熱して
蒸発させ、ルツボと向き合って置かれた基板上に電子輸
送層7を形成する。また、他の方法として、上記の材料
を予め所定比で混合したものを同一のルツボを用いて蒸
発させてもよい。
In the case of the vacuum deposition method, the metal complex as the host material is put in a crucible placed in a vacuum vessel and oxadiazole as a dopant material to be co-deposited in the same manner as when the light emitting layer 5 is deposited. A substance selected from a derivative, a quinoxaline derivative, and a phenanthroline derivative is placed in another crucible, and the inside of the vacuum vessel is 10 -6 Torr by an appropriate vacuum pump.
After evacuating to the extent, each crucible is heated and evaporated at the same time to form the electron transport layer 7 on the substrate placed facing the crucible. As another method, a mixture of the above materials at a predetermined ratio in advance may be evaporated using the same crucible.

【0087】このとき、電子輸送層7の膜厚方向におい
て均一に共蒸着が行われるが、膜厚方向においてドーパ
ント材料の濃度分布があっても構わない。
At this time, co-evaporation is performed uniformly in the thickness direction of the electron transport layer 7, but there may be a concentration distribution of the dopant material in the thickness direction.

【0088】陰極8は、電子輸送層7に電子を注入する
役割を果たす。陰極8として用いられる材料は、前記陽
極2に使用される材料を用いることが可能であるが、効
率よく電子注入を行なうには、仕事関数の低い金属が好
ましく、スズ、マグネシウム、インジウム、カルシウ
ム、アルミニウム、銀等の適当な金属又はそれらの合金
が用いられる。具体例としては、マグネシウム−銀合
金、マグネシウム−インジウム合金、アルミニウム−リ
チウム合金等の低仕事関数合金電極が挙げられる。さら
に、陰極8と発光層5又は電子輸送層7の界面にLiF 、
MgF2、Li2O等の極薄絶縁膜(0.1〜5nm)を挿入すること
も、素子の効率を向上させる有効な方法である(Appl.
Phys. Lett., 70巻,152頁,1997年;特開平10− 74586
号公報;IEEETrans. Electron. Devices,44巻,1245
頁,1997年)。
The cathode 8 plays a role of injecting electrons into the electron transport layer 7. As the material used for the cathode 8, the material used for the anode 2 can be used, but for efficient electron injection, a metal having a low work function is preferable, and tin, magnesium, indium, calcium, A suitable metal such as aluminum or silver or an alloy thereof is used. Specific examples include a low work function alloy electrode such as a magnesium-silver alloy, a magnesium-indium alloy, and an aluminum-lithium alloy. Further, LiF,
Inserting an ultra-thin insulating film (0.1 to 5 nm) such as MgF 2 or Li 2 O is also an effective method for improving the efficiency of the device (Appl.
Phys. Lett., 70, 152, 1997; JP-A-10-74586
Issue; IEEETrans. Electron. Devices, 44, 1245
P. 1997).

【0089】陰極8の膜厚は通常、陽極2と同様であ
る。
The thickness of the cathode 8 is usually the same as that of the anode 2.

【0090】低仕事関数金属から成る陰極を保護する目
的で、この上にさらに、仕事関数が高く大気に対して安
定な金属層を積層することは素子の安定性を増す。この
目的のために、アルミニウム、銀、銅、ニッケル、クロ
ム、金、白金等の金属が使われる。
In order to protect the cathode made of a metal having a low work function, further laminating a metal layer having a high work function and being stable to the atmosphere increases the stability of the device. For this purpose, metals such as aluminum, silver, copper, nickel, chromium, gold, platinum and the like are used.

【0091】なお、図1,2に示す有機電界発光素子
は、本発明の実施の形態の一例であって、本発明はその
要旨を超えない限り、何ら図示のものに限定されるもの
ではない。例えば、図1とは逆の構造、即ち、基板上に
陰極8、電子輸送層7、正孔阻止層6、発光層5、正孔
輸送層4、陽極2の順に積層することも可能であり、既
述したように少なくとも一方が透明性の高い2枚の基板
の間に本発明の有機電界発光素子を設けることも可能で
ある。同様に、図2においても、図示の各層構成とは逆
の構造に積層することも可能である。
The organic electroluminescent device shown in FIGS. 1 and 2 is an example of the embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to the one shown in the drawings unless it exceeds the gist. . For example, it is also possible to stack the cathode 8, the electron transport layer 7, the hole blocking layer 6, the light emitting layer 5, the hole transport layer 4, and the anode 2 in this order on the substrate, that is, on the substrate. As described above, the organic electroluminescent device of the present invention can be provided between two substrates, at least one of which has high transparency. Similarly, in FIG. 2, it is also possible to stack the layers in a structure opposite to the illustrated layer configuration.

【0092】また、陽極2と発光層5との間、発光層5
と電子輸送層7との間、電子輸送層7と陰極8との間に
は前述した陽極バッファ層3や正孔輸送層4や正孔阻止
層6以外にも、任意の層を有していて良い。
Further, between the anode 2 and the light emitting layer 5, the light emitting layer 5
Between the electron transport layer 7 and the electron transport layer 7, and between the electron transport layer 7 and the cathode 8, there are provided any layers other than the above-described anode buffer layer 3, hole transport layer 4, and hole blocking layer 6. Good.

【0093】このような本発明の有機電界発光素子は、
有機電界発光素子が、単一の素子、アレイ状に配置され
た構造からなる素子、陽極と陰極がX−Yマトリックス
状に配置された構造のいずれにおいても適用することが
できる。
The organic electroluminescent device of the present invention has the following features.
The present invention can be applied to any one of an organic electroluminescent device, a device having a structure arranged in an array, and a structure in which an anode and a cathode are arranged in an XY matrix.

【0094】本発明の有機電界発光素子によれば、電子
輸送能の高いオキサジアゾール誘導体、キノキサリン誘
導体、フェナントロリン誘導体等の低分子量化合物と膜
質の良好な金属錯体等を電子輸送層に含むために、素子
の安定性に優れ、かつ電流が効率良く注入され、結果と
して発光層内において正孔と電子の再結合が効果的に起
こり、発光効率の高い素子が得られる。更に、正孔阻止
層を設けた場合には、発光層のみからの発光が得られ、
色純度の高い発光素子が得られる。
According to the organic electroluminescent device of the present invention, the electron transport layer contains a low molecular weight compound such as an oxadiazole derivative, a quinoxaline derivative, or a phenanthroline derivative having a high electron transport ability and a metal complex having a good film quality. In addition, current is injected efficiently with excellent stability of the device, and as a result, recombination of holes and electrons effectively occurs in the light emitting layer, so that a device with high luminous efficiency can be obtained. Further, when a hole blocking layer is provided, light emission from only the light emitting layer is obtained,
A light-emitting element with high color purity can be obtained.

【0095】[0095]

【実施例】以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明を
より具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない
限り、以下の実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist.

【0096】実施例1 図2に示す構造を有する有機電界発光素子を以下の方法
で作製した。
Example 1 An organic electroluminescent device having the structure shown in FIG. 2 was manufactured by the following method.

【0097】ガラス基板1上にインジウム・スズ酸化物
(ITO)透明導電膜を120nm堆積したもの(ジオマテ
ック社製;電子ビーム成膜品;シート抵抗15Ω)を通常
のフォトリソグラフィ技術と塩酸エッチングを用いて2m
m幅のストライプにパターニングして陽極2を形成し
た。パターン形成したITO基板を、超純水による水
洗、界面活性剤を用いた超音波洗浄、超純水による超音
波洗浄、超純水による水洗の順で洗浄後、窒素ブローで
乾燥させ、最後に紫外線オゾン洗浄を行って、真空蒸着
装置内に設置した。上記装置の粗排気を油回転ポンプに
より行った後、装置内の真空度が1.0×10-6Torr(約1.3
×10-4Pa)以下になるまで液体窒素トラップを備えた油
拡散ポンプを用いて排気した。
An indium tin oxide (ITO) transparent conductive film deposited on a glass substrate 1 with a thickness of 120 nm (manufactured by Geomatic Corporation; electron beam film-formed product; sheet resistance: 15 Ω) was formed by using a usual photolithography technique and hydrochloric acid etching. 2m
The anode 2 was formed by patterning into an m-width stripe. The patterned ITO substrate is washed with water with ultrapure water, ultrasonic cleaning with a surfactant, ultrasonic cleaning with ultrapure water, and water with ultrapure water in that order, and then dried with nitrogen blow. The substrate was subjected to ultraviolet ozone cleaning and set in a vacuum evaporation apparatus. After the rough evacuation of the above apparatus was performed by an oil rotary pump, the degree of vacuum in the apparatus was 1.0 × 10 −6 Torr (about 1.3
The pressure was evacuated using an oil diffusion pump equipped with a liquid nitrogen trap until the pressure became 10 × 10 −4 Pa or less.

【0098】陽極バッファ層3の材料として、下記に示
す構造式の銅フタロシアニン(HI−1)を用い、モリ
ブデンボートで、蒸着速度0.14nm/秒、真空度8.0×10
-7Torr(約1.1×10-4Pa)で、陽極バッファ層3を10nm
の膜厚で陽極2の上に成膜した。
As a material for the anode buffer layer 3, copper phthalocyanine (HI-1) having the following structural formula was used, and a molybdenum boat was used at a deposition rate of 0.14 nm / sec and a degree of vacuum of 8.0 × 10 8
At -7 Torr (about 1.1 × 10 -4 Pa), the anode buffer layer 3 is
A film was formed on the anode 2 with the following film thickness.

【0099】[0099]

【化11】 Embedded image

【0100】次に正孔輸送層4の材料として、下記に示
す構造式の4,4'-ビス[N-(1-ナフチル)-N-フェニルアミ
ノ]ビフェニル(HT−1)をセラミックルツボに入
れ、ルツボの周囲のタンタル線ヒーターで加熱して蒸着
を行った。この時のルツボの温度は、259〜277℃の範囲
で制御した。蒸着時の真空度は7.0×10-7Torr(約9.3×
10-5Pa)で、蒸着速度0.22nm/秒で膜厚60nmの正孔輸送
層4を成膜した。
Next, as a material of the hole transport layer 4, 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (HT-1) having the following structural formula was added to a ceramic crucible. It was then heated by a tantalum wire heater around the crucible to perform vapor deposition. The temperature of the crucible at this time was controlled in the range of 259 to 277 ° C. The degree of vacuum during deposition is 7.0 × 10 -7 Torr (about 9.3 ×
At a pressure of 10 −5 Pa), a hole transport layer 4 having a thickness of 60 nm was formed at a deposition rate of 0.22 nm / sec.

【0101】[0101]

【化12】 Embedded image

【0102】次に、発光層5の材料として、下記に示す
構造式のアルミニウムの8−ヒドリキシキノリン錯体
(EM−1)と下記に示す構造式の橙色蛍光色素のベン
ゾピラン誘導体(DYE−1)とを上記正孔輸送層4の
上に同様にしてEM−1:DYE−1=100:1の割
合で共蒸着を行なった。この時のルツボの温度はそれぞ
れ285〜294℃、314〜317℃の範囲で制御した。蒸着時の
真空度は7.0×10-7Torr(約9.3×10-5Pa)で、EM−1
及びDYE−1の蒸着速度は 0.13nm/秒、全膜厚は30n
mであった。
Next, as materials for the light emitting layer 5, an 8-hydroxyquinoline complex of aluminum (EM-1) of the following structural formula and a benzopyran derivative of an orange fluorescent dye (DYE-1) of the following structural formula are used. Was co-evaporated on the hole transport layer 4 at a ratio of EM-1: DYE-1 = 100: 1. The temperature of the crucible at this time was controlled in the range of 285 to 294 ° C and 314 to 317 ° C, respectively. The degree of vacuum at the time of vapor deposition was 7.0 × 10 −7 Torr (about 9.3 × 10 −5 Pa).
And DYE-1 have a deposition rate of 0.13 nm / sec and a total film thickness of 30 n.
m.

【0103】[0103]

【化13】 Embedded image

【0104】[0104]

【化14】 Embedded image

【0105】次に、正孔阻止層6の材料として、下記に
示す構造式のシラノールアルミニウムの8−ヒドリキシ
キノリン錯体(HB−1)を用いて、発光層5の上に蒸
着を行なった。正孔阻止層6の形成時のルツボの温度は
224〜235℃の範囲で制御し、真空度6.0×10-7Torr(約
8.0×10-4Pa)、蒸着速度 0.11nm/秒で、膜厚10nmの正
孔阻止層6を形成した。
Next, using a silanol aluminum 8-hydroxyquinoline complex (HB-1) of the following structural formula as a material for the hole blocking layer 6, vapor deposition was performed on the light emitting layer 5. The temperature of the crucible when forming the hole blocking layer 6 is
The temperature is controlled in the range of 224 to 235 ° C, and the degree of vacuum is 6.0 × 10 -7 Torr (about
8.0 × 10 −4 Pa) and a 10 nm-thick hole blocking layer 6 were formed at a deposition rate of 0.11 nm / sec.

【0106】[0106]

【化15】 Embedded image

【0107】続いて、電子輸送層7の材料として前述の
アルミニウムの8−ヒドリキシキノリン錯体(EM−
1)と下記に示すオキサジアゾール誘導体(ET−1)
を上記正孔阻止層6の上に同様にして(EM−1):
(ET−1)=95:5(モル比)の割合で共蒸着を行
った。この時のルツボの温度はそれぞれ298〜308℃、11
8〜121℃の範囲で制御した。蒸着時の真空度は6.0×10
-7Torr(約8.0×10-5Pa)、EM−1及びET−1の蒸
着速度は0.13nm/秒で、膜厚35nmの電子輸送層7を形成
した。
Subsequently, as the material of the electron transport layer 7, the above-mentioned aluminum 8-hydroxyquinoline complex (EM-
1) and the oxadiazole derivative (ET-1) shown below
In the same manner as above on the hole blocking layer 6 (EM-1):
Co-evaporation was performed at a ratio of (ET-1) = 95: 5 (molar ratio). The temperature of the crucible at this time was 298-308 ° C and 11
The temperature was controlled in the range of 8 to 121 ° C. The degree of vacuum during evaporation is 6.0 × 10
The electron transport layer 7 having a film thickness of 35 nm was formed at -7 Torr (about 8.0 × 10 -5 Pa), at a deposition rate of EM-1 and ET-1 of 0.13 nm / sec.

【0108】[0108]

【化16】 Embedded image

【0109】なお、ホスト材料であるEM−1及びドー
パント材料であるET−1のTOF法で測定した電子移
動度は、本発明の条件を満たすものである。
The electron mobility of the host material EM-1 and the dopant material ET-1 measured by the TOF method satisfies the conditions of the present invention.

【0110】上記の陽極バッファ層3から電子輸送層7
を真空蒸着するまでの基板温度は室温に保持した。
From the anode buffer layer 3 to the electron transport layer 7
Was kept at room temperature until vacuum deposition.

【0111】ここで、電子輸送層7までの蒸着を行った
素子を一度前記真空蒸着装置内より大気中に取り出し
て、陰極蒸着用のマスクとして 2mm幅のストライプ状シ
ャドーマスクを、陽極2のITOストライプとは直交す
るように素子に密着させて、別の真空蒸着装置内に設置
して有機層と同様にして装置内の真空度が2×10-6Torr
(約2.7×10-4Pa)以下になるまで排気した。陰極8と
して、先ず、フッ化マグネシウム(MgF2)をモリブデン
ボートを用いて、蒸着速度0.1nm/秒、真空度6.0×10-6
Torr(約8.0×10-4Pa)で、1.5nmの膜厚で電子輸送層7
の上に成膜した。次に、アルミニウムを同様にモリブデ
ンボートにより加熱して、蒸着速度 0.4nm/秒、真空度
1.0×10-5Torr(約1.3×10-3Pa)で膜厚40nmのアルミニ
ウム層を形成した。さらに、その上に、陰極の導電性を
高めるために銅を、同様にモリブデンボートを用いて加
熱して、蒸着速度 0.5nm/秒、真空度8.0×10-6Torr
(約1.1×10-3Pa)で膜厚40nmの銅層を形成して陰極8
を完成させた。以上の3層型陰極8の蒸着時の基板温度
は室温に保持した。
Here, the element on which the vapor deposition up to the electron transporting layer 7 was performed was once taken out of the vacuum vapor deposition apparatus into the atmosphere, and a 2 mm wide stripe-shaped shadow mask was used as a cathode vapor deposition mask. Adhere to the element so as to be perpendicular to the stripe, and install it in another vacuum evaporation apparatus, and as in the case of the organic layer, the degree of vacuum in the apparatus is 2 × 10 -6 Torr
(About 2.7 × 10 −4 Pa) or less. As the cathode 8, first, magnesium fluoride (MgF 2 ) was deposited using a molybdenum boat at a deposition rate of 0.1 nm / sec and a degree of vacuum of 6.0 × 10 −6.
Torr (about 8.0 × 10 -4 Pa), electron transport layer 7 with a thickness of 1.5 nm
Was formed on the substrate. Next, the aluminum was similarly heated by a molybdenum boat, and the deposition rate was 0.4 nm / sec.
An aluminum layer having a thickness of 40 nm was formed at 1.0 × 10 −5 Torr (about 1.3 × 10 −3 Pa). Further, copper is further heated thereon using a molybdenum boat in order to increase the conductivity of the cathode, at a deposition rate of 0.5 nm / sec and a degree of vacuum of 8.0 × 10 −6 Torr.
(About 1.1 × 10 −3 Pa) to form a copper layer having a thickness of 40 nm and form a cathode 8
Was completed. The substrate temperature during vapor deposition of the above three-layer cathode 8 was kept at room temperature.

【0112】以上の様にして、2mm×2mm のサイズの発
光面積部分を有する有機電界発光素子を作製した。この
素子の発光特性を表1に示す。表1において、発光輝度
は250mA/cm2の電流密度での値、発光効率は 100cd/m2
での値、輝度/電流は輝度−電流密度特性の傾きを、電
圧は 100cd/m2での値を各々示す。表1にはELスペク
トルのピーク極大波長とCIE色度座標値(JIS Z870
1)を併記した。
As described above, an organic electroluminescent device having a light emitting area of 2 mm × 2 mm was manufactured. Table 1 shows the emission characteristics of this device. In Table 1, the light emission luminance is a value at a current density of 250 mA / cm 2 , and the light emission efficiency is 100 cd / m 2.
, The luminance / current shows the slope of the luminance-current density characteristic, and the voltage shows the value at 100 cd / m 2 . Table 1 shows the peak maximum wavelength of the EL spectrum and the CIE chromaticity coordinate values (JIS Z870).
1) is also described.

【0113】この素子は長期間保存後も、駆動電圧の顕
著な上昇はみられず、発光効率や輝度の低下もなく、安
定した素子の保存安定性が得られた。また、温度60℃、
湿度90%の条件で96時間放置後も、発光特性の変化は実
用上問題とはならないものであった。
[0113] Even after storage for a long period of time, no remarkable rise in driving voltage was observed, and there was no decrease in luminous efficiency or luminance, and stable storage stability of the device was obtained. In addition, temperature 60 ℃,
Even after standing for 96 hours at a humidity of 90%, the change in the light emission characteristics was not a problem in practical use.

【0114】比較例1 電子輸送層の材料として、オキサジアゾール誘導体(E
T−1)を用いず、アルミニウムの8−ヒドリキシキノ
リン錯体(EM−1)のみを用いた他は実施例1と同様
にして素子を作製した。この素子の発光特性を表1に示
す。この素子では橙色発光は得られたものの、発光効率
が大きく低下した。
Comparative Example 1 An oxadiazole derivative (E
A device was produced in the same manner as in Example 1 except that only the 8-hydroxyquinoline complex of aluminum (EM-1) was used without using T-1). Table 1 shows the emission characteristics of this device. The device emitted orange light, but the luminous efficiency was greatly reduced.

【0115】実施例2 電子輸送層のドーパント材料として、オキサジアゾール
誘導体(ET−1)に代えて下記に示すフェナントロリ
ン誘導体(ET−2)を用いた他は実施例1と同様にし
て素子を作製した。なお、このET−2について、前述
の方法で測定した電子移動度はホスト材料であるEM−
1より大きい。この素子の発光特性を表1に示す。この
素子では比較例2と比較して、発光効率が大きく改善し
た。
Example 2 An element was fabricated in the same manner as in Example 1 except that a phenanthroline derivative (ET-2) shown below was used in place of the oxadiazole derivative (ET-1) as a dopant material for the electron transport layer. Produced. For ET-2, the electron mobility measured by the method described above was EM-
Greater than 1. Table 1 shows the emission characteristics of this device. In this device, the luminous efficiency was greatly improved as compared with Comparative Example 2.

【0116】[0116]

【化17】 Embedded image

【0117】実施例3 発光層のドーピング材料として、橙色蛍光色素のベンゾ
ピラン誘導体(DYE−1)に代えて下記に示す黄色蛍
光色素のクマリン誘導体(DYE−2)を用い、ホスト
材料とEM−1:DYE−2=100:1の割合で共蒸
着を行なった他は実施例1と同様にして素子を作製し
た。この素子の発光特性を表1に示す。この素子では非
常に高い発光効率が得られた。
Example 3 As a doping material for the light emitting layer, a coumarin derivative (DYE-2) of a yellow fluorescent dye shown below was used in place of the benzopyran derivative of an orange fluorescent dye (DYE-1), and a host material and EM-1 were used. A device was prepared in the same manner as in Example 1, except that co-evaporation was performed at a ratio of: DYE-2 = 100: 1. Table 1 shows the emission characteristics of this device. In this device, very high luminous efficiency was obtained.

【0118】[0118]

【化18】 Embedded image

【0119】[0119]

【表1】 [Table 1]

【0120】[0120]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の有機電界発
光素子によれば、高い電子輸送性を示す膜質の良好な電
子輸送層を有するため、電荷注入バランスが良好で高効
率発光が可能な安定した素子を得ることができる。
As described in detail above, according to the organic electroluminescent device of the present invention, since the electron transport layer having a good film quality and high electron transportability is provided, the charge injection balance is good and high efficiency light emission is possible. A stable element can be obtained.

【0121】従って、本発明による有機電界発光素子は
フラットパネル・ディスプレイ(例えばOAコンピュー
タ用や壁掛けテレビ、車載用、屋外用表示素子)やマル
チカラー表示素子、あるいは面発光体としての特徴を生
かした光源(例えば、複写機の光源、液晶ディスプレイ
や計器類のバックライト光源)、表示板、標識灯への応
用が考えられ、特に、高効率発光が要求される光源、単
純マトリクス方式ディスプレイとしては、その技術的価
値は大きいものである。
Therefore, the organic electroluminescent device according to the present invention takes advantage of the features of a flat panel display (for example, an OA computer, a wall-mounted television, a vehicle-mounted or outdoor display device), a multi-color display device, or a surface light-emitting device. Light sources (e.g., light sources for copiers, backlight sources for liquid crystal displays and instruments), display boards, and marker lights can be considered. Its technical value is great.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の有機電界発光素子の実施の形態を示す
模式的な断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating an embodiment of an organic electroluminescent device of the present invention.

【図2】本発明の有機電界発光素子の別の実施の形態を
示す模式的な断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of the organic electroluminescent device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2 陽極 3 陽極バッファ層 4 正孔輸送層 5 発光層 6 正孔阻止層 7 電子輸送層 8 陰極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2 Anode 3 Anode buffer layer 4 Hole transport layer 5 Light emitting layer 6 Hole blocking layer 7 Electron transport layer 8 Cathode

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に、陽極、発光層、電子輸送層及
び陰極がこの順で形成された有機電界発光素子におい
て、 該電子輸送層は分子量400以上のホスト材料と、分子
量400未満のドーパント材料とを含有し、 該ドーパント材料の電子移動度が該ホスト材料の電子移
動度よりも高いことを特徴とする有機電界発光素子。
1. An organic electroluminescent device in which an anode, a light emitting layer, an electron transport layer and a cathode are formed in this order on a substrate, wherein the electron transport layer comprises a host material having a molecular weight of 400 or more and a dopant having a molecular weight of less than 400. And an electron mobility of the dopant material is higher than an electron mobility of the host material.
【請求項2】 該電子輸送層のドーパント材料が、オキ
サジアゾール誘導体、キノキサリン誘導体、及びフェナ
ントロリン誘導体よりなる群から選ばれる1種又は2種
以上であることを特徴とする請求項1に記載の有機電界
発光素子。
2. The method according to claim 1, wherein the dopant material of the electron transport layer is at least one member selected from the group consisting of oxadiazole derivatives, quinoxaline derivatives, and phenanthroline derivatives. Organic electroluminescent device.
【請求項3】 該電子輸送層のホスト材料が金属錯体で
あることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機電界
発光素子。
3. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the host material of the electron transport layer is a metal complex.
【請求項4】 該発光層と電子輸送層との間に正孔阻止
層を有し、該正孔阻止層のイオン化ポテンシャルが発光
層のイオン化ポテンシャルより0.1eV以上大きいことを
特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の有
機電界発光素子。
4. The method according to claim 1, further comprising a hole blocking layer between the light emitting layer and the electron transporting layer, wherein an ionization potential of the hole blocking layer is 0.1 eV or more larger than an ionization potential of the light emitting layer. 4. The organic electroluminescent device according to any one of items 1 to 3.
【請求項5】 該正孔阻止層が金属錯体、スチリル化合
物、トリアゾール誘導体又はフェナントロリン誘導体を
含有することを特徴とする請求項1ないし4のいずれか
1項に記載の有機電界発光素子。
5. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the hole blocking layer contains a metal complex, a styryl compound, a triazole derivative or a phenanthroline derivative.
【請求項6】 該正孔阻止層の膜厚が、0.5〜50nmの範
囲にあることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか
1項に記載の有機電界発光素子。
6. The organic electroluminescent device according to claim 1, wherein the thickness of the hole blocking layer is in the range of 0.5 to 50 nm.
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6750608B2 (en) * 2001-11-09 2004-06-15 Konica Corporation Organic electroluminescence element and display
WO2004057926A1 (en) * 2002-12-19 2004-07-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Organic electroluminescent device, light-emitting apparatus using organic electroluminescent device, and electrical appliance using such light-emitting apparatus
WO2004077889A1 (en) * 2003-02-27 2004-09-10 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Organic electroluminescent device
JP2007165171A (en) * 2005-12-15 2007-06-28 Konica Minolta Holdings Inc Organic electroluminescent element and organic electroluminescent display
US7345417B2 (en) 2002-12-19 2008-03-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
JP2008106042A (en) * 2006-09-29 2008-05-08 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Quinoxaline derivative, light emitting element, light emitting apparatus, and electronic equipment
EP2161272A1 (en) 2008-09-05 2010-03-10 Basf Se Phenanthrolines
JP2012503867A (en) * 2008-09-26 2012-02-09 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Organic electronic device and method for manufacturing the same
US8283052B2 (en) 2006-09-29 2012-10-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Quinoxaline derivative, light-emitting element, light-emitting device, and electronic appliance

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6750608B2 (en) * 2001-11-09 2004-06-15 Konica Corporation Organic electroluminescence element and display
WO2004057926A1 (en) * 2002-12-19 2004-07-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Organic electroluminescent device, light-emitting apparatus using organic electroluminescent device, and electrical appliance using such light-emitting apparatus
US7345417B2 (en) 2002-12-19 2008-03-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device
WO2004077889A1 (en) * 2003-02-27 2004-09-10 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki Organic electroluminescent device
JP2007165171A (en) * 2005-12-15 2007-06-28 Konica Minolta Holdings Inc Organic electroluminescent element and organic electroluminescent display
JP2008106042A (en) * 2006-09-29 2008-05-08 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Quinoxaline derivative, light emitting element, light emitting apparatus, and electronic equipment
US8283052B2 (en) 2006-09-29 2012-10-09 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Quinoxaline derivative, light-emitting element, light-emitting device, and electronic appliance
EP2161272A1 (en) 2008-09-05 2010-03-10 Basf Se Phenanthrolines
JP2012503867A (en) * 2008-09-26 2012-02-09 オスラム オプト セミコンダクターズ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング Organic electronic device and method for manufacturing the same

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