JP2002100032A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JP2002100032A JP2002100032A JP2000291514A JP2000291514A JP2002100032A JP 2002100032 A JP2002100032 A JP 2002100032A JP 2000291514 A JP2000291514 A JP 2000291514A JP 2000291514 A JP2000291514 A JP 2000291514A JP 2002100032 A JP2002100032 A JP 2002100032A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気記録媒体の製造方法に関し、磁気記録媒
体の保護膜上に於ける潤滑剤の存在形態を改善する旨の
簡単な手段を採ることで、潤滑剤の被覆性を向上した磁
気記録媒体を実現できるようにする。 【解決手段】 非磁性基板上に少なくとも磁気記録層及
び保護膜を積層形成する工程と、該保護膜の表面をプラ
ズマ処理してから潤滑剤を塗布する工程と、潤滑剤に紫
外線照射処理或いは熱処理或いはそれ等両方の処理を加
える工程とが含まれる。
体の保護膜上に於ける潤滑剤の存在形態を改善する旨の
簡単な手段を採ることで、潤滑剤の被覆性を向上した磁
気記録媒体を実現できるようにする。 【解決手段】 非磁性基板上に少なくとも磁気記録層及
び保護膜を積層形成する工程と、該保護膜の表面をプラ
ズマ処理してから潤滑剤を塗布する工程と、潤滑剤に紫
外線照射処理或いは熱処理或いはそれ等両方の処理を加
える工程とが含まれる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、情報通信などの分
野で多用されている磁気記録媒体の製造方法に関する。
野で多用されている磁気記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、磁気記録媒体は、非磁性支持体
上に磁性層、保護層などが積層形成され、保護層の層厚
は通常５〔ｎｍ〕〜１０〔ｎｍ〕程度であり、その上に
は例えば１〔ｎｍ〕〜２〔ｎｍ〕程度の厚さに潤滑剤が
塗布されている。
上に磁性層、保護層などが積層形成され、保護層の層厚
は通常５〔ｎｍ〕〜１０〔ｎｍ〕程度であり、その上に
は例えば１〔ｎｍ〕〜２〔ｎｍ〕程度の厚さに潤滑剤が
塗布されている。
【０００３】この潤滑剤の主たる働きは、保護膜表面に
吸着して磁気ヘッド・スライダが保護膜に直接接触する
ことを防止すること、また、磁気記録媒体と摺動可能に
接触する磁気ヘッド・スライダとの間に於ける摩擦力を
低減することにある。
吸着して磁気ヘッド・スライダが保護膜に直接接触する
ことを防止すること、また、磁気記録媒体と摺動可能に
接触する磁気ヘッド・スライダとの間に於ける摩擦力を
低減することにある。
【０００４】磁気記録再生装置は、ＣＳＳ（ｃｏｎｔａ
ｃｔ ｓｔａｒｔ ｓｔｏｐ）方式に依って駆動される
ことが普通であって、動作時には、磁気記録媒体が停止
状態から瞬時に回転加速され、それに伴って発生する空
気流に依る浮力で磁気ヘッドは浮上し、停止時には、磁
気記録媒体を回転させているモータが停止し、磁気ヘッ
ドと磁気記録媒体とが高速で接触を起こして摺動する。
ｃｔ ｓｔａｒｔ ｓｔｏｐ）方式に依って駆動される
ことが普通であって、動作時には、磁気記録媒体が停止
状態から瞬時に回転加速され、それに伴って発生する空
気流に依る浮力で磁気ヘッドは浮上し、停止時には、磁
気記録媒体を回転させているモータが停止し、磁気ヘッ
ドと磁気記録媒体とが高速で接触を起こして摺動する。
【０００５】該停止時に於ける動摩擦係数低減の為に潤
滑剤被膜を設けることは有効であるが、その潤滑剤被膜
を厚膜化した場合、磁気ヘッドと磁気記録媒体との間に
潤滑剤の表面張力に起因するマイクロメニスカスが生成
され、磁気ヘッドが磁気記録媒体に吸着したままの状態
となって起動しないことがある。
滑剤被膜を設けることは有効であるが、その潤滑剤被膜
を厚膜化した場合、磁気ヘッドと磁気記録媒体との間に
潤滑剤の表面張力に起因するマイクロメニスカスが生成
され、磁気ヘッドが磁気記録媒体に吸着したままの状態
となって起動しないことがある。
【０００６】また、磁気記録媒体の回転速度の高速化に
伴い、遠心力で潤滑剤が支持体の外周方向に飛散（スピ
ンオフ：ｓｐｉｎ ｏｆｆ）し、いわゆるマイグレーシ
ョン（ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）と呼ばれる現象が起こり、
この現象が起こった場合、潤滑剤の膜厚が減少し、耐久
性が低下する。
伴い、遠心力で潤滑剤が支持体の外周方向に飛散（スピ
ンオフ：ｓｐｉｎ ｏｆｆ）し、いわゆるマイグレーシ
ョン（ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）と呼ばれる現象が起こり、
この現象が起こった場合、潤滑剤の膜厚が減少し、耐久
性が低下する。
【０００７】従来から多用されている潤滑剤は、保護膜
に対する被覆性の面で充分な性能がなく、また、磁気記
録媒体の起動時に於けるスティクションを抑止できない
旨の問題がある。
に対する被覆性の面で充分な性能がなく、また、磁気記
録媒体の起動時に於けるスティクションを抑止できない
旨の問題がある。
【０００８】現在、磁気ヘッドと磁気記録媒体との対向
面に於けるスペーシングは、約１０〔ｎｍ〕〜２０〔μ
ｍ〕前後であるが、潤滑剤の厚さは１〔ｎｍ〕〜２〔ｎ
ｍ〕前後であり、そして、潤滑剤の厚さは約１〔ｎｍ〕
〜２〔ｎｍ〕程度であって、前記スペーシングの約１割
前後の割合を占めている。
面に於けるスペーシングは、約１０〔ｎｍ〕〜２０〔μ
ｍ〕前後であるが、潤滑剤の厚さは１〔ｎｍ〕〜２〔ｎ
ｍ〕前後であり、そして、潤滑剤の厚さは約１〔ｎｍ〕
〜２〔ｎｍ〕程度であって、前記スペーシングの約１割
前後の割合を占めている。
【０００９】今後、磁気ディスクに於ける単位面積当た
りの記録密度が向上するにつれ、前記スペーシングと潤
滑剤膜厚との割合を変えずにスペーシングのみを低減し
て２〔ｎｍ〕〜３〔ｎｍ〕程度にした場合、潤滑剤の膜
厚はサブナノメートルの領域になってくる。
りの記録密度が向上するにつれ、前記スペーシングと潤
滑剤膜厚との割合を変えずにスペーシングのみを低減し
て２〔ｎｍ〕〜３〔ｎｍ〕程度にした場合、潤滑剤の膜
厚はサブナノメートルの領域になってくる。
【００１０】通常、潤滑剤が充分な被覆性を発揮する膜
厚は２〔ｎｍ〕程度以上が必要であり、潤滑剤の膜厚が
小さくなった場合にも充分な被覆性をもつようにしなけ
ればならず、また、前記説明したスティクションの発生
や潤滑剤のスピンオフを抑止する為には、非磁性支持体
上の保護膜と潤滑剤分子とが有効に結合されて強固に固
着できるようにすることが肝要である。
厚は２〔ｎｍ〕程度以上が必要であり、潤滑剤の膜厚が
小さくなった場合にも充分な被覆性をもつようにしなけ
ればならず、また、前記説明したスティクションの発生
や潤滑剤のスピンオフを抑止する為には、非磁性支持体
上の保護膜と潤滑剤分子とが有効に結合されて強固に固
着できるようにすることが肝要である。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明では、磁気記録
媒体の保護膜上に於ける潤滑剤の存在形態を改善する旨
の簡単な手段を採ることで、潤滑剤の被覆性を向上した
磁気記録媒体を実現できるようにする。
媒体の保護膜上に於ける潤滑剤の存在形態を改善する旨
の簡単な手段を採ることで、潤滑剤の被覆性を向上した
磁気記録媒体を実現できるようにする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明では、保護膜に於
ける対潤滑剤活性点数を増加させて保護膜表面に潤滑剤
を均一且つ高密度に付着させる為、保護膜表面に活性化
処理を施すことが基本になっている。
ける対潤滑剤活性点数を増加させて保護膜表面に潤滑剤
を均一且つ高密度に付着させる為、保護膜表面に活性化
処理を施すことが基本になっている。
【００１３】活性化処理は、プラズマ処理を用い、その
後、加熱処理を加えると良いが、これは場合に依って省
略することができ、この活性化処理に依って保護膜は活
性化し、潤滑剤との結合に相応しい表面状態をもつよう
になる。
後、加熱処理を加えると良いが、これは場合に依って省
略することができ、この活性化処理に依って保護膜は活
性化し、潤滑剤との結合に相応しい表面状態をもつよう
になる。
【００１４】前記したように、保護膜に潤滑剤を塗布し
てから加熱処理を施すと、潤滑剤中の不純物や低分子成
分が飛散し、潤滑剤の配向性が向上し、耐摺動性が改善
されるのであるが、この加熱処理は紫外線照射に代替す
ることが可能であり、また、紫外線照射と加熱処理を併
用しても良い。
てから加熱処理を施すと、潤滑剤中の不純物や低分子成
分が飛散し、潤滑剤の配向性が向上し、耐摺動性が改善
されるのであるが、この加熱処理は紫外線照射に代替す
ることが可能であり、また、紫外線照射と加熱処理を併
用しても良い。
【００１５】前記活性化処理と加熱処理、紫外線処理、
加熱処理及び紫外線処理の併用などを実施することに依
り、潤滑剤塗布後の保護膜に於ける純水に対する接触角
は著しく増加し、また、保護膜に対する潤滑剤の被覆率
が著しく大きい値を示すようになる。
加熱処理及び紫外線処理の併用などを実施することに依
り、潤滑剤塗布後の保護膜に於ける純水に対する接触角
は著しく増加し、また、保護膜に対する潤滑剤の被覆率
が著しく大きい値を示すようになる。
【００１６】従って、本発明に依れば、潤滑剤を厚く塗
布することなく被覆性が良好な状態を実現して起動時の
障害などを解消することができ、今後、磁気ヘッドと磁
気記録媒体との対向面に於けるスペーシングが小さくな
って、潤滑剤の膜厚を小さくしなければならない状態に
なっても、良好な被覆性を維持することができる。
布することなく被覆性が良好な状態を実現して起動時の
障害などを解消することができ、今後、磁気ヘッドと磁
気記録媒体との対向面に於けるスペーシングが小さくな
って、潤滑剤の膜厚を小さくしなければならない状態に
なっても、良好な被覆性を維持することができる。
【００１７】ところで、目的、構成、効果が相違するの
で、本発明の先行技術ではあり得ない為、「従来の技
術」の項で触れなかったのであるが、表面の濡れ性を改
善して保護膜の密着度を向上させる旨の発明が特開平１
１−１５８６３１号公報（以下「公知発明」と呼ぶ）に
開示されているので、この発明について説明しておくこ
とは、本発明との相違点を知得する上で有用と思われ
る。
で、本発明の先行技術ではあり得ない為、「従来の技
術」の項で触れなかったのであるが、表面の濡れ性を改
善して保護膜の密着度を向上させる旨の発明が特開平１
１−１５８６３１号公報（以下「公知発明」と呼ぶ）に
開示されているので、この発明について説明しておくこ
とは、本発明との相違点を知得する上で有用と思われ
る。
【００１８】さて、本発明では、保護膜上に塗布した潤
滑剤の被覆性を評価する為、潤滑剤上に於いて純水の接
触角を測定しているのであるが、前記公知発明では、炭
素、水素を主成分とするＤＬＣ（ｄｉａｍｏｎｄ ｌｉ
ｋｅ ｃａｒｂｏｎ）薄膜の表面をフッ化し、表面に於
いて、水に対する接触角を１００°以上に高め、撥水性
を向上して物品との密着性を向上させるとしていて、両
者の間に関連性は存在しないと認識される。
滑剤の被覆性を評価する為、潤滑剤上に於いて純水の接
触角を測定しているのであるが、前記公知発明では、炭
素、水素を主成分とするＤＬＣ（ｄｉａｍｏｎｄ ｌｉ
ｋｅ ｃａｒｂｏｎ）薄膜の表面をフッ化し、表面に於
いて、水に対する接触角を１００°以上に高め、撥水性
を向上して物品との密着性を向上させるとしていて、両
者の間に関連性は存在しないと認識される。
【００１９】
【発明の実施の形態】実施の形態１ 保護膜まで積層した磁気ディスク媒体表面に対し、３０
〔秒〕間のプラズマ処理を行った。尚、プラズマ処理に
用いるガスは、酸素、窒素、アルゴンなどの何れでも良
く、また、それ等の組み合わせでも良い。
〔秒〕間のプラズマ処理を行った。尚、プラズマ処理に
用いるガスは、酸素、窒素、アルゴンなどの何れでも良
く、また、それ等の組み合わせでも良い。
【００２０】この後、大気中に於いて、媒体を温度１６
０〔℃〕、時間３０〔分〕の条件で加熱処理を施す。
尚、加熱処理を実施するにはヒータや恒温槽を用いるこ
とができ、また、場合に依っては省略することもでき
る。
０〔℃〕、時間３０〔分〕の条件で加熱処理を施す。
尚、加熱処理を実施するにはヒータや恒温槽を用いるこ
とができ、また、場合に依っては省略することもでき
る。
【００２１】この後、浸漬法に依って、媒体に潤滑剤を
約１．５〔ｎｍ〕の厚さに塗布し、再び、大気中に於い
て、１６０〔℃〕、３０〔分〕の条件で加熱処理を施
す。
約１．５〔ｎｍ〕の厚さに塗布し、再び、大気中に於い
て、１６０〔℃〕、３０〔分〕の条件で加熱処理を施
す。
【００２２】潤滑剤の膜厚は、フーリエ変換赤外分光装
置（Ｆｏｕｒｉｅｒ ｔｒａｎｓｆｏｒｍ ｉｎｆｒａ
ｒｅｄ ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＦＴ−ＩＲ）測定
に依って、Ｃ（炭素）−Ｆ（フッ素）伸縮運動の吸光度
を測定することで算出し、補正はＥＳＣＡ（ｅｌｅｃｔ
ｒｏｎ ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ ｃｈｅｍ
ｉｃａｌ ａｎａｌｙｓｉｓ）との対比により構成した
検量線を用いた。
置（Ｆｏｕｒｉｅｒ ｔｒａｎｓｆｏｒｍ ｉｎｆｒａ
ｒｅｄ ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ：ＦＴ−ＩＲ）測定
に依って、Ｃ（炭素）−Ｆ（フッ素）伸縮運動の吸光度
を測定することで算出し、補正はＥＳＣＡ（ｅｌｅｃｔ
ｒｏｎ ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ ｆｏｒ ｃｈｅｍ
ｉｃａｌ ａｎａｌｙｓｉｓ）との対比により構成した
検量線を用いた。
【００２３】前記のようにして作製した媒体表面の純水
に対する接触角を測定したところ、通常の潤滑剤塗布方
法に依ると接触角が６１．７°であるのに対し、潤滑剤
塗布前後に加熱処理を施した試料は１１３．８°と接触
角は著しく増加していた。
に対する接触角を測定したところ、通常の潤滑剤塗布方
法に依ると接触角が６１．７°であるのに対し、潤滑剤
塗布前後に加熱処理を施した試料は１１３．８°と接触
角は著しく増加していた。
【００２４】接触角の測定値から潤滑剤の被覆率を算出
したのであるが、その算出には、媒体保護膜上に潤滑剤
が島状に存在すると仮定したアイランド・モデル（ｉｓ
ｌａｎｄ ｍｏｄｅｌ）を用いた。その概略は、 ｃｏｓθ＝Ａ1 ｃｏｓθ1 ＋Ａ2 ｃｏｓθ2 （Ａ1 ＋
Ａ2 ＝１） θ1 ：物資１の滑らかな面に対するヤングの接触角 θ2 ：物資２の滑らかな面に対するヤングの接触角 θ：見掛けの接触角 Ａ1 、Ａ2 ：実際の表面を物質１及び２が占める割合
したのであるが、その算出には、媒体保護膜上に潤滑剤
が島状に存在すると仮定したアイランド・モデル（ｉｓ
ｌａｎｄ ｍｏｄｅｌ）を用いた。その概略は、 ｃｏｓθ＝Ａ1 ｃｏｓθ1 ＋Ａ2 ｃｏｓθ2 （Ａ1 ＋
Ａ2 ＝１） θ1 ：物資１の滑らかな面に対するヤングの接触角 θ2 ：物資２の滑らかな面に対するヤングの接触角 θ：見掛けの接触角 Ａ1 、Ａ2 ：実際の表面を物質１及び２が占める割合
【００２５】物質１をＦＯＭＢＬＩＮ（即ち、潤滑剤を
２００〔Å〕〜３００〔Å〕の厚さに塗布し、疑似的に
潤滑剤で保護膜が完全に覆われていると考えられる状
態、即ち、被覆率１００〔％〕の状態）、物質２をＤＬ
Ｃ（保護膜上に潤滑剤が塗布されていない状態、即ち、
被覆率０〔％〕の状態）とする。
２００〔Å〕〜３００〔Å〕の厚さに塗布し、疑似的に
潤滑剤で保護膜が完全に覆われていると考えられる状
態、即ち、被覆率１００〔％〕の状態）、物質２をＤＬ
Ｃ（保護膜上に潤滑剤が塗布されていない状態、即ち、
被覆率０〔％〕の状態）とする。
【００２６】 ｃｏｓθ＝Ａ1 ｃｏｓθ1 ＋Ａ2 ｃｏｓθ2 ｃｏｓθ＝Ａ1 ｃｏｓθ1 ＋（１−Ａ1 ）ｃｏｓθ2 Ａ1 （ｃｏｓθ1 −ｃｏｓθ2 ）＝ｃｏｓθ−ｃｏｓθ
2 Ａ1 ＝（ｃｏｓθ−ｃｏｓθ2 ）／（ｃｏｓθ1 −ｃｏ
ｓθ2 ）
2 Ａ1 ＝（ｃｏｓθ−ｃｏｓθ2 ）／（ｃｏｓθ1 −ｃｏ
ｓθ2 ）
【００２７】標準試料測定結果 ｃｏｓθ1 ＝（ＦＯＭＢＬＩＮ）＝１２８．０° ｃｏｓθ2 ＝（ＤＬＣ）＝４２．０° ○ 通常の塗布方法を適用した試料 ６１．７° 被覆率＝（ｃｏｓ６１．７°−ｃｏｓ４２．０°）／
（ｃｏｓ１２８．０°−ｃｏｓ４２．０°）＝０．１９
８ ○ 潤滑剤塗布前後に加熱した試料 ９６．０° 被覆率＝（ｃｏｓ９６．０°−ｃｏｓ４２．０°）／
（ｃｏｓ１２８．０°−ｃｏｓ４２．０°）＝０．６２
４ ○ （プラズマ処理＋潤滑剤塗布前後に加熱）した試料 １１３．８° 被覆率＝（ｃｏｓ１１３．８°−ｃｏｓ４２．０°）／
（ｃｏｓ１２８．０°−ｃｏｓ４２．０°）＝０．８４
９
（ｃｏｓ１２８．０°−ｃｏｓ４２．０°）＝０．１９
８ ○ 潤滑剤塗布前後に加熱した試料 ９６．０° 被覆率＝（ｃｏｓ９６．０°−ｃｏｓ４２．０°）／
（ｃｏｓ１２８．０°−ｃｏｓ４２．０°）＝０．６２
４ ○ （プラズマ処理＋潤滑剤塗布前後に加熱）した試料 １１３．８° 被覆率＝（ｃｏｓ１１３．８°−ｃｏｓ４２．０°）／
（ｃｏｓ１２８．０°−ｃｏｓ４２．０°）＝０．８４
９
【００２８】前記媒体に於ける潤滑剤の膜厚をＦＴ−Ｉ
Ｒで測定し、フッ素系溶媒に浸漬して浮遊成分を除去し
た後、同じくＦＴ−ＩＲで膜厚を測定した。
Ｒで測定し、フッ素系溶媒に浸漬して浮遊成分を除去し
た後、同じくＦＴ−ＩＲで膜厚を測定した。
【００２９】図１は純水の接触角〔°〕と潤滑剤残存比
〔％〕の関係を表す線図であり、横軸には純水の接触角
〔°〕を、縦軸には残存比〔％〕をそれぞれ採ってあ
り、また、図２は潤滑剤被覆率と潤滑剤残存比の関係を
表す線図であり、横軸には被覆率〔％〕を、縦軸には残
存比〔％〕をそれぞれ採ってある。
〔％〕の関係を表す線図であり、横軸には純水の接触角
〔°〕を、縦軸には残存比〔％〕をそれぞれ採ってあ
り、また、図２は潤滑剤被覆率と潤滑剤残存比の関係を
表す線図であり、横軸には被覆率〔％〕を、縦軸には残
存比〔％〕をそれぞれ採ってある。
【００３０】図に依れば、純水の接触角が１１０°以上
で、且つ、被覆率が８０〔％〕以上のものについては、
潤滑剤の膜厚の残存比が９５〔％〕以上であって、著し
く高い値を示していることが看取され、このように潤滑
剤の残存比が高い試料は起動時の動作障害が起こり難い
ことが確認されている。
で、且つ、被覆率が８０〔％〕以上のものについては、
潤滑剤の膜厚の残存比が９５〔％〕以上であって、著し
く高い値を示していることが看取され、このように潤滑
剤の残存比が高い試料は起動時の動作障害が起こり難い
ことが確認されている。
【００３１】実施の形態２ 実施の形態１に於いて説明した磁気ディスク媒体に塗布
形成する潤滑剤の厚さをサブナノメートル、即ち、０．
９〔ｎｍ〕とした他は全て同じくして完成させた試料を
用いて実験を行った。
形成する潤滑剤の厚さをサブナノメートル、即ち、０．
９〔ｎｍ〕とした他は全て同じくして完成させた試料を
用いて実験を行った。
【００３２】前記のようにして作製した媒体、即ち、保
護膜をプラズマ処理し、潤滑剤を塗布し、更に、加熱処
理を施した試料の潤滑剤表面に於ける純水に対する接触
角を測定したところ、通常の潤滑剤塗布方法に依ると接
触角が６１．７°であるのに対し、１１６．８°であっ
て、接触角は著しく増加していた。
護膜をプラズマ処理し、潤滑剤を塗布し、更に、加熱処
理を施した試料の潤滑剤表面に於ける純水に対する接触
角を測定したところ、通常の潤滑剤塗布方法に依ると接
触角が６１．７°であるのに対し、１１６．８°であっ
て、接触角は著しく増加していた。
【００３３】接触角の測定値から潤滑剤の被覆率を算出
したが、その算出には、実施の形態１と同様、媒体保護
膜上に潤滑剤が島状に存在すると仮定したアイランド・
モデル（ｉｓｌａｎｄ ｍｏｄｅｌ）を用いた。
したが、その算出には、実施の形態１と同様、媒体保護
膜上に潤滑剤が島状に存在すると仮定したアイランド・
モデル（ｉｓｌａｎｄ ｍｏｄｅｌ）を用いた。
【００３４】通常塗布方法に依る場合を被覆率１とする
と、 被覆率１＝（ｃｏｓ６１．７°−ｃｏｓ４２．０°）／
（ｃｏｓ１２８．０°−ｃｏｓ４２．０°）＝０．１９
８
と、 被覆率１＝（ｃｏｓ６１．７°−ｃｏｓ４２．０°）／
（ｃｏｓ１２８．０°−ｃｏｓ４２．０°）＝０．１９
８
【００３５】本発明に依るプラズマ処理＋熱処理の場合
を被覆率２とすると、 被覆率２＝（ｃｏｓ１１６．８°−ｃｏｓ４２．０°）
／（ｃｏｓ１２８．０°−ｃｏｓ４２．０°）＝０．８
７９ である。
を被覆率２とすると、 被覆率２＝（ｃｏｓ１１６．８°−ｃｏｓ４２．０°）
／（ｃｏｓ１２８．０°−ｃｏｓ４２．０°）＝０．８
７９ である。
【００３６】上記被覆率からすると、実施の形態２の磁
気ディスク媒体は、潤滑剤と保護膜間の付着強度が優れ
ていて、起動時の動作障害は起こり難いことが確認でき
る。
気ディスク媒体は、潤滑剤と保護膜間の付着強度が優れ
ていて、起動時の動作障害は起こり難いことが確認でき
る。
【００３７】実施の形態３ 保護膜まで積層した磁気ディスク媒体表面に対し、
３０〔秒〕間のプラズマ処理を行った。尚、プラズマ処
理に用いるガスは、酸素、窒素、アルゴンなどの何れで
も良く、また、それ等を組み合わせて用いても良い。 ディップ法を適用し、媒体に潤滑剤を約１．５〔ｎ
ｍ〕の厚さに塗布した。 保護膜に対して１２０〔秒〕間の紫外線照射を行っ
た。紫外線の波長は、１５０〔ｎｍ〕程度から２５０
〔ｎｍ〕程度の範囲で選択して良く、２種類の波長の光
源を組み合わせて用いても良い。 この後、媒体に大気中で温度１６０〔℃〕で時間３
０〔分〕間のヒーターに依る熱処理を施した。尚、この
熱処理は省略しても良い。
３０〔秒〕間のプラズマ処理を行った。尚、プラズマ処
理に用いるガスは、酸素、窒素、アルゴンなどの何れで
も良く、また、それ等を組み合わせて用いても良い。 ディップ法を適用し、媒体に潤滑剤を約１．５〔ｎ
ｍ〕の厚さに塗布した。 保護膜に対して１２０〔秒〕間の紫外線照射を行っ
た。紫外線の波長は、１５０〔ｎｍ〕程度から２５０
〔ｎｍ〕程度の範囲で選択して良く、２種類の波長の光
源を組み合わせて用いても良い。 この後、媒体に大気中で温度１６０〔℃〕で時間３
０〔分〕間のヒーターに依る熱処理を施した。尚、この
熱処理は省略しても良い。
【００３８】前記のようにして作製した媒体、即ち、保
護膜をプラズマ処理し、潤滑剤を塗布し、更に紫外線照
射と加熱処理を施した試料の潤滑剤表面に於ける純水に
対する接触角を測定したところ、通常の潤滑剤塗布方法
に依ると接触角が６１．７°であるのに対し、１１８．
０°であって、接触角は著しく増加していた。
護膜をプラズマ処理し、潤滑剤を塗布し、更に紫外線照
射と加熱処理を施した試料の潤滑剤表面に於ける純水に
対する接触角を測定したところ、通常の潤滑剤塗布方法
に依ると接触角が６１．７°であるのに対し、１１８．
０°であって、接触角は著しく増加していた。
【００３９】通常塗布方法に依る場合を被覆率１とする
と、 被覆率１＝（ｃｏｓ６１．７°−ｃｏｓ４２．０°）／
（ｃｏｓ１２８．０°−ｃｏｓ４２．０°）＝０．１９
８
と、 被覆率１＝（ｃｏｓ６１．７°−ｃｏｓ４２．０°）／
（ｃｏｓ１２８．０°−ｃｏｓ４２．０°）＝０．１９
８
【００４０】本発明に依るプラズマ処理＋紫外線照射＋
熱処理の場合を被覆率２とすると、 被覆率２＝（ｃｏｓ１１８．０°−ｃｏｓ４２．０°）
／（ｃｏｓ１２８．０°−ｃｏｓ４２．０°）＝０．８
９２ である。
熱処理の場合を被覆率２とすると、 被覆率２＝（ｃｏｓ１１８．０°−ｃｏｓ４２．０°）
／（ｃｏｓ１２８．０°−ｃｏｓ４２．０°）＝０．８
９２ である。
【００４１】上記被覆率からすると、実施の形態３の磁
気ディスク媒体は、潤滑剤と保護膜間の付着強度が優れ
ていて、起動時の動作障害は起こり難いことが確認でき
る。
気ディスク媒体は、潤滑剤と保護膜間の付着強度が優れ
ていて、起動時の動作障害は起こり難いことが確認でき
る。
【００４２】
【発明の効果】本発明に依る磁気記録媒体の製造方法に
於いては、非磁性基板上に少なくとも磁気記録層及び保
護膜を積層形成し、保護膜の表面をプラズマ処理してか
ら潤滑剤を塗布し、潤滑剤に紫外線照射処理或いは熱処
理或いはそれ等両方の処理を加える。
於いては、非磁性基板上に少なくとも磁気記録層及び保
護膜を積層形成し、保護膜の表面をプラズマ処理してか
ら潤滑剤を塗布し、潤滑剤に紫外線照射処理或いは熱処
理或いはそれ等両方の処理を加える。
【００４３】前記構成を採ることに依り、潤滑剤を厚く
塗布することなく被覆性が良好な状態を実現して起動時
の障害などを解消することができ、今後、磁気ヘッドと
磁気記録媒体との対向面に於けるスペーシングが小さく
なって、潤滑剤の膜厚を小さくしなければならない状態
になっても、良好な被覆性を維持することができる。
塗布することなく被覆性が良好な状態を実現して起動時
の障害などを解消することができ、今後、磁気ヘッドと
磁気記録媒体との対向面に於けるスペーシングが小さく
なって、潤滑剤の膜厚を小さくしなければならない状態
になっても、良好な被覆性を維持することができる。
【図１】純水の接触角〔°〕と潤滑剤残存比〔％〕の関
係を表す線図である。
係を表す線図である。
【図２】潤滑剤被覆率と潤滑剤残存比の関係を表す線図
である。
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 片岡 祐治 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内 Ｆターム(参考） 5D112 AA07 BC02 BC05 GA19 GA22 GB01
Claims (2)
- 【請求項１】非磁性基板上に少なくとも磁気記録層及び
保護膜を積層形成する工程と、 次いで、該保護膜の表面をプラズマ処理してから潤滑剤
を塗布する工程と、 その後、潤滑剤に紫外線照射処理或いは熱処理或いはそ
れ等両方の処理を加える工程とが含まれてなることを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】プラズマ処理に酸素、窒素、アルゴンのう
ちの何れか、或いは、それ等から選択して混合したガス
を用いることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000291514A JP2002100032A (ja) | 2000-09-26 | 2000-09-26 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000291514A JP2002100032A (ja) | 2000-09-26 | 2000-09-26 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002100032A true JP2002100032A (ja) | 2002-04-05 |
Family
ID=18774573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000291514A Withdrawn JP2002100032A (ja) | 2000-09-26 | 2000-09-26 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002100032A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009283099A (ja) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
-
2000
- 2000-09-26 JP JP2000291514A patent/JP2002100032A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009283099A (ja) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20071204 |