JP2002093890A - Lift pin and stage device - Google Patents

Lift pin and stage device

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JP2002093890A
JP2002093890A JP2000284324A JP2000284324A JP2002093890A JP 2002093890 A JP2002093890 A JP 2002093890A JP 2000284324 A JP2000284324 A JP 2000284324A JP 2000284324 A JP2000284324 A JP 2000284324A JP 2002093890 A JP2002093890 A JP 2002093890A
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JP
Japan
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pin
tip
lift
semiconductor wafer
stage
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JP2000284324A
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Japanese (ja)
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Haruyuki Tsuji
治之 辻
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a semiconductor wafer from being scarred or damaged, without affecting inspection processes, even if the semiconductor wafer interferes at its delivery. SOLUTION: A lift pin 10 comprises a cylindrical pin body 13 and a pin tip piece 14, placed on the tip of the pin body 13.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウエ
ハや液晶ディスプレイなどのフラットディスプレイの基
板表面を検査するために、これら基板を検査用のステー
ジ上に載置するときの受け渡しの際に基板を上方に押し
上げるリフトピン及びこれを用いたステージ装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for inspecting a substrate surface of a flat display such as a semiconductor wafer or a liquid crystal display. The present invention relates to a lift pin for pushing up and a stage device using the lift pin.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば半導体製造工程では、半導体ウエ
ハ表面における傷、ダスト、むらなどの検査が行われ
る。この検査は、半導体ウエハをステージ上に載置して
目視によるマクロ観察、又は顕微鏡を用いてのミクロ観
察が行われる。
2. Description of the Related Art For example, in a semiconductor manufacturing process, inspection for scratches, dust, unevenness, etc. on a semiconductor wafer surface is performed. In this inspection, a semiconductor wafer is placed on a stage, and macroscopic observation by visual observation or microscopic observation using a microscope is performed.

【0003】この検査に際して半導体ウエハは、ステー
ジ上に受け渡しされる。図9はステージ装置の構成図で
ある。ステージ本体1には、複数のリフトピン(例えば
3本のリフトピン)2が設けられている。これらリフト
ピン2は、図10(a)に示すように円柱状に形成された
もので、ステージ本体1を貫通して上昇、下降するよう
になっている。
At the time of this inspection, a semiconductor wafer is delivered on a stage. FIG. 9 is a configuration diagram of the stage device. The stage main body 1 is provided with a plurality of lift pins (for example, three lift pins) 2. These lift pins 2 are formed in a columnar shape as shown in FIG. 10 (a), and penetrate through the stage main body 1 to rise and fall.

【0004】ステージ本体1上に搬送ロボット等により
半導体ウエハの受け渡しの際に、先ず、各リフトピン2
がステージ本体1の上面より上方に上昇し、半導体ウエ
ハが搬送アームによってステージ本体1の上方に搬送さ
れる。次に、搬送アームが下降し、半導体ウエハを各リ
フトピン2上に載置する。この後、搬送アームは、各リ
フトピン2上に載置された半導体ウエハとステージ本体
1との間から退避し、各リフトピン2が下降することに
より半導体ウエハがステージ本体1上に載置される。
When transferring a semiconductor wafer onto the stage body 1 by a transfer robot or the like, first, each lift pin 2
Rises above the upper surface of the stage body 1, and the semiconductor wafer is transported above the stage body 1 by the transport arm. Next, the transfer arm is lowered, and the semiconductor wafer is placed on each lift pin 2. Thereafter, the transfer arm is retracted from between the semiconductor wafer mounted on each lift pin 2 and the stage main body 1, and the semiconductor wafer is mounted on the stage main body 1 as each lift pin 2 descends.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、リフト
ピン2が何らかの不具合により上昇した状態となった
り、又はステージ本体1が半導体ウエハの所定の受け渡
し位置に移動していない状態で半導体ウエハの受け渡し
が行われると、リフトピン2に対して半導体ウエハ又は
搬送アームが干渉することがある。このようにリフトピ
ン2に対して半導体ウエハ又は搬送アームが干渉する
と、半導体ウエハに傷が付いたり、破損することもあ
る。
However, the semiconductor wafer is transferred in a state where the lift pins 2 are raised due to some trouble or the stage main body 1 is not moved to a predetermined transfer position of the semiconductor wafer. Then, the semiconductor wafer or the transfer arm may interfere with the lift pins 2. When the semiconductor wafer or the transfer arm interferes with the lift pins 2 in this manner, the semiconductor wafer may be damaged or damaged.

【0006】そこで本発明は、半導体ウエハの受け渡し
するときに半導体ウエハが干渉しても半導体ウエハに傷
を付けたり、破損させることがなく、かつ検査工程に影
響を与えないリフトピン及びステージ装置を提供するこ
とを目的とする。
Accordingly, the present invention provides a lift pin and a stage device which do not damage or damage the semiconductor wafer even if the semiconductor wafer interferes with the transfer of the semiconductor wafer, and which does not affect the inspection process. The purpose is to do.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1記載による本発
明は、ステージ上に被載置体を受け渡すときに前記被載
置体を支持するもので、ピン本体と、このピン本体の先
端に横方向からの押圧により離脱可能に載せられたピン
先端片とから構成されたことを特徴とするリフトピンで
ある。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an apparatus for supporting a mounted body when transferring the mounted body on a stage, comprising a pin body and a tip of the pin body. And a pin tip piece removably mounted by being pressed from the lateral direction.

【0008】請求項2記載による本発明は、請求項1記
載のリフトピンにおいて、ピン本体の先端から前記ピン
先端片が外れたことを検出する検出手段を設けたことを
特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, in the lift pin according to the first aspect, detection means for detecting that the pin tip piece has come off from the tip end of the pin body is provided.

【0009】請求項3記載による本発明は、請求項2記
載のリフトピンにおいて、前記検出手段は、前記ピン本
体の内部孔を通して前記ピン先端片を吸引し、この吸引
力の変化により前記ピン先端片が外れたことを検出する
ことを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the lift pin according to the second aspect, the detecting means sucks the pin tip piece through an internal hole of the pin body, and the pin tip piece is changed by a change in the suction force. Is detected to be off.

【0010】請求項4記載による本発明は、請求項2記
載のリフトピンにおいて、前記検出手段は、前記ピン本
体と前記ピン先端片との間の磁気的、電気的又は光学的
な変化により前記ピン先端片が外れたことを検出するこ
とを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the lift pin according to the second aspect, the detecting means is configured to detect the pin by a magnetic, electric or optical change between the pin body and the pin tip. It is characterized by detecting that the tip piece has come off.

【0011】請求項5記載による本発明は、ステージ上
に被載置体を受け渡すときに前記被載置体を支持するも
ので、ピン本体と、このピン本体の先端に横方向からの
押圧により傾動可能に設けられたピン先端片とこのピン
先端片を復帰させるばね部材とから構成されたことを特
徴とするリフトピンである。
According to a fifth aspect of the present invention, the object to be mounted is supported when the object to be mounted is transferred on a stage, and a pin body and a distal end of the pin body are pressed laterally. A lift pin comprising: a pin tip piece provided so as to be capable of tilting according to (1); and a spring member for returning the pin tip piece.

【0012】請求項6記載による本発明は、被載置体を
載置するためのステージ本体と、このステージ本体に複
数箇所設けられ、前記ステージ本体上に前記被載置体を
受け渡すときに前記被載置体を支持するもので、ピン本
体と、このピン本体の先端に横方向からの押圧により離
脱または傾動可能に設けられたピン先端片とからなる複
数のリフトピンと、前記被載置体を受け渡すときに前記
各リフトピンを前記ステージ本体に対して上昇、下降さ
せる昇降機構とを具備したことを特徴とするステージ装
置である。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a stage body for mounting a body to be mounted, and a plurality of stages provided on the stage body for transferring the body to the stage body. A plurality of lift pins for supporting the object to be mounted, the plurality of lift pins including a pin body, and a pin tip piece provided at a tip of the pin body so as to be detachable or tiltable by lateral pressing. A stage device, comprising: a lifting mechanism that raises and lowers each of the lift pins with respect to the stage main body when transferring a body.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】(1)以下、本発明の第1の実施の
形態について図面を参照して説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (1) Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0014】図1は本発明のリフトピンを適用したステ
ージ装置の構成図である。ステージ本体1には、複数の
リフトピン、例えば3本のリフトピン10がステージ本
体1を貫通して昇降可能に設けられている。これらリフ
トピン10は、ステージ本体1の3箇所に形成された各
リフトピン10の昇降用の孔11に挿入されている。な
お、これら3箇所は、半導体ウエハ12を支持するため
に最も安定する三角形を形成する各点である。
FIG. 1 is a configuration diagram of a stage device to which a lift pin according to the present invention is applied. A plurality of lift pins, for example, three lift pins 10 are provided on the stage main body 1 so as to be able to move up and down through the stage main body 1. These lift pins 10 are inserted into holes 11 for lift of each lift pin 10 formed at three places of the stage main body 1. These three points are points that form the most stable triangle for supporting the semiconductor wafer 12.

【0015】3本のリフトピン10は、図2(a)に示す
ように昇降機構に取り付けられた円柱状のピン本体13
と、このピン本体13の先端に横方向からの押圧により
離脱可能に載せられたピン先端片14とから構成されて
いる。これらピン先端片14は、半導体ウエハ12に汚
れが付きにくくかつ滑りにくいプラスチック系の樹脂、
例えばPEEK(ポリエチレン・エーテル・ケトン)に
より形成されている。このうちピン本体13には、真空
吸引用の孔(以下、吸引孔と称する)15が形成されて
いる。このピン本体13の先端には、円形状の浅い溝1
6が形成されている。又、ピン先端片14は、ピン本体
13と同様に同一半径の円柱状に形成され、その下部に
はピン本体13の溝16に嵌め合う形状の凸部17が形
成されている。この凸部17の縁とピン本体13の底部
の縁には、横方向からの押圧を受けたときに溝16から
容易に離脱できるようにそれぞれ面取り18、19が形
成されている。
The three lift pins 10 are, as shown in FIG. 2A, a columnar pin body 13 attached to a lifting mechanism.
And a pin tip piece 14 mounted on the tip of the pin main body 13 so as to be detachable by pressing in the lateral direction. These pin tip pieces 14 are made of a plastic-based resin that is hardly stained and slippery on the semiconductor wafer 12,
For example, it is formed of PEEK (polyethylene ether ketone). The pin body 13 has a vacuum suction hole (hereinafter referred to as a suction hole) 15 formed therein. The tip of the pin body 13 has a circular shallow groove 1
6 are formed. Further, the pin tip piece 14 is formed in a columnar shape having the same radius as the pin body 13, and a projection 17 having a shape to be fitted into the groove 16 of the pin body 13 is formed below the pin tip piece 14. Chamfers 18 and 19 are formed on the edge of the convex portion 17 and the edge of the bottom of the pin body 13 so that the chamfers 18 and 19 can be easily separated from the groove 16 when pressed from the lateral direction.

【0016】これらリフトピン10は、上記図2(a)に
示す構造に限らず、同図(b)(c)に示す構造にしてもよ
い。同図(b)に示すリフトピン10は、同図(a)に示すリ
フトピン10におけるピン先端片14の半導体ウエハ1
2と接触する部分(ピン頭)を半球形14aに形成した
ものである。このようにピン先端片14のピン頭を半球
形14aに形成することにより、半導体ウエハ12と接
触する部分が小さくなり、半導体ウエハ12に対する汚
染がさらに減少する。
The lift pins 10 are not limited to the structure shown in FIG. 2A, but may have the structure shown in FIGS. 2B and 2C. The lift pins 10 shown in FIG. 4B are the same as the lift pins 10 shown in FIG.
The portion (pin head) that comes into contact with 2 is formed in a hemispherical shape 14a. By forming the pin head of the pin tip piece 14 into a hemispherical shape 14a in this manner, the portion in contact with the semiconductor wafer 12 is reduced, and contamination on the semiconductor wafer 12 is further reduced.

【0017】又、同図(c)に示すリフトピン10は、上
記図2(a)に示すリフトピン10と同様に、円柱状のピ
ン本体13と、このピン本体13の先端に離脱可能に載
せられたピン先端片14とから構成されている。このう
ちピン本体13の先端には、円錐状の溝20が形成され
ている。又、ピン先端片14は、その下部にピン本体1
3の溝20に嵌め合う形状の円錐状の凸部21が形成さ
れている。
The lift pin 10 shown in FIG. 2C is, like the lift pin 10 shown in FIG. 2A, mounted on a columnar pin body 13 and detachably mounted on the tip of the pin body 13. And a pin tip piece 14. A conical groove 20 is formed at the tip of the pin body 13. The pin tip piece 14 has the pin body 1
A conical convex portion 21 having a shape to be fitted in the third groove 20 is formed.

【0018】これらリフトピン10は、図3に示すよう
にそれぞれ吸引用チューブ22〜24を介して真空セン
サ25に接続され、さらに吸引用チューブ26を介して
真空吸引装置27に接続されている。従って、各リフト
ピン10は、真空吸引装置27による真空吸引動作によ
りピン本体13の先端に対してピン先端片14が吸引さ
れて固定された状態になっている。なお、真空吸引装置
27による真空吸引力は、ピン先端片14が搬送ロボッ
ト等による基板の受け渡し時にぐら付かない程度に保持
可能な吸引力である。
As shown in FIG. 3, the lift pins 10 are connected to a vacuum sensor 25 via suction tubes 22 to 24, respectively, and further connected to a vacuum suction device 27 via a suction tube 26. Therefore, each lift pin 10 is in a state where the pin tip piece 14 is sucked and fixed to the tip of the pin body 13 by the vacuum suction operation of the vacuum suction device 27. Note that the vacuum suction force by the vacuum suction device 27 is a suction force that can be held to such an extent that the pin tip pieces 14 are not loose when the substrate is transferred by a transfer robot or the like.

【0019】真空センサ25は、3本のリフトピン10
においてピン本体13の先端にピン先端片14がそれぞ
れ載っている正常状態での真空圧力と、例えば少なくと
も1本のリフトピン10においてピン本体13の先端か
らピン先端片14が外れたときの圧力との違いを検出
し、ピン本体13の先端からピン先端片14が外れたこ
とを検出する検出手段としての機能を有している。
The vacuum sensor 25 includes three lift pins 10
Of the vacuum pressure in the normal state in which the pin tip pieces 14 are respectively mounted on the tip ends of the pin body 13, and the pressure when the pin tip pieces 14 come off from the tip of the pin body 13 in at least one lift pin 10, for example. It has a function as a detecting means for detecting a difference and detecting that the pin tip piece 14 has come off from the tip of the pin body 13.

【0020】この真空センサ25は、ピン本体13の先
端からピン先端片14が外れたことを検出したとき、そ
の旨を例えば表示したり、ブザー等により報知する機能
を有している。
The vacuum sensor 25 has a function of, when detecting that the pin tip piece 14 has come off from the tip of the pin main body 13, displaying the fact, for example, or notifying by a buzzer or the like.

【0021】昇降機構28は、ステージ本体1上に搬送
ロボットにより半導体ウエハ12を受け渡しするとき
に、3本のリフトピン10を上昇させ、この状態に半導
体ウエハ12が搬送アーム等によっステージ本体1の上
方に搬送され、次に搬送アームが下降し、半導体ウエハ
12が3本のリフトピン10上に載置されてから搬送ア
ームが退避された後に、3本のリフトピン10を下降さ
せて半導体ウエハ12をステージ本体1上に載置させる
機能を有している。
The lifting mechanism 28 raises the three lift pins 10 when transferring the semiconductor wafer 12 onto the stage body 1 by the transfer robot. In this state, the semiconductor wafer 12 is moved by the transfer arm or the like to the stage body 1. The semiconductor wafer 12 is transported upward, then the transport arm is lowered, and after the semiconductor wafer 12 is placed on the three lift pins 10 and the transport arm is retracted, the semiconductor wafer 12 is lowered by lowering the three lift pins 10. It has a function of being placed on the stage main body 1.

【0022】次に、上記の如く構成されたリフトピン1
0を備えたステージ装置の作用について図4を参照して
説明する。
Next, the lift pin 1 constructed as described above is used.
The operation of the stage device provided with 0 will be described with reference to FIG.

【0023】ステージ本体1上へ半導体ウエハの受け渡
しを行う待機状態には、3本のリフトピン10は、図4
(a)に示すように昇降機構28によって下降し、ステー
ジ本体1の下方に降りている。
In a standby state for transferring the semiconductor wafer onto the stage body 1, the three lift pins 10
As shown in (a), it is lowered by the elevating mechanism 28 and is lowered below the stage main body 1.

【0024】ステージ本体1上に半導体ウエハを受け渡
すとき、3本のリフトピン10は、同図(b)に示すよう
に昇降機構28によって上昇し、ステージ本体1の各孔
11から突出する。
When the semiconductor wafer is transferred onto the stage main body 1, the three lift pins 10 are raised by the elevating mechanism 28 as shown in FIG.

【0025】次に、半導体ウエハ12が同図(c)に示す
ように搬送アーム29上に保持されてステージ本体1の
上方に搬送される。
Next, the semiconductor wafer 12 is held on the transfer arm 29 and transferred above the stage body 1 as shown in FIG.

【0026】次に、搬送アーム29が下降し、半導体ウ
エハ12を3本のリフトピン10上に載置する。この
後、搬送アーム29は、3本のリフトピン10上に載置
された半導体ウエハ12とステージ本体1との間から退
避する。
Next, the transfer arm 29 is lowered, and the semiconductor wafer 12 is placed on the three lift pins 10. Thereafter, the transfer arm 29 is retracted from between the semiconductor wafer 12 mounted on the three lift pins 10 and the stage body 1.

【0027】この後、3本のリフトピン10は、昇降機
構28によって下降し、これによって半導体ウエハ12
はステージ本体1上に載置される。
Thereafter, the three lift pins 10 are moved down by the elevating mechanism 28, whereby the semiconductor wafer 12
Is mounted on the stage body 1.

【0028】一方、ステージ本体1上から半導体ウエハ
12を搬出するときは、ステージ本体1上に半導体ウエ
ハ12を載置するときの動作と逆で、先ず、3本のリフ
トピン10は、同図(c)に示すように昇降機構28によ
って上昇し、半導体ウエハ12を持ち上げる。この状態
に、搬送アーム29は、3本のリフトピン10上に載置
された半導体ウエハ12とステージ本体1との間に挿入
される。
On the other hand, when the semiconductor wafer 12 is unloaded from the stage main body 1, the operation for mounting the semiconductor wafer 12 on the stage main body 1 is reversed. First, the three lift pins 10 are The semiconductor wafer 12 is lifted by the lifting mechanism 28 as shown in c). In this state, the transfer arm 29 is inserted between the semiconductor wafer 12 mounted on the three lift pins 10 and the stage main body 1.

【0029】次に、搬送アーム29は、上昇し、3本の
リフトピン10上に載置された半導体ウエハ12を保持
し、この状態で半導体ウエハ12を所定の場所に搬送す
る。
Next, the transfer arm 29 moves up, holds the semiconductor wafer 12 placed on the three lift pins 10, and transfers the semiconductor wafer 12 to a predetermined place in this state.

【0030】次に、3本のリフトピン10は、同図(b)
(a)に示すように昇降機構28によって下降する。
Next, the three lift pins 10 are
As shown in (a), it is lowered by the lifting mechanism 28.

【0031】ところで、以上のような半導体ウエハ12
のステージ本体1上への受け渡しのときに、リフトピン
10が何らかの不具合により上昇した状態となったり、
又はステージ本体1が半導体ウエハ12の所定の受け渡
し位置に移動していない状態で半導体ウエハ12の受け
渡しが行われると、リフトピン10に対して半導体ウエ
ハ12又は搬送アーム29が干渉することがある。
By the way, the semiconductor wafer 12 as described above
At the time of transfer to the stage main body 1, the lift pin 10 is in a state of being raised due to some trouble,
Alternatively, if the semiconductor wafer 12 is delivered while the stage main body 1 is not moved to the predetermined delivery position of the semiconductor wafer 12, the semiconductor wafer 12 or the transfer arm 29 may interfere with the lift pins 10.

【0032】このようにリフトピン10に対して半導体
ウエハ12又は搬送アーム29が干渉すると、図5に示
すように少なくとも1本のリフトピン10におけるピン
本体13の先端からピン先端片14が外れる。このとき
半導体ウエハ12又は搬送アーム29がリフトピン10
に干渉しても、ピン先端片14が外れることから半導体
ウエハ12には傷等を与えることはない。
When the semiconductor wafer 12 or the transfer arm 29 interferes with the lift pins 10 as described above, the pin tip pieces 14 come off from the tips of the pin bodies 13 of at least one lift pin 10 as shown in FIG. At this time, the semiconductor wafer 12 or the transfer arm 29 is
Does not damage the semiconductor wafer 12 because the pin tip pieces 14 come off.

【0033】真空センサ25は、3本のリフトピン10
においてピン本体13の先端にピン先端片14がそれぞ
れ載っている正常状態での真空圧力と、例えば少なくと
も1本のリフトピン10においてピン本体13の先端か
らピン先端片14が外れたときの圧力との違いを検出
し、ピン本体13の先端からピン先端片14が外れたこ
とを検出する。そして、真空センサ25は、その旨を表
示したり、ブザー等により報知する。
The vacuum sensor 25 includes three lift pins 10
Of the vacuum pressure in the normal state in which the pin tip pieces 14 are respectively mounted on the tip ends of the pin body 13, and the pressure when the pin tip pieces 14 come off from the tip of the pin body 13 in at least one lift pin 10, for example. The difference is detected, and it is detected that the pin tip piece 14 has come off from the tip of the pin body 13. Then, the vacuum sensor 25 displays the fact or notifies the user with a buzzer or the like.

【0034】従って、半導体ウエハ12の検査員は、半
導体ウエハ12又は搬送アーム29がリフトピン10に
干渉しても、ピン先端片14が外れたことを認識し、外
れたピン先端片14を拾って当該リフトピン10のピン
本体13の先端に載せるだけで検査を継続できる。
Therefore, the inspector of the semiconductor wafer 12 recognizes that the pin tip piece 14 has come off even if the semiconductor wafer 12 or the transfer arm 29 interferes with the lift pins 10, and picks up the detached pin tip piece 14. The inspection can be continued simply by placing the lift pin 10 on the tip of the pin body 13.

【0035】このように上記第1の実施の形態において
は、円柱状のピン本体13と、このピン本体13の先端
に離脱可能に載せられたピン先端片14とからリフトピ
ン10を構成したので、何らかの不具合によりリフトピ
ン10に対して半導体ウエハ12又は搬送アーム29が
干渉したとしても、ピン本体13の先端からピン先端片
14が横からの押圧を受けて外れることから半導体ウエ
ハ12には傷等を与えることはない。
As described above, in the first embodiment, the lift pin 10 is constituted by the cylindrical pin body 13 and the pin tip piece 14 detachably mounted on the tip of the pin body 13. Even if the semiconductor wafer 12 or the transfer arm 29 interferes with the lift pins 10 due to some kind of trouble, the pin tip pieces 14 come off from the tip of the pin main body 13 by being pressed from the side, so that the semiconductor wafer 12 is not damaged. I will not give.

【0036】又、半導体ウエハ12又は搬送アーム29
との干渉により外れたピン先端片14は、当該リフトピ
ン10のピン本体13の先端に載せるだけでリフトピン
10として直ぐに復帰でき、半導体ウエハ12の検査を
直ぐに開始できる。
The semiconductor wafer 12 or the transfer arm 29
The pin tip piece 14 which has come off due to the interference with the lift pin 10 can be immediately returned as the lift pin 10 simply by being placed on the tip of the pin body 13 of the lift pin 10, and the inspection of the semiconductor wafer 12 can be started immediately.

【0037】又、真空センサ25により3本のリフトピ
ン10においてピン本体13の先端にピン先端片14が
それぞれ載っている正常状態での真空圧力と、例えば少
なくとも1本のリフトピン10においてピン本体13の
先端からピン先端片14が外れたときの圧力との違いか
らピン本体13の先端からピン先端片14が外れたこと
を検出するので、正常状態とピン先端片14が外れたエ
ラー状態とを区別でき、ピン本体13の先端からピン先
端片14が外れたときに直ぐに検出でき、かつ真空吸引
装置27による真空吸引力のピン先端片14を保持可能
な程度のものなので、ピン先端片14が外れたとき真空
吸引力により半導体ウエハ12に影響を与えることはな
い。
Further, the vacuum pressure in the normal state in which the pin tip pieces 14 are mounted on the tips of the pin bodies 13 of the three lift pins 10 by the vacuum sensor 25, for example, the pressure of the pin body 13 in at least one lift pin 10 Since it is detected that the pin tip piece 14 has come off from the tip of the pin body 13 based on the difference between the pressure when the pin tip piece 14 comes off from the tip, the normal state is distinguished from the error state in which the pin tip piece 14 has come off. Can be detected immediately when the pin tip 14 comes off from the tip of the pin body 13, and the pin tip 14 of the vacuum suction force by the vacuum suction device 27 can be held, so that the pin tip 14 comes off. Does not affect the semiconductor wafer 12 by the vacuum suction force.

【0038】(2)次に、本発明の第2の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。なお、図1と同一部分に
は同一符号を付してその詳しい説明は省略する。
(2) Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0039】図6は本発明のリフトピンを適用したステ
ージ装置の構成図である。このステージ装置は、リフト
ピン10のピン本体13の先端からピン先端片14が外
れたことを検出する検出手段を別構成にしたところが上
記第1の実施の形態と異なる。この検出手段は、ピン本
体13の先端に載せられるピン先端片14の領域をレー
ザ光により走査してピン先端片14が外れたことを検出
するものである。具体的には、レーザセンサ30と、こ
のレーザセンサ30からステージ本体1上を介して対向
する位置に配置されたミラー31とから構成されてい
る。これらレーザセンサ30とミラー31とは、ステー
ジ本体1上を一体的に例えばx方向に走査するものとな
っている。レーザセンサ30は、レーザ光を出力し、ミ
ラー31からの反射レーザ光を受光してその反射レーザ
光の受光量からピン先端片14の有無を検出する機能を
有している。
FIG. 6 is a configuration diagram of a stage device to which the lift pin of the present invention is applied. This stage device is different from the first embodiment in that a detecting means for detecting that the pin tip piece 14 has come off from the tip of the pin main body 13 of the lift pin 10 has a different configuration. This detecting means scans the area of the pin tip piece 14 placed on the tip end of the pin body 13 with laser light and detects that the pin tip piece 14 has come off. Specifically, it is composed of a laser sensor 30 and a mirror 31 arranged at a position facing the laser sensor 30 via the stage body 1. The laser sensor 30 and the mirror 31 integrally scan the stage body 1 in the x direction, for example. The laser sensor 30 has a function of outputting a laser beam, receiving the reflected laser beam from the mirror 31, and detecting the presence or absence of the pin tip piece 14 based on the amount of the reflected laser beam received.

【0040】なお、レーザセンサ30に代えてレーザ発
振器を設け、かつミラー31に代えて光受光器を設けて
もよい。この場合、レーザ発振器から出力されたレーザ
光を光受光器により受光し、そのレーザ光の受光量から
ピン先端片14の有無を検出するものとなる。
Incidentally, a laser oscillator may be provided in place of the laser sensor 30, and a light receiver may be provided in place of the mirror 31. In this case, the laser light output from the laser oscillator is received by the optical receiver, and the presence or absence of the pin tip 14 is detected from the amount of the received laser light.

【0041】このような構成であれば、ステージ本体1
上へに半導体ウエハの受け渡しを行うとき、3本のリフ
トピン10は、昇降機構28によって上昇し、ステージ
本体1の各孔11から突出する。次に、半導体ウエハ1
2が搬送アーム29上に保持されてステージ本体1の上
方に搬送される。
With such a configuration, the stage body 1
When transferring the semiconductor wafer upward, the three lift pins 10 are raised by the lifting mechanism 28 and protrude from the holes 11 of the stage body 1. Next, the semiconductor wafer 1
2 is held on the transfer arm 29 and transferred above the stage body 1.

【0042】このとき何らかの不具合によりリフトピン
10に対して半導体ウエハ12又は搬送アーム29が干
渉すると、少なくとも1本のリフトピン10におけるピ
ン本体13の先端からピン先端片14が外れる。
At this time, if the semiconductor wafer 12 or the transfer arm 29 interferes with the lift pins 10 due to some problem, the pin tip piece 14 comes off from the tip of the pin body 13 of at least one lift pin 10.

【0043】レーザセンサ30とミラー31とは、ステ
ージ本体1上を一体的に例えばx方向に走査しながらレ
ーザセンサ30からレーザ光を出力し、ミラー31から
の反射レーザ光を受光してその反射レーザ光の受光量か
らピン先端片14の有無を検出する。
The laser sensor 30 and the mirror 31 output laser light from the laser sensor 30 while scanning the stage body 1 integrally in, for example, the x direction, receive reflected laser light from the mirror 31 and reflect the reflected laser light. The presence or absence of the pin tip piece 14 is detected from the amount of laser light received.

【0044】例えば3本のリフトピン10が正常状態で
あれば、レーザセンサ30とミラー31との1回の走査
により3箇所で各ピン先端片14によりレーザ光が遮蔽
されて受光量が少なくなる。
For example, when the three lift pins 10 are in a normal state, the laser beam is shielded by the pin tip pieces 14 at three places by one scanning of the laser sensor 30 and the mirror 31, and the amount of received light is reduced.

【0045】ところが、少なくとも1本のリフトピン1
0におけるピン先端片14が外れていると、レーザ光を
遮蔽するピン先端片14が1本少ないので、レーザセン
サ30とミラー31との1回の走査により2箇所でレー
ザ光が遮蔽されて受光量が少なくなる。
However, at least one lift pin 1
If the pin tip piece 14 at 0 is off, there is one less pin tip piece 14 for blocking the laser beam, so that the laser beam is blocked and received at two locations by one scan of the laser sensor 30 and the mirror 31. The amount is reduced.

【0046】従って、レーザ光が遮蔽される箇所数でピ
ン本体13の先端からピン先端片14が外れたことが検
出できる。又、正常状態にレーザ光が遮蔽される3箇所
の位置と例えば1本のピン先端片14が外れてレーザ光
が遮蔽された2箇所の位置とに基づいてピン先端片14
が外れたリフトピン10の位置が分る。
Accordingly, it can be detected that the pin tip piece 14 has come off the tip of the pin body 13 at the number of places where the laser beam is blocked. Also, the pin tip 14 is determined based on the three positions where the laser light is shielded in the normal state and the two positions where the laser light is shielded by removing one pin tip 14, for example.
The position of the lift pin 10 from which has been removed can be seen.

【0047】なお、この第2の実施の形態によれば、上
記第1の実施の形態の効果と同様の効果を奏することは
言うまでもない。
According to the second embodiment, it goes without saying that the same effects as those of the first embodiment can be obtained.

【0048】(3)次に、本発明の第3の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。なお、図1と同一部分に
は同一符号を付してその詳しい説明は省略する。
(3) Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0049】図7は本発明のリフトピンを適用したステ
ージ装置の構成図である。このステージ装置は、リフト
ピン40の構造を変えたところが上記第1の実施の形態
と異なる。このリフトピン40は、ピン本体41と、こ
のピン本体41の先端に対して倒れ、起き上がり自在に
設けられたピン先端片42とから構成されている。これ
らピン本体41とピン先端片42との間は、回動軸43
により搬送アームの挿入方向(矢印イ方向)に回動自在
に連結されている。又、ピン本体41とピン先端片42
との内部には、これらピン本体41及びピン先端片42
を貫いてばね部材44が設けられている。従って、ピン
先端片42は、矢印イ方向からの押圧を受けてピン本体
41に対して回動軸43を中心に倒れても、ピン先端片
42に加わっている押圧が取り除かれるとばね部材44
の復帰力により起き上がるようになっている。
FIG. 7 is a configuration diagram of a stage device to which the lift pin of the present invention is applied. This stage device is different from the first embodiment in that the structure of the lift pins 40 is changed. The lift pin 40 is composed of a pin body 41 and a pin tip piece 42 that is provided so as to be capable of falling and rising with respect to the tip of the pin body 41. A rotation shaft 43 is provided between the pin body 41 and the pin tip piece 42.
Thus, the transfer arm is connected rotatably in the insertion direction of the transfer arm (the direction of arrow A). Also, the pin body 41 and the pin tip piece 42
The pin body 41 and the pin tip piece 42
Is provided through the spring member 44. Therefore, even if the pin tip piece 42 falls down around the rotation shaft 43 with respect to the pin main body 41 in response to the pressing in the direction of the arrow A, the spring member 44 is released when the pressure applied to the pin tip piece 42 is removed.
It comes to get up by the return power of.

【0050】これらリフトピン40は、搬送アーム29
がステージ本体1上に入り込みかつ退避する方向と同一
方向にピン先端片42が回動する方向を一致させてい
る。
The lift pins 40 are connected to the transfer arm 29
The direction in which the pin tip piece 42 rotates coincides with the direction in which the pin tip piece 42 enters and retracts on the stage main body 1.

【0051】このような構成であれば、ステージ本体1
上へに半導体ウエハの受け渡しを行うとき、3本のリフ
トピン40は、昇降機構28によって上昇し、ステージ
本体1の各孔11から突出する。次に、半導体ウエハ1
2が搬送アーム29上に保持されてステージ本体1の上
方に搬送される。
With such a configuration, the stage body 1
When the semiconductor wafer is transferred upward, the three lift pins 40 are raised by the lifting mechanism 28 and protrude from the holes 11 of the stage main body 1. Next, the semiconductor wafer 1
2 is held on the transfer arm 29 and transferred above the stage body 1.

【0052】このとき何らかの不具合によりリフトピン
40に対して半導体ウエハ12又は搬送アーム29が干
渉すると、少なくとも1本のリフトピン40におけるピ
ン先端片42が回動軸43を中心に倒れる。このように
ピン先端片42が倒れても、このピン先端片42は、ば
ね部材44の復帰力により起き上がる。これにより、ピ
ン先端片42は、半導体ウエハ12の底面で起き上が
り、半導体ウエハ12を支持可能となる。
At this time, if the semiconductor wafer 12 or the transfer arm 29 interferes with the lift pins 40 due to some problem, the pin tip pieces 42 of at least one lift pin 40 fall around the rotation shaft 43. Even if the pin tip piece 42 falls down, the pin tip piece 42 is raised by the return force of the spring member 44. Thus, the pin tip pieces 42 rise up on the bottom surface of the semiconductor wafer 12 and can support the semiconductor wafer 12.

【0053】なお、この第3の実施の形態によれば、上
記第1の実施の形態の効果と同様の効果を奏することは
言うまでもない。
According to the third embodiment, it goes without saying that the same effect as the first embodiment can be obtained.

【0054】なお、本発明は、上記第1乃至第3の実施
の形態に限定されるものでなく、実施段階ではその要旨
を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。
The present invention is not limited to the above-described first to third embodiments, and various modifications can be made in the implementation stage without departing from the scope of the invention.

【0055】さらに、上記実施形態には、種々の段階の
発明が含まれており、開示されている複数の構成要件に
おける適宜な組み合わせにより種々の発明が抽出でき
る。例えば、実施形態に示されている全構成要件から幾
つかの構成要件が削除されても、発明が解決しようとす
る課題の欄で述べた課題が解決でき、発明の効果の欄で
述べられている効果が得られる場合には、この構成要件
が削除された構成が発明として抽出できる。例えば、ピ
ン先端片の離脱または傾動状態を検出するセンサとし
て、磁気スイッチ等の磁気的変化を検出する磁気センサ
や、ピン先端片からの反射光を検知する反射受光電セン
サや、リフトピン本体とピン先端片との電気的接触を検
知するマイクロスイッチや、リードスイッチ等の電気セ
ンサを用いることもできる。
Further, the above embodiments include inventions at various stages, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of disclosed constituent features. For example, even if some components are deleted from all the components shown in the embodiment, the problem described in the column of the problem to be solved by the invention can be solved, and the problem described in the column of the effect of the invention can be solved. In the case where a certain effect can be obtained, a configuration from which this configuration requirement is deleted can be extracted as an invention. For example, as a sensor for detecting the detachment or tilting state of the pin tip piece, a magnetic sensor for detecting a magnetic change such as a magnetic switch, a reflected light receiving electric sensor for detecting light reflected from the pin tip piece, a lift pin body and a pin An electric sensor such as a microswitch that detects electric contact with the tip piece or a reed switch can also be used.

【0056】[0056]

【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、半
導体ウエハの受け渡しするときに半導体ウエハが干渉し
ても半導体ウエハに傷を付けたり、破損させることがな
く、かつ検査工程に影響を与えないリフトピン及びステ
ージ装置を提供できる。
As described above in detail, according to the present invention, even if the semiconductor wafer interferes with the transfer of the semiconductor wafer, the semiconductor wafer is not damaged or damaged, and does not affect the inspection process. And a lift device and a stage device that do not provide the same.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係わるリフトピンを適用したステージ
装置の第1の実施の形態を示す構成図。
FIG. 1 is a configuration diagram showing a first embodiment of a stage device to which a lift pin according to the present invention is applied.

【図2】本発明に係わるリフトピンを適用したステージ
装置の第1の実施の形態におけるリフトピンの構造図。
FIG. 2 is a structural diagram of a lift pin in the first embodiment of the stage device to which the lift pin according to the present invention is applied.

【図3】本発明に係わるリフトピンを適用したステージ
装置の第1の実施の形態におけるリフトピンに対する真
空吸引装置の接続を示す図。
FIG. 3 is a diagram showing connection of a vacuum suction device to the lift pins in the first embodiment of the stage device to which the lift pins according to the present invention are applied.

【図4】本発明に係わるリフトピンを適用したステージ
装置の第1の実施の形態における半導体ウエハの受け渡
し動作を示す図。
FIG. 4 is a view showing a semiconductor wafer transfer operation in the first embodiment of the stage device to which the lift pins according to the present invention are applied.

【図5】本発明に係わるリフトピンを適用したステージ
装置の第1の実施の形態における半導体ウエハ又は搬送
アームが干渉したときのリフトピンの作用を示す図。
FIG. 5 is a view showing an operation of the lift pins when a semiconductor wafer or a transfer arm interferes in the first embodiment of the stage device to which the lift pins according to the present invention are applied.

【図6】本発明に係わるリフトピンを適用したステージ
装置の第2の実施の形態を示す構成図。
FIG. 6 is a configuration diagram showing a second embodiment of a stage device to which a lift pin according to the present invention is applied.

【図7】本発明に係わるリフトピンを適用したステージ
装置の第3の実施の形態を示す構成図。
FIG. 7 is a configuration diagram showing a third embodiment of a stage device to which a lift pin according to the present invention is applied.

【図8】本発明に係わるリフトピンを適用したステージ
装置の第2の実施の形態におけるリフトピンの構成図。
FIG. 8 is a configuration diagram of a lift pin in a second embodiment of a stage device to which the lift pin according to the present invention is applied.

【図9】従来のステージ装置の構成図。FIG. 9 is a configuration diagram of a conventional stage device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:ステージ本体 10:リフトピン 11:孔 12:半導体ウエハ 13:ピン本体 14:ピン先端片 15:吸引孔 16:溝 17:凸部 18,19:面取り 20:溝 21:凸部 22〜24,26:吸引用チューブ 25:真空センサ 27:真空吸引装置 28:昇降機構 29:搬送アーム 30:レーザセンサ 31:ミラー 40:リフトピン 41:ピン本体 42:ピン先端片 43:回動軸 44:ばね部材 1: Stage main body 10: Lift pin 11: Hole 12: Semiconductor wafer 13: Pin main body 14: Pin tip piece 15: Suction hole 16: Groove 17: Convex portion 18, 19: Chamfer 20: Groove 21: Convex portion 22 to 24, 26: Suction tube 25: Vacuum sensor 27: Vacuum suction device 28: Elevating mechanism 29: Transfer arm 30: Laser sensor 31: Mirror 40: Lift pin 41: Pin body 42: Pin tip 43: Rotating shaft 44: Spring member

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ステージ上に被載置体を受け渡すときに
前記被載置体を支持するもので、ピン本体と、このピン
本体の先端に横方向からの押圧により離脱可能に載せら
れたピン先端片とから構成されたことを特徴とするリフ
トピン。
1. A device for supporting an object to be mounted when the object to be mounted is transferred on a stage, and is mounted on a pin main body and a tip of the pin main body so as to be detachable by a lateral pressing. A lift pin comprising a pin tip piece.
【請求項2】 前記ピン本体の先端から前記ピン先端片
が外れたことを検出する検出手段を設けたことを特徴と
する請求項1記載のリフトピン。
2. The lift pin according to claim 1, further comprising detection means for detecting that the pin tip piece has come off the tip of the pin body.
【請求項3】 前記検出手段は、前記ピン本体の内部孔
を通して前記ピン先端片を吸引し、この吸引力の変化に
より前記ピン先端片が外れたことを検出することを特徴
とする請求項2記載のリフトピン。
3. The pin detecting device according to claim 2, wherein said detecting means sucks said pin tip piece through an internal hole of said pin body, and detects that said pin tip piece has come off due to a change in said suction force. Lift pin as described.
【請求項4】 前記検出手段は、前記ピン本体と前記ピ
ン先端片との間の磁気的、電気的又は光学的な変化によ
り前記ピン先端片が外れたことを検出することを特徴と
する請求項2記載のリフトピン。
4. The apparatus according to claim 1, wherein said detecting means detects that the pin tip has come off due to a magnetic, electrical or optical change between the pin body and the pin tip. Item 4. The lift pin according to Item 2.
【請求項5】 ステージ上に被載置体を受け渡すときに
前記被載置体を支持するもので、ピン本体と、このピン
本体の先端に横方向からの押圧により傾動可能に設けら
れたピン先端片とこのピン先端片を復帰させるばね部材
とから構成されたことを特徴とするリフトピン。
5. A pin body for supporting the object when the object is transferred on a stage, and is provided at a tip of the pin body so as to be tiltable by a lateral pressing. A lift pin comprising a pin tip piece and a spring member for returning the pin tip piece.
【請求項6】 被載置体を載置するためのステージ本体
と、 このステージ本体に複数箇所設けられ、前記ステージ本
体上に前記被載置体を受け渡すときに前記被載置体を支
持するもので、ピン本体と、このピン本体の先端に横方
向からの押圧により離脱または傾動可能に設けられたピ
ン先端片とからなる複数のリフトピンと、 前記被載置体を受け渡すときに前記各リフトピンを前記
ステージ本体に対して上昇、下降させる昇降機構と、を
具備したことを特徴とするステージ装置。
6. A stage main body for mounting a mounted body, and provided at a plurality of positions on the stage main body, and supporting the mounted body when transferring the mounted body on the stage main body. A plurality of lift pins each including a pin body, and a pin tip piece that is detachably or tiltably provided at a tip of the pin body by pressing in a lateral direction; and A stage device comprising: a lifting mechanism that raises and lowers each lift pin with respect to the stage main body.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007251073A (en) * 2006-03-20 2007-09-27 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Member for supporting substrate
JP2007277702A (en) * 2006-03-16 2007-10-25 Tokyo Electron Ltd Substrate placing stand and substrate treatment apparatus
KR101035249B1 (en) * 2007-08-31 2011-05-18 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Substrate mounting table and substrate processing apparatus
EP2513962A2 (en) * 2009-12-18 2012-10-24 Lam Research AG Reinforced pin for being used in a pin chuck, and a pin chuck using such reinforced pin
WO2012157638A1 (en) * 2011-05-19 2012-11-22 シャープ株式会社 Substrate placing base and substrate processing device
WO2014149412A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-25 Applied Materials, Inc. In-situ temperature measurement in a noisy environment
JP2020193352A (en) * 2019-05-27 2020-12-03 株式会社アルバック Sputtering film deposition apparatus and sputtering film deposition method

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007277702A (en) * 2006-03-16 2007-10-25 Tokyo Electron Ltd Substrate placing stand and substrate treatment apparatus
JP2007251073A (en) * 2006-03-20 2007-09-27 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Member for supporting substrate
KR101035249B1 (en) * 2007-08-31 2011-05-18 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 Substrate mounting table and substrate processing apparatus
EP2513962A2 (en) * 2009-12-18 2012-10-24 Lam Research AG Reinforced pin for being used in a pin chuck, and a pin chuck using such reinforced pin
EP2513962A4 (en) * 2009-12-18 2013-11-27 Lam Res Ag Reinforced pin for being used in a pin chuck, and a pin chuck using such reinforced pin
US8608146B2 (en) 2009-12-18 2013-12-17 Lam Research Ag Reinforced pin for being used in a pin chuck, and a pin chuck using such reinforced pin
WO2012157638A1 (en) * 2011-05-19 2012-11-22 シャープ株式会社 Substrate placing base and substrate processing device
WO2014149412A1 (en) * 2013-03-15 2014-09-25 Applied Materials, Inc. In-situ temperature measurement in a noisy environment
US9673074B2 (en) 2013-03-15 2017-06-06 Applied Materials, Inc. In-situ temperature measurement in a noisy environment
US10249522B2 (en) 2013-03-15 2019-04-02 Applied Materials, Inc. In-situ temperature measurement in a noisy environment
JP2020193352A (en) * 2019-05-27 2020-12-03 株式会社アルバック Sputtering film deposition apparatus and sputtering film deposition method
JP7297531B2 (en) 2019-05-27 2023-06-26 株式会社アルバック Sputter deposition apparatus and sputtering deposition method

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