JP2002093356A - 電子ビーム装置 - Google Patents
電子ビーム装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フイラメントからの電子ビームがターゲット
に当たる時の発散を防止する。 【解決手段】 中心部が空けられた渦巻き状のフィラ
メント２０、グリッド２１、アノード２２を、フイラメ
ント２０の空間部２０Ｓの中心、グリッド２１の孔２１
Ａの中心、アノード２２の孔２２Ａの中心が、大体、電
子ビーム軌道の中心軸Ｏ上に位置するように、互いに適
当な間を開けて配列する。フイラメント２０の中心に空
けられた空間部２０Ｓの部分に、その先端面がフイラメ
ント２０の先端面より僅かに反アノード側に配置された
棒状の電位補正用電極２３を設ける。電位補正用電極２
３はイオン衝撃等に強い、例えば、炭素の如き高融点の
金属で成し、グリッド２１に取り付ける。
に当たる時の発散を防止する。 【解決手段】 中心部が空けられた渦巻き状のフィラ
メント２０、グリッド２１、アノード２２を、フイラメ
ント２０の空間部２０Ｓの中心、グリッド２１の孔２１
Ａの中心、アノード２２の孔２２Ａの中心が、大体、電
子ビーム軌道の中心軸Ｏ上に位置するように、互いに適
当な間を開けて配列する。フイラメント２０の中心に空
けられた空間部２０Ｓの部分に、その先端面がフイラメ
ント２０の先端面より僅かに反アノード側に配置された
棒状の電位補正用電極２３を設ける。電位補正用電極２
３はイオン衝撃等に強い、例えば、炭素の如き高融点の
金属で成し、グリッド２１に取り付ける。
Description
【０００１】
【発明の属する分野】本発明は、被照射物上での電子ビ
ームの集束性を向上させた電子ビーム装置に関する。
ームの集束性を向上させた電子ビーム装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子ビーム装置として、坩堝中に収容さ
れた物質に当てることにより物質を蒸発させ、蒸発粒子
を基板上に付着等させたり、或いは、加速した電子ビー
ムをターゲットに衝突させることにより、ターゲットに
溶接等の加工を行ったりする装置がある。
れた物質に当てることにより物質を蒸発させ、蒸発粒子
を基板上に付着等させたり、或いは、加速した電子ビー
ムをターゲットに衝突させることにより、ターゲットに
溶接等の加工を行ったりする装置がある。
【０００３】図１は、この様な電子ビーム装置の一例と
して、電子ビーム蒸発装置の概略を示したもので、図２
は図１のＡ−Ａ線断面図である。
して、電子ビーム蒸発装置の概略を示したもので、図２
は図１のＡ−Ａ線断面図である。
【０００４】図中１Ａ，１Ｂは、永久磁石２を挟んで平
行に配置された磁極板で、前記永久磁石２によりＮ極と
Ｓ極に励磁されている。該磁極板間には、蒸発物質３が
収容された坩堝４が設けられている。該坩堝の下には、
電子銃５が設けられている。該電子銃はフィラメント
６，グリッド７及びアノード８から成る。９はフィラメ
ント加熱電源、１０は加速電源である。尚、１１はグリ
ッド支持板である。１２は環状鉄心にＸ方向走査用偏向
コイルとＹ方向走査用偏向コイルが巻かれた走査用電磁
コイル体で、前記電子銃５からの電子ビームの通路上に
配置されている。尚、この走査用電磁コイル体は、例え
ば、磁極１Ａ，１Ｂの間で坩堝４の近くに取り付けられ
た非磁性製のホルダー（図示せず）によって支持されて
いる。１３は該走査用電磁コイル体に走査用の電流を流
すための走査用電源である。尚、図示しなかったが、グ
リッド７とフィラメント６の間には引き出し電源（図示
せず）から正の引き出し電圧が印加されてる様に成って
いる。
行に配置された磁極板で、前記永久磁石２によりＮ極と
Ｓ極に励磁されている。該磁極板間には、蒸発物質３が
収容された坩堝４が設けられている。該坩堝の下には、
電子銃５が設けられている。該電子銃はフィラメント
６，グリッド７及びアノード８から成る。９はフィラメ
ント加熱電源、１０は加速電源である。尚、１１はグリ
ッド支持板である。１２は環状鉄心にＸ方向走査用偏向
コイルとＹ方向走査用偏向コイルが巻かれた走査用電磁
コイル体で、前記電子銃５からの電子ビームの通路上に
配置されている。尚、この走査用電磁コイル体は、例え
ば、磁極１Ａ，１Ｂの間で坩堝４の近くに取り付けられ
た非磁性製のホルダー（図示せず）によって支持されて
いる。１３は該走査用電磁コイル体に走査用の電流を流
すための走査用電源である。尚、図示しなかったが、グ
リッド７とフィラメント６の間には引き出し電源（図示
せず）から正の引き出し電圧が印加されてる様に成って
いる。
【０００５】この様な装置において、電子銃５のフィラ
メント６から発生された電子ビームは、グリッド７によ
り引き出され、更に、アノード８によって加速され、磁
極１Ａ，１Ｂが作る磁場により２７０°前後曲げられ坩
堝４内に収容された蒸発物質３に照射される。その際、
電子銃５からの電子ビームは走査用電磁コイル体１２が
作る二次元方向走査用磁場を通過するので、電子ビーム
は蒸発物質３上を二次元方向に走査することになる。こ
の結果、蒸発物質３は電子ビームにより加熱されて蒸発
し、その蒸発粒子が、例えば、坩堝４上方に配置された
基板（図示せず）上に付着する。さて、この様に電子照
射により蒸発物質を蒸発させる電子銃のフィラメント
（電子放出部）としては、一般に低電圧で大電力のビー
ム（即ち、ビーム電流の大きいビーム）が得られるよう
に、大きいものが使用されている。例えば、図３に示す
様な渦巻き状のものが用いられる。
メント６から発生された電子ビームは、グリッド７によ
り引き出され、更に、アノード８によって加速され、磁
極１Ａ，１Ｂが作る磁場により２７０°前後曲げられ坩
堝４内に収容された蒸発物質３に照射される。その際、
電子銃５からの電子ビームは走査用電磁コイル体１２が
作る二次元方向走査用磁場を通過するので、電子ビーム
は蒸発物質３上を二次元方向に走査することになる。こ
の結果、蒸発物質３は電子ビームにより加熱されて蒸発
し、その蒸発粒子が、例えば、坩堝４上方に配置された
基板（図示せず）上に付着する。さて、この様に電子照
射により蒸発物質を蒸発させる電子銃のフィラメント
（電子放出部）としては、一般に低電圧で大電力のビー
ム（即ち、ビーム電流の大きいビーム）が得られるよう
に、大きいものが使用されている。例えば、図３に示す
様な渦巻き状のものが用いられる。
【０００６】所で、電子照射による蒸発物質の蒸発時、
蒸気の一部が電子ビームの衝撃によりイオン化する。通
常、蒸発物質は金属なので、これらのイオンは＋イオン
である。これらの＋イオンは図２に示すフィラメント６
から坩堝４内の蒸発物質３の間の電子ビームの偏向軌道
（実質的に導体となっている）１４の中心軸Ｏに沿って
負の電位のフィラメント６に向かう。そして、これらの
＋イオンは、フィラメント６の中心部分（第３図のＫの
部分）に当たり、該部分をスパッタしてしまう。その為
に、該部分が細くなるので該部分に過電流が流れ、やが
て溶断してしまい、フィラメントを新しいものに交換し
なければならない。この様な溶断が蒸着操作中に起こる
と、その蒸着膜は不良品となるばかりではなく、この様
な溶断によるフィラメントの交換は経済的にも操作的に
も著しく不利である。まして、この様な溶断が短時間で
起こると、極めて大きな問題となる。
蒸気の一部が電子ビームの衝撃によりイオン化する。通
常、蒸発物質は金属なので、これらのイオンは＋イオン
である。これらの＋イオンは図２に示すフィラメント６
から坩堝４内の蒸発物質３の間の電子ビームの偏向軌道
（実質的に導体となっている）１４の中心軸Ｏに沿って
負の電位のフィラメント６に向かう。そして、これらの
＋イオンは、フィラメント６の中心部分（第３図のＫの
部分）に当たり、該部分をスパッタしてしまう。その為
に、該部分が細くなるので該部分に過電流が流れ、やが
て溶断してしまい、フィラメントを新しいものに交換し
なければならない。この様な溶断が蒸着操作中に起こる
と、その蒸着膜は不良品となるばかりではなく、この様
な溶断によるフィラメントの交換は経済的にも操作的に
も著しく不利である。まして、この様な溶断が短時間で
起こると、極めて大きな問題となる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】そこで、例えば、図４
に示す様に、中心部分（前記図３のＫに当たる部分）の
空いたフィラメント６Ａを使用すれば、この様な問題を
解決することは出来る。但し、この様な構成のフイラメ
ントでは電子量不足が心配されるので、例えば、図５に
示す如く、コイル状フイラメントを環状に形成し、環の
中心軸方向に電子を取り出すように成したフィラメント
６Ｂも提案されている（特願平１１−３５８６４２
号）。
に示す様に、中心部分（前記図３のＫに当たる部分）の
空いたフィラメント６Ａを使用すれば、この様な問題を
解決することは出来る。但し、この様な構成のフイラメ
ントでは電子量不足が心配されるので、例えば、図５に
示す如く、コイル状フイラメントを環状に形成し、環の
中心軸方向に電子を取り出すように成したフィラメント
６Ｂも提案されている（特願平１１−３５８６４２
号）。
【０００８】しかし、図４及び図５に示す何れのフィラ
メントを使用した場合においても、次の様な問題があ
る。
メントを使用した場合においても、次の様な問題があ
る。
【０００９】図６は中心部分の空いたフィラメント６´
を使用した電子銃のフィラメント６´からの電子ビーム
の進む方向を示したもので、図中７´は該フィラメント
に対して数１０〜数１００Ｖの引き出し電圧が印加され
ているグリッド、８´はフィラメント６´に対し数ＫＶ
〜数１００ＫＶの加速電圧が印加されているアノードで
ある。この様な電子銃においては、フィラメント６´と
グリッド７´の間の等電位面は１５に示す様に、電子光
学的中心軸Ｏの周辺部に対応した部分がフィラメント６
´側に凸の形状となる。さて、フィラメント６´が加熱
されることにより該フィラメント６´から発生した熱電
子は、グリット７´によって引き出され、更に、アノー
ド８´によって加速されるわけであるが、この際、フィ
ラメント６´から発生した熱電子は、前記フィラメント
６´とグリッド７´の間に形成された等電位面１５を横
切るように進むので、１６に示す様に、一旦電子光学的
中心軸Ｏ上で交差し、そこから発散していく。従って、
坩堝４内に収容された蒸発物質３上を電子ビームで二次
元的に走査する場合に、単位断面積当たりの電子密度が
著しく低い、いわゆる著しくぼけた電子ビームで走査さ
れてしまい、蒸発物質の蒸発自体に支障を来す。
を使用した電子銃のフィラメント６´からの電子ビーム
の進む方向を示したもので、図中７´は該フィラメント
に対して数１０〜数１００Ｖの引き出し電圧が印加され
ているグリッド、８´はフィラメント６´に対し数ＫＶ
〜数１００ＫＶの加速電圧が印加されているアノードで
ある。この様な電子銃においては、フィラメント６´と
グリッド７´の間の等電位面は１５に示す様に、電子光
学的中心軸Ｏの周辺部に対応した部分がフィラメント６
´側に凸の形状となる。さて、フィラメント６´が加熱
されることにより該フィラメント６´から発生した熱電
子は、グリット７´によって引き出され、更に、アノー
ド８´によって加速されるわけであるが、この際、フィ
ラメント６´から発生した熱電子は、前記フィラメント
６´とグリッド７´の間に形成された等電位面１５を横
切るように進むので、１６に示す様に、一旦電子光学的
中心軸Ｏ上で交差し、そこから発散していく。従って、
坩堝４内に収容された蒸発物質３上を電子ビームで二次
元的に走査する場合に、単位断面積当たりの電子密度が
著しく低い、いわゆる著しくぼけた電子ビームで走査さ
れてしまい、蒸発物質の蒸発自体に支障を来す。
【００１０】本発明は、この様な問題点を解決する為に
なされたもので、新規な電子ビーム装置を提供すること
を目的とする。
なされたもので、新規な電子ビーム装置を提供すること
を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】 本発明に基づく電子ビ
ーム装置は、電子放出部の一部が空けられたフィラメン
ト，グリッド及びアノードを有する電子銃からの電子ビ
ームを被照射物に当てるようにした電子ビーム装置にお
いて、前記電子放出部に空けられた空間部分において、
前記グリットとフィラメントの間の等電位面が電子光学
中心軸にほぼ垂直になるようにするための電位補正用電
極を設けことを特徴とする。
ーム装置は、電子放出部の一部が空けられたフィラメン
ト，グリッド及びアノードを有する電子銃からの電子ビ
ームを被照射物に当てるようにした電子ビーム装置にお
いて、前記電子放出部に空けられた空間部分において、
前記グリットとフィラメントの間の等電位面が電子光学
中心軸にほぼ垂直になるようにするための電位補正用電
極を設けことを特徴とする。
【００１２】本発明に基づく電子ビーム装置は、電子放
出部の一部が空けられたフィラメント、グリッド及びア
ノードを有する電子銃を備えた電子ビーム装置におい
て、前記電子放出部に空けられた空間部分において、そ
の先端面が前記電子放出部の先端面の近傍に位置するよ
うに配置された電位補正用電極を実質的に前記グリッド
に取り付けたたことを特徴とする。
出部の一部が空けられたフィラメント、グリッド及びア
ノードを有する電子銃を備えた電子ビーム装置におい
て、前記電子放出部に空けられた空間部分において、そ
の先端面が前記電子放出部の先端面の近傍に位置するよ
うに配置された電位補正用電極を実質的に前記グリッド
に取り付けたたことを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の態様の形態を詳細に説明する。
施の態様の形態を詳細に説明する。
【００１４】図７（ａ）は本発明の主要部の一例として
示した電子銃の主要部の概略図、図７（ｂ）は図７
（ａ）のＡ−Ａ断面図である。
示した電子銃の主要部の概略図、図７（ｂ）は図７
（ａ）のＡ−Ａ断面図である。
【００１５】図中２０は、中心部が空けられた渦巻き状
のフィラメント、２１はグリッド、２２はアノードで、
フイラメント２０の空間部２０Ｓの中心、グリッド２１
の孔２１Ａの中心、アノード２２の孔２２Ａの中心が、
大体、電子光学的中心軸Ｏ上に位置するように、フィラ
メント２０，グリッド２１及びアノード２２が互いに適
当な間を開けて配列されている。前記フイラメント２０
の中心に空けられた空間部２０Ｓの部分には、その先端
面がフイラメント２０の先端面より僅かに反アノード側
に配置された棒状の電位補正用電極２３が設けられてい
る。この電位補正用電極２３はイオン衝撃等に強い、例
えば、炭素の如き高融点の金属から成り、グリッド２１
に取り付けられている。尚、前記電位補正用電極２３
は、前記空間部２０Ｓにおけるグリット２１とフイラメ
ント２０の間の等電位面が電子光学的中心軸Ｏに対しほ
ぼ垂直になるように、その先端面の位置を調整して配置
する。
のフィラメント、２１はグリッド、２２はアノードで、
フイラメント２０の空間部２０Ｓの中心、グリッド２１
の孔２１Ａの中心、アノード２２の孔２２Ａの中心が、
大体、電子光学的中心軸Ｏ上に位置するように、フィラ
メント２０，グリッド２１及びアノード２２が互いに適
当な間を開けて配列されている。前記フイラメント２０
の中心に空けられた空間部２０Ｓの部分には、その先端
面がフイラメント２０の先端面より僅かに反アノード側
に配置された棒状の電位補正用電極２３が設けられてい
る。この電位補正用電極２３はイオン衝撃等に強い、例
えば、炭素の如き高融点の金属から成り、グリッド２１
に取り付けられている。尚、前記電位補正用電極２３
は、前記空間部２０Ｓにおけるグリット２１とフイラメ
ント２０の間の等電位面が電子光学的中心軸Ｏに対しほ
ぼ垂直になるように、その先端面の位置を調整して配置
する。
【００１６】この様な電子銃を図１及び図２に示す電子
ビーム蒸発装置の電子銃として使用すると、フィラメン
ト２０から発生された電子ビームは、グリッド２１によ
り引き出され、更に、アノード２２によって加速され、
磁極１Ａ，１Ｂが作る磁場により２７０°前後曲げられ
坩堝４内に収容された蒸発物質３に照射される。その
際、電子銃５からの電子ビームは走査用電磁コイル体１
２が作る二次元方向走査用磁場を通過するので、電子ビ
ームは蒸発物質３上を二次元方向に走査することにな
る。この結果、蒸発物質３は電子ビームにより加熱され
て蒸発し、その蒸発粒子が、例えば、坩堝４上方に配置
された基板（図示せず）上に付着する。
ビーム蒸発装置の電子銃として使用すると、フィラメン
ト２０から発生された電子ビームは、グリッド２１によ
り引き出され、更に、アノード２２によって加速され、
磁極１Ａ，１Ｂが作る磁場により２７０°前後曲げられ
坩堝４内に収容された蒸発物質３に照射される。その
際、電子銃５からの電子ビームは走査用電磁コイル体１
２が作る二次元方向走査用磁場を通過するので、電子ビ
ームは蒸発物質３上を二次元方向に走査することにな
る。この結果、蒸発物質３は電子ビームにより加熱され
て蒸発し、その蒸発粒子が、例えば、坩堝４上方に配置
された基板（図示せず）上に付着する。
【００１７】さて、この様な電子銃においては、フイラ
メント２０の中心に空けられた空間部２０Ｓの部分に、
その先端面がフイラメント２０の先端面より僅かに反ア
ノード側に配置され、グリッド２１と同電位の棒状の電
位補正用電極２３が設けられているので、フィラメント
２０とグリッド２１の間の等電位面は、図８の２４に示
す様に、電子ビームの中心軸Ｏの周辺部に対応した部分
がフィラメント６´側に凸の形状とならず、この部分は
ほぼ中心軸Ｏに垂直な形状となる。従って、フィラメン
ト２０から発生した熱電子は、前記フィラメント２１と
グリッド２１の間に形成された等電位面２４を横切るよ
うに進むので、２５に示す様に、電子ビームは中心軸Ｏ
にほぼ平行に進んでいく。その結果、坩堝４内に収容さ
れた蒸発物質３上を電子ビームで二次元的に走査する場
合に、単位断面積当たりの電子密度が著しく高い電子ビ
ームで走査されることになる。
メント２０の中心に空けられた空間部２０Ｓの部分に、
その先端面がフイラメント２０の先端面より僅かに反ア
ノード側に配置され、グリッド２１と同電位の棒状の電
位補正用電極２３が設けられているので、フィラメント
２０とグリッド２１の間の等電位面は、図８の２４に示
す様に、電子ビームの中心軸Ｏの周辺部に対応した部分
がフィラメント６´側に凸の形状とならず、この部分は
ほぼ中心軸Ｏに垂直な形状となる。従って、フィラメン
ト２０から発生した熱電子は、前記フィラメント２１と
グリッド２１の間に形成された等電位面２４を横切るよ
うに進むので、２５に示す様に、電子ビームは中心軸Ｏ
にほぼ平行に進んでいく。その結果、坩堝４内に収容さ
れた蒸発物質３上を電子ビームで二次元的に走査する場
合に、単位断面積当たりの電子密度が著しく高い電子ビ
ームで走査されることになる。
【００１８】尚、前記例では、電位補正用電極２３をグ
リッド２０に取り付け、該電位補正用電極２３の電位を
グリッド２０と同電位になるようにしているが、電位補
正用電極２３をフィラメント２０に取り付け、電位補正
用電極２３の電位がフィラメント２０の電位と同電位に
成るようにしても良い。しかし、一般にフィラメントは
Ｗ（タングステン）製であり、その電子放出面の直径が
１０ｍｍ〜１５ｍｍ極めて小さいので、その電子放出面
の中心部を空けて、そこに、フイラメントと材質の異な
る（炭素の如き高融点材料）電位補正用電極を取り付け
ること自体極めて困難である。又、譬え、溶接等により
取り付けることが出来たと仮定しても、フィラメント加
熱時（大体、数１０００℃前後）に電位補正用電極が取
れてしまう恐れがある。
リッド２０に取り付け、該電位補正用電極２３の電位を
グリッド２０と同電位になるようにしているが、電位補
正用電極２３をフィラメント２０に取り付け、電位補正
用電極２３の電位がフィラメント２０の電位と同電位に
成るようにしても良い。しかし、一般にフィラメントは
Ｗ（タングステン）製であり、その電子放出面の直径が
１０ｍｍ〜１５ｍｍ極めて小さいので、その電子放出面
の中心部を空けて、そこに、フイラメントと材質の異な
る（炭素の如き高融点材料）電位補正用電極を取り付け
ること自体極めて困難である。又、譬え、溶接等により
取り付けることが出来たと仮定しても、フィラメント加
熱時（大体、数１０００℃前後）に電位補正用電極が取
れてしまう恐れがある。
【００１９】その点、グリッド支持板を含めたグリッド
全体は大きいので、該グリッドに電位補正電極を取り付
けることは容易であり、しかも、フィラメントとグリッ
ドの間の電位差は小さく、グリッドがフィラメントに対
して僅かに正電位にあるので、前記正電位に対応した
分、電位補正用電極の先端面がフイラメント２０の先端
面より、反アノード側に位置する様に配置すれば、フイ
ラメント２０とグリッド２１の間の等電位面が電子ビー
ム中心軸Ｏに対してほぼに垂直になる。
全体は大きいので、該グリッドに電位補正電極を取り付
けることは容易であり、しかも、フィラメントとグリッ
ドの間の電位差は小さく、グリッドがフィラメントに対
して僅かに正電位にあるので、前記正電位に対応した
分、電位補正用電極の先端面がフイラメント２０の先端
面より、反アノード側に位置する様に配置すれば、フイ
ラメント２０とグリッド２１の間の等電位面が電子ビー
ム中心軸Ｏに対してほぼに垂直になる。
【００２０】図９及び図１０は、本発明の主要部の他の
例として示したものである。
例として示したものである。
【００２１】図９は、図５に示す様なコイル状フイラメ
ントを環状に形成し、環の中心軸方向に電子を取り出す
ように成したフィラメン２５の空間部２５Ｓに、電位補
正用電極２６を配置させたもので、フィラメント２５と
グリッド（図示せず）の間の等電位面が電子光学的中心
軸にほぼ垂直になるように、該フィラメントの先端面よ
り少し反アノード側に配置される。
ントを環状に形成し、環の中心軸方向に電子を取り出す
ように成したフィラメン２５の空間部２５Ｓに、電位補
正用電極２６を配置させたもので、フィラメント２５と
グリッド（図示せず）の間の等電位面が電子光学的中心
軸にほぼ垂直になるように、該フィラメントの先端面よ
り少し反アノード側に配置される。
【００２２】図１０は、フィラメント２７はコイル状に
巻かれつつリング形状を成すように形成されているが、
１／２程度までリング状に形成したフィラメント２７の
空間部２７Ｓに、電位補正用電極２８を配置させたもの
で、フィラメント２７とグリッド（図示せず）の間の等
電位面が電子光学的中心軸にほぼ垂直になるように、該
フィラメントの先端面より少し反アノード側に配置され
る。
巻かれつつリング形状を成すように形成されているが、
１／２程度までリング状に形成したフィラメント２７の
空間部２７Ｓに、電位補正用電極２８を配置させたもの
で、フィラメント２７とグリッド（図示せず）の間の等
電位面が電子光学的中心軸にほぼ垂直になるように、該
フィラメントの先端面より少し反アノード側に配置され
る。
【００２３】尚、本発明の電子ビーム装置として電子ビ
ーム蒸発装置を例に上げたが、電子ビーム溶接装置等の
加工装置等にも本発明は適用出来ることはいうまでもな
い。
ーム蒸発装置を例に上げたが、電子ビーム溶接装置等の
加工装置等にも本発明は適用出来ることはいうまでもな
い。
【図面の簡単な説明】
【図１】 電子ビーム装置の一例として、電子ビーム蒸
発装置の概略を示したものである。
発装置の概略を示したものである。
【図２】 図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】 従来のフィラメントの一概略例を示したもの
である。
である。
【図４】 従来のフィラメントの一概略例を示したもの
である。
である。
【図５】 最近提案されたのフィラメントの一概略例を
示したものである。
示したものである。
【図６】 従来の電子銃の動作の説明に使用した図であ
る。
る。
【図７】 本発明の主要部を成す電子銃の一概略例を示
したものである。
したものである。
【図８】 本発明の主要部を成す電子銃の動作の説明に
使用した図である。
使用した図である。
【図９】 本発明の主要部を成す電子銃のフイラメント
の一概略例を示したものである。
の一概略例を示したものである。
【図１０】 本発明の主要部を成す電子銃のフィラメン
ト一概略例を示したものである。
ト一概略例を示したものである。
１Ａ，１Ｂ…磁極板 ２…永久磁石 ３…蒸発物質 ４…坩堝 ５…電子銃 ６，６Ａ，６Ｂ，６′，２０，２５，２７…フィラメン
ト ７，７′２１…グリッド ８，８′２２…アノード ９…フィラメント加熱電源 Ｏ…電子光学的中心軸 １０…加速電源 １１…グリッド支持板 １２…走査用電磁コイル体 １３…走査用電源 １４…偏向軌道 １５，２４…等電位面 ２０Ｓ，２５Ｓ，２７Ｓ…空間部 ２１Ａ，２２Ａ…孔 ２３，２６，２８…電位補正用電極
ト ７，７′２１…グリッド ８，８′２２…アノード ９…フィラメント加熱電源 Ｏ…電子光学的中心軸 １０…加速電源 １１…グリッド支持板 １２…走査用電磁コイル体 １３…走査用電源 １４…偏向軌道 １５，２４…等電位面 ２０Ｓ，２５Ｓ，２７Ｓ…空間部 ２１Ａ，２２Ａ…孔 ２３，２６，２８…電位補正用電極
Claims (7)
- 【請求項１】 電子放出部の一部が空けられたフィラメ
ント，グリッド及びアノードを有する電子銃からの電子
ビームを被照射物に当てるようにした電子ビーム装置に
おいて、前記電子放出部に空けられた空間部分におい
て、前記グリットとフィラメントの間の等電位面が電子
光学中心軸にほぼ垂直になるようにするための電位補正
用電極を設けことを特徴とする電子ビーム装置。 - 【請求項２】 電子放出部の一部が空けられたフィラメ
ント、グリッド及びアノードを有する電子銃を備えた電
子ビーム装置において、前記電子放出部に空けられた空
間部分において、その先端面が前記電子放出部の先端面
の近傍に位置するように配置された電位補正用電極を実
質的に前記グリッドに取り付けた電子ビーム装置。 - 【請求項３】 前記電位補正電極は、その先端面が前記
電子放出部の先端面より僅かに反アノード側に位置する
ように配置されている請求項１又は２に記載の電子ビー
ム装置。 - 【請求項４】 前記電位補正電極は前記フイラメントの
材料とは異なった高融点材料から成る請求項１又は２に
記載の電子ビーム装置。 - 【請求項５】 前記フイラメントは渦巻き状に形成され
た請求項１又は２記載の電子ビーム装置。 - 【請求項６】 前記フィラメントは、コイル状に巻かれ
て環状に形成されており、環の中心軸方向に電子を取り
出すように成した請求項１又は２記載の電子ビーム装
置。 - 【請求項７】 前記被照射物は蒸発物質である請求項１
又は２に記載の電子ビーム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000277849A JP4073158B2 (ja) | 2000-09-13 | 2000-09-13 | 電子ビーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000277849A JP4073158B2 (ja) | 2000-09-13 | 2000-09-13 | 電子ビーム装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002093356A true JP2002093356A (ja) | 2002-03-29 |
| JP4073158B2 JP4073158B2 (ja) | 2008-04-09 |
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ID=18763104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000277849A Expired - Lifetime JP4073158B2 (ja) | 2000-09-13 | 2000-09-13 | 電子ビーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4073158B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2275603T5 (es) | 2000-10-20 | 2010-07-07 | Seiko Epson Corporation | Dispositivo de registro de inyeccion de tinta y cartucho de tinta. |
-
2000
- 2000-09-13 JP JP2000277849A patent/JP4073158B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4073158B2 (ja) | 2008-04-09 |
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