JP2002088244A - 硬化性組成物、光学材料用組成物、光学材料、液晶表示装置、透明導電性フィルムおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い耐熱性を有し、複屈折率が低く、光弾性
係数が小さく、光学的透明性が高く、さらに強靭性を有
する硬化性組成物、光学用材料、その製造方法、および
それを用いた液晶表示装置を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）成分として、ＳｉＨ基と反応性を
有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個
有する脂肪族系有機化合物、（Ｂ）成分として、１分子
中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物、およ
び（Ｃ）成分として、ヒドロシリル化触媒、を含有する
硬化性組成物。この硬化性組成物をあらかじめ混合し、
組成物中のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結
合とＳｉＨ基の一部または全部を反応させることによっ
て硬化させて光学用材料とすること。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は硬化性組成物に関
し、詳しくは、高い耐熱性を有し、光学的透明性が高
く、さらに強靭性を有する光学材料が得られる硬化性組
成物に関する。

【０００２】本発明の硬化性組成物を用いて各種の光学
材料、例えば、液晶表示装置に使用する部材；携帯情報
端末、カーナビゲーションなどの入力デバイスとして好
適に使用される透明導電性フィルム；軽量薄型化の要求
の強い携帯電話、携帯情報端末、パーソナルコンピュー
タなどのディスプレイとして好適に使用されるプラスチ
ックフィルム液晶表示装置が製造され得る。

【０００３】

【従来の技術】液晶表示装置用をはじめとする光学材料
としては、複屈折率が低く、光弾性係数が小さく、光学
的透明性の高い材料が使用される。また、液晶表示装置
用等の材料の場合には、製造プロセス上使用する材料に
は高い耐熱性が必要である。こういった要求を満足する
材料として従来ガラス等が使用されてきた。

【０００４】液晶表示装置用をはじめとする光学材料
は、一般に薄いフィルム状あるいは細いチューブやロッ
ド状で使用されるが、近年の市場要求に従い、より薄い
フィルム状、あるいはより細いチューブまたはロッド状
での使用が必要になってきている。しかし、従来使用さ
れてきたガラスは強度的に脆い性質を有しているため、
使用範囲に限界が生じてきている。

【０００５】強靭性のある材料としては高分子材料があ
るが、例えば熱可塑性樹脂の場合は、一般に高い耐熱性
を発現させるために芳香族骨格をその分子内に導入する
と、複屈折率が高くなり光弾性係数が大きくなるため、
高い耐熱性と光学的性能の両立が困難である。また熱硬
化性樹脂の場合は、従来知られている熱硬化性樹脂は一
般に着色しており、光学材料用途には向かない。さら
に、一般に極性を有しており光学的性能発現にも不利で
ある。

【０００６】（硬化性組成物を透明導電性フィルムに使
用する場合）透明導電性フィルムは、透明であり、且つ
導電性を有するプラスチックフィルムであり、光と電気
が関与する技術分野において利用される機能性フィルム
である。そして、最近のエレクトロニクス化の進展に伴
い、透明導電性フィルムが用いられる部品、機器の軽量
化、小型化、低コスト化、デザインの自由度、高性能化
が求められており、従来用途、新規用途ともに、透明導
電性フィルムにもさらなる高機能化が求められている。

【０００７】透明導電性フィルムには、高光線透過率が
求められるが、液晶表示や、光記録などの用途において
は複屈折などの光学特性も重要視される。従来、透明導
電性フィルムとしてはポリエステル（以下、ＰＥＴと略
称する）フィルムやポリカーボネート（以下、ＰＣと略
称する）フィルムを基材とし、金属薄膜やＩＴＯなどの
半導体薄膜を表面に形成されたものが知られる。

【０００８】ＰＥＴフィルムを基材とした透明導電性フ
ィルムについては、ＰＥＴフィルムが製造中の延伸操作
により分子配向したものとなるため、光学異方性が大き
くなり、複屈折が劣る。また、ＰＣフィルムを基材とし
た透明導電性フィルムに関しては、ＰＣが分子内にベン
ゼン環のような分極率の大きい基を持つため、大きな分
極率異方性を示し、複屈折を生じやすい。

【０００９】このように、従来の透明導電性フィルム
は、それぞれ長所と短所を有するのが実情であり、近年
の高度化、複雑化した要求を必ずしも満足させるべきも
のとは言い難い。 （硬化性組成物を液晶表示装置の構成材料に使用する場
合）近年、液晶表示装置は、より薄膜化、より軽量化、
より大型化、任意の形状化、曲面表示対応等の高度な要
求がある。特に携帯電話や電子手帳やペン入力機器等の
身につけて携帯する機器の利用の拡大につれて、従来の
ガラス基板に代わってプラスチックを基板とする液晶表
示パネルが検討され、一部で実用化され始めた。たとえ
ば、光学異方性のないポリエーテルスルホン（以下、Ｐ
ＥＳと略称する）、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム
基板がある。

【００１０】プラスチックフィルム基板としては、光学
異方性がないか配慮できること、耐熱性、耐溶剤性、ガ
スバリア性、表面平坦性、寸法安定性、透光性を備えて
いることなどの要求項目を満たす必要がある。上述のPE
Sは０．１ｍｍ厚み以上に形成すると基板のリターデー
ションが増大する。基板のリターデーションが増大する
と液晶表示装置全体としてのリターデーションも増大し
色付き現象などが生じ、液晶表示装置の表示品位に悪影
響を及ぼす。また、ＰＥＳは耐熱性が最大１５０℃のた
めに、液晶表示装置の構成材料の低温焼成化が必要とな
る。また、上述のＰＣも０．１ｍｍ厚み以上に形成する
と基板のリターデーションが増大し、ＰＥＳと同様の問
題が生じる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高い
耐熱性を有し、複屈折率が低く、光弾性係数が小さく、
光学的透明性が高く、さらに強靭性を有する硬化性組成
物を提供することである。

【００１２】本発明の他の目的は、その硬化性組成物を
用いて、光学的透明性が高く、強靭性を有する光学材
料、その製造方法、およびそれを用いた液晶表示装置を
提供することである。

【００１３】本発明のさらに他の目的は、光学特性に優
れた透明導電性フィルムを提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
めに本発明者らは鋭意研究の結果、ＳｉＨ基と反応性を
有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個
含有する有機化合物と、１分子中に少なくとも２個のＳ
ｉＨ基を含有するケイ素化合物を必須成分として含有す
る硬化性組成物を用いることにより、上記課題を解決で
きることを見出し、本発明に至った。

【００１５】すなわち、本発明の硬化性組成物は、
（Ａ）成分として、ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭
素二重結合を１分子中に少なくとも２個有する脂肪族系
有機化合物、（Ｂ）成分として、１分子中に少なくとも
２個のＳｉＨ基を含有する化合物、および（Ｃ）成分と
して、ヒドロシリル化触媒、を含有し、そのことによ
り、上記目的が達成される。

【００１６】一実施態様において、上記（Ａ）成分に含
まれる炭素−炭素二重結合が、ビニル基又はアリル基で
ある。

【００１７】一実施態様において、上記（Ａ）成分が、
1,2−ポリブタジエン、水添ビスフェノールＡジアリル
エーテル、４−ビニルシクロヘキセンまたは1,2,4−ト
リビニルシクロヘキサンである。

【００１８】本発明の光学材料用組成物は、上記硬化性
組成物が用いられる。

【００１９】一実施態様において、上記光学材料が液晶
用フィルムである。

【００２０】一実施態様において、上記光学材料が液晶
用プラスチックセルである。

【００２１】本発明の光学材料は、上記硬化性組成物を
混合し、上記（Ａ）成分に含まれる炭素−炭素二重結合
と、上記（Ｂ）成分に含まれるＳｉＨ基の一部または全
部を反応させることによって硬化させてなる。

【００２２】本発明の光学材料の製造方法は、上記硬化
性組成物を混合する工程、および上記（Ａ）成分に含ま
れる炭素−炭素二重結合と、上記（Ｂ）成分に含まれる
ＳｉＨ基の一部または全部を反応させる工程、を包含す
る。

【００２３】本発明の液晶表示装置は、上記光学材料が
用いられる。

【００２４】本発明の透明導電性フィルムは、上記硬化
性組成物を硬化することによって得られた硬化物からな
る透明性フィルムと、該透明性フィルムの少なくとも一
つの表面に設けられた透明導電層と、を有する。

【００２５】本発明の透明導電性フィルムの製造方法
は、上記透明導電性フィルムを、成形型によって作製す
ることを包含する。

【００２６】一実施態様において、上記成形型が表面が
研磨されたガラス製である。

【００２７】一実施態様において、上記成形型が硬質ス
テンレス製研磨板である。

【００２８】一実施態様において、透明導電性フィルム
を溶液流延法によって作製する工程を包含する。

【００２９】本発明のプラスチックフィルム液晶表示装
置は、一対のプラスチックフィルム基板間に液晶層を介
在したプラスチックフィルム液晶表示装置において、上
記基板の一方又は両方が、上記硬化性組成物を硬化する
ことによって得られる。

【００３０】一実施態様において、上記液晶層がスーパ
ーツイステッドネマテイック型である。

【００３１】一実施態様において、液晶表示装置に使用
する上記基板を成形型によって作製する。

【００３２】一実施態様において、上記成形型が研磨ガ
ラス製である。

【００３３】一実施態様において、上記成形型が硬質ス
テンレス製研磨板である。

【００３４】一実施態様において、上記液晶表示装置に
使用されるプラスチックフィルム基板を、流延法によっ
て作製する工程を包含する。

【００３５】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。 （（Ａ）成分）まず、本発明における（Ａ）成分につい
て説明する。

【００３６】（Ａ）成分はＳｉＨ基と反応性を有する炭
素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個有する脂
肪族系の有機化合物である。

【００３７】（Ａ）成分が有機系骨格を有する場合、そ
の有機系骨格としては、その構成元素としてＣ、Ｈ、
Ｎ、Ｏ、Ｓ、ハロゲンのみを含む骨格であることが好ま
しい。有機系骨格として、例えば、ポリシロキサン−有
機ブロックコポリマーやポリシロキサン−有機グラフト
コポリマーのようなシロキサン単位（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）
を含むものを用いた場合には、ガス透過性が高くなり易
く水蒸気あるいは酸素の透過に伴う液晶材料の劣化が発
生したり、表面にコーティングする場合にコーティング
材の接触角が大きくなりコーティング材がはじかれて薄
膜コーティングができなくなる、いわゆる「はじき」の
問題が発生する場合がある。

【００３８】（Ａ）成分において、その構造を骨格部分
と、その骨格に共有結合によって（場合によっては２価
以上の置換基を介して）結合していてかつＳｉＨ基と反
応性を有する炭素−炭素二重結合を有する基（アルケニ
ル基）とに分けて表した場合、アルケニル基は分子内の
どこに存在してもよい。

【００３９】有機化合物である（Ａ）成分の骨格として
は、脂肪族系のものであれば特に限定はなく有機重合体
骨格または有機単量体骨格を用いればよい。本明細書に
おいて、脂肪族系とは芳香族系有機化合物を除く意味で
使用し、従って、脂環式化合物を含めるものとする。

【００４０】有機重合体骨格の例としては、ポリエーテ
ル系、ポリエステル系、ポリアリレート系、ポリカーボ
ネート系、飽和炭化水素系、ポリアクリル酸エステル
系、ポリアミド系、ポリイミド系の骨格を用いることが
できる。

【００４１】また単量体骨格としては、例えば、脂肪族
炭化水素系、脂環式系およびこれらの混合物が挙げられ
る。

【００４２】（Ａ）成分のアルケニル基としてはＳｉＨ
基と反応性を有するものであれば特に制限されないが、
下記一般式（Ｉ）

【００４３】

【化１】 （式中Ｒ¹は水素原子あるいはメチル基を表す。この場
合、それぞれのＲ¹は同一であっても異なっていてもよ
い。）で示されるアルケニル基が反応性の点から好適で
ある。また、原料の入手の容易さからは、

【００４４】

【化２】 が特に好ましい。

【００４５】（Ａ）成分のアルケニル基としては、下記
一般式（ＩＩ）

【００４６】

【化３】 （式中Ｒ¹は水素原子あるいはメチル基を表す。この場
合、それぞれのＲ¹は同一であっても異なっていてもよ
い。）で示されるアルケニル基が反応性の点から好適で
ある。また、原料の入手の容易さからは、

【００４７】

【化４】 が特に好ましい。

【００４８】アルケニル基は２価以上の置換基を介して
（Ａ）成分の骨格部分に共有結合していても良く、２価
以上の置換基としては炭素数０〜１０の置換基であれば
特に制限はないが、構成元素としてＣ、Ｈ、Ｎ、Ｏ、
Ｓ、ハロゲンのみを含むものが好ましい。この理由は、
前記（Ａ）成分の構成元素として、Ｃ、Ｈ、Ｎ、Ｏ、
Ｓ、ハロゲンのみを含む骨格であることが好ましい理由
と同じである。これらの置換基の例としては、

【００４９】

【化５】

【００５０】

【化６】 が挙げられる。また、これらの２価以上の置換基の２つ
以上が共有結合によりつながって１つの２価以上の置換
基を構成していてもよい。

【００５１】以上のような骨格部分に共有結合する基の
例としては、ビニル基、アリル基、メタリル基、アクリ
ル基、メタクリル基、２−ヒドロキシ−３−（アリルオ
キシ）プロピル基、２−（アリルオキシ）エチル基、
２、２−ビス（アリルオキシメチル）ブチル基、３−ア
リルオキシ−２、２−ビス（アリルオキシメチル）プロ
ピル基、

【００５２】

【化７】 が挙げられる。

【００５３】（Ａ）成分としては、上記のように骨格部
分とアルケニル基とに分けて表現しがたい、低分子量化
合物も用いることができる。これらの低分子量化合物の
具体例としては、ブタジエン、イソプレン、オクタジエ
ン、デカジエンなどの脂肪族鎖状ポリエン化合物系；シ
クロペンタジエン、シクロオクタジエン、ジシクロペン
タジエン、トリシクロペンタジエン、ノルボルナジエン
などの脂肪族環状ポリエン化合物系；ビニルシクロペン
テン、ビニルシクロヘキセンなどの置換脂肪族環状オレ
フィン化合物系、1,2,4−トリビニルシクロヘキサンな
どの脂環式系などが挙げられる。

【００５４】これらの（Ａ）成分のうち、デカジエンな
どの、α、ω−ジエン系化合物の場合は、硬化物が脆
く、力学特性に劣り易くなるので好ましくない。

【００５５】また、（Ａ）成分としては、内部オレフィ
ン構造を含まないものが好ましい。内部オレフィン構造
を含む場合には、内部オレフィン構造がヒドロシリル化
硬化反応後にも未反応で残り易く、このために耐光劣化
性が低くなりやすい。この場合、内部オレフィン構造と
は、

【００５６】

【化８】 において、Ｒ¹，Ｒ²のいずれか一方あるいは両方が水素
原子ではない置換基であり、かつＲ³，Ｒ⁴のいずれか一
方あるいは両方が水素原子ではない置換基である構造を
いう。

【００５７】上記した（Ａ）成分としては、耐熱性をよ
り向上し得るという観点から、ＳｉＨ基と反応性を有す
る炭素−炭素二重結合を（Ａ）成分１ｇあたり０．００
１ｍｏｌ以上含有するものであればよいが、さらに、１
ｇあたり０．００５ｍｏｌ以上含有するものが好まし
く、０．００８ｍｏｌ以上含有するものが特に好まし
い。具体的な例としては、ブタジエン、イソプレン、ビ
ニルシクロヘキセン、シクロペンタジエン、ジシクロペ
ンタジエン、シクロヘキサジエン、デカジエン、ジアリ
ルフタレート、トリメチロールプロパンジアリルエーテ
ル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、および
それらのオリゴマー、1,2−ポリブタジエン（１,２比率
１０〜１００％のもの、好ましくは１,２比率５０〜１
００％のもの）、

【００５８】

【化９】 などが挙げられる。

【００５９】（Ａ）成分に含まれている、ＳｉＨ基と反
応性を有する炭素−炭素二重結合の数は、１分子当たり
少なくとも２個あればよいが、耐熱性をより向上し得る
という観点から、２を越えることが好ましく、３個以上
であることがより好ましく、４個以上であることが特に
好ましい。（Ａ）成分に含まれている、ＳｉＨ基と反応
性を有する炭素−炭素二重結合の数が１分子内当たり１
個以下の場合は、（Ｂ）成分と反応してもグラフト構造
となるのみで架橋構造とならない。（Ａ）成分として
は、他の成分との均一な混合、および良好な作業性を得
るためには１００℃以下の温度において流動性があるも
のが好ましく、線状でも枝分かれ状でもよく、分子量は
特に制約はないが、５０〜１００，０００の任意のもの
が好適に使用できる。分子量が１００,０００を超える
と、一般に原料が高粘度となり作業性に劣るとともに、
アルケニル基とＳｉＨ基との反応による架橋の効果が発
現し難い。

【００６０】さらに（Ｂ）成分との反応性を高めるため
に、（Ａ）成分の有機化合物中の、ＳｉＨ基と反応性を
有する炭素−炭素二重結合のうちの少なくとも１個はビ
ニル基であることが好ましく、少なくとも２個がビニル
基であることがさらに好ましい。

【００６１】また、（Ｂ）成分との反応性をさらに高め
るために、（Ａ）成分の有機化合物中の、ＳｉＨ基と反
応性を有する炭素−炭素二重結合のうちの少なくとも１
個はアリル基であることが好ましく、少なくとも２個が
アリル基であることがさらに好ましい。

【００６２】また、その工業的入手性の容易さから、好
ましい（Ａ）成分の具体例として1,2−ポリブタジエ
ン、水添ビスフェノールＡジアリルエーテル、４−ビニ
ルシクロヘキセン、シクロペンタジエンまたは1,2,4−
トリビニルシクロヘキサンを挙げることができる。 （（Ｂ）成分）次に、（Ｂ）成分である１分子中に少な
くとも２個のＳｉＨ基を有するケイ素化合物について説
明する。

【００６３】本発明に使用できるＳｉＨ基を有する化合
物については特に制限がなく、例えば国際公開ＷＯ９６
／１５１９４に記載される化合物で、１分子中に少なく
とも２個のＳｉＨ基を有するものなどが使用できる。

【００６４】これらのうち、入手性の面からは、１分子
中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する鎖状、及び／又
は、環状ポリオルガノシロキサンが好ましく、（Ａ）成
分との相溶性が良いという観点から、さらに、下記一般
式（ＩＩＩ）

【００６５】

【化１０】 （式中、Ｒ²は炭素数１〜６の有機基を表し、ｎは３〜
１０の数を表す。）で表される、１分子中に少なくとも
２個のＳｉＨ基を有する環状ポリオルガノシロキサンが
好ましい。なお、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物中
の置換基Ｒ²としては、工業的な入手性が高いという観
点から、Ｃ、Ｈ、Ｏから構成されるものであることが好
ましく、炭化水素基であることがより好ましい。

【００６６】また、上記（Ａ）成分と良好な相溶性を有
するためには、（Ｂ）成分は、１分子中に少なくとも２
個のＳｉＨ基を含有する鎖状及び／又は環状ポリオルガ
ノシロキサン（以降（Ｄ）成分という）と、炭素−炭素
二重結合を有する有機化合物から選ばれた１種以上の化
合物（以降（Ｅ）成分という）との反応物であることが
好ましい。この場合、過剰量の（Ｄ）成分と比較的少量
の（Ｅ）成分とのヒドロシリル化反応により、ＳｉＨ基
を有する化合物（（Ｂ）成分）が得られる。

【００６７】（Ｂ）成分の（Ａ）成分に対する相溶性が
高くし得るという観点からは、（Ｅ）成分の好ましい具
体例として、ノボラックフェノールのアリルエーテルお
よびビスフェノールＡジアリルエーテル、２、２’−ジ
アリルビスフェノールＡ、ジアリルフタレート、フタル
酸のビス（２−アリルオキシエチル）エステル、スチレ
ン、α−メチルスチレンなどが挙げられる。（Ｅ）成分
の有機化合物は、単独もしくは２種以上のものを混合し
て用いることが可能である。

【００６８】上記したような各種（Ｂ）成分は単独もし
くは２種以上のものを混合して用いることが可能であ
る。

【００６９】上記したような（Ａ）成分と（Ｂ）成分の
混合比率は、必要な強度を失わない限りは特に限定され
ないが、一般に上記（Ａ）成分中のＳｉＨ基と反応性を
有する炭素−炭素二重結合の数のモル数（Ｘ）と、上記
（Ｂ）成分中のＳｉＨ基の数のモル数（Ｙ）との比が、
２≧Ｙ／Ｘ≧０．５であることが好ましく。Ｙ／Ｘ＞
２、あるいは０．５＞Ｙ／Ｘの場合は、十分な硬化性が
得られず、充分な強度が得られない場合があり、耐熱性
も低くなりうる。 （ヒドロシリル化触媒）次に（Ｃ）成分であるヒドロシ
リル化触媒について説明する。

【００７０】ヒドロシリル化触媒としては、ヒドロシリ
ル化反応の触媒活性があれば特に限定されないが、例え
ば、白金の単体、アルミナ、シリカ、カーボンブラック
などの担体に固体白金を担持させたもの、塩化白金酸、
塩化白金酸とアルコール、アルデヒド、ケトンなどとの
錯体、白金−オレフィン錯体（例えば、Ｐｔ（ＣＨ₂＝
ＣＨ₂）₂（ＰＰｈ₃）₂、Ｐｔ（ＣＨ₂＝ＣＨ₂）₂Ｃ
ｌ₂）、白金−ビニルシロキサン錯体（例えば、Ｐｔ
（ＶｉＭｅ₂ＳｉＯＳｉＭｅ₂Ｖｉ）_n、Ｐｔ［（ＭｅＶ
ｉＳｉＯ）₄］_m）、白金−ホスフィン錯体（例えば、Ｐ
ｔ（ＰＰｈ₃）₄、Ｐｔ（ＰＢｕ₃）₄）、白金−ホスファ
イト錯体（例えば、Ｐｔ［Ｐ（ＯＰｈ）₃］₄、Ｐｔ［Ｐ
（ＯＢｕ）₃］₄）（式中、Ｍｅはメチル基、Ｂｕはブチ
ル基、Ｖｉはビニル基、Ｐｈはフェニル基を表し、ｎ、
ｍは、整数を示す。）、ジカルボニルジクロロ白金、カ
ールシュテト（Ｋａｒｓｔｅｄｔ）触媒、また、アシュ
ビー（Ａｓｈｂｙ）の米国特許第３１５９６０１号およ
び３１５９６６２号明細書中に記載された白金−炭化水
素複合体、ならびにラモロー（Ｌａｍｏｒｅａｕｘ）の
米国特許第３２２０９７２号明細書中に記載された白金
アルコラート触媒が挙げられる。さらに、モディック
（Ｍｏｄｉｃ）の米国特許第３５１６９４６号明細書中
に記載された塩化白金−オレフィン複合体も本発明にお
いて有用である。

【００７１】また、白金化合物以外の触媒の例として
は、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ）₃、ＲｈＣｌ₃、ＲｈＡｌ₂Ｏ₃、
ＲｕＣｌ₃、ＩｒＣｌ₃、ＦｅＣｌ₃、ＡｌＣｌ₃、ＰｄＣ
ｌ₂・２Ｈ₂Ｏ、ＮｉＣｌ₂、ＴｉＣｌ₄などが挙げられ
る。

【００７２】これらの中では、触媒活性の点から塩化白
金酸、白金−オレフィン錯体、白金−ビニルシロキサン
錯体などが好ましい。また、これらの触媒は単独で使用
してもよく、２種以上併用してもよい。

【００７３】触媒の添加量は特に限定されないが、十分
な硬化性を有し、かつ硬化性組成物のコストを比較的低
く抑えるために、ＳｉＨ基１モルに対して、１０^-1〜１
０^-8モルの範囲が好ましく、より好ましくは、１０^-2〜
１０^-6モルの範囲である。

【００７４】また、上記触媒には助触媒を併用すること
が可能であり、例としてトリフェニルホスフィンなどの
リン系化合物、ジメチルマレエートなどの1,2−ジエス
テル系化合物、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−ブチ
ンなどのアセチレンアルコール系化合物、単体の硫黄な
どの硫黄系化合物、トリエチルアミンなどのアミン系化
合物などが挙げられる。助触媒の添加量は特に限定され
ないが、触媒１モルに対して、１０^-2〜１０²モルの範
囲が好ましく、より好ましくは１０^-1〜１０モルの範囲
である。 （添加剤等）さらに本発明の硬化性組成物の保存安定性
を改良する目的、あるいは製造過程でのヒドロシリル化
反応の反応性を調整する目的で、硬化遅延剤を使用する
ことができる。

【００７５】硬化遅延剤としては、脂肪族不飽和結合を
含有する化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物、
窒素含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物などが挙
げられ、これらを併用してもかまわない。脂肪族不飽和
結合を含有する化合物として、プロパギルアルコール
類、エン−イン化合物類、マレイン酸エステル類などが
例示される。有機リン化合物としては、トリオルガノフ
ォスフィン類、ジオルガノフォスフィン類、オルガノフ
ォスフォン類、トリオルガノフォスファイト類などが例
示される。有機イオウ化合物としては、オルガノメルカ
プタン類、ジオルガノスルフィド類、硫化水素、ベンゾ
チアゾール、ベンゾチアゾールジサルファイドなどが例
示される。窒素含有化合物としては、アンモニア、１〜
３級アルキルアミン類、アリールアミン類、尿素、ヒド
ラジンなどが例示される。スズ系化合物としては、ハロ
ゲン化第一スズ２水和物、カルボン酸第一スズなどが例
示される。有機過酸化物としては、ジ−ｔ−ブチルペル
オキシド、ジクミルペルオキシド、ベンゾイルペルオキ
シド、過安息香酸ｔ−ブチルなどが例示される。

【００７６】これらの硬化遅延剤のうち、遅延活性が良
好で原料入手性がよいという観点からは、ベンゾチアゾ
ール、チアゾール、ジメチルマレート、３−ヒドロキシ
−３−メチル−１−ブチンが好ましい。

【００７７】貯蔵安定性改良剤の添加量は、使用するヒ
ドロシリル化触媒１ｍｏｌに対し、１０^-1〜１０³モル
の範囲が好ましく、より好ましくは１〜５０モルの範囲
である。

【００７８】本発明の組成物としては上記したように各
種組み合わせのものが使用できるが、耐熱性が良好であ
るという観点から、組成物を硬化させて得られる硬化物
のＴｇが５０℃以上となるものが好ましく、１００℃以
上となるものがさらに好ましく、１５０℃以上となるも
のが特に好ましい。

【００７９】本発明の組成物には必要に応じて無機フィ
ラーを添加してもよい。無機フィラーを添加すると、組
成物の流動性の防止、材料の高強度化に効果がある。無
機フィラーとしては光学特性を低下させない、微粒子状
なものが好ましく、アルミナ、水酸化アルミニウム、溶
融シリカ、結晶性シリカ、超微粉無定型シリカや疎水性
超微粉シリカ、タルク、硫酸バリウムなどを挙げること
ができる。

【００８０】また更に、本発明の組成物の特性を改質す
る目的で、種々の樹脂を添加することも可能である。樹
脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスル
ホン樹脂、ポリアリレート樹脂、エポキシ樹脂、シアナ
ート樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド
樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ウレタン樹脂及びポ
リエステル樹脂などが例示されるがこれに限定されるも
のではない。

【００８１】本発明の組成物には、その他、老化防止
剤、ラジカル禁止剤、紫外線吸収剤、接着性改良剤、難
燃剤、界面活性剤、保存安定改良剤、オゾン劣化防止
剤、光安定剤、増粘剤、可塑剤、カップリング剤、酸化
防止剤、熱安定剤、導電性付与剤、帯電防止剤、放射線
遮断剤、核剤、リン系過酸化物分解剤、滑剤、顔料、金
属不活性化剤、物性調整剤などを本発明の目的および効
果を損なわない範囲において添加することができる。 （硬化性組成物の混合および成形方法）本発明の硬化性
組成物は、あらかじめ混合し、組成物中のＳｉＨ基と反
応性を有する炭素−炭素二重結合とＳｉＨ基の一部また
は全部を反応させることによって硬化させて光学材料と
することができる。

【００８２】組成物を反応させて硬化させる場合におい
て、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）各成分それぞれの必要量を
一度に混合して反応させてもよいが、一部を混合して反
応させた後残量を混合してさらに反応させる方法や、混
合した後反応条件の制御や、（１分子中に反応性の比較
的高い官能基と比較的低い官能基が混在する化合物を用
いた場合には）各々の官能基の反応性の差を利用するこ
とにより組成物中の官能基の一部のみを反応（Ｂステー
ジ化）させてから成形などの処理を行いさらに硬化させ
る方法をとることもできる。これらの方法によれば成形
時の粘度調整が容易となる。

【００８３】換言すれば、混合の方法としては、各種方
法をとることができるが、（Ａ）成分に（Ｃ）成分を混
合したものと、（Ｂ）成分を混合する方法が好ましい。
（Ａ）成分と（Ｂ）成分との混合物に（Ｃ）成分を混合
する方法であると反応の制御が困難なことがある。
（Ｂ）成分に（Ｃ）成分を混合したものに、（Ａ）成分
を混合する方法をとる場合は、（Ｃ）成分の存在下
（Ｂ）成分が水分と反応性を有するため、貯蔵中などに
変質することもある。

【００８４】硬化させる方法としては、単に混合するだ
けで反応させることもできるし、加熱して反応させるこ
ともできる。反応が速く、一般に耐熱性の高い材料が得
られやすいという観点から加熱して反応させる方法が好
ましい。

【００８５】反応温度としては種々設定できるが、例え
ば３０〜３００℃の温度が適用でき、１００〜２５０℃
がより好ましく、１５０〜２００℃がさらに好ましい。
反応温度が低いと十分に反応させるための反応時間が長
くなり、反応温度が高いと成形加工が困難となりやす
い。

【００８６】反応は一定の温度で行ってもよいが、必要
に応じて多段階あるいは連続的に温度を変化させてもよ
い。

【００８７】反応時間も種々設定できる。

【００８８】反応時の圧力も必要に応じ種々設定でき、
常圧、高圧、あるいは減圧状態で反応させることもでき
る。

【００８９】硬化させて得られる光学材料の形状も用途
に応じて種々とりうるので特に限定されないが、例えば
フィルム状、シート状、チューブ状、ロッド状、塗膜
状、バルク状などの形状とすることができる。

【００９０】成形する方法も従来の熱硬化性樹脂の成形
方法をはじめとして種々の方法をとることができる。例
えば、キャスト法、プレス法、注型法、トランスファー
成形法、コーティング法、ＲＩＭ法などの成形方法を適
用することができる。成形型は研磨ガラス、硬質ステン
レス研磨板、ポリカーボネート板、ポリエチレンテレフ
タレート板、ポリメチルメタクリレート板等を適用する
ことができる。また、成形型との離型性を向上させるた
めポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカーボネ
ートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリエチレン
フィルム、ポリテトラフルオロエチレンフィルム、ポリ
プロピレンフィルム、ポリイミドフィルム等を適用する
ことができる。

【００９１】成形時に必要に応じ各種処理を施すことも
できる。例えば、成形時に発生するボイドの抑制のため
に組成物あるいは一部反応させた組成物を遠心、減圧な
どにより脱泡する処理、プレス時に一旦圧力を開放する
処理などを適用することもできる。

【００９２】溶液流延法においては、本発明の組成物を
そのままフィルムなどに成形することも可能であるが、
該組成物を有機溶剤に溶解してワニスとすることも可能
である。使用できる溶剤は特に限定されるものではな
く、具体的に例示すれば、ベンゼン、トルエン、ヘキサ
ン、ヘプタンなどの炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラ
ン、１, ４−ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエー
テル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトンなどのケト
ン系溶媒、クロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジクロ
ロエタンなどのハロゲン系溶媒を好適に用いることがで
きる。溶媒は２種類以上の混合溶媒として用いることも
できる。溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラ
ン、クロロホルムが好ましい。使用する溶媒量は、用い
る反応性（Ａ）成分１ｇに対し、０．００１〜１０ ｍ
Ｌの範囲で用いるのが好ましく、０．５〜５ｍＬの範囲
で用いるのがさらに好ましく、１〜３ｍＬの範囲で用い
るのが特に好ましい。使用量が少ないと、低粘度化など
の溶媒を用いることの効果が得られにくく、また、使用
量が多いと、材料に溶剤が残留して熱クラックなどの問
題となり易く、またコスト的にも不利になり工業的利用
価値が低下する。 （用途）本発明の組成物は、あらかじめ混合し、組成物
中のＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合とＳ
ｉＨ基の一部または全部を反応させることによって硬化
させて光学材料とすることができる。

【００９３】本発明の硬化性組成物は、光学材料用組成
物として用いることができる。ここで言う光学材料と
は、可視光、赤外線、紫外線、Ｘ線、レーザーなどの光
をその材料中を通過させる用途に用いる材料一般を示
す。

【００９４】より具体的には、液晶ディスプレイ分野に
おける基板材料、導光板、プリズムシート、偏向板、位
相差板、視野角補正フィルム、接着剤、偏光子保護フィ
ルムなどの液晶用フィルムなどの液晶表示装置周辺材料
である。また、次世代フラットパネルディスプレイとし
て期待されるカラーＰＤＰ（プラズマディスプレイ）の
封止剤、反射防止フィルム、光学補正フィルム、ハウジ
ング材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス代替材
料、接着剤、またＬＥＤ表示装置に使用されるＬＥＤ素
子のモールド材、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラ
ス代替材料、接着剤、またプラズマアドレス液晶（ＰＡ
ＬＣ）ディスプレイにおける基板材料、導光板、プリズ
ムシート、偏向板、位相差板、視野角補正フィルム、接
着剤、偏光子保護フィルム、また有機ＥＬ（エレクトロ
ルミネッセンス）ディスプレイにおける前面ガラスの保
護フィルム、前面ガラス代替材料、接着剤、またフィー
ルドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）における各種
フィルム基板、前面ガラスの保護フィルム、前面ガラス
代替材料、接着剤である。

【００９５】光記録分野では、ＶＤ（ビデオディス
ク）、ＣＤ／ＣＤ−ＲＯＭ、ＣＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−
Ｒ／ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＭＯ／ＭＤ、ＰＤ（相変化ディス
ク）、光カード用のディスク基板材料、ピックアップレ
ンズ、保護フィルム、封止剤、接着剤などである。

【００９６】光学機器分野では、スチールカメラのレン
ズ用材料、ファインダプリズム、ターゲットプリズム、
ファインダーカバー、受光センサー部である。また、ビ
デオカメラの撮影レンズ、ファインダーである。またプ
ロジェクションテレビの投射レンズ、保護フィルム、封
止剤、接着剤などである。光センシング機器のレンズ用
材料、封止剤、接着剤、フィルムなどである。

【００９７】光部品分野では、光通信システムでの光ス
イッチ周辺のファイバー材料、レンズ、導波路、素子の
封止剤、接着剤などである。光コネクタ周辺の光ファイ
バー材料、フェルール、封止剤、接着剤などである。光
受動部品、光回路部品ではレンズ、導波路、ＬＥＤ素子
の封止剤、接着剤などである。光電子集積回路（ＯＥＩ
Ｃ）周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止剤、
接着剤などである。光ファイバー分野では、装飾ディス
プレイ用照明・ライトガイドなど、工業用途のセンサー
類、表示・標識類など、また通信インフラ用および家庭
内のデジタル機器接続用の光ファイバーである。

【００９８】半導体集積回路周辺材料では、ＬＳＩ、超
ＬＳＩ材料用のマイクロリソグラフィー用のレジスト材
料である。

【００９９】自動車・輸送機分野では、自動車用のラン
プリフレクタ、ベアリングリテーナー、ギア部分、耐蝕
コート、スイッチ部分、ヘッドランプ、エンジン内部
品、電装部品、各種内外装品、駆動エンジン、ブレーキ
オイルタンク、自動車用防錆鋼板、インテリアパネル、
内装材、保護・結束用ワイヤーネス、燃料ホース、自動
車ランプ、ガラス代替品である。また、鉄道車輌用の複
層ガラスである。また、航空機の構造材の靭性付与剤、
エンジン周辺部材、保護・結束用ワイヤーネス、耐蝕コ
ートである。

【０１００】建築分野では、内装・加工用材料、電気カ
バー、シート、ガラス中間膜、ガラス代替品、太陽電池
周辺材料である。農業用では、ハウス被覆用フィルムで
ある。次世代の光・電子機能有機材料としては、有機Ｅ
Ｌ素子周辺材料、有機フォトリフラクティブ素子、光−
光変換デバイスである光増幅素子、光演算素子、有機太
陽電池周辺の基板材料、ファイバー材料、素子の封止
剤、接着剤などである。 （硬化性組成物を液晶表示装置に用いる場合の詳細）上
記光学材料を用いて液晶表示装置を製造することができ
る。

【０１０１】この場合、光学材料を液晶用プラスチック
セル、偏光板、位相差板、偏光子保護フィルムなどの液
晶用フィルムとして使用し、通常の方法によって液晶表
示装置を製造すればよい。 （光学材料として透明導電性フィルムに使用する場合の
詳細）本発明における透明導電性フィルムとは、上記
（Ａ）〜（Ｃ）成分を必須成分として構成される硬化性
組成物からなる透明フィルムの少なくとも一つの表面に
透明導電層が設けられているフィルムであり、厚み・外
観・形状等特に限定されるものではない。

【０１０２】本発明における透明導電性層は、透明性フ
ィルムの少なくとも一つの表面に、金属薄膜、半導体薄
膜、あるいは多層薄膜などの透明導電膜を被覆させるこ
とによって製造するものであり、全表面、片方の面等、
特に限定されるものではない。

【０１０３】金属薄膜としては、ニッケル、チタン、ク
ロム、銀、亜鉛、アルミニウム、銅、金、パラジウムな
ど、半導体薄膜としては、例えばスズ、テルル、カドミ
ウム、モリブデン、タングステン、フッ素等を不純物と
して添加した酸化インジウム、酸化カドミウム、及び酸
化スズ、不純物としてアルミニウムを添加した酸化亜
鉛、酸化チタン等の金属酸化物膜が挙げられる。特に、
酸化スズを２〜１５重量％含有した酸化インジウム（Ｉ
ＴＯ）の半導体薄膜が透明性、導電性に優れており、好
ましく用いられる。誘電体／金属／誘電体にて構成され
る多層薄膜としては、酸化チタン／金／酸化チタンなど
が例として挙げられる。

【０１０４】なお、透明導電層の厚みは５〜２００ｎｍ
が好ましく、５ｎｍ未満では均一に膜を形成することが
困難な場合があり、２００ｎｍを越えると透明性が低下
したり、耐屈曲性が悪くなることがある。

【０１０５】また、これら透明導電膜を形成させる方法
としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーディング法、イオンビームスパッタリング法などが挙
げられる。

【０１０６】透明導電性フィルムの基材である透明性フ
ィルムの製造方法としては、従来の熱硬化性樹脂の成形
方法をはじめとして種々の方法をとることができる。

【０１０７】成形型の材質としては研磨ガラス、硬質ス
テンレス研磨板、ポリカーボネート板、ポリエチレンテ
レフタレート板、ポリメチルメタクリレート板等を適用
することができる。また、成形型との離型性を向上させ
るためポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリカー
ボネートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリエチ
レンフィルム、ポリテトラフルオロエチレンフィルム、
ポリプロピレンフィルム、ポリイミドフィルム等を適用
することができる。

【０１０８】本発明の透明導電性フィルムは、ガスバリ
ヤー性、耐傷つき性、耐薬品性等の機能を付与する目的
にて、薄膜が塗工されたものであってもよい。

【０１０９】すなわち、各種の熱可塑性樹脂、アミノ
基、イミノ基、エポキシ基、シリル基などを有する熱硬
化性樹脂、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル
基などを有する放射線硬化型樹脂、あるいはこれら樹脂
の混合物に重合禁止剤、ワックス類、分散剤、顔料、溶
剤、染料、可塑剤、紫外線吸収剤、無機フィラー等を加
えたものを、グラビアロールコーティング法、マイヤー
バーコーティング法、リバースロールコーティング法、
ディップコーティング法、エアーナイフコーティング
法、カレンダーコーティング法、スキーズコーティング
法、キスコーティング法、ファンテンコーティング法、
スプレーコーティング法、スピンコーティング法等の方
法により塗工することができる。さらに、塗工後、必要
に応じて放射線照射による硬化、または加熱による熱硬
化を行わせて硬化薄膜層とすることができる。また、印
刷を行う際にはグラビア方式、オフセット方式、フレキ
ソ方式、シルクスクリーン方式などの方法を用いること
ができる。また、ガスシール性等を付与する目的から、
アルミニウム、ケイ素、マグネシウム、亜鉛等を主成分
とする金属酸化物層を有してもよく、金属酸化物層は真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法、プラズマＣＶＤ法により形成される。

【０１１０】また、他のフィルムと積層化させることも
可能である。積層化させる方法としては、公知公用のい
かなる方法を用いてもよく、例えば、ヒートシール法、
インパルスシール法、超音波接合法、高周波接合法など
の熱接合方法、押出ラミネート法、ホットメルトラミネ
ート法、ドライラミネート法、ウェットラミネート法、
無溶剤接着ラミネート法、サーマルラミネート法、共押
出法等のラミネート加工方法などが挙げられる。積層化
させるフィルムとしては、例えば、ポリエステル樹脂フ
ィルム、ポリビニルアルコール樹脂フィルム、セルロー
ス樹脂フィルム、ポリフッ化ビニル樹脂フィルム、ポリ
塩化ビニリデン樹脂フィルム、ポリアクリロニトリル樹
脂フィルム、ナイロン樹脂フィルム、ポリエチレン樹脂
フィルム、ポリプロピレン樹脂フィルム、アセテート樹
脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、ポリカーボネー
トフィルム、ポリアクリレートフィルム等が挙げられ
る。

【０１１１】また、本発明の透明性フィルムの用途とし
ては、以下のものが挙げられる。 表示装置分野：メンブレンスイッチ、液晶表示装置（位
相差フィルム、偏光フィルム、プラスチック液晶セ
ル）、エレクトロルミネッセンス、エレクトロクロミッ
ク、電気泳動表示、プラズマディスプレイパネル、フィ
ールド・エミッションディスプレイ、バックライト用拡
散フィルム、カラーフィルター、 記録分野：静電記録基板、ＯＨＰ、第２原図、スライド
フィルム、マイクロフィルム、Ｘ線フィルム、 光・磁気メモリー分野：サーモ・プラスチック・レコー
ディング、強誘電体メモリー、磁気テープ、ＩＤカー
ド、バーコード、 帯電防止分野分野：メータ類の窓、テレビのブラウン
管、クリーンルーム窓、半導体包装材料、ＶＴＲテー
プ、フォトマスク用防塵フィルム、 電磁波遮蔽分野：計測器、医療機器、放射線検出器、Ｉ
Ｃ部品、ＣＲＴ、液晶表示装置、 光電変換素子分野：太陽電池の窓、光増幅器、光センサ
ー、 熱線反射分野：窓（建築、自動車等）、白熱電球、調理
オーブンの窓、炉の覗き窓、選択透過膜、 面状発熱体分野：デフロスタ、航空機、自動車、冷凍
庫、保育器、ゴーグル、医療機器、液晶表示装置、 電子部品・回路材料分野：コンデンサー、抵抗体、薄膜
複合回路、リードレスＬＳＩチップキャリアの実装、 電極分野：ペーパーバッテリー用電極、 光透過フィルター分野：紫外線カットフィルター、紫外
線透過フィルター、紫外線透過可視光吸収フィルター、
色分解フィルター、色温度変換フィルター、ニュートラ
ルデンシティフィルター、コントラストフィルター、波
長校正フィルター、干渉フィルター、赤外線透過フィル
ター、赤外線カットフィルター、熱線吸収フィルター、
熱線反射フィルター、 ガス選択透過性膜分野：酸素／窒素分離膜、二酸化炭素
分離膜、水素分離膜、 電気絶縁分野：絶縁粘着テープ、モーターのスロットラ
イナ、変圧機の相間絶縁、 高分子センサー分野：光センサー、赤外線センサー、音
波センサー、圧力センサー、 表面保護分野：液晶表示装置、ＣＲＴ、家具、システム
キッチン、自動車内外装、 その他分野：通電熱転写、プリンターリボン、電線ケー
ブルシールド、漏水防止フィルム。

【０１１２】

【実施例】以下に、本発明の実施例および比較例を示す
が、本発明は以下によって限定されるものではない。 （合成例１：ビスフェノールＡジアリルエーテル（ＢＰ
Ａ−ＡＥ）の合成）１Ｌの３つ口フラスコに、撹拌装
置、冷却管をセットした。このフラスコに、ビスフェノ
ールＡ１１４ｇ、炭酸カリウム１４５ｇ、アリルブロマ
イド１４０ｇ、アセトン２５０ｍＬを入れ、６０℃で１
２時間撹拌した。上澄み液をとり、分液ロートで水酸化
ナトリウム水溶液により洗浄し、その後水洗した。油層
を硫酸ナトリウムで乾燥させた後、エバポレーターで溶
媒を留去したところ、淡黄色の液体１２６ｇが得られ
た。¹Ｈ−ＮＭＲにより、ビスフェノールＡのＯＨ基が
アリルエーテル化したビスフェノールＡジアリルエーテ
ルであることがわかった。収率は８２％であり純度は９
５％以上であった。 （合成例２：ＢＰＡ−ＡＥ変性体の合成）１Ｌの４つ口
フラスコに、攪拌装置、冷却管、滴下漏斗をセットし
た。このフラスコにトルエン１５０ｇ、白金ビニルシロ
キサン錯体のキシレン溶液（白金として３ｗｔ％含有）
１５．６μＬ、1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシ
ロキサン５００ｇを加えてオイルバス中で７０℃に加
温、攪拌した。合成例１で製造したビスフェノールＡジ
アリルエーテル６４ｇをトルエン４０ｇで希釈して滴下
漏斗から滴下した。同温で６０分攪拌後放冷し、ベンゾ
チアゾール４．７４ｍｇを添加した。未反応の1,3,5,7
−テトラメチルシクロテトラシロキサンおよびトルエン
を減圧留去し、やや粘ちょうな液体を得た。¹Ｈ−ＮＭ
Ｒによりこのものは1,3,5,7−テトラメチルシクロテト
ラシロキサンのＳｉＨ基の一部がビスフェノールＡジア
リルエーテルと反応したもの（部分反応物Ａと称す）で
あることがわかった。 （合成例３：水添ビスフェノールＡジアリルエーテル
(ＨＢＰＡ−ＡＥ)の合成）５００ｍＬの４つ口フラスコ
に、攪拌装置、冷却管をセットした。このフラスコに下
式

【０１１３】

【化１１】 で表される水添ビスフェノールＡ（東京化成社製）６．
４９ｇ、５０ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液２４３ｇ、
臭化テトラｎ−ブチルアンモニウム３．５４ｇ、塩化ア
リル２０．５ｇ、キシレン１６．０ｍＬを入れ、窒素下
で６０℃で５時間、次いで７０℃で４時間加熱撹拌し
た。分液ロートで油層を分離し、１Ｎ塩酸５０ｍＬで１
回、水２００ｍＬで４回洗浄し、硫酸マグネシウムで脱
水した。６０〜７０℃にてエバポレーターで溶媒を留去
したところ、淡黄色の液体が得られた。¹Ｈ−ＮＭＲに
より、水添ビスフェノールＡのＯＨ基がアリルエーテル
化した水添ビスフェノールＡジアリルエーテルであるこ
とがわかった。 （実施例１：ＰＢ／シロキサン）1,2−ポリブタジエン
（日本曹達社製Ｂ−１０００）１．２７ｇと、1,3,5,7
−テトラメチルシクロテトラシロキサン１．２０ｇと、
白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白金として
０．２５ｗｔ％含有）１０μＬとを混合して本発明の組
成物とした。

【０１１４】このものを直径６．７ｃｍの軟膏缶に流延
し、オーブン中で５０℃から１２０℃まで５時間かけて
昇温し透明フィルムを得た。このものを２枚のガラス板
にはさみ、窒素気流下（２０ｍＬ／分）１５０℃で３時
間加熱硬化させた。得られた材料は目視で均一透明であ
り、強靭性を有していた。 （実施例２：ＰＢ／シロキサン）1,2−ポリブタジエン
（日本曹達社製Ｂ−１０００）５．０８ｇと、1,3,5,7
−テトラメチルシクロテトラシロキサン４．８０ｇと、
白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白金として
０．２５ｗｔ％含有）４０μＬとを混合して本発明の組
成物とした。

【０１１５】このものをすきま２ｍｍ厚のガラスセルに
ポリイミドフィルムを離型フィルムとして用いて充填
し、７５℃で３０分、１１０℃で３０分、さらに１５０
℃で１２時間加熱硬化させた。得られた材料は目視で均
一かつ無色透明であった。 （実施例３：ＰＢ+ＶＣＨ／シロキサン）1,2−ポリブタ
ジエン（日本曹達社製Ｂ−１０００）１．２７ｇと４−
ビニルシクロヘキセン１．０８ｇ、1,3,5,7−テトラメ
チルシクロテトラシロキサン２．４０ｇと、白金ビニル
シロキサン錯体のキシレン溶液（白金として０．２５ｗ
ｔ％含有）２０μＬとを混合して本発明の組成物とし
た。

【０１１６】このものを直径６．７ｃｍの軟膏缶に流延
し、オーブン中で５０℃から１２０℃まで５時間かけて
昇温し透明フィルムを得た。このものを２枚のガラス板
にはさみ、窒素気流下（２０ｍＬ／分）１５０℃で３時
間加熱硬化させた。得られた材料は目視で均一透明であ
り、強靭性を有していた。 （実施例４：ＴＶＣ／ＢＰＡ−ＡＥ変性体）1,2,4−ト
リビニルシクロヘキサン（デグサヒュルス社製）１．０
９ｇと、合成例２で得られたＢＰＡ-ＡＥ変性体２．６
３ｇと、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白
金として０．２５ｗｔ％含有）２０μＬとを混合して本
発明の組成物とした。このものを直径６．７ｃｍの軟膏
缶に流延し、オーブン中で５０℃から１２０℃まで５時
間かけて昇温し透明フィルムを得た。このものを２枚の
ガラス板にはさみ、窒素気流下（２０ｍＬ／分）２００
℃で２時間加熱硬化させた。得られた材料は目視で均一
透明であり、強靭性を有していた。 （実施例５：ＶＣＨ／ＢＰＡ−ＡＥ変性体）４−ビニル
シクロヘキセン（東京化成社製）２．６３ｇと、合成例
２で得られたＢＰＡ-ＡＥ変性体２．６３ｇと、白金ビ
ニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白金として０．３
ｗｔ％含有）３０．２μＬとを混合して本発明の組成物
とした。このものを直径６．７ｃｍの軟膏缶に流延し、
オーブン中で５０℃から１２０℃まで５時間かけて昇温
し透明フィルムを得た。このものを２枚のガラス板には
さみ、窒素気流下（２０ｍＬ／分）２００℃で２時間加
熱硬化させた。得られた材料は目視で均一微黄色透明固
体であり、強靭性を有していた。 （実施例６：ＰＢ／ＢＰＡ−ＡＥ変性体）1,2−ポリブ
タジエン（日本曹達社製Ｂ−１０００）６．２３ｇと、
合成例２で得られたＢＰＡ-ＡＥ変性体１４．０ｇと、
白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白金として
０．１５ｗｔ％含有）１４７μＬとを混合して本発明の
組成物とした。

【０１１７】この組成物を、約１ｔｏｒｒの減圧下で１
時間脱泡した後、ＰＥＴフィルムを離型フィルムとして
用い、バーコーターを用いて厚み０．２ｍｍにてキャス
トした。窒素雰囲気中で、１００℃で３０分、引き続き
１２０℃で１５時間加熱硬化させた。目視で均一透明な
フィルムが得られた。 （実施例７：ＴＶＣ／ＢＰＡ−ＡＥ変性体）1,2,4−ト
リビニルシクロヘキサン（デグサヒュルス社製）６．２
３ｇと、合成例２で得られたＢＰＡ-ＡＥ変性体１４．
０ｇと、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液（白
金として０．１５ｗｔ％含有）１４７μＬとを混合して
本発明の組成物とした。

【０１１８】この組成物を、約１ｔｏｒｒの減圧下で１
時間脱泡した後、ＰＥＴフィルムを離型フィルムとして
用い、バーコーターを用いて厚み０．２ｍｍにてキャス
トした。窒素雰囲気中で、１００℃で３０分、引き続き
１２０℃で１５時間加熱硬化させた。目視で均一透明な
フィルムが得られた。 （実施例８：ＶＣＨ／シロキサン）４−ビニルシクロヘ
キセン（東京化成社製）７．０ｇと、1,3,5,7−テトラ
メチルシクロテトラシロキサン７．８ｇと、白金ビニル
シロキサン錯体のキシレン溶液（白金として０．５ｗｔ
％含有）１０．０μＬとを混合して本発明の組成物とし
た。得られた材料は目視で均一かつ無職透明であった。 （実施例９：ＨＢＰＡ−ＡＥ／ＢＰＡ−ＡＥ変性体）合
成例３で製造したＨＢＰＡ−ＡＥ １．２ｇと、合成例
２で製造したＢＰＡ-ＡＥ変性体（合成例２で示したよ
うにＢＰＡ-ＡＥ変性体は本発明の（Ｃ）成分としての
白金ビニルシロキサン錯体を含有している ）１．０ｇ
とを混合して本発明の組成物とした。

【０１１９】このものを直径４．０ｃｍの軟膏缶に流延
し、オーブン中で５０℃で２時間、８０℃で４時間、１
２０℃で１時間、１５０℃で１９時間加熱硬化させた。
得られた材料は目視で均一かつ微黄色透明であった。 （比較例１）帝人化成（株）製ポリカーボネート樹脂Ｃ
−１４００（平均分子量３７０００）を用いてフィルム
（厚み：１００μｍ）を作製し光学特性を評価した。 （比較例２）帝人化成（株）製ポリカーボネート樹脂Ｃ
−１４００（平均分子量３７０００）を用いてフィルム
（厚み：３ｍｍ）を作製し光学特性を評価した。 （測定例）実施例１〜３、比較例１、２で得られた試料
について光学特性を評価した。 リターデーション：フィルムから２０ｍｍ×２０ｍｍの
サイズで試験片を切り出した。温度２５℃、湿度５０％
において、オーク製作所製顕微偏光分光光度計（波長５
１５ｎｍ）を用いて各試験片について無荷重の場合の角
位相を測定し、次式よりリターデーション値を求めた。 リターデーション＝（角位相−９０）／１８０×５１５ 全光線透過率：フィルムから３０ｍｍ×３０ｍｍのサイ
ズで試験片を切り出した。温度２３℃、湿度５０％にお
いて、日本電色工業製濁度計３００Ａを用いて測定し
た。

【０１２０】

【表１】 表１から明らかなように、本発明のプラスチックフィル
ム液晶表示基板用材料はポリカーボネートフィルムと比
較して、低複屈折を持ち、高全光線透過率である優れた
性能を有する。

【０１２１】従って、本発明の組成物からなる材料を用
いることによって表示品位が高い液晶表示装置が作製出
来る。 （実施例１０）実施例１と同じ組成物を、約１ｔｏｒｒ
の減圧下で１時間脱泡した後、結晶化ＰＥＴフィルムを
離型フィルムとして用い、０．３ｍｍ厚のシリコーンゴ
ムをスペーサーとして用いて１５０℃の温度で１時間３
ｋｇ／ｃｍ²の圧力でプレス成形した。得られた材料は
実施例１で得た材料と同様の性状を有していた。 （実施例１１）実施例１と同じ組成物を、約１ｔｏｒｒ
の減圧下で１時間脱泡した後、ＰＥＴフィルムを離型フ
ィルムとして用い、バーコーターを用いてキャストし
た。１００℃で３０分、引き続き１２０℃で１５時間加
熱硬化させた。膜厚１８０μｍの目視均一透明なフィル
ムが得られた。 （実施例１２）１．２−ポリブタジエン（日本曹達社製
Ｂ−１０００）６．２３ｇと、合成例２で製造したＢＰ
Ａ−ＡＥ変性体（合成例２で示したようにＢＰＡ−ＡＥ
変性体は本発明の（Ｃ）成分としての白金ビニルシロキ
サン錯体を含有している）１４．４８ｇとを混合して本
発明の組成物とした。このものを、隙間を１７０μmに
設定したバーコーターを用いてＰＥＴフィルム上に流延
し、オーブン中で１００℃で３０分、次いで１２０℃で
１５時間加熱し、厚み１１２μmの透明フィルムを得
た。

【０１２２】このフィルムに透明導電層として、酸化イ
ンジウムスズ（ＩＴＯ）膜をスパッタリング法により以
下のように形成させた。スパッタ装置としてＳｈｉｍａ
ｄｕＳｐｕｔｔｅｒｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍ ＨＳＭ−４
２１を用い、ターゲットには酸化インジウム９０重量％
と酸化スズ１０重量％からなる酸化インジウムスズを用
いた。上記透明性フィルムをスパッタ装置にセットした
後、室温下、２．１×１０^-5Ｔｏｒｒの圧力まで排気
し、次いで、アルゴンを導入してスパッタリングを行っ
た結果、膜厚１００ｎｍの透明導電膜が形成され、この
表面抵抗値は１１９Ω／□であった。

【０１２３】また、上記透明性フィルムをスパッタ装置
にセットした後、２５０℃の温度下、３．６×１０^-5Ｔ
ｏｒｒの圧力まで排気し、次いで、アルゴンを導入して
スパッタリングを行った結果、膜厚１００ｎｍの透明導
電膜が形成され、この表面抵抗値は６９Ω／□であっ
た。 （実施例１３）本発明の液晶表示装置は、例えば以下の
ようなものである。

【０１２４】図１は、本発明のプラスチックフィルム液
晶表示装置基板用材料を用いて作製出来るプラスチック
フィルム液晶表示装置１の構成を示す断面図である。

【０１２５】図１を参照して、液晶表示装置１は、一対
の透光性を有する透明基板２、３を有しており、各透明
基板２、３の外側の表面に、液晶層内へ酸素や水蒸気な
どのガスが進入することを防ぐガスバリア層４、５が形
成されている。このガスバリア層４、５は、使用環境に
応じ、より耐通気性が要求される場合に適宜形成される
ものであり、ポリビニルアルコールなどによって形成さ
れる。

【０１２６】透明基板２、３の対向する側の表面には、
ＳｉＯ_Xを１５０〜１０００Åの膜厚に蒸着してアンダ
ーコート層６、７が形成され、さらにこの上に、ＩＴＯ
（インジウム酸化錫）を膜厚約１５００Åにスパッタ蒸
着して透明導電膜８、９が形成されている。さらにこの
上にトップコート層１０、１１およびポリイミドを約５
００Åになるようにスピンコートまたは印刷した配向膜
１２、１３が形成されている。

【０１２７】透明基板２、３間のスペースに、液晶材料
１４を注入し、シール部材１５で封止し、さらに外方側
表面に偏光板１６、１７を積層して液晶表示装置１が構
成される。

【０１２８】本発明のプラスチックフィルム液晶表示装
置基板用材料はリターデーションが微少であるため液晶
表示装置の表示品位が向上する。

【０１２９】

【発明の効果】本発明の組成物から製造した材料は、複
屈折率が低く、光学的透明性が高く、さらに強靭性を有
する光学材料用に適した材料である。

【０１３０】本発明の組成物から製造した透明導電性フ
ィルムは、リターデーションが低く、光学的透明性が高
いためエレクトロニクス分野をはじめとする高度、且つ
複雑な特性の求められる用途に用いることができる。

【０１３１】本発明の組成物から製造したプラスチック
フィルム液晶表示装置基板用材料は、リターデーション
が低く、光学的透明性が高いためプラスチックフィルム
液晶表示装置用基板材料として好適である。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、本発明のプラスチックフィルム液晶表
示装置基板用材料を用いて作製したプラスチックフィル
ム液晶表示装置の概略断面図である。

【符号の説明】

１ 液晶表示装置 ２ 透明基板 ３ 透明基板 ４ ガスバリア層 ５ ガスバリア層 ６ アンダーコート層 ７ アンダーコート層 ８ 透明導電膜 ９ 透明導電膜 １０ トップコート層 １１ トップコート層 １２ 配向膜 １３ 配向膜 １４ 液晶材料 １５ シール部材 １６ 偏光板 １７ 偏光板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 1/04 Ｇ０２Ｂ 1/04 Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ // Ｃ０８Ｌ 47/00 Ｃ０８Ｌ 47/00 Ｂ２９Ｋ 83:00 Ｂ２９Ｋ 83:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 Ｂ２９Ｌ 7:00 (31)優先権主張番号 特願2000−207696(P2000−207696) (32)優先日 平成12年７月10日(2000．7．10) (33)優先権主張国 日本（ＪＰ） Ｆターム(参考） 2H090 JB03 KA08 4F100 AK52A AT00A BA02 CA02 GB41 JG01 JG01B JJ03 JN01 JN01A JN01B 4F205 AA33 AB03 AG01 GA07 GB02 GC01 GE21 4J002 BL01X CP04W EA026 ED026 GN00 GP00 GQ00 GQ05

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）成分として、ＳｉＨ基と反応性を
   有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個
   有する脂肪族系有機化合物、 （Ｂ）成分として、１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ
   基を有する化合物、および （Ｃ）成分として、ヒドロシリル化触媒、 を含有する硬化性組成物。
2. 【請求項２】 上記（Ａ）成分に含まれる炭素−炭素二
   重結合の少なくとも一個が、ビニル基又はアリル基であ
   る請求項１に記載の硬化性組成物。
3. 【請求項３】 上記（Ａ）成分が、1,2−ポリブタジエ
   ン、水添ビスフェノールＡジアリルエーテル、４−ビニ
   ルシクロヘキセンまたは1,2,4−トリビニルシクロヘキ
   サンである請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
4. 【請求項４】 上記（Ａ）成分が、水添ビスフェノール
   Ａジアリルエーテル、４−ビニルシクロヘキセンまたは
   1,2,4−トリビニルシクロヘキサンである請求項１〜３
   のいずれかの項に記載の硬化性組成物。
5. 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかの項に記載の硬
   化性組成物が、光学材料に用いられる光学材料用組成
   物。
6. 【請求項６】 上記光学材料が液晶用フィルムである請
   求項５に記載の光学材料用組成物。
7. 【請求項７】 上記光学材料が液晶用プラスチックセル
   である請求項５に記載の光学材料用組成物。
8. 【請求項８】 請求項５〜７のいずれか１項に記載の光
   学材料用組成物を混合し、上記（Ａ）成分に含まれる炭
   素−炭素二重結合と、上記（Ｂ）成分に含まれるＳｉＨ
   基の一部または全部を反応させることによって硬化させ
   てなる光学材料。
9. 【請求項９】 請求項５〜７のいずれか１項に記載の光
   学材料用組成物を混合する工程、および上記（Ａ）成分
   に含まれる炭素−炭素二重結合と、上記（Ｂ）成分に含
   まれるＳｉＨ基の一部または全部を反応させる工程、を
   包含する光学材料の製造方法。
10. 【請求項１０】 請求項８に記載の光学材料を用いた液
    晶表示装置。
11. 【請求項１１】 請求項１記載の硬化性組成物を硬化す
    ることによって得られた硬化物からなる透明性フィルム
    と、該透明性フィルムの少なくとも一つの表面に設けら
    れた透明導電層と、を有する透明導電性フィルム。
12. 【請求項１２】 請求項１１に記載の透明導電性フィル
    ムを、成形型によって作製することを包含する透明導電
    性フィルムの製造方法。
13. 【請求項１３】 上記成形型が、表面が研磨されたガラ
    ス製である請求項１２記載の透明導電性フィルムの製造
    方法。
14. 【請求項１４】 上記成形型が、硬質ステンレス製研磨
    板である請求項１２記載の透明導電性フィルムの製造方
    法。
15. 【請求項１５】 請求項１１に記載の透明導電性フィル
    ムを、溶液流延法によって作製することを包含する透明
    導電性フィルムの製造方法。
16. 【請求項１６】 一対のプラスチックフィルム基板間に
    液晶層を介在したプラスチックフィルム液晶表示装置に
    おいて、 上記基板の一方又は両方が、請求項１記載の硬化性組成
    物を硬化することによって得られるプラスチックフィル
    ム液晶表示装置。
17. 【請求項１７】 上記液晶層がスーパーツイステッドネ
    マテイック型である請求項１６に記載のプラスチックフ
    ィルム液晶表示装置。
18. 【請求項１８】 請求項１６に記載の液晶表示装置に使
    用する上記基板を成形型によって作製するプラスチック
    フィルム液晶表示装置の製造方法。
19. 【請求項１９】 上記成形型が研磨ガラス製である請求
    項１８記載のプラスチックフィルム液晶表示装置の製造
    方法。
20. 【請求項２０】 上記成形型が硬質ステンレス製研磨板
    である請求項１８記載のプラスチックフィルム液晶表示
    装置の製造方法。
21. 【請求項２１】 上記液晶表示装置に使用されるプラス
    チックフィルム基板を、流延法によって作製する工程を
    包含する請求項１８に記載のプラスチックフィルム液晶
    表示装置の製造方法。