JP2002088028A - 高純度ニトロ化合物の製造方法 - Google Patents
高純度ニトロ化合物の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 不純物を含む２，４，５−トリフルオロ−３
−メチル安息香酸などのハロゲン化合物をそのまま出発
原料として用い、しかも２，４，５−トリフルオロ−３
−メチル−６−ニトロ安息香酸などの対応するニトロ化
合物を高純度かつ高収率で製造する方法を提供する。 【解決手段】 ニトロ化反応によって得られる粗ニトロ
化合物（２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−
ニトロ安息香酸など）を水を用いて、再結晶および洗浄
を行う。
−メチル安息香酸などのハロゲン化合物をそのまま出発
原料として用い、しかも２，４，５−トリフルオロ−３
−メチル−６−ニトロ安息香酸などの対応するニトロ化
合物を高純度かつ高収率で製造する方法を提供する。 【解決手段】 ニトロ化反応によって得られる粗ニトロ
化合物（２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−
ニトロ安息香酸など）を水を用いて、再結晶および洗浄
を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は高純度ニトロ化合物
の製造方法に関し、詳しくは、例えば、２，４，５−ト
リフルオロ−３−メチル安息香酸をニトロ化して、２，
４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香
酸を高純度かつ高収率で製造する方法に関する。
の製造方法に関し、詳しくは、例えば、２，４，５−ト
リフルオロ−３−メチル安息香酸をニトロ化して、２，
４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香
酸を高純度かつ高収率で製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】２，４，５−トリフルオロ−３−メチル
安息香酸をニトロ化して２，４，５−トリフルオロ−３
−メチル−６−ニトロ安息香酸を製造することは公知で
ある（特開平８−２７７２８４号公報、特開平８−２５
９５６１号公報、特開平８−１９８８１９号公報、ＰＣ
Ｔ／ＪＰ９７／０１３２７など）。
安息香酸をニトロ化して２，４，５−トリフルオロ−３
−メチル−６−ニトロ安息香酸を製造することは公知で
ある（特開平８−２７７２８４号公報、特開平８−２５
９５６１号公報、特開平８−１９８８１９号公報、ＰＣ
Ｔ／ＪＰ９７／０１３２７など）。
【０００３】また、上記出発原料の２，４，５−トリフ
ルオロ−３−メチル安息香酸は、２，４，５−トリフル
オロ−３−メチルフタル酸などを用いて得られることも
公知である（特開昭６１−２０５２４０号公報、特開昭
６２−２１５５７２号公報、特開平３−９５１７６号公
報など）。
ルオロ−３−メチル安息香酸は、２，４，５−トリフル
オロ−３−メチルフタル酸などを用いて得られることも
公知である（特開昭６１−２０５２４０号公報、特開昭
６２−２１５５７２号公報、特開平３−９５１７６号公
報など）。
【０００４】２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−
６−ニトロ安息香酸は、通常、反応液を水に注入した
後、ジイソプロピルエーテルなどの有機溶剤を用いて抽
出して回収されている。
６−ニトロ安息香酸は、通常、反応液を水に注入した
後、ジイソプロピルエーテルなどの有機溶剤を用いて抽
出して回収されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】２，４，５−トリフル
オロ−３−メチル安息香酸を製造する場合、通常、５〜
１０％程度の位置異性体が副生し、反応物中に残留す
る。このような不純物を含む２，４，５−トリフルオロ
−３−メチル安息香酸をそのままニトロ化したのでは高
純度の２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニ
トロ安息香酸を得ることはできない。
オロ−３−メチル安息香酸を製造する場合、通常、５〜
１０％程度の位置異性体が副生し、反応物中に残留す
る。このような不純物を含む２，４，５−トリフルオロ
−３−メチル安息香酸をそのままニトロ化したのでは高
純度の２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニ
トロ安息香酸を得ることはできない。
【０００６】そこで、このような不純物を含む２，４，
５−トリフルオロ−３−メチル安息香酸をニトロ化して
高純度の２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−
ニトロ安息香酸を製造するためには、出発原料の２，
４，５−トリフルオロ−３−メチル安息香酸を精製して
高純度のものとするか、反応物から２，４，５−トリフ
ルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸を抽出した
後、高度に精製することが考えられる。
５−トリフルオロ−３−メチル安息香酸をニトロ化して
高純度の２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−
ニトロ安息香酸を製造するためには、出発原料の２，
４，５−トリフルオロ−３−メチル安息香酸を精製して
高純度のものとするか、反応物から２，４，５−トリフ
ルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸を抽出した
後、高度に精製することが考えられる。
【０００７】しかし、本発明者らが検討した範囲では、
通常の精製手段によっては、２，４，５−トリフルオ
ロ−３−メチル安息香酸中の不純物である位置異性体の
除去が困難で、２，４，５−トリフルオロ−３−メチル
安息香酸を高純度に精製することは困難である、２，
４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香
酸を、従来一般に抽出溶剤として用いられているジイロ
プロピルエーテルなどの有機溶剤を用い、再結晶した
後、結晶表面に付着した不純物を除くために洗浄すると
いう一般の精製操作を行うと、２，４，５−トリフルオ
ロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸の一部が溶出し
て、２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニト
ロ安息香酸の歩留まりが低下することがわかった。
通常の精製手段によっては、２，４，５−トリフルオ
ロ−３−メチル安息香酸中の不純物である位置異性体の
除去が困難で、２，４，５−トリフルオロ−３−メチル
安息香酸を高純度に精製することは困難である、２，
４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香
酸を、従来一般に抽出溶剤として用いられているジイロ
プロピルエーテルなどの有機溶剤を用い、再結晶した
後、結晶表面に付着した不純物を除くために洗浄すると
いう一般の精製操作を行うと、２，４，５−トリフルオ
ロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸の一部が溶出し
て、２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニト
ロ安息香酸の歩留まりが低下することがわかった。
【０００８】本発明の目的は、不純物を含む２，４，５
−トリフルオロ−３−メチル安息香酸などのハロゲン化
合物をそのまま出発原料として用い、しかも２，４，５
−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸など
の対応するニトロ化合物を高純度かつ高収率で製造する
方法を提供することにある。
−トリフルオロ−３−メチル安息香酸などのハロゲン化
合物をそのまま出発原料として用い、しかも２，４，５
−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸など
の対応するニトロ化合物を高純度かつ高収率で製造する
方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らの研究によれ
ば、不純物を含む２，４，５−トリフルオロ−３−メチ
ル安息香酸をそのまま出発原料としてニトロ化し、反応
物から有機溶剤で抽出して得られる粗２，４，５−トリ
フルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸について、
再結晶した後、結晶表面に付着した不純物を除去するた
めに洗浄するという通常の精製操作を行う際に、従来一
般に用いられている有機溶剤の代わりに水を用いると、
高純度の２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−
ニトロ安息香酸を高収率で（すなわち、溶出損失を生じ
ることなく、高い歩留まりで）得られることがわかっ
た。
ば、不純物を含む２，４，５−トリフルオロ−３−メチ
ル安息香酸をそのまま出発原料としてニトロ化し、反応
物から有機溶剤で抽出して得られる粗２，４，５−トリ
フルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸について、
再結晶した後、結晶表面に付着した不純物を除去するた
めに洗浄するという通常の精製操作を行う際に、従来一
般に用いられている有機溶剤の代わりに水を用いると、
高純度の２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−
ニトロ安息香酸を高収率で（すなわち、溶出損失を生じ
ることなく、高い歩留まりで）得られることがわかっ
た。
【００１０】その理由は、未だ十分解明するに至ってい
ないが、ニトロ化の際に不純物である位置異性体は酸
化され、この酸化物は室温で比較的高い水溶解度を有し
ているので、室温で水で洗浄することにより容易に溶解
除去できる、２，４，５−トリフルオロ−３−メチル
−６−ニトロ安息香酸は室温での水溶解度は低いので水
洗浄の際の溶出は限定的である、２，４，５−トリフ
ルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸は、８０℃程
度まで昇温すると水に容易に溶解して再結晶が可能とな
る、２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニ
トロ安息香酸のジイソプロピルエーテルなどの有機溶剤
への溶解度は室温でも高く、再結晶後に有機溶剤で洗浄
すると２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニ
トロ安息香酸が一部溶出して、歩留まりが低下する、に
あるものと考えられている。なお、本発明は、このよう
な考察によって制約を受けるものではない。本発明は上
記のような知見に基づいて完成されたものである。
ないが、ニトロ化の際に不純物である位置異性体は酸
化され、この酸化物は室温で比較的高い水溶解度を有し
ているので、室温で水で洗浄することにより容易に溶解
除去できる、２，４，５−トリフルオロ−３−メチル
−６−ニトロ安息香酸は室温での水溶解度は低いので水
洗浄の際の溶出は限定的である、２，４，５−トリフ
ルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸は、８０℃程
度まで昇温すると水に容易に溶解して再結晶が可能とな
る、２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニ
トロ安息香酸のジイソプロピルエーテルなどの有機溶剤
への溶解度は室温でも高く、再結晶後に有機溶剤で洗浄
すると２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニ
トロ安息香酸が一部溶出して、歩留まりが低下する、に
あるものと考えられている。なお、本発明は、このよう
な考察によって制約を受けるものではない。本発明は上
記のような知見に基づいて完成されたものである。
【００１１】すなわち、本発明は、一般式（１）
【００１２】
【化３】
【００１３】（式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3は、それぞれ独立
して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアル
コキシル基であり、Ｒ1は水酸基、塩素原子、−ＣＨ
（ＣＯ2Ｒ 3）2、−ＣＨ2ＣＯ2Ｒ3または−Ｃ（＝Ｃ−Ｒ
4）ＣＯ2Ｒ3（ここで、Ｒ3はアルキル基、Ｒ4はアルコ
キシ基またはシクロプロピルアミノ基である。）であ
り、Ｒ2はアルキル基または−ＣＨ（Ｒ5）（Ｒ6）（こ
こで、Ｒ5、Ｒ6は、それぞれ独立して、シアノ基または
−ＣＯＯＲ7（ここで、Ｒ7はアルキル基である。））で
表されるハロゲン化合物をニトロ化して一般式（２）
して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアル
コキシル基であり、Ｒ1は水酸基、塩素原子、−ＣＨ
（ＣＯ2Ｒ 3）2、−ＣＨ2ＣＯ2Ｒ3または−Ｃ（＝Ｃ−Ｒ
4）ＣＯ2Ｒ3（ここで、Ｒ3はアルキル基、Ｒ4はアルコ
キシ基またはシクロプロピルアミノ基である。）であ
り、Ｒ2はアルキル基または−ＣＨ（Ｒ5）（Ｒ6）（こ
こで、Ｒ5、Ｒ6は、それぞれ独立して、シアノ基または
−ＣＯＯＲ7（ここで、Ｒ7はアルキル基である。））で
表されるハロゲン化合物をニトロ化して一般式（２）
【００１４】
【化４】
【００１５】（式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、ｌ、ｍ、ｎは一般式
（１）と同じである。）で表されるニトロ化合物を製造
するにあたり、粗ニトロ化合物を水で精製することを特
徴とする高純度ニトロ化合物の製造方法である。
（１）と同じである。）で表されるニトロ化合物を製造
するにあたり、粗ニトロ化合物を水で精製することを特
徴とする高純度ニトロ化合物の製造方法である。
【００１６】
【発明の実施の形態】一般式（１）において、Ｘ1、Ｘ2
およびＸ3は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜５のアルキル
基）またはアルコキシル基（好ましくは炭素数１〜５の
アルコキシル基）であり、好ましくはハロゲン原子であ
る。ハロゲン原子のなかでも、フッ素原子が好適であ
る。
およびＸ3は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜５のアルキル
基）またはアルコキシル基（好ましくは炭素数１〜５の
アルコキシル基）であり、好ましくはハロゲン原子であ
る。ハロゲン原子のなかでも、フッ素原子が好適であ
る。
【００１７】Ｒ1は水酸基、塩素原子、−ＣＨ（ＣＯ2Ｒ
3）2、−ＣＨ2ＣＯ2Ｒ3または−Ｃ（＝Ｃ−Ｒ4）ＣＯ2
Ｒ3（ここで、Ｒ3は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ4は
炭素数１〜４のアルコキシ基またはシクロプロピルアミ
ノ基である。）であり、好ましくは水酸基である。
3）2、−ＣＨ2ＣＯ2Ｒ3または−Ｃ（＝Ｃ−Ｒ4）ＣＯ2
Ｒ3（ここで、Ｒ3は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ4は
炭素数１〜４のアルコキシ基またはシクロプロピルアミ
ノ基である。）であり、好ましくは水酸基である。
【００１８】Ｒ2はアルキル基（好ましくは炭素数１〜
５のアルキル基）または−ＣＨ（Ｒ5）（Ｒ6）（ここ
で、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ独立して、シアノ基また
は−ＣＯＯＲ7（ここで、Ｒ7は炭素数１〜５のアルキル
基である。））であり、好ましくは炭素数１〜５のアル
キル基である。
５のアルキル基）または−ＣＨ（Ｒ5）（Ｒ6）（ここ
で、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ独立して、シアノ基また
は−ＣＯＯＲ7（ここで、Ｒ7は炭素数１〜５のアルキル
基である。））であり、好ましくは炭素数１〜５のアル
キル基である。
【００１９】一般式（１）で表されるハロゲン化合物の
なかでも、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が、ハロゲン原子、好ま
しくはフッ素原子であり、Ｒ1が水酸基であり、Ｒ2が炭
素数１〜５のアルキル基である化合物が好適に用いられ
る。これら好適なハロゲン化合物の代表例としては、
２，４，５−トリフルオロ−３−メチル安息香酸を挙げ
ることができる。
なかでも、Ｘ1、Ｘ2およびＸ3が、ハロゲン原子、好ま
しくはフッ素原子であり、Ｒ1が水酸基であり、Ｒ2が炭
素数１〜５のアルキル基である化合物が好適に用いられ
る。これら好適なハロゲン化合物の代表例としては、
２，４，５−トリフルオロ−３−メチル安息香酸を挙げ
ることができる。
【００２０】以下、一般式（１）で表されるハロゲン化
合物として２，４，５−トリフルオロ−３−メチル安息
香酸を例に挙げて本発明を詳しく説明する。
合物として２，４，５−トリフルオロ−３−メチル安息
香酸を例に挙げて本発明を詳しく説明する。
【００２１】２，４，５−トリフルオロ−３−メチル安
息香酸は、前記のとおり、公知なものであり、一般に知
られている方法にしたがって調製することができる。ま
た、２，４，５−トリフルオロ−３−メチル安息香酸を
ニトロ化して対応するニトロ化物、すなわち２，４，５
−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸を製
造することも、前記のとおり、公知であり、本発明のニ
トロ化反応は、これら一般に知られている方法にしたが
って実施することができる。例えば、濃硫酸に２，４，
５−トリフルオロ−３−メチル安息香酸を溶解した後、
濃硝酸を滴下することにより容易にニトロ化することが
できる。
息香酸は、前記のとおり、公知なものであり、一般に知
られている方法にしたがって調製することができる。ま
た、２，４，５−トリフルオロ−３−メチル安息香酸を
ニトロ化して対応するニトロ化物、すなわち２，４，５
−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸を製
造することも、前記のとおり、公知であり、本発明のニ
トロ化反応は、これら一般に知られている方法にしたが
って実施することができる。例えば、濃硫酸に２，４，
５−トリフルオロ−３−メチル安息香酸を溶解した後、
濃硝酸を滴下することにより容易にニトロ化することが
できる。
【００２２】ニトロ化反応終了後は、通常、反応物を水
に注入した後、ジイソプロピルエーテルなどの有機溶剤
を添加して抽出操作を行う。すなわち、混合物を２層分
離した後、有機溶剤層を分離し、有機溶剤を留去するこ
とにより、粗２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−
６−ニトロ安息香酸を得る。この粗２，４，５−トリフ
ルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸には、出発原
料の２，４，５−トリフルオロ−３−メチル安息香酸に
含まれる不純物に由来する不純物が含まれている。
に注入した後、ジイソプロピルエーテルなどの有機溶剤
を添加して抽出操作を行う。すなわち、混合物を２層分
離した後、有機溶剤層を分離し、有機溶剤を留去するこ
とにより、粗２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−
６−ニトロ安息香酸を得る。この粗２，４，５−トリフ
ルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸には、出発原
料の２，４，５−トリフルオロ−３−メチル安息香酸に
含まれる不純物に由来する不純物が含まれている。
【００２３】本発明の特徴は、上記粗２，４，５−トリ
フルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸を精製する
にあたり、従来のジイソプロピルエーテルなどの有機溶
剤の代わりに水を使用する点にある。具体的には、例え
ば、粗２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−
ニトロ安息香酸を水で再結晶した後、析出物を水で洗浄
して結晶表面に残留する不純物を除去する。そのほか、
粗２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニト
ロ安息香酸を適当な有機溶剤で再結晶した後、再度水で
再結晶し、析出物を水で洗浄しても、あるいは粗２，
４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香
酸を適当な有機溶剤で再結晶した後、析出物を水で洗浄
してもよいが、上記方法が特に好適に用いられる。
フルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸を精製する
にあたり、従来のジイソプロピルエーテルなどの有機溶
剤の代わりに水を使用する点にある。具体的には、例え
ば、粗２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−
ニトロ安息香酸を水で再結晶した後、析出物を水で洗浄
して結晶表面に残留する不純物を除去する。そのほか、
粗２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニト
ロ安息香酸を適当な有機溶剤で再結晶した後、再度水で
再結晶し、析出物を水で洗浄しても、あるいは粗２，
４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香
酸を適当な有機溶剤で再結晶した後、析出物を水で洗浄
してもよいが、上記方法が特に好適に用いられる。
【００２４】上記再結晶に使用する水の量は、粗２，
４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香
酸を均一に溶解し得る程度であればよく、適宜決定する
ことができる。通常、粗２，４，５−トリフルオロ−３
−メチル−６−ニトロ安息香酸の３００質量倍以下であ
り、好ましくは２００質量倍以下、更に好ましくは１０
〜１００質量倍である。水による再結晶は一般に知られ
ている方法にしたがって行うことができる。例えば、粗
２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安
息香酸を、所定量の水に添加し、昇温して均一な溶液に
した後、適宜冷却して析出させればよい。昇温の程度
は、適宜決定できるが、７０〜８０℃程度まで昇温する
ことにより２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６
−ニトロ安息香酸を均一に水に溶解させることができ
る。
４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香
酸を均一に溶解し得る程度であればよく、適宜決定する
ことができる。通常、粗２，４，５−トリフルオロ−３
−メチル−６−ニトロ安息香酸の３００質量倍以下であ
り、好ましくは２００質量倍以下、更に好ましくは１０
〜１００質量倍である。水による再結晶は一般に知られ
ている方法にしたがって行うことができる。例えば、粗
２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安
息香酸を、所定量の水に添加し、昇温して均一な溶液に
した後、適宜冷却して析出させればよい。昇温の程度
は、適宜決定できるが、７０〜８０℃程度まで昇温する
ことにより２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６
−ニトロ安息香酸を均一に水に溶解させることができ
る。
【００２５】上記再結晶の後に、析出物の表面に付着し
ている不純物を除去するために、析出物を水で洗浄す
る。この洗浄に使用する水の量は、通常、析出物の０．
５〜５０質量倍、好ましくは１〜２０質量倍である。洗
浄回数は適宜決定することができるが、通常、２〜３回
で十分である。この水による洗浄は、通常、室温にて行
うのがよい。５０℃を超えるような高温では２，４，５
−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸が溶
出して歩留まりが低下するおそれがある。
ている不純物を除去するために、析出物を水で洗浄す
る。この洗浄に使用する水の量は、通常、析出物の０．
５〜５０質量倍、好ましくは１〜２０質量倍である。洗
浄回数は適宜決定することができるが、通常、２〜３回
で十分である。この水による洗浄は、通常、室温にて行
うのがよい。５０℃を超えるような高温では２，４，５
−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸が溶
出して歩留まりが低下するおそれがある。
【００２６】本発明で使用する２，４，５−トリフルオ
ロ−３−メチル安息香酸の純度は８０〜９８％であれば
よい。この程度の純度の２，４，５−トリフルオロ−３
−メチル安息香酸をニトロ化した後、本発明の方法にし
たがって水による精製を行うことにより高純度の２，
４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香
酸を得ることができる。２，４，５−トリフルオロ−３
−メチル安息香酸の純度が８０％より低いと、水による
再結晶の回数を増やす必要があり、歩留まりが低下す
る。また、９８％を超える純度にするには、高度の精製
が必要となって、歩留まりの低下やコストアップにつな
がることになる。
ロ−３−メチル安息香酸の純度は８０〜９８％であれば
よい。この程度の純度の２，４，５−トリフルオロ−３
−メチル安息香酸をニトロ化した後、本発明の方法にし
たがって水による精製を行うことにより高純度の２，
４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香
酸を得ることができる。２，４，５−トリフルオロ−３
−メチル安息香酸の純度が８０％より低いと、水による
再結晶の回数を増やす必要があり、歩留まりが低下す
る。また、９８％を超える純度にするには、高度の精製
が必要となって、歩留まりの低下やコストアップにつな
がることになる。
【００２７】
【発明の効果】本発明の方法によれば、不純物を含む
２，４，５−トリフルオロ−３−メチル安息香酸などの
ハロゲン化合物をそのままニトロ化しても、２，４，５
−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸など
のニトロ化合物を高純度かつ高収率で製造することがで
きる。
２，４，５−トリフルオロ−３−メチル安息香酸などの
ハロゲン化合物をそのままニトロ化しても、２，４，５
−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸など
のニトロ化合物を高純度かつ高収率で製造することがで
きる。
【００２８】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明する。 実施例１ 濃硫酸３０ｍｌに２，４，５−トリフルオロ−３−メチ
ル安息香酸（純度９０％）１０ｇを添加し、さらに内温
が３０℃を超えないようにしながら濃硝酸１０ｍｌを滴
下した。滴下終了後、２５℃で２時間攪拌しながらニト
ロ化反応を行った。反応終了後、反応液を２００ｍｌの
水に注入した後、ジイソプロピルエーテル１００ｍｌを
添加して抽出操作を行った。２層分離後、ジイソプロピ
ルエーテル層を取り出し、ジイソプロピルエーテルを留
去すると固形分１１ｇが得られた。この固形分を液クロ
マトグラフィー分析したところ、純度８５％の２，４，
５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸で
あった。
説明する。 実施例１ 濃硫酸３０ｍｌに２，４，５−トリフルオロ−３−メチ
ル安息香酸（純度９０％）１０ｇを添加し、さらに内温
が３０℃を超えないようにしながら濃硝酸１０ｍｌを滴
下した。滴下終了後、２５℃で２時間攪拌しながらニト
ロ化反応を行った。反応終了後、反応液を２００ｍｌの
水に注入した後、ジイソプロピルエーテル１００ｍｌを
添加して抽出操作を行った。２層分離後、ジイソプロピ
ルエーテル層を取り出し、ジイソプロピルエーテルを留
去すると固形分１１ｇが得られた。この固形分を液クロ
マトグラフィー分析したところ、純度８５％の２，４，
５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸で
あった。
【００２９】上記固形分１１ｇを水５００ｍｌに添加
し、８０℃に昇温して、溶解した後、２５℃まで放冷し
た。析出した結晶をろ別した後、室温で水１０ｍｌで２
回洗浄し、次いで４０℃で減圧下に乾燥した。乾燥後の
結晶の質量は８ｇで、純度は９９．１％であった。な
お、精製時の２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−
６−ニトロ安息香酸の損失率は１５．２％であった。 実施例２ 濃硫酸３０ｍｌに２，４，５−トリフルオロ−３−メチ
ル安息香酸（純度８５％）１０ｇを添加し、さらに内温
が３０℃を超えないようにしながら濃硝酸１０ｍｌを滴
下した。滴下終了後、２５℃で２時間攪拌しながらニト
ロ化反応を行った。反応終了後、反応液を２００ｍｌの
水に注入した後、ジイソプロピルエーテル１００ｍｌを
添加して抽出操作を行った。２層分離後、ジイソプロピ
ルエーテル層を取り出し、ジイソプロピルエーテルを留
去すると固形分１０ｇが得られた。この固形分を液クロ
マトグラフィー分析したところ、純度８０％の２，４，
５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸で
あった。
し、８０℃に昇温して、溶解した後、２５℃まで放冷し
た。析出した結晶をろ別した後、室温で水１０ｍｌで２
回洗浄し、次いで４０℃で減圧下に乾燥した。乾燥後の
結晶の質量は８ｇで、純度は９９．１％であった。な
お、精製時の２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−
６−ニトロ安息香酸の損失率は１５．２％であった。 実施例２ 濃硫酸３０ｍｌに２，４，５−トリフルオロ−３−メチ
ル安息香酸（純度８５％）１０ｇを添加し、さらに内温
が３０℃を超えないようにしながら濃硝酸１０ｍｌを滴
下した。滴下終了後、２５℃で２時間攪拌しながらニト
ロ化反応を行った。反応終了後、反応液を２００ｍｌの
水に注入した後、ジイソプロピルエーテル１００ｍｌを
添加して抽出操作を行った。２層分離後、ジイソプロピ
ルエーテル層を取り出し、ジイソプロピルエーテルを留
去すると固形分１０ｇが得られた。この固形分を液クロ
マトグラフィー分析したところ、純度８０％の２，４，
５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸で
あった。
【００３０】上記固形分１０ｇを水４００ｍｌに添加
し、８０℃に昇温して、溶解した後、２５℃まで放冷し
た。析出した結晶をろ別した後、室温で水１０ｍｌで２
回洗浄し、次いで４０℃で減圧下に乾燥した。乾燥後の
結晶の質量は７ｇで、純度は９８．８％であった。な
お、精製時の２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−
６−ニトロ安息香酸の損失率は１３．５％であった。 実施例３ 濃硫酸３０ｍｌに２，４，５−トリフルオロ−３−メチ
ル安息香酸（純度９５％）１０ｇを添加し、さらに内温
が３０℃を超えないようにしながら濃硝酸１０ｍｌを滴
下した。滴下終了後、２５℃で２時間攪拌しながらニト
ロ化反応を行った。反応終了後、反応液を２００ｍｌの
水に注入した後、ジイソプロピルエーテル１００ｍｌを
添加して抽出操作を行った。２層分離後、ジイソプロピ
ルエーテル層を取り出し、ジイソプロピルエーテルを留
去すると固形分１２ｇが得られた。この固形分を液クロ
マトグラフィー分析したところ、純度９０％の２，４，
５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸で
あった。
し、８０℃に昇温して、溶解した後、２５℃まで放冷し
た。析出した結晶をろ別した後、室温で水１０ｍｌで２
回洗浄し、次いで４０℃で減圧下に乾燥した。乾燥後の
結晶の質量は７ｇで、純度は９８．８％であった。な
お、精製時の２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−
６−ニトロ安息香酸の損失率は１３．５％であった。 実施例３ 濃硫酸３０ｍｌに２，４，５−トリフルオロ−３−メチ
ル安息香酸（純度９５％）１０ｇを添加し、さらに内温
が３０℃を超えないようにしながら濃硝酸１０ｍｌを滴
下した。滴下終了後、２５℃で２時間攪拌しながらニト
ロ化反応を行った。反応終了後、反応液を２００ｍｌの
水に注入した後、ジイソプロピルエーテル１００ｍｌを
添加して抽出操作を行った。２層分離後、ジイソプロピ
ルエーテル層を取り出し、ジイソプロピルエーテルを留
去すると固形分１２ｇが得られた。この固形分を液クロ
マトグラフィー分析したところ、純度９０％の２，４，
５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸で
あった。
【００３１】上記固形分１２ｇを水６００ｍｌに添加
し、８０℃まで昇温して、溶解した後、２５℃まで放冷
した。析出した結晶をろ別した後、水１０ｍｌで２回洗
浄し、次いで４０℃で減圧下に乾燥した。乾燥後の結晶
の質量は９ｇで、純度は９９．３％であった。なお、精
製時の２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニ
トロ安息香酸の損失率は１７．２％であった。 比較例 濃硫酸３０ｍｌに２，４，５−トリフルオロ−３−メチ
ル安息香酸（純度８５％）１０ｇを添加し、さらに内温
が３０℃を超えないようにしながら濃硝酸１０ｍｌを滴
下した。滴下終了後、２５℃で２時間攪拌しながらニト
ロ化反応を行った。反応終了後、反応液を２００ｍｌの
水に注入した後、ジイソプロピルエーテル１００ｍｌを
添加して抽出操作を行った。２層分離後、ジイソプロピ
ルエーテル層を取り出し、ジイソプロピルエーテルを留
去すると固形分１０ｇが得られた。この固形分を液クロ
マトグラフィー分析したところ、純度８０％の２，４，
５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸で
あった。
し、８０℃まで昇温して、溶解した後、２５℃まで放冷
した。析出した結晶をろ別した後、水１０ｍｌで２回洗
浄し、次いで４０℃で減圧下に乾燥した。乾燥後の結晶
の質量は９ｇで、純度は９９．３％であった。なお、精
製時の２，４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニ
トロ安息香酸の損失率は１７．２％であった。 比較例 濃硫酸３０ｍｌに２，４，５−トリフルオロ−３−メチ
ル安息香酸（純度８５％）１０ｇを添加し、さらに内温
が３０℃を超えないようにしながら濃硝酸１０ｍｌを滴
下した。滴下終了後、２５℃で２時間攪拌しながらニト
ロ化反応を行った。反応終了後、反応液を２００ｍｌの
水に注入した後、ジイソプロピルエーテル１００ｍｌを
添加して抽出操作を行った。２層分離後、ジイソプロピ
ルエーテル層を取り出し、ジイソプロピルエーテルを留
去すると固形分１０ｇが得られた。この固形分を液クロ
マトグラフィー分析したところ、純度８０％の２，４，
５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香酸で
あった。
【００３２】上記固形分１０ｇをジイソプロピルエーテ
ル５０ｍｌに添加し、６０℃まで昇温して、溶解した
後、２５℃まで放冷した。析出した結晶をろ別した後、
ジイソプロピルエーテル５ｍｌで２回洗浄し、次いで４
０℃で減圧下に乾燥した。乾燥後の結晶の質量は５ｇ
で、純度は９７．０％であった。なお、精製時の２，
４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香
酸の損失率は３９．３％であった。
ル５０ｍｌに添加し、６０℃まで昇温して、溶解した
後、２５℃まで放冷した。析出した結晶をろ別した後、
ジイソプロピルエーテル５ｍｌで２回洗浄し、次いで４
０℃で減圧下に乾燥した。乾燥後の結晶の質量は５ｇ
で、純度は９７．０％であった。なお、精製時の２，
４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香
酸の損失率は３９．３％であった。
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3は、それぞれ独立して、水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシル基で
あり、Ｒ1は水酸基、塩素原子、−ＣＨ（ＣＯ2Ｒ 3）2、
−ＣＨ2ＣＯ2Ｒ3または−Ｃ（＝Ｃ−Ｒ4）ＣＯ2Ｒ3（こ
こで、Ｒ3はアルキル基、Ｒ4はアルコキシ基またはシク
ロプロピルアミノ基である。）であり、Ｒ2はアルキル
基または−ＣＨ（Ｒ5）（Ｒ6）（ここで、Ｒ5、Ｒ6は、
それぞれ独立して、シアノ基または−ＣＯＯＲ7（ここ
で、Ｒ7はアルキル基である。））で表されるハロゲン
化合物をニトロ化して一般式（２） 【化２】 （式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、Ｒ1、Ｒ2は一般式（１）と同
じである。）で表されるニトロ化合物を製造するにあた
り、粗ニトロ化合物を水で精製することを特徴とする高
純度ニトロ化合物の製造方法。 - 【請求項２】 ハロゲン化合物が２，４，５−トリフル
オロ−３−メチル安息香酸であり、ニトロ化合物が２，
４，５−トリフルオロ−３−メチル−６−ニトロ安息香
酸である請求項１記載の高純度ニトロ化合物の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000274322A JP2002088028A (ja) | 2000-09-11 | 2000-09-11 | 高純度ニトロ化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000274322A JP2002088028A (ja) | 2000-09-11 | 2000-09-11 | 高純度ニトロ化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002088028A true JP2002088028A (ja) | 2002-03-27 |
Family
ID=18760097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000274322A Pending JP2002088028A (ja) | 2000-09-11 | 2000-09-11 | 高純度ニトロ化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002088028A (ja) |
-
2000
- 2000-09-11 JP JP2000274322A patent/JP2002088028A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20051111 |