JP2002086723A

JP2002086723A - インクジェットヘッド

Info

Publication number: JP2002086723A
Application number: JP2000282371A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Matsuno; 靖史松野; Masahiro Fujii; 正寛藤井; Hiroyuki Ishikawa; 博之石川
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2000-09-18
Filing date: 2000-09-18
Publication date: 2002-03-26

Abstract

(57)【要約】【課題】各インクノズルに連通した各インク圧力室に
インクを供給する共通インク室内での気泡停留に起因し
た印字品位の低下を防止可能なインクジェットヘッドを
提案すること。【解決手段】インクジェットヘッド１の各インクノズ
ル３に連通している各インク圧力室４には、インク供給
口５を介して共通インク室６からインクが供給され、共
通インク室６にはインク取り入れ口９からインクが供給
される。インク取り入れ口９は、各インク供給口５に対
して、共通インク室６の平面方向おける反対側に位置し
ており、共通インク室６の平面形状はインク取り入れ口
９からインク供給口５に向けて末広がりの形状とされて
いる。よって、インク取り入れ口９からインク供給口５
に向けてインクが滞留することなく円滑に流れるので、
共通インク室内、特にその隅部分に気泡が停留してしま
うことを防止でき、滞留した気泡に起因して各インクノ
ズルのインク吐出特性がばらつき印字品位が低下すると
いう弊害を回避できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、静電駆動式等のイ
ンクジェットヘッドに関し、特に、インク通路内に気泡
が滞留することを防止して、インク吐出動作を安定化さ
せることのできるインク通路構造を備えたインクジェッ
トヘッドに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】インクジェットヘッド、例えば、静電駆
動式のインクジェットヘッドは、公知のように、インク
ノズルに連通しているインク圧力室の容積を静電気力に
より変動させ、これによってインク圧力室内に発生する
圧力変動を利用してインクノズルから所定形状のインク
液滴を吐出させる構成となっている。この形式のインク
ジェットヘッドは、例えば、本願人による特開平５−５
０６０１号公報等に開示されている。

【０００３】一般的に知られている静電駆動式のインク
ジェットヘッドは、一列に配列された複数個のインクノ
ズルのそれぞれに連通した複数のインク圧力室を備え、
各インク圧力室の圧力変動が隣接している他のインク圧
力室に影響を与えることのないように、大容量の共通イ
ンク室を介して相互につながっている。共通インク室に
は、そこに開けたインク取り入れ口を介して、インクタ
ンク等のインク供給源からインクが供給されるようにな
っている。

【０００４】この構成のインクジェットヘッドは、一般
に、半導体基板を用いて構成されており、例えば、シリ
コン単結晶基板の表面に異方性ウエットエッチングを施
すことにより、共通インク室、インク圧力室形成用の凹
部が形成されている。通常は、結晶方位面が（１００）
のシリコン単結晶基板の表面から異方性ウエットエッチ
ングを施すことにより、平面形状が矩形の所定深さの共
通インク室用凹部等を形成している。

【０００５】矩形平面形状をした共通インク室では、一
般に、その一つの内周側面に沿って各インク圧力室に連
通しているインク供給口が形成され、インク取り入れ口
から当該共通インク室に供給されたインクが共通インク
室内を平面方向に流れて各インク供給口を介して各イン
ク圧力室に供給される。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ここで、矩形平面形状
をした共通インク室において、インク供給口の配列方向
に延びるインク供給口側内周側面に隣接している共通イ
ンク室内周側面は、当該インク供給口側内周側面に対し
て直交する方向、あるいはそれに近い角度の方向に延び
ている。従って、これらの内周側面の隅部分にはインク
が滞留しやすいので、インクに混入して共通インク室内
に侵入した気泡が当該隅部分に溜りやすい。このような
隅部分に気泡が溜まると、当該隅部分に近いインク供給
口を介してインク圧力室の側にインクが安定的に供給で
きなくなるおそれがある。

【０００７】両端側のインク圧力室に十分なインク供給
が行われないと、当該インク圧力室に連通している両端
側のインクノズルから適切な状態でインク液滴の吐出を
行なうことができない。このような弊害が発生すると、
各インクノズルのインク吐出特性のばらつきに起因して
印字品位が低下してしまう。

【０００８】本発明の課題は、このような弊害に鑑み
て、共通インク室における気泡の滞留を防止することに
より、インクノズル間でのインク吐出特性のばらつき、
特に、両端側のインクノズルのインク吐出特性の低下を
防止可能なインクジェットヘッドを実現することにあ
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明は、複数のインクノズルと、各インクノズ
ルのそれぞれに連通しているインク圧力室と、各インク
圧力室にインクを供給するための共通インク室と、各イ
ンク圧力室のそれぞれを前記共通インク室に連通させて
いるインク供給口と、前記共通インク室にインクを供給
するインク取り入れ口とを有し、各インク圧力室内にイ
ンク吐出圧力を発生させて対応する前記インクノズルか
らインク液滴を吐出させるインクジェットヘッドにおい
て：前記共通インク室の平面方向における一方の端部に
前記インク供給口が連通し、当該共通インク室の他方の
端部に前記インク取り入れ口が連通しており；当該共通
インク室の平面形状は、前記インク取り入れ口から前記
インク供給口に向けて末広がりの形状であることを特徴
としている。

【００１０】このように構成した本発明のインクジェッ
トヘッドでは、共通インク室における平面方向の一方の
側にインク取り入れ口が形成され、他方の側にインク供
給口が形成されているので、同一側に双方が形成されて
いる場合に比べて、インク取り入れ口からインク供給口
へのインクの流れが円滑に行われるので、共通インク室
内においてインクの滞留が少なくなる。また、共通イン
ク室の平面形状がインク取り入れ口からインク供給口に
向けて末広がりの形状であるので、インクは滞留するこ
となく速やかにインク供給口に向けて流れる。よって、
共通インク室内でのインクの滞留に起因する気泡の滞留
を防止あるいは抑制できる。

【００１１】ここで、本発明のインクジェットヘッドで
は、前記共通インク室は、シリコン単結晶基板の表面を
所定の深さとなるように異方性ウエットエッチングを施
すことにより形成した凹部によって規定されており；前
記シリコン単結晶基板の結晶方位は（１００）であり；
前記凹部の平面形状は、（０１１）方位面に対して、そ
れぞれ、平行な内周側面、１９度をなす内周側面および
４５度をなす内周側面によって規定されていることが望
ましい。

【００１２】かかる方向となるように異方性ウエットエ
ッチングを行なうと、凹部内周側面を平坦な面に形成し
やすいので、共通インク室内におけるインクの流れを円
滑化して気泡の滞留を抑制するうえで有効である。

【００１３】本発明のインクジェットヘッドは、対向電
極間に発生する静電気力を利用して前記インク圧力室を
容積変化させて前記インク吐出圧力を発生させる静電ア
クチュエータを備えた構成とすることができる。

【００１４】この場合、前記インク圧力室を同一平面上
に配列し、前記共通インク室を前記インク圧力室が配列
されている平面とは直交する方向において、これらイン
ク圧力室に対して積層配置すれば、コンパクトなインク
ジェットヘッドを実現できる。

【００１５】また、この構成のインクジェットヘッド
は、第１の基板と、この第１の基板の表面に積層された
第２の基板と、この第２の基板の表面に積層された第３
の基板とを有し；前記第３の基板に、前記共通インク室
および前記インク供給口が形成されており、当該第３の
基板と前記第２の基板の間に、前記インクノズルおよび
前記インク圧力室が形成されており、前記第１の基板と
前記第２の基板の間に前記静電アクチュエータが構成さ
れたものとすることができる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下に、図面を参照して、本発明
を適用した静電駆動式のインクジェットヘッドの実施例
を説明する。

【００１７】図１は本例の静電駆動式のインクジェット
ヘッドを示す概略断面図であり、図２はその分解斜視図
である。これらの図を参照して説明すると、本例のイン
クジェットヘッド１は、その前端面２においてヘッド幅
方向Ｘに向けて一列に配列された複数個のインクノズル
３を有し、各インクノズル３はそれぞれ、ヘッド長さ方
向Ｙの後ろ側に形成されているインク圧力室４に連通し
ている。インク圧力室４もヘッド幅方向Ｘに向けて相互
に隔壁部分を介して配列されている。各インク圧力室４
はそれぞれインク供給口５を介して、共通インク室６に
連通している。共通インク室６は各インク圧力室４に対
してヘッド厚さ方向Ｚに積層配置されている。共通イン
ク室６には、外部のインク供給源（図示せず）からイン
ク供給パイプ７およびフィルタ８を経由して、インク取
り入れ口９からインクが供給される。

【００１８】各インク圧力室４は後述する静電アクチュ
エータによって個別に容積変動して、当該容積変動に起
因して発生した圧力変動を利用して、各インクノズル３
からインク液滴１０を吐出させることが可能となってい
る。

【００１９】上記の各部分を備えたインクジェットヘッ
ド１は、電極ガラス基板（第１の基板）１１と、この表
面に貼り合わせたシリコン単結晶基板からなるキャビテ
ィ基板（第２の基板）１２と、この表面に貼り合わせた
同じくシリコン単結晶基板からなるノズル基板（第３の
基板）１３から構成される三層構造となっている。ガラ
ス電極基板１１とノズル基板１３の間に挟まれているキ
ャビティ基板１２は、その表面１２ａに、複数のインク
圧力室形成用の凹部２１が形成されている。このキャビ
ティ基板表面１２ａに積層されているノズル基板１３の
裏面１３ｂには、その前端側部分にインクノズル形成用
のインク溝２２が形成され、その後端側部分にはヘッド
厚さ方向Ｚに延びるインク供給口用の貫通孔２３が形成
されている。

【００２０】キャビティ基板１２とノズル基板１３を貼
り合わせることにより、これらの間に、インクノズル３
および各インク圧力室４が区画形成され、各インクノズ
ル３が対応する各インク圧力室４に連通した状態にな
る。また、各インク圧力室４の後端側の部分には複数個
の貫通孔２３が開口した状態となり、当該貫通孔２３が
インク供給口５として機能する。

【００２１】一方、ノズル基板１３の表面１３ａには、
ヘッド幅方向Ｘに長い共通インク室形成用の凹部２４が
形成されており、この凹部２４の上側開口が、当該表面
１３ａに貼り付けたフィルム２５によって封鎖されて、
共通インク室６が区画形成されている。このフィルム２
５には、インク取り入れ口９が形成されており、ここ
に、インク供給パイプ７の端が接着固定されている。

【００２２】次に、各インクノズル３からインク液滴を
吐出させるための静電アクチュエータを説明する。ま
ず、キャビティ基板２に形成されているインク圧力室形
成用の凹部２１の底壁部分には面外方向（ヘッド厚さ方
向Ｚ）に弾性変位可能な振動板２６が形成されている。
キャビティ基板２の裏面２ｂに貼り付けられている電極
ガラス基板１１の表面１１ａには、各振動板２６に対峙
している部分に一定深さの凹部２７が形成され、各凹部
底面にはＩＴＯ膜等からなる個別電極２８が形成されて
いる。各個別電極２８と対応する各振動板２６とは一定
の間隔で対峙している。

【００２３】キャビティ基板１２の表面１２ａの後端部
分に形成した共通電極２９と、各個別電極２８の後端部
分との間に、駆動制御回路３０により駆動電圧を印加す
ると、これらの間に発生する静電気力によって振動板２
６が振動し、各インク圧力室４に圧力変動が発生し、こ
れにより、対応するインクノズル３からインク液滴が吐
出する。静電駆動機構の動作原理自体は公知であるの
で、これ以上の説明は省略する。

【００２４】ここで、本例のインクジェットヘッド１の
共通インク室６においては、その凹部２４の内周側面２
４１に沿って、インク供給口５がヘッド幅方向Ｘに向け
て配列されている。これに対して、インク取り入れ口９
は、当該共通インク室６の平面方向における反対側の端
部、すなわち、ヘッド前後方向Ｙにおける内周側面２４
２の近傍に位置している。

【００２５】また、本例の共通インク室６の平面形状
は、インク取り入れ口９の側からインク供給口５の側に
向けて末広がりの形状となっている。すなわち、共通イ
ンク室６を規定している凹部２４は、平行に延びる対向
内周側面２４１および２４２と、内周側面２４２から内
周側面２４１にせり出した同一方向に延びる左右一対の
内周側面２４３と、当該内周側面２４３に対して対向内
周側面２４１の側に１９度傾斜した左右一対の内周側面
２４４と、これに連続して内周側面２４３に対して対向
内周側面２４１の側に４５度傾斜した左右一対の内周側
面２４５と、これに連続して内周側面２４３に直交する
方向に延びる左右一対の内周側面２４６とから規定され
ており、当該内周側面２４６が内周側面２４１の両端に
連続している。

【００２６】さらに、本例では、この共通インク室形成
用の凹部２４は、結晶面方位が（１００）のシリコン単
結晶基板の表面を異方性ウエットエッチングすることに
より形成したものであり、その対向内周側面２４１、２
４２および内周側面２４３の方向が（０１１）方位面と
平行とされている。この結果、内周側面２４４は（０１
１）方位面に対して１９度傾斜した方向に延びる面であ
り、内周側面２４５は（０１１）方位面に対して４５度
傾斜方向に延びる面となっている。

【００２７】このように構成した本例のインクジェット
ヘッド１では、その共通インク室６における平面方向の
一方の側にインク取り入れ口９が形成され、他方の側に
インク供給口５が形成されているので、インク取り入れ
口９からインク供給口５へのインクの流れが円滑に行わ
れる。よって、共通インク室６内においてインクの滞留
が少なくなる。

【００２８】また、共通インク室６の平面形状がインク
取り入れ口９からインク供給口５に向けて、内周側面２
４４、２４５および２４６によって規定される末広がり
の形状となっている。よって、インクは滞留することな
く速やかにインク供給口５に向けて流れる。従って、共
通インク室６内でのインクの滞留に起因する気泡の滞留
を防止あるいは抑制できる。特に、共通インク室６にお
けるヘッド幅方向Ｘの両端部分の隅に気泡が滞留してし
まうことを防止あるいは抑制できる。

【００２９】さらには、本例の共通インク室用凹部２４
では、その内周側面２４１ないし２４６の方向を上記の
ように規定しているので、異方性ウエットエッチングに
よって平坦な面を形成しやすい。これによっても、共通
インク室内におけるインクの流れを円滑化でき、気泡の
滞留を抑制できるので好ましい。

【００３０】上記の利点に加えて、本例のインクジェッ
トヘッドでは、共通インク室６がインク圧力室４に積層
された構成となっている。従って、従来のようなインク
圧力室４と同一平面上に共通インク室が形成されている
場合に比べて、インクジェットヘッドの長さ方向Ｙの寸
法を小さくできる。

【００３１】また、本例では、３層の基板を積層した構
成となっており、そのノズル基板１３に、インクノズル
形成用のノズル溝２２と共に共通インク室６を形成して
いる。従って、共通インク室６をインク圧力室４に積層
配置するために別個の基板等を追加して組み付ける必要
がない。よって、インク圧力室に共通インク室を積層す
るに当たり、ヘッド厚さ方向Ｚの寸法の増加も抑制でき
る。よって、全体としては従来に比べて小型のインクジ
ェットヘッドを実現できる。また、部品点数が少ないの
で製造も容易である。

【００３２】さらに、本例では、インク供給口５が、ノ
ズル基板１３における共通インク室底壁部分に垂直（ヘ
ッド厚さ方向Ｚ）に形成されている。共通インク室がイ
ンク圧力室と同一の平面方向に配置されている場合に比
べて、当該インク供給口５を形成しやすい。また、多数
個のインク供給口５を自由に形成することができる。こ
の結果、インクジェットヘッドのインク吐出特性等の調
整が簡単になるという利点がある。

【００３３】（インクジェットヘッドの製造方法）次
に、上記構成のインクジェットヘッド１は、ノズル基板
１３、キャビティー基板１２および電極ガラス基板１１
を個別に製造し、しかる後に、これらを貼り合わせるこ
とにより製造することができる。キャビティー基板１２
および電極ガラス基板１１は、例えば、先に引用した本
願人による特開平５−５０６０１号公報に記載されてい
る公知の方法によって製造できる。

【００３４】従って、本明細書においては、図３のフロ
ーチャートおよび図４（ａ）ないし（ｄ）の説明図を参
照して、インクノズル形成用のノズル溝２２および共通
インク室形成用の凹部２４を備えたノズル基板１３の製
造方法を説明する。

【００３５】（第１の熱酸化膜形成・パターニング工程
Ａ）まず、所定厚さの単結晶シリコンウエハ１００を用
意し、このシリコンウエハ１００を熱酸化させて、その
全面にレジスト膜としてのＳｉＯ₂ 膜を形成する。次
に、スピンコーティングによりレジスト（感光性樹脂）
を塗布した後に、レジストを露光し、現像して、インク
供給口用の貫通孔２３を形成するための孔形成部分２３
０、およびインクノズル形成用のノズル溝２２を形成す
るためのノズル溝形成部分２２０を開口する。しかる後
に、ＳｉＯ₂ 膜をＢＨＦ（フッ化アンモニウム）でパタ
ーニングし、次にレジストを剥離する。

【００３６】この結果、図４（ａ）に示すように、シリ
コンウエハ１００の表面を覆うＳｉＯ₂ 膜１１０には、
インク供給口形成用の孔形成部２３０およびノズル溝形
成用のノズル溝形成部分２２０がパターニングされる。

【００３７】（ドライエッチング工程Ｂ）次に、図４
（ｂ）に示すように、ＩＣＰ放電によるトレンチエッチ
ングをシリコンウエハ１００に施す。これにより、Ｓｉ
Ｏ₂ 膜のパターンに対応した形状で、シリコンウエハ１
００の表面が垂直にエッチングされて、インク供給口用
の貫通孔２３を形成するための孔形成部分２３０に多数
個の所定の深さの盲孔２３１が形成され、また、ノズル
溝形成部分２２０にはインクノズル形成用のノズル溝２
２が形成される。エッチング後は、ＳｉＯ₂ 膜１１０を
除去する。

【００３８】（第２の熱酸化膜形成・パターニング工程
Ｃ）この後は、再度、シリコンウエハ１００を熱酸化さ
せて、その全面にレジスト膜としてのＳｉＯ₂ 膜を形成
する。次に、スピンコーティングによりレジスト（感光
性樹脂）を塗布した後に、レジストを露光し、現像し
て、共通インク室形成用の凹部２４を形成するための凹
部形成部分２４０を開口する。しかる後に、ＳｉＯ₂ 膜
をＢＨＦ（フッ化アンモニウム）でパターニングし、次
に感光性樹脂からなるレジストを剥離する。

【００３９】この結果、図４（ｃ）に示すように、シリ
コンウエハ１００の表面を覆うＳｉＯ₂ 膜１２０に、共
通インク室形成用の凹部２４を形成するための凹部形成
部分２４０がパターニングされる。

【００４０】（ウエットエッチング工程Ｄ）この後は、
シリコンウエハ１００をエッチング液（ＫＯＨ、ＫＯＨ
＋エタノール等）に漬けて、当該シリコンウエハ１００
の露出部分２４０に対して異方性ウエットエッチングを
施す。シリコンウエハ１００の表面は（１００）結晶方
位面であり、（１１１）結晶方位面に沿ってエッチング
が進行して、所定の深さの凹部２４が形成される。

【００４１】ここで、エッチング液としては、ＫＯＨお
よびエタノールの混合液を用いると、凹部２４の内周側
面、特に、（０１１）方位面から１９度傾斜した方向に
延びる内周側面２４４も平坦な面となるようにエッチン
グできるので好ましい。

【００４２】図４（ｄ）に示すように、共通インク室形
成用の凹部２４には、前述したようにトレンチエッチン
グにより反対側から所定の深さの盲孔２３１が形成され
ており、凹部２４の深さを盲孔２３１に連通する寸法に
調整することにより、盲孔２３１は、インク供給口５に
対応した貫通孔２３となる。

【００４３】このようにして異方性ウエットエッチング
を行った後は、ＳｉＯ₂ 膜１２０を除去する。

【００４４】（最終熱酸化工程）最後に、シリコンウエ
ハの耐インク性とノズル面の撥水処理の密着性を確保す
るために、再度、シリコンウエハを熱酸化して、ＳｉＯ
₂ 膜を形成する。以上により、ノズル基板１３が得られ
る。

【００４５】（その他の実施の形態）なお、以上説明し
た実施例は、静電駆動式のインクジェットヘッドである
が、本発明は、圧電式あるいはバブルジェット（登録商
標）式のインクジェットヘッドに対しても同様に適用で
きる。

【００４６】また、上記のインクジェットヘッドは、そ
の前端面にインクノズルが開口しているエッジノズルタ
イプのものであるが、本発明は、インクジェットヘッド
の表面にインクノズルが開口しているフェイスノズルタ
イプのものにも適用できる。

【００４７】さらに、上記のインクジェットヘッドはヘ
ッド厚さ方向に、共通インク室と各インク圧力室が積層
配置された構成である、これらが平面方向に配置された
構成のインクジェットヘッドに対しても本発明を適用で
きることは勿論である。

【００４８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のインクジ
ェットヘッドは、各インクノズルに連通している各イン
ク圧力室にインクを供給する共通インク室において、そ
の平面方向に見た場合に、インク圧力室に連通している
各インク供給口と、当該共通インク室にインクを供給す
るインク取り入れ口とを反対側に形成してある。また、
共通インク室の平面形状を、インク取り入れ口からイン
ク供給口に向けて末広がりの形状としてある。

【００４９】従って、本発明によれば、共通インク室内
においてインク取り入れ口からインク供給口に向けてイ
ンクが滞留を起こすことなく円滑に流れる。よって、共
通インク室内、特に、その隅の部分にインクが滞留して
気泡が停留し、インク供給口から各インク圧力室への適
切なインク供給が阻害されることを防止できる。この結
果、各インクノズルから均一なインク吐出動作を行なわ
せることができるので、共通インク室内での気泡停留に
起因した印字品位の低下を確実に防止あるいは抑制でき
る。

【００５０】また、本発明では、上記の構成に加えて、
共通インク室を規定している凹部を異方性ウエットエッ
チングにより形成するに当り、当該凹部を規定する各内
周側面の方向を適切に設定することにより、平坦な内周
側面が形成されるようにしている。従って、共通インク
室内でのインクの流れが円滑に行われ、気泡が停留する
ことを確実に防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した静電駆動型のインクジェット
ヘッドを示す概略断面図である。

【図２】図１のインクジェットヘッドの主要部分の分解
斜視図である。

【図３】図１のインクジェットヘッドにおけるノズル基
板の製造工程を示すフローチャートである。

【図４】（ａ）〜（ｄ）はノズル基板の各製造工程を説
明するための説明図である。

【符号の説明】

１インクジェットヘッド２ヘッド前端面３インクノズル４インク圧力室５インク供給口６共通インク室７インク供給管８フィルタ９インク取入れ口１０インク液滴１１電極ガラス基板１２キャビティ基板１３ノズル基板２１インク圧力室用凹部２２ノズル溝２３インク供給口用貫通孔２４共通インク室用凹部２４１、２４２、２４３、２４４、２４５、２４６凹
部内周側面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者石川博之長野県諏訪市大和３丁目３番５号セイコーエプソン株式会社内Ｆターム(参考） 2C057 AF78 AF80 AG54 AG72 AP02 AP34 AQ02 BA05 BA14 BA15

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数のインクノズルと、各インクノズル
のそれぞれに連通しているインク圧力室と、各インク圧
力室にインクを供給するための共通インク室と、各イン
ク圧力室のそれぞれを前記共通インク室に連通させてい
るインク供給口と、前記共通インク室にインクを供給す
るインク取り入れ口とを有し、各インク圧力室内にイン
ク吐出圧力を発生させて対応する前記インクノズルから
インク液滴を吐出させるインクジェットヘッドにおい
て、前記共通インク室の平面方向における一方の端部に前記
インク供給口が連通し、当該共通インク室の他方の端部
に前記インク取り入れ口が連通しており、当該共通インク室の平面形状は、前記インク取り入れ口
から前記インク供給口に向けて末広がりの形状であるこ
とを特徴とするインクジェットヘッド。
【請求項２】請求項１において、前記共通インク室は、シリコン単結晶基板の表面を所定
の深さとなるように異方性ウエットエッチングを施すこ
とにより形成した凹部によって規定されており、前記シリコン単結晶基板の結晶方位は（１００）であ
り、前記凹部の平面形状は、（０１１）方位面に対して、そ
れぞれ、平行な内周側面、１９度をなす内周側面、４５
度をなす内周側面および直角な内周側面によって規定さ
れていることを特徴とするインクジェットヘッド。
【請求項３】請求項１または２において、対向電極間に発生する静電気力を利用して前記インク圧
力室を容積変化させて前記インク吐出圧力を発生させる
静電アクチュエータを備えたインクジェットヘッド。
【請求項４】請求項３において、前記インク圧力室は同一平面上に配列され、前記共通イ
ンク室は前記インク圧力室が配列されている平面とは直
交する方向において、これらインク圧力室に対して積層
配置されていることを特徴とするインクジェットヘッ
ド。
【請求項５】請求項４において、第１の基板と、この第１の基板の表面に積層された第２
の基板と、この第２の基板の表面に積層された第３の基
板とを有し、前記第３の基板に、前記共通インク室および前記インク
供給口が形成されており、当該第３の基板と前記第２の
基板の間に、前記インクノズルおよび前記インク圧力室
が形成されており、前記第１の基板と前記第２の基板の
間に前記静電アクチュエータが構成されていることを特
徴とするインクジェットヘッド。