JP2002080227A - 光学素子の製造方法 - Google Patents

光学素子の製造方法

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JP2002080227A
JP2002080227A JP2000272909A JP2000272909A JP2002080227A JP 2002080227 A JP2002080227 A JP 2002080227A JP 2000272909 A JP2000272909 A JP 2000272909A JP 2000272909 A JP2000272909 A JP 2000272909A JP 2002080227 A JP2002080227 A JP 2002080227A
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Miyoko Doi
美代子 土肥
Makoto Umetani
梅谷  誠
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • C03B11/00Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ガラスからなる下型より光学素子を簡単に離
型させることができ、プレス成形で光学素子を大量、安
価に製造できる方法を提供する。 【解決手段】 下型32が、ガラス素材からなる金型母
材を光学素子の反転形状に加工したプレス面に保護離型
膜を形成した金型からなり、上型31が、被成形物より
も熱膨張率が20×10-7/K以上小さな材料からなる
金型母材を光学素子の反転形状に加工したプレス面に保
護離型膜を形成した金型からなる構成とし、かつ、プレ
ス成形後の冷却に際して、窒素ガス39の噴射、或いは
上下型に冷却時の温度差を設けることにより、容易に金
型から光学素子が離型出来るようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、高精度で光学性能
の良好な光学素子を安価に、プレス成形により製造する
方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】高精度な光学素子を直接プレス成形する
ためには、金型材料として熱伝導性、耐酸化性に優れ、
プレス成形する光学素子材料に対して不活性であり、プ
レスしたときに金型のプレス面形状が崩れないような高
温強度を有するものが必要である。しかし、その反面、
加工性に優れ、精密加工が容易で、かつ安価に製造でき
なくてはならない。
【0003】以上のような光学素子成形用金型に必要な
条件をある程度満足するものとして、特公昭62−28
091号公報に記載されているWCを主成分とする超硬
合金、または、サーメットを金型素材に用い、前記金型
素材上に貴金属系保護膜をコーティングした金型があ
り、この様な金型を用いることによって、光学素子のプ
レス成形による量産が可能となっている。
【0004】また、特開昭64−33022号公報、特
開平1−239030号公報に記載されているように、
プレス面形状が光学素子形状に精密加工されたマスター
型でガラス材料を加熱、プレス転写させることにより得
られるガラス材のみからなる光学素子成形用金型や、特
開平1−148714号公報に記載されているように、
ガラス材のみからなる型本体と、そのプレス面に形成さ
れる薄膜とで構成される光学素子成形用金型、特開平1
−102136号公報に記載されているような、ガラス
よりなる成形用型本体と、耐熱性を有する金属またはセ
ラミックスからなる接合体とを融着接合させることによ
り得られる光学素子成形用金型等が提案されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
型材料、型構成では前記の条件を全て満足するものは得
られていない。
【0006】例えば、特公昭62−28091号公報に
記載のようにWCを主成分とする超硬合金、または、サ
ーメットを金型素材に用い、前記金型素材上に貴金属系
保護膜をコーティングして構成される金型は、金型素材
に用いる超硬合金、または、サーメットの精密加工が困
難であり、そのために、加工には特別な加工装置を必要
とし、加工後も場合によっては面粗さ向上のため研磨加
工を必要とする。また、その加工は、主にダイヤモンド
砥石による研削加工によるため、砥石磨耗のため加工時
の切り込み量を大きくできず、加工時間も長く、加工コ
ストが非常に高いという問題がある。また、加工の難し
さゆえに金型形状のバラツキが大きく、その結果、成形
された光学素子に形状のバラツキが発生し光学性能が不
安定であり、金型コストが非常に高くつく要因である。
【0007】このような問題を解決するために提案され
ている、特開昭64−33022号公報、特開平1−2
39030号公報に記載のような、ガラス材のみからな
る光学素子成形用金型は、金型コストも安価であり、ガ
ラスの加工性は良好であるが、ガラス金型材料に用いら
れているBK7の熱膨張係数は86×10-7/Kであ
り、例えば光学素子の材料としてSF8を用いた場合、
SF8の熱膨張係数は92×10-7/Kであり、ガラス
金型材料と光学素子材料の熱膨張係数が近似している為
に、ガラス金型からレンズが離型し難い問題がある。
【0008】本発明は、このような点に鑑み、ガラスか
らなる下型より光学素子を簡単に離型させることがで
き、プレス成形で光学素子を大量、安価に製造できる方
法を提供する事を目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の光学素子のプレ
ス成形用金型は、加熱軟化したガラスからなる光学素子
材料を所望の形状に押圧成形するために用いる上下一対
の金型である。上記課題を解決するために、一方の金型
は、ガラス素材からなる金型母材を光学素子の反転形状
に加工したプレス面に保護離型膜を形成した金型であ
り、他方の金型は、熱膨張率が被成形物よりも20×1
-7/K以上小さい材料からなる金型母材を、光学素子
の反転形状に加工したプレス面に保護離型膜を形成した
金型である。他方の金型の金型母材として、超硬合金、
サーメット、セラミックス、または石英を用いることが
できる。
【0010】本発明の光学素子の製造方法は以下の工程
を含む。まず、ガラス素材からなる金型母材を光学素子
の反転形状に加工したプレス面に保護離型膜を形成した
金型を下型に用い、前記下型にガラスからなる光学素子
材料を供給する。その後、前記ガラスよりも熱膨張率が
20×10-7/K以上小さな材料からなる金型母材を光
学素子の反転形状に加工したプレス面に保護離型膜を形
成した上型と、前記上型及び下型の位置規制のための胴
型とを組合せる。次に、全体を前記光学素子材料が軟化
する温度まで加熱し、前記上下型のプレス面形状を完全
に前記光学素子材料に転写するまで加圧する。次に全体
の温度が歪み点温度とガラス転移点温度の間の温度にな
るまで冷却させた後、先ず上型を取り外す。次に下型の
上に残存する成形された光学素子に冷却用のガスを直接
噴射した後、下型から光学素子を離型させ、成形された
光学素子を取り出す。冷却用のガスとしては、窒素ガス
を用いることができる。
【0011】本発明の他の光学素子の製造方法は、以下
の工程を含む。まず、ガラスからなる光学素子材料を光
学素子の反転形状に加工したプレス面に保護離型膜を形
成した金型を下型に用い、前記下型にガラスからなる光
学素子材料を供給する。その後、前記ガラスよりも熱膨
張率が20×10-7/K以上小さな材料からなる金型母
材を光学素子の反転形状に加工したプレス面に保護離型
膜を形成した上型と、前記上型及び下型の位置規制のた
めの胴型とを組み合わせる。次に、全体を前記光学素子
材料が軟化する温度まで加熱し、前記上下型のプレス面
形状を完全に前記光学素子材料に転写するまで加圧す
る。その後、全体の温度が歪み点温度からガラス転移点
温度の間の温度になるまで冷却し、その際、前記下型が
上型より200℃以上低い温度となるように温度差をつ
けて急冷した後、前記下型から先に前記光学素子材料が
成形された光学素子を離型させる。次に前記上型から前
記光学素子を取り出す。
【0012】上記の製造方法において、上型の金型母材
として、超硬合金、サーメット、セラミックス、または
石英を用いることができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明の各実施の形態につ
いて図面を参照しながら説明する。
【0014】(実施の形態1)本実施の形態に用いる下
型の断面図を図1に、上型の断面図を図2(a)及び
(b)に示す。
【0015】本実施の形態に基く実施例において、下型
は、BK7ガラスをプレス成形し、光学素子の反転形状
(曲率半径4.2mm、加工径φ5.0mm、軸対称非
球面、形状精度:±0.05μm、表面粗さ:0.01
μm以下)に加工した金型母材11に、保護離型膜12
を形成して製造した。
【0016】上型は、図2(a)に示すように、超硬合
金を金型母材に用い、ダイヤモンド砥石を用いた研削加
工により、光学素子の反転形状(曲率半径4.2mm、
加工径φ5.0mm、軸対称非球面、形状精度:±0.
05μm、表面粗さ:0.01μm以下)に加工した金
型母材21に、保護離型膜23を形成して製造した。ま
た、別の上型を、図2(b)に示すように、サーメット
を用いた金型母材22に同様に金型母材の加工を施し、
保護離型膜23を形成して製造した。ここで、上型用の
金型母材として、熱膨張率が被成形物よりも20×10
-7/K以上小さい材料を用いることが要点であり、上記
の例以外でも、セラミックス、石英、等を用いることが
できる。
【0017】以下、これらの上型及び下型を用いて、ガ
ラスから成る光学素子をプレス成形する実施の形態1に
おける製造方法の実施例について説明する。
【0018】まず図3(a)に示すように、ガラスから
成る下型32に、ボール状のSF8ガラスから成る光学
素子材料34を載せ、図2(a)に示したような超硬合
金を金型母材として用いた上型31を、上下型を位置規
制するための胴型33を用いて組み込んだ。続いて図3
(b)に示すように、この状態の金型を成形機に搬送
し、ヒーター37を内蔵した上下のプレスヘッド35及
び36で挟み込み、上下型31、32の両側から加熱
し、金型全体を530℃に加熱した。次に図3(c)に
示すように、上プレスヘッド35を下方に、プレス荷重
980Nで加圧した。すると図3(d)に示すように、
SF8ガラスは軟化して変形し、上下型のプレス面形状
が完全に転写され、光学素子38が形成された。この状
態で、上下プレスヘッド35、36のヒーターを切断
し、上下型31、32を同一温度勾配で冷却した。全体
の温度が、歪み点温度とガラス転移点温度の間の温度と
なる400℃まで冷却させた。この時、上型31は光学
素子38から容易に離型した。次に図3(e)に示すよ
うに、上型31を取り外し、下型32に残存する光学素
子38に窒素ガス39を直接噴射して光学素子38を急
冷し、下型32より離型させた。このようにすると、光
学素子38は容易に下型32から離型した。最後に、図
3(f)に示すように、光学素子38を金型から取り出
して光学素子の製造を完了した。取り出した光学素子3
8の光学性能は非常に良好なものであった。
【0019】このように、本実施の形態の製造方法によ
れば、非常に安価なガラスから成る金型(下型)を用い
た場合の課題であった、被成形物と金型の熱膨張率の近
似により、金型から光学素子が離型しないという課題を
解決し、高精度な光学素子を非常に安価に製造できるよ
うになった。
【0020】なお光学素子38を急冷するために噴射す
るガスは、窒素ガス39に限らず、適宜選択することが
できる。好ましくは、不活性ガスを用いる。
【0021】また、サーメットを金型母材22に用いた
上型31を使用した場合も、同様の結果が得られた。
【0022】(実施の形態2)次に、図1及び図2に示
した上型及び下型を用いて、ガラスから成る光学素子を
プレス成形する、実施の形態2における製造方法の実施
例について説明する。
【0023】まず図4(a)に示すように、ガラスから
成る下型42に、ボール状のSF8ガラスから成る光学
素子材料44を載せ、図2(a)の超硬合金を金型母材
21として用いた上型41を、上下型を位置規制するた
めの胴型43を用いて組み込んだ。続いて図4(b)に
示すように、この状態の金型を成形機に搬送し、ヒータ
ー47を内蔵した上下のプレスヘッド45及び46で挟
み込み、上下型の両側から加熱し、金型全体を530℃
に加熱した。次に図4(c)に示すように、上プレスヘ
ッド45を下方に、プレス荷重980Nで加圧した。す
ると図4(d)に示すように、SF8ガラスは軟化して
変形し、上下型のプレス面形状に完全に転写して、光学
素子48が形成された。この状態で、上下プレスヘッド
45、46のヒーターを切断し、上下型41、42の冷
却勾配を変えて冷却した。上型が400℃の時、下型の
温度を180℃になるようにした。このように上下型4
1、42に冷却時の温度差を設けると、下型42から先
に光学素子48より離型するようになり、続いて、冷却
を続けると上型41が光学素子48より離型するように
なった。このようにして、図4(e)に示すように、容
易に光学素子48が取り出せるようになり、光学素子の
製造を完了した。取り出した光学素子の光学性能は非常
に良好なものであった。
【0024】このように本実施の形態の製造方法によれ
ば、非常に安価なガラスから成る金型(下型)を用いた
場合の課題であった、被成形物と金型の熱膨張率の近似
により、金型から光学素子が離型しないという課題を解
決し、高精度な光学素子を非常に安価に製造できるよう
になった。
【0025】また、サーメットを金型母材22に用いた
上型31を使用した場合も、同様の結果が得られた。
【0026】
【発明の効果】本発明によれば、下型がガラス素材から
なる金型母材を光学素子の反転形状に加工したプレス面
に保護離型膜を形成した金型からなり、上型が超硬合
金、サーメット、セラミックス、石英、等の被成形物よ
りも熱膨張率が20×10-7/K以上小さな材料からな
る金型母材を光学素子の反転形状に加工したプレス面に
保護離型膜を形成した金型からなる構成とすることによ
り、加工時間が短く、金型の製造コストを非常に安価に
できる。しかも、ガラス素材からなる金型母材を光学素
子の反転形状に加工したプレス面に保護離型膜を形成し
た金型を用いたときの、光学素子が金型から離型しない
という問題を、窒素ガスの噴射、或いは冷却時に上下型
に温度差を設けることにより解決して、容易に金型から
光学素子が離型出来るようにすることができる。
【0027】従って、本発明の金型構成並びに製造方法
により、安価で高精度な光学素子を大量に製造すること
が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施の形態における下型の断面図
【図2】 (a)、(b)はそれぞれ本発明の実施の形
態における上型の断面図
【図3】 本発明の実施の形態1における光学素子の製
造方法の工程図
【図4】 本発明の実施の形態2における光学素子の製
造方法の工程図
【符号の説明】
11 ガラスからなる金型母材 12 保護離型膜 21 超硬合金からなる金型母材 22 サーメットからなる金型母材 23 保護離型膜 31 ガラスからなる下型 32 超硬合金あるいはサーメットからなる上型 33 胴型 34 光学素子材料(SF8ガラス) 35 上プレスヘッド 36 下プレスヘッド 37 ヒーター 38 光学素子 39 窒素ガス 41 ガラスからなる下型 42 超硬合金あるいはサーメットからなる上型 43 胴型 44 光学素子材料(SF8ガラス) 45 上プレスヘッド 46 下プレスヘッド 47 ヒーター 48 光学素子
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 3/00 G02B 3/00 Z

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 加熱軟化したガラスからなる光学素子材
    料を所望の形状に押圧成形するために用いる上下一対の
    金型において、一方の金型は、ガラス素材からなる金型
    母材を光学素子の反転形状に加工したプレス面に保護離
    型膜を形成した金型であり、他方の金型は、熱膨張率が
    被成形物よりも20×10-7/K以上小さい材料からな
    る金型母材を、光学素子の反転形状に加工したプレス面
    に保護離型膜を形成した金型であることを特徴とする光
    学素子のプレス成形用金型。
  2. 【請求項2】 他方の金型の金型母材が、超硬合金、サ
    ーメット、セラミックス、または石英を用いて形成され
    ていることを特徴とする請求項1に記載の光学素子のプ
    レス成形用金型。
  3. 【請求項3】 ガラス素材からなる金型母材を光学素子
    の反転形状に加工したプレス面に保護離型膜を形成した
    金型を下型に用い、前記下型にガラスからなる光学素子
    材料を供給した後、前記ガラスよりも熱膨張率が20×
    10-7/K以上小さな材料からなる金型母材を光学素子
    の反転形状に加工したプレス面に保護離型膜を形成した
    上型と、前記上型及び下型の位置規制のための胴型とを
    組合せて、全体を前記光学素子材料が軟化する温度まで
    加熱し、前記上下型のプレス面形状を完全に前記光学素
    子材料に転写するまで加圧し、次に全体の温度が歪み点
    温度とガラス転移点温度の間の温度になるまで冷却させ
    た後、先ず上型を取り外し、次に下型の上に残存する成
    形された光学素子に冷却用のガスを直接噴射した後、下
    型から光学素子を離型させ、成形された光学素子を取り
    出すことを特徴とする光学素子の製造方法。
  4. 【請求項4】 冷却用のガスが窒素ガスである請求項3
    に記載の光学素子の製造方法。
  5. 【請求項5】 ガラスからなる光学素子材料を光学素子
    の反転形状に加工したプレス面に保護離型膜を形成した
    金型を下型に用い、前記下型にガラスからなる光学素子
    材料を供給した後、前記ガラスよりも熱膨張率が20×
    10-7/K以上小さな材料からなる金型母材を光学素子
    の反転形状に加工したプレス面に保護離型膜を形成した
    上型と、前記上型及び下型の位置規制のための胴型とを
    組み合わせて、全体を前記光学素子材料が軟化する温度
    まで加熱し、前記上下型のプレス面形状を完全に前記光
    学素子材料に転写するまで加圧した後、全体の温度が歪
    み点温度からガラス転移点温度の間の温度になるまで冷
    却し、その際、前記下型が上型より200℃以上低い温
    度となるように温度差をつけて急冷した後、前記下型か
    ら先に前記光学素子材料が成形された光学素子を離型さ
    せ、次に前記上型から前記光学素子を取り出すことを特
    徴とする光学素子の製造方法。
  6. 【請求項6】 上型の金型母材が、超硬合金、サーメッ
    ト、セラミックス、または石英を用いて形成されている
    ことを特徴とする請求項3または5に記載の光学素子の
    製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009091199A (ja) * 2007-10-09 2009-04-30 Fujinon Corp 光学素子用成形型

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009091199A (ja) * 2007-10-09 2009-04-30 Fujinon Corp 光学素子用成形型

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