JP2002079037A - 気液接触塔の洗浄方法 - Google Patents

気液接触塔の洗浄方法

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JP2002079037A
JP2002079037A JP2000273473A JP2000273473A JP2002079037A JP 2002079037 A JP2002079037 A JP 2002079037A JP 2000273473 A JP2000273473 A JP 2000273473A JP 2000273473 A JP2000273473 A JP 2000273473A JP 2002079037 A JP2002079037 A JP 2002079037A
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gas
liquid contact
contact tower
tower
filler
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Yasuo Takeda
康雄 武田
Motoyuki Yoda
元之 依田
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Kurita Water Industries Ltd
Original Assignee
Kurita Water Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 原ガスを吸収液と接触させてガス中の硫化水
素を吸収除去するための気液接触塔を効率的に洗浄する
ことができ、気液接触塔の圧力損失の増大による処理ガ
ス量の減少及び処理効率の低下を防止して長期に亘り安
定かつ効率的な処理を継続する。 【解決手段】 比重0.5〜1.5の充填材2が不規則
に充填されている気液接触塔10への原ガスの供給を停
止した状態で、洗浄水3を塔内の充填層が浸漬状態にな
るように供給し、気液接触塔の下部より曝気した後、洗
浄水を排出する気液接触塔の洗浄方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は硫化水素含有ガスの
脱硫装置に設けられた気液接触塔の洗浄方法に係り、特
に、下水、し尿、産業排水、汚泥、ゴミ等の有機性物質
の嫌気性微生物消化により発生する硫化水素を含有する
消化ガスを吸収液と接触させてガス中の硫化水素を吸収
液中に吸収させて除去するための気液接触塔を効果的に
洗浄する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、下水、し尿、産業排水等の排水、
又は汚泥、ゴミ等の固形廃棄物などの有機性物質の処理
法として、嫌気性微生物消化(嫌気性消化)法がある。
嫌気性消化法においてメタン発酵により発生するメタン
を含む消化ガス(バイオガス)は、通常、エネルギー回
収の目的で、ボイラや焼却炉の燃料などとして有効利用
されている。
【0003】しかし、消化ガス中には、メタンの他、二
酸化炭素、硫化水素等が含まれていることから、ボイラ
や焼却炉の燃料等として有効利用するに当っては、設備
機器の腐食や大気汚染を防止する目的で含有される硫化
水素を除去(脱硫)する必要がある。
【0004】消化ガスの脱硫方法として、特開平5−6
8849号公報には、消化ガスを気液接触塔に導入して
吸収液と接触させて消化ガス中の硫化水素を吸収液に吸
収させ、気液接触塔から排出される硫化水素を吸収した
吸収液を酸化槽で微生物により好気的に酸化分解させる
方法が提案されている。
【0005】この方法は、脱硫効率に優れ、しかも脱硫
による廃液を生じない優れた方法であり、特に気液接触
塔に充填材を充填することにより気液接触効率を高め
て、より一層効率的な脱硫を行うことができる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この方法において、気
液接触塔に充填材を充填した場合、充填した充填材に異
物が付着すると気液接触塔の圧力損失が大きくなるとと
もに、気液接触面積が小さくなり、ガス流量が低下して
処理効率が悪くなる。特に、充填材に微生物が付着して
気液接触塔内で微生物による硫黄酸化が生起すると、充
填材間に目詰りを生じ、気液接触塔の圧力損失が大きく
なり、ガス流量が低下して処理効率が大幅に低下するこ
とから、充填材に微生物や異物が付着した場合には、こ
れを適宜洗浄除去する必要がある。
【0007】本発明は、この気液接触塔を効率的に洗浄
する方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の気液接触塔の洗
浄方法は、充填材を充填した気液接触塔に原ガスと吸収
液を導入し、該塔内で原ガスと吸収液とを接触させて原
ガス中の硫化物を吸収液に吸収させた後、該気液接触塔
を洗浄する方法において、該気液接触塔は比重0.5〜
1.5の充填材が不規則に充填されており、気液接触塔
への原ガスの供給を停止した状態で、洗浄水を該気液接
触塔内の充填層が浸漬状態になるように該気液接触塔に
供給し、該気液接触塔の下部より曝気した後洗浄水を排
出することを特徴とする。
【0009】本発明においては、充填材として比重が
0.5〜1.5のものを使用し、これを気液接触塔内に
不規則に充填する。このため、充填層が洗浄水に浸漬し
た状態で曝気することで、充填層を十分に展開させて充
填材同士の接触により、付着物を効率的に剥離除去する
ことができる。そして、洗浄工程終了後は、洗浄水を排
出することにより、充填材はそのまま不規則に充填され
た状態となり、特に手間をかけることなく元の状態とす
ることができる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
【0011】図1は本発明の気液接触塔の洗浄方法の実
施の形態を示す系統図である。図中、10は気液接触塔
であり、上部に散水管1を有し、比重0.5〜1.5の
充填材2が不規則に充填されている。
【0012】気液接触塔10の脱硫工程においては、消
化ガス等の原ガスが気液接触塔10の下部から導入さ
れ、塔上部から散水される吸収液と向流接触される。吸
収液と接触して硫化水素等が除去された処理ガスは塔頂
より排出され、ボイラ、焼却炉等の使用場所へ送給され
る(図1(a))。硫化水素等を吸収した吸収排液は塔
下部から排出される。
【0013】このような脱硫工程を行うことにより充填
材の目詰りが生じた場合、或いは目詰りが生じることが
予想された場合には、原ガスの供給を停止して洗浄工程
に移行する。
【0014】洗浄工程では、原ガスの供給を停止した気
液接触塔10内の充填材2が洗浄水3により十分に浸漬
された状態となるまで、洗浄水3を気液接触塔10内に
導入する(図1(b))。
【0015】この洗浄水3としては、系外から工水や生
物処理水(二次処理水)、水道水を導入して用いても良
く、吸収液を用いても良い。吸収液を用いる場合には、
原ガスの供給を停止した後、所定時間吸収液の供給を継
続し、気液接触塔10内に吸収液を満たせば良い。
【0016】気液接触塔10内に洗浄水3を満たした後
は、気液接触塔10底部の散気管4より空気曝気を行
い、充填材2を洗浄水3内で十分に展開させる(図1
(c))。
【0017】本発明においては、気液接触塔10内に充
填する充填材2として比重0.5〜1.5、好ましくは
0.8〜1.2程度のものを用いるため、この曝気によ
り、充填材2は洗浄水3中で十分に展開する。そして、
充填材2が曝気流により流動して充填材同士が互いに接
触することで充填材2に付着した微生物等は効率的に剥
離除去される。
【0018】充填材2の比重が0.5より小さいと、曝
気による撹拌が困難なため十分な洗浄効果を得ることが
できない。充填材2の比重が1.5よりも大きいと、こ
の曝気により充填材2が十分に流動せず、付着物を効果
的に剥離除去することができない。
【0019】このような比重0.5〜1.5の充填材と
しては、ポリプロピレン製や塩化ビニル製のもの等を用
いることができる。また、充填材の大きさは、取り扱い
性、気液接触面積の確保の面から、一般的には直径5〜
50mm、高さ10〜60mmの円柱又は円筒形、或い
は20〜50mm×20〜50mm×20〜50mmの
塊状であることが好ましい。また、気液接触塔内の充填
材の充填量は、この曝気洗浄時の展開率を考慮して、気
液接触塔の有効容積の50〜80%程度とし、曝気洗浄
に当っては、この充填材充填層を1.2〜2.0倍に展
開させて洗浄を行うのが好ましい。この展開率は小さ過
ぎても大き過ぎても充填材同士の接触による付着物の剥
離効果を十分に得ることができない。なお、洗浄水は、
展開状態の充填層を十分に浸漬し得る程度に気液接触塔
内に導入することが重要である。
【0020】洗浄中の曝気は空気の他、窒素などの不活
性ガスを用いても良い。曝気のための散気管4としては
原ガス導入用のものを併用しても良く、洗浄用の散気管
を別途設けても良い。
【0021】曝気による送気量は、前述の展開率が得ら
れる程度であれば良いが、通常の場合、ガスLVとして
20〜60m/hr程度とするのが好ましい。
【0022】この曝気洗浄後は、気液接触塔10内の洗
浄水3を塔下部から排出する(図1(d))。これによ
り、充填材2はそのまま不規則に充填された状態とな
り、単に洗浄水を排出するのみで元の状態に戻すことが
できる。従って、洗浄水排出後は再び原ガスと吸収液の
導入を開始して脱硫工程を再開することができる。
【0023】なお、気液接触塔への原ガスの通ガス条件
は、通常、空間速度(SV)5〜50hr−1、好まし
くは10〜20hr−1、吸収液の通液条件は、通常、
ガス量に対して10〜100容量%、好ましくは40〜
80容量%の通水量とするのが望ましい。
【0024】気液接触塔は、脱硫工程と曝気洗浄工程と
を交互に行うことにより、良好な状態に維持され、長期
に亘り効率的な処理を継続することができる。この脱硫
工程と洗浄工程との時間比は、原ガスの性状や、流入
量、気液接触塔内の充填材の充填条件等によっても異な
るが、一般的には、1〜2ヶ月の脱硫工程(原ガスの導
入)の後、30〜60分の曝気洗浄を行うことが好まし
い。
【0025】この気液接触塔に導入される原ガスとして
は、例えば、下水、し尿、産業排水等の排水及び汚泥、
ゴミ等の固形廃棄物などの有機性物質を嫌気性消化する
際、メタン発酵により発生する消化ガス、その他、ゴミ
処分地、堆肥化施設等から発生する悪臭ガス等が挙げら
れる。
【0026】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。
【0027】実施例1 ビール製造廃水の嫌気性消化により発生した下記濃度の
消化ガスを図1(a)に示す如く、気液接触塔に導入し
て吸収液と向流接触させて脱硫処理を行った。 [消化ガス濃度] HS:2000ppm CH:約80体積% CO:約20体積%
【0028】気液接触塔の仕様及び処理条件は次の通り
である。 [気液接触塔] 容量:400L 充填材:材質=ポリプロピレン(ネットリング(大日本
プラスチック(株)登録商標) 寸法=内径45mm×外径52mm×長さ52mmの円
筒形 比重=0.9 充填量:250L 吸収液pH:7.0〜7.3 吸収液流量:4500L/hr 消化ガス流量:8000NL/hr(SV:20hr
−1
【0029】この処理により、HS:70ppmの処
理ガスが得られたが、処理を継続することにより気液接
触塔の圧力損失の増大が認められたことから、1ヶ月の
脱硫工程毎に消化ガスの導入を停止して下記条件の曝気
洗浄を行った。 [曝気洗浄条件] 洗浄水:吸収液(消化ガスの導入を停止した後、吸収液
の導入を継続し、気液接触塔内に満水された状態で導入
を停止した。) 曝気量:40m/hr 充填材の展開率:120% 曝気洗浄時間:20分
【0030】その結果、気液接触塔の圧力損失は0.0
5〜0.1kPaに維持され、効率的な処理を継続する
ことができた。
【0031】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の気液接触塔
の洗浄方法によれば、原ガスを吸収液と接触させてガス
中の硫化水素を吸収除去するための気液接触塔を効率的
に洗浄することができ、気液接触塔の圧力損失の増大に
よる処理ガス量の減少及び処理効率の低下を防止して、
長期に亘り安定かつ効率的な処理を継続することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の気液接触塔の洗浄方法の実施の形態を
示す系統図である。
【符号の説明】
1 散水管 2 充填材 3 洗浄水 4 散気管 10 気液接触塔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3B201 AA48 AB53 BB03 BB14 BB87 BB92 BB99 CA05 CD11 4D020 AA04 BB03 BC05 CB08 CB13 CC30 4G075 AA03 AA57 BB04 BD03 BD13 BD17 BD23 BD27 CA62 DA01 DA18 EA01 EB09 EC02 FB12

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 充填材を充填した気液接触塔に原ガスと
    吸収液を導入し、該塔内で原ガスと吸収液とを接触させ
    て原ガス中の硫化物を吸収液に吸収させた後、該気液接
    触塔を洗浄する方法において、 該気液接触塔は比重0.5〜1.5の充填材が不規則に
    充填されており、気液接触塔への原ガスの供給を停止し
    た状態で、洗浄水を該気液接触塔内の充填層が浸漬状態
    になるように該気液接触塔に供給し、該気液接触塔の下
    部より曝気した後洗浄水を排出することを特徴とする気
    液接触塔の洗浄方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012201763A (ja) * 2011-03-24 2012-10-22 Yanmar Co Ltd 精製システムの洗浄方法
JP2012217581A (ja) * 2011-04-07 2012-11-12 Shimizu Corp 空気浄化装置
JP2014148575A (ja) * 2013-01-31 2014-08-21 Kobelco Eco-Solutions Co Ltd 吸収塔の洗浄方法、および消化ガス精製装置

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JPH0430020U (ja) * 1990-07-05 1992-03-11

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