JP2002076198A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体装置の製造方法

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JP2002076198A
JP2002076198A JP2000255080A JP2000255080A JP2002076198A JP 2002076198 A JP2002076198 A JP 2002076198A JP 2000255080 A JP2000255080 A JP 2000255080A JP 2000255080 A JP2000255080 A JP 2000255080A JP 2002076198 A JP2002076198 A JP 2002076198A
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semiconductor chip
filler
sealing
die pad
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Motoaki Sato
元昭 佐藤
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
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    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
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    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
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    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の半導体チップが積層されて搭載される
半導体装置は、それぞれの半導体チップのサイズが異な
る場合、注入される封止樹脂の圧力の影響により、半導
体チップが半導体装置の厚み方向にシフトし、樹脂封止
面から半導体チップまたはダイパッド部が露出してしま
うことがあった。 【解決手段】 第1の半導体チップ3fの裏面にフィラ
ー12を含有した熱硬化性のペースト樹脂10を塗布し
て、第1の半導体チップ3fの裏面を樹脂封止金型11
の表面に接着させることで、第1の半導体チップ3fの
裏面と樹脂封止金型11の表面に固定されるため、樹脂
封止工程における封止樹脂注入時の圧力、注入速度の影
響を受けることなく、第1の半導体チップ3fおよびダ
イパッド部2が半導体装置の厚み方向にシフトすること
を防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の半導体チッ
プが基板上に搭載された半導体装置の製造方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器の小型化に対応するため
に、樹脂封止型半導体装置などの半導体部品の小型化、
薄型化が要望されている。それにともなって、樹脂封止
工程における半導体装置の薄型化技術についても注目さ
れている。
【0003】以下、従来の表面実装型の半導体装置につ
いて図面を参照しながら説明する。
【0004】まず、1つの半導体チップが内蔵された場
合の半導体装置について説明する。図8は、1つの半導
体チップが内蔵された場合の従来の半導体装置を示す断
面図である。
【0005】図8に示すように、リードフレーム1のダ
イパッド部2に半導体チップ3が接着剤4を介して搭載
され、半導体チップ3の電極とリードフレーム1のイン
ナーリード部5とが金属細線6でワイヤーボンディング
工法により電気的に接続され、所定の形状の樹脂封止金
型に封止樹脂7を注入して樹脂封止されることにより半
導体装置が完成する。そして封止樹脂の硬化後は、樹脂
封止金型から取り出された樹脂封止体のリードフレーム
1のアウターリード部8がリードフォーミング用金型に
て、所定のリード形状に加工される。
【0006】次に、2つの半導体チップが内蔵された場
合の半導体装置について説明する。
【0007】図9は、2つの半導体チップが内蔵された
場合の従来の半導体装置を示す断面図である。
【0008】図9に示すように、リードフレーム1のダ
イパッド部2の一方の面に第1の半導体チップ3fの裏
面が接着剤4を介して接着され、第1の半導体チップ3
fの主面に第2の半導体チップ3sの裏面が接着剤4を
介して接着され、第1の半導体チップ3fおよび第2の
半導体チップ3sの電極とリードフレーム1のインナー
リード部5とが金属細線6でワイヤーボンディング工法
により電気的に接続され、所定の形状の樹脂封止金型に
封止樹脂7を注入して樹脂封止されることにより半導体
装置が完成する。そして封止樹脂7の硬化後は、樹脂封
止金型から取り出された樹脂封止体のリードフレーム1
のアウターリード部8がリードフォーミング用金型に
て、所定のリード形状に加工される。
【0009】なお、搭載される半導体チップの数に関係
なく、半導体装置が完成した後は、電気的接続や信号検
査、信頼性試験が行われ、良品判定された後、梱包出荷
される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記従来
の半導体装置においては、特に薄型タイプの半導体装置
内に、複数の半導体チップを搭載する場合、樹脂封止工
程において封止樹脂の厚みの安定性の低下が懸念されて
いる。
【0011】例えば図9に示したように、複数個の半導
体チップが搭載されるタイプの半導体装置の製造工程で
は、2つの半導体チップのチップサイズが異なる場合、
注入される封止樹脂の圧力の影響により半導体チップが
半導体装置の厚み方向にシフトしないような封止樹脂流
動の圧力および速度のバランスのコントロールが必要で
あるが、そのコントロールは困難である。
【0012】また、封止樹脂流動の圧力の影響による半
導体チップのシフトを防止するため、意図的にパッケー
ジ表面に半導体チップやダイパッドの一部を露出させる
方法もあるが、封止樹脂注入時の圧力により、樹脂封止
用金型と露出面との間の微小な隙間に封止樹脂が流入す
ることで、封止樹脂硬化後に薄バリや封止樹脂内に気泡
(ボイド)が発生し、半導体チップが割れる危険性もあ
る。
【0013】本発明は前記した従来の課題を解決するた
めに、封止樹脂注入時のダイパッドのシフトを防止し、
封止樹脂の表面から半導体チップまたはダイパッド部が
露出しない半導体装置の製造方法を提供することを目的
とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】前記従来の課題を解決す
るために、本発明の半導体装置の製造方法は、ダイパッ
ド部の第1の面上に第1の半導体チップの裏面を接着す
るとともに、前記ダイパッド部の第2の面上に第2の半
導体チップの主面を接着する工程と、前記第1の半導体
チップに形成された電極および前記第2の半導体チップ
に形成された電極とインナーリード部とを金属細線で電
気的に接続する工程と、前記第2の半導体チップの裏面
に単数または複数の均等サイズのフィラーを含有した熱
硬化性のペースト樹脂を塗布する工程と、前記第2の半
導体チップの裏面を対応した樹脂封止金型の表面に前記
ペースト樹脂を介して接着させる工程と、前記第1の半
導体チップ、前記第2の半導体チップ、前記ダイパッド
部および前記金属細線の領域を樹脂封止する工程とより
なる。
【0015】このような半導体装置の製造方法により、
第2の半導体チップに対向する樹脂封止金型の表面に対
して、第2の半導体チップがフィラーを介して押圧され
た状態で接着されるので、封止樹脂の注入によりダイパ
ッド部または2つの半導体チップをシフトさせるような
圧力が生じても、ダイパッド部または半導体チップのシ
フトを防止することができる。
【0016】また、ダイパッド部の第1の面上に第1の
半導体チップの裏面を接着する工程と、第2の半導体チ
ップの裏面を前記第1の半導体チップの主面に接着する
工程と、前記第1の半導体チップに形成された電極およ
び前記第2の半導体チップに形成された電極と前記イン
ナーリード部とを金属細線で電気的に接続する工程と、
前記ダイパッド部の裏面に単数または均等サイズの複数
のフィラーを含有した熱硬化性のペースト樹脂を塗布す
る工程と、前記ダイパッド部の裏面を対応した樹脂封止
金型の表面に前記ペースト樹脂を介して接着させる工程
と、前記第1の半導体チップ、前記第2の半導体チッ
プ、前記ダイパッド部および前記金属細線の領域を樹脂
封止する工程とよりなる。
【0017】このような半導体装置の製造方法により、
ダイパッド部に対向する樹脂封止金型の表面に対して、
ダイパッド部がフィラーを介して押圧された状態で接着
されるので、封止樹脂の注入によりダイパッド部または
半導体チップをシフトさせるような圧力が生じても、ダ
イパッド部または半導体チップのシフトを防止すること
ができる。
【0018】また、フィラーの形状は、破砕状である。
【0019】このように、破砕状のフィラーを用いるこ
とにより、破砕状のフィラーが半導体チップまたはダイ
パッド部に対して引っかかりやすくなるので、樹脂封止
金型と半導体チップまたはダイパッド部との間でフィラ
ーが流動しにくくなり、樹脂封止工程において封止樹脂
の圧力が大きくなっても、ペースト樹脂が塗布された位
置から移動することを防止することができる。したがっ
て、フィラーを含有したペースト樹脂が分布する位置の
バラツキの拡大を抑制することが可能となる。また、樹
脂封止金型と半導体チップまたはダイパッド部との距離
を決定するフィラー径の粒度の選別が容易となる。ま
た、低コストのペースト樹脂の製造が可能となる。
【0020】また、フィラーの形状は、球状である。
【0021】このように、球状のフィラーを用いること
により、硬化後の封止樹脂の強度向上および応力低下を
実現することができる。
【0022】また、フィラーの材料は、SiO2(シリ
カ)である。
【0023】このように、フィラーの材料としてSiO
2(シリカ)を用いることにより、高耐熱であって、半
導体チップおよびダイパッド部との密着力の大きいペー
スト樹脂の実現が可能となる。
【0024】また、フィラーの材料は、ポリイミドまた
は耐熱性シリコンゴムを混合している。
【0025】このようなフィラーの材料を混合して、ペ
ースト樹脂を半導体チップの裏面またはダイパッド部の
裏面に塗布することにより、ペースト樹脂の硬化後の内
部応力を緩和することが可能となる。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、本発明の半導体装置の製造
方法の一実施形態について図面を参照しながら説明す
る。
【0027】まず、本発明の第1の実施形態について説
明する。
【0028】図1は本実施形態の半導体装置の各製造工
程を示す断面図である。
【0029】図1(a)に示すように、半導体チップ搭
載用のダイパッド部2がフレーム枠と接続した吊りリー
ド部によって支持され、一方の端部がフレーム枠と接続
したインナーリード部を有するリードフレームをダイボ
ンディング装置を用いて所定の位置に搬送し、ダイパッ
ド部2の一方の面に第1の半導体チップ3fの主面を対
向させるとともに、ダイパッド部2の他方の面に第2の
半導体チップ3sの裏面を対向させて、それぞれの半導
体チップを接着剤4を用いてダイパッド部2の両面にダ
イボンディングを行い、それぞれの半導体チップの電極
とインナーリード部5とを金属細線6により電気的に接
続し、ペースト塗布機9を用いて第1の半導体チップ3
fの裏面にフィラーを含有したペースト樹脂10を3点
以上塗布する。
【0030】またペースト樹脂10の塗布位置は、例え
ば、直線上、隣接する塗布位置が同距離となる位置、ダ
イパッド部の中央部を中心とした線対称および点対称と
なる位置である。
【0031】次に図1(b)に示すように、2つの半導
体チップが搭載されたリードフレーム1を樹脂封止金型
11に投入し、位置決めを行う。
【0032】次に図1(c)に示すように、ペースト樹
脂10が塗布された第1の半導体チップ3fの裏面を対
向する樹脂封止金型11の表面に押圧して密着させ、ペ
ースト樹脂10を半硬化または硬化させる。そして、封
止樹脂7を樹脂封止金型11に注入し、加熱、硬化する
ことにより、第1の半導体チップ3f、第2の半導体チ
ップ3s、インナーリード部5および金属細線6を含む
領域を封止樹脂7によって樹脂封止した後、封止樹脂7
が硬化した状態でリードフレーム1を樹脂封止金型11
から取り出す。ここで、第1の半導体チップ3fの裏面
に塗布したペースト樹脂10と封止樹脂7とが混合しな
いように、封止樹脂注入前に、ペースト樹脂10が半硬
化または硬化状態となっていることが必要である。
【0033】次に図1(d)に示すように、封止樹脂面
から露出したアウターリード8を所定の形状、長さに加
工することにより、半導体装置が完成する。
【0034】なお、本実施形態では、搭載した2つの半
導体チップの主面が半導体装置の実装面に対向した場合
について説明したが、搭載した2つの半導体チップの主
面が半導体装置の実装面に対して逆向きでもよい。
【0035】また、第1の半導体チップ3fの裏面に対
するペースト樹脂10の塗布は、それぞれの半導体チッ
プの電極とインナーリード部5とを金属細線6によって
電気的に接続する工程の前後いずれに行ってもよい。
【0036】また、本実施形態では、第1の半導体チッ
プ3fの裏面はフィラーを含有したペースト樹脂10を
介して、上側の樹脂封止金型または下側の樹脂封止金型
に対して接着されればよく、フィラーの形状および材料
に関係なく、第1の半導体チップ3fの裏面がフィラー
を含有したペースト樹脂を介して接着される樹脂封止金
型は、上下どちらかの樹脂封止金型に限定されるもので
はない。
【0037】次に本発明の第2の実施形態について説明
する。
【0038】図2は本実施形態の半導体装置の各製造工
程を示す断面図である。
【0039】図2(a)に示すように、半導体チップ搭
載用のダイパッド部2がフレーム枠と接続した吊りリー
ド部によって支持され、一方の端部がフレーム枠と接続
したインナーリード部を有するリードフレームをダイボ
ンディング装置を用いて所定の位置に搬送し、ダイパッ
ド部2の一方の面に第1の半導体チップ3fの裏面を対
向させて接着剤4を用いて接着し、第1の半導体チップ
3fの主面に第2の半導体チップ3sの裏面を対向させ
て接着剤4を用いて接着し、それぞれの半導体チップの
電極とインナーリード部5とを金属細線6により電気的
に接続し、ダイパッド部2の裏面にペースト塗布機9を
用いてフィラーを含有したペースト樹脂10を3点以上
塗布する。
【0040】次に図2(b)に示すように、2つの半導
体チップが搭載されたリードフレーム1を樹脂封止金型
11に投入してから位置決めを行う。
【0041】次に図2(c)に示すように、ペースト樹
脂10が塗布されたダイパッド部2を対向する樹脂封止
金型11の表面に押圧して密着させ、ダイパッド部2の
裏面に塗布したペースト樹脂10に封止樹脂7が混合し
ないように、ペースト樹脂10を半硬化または硬化させ
る。その後、樹脂封止金型11内に封止樹脂7を注入し
加熱、硬化させ、リードフレーム1を樹脂封止金型11
から取り出す。
【0042】次に図2(d)に示すように、封止樹脂面
から露出したアウターリード8を所定の形状、長さに加
工すると、本実施形態の半導体装置が完成する。
【0043】なお、本実施形態では、搭載した2つの半
導体チップの主面が半導体装置の実装面に対向した場合
について説明したが、搭載した2つの半導体チップの主
面が半導体装置の実装面に対して逆向きでもよい。
【0044】また、ダイパッド部2の裏面に対するペー
スト樹脂の塗布は、それぞれの半導体チップの電極とイ
ンナーリード部5とを金属細線6によって電気的に接続
する工程の前後いずれに行ってもよい。
【0045】なお、本実施形態でも、第1の半導体チッ
プ3fの裏面はフィラーを含有したペースト樹脂10を
介して、上側の樹脂封止金型または下側の樹脂封止金型
に対して接着されればよく、フィラーの形状および材料
に関係なく、第1の半導体チップ3fの裏面がフィラー
を含有したペースト樹脂を介して接着される樹脂封止金
型は、上下どちらかの樹脂封止金型に限定されるもので
はない。
【0046】次に本実施形態で用いるフィラーの形状に
ついて説明する。
【0047】図3、図4、図5および図6は、それぞれ
破砕状、球状、楕円回転体状および多面体状のフィラー
を含有したペースト樹脂を半導体チップの裏面に塗布し
た状態を拡大して示す断面図である。また図7は、球
状、楕円回転体状、多角錐状および多面体状のフィラー
が混合して含有したペースト樹脂を塗布した状態を拡大
して示す断面図である。
【0048】図3(a)は、半導体チップ3fの裏面に
破砕状のフィラー12を含有したペースト樹脂10を塗
布した状態を示す断面図であり、図3(b)および図3
(c)は、半導体チップ3fが、樹脂封止金型11に対
して下側に位置する場合および上側に位置する場合の状
態を示す断面図である。
【0049】まず図3(a)に示すように、破砕状のフ
ィラー12を含有したペースト樹脂10を第1の半導体
チップ3fの裏面に塗布する。ここで破砕状のフィラー
12は、フィラーの原材料を粉砕した後、一定範囲のサ
イズの粒径のフィラーを選別したものであり、比較的鋭
利な角部を有する形状である。
【0050】次に図3(b)および図3(c)に示すよ
うに、第1の半導体チップ3fを搭載したリードフレー
ムを樹脂封止金型11内に投入し、第1の半導体チップ
3fの裏面を破砕状フィラー12を含有したペースト樹
脂10を介して樹脂封止金型11に押圧し、樹脂封止金
型11の加熱装置によりペースト樹脂10を加熱する。
ペースト樹脂10が加熱されると、ペースト樹脂10は
次第に硬化し、第1の半導体チップ3fと樹脂封止金型
11の表面とは破砕状のフィラー12を含有したペース
ト樹脂10を介して接着される。
【0051】この後、封止樹脂を第1の半導体チップ3
fと樹脂封止金型11との間に注入するが、封止樹脂と
ペースト樹脂10とが混合することを避けるため、本実
施形態では、樹脂封止金型11をクランプしてから封止
樹脂注入までの間にペースト樹脂10が半硬化または硬
化状態となっていることが必要である。なお、ペースト
樹脂10の硬化時間の調整は、ペースト樹脂10の添加
成分である硬化促進剤の含有量により調整可能である。
【0052】また、樹脂封止金型11に対してペースト
樹脂10を介して第1の半導体チップ3fの裏面を押圧
することにより、第1の半導体チップ3fと樹脂封止金
型11との間の距離は、フィラー12の平均粒径とほぼ
同一となる。このときの押圧力は、第1の半導体チップ
3fが搭載されるダイパッド部、吊りリードおよびフレ
ーム本体の弾性力を利用したものである。このように、
破砕状のフィラー12を用いると、破砕状のフィラー1
2が第1の半導体チップ3fおよび樹脂封止金型11の
表面に引っかかりやすくなるので、封止樹脂の流入によ
る圧力の影響を受けることなく、ペースト樹脂10が塗
布された位置から移動することを防止することができ
る。また、破砕状のフィラーを用いることにより、一定
範囲の粒径の選別が容易になり、他の形状のフィラーよ
りも安価に入手できる。
【0053】次に、球状のフィラーを含有したペースト
樹脂を用いる場合について説明する。
【0054】図4(a)は、半導体チップ3fの裏面に
球状のフィラー13を含有したペースト樹脂塗布した状
態を示す断面図であり、図4(b)および図4(c)
は、半導体チップ3fが、樹脂封止金型11に対して下
側に位置する場合および上側に位置する場合の状態を示
す断面図である。
【0055】まず図4(a)に示すように、球状のフィ
ラー13が含有したペースト樹脂10を第1の半導体チ
ップ3fの裏面に塗布する。
【0056】次に図4(b)および図4(c)に示すよ
うに、第1の半導体チップ3fを搭載したリードフレー
ムを樹脂封止金型11内に投入し、第1の半導体チップ
3fの裏面を球状のフィラー13を含有したペースト樹
脂10を介して樹脂封止金型11に押圧し、樹脂封止金
型11の加熱装置によりペースト樹脂10を加熱する。
ペースト樹脂10が加熱されると、ペースト樹脂10は
次第に硬化し、第1の半導体チップ3fと樹脂封止金型
11の表面とは球状のフィラー13を含有したペースト
樹脂10を介して接着される。
【0057】ここで用いた球状のフィラー13は、他の
フィラーよりも高強度であり、また、エポキシ樹脂を成
分としたペースト樹脂と混合する場合は、硬化時に発生
する応力が小さくなり、第1の半導体チップ3fと樹脂
封止金型との密着性を確保することができる。
【0058】次に、楕円回転体状のフィラーを含有した
ペースト樹脂を用いる場合について説明する。
【0059】図5(a)は、半導体チップ3fの裏面に
楕円回転体状のフィラー14を含有したペースト樹脂を
塗布した状態を示す断面図であり、図5(b)および図
5(c)は、半導体チップ3fが、樹脂封止金型11に
対して下側に位置する場合および上側に位置する場合の
状態を示す断面図である。
【0060】また図5(a)に示すように、楕円回転体
状のフィラー14が含有したペースト樹脂10を第1の
半導体チップ3fの裏面に塗布する。
【0061】次に図5(b)および図5(c)に示すよ
うに、第1の半導体チップ3fを搭載したリードフレー
ムを樹脂封止金型11内に投入し、第1の半導体チップ
3fの裏面を楕円回転体状のフィラー14を含有したペ
ースト樹脂10を介して樹脂封止金型11に押圧し、樹
脂封止金型11の加熱装置によりペースト樹脂10を加
熱する。ペースト樹脂10が加熱されると、ペースト樹
脂10は次第に硬化し、第1の半導体チップ3fと樹脂
封止金型11の表面とは楕円回転体状のフィラー14を
含有したペースト樹脂10を介して接着される。
【0062】このように楕円回転体状のフィラー14を
用いると、ペースト樹脂10の硬化が不十分の段階に封
止樹脂が流入しても、楕円回転体状のフィラー14が第
1の半導体チップ3fおよび樹脂封止金型11の表面に
ひっかかり、ペースト樹脂10が塗布された位置から移
動することを防止することができる。
【0063】次に、多角形状のフィラーを含有したペー
スト樹脂を用いる場合について説明する。
【0064】図6(a)は、半導体チップ3fの裏面に
多角形状のフィラー15を含有したペースト樹脂を塗布
した状態を示す断面図であり、図6(b)および図6
(c)は、半導体チップ3fが、樹脂封止金型11に対
して下側に位置する場合および上側に位置する場合の状
態を示す断面図である。
【0065】まず図6(a)に示すように、多角形状の
フィラー15が含有したペースト樹脂10を第1の半導
体チップ3fの裏面に塗布する。
【0066】次に図6(b)および図6(c)に示すよ
うに、第1の半導体チップ3fを搭載したリードフレー
ムを樹脂封止金型11内に投入し、第1の半導体チップ
3fの裏面を多角形状のフィラー15を含有したペース
ト樹脂10を介して樹脂封止金型11に押圧し、樹脂封
止金型11の加熱装置によりペースト樹脂10を加熱す
る。ペースト樹脂10が加熱されると、ペースト樹脂1
0は次第に硬化し、第1の半導体チップ3fと樹脂封止
金型11の表面とは多角形状のフィラー15を含有した
ペースト樹脂10を介して接着される。
【0067】このように多角形状のフィラー15を用い
ると、ペースト樹脂10の硬化が不十分の段階に封止樹
脂が流入しても、多角形状のフィラー15が半導体チッ
プおよび樹脂封止金型11の表面にひっかかり、ペース
ト樹脂10が塗布された位置から移動することを防止す
ることができる。また、多角形状は、多角錐、正四面
体、直方体のいずれであってもよく、特に限定されるも
のではない。
【0068】次に、多角形状混合のフィラーを含有した
ペースト樹脂を用いる場合について説明する。
【0069】図7(a)は、第1の半導体チップ3fの
裏面に多角形状混合のフィラー16を含有したペースト
樹脂を塗布した状態を示す断面図であり、図7(b)お
よび図7(c)は、第1の半導体チップ3fが、樹脂封
止金型11に対して下側に位置する場合および上側に位
置する場合の状態を示す断面図である。
【0070】まず図7(a)に示すように、多角形状混
合のフィラー16が含有したペースト樹脂10を第1の
半導体チップ3fの裏面に塗布する。
【0071】次に図7(b)および図7(c)に示すよ
うに、第1の半導体チップ3fを搭載したリードフレー
ムを樹脂封止金型11内に投入し、第1の半導体チップ
3fの裏面を多角形状混合のフィラー16を含有したペ
ースト樹脂10を介して樹脂封止金型11に押圧し、樹
脂封止金型11の加熱装置によりペースト樹脂10を加
熱する。ペースト樹脂10が加熱されると、ペースト樹
脂10は次第に硬化し、第1の半導体チップ3fと樹脂
封止金型11の表面とは多角形状混合のフィラー16を
含有したペースト樹脂10を介して接着される。
【0072】このように多角形状のフィラー16を混在
して用いると、ペースト樹脂10の硬化が不十分の段階
に封止樹脂が流入しても、多角形状混合のフィラー16
が第1の半導体チップ3fと樹脂封止金型11の表面に
ひっかかり、ペースト樹脂10が塗布された位置から移
動することを抑制することができる。また、高強度であ
り、さらにペースト樹脂10の硬化時に発生する応力を
小さく抑制することが可能となる。また、多角形状は、
多角錐、正四面体、直方体のいずれであってもよく、特
に限定されたものではない。
【0073】以上、フィラーの形状を適宜選択すること
により、封止樹脂流入によるペースト樹脂の移動の防
止、フィラー強度の向上、ペースト樹脂硬化時に発生す
る応力の低下を達成することができるが、いずれのフィ
ラー形状を選択しても、樹脂封止金型と対向するダイパ
ッド部および半導体チップとがフィラー径と同一の距離
を保って平行となり、ダイパッド部および半導体チップ
のシフトを防止できる。
【0074】なお、ここでは第1の実施形態に対応し
て、第1の半導体チップ3fを樹脂封止金型11に対し
てフィラーを含有するペースト樹脂10を介して接着し
た場合について説明したが、第2の実施形態に対応して
ダイパッド部2を樹脂封止金型11にフィラーを含有す
るペースト樹脂10を介して接着した場合でも、フィラ
ー形状は適宜選択できる。
【0075】次に、ペースト樹脂に含有されるフィラー
径について説明する。
【0076】半導体チップは、半導体チップが搭載され
たダイパッド部、吊りリードおよびリードフレームのバ
ネ弾性力によって樹脂封止金型に押し付けられるため、
半導体チップと樹脂封止金型との距離は、ペースト樹脂
に分布したフィラー径によって決定され、半導体チップ
と樹脂封止金型とはほぼ平行となり、半導体チップを搭
載したダイパッド部が、樹脂封止金型投入時の初期状態
からシフトすることを防止することができる。
【0077】なお、フィラーのサイズは、目標とする半
導体チップと樹脂封止金型との間の距離と同一になるよ
うに設定する必要がある。
【0078】また、半導体チップと樹脂封止金型との間
のペースト樹脂が塗布された以外の領域には、封止樹脂
を充填する必要があるため、ペースト樹脂に含有された
フィラー径は、封止樹脂に含有されたフィラー径よりも
大きい必要がある。具体的には、ペースト樹脂に含有さ
れるフィラー径は、100[μm]〜200[μm]である
ことが望ましいが、これは、封止樹脂に含有されるフィ
ラー径の粒度分布のピークが70[μm]程度であり、ペ
ースト樹脂に含有されるフィラー径が100[μm]以上
であれば、封止樹脂に含有されるフィラーが、硬化した
ペースト樹脂を挟む半導体チップと樹脂封止金型との間
に流入することが可能となるためである。
【0079】また、200[μm]よりも大きな径のフィ
ラーを用いると、ペースト樹脂を塗布するためのノズル
の内径を200[μm]よりも大きくする必要があるの
で、ノズルからの1回の滴下量が増加し、連続して塗布
量が安定した高精度な塗布が困難になる。
【0080】次に本実施形態で用いるフィラーの材料に
ついて説明する。
【0081】フィラーとして用いられる材料は、シリカ
(SiO2ガラス)、ポリイミド、耐熱性シリコンゴム
が一般的であるが、これらの材料の使い分けは、必要と
される弾力性の程度によって決定され、場合によっては
シリカ、ポリイミド、耐熱性シリコンゴムを混合して使
用する場合もある。
【0082】以下、それぞれのフィラー材料を用いた場
合のペースト樹脂の特性について説明する。
【0083】まず、シリカ(SiO2ガラス)は高耐熱
性で密着強度が大きいので、ペースト樹脂および封止樹
脂の高温加熱時にも特性上問題なく、また、ペースト樹
脂との密着強度を確保することができ、ペースト樹脂と
フィラーとの界面におけるボイドの発生を防止すること
が可能となる。
【0084】また、ポリイミドは弾力性が富み、ペース
ト樹脂の硬化時における内部応力の発生を緩和すること
ができ、半導体チップとの密着性を確保できる。
【0085】また、耐熱性シリコンゴムは高耐熱性であ
り、弾力性も有するので、ペースト樹脂および封止樹脂
の高温加熱時にも特性上問題なく、ペースト樹脂の硬化
時における内部応力の発生を緩和することができる。
【0086】また、フィラーを含有したペースト樹脂1
0と封止樹脂7とは、同色で同種の熱硬化タイプ、同種
の離型剤を使用することにより、完成後の半導体装置の
外観上の見栄えが良くなり、内部応力の偏りを防止で
き、さらに硬化後の封止樹脂面が樹脂封止金型11の表
面から離形しやすくなる。
【0087】なお、第1の実施形態および第2の実施形
態では、図1および図2に示した半導体装置は、ダイパ
ッド部2の片面または両面に対して、合計2つの半導体
チップが搭載された半導体装置であって、樹脂封止金型
11のクランプ動作完了によって封止樹脂7の注入可能
な状態になった時点ではダイパッド部2または第1の半
導体チップ3fと樹脂封止金型11との間に、フィラー
を含有したペースト樹脂10層が形成されるように、ペ
ースト樹脂10の半硬化または硬化と封止樹脂注入との
タイミングを考慮した樹脂封止装置の設計を行っておく
ことが重要である。この時、ダイパッド部2に吊りリー
ドを介して接続されるリードフレーム1全体のバネ弾性
力を利用することにより、第1の半導体チップ3fおよ
びダイパッド部2が対向する樹脂封止金型11に対する
押し付け力を設計段階で調整して、第1の半導体チップ
3fまたはダイパッド部2に塗布したペースト樹脂10
に含有したフィラーを挟み込むことも可能である。ま
た、封止樹脂7を樹脂封止金型11に注入することによ
り樹脂封止金型11内の全領域に封止樹脂7が充填さ
れ、樹脂封止工程が完了する。
【0088】また、第1の実施形態および第2の実施形
態において、ダイパッド部2、第1の半導体チップ3f
および第2の半導体チップ3sを互いに接着する接着剤
4は、ポリイミドを基材としてその両面に粘着性を有す
る熱可塑性樹脂を積層した絶縁テープ材であり、厚さは
20[μm]程度である。いずれの実施形態においても、
第1の半導体チップの主面(回路形成面)に接着剤4が
接触しているが、第1の半導体チップの主面(回路形成
面)は保護膜であるパッシベーション膜とポリイミド樹
脂の膜により被覆されているので、第1の半導体チップ
3fの正常な回路動作を妨げるものではない。また第1
の実施形態では、第1の半導体チップ3fの主面をダイ
パッド部2にダイボンディングし、第2の実施形態で
は、第1の半導体チップ3fの主面に第2の半導体チッ
プをダイボンディングするので、いずれの実施形態にお
いても、第1の半導体チップの主面(回路形成面)はダ
イボンディング時の衝撃を受けるが、接着剤4がダイボ
ンディング時の衝撃を吸収することと、半導体チップの
厚み方向の耐衝撃性が比較的大きいことにより、第1の
半導体チップの主面(回路形成面)に対する衝撃は、回
路動作を妨げる程度に達するものではない。
【0089】なお、接着剤4の材質は、シート状の接着
剤や液状のペースト樹脂でもよい。
【0090】また、本発明の第1の実施形態では、第1
の半導体チップ3fの裏面と樹脂封止金型11の表面が
対向しているので、第1の半導体チップ3fの裏面にペ
ースト樹脂10を塗布するが、第2の実施形態では、ダ
イパッド部2と樹脂封止金型11の表面が対向している
ので、ダイパッド部2にペースト樹脂10を塗布する。
それぞれの実施形態において、ペースト樹脂10に含有
されるフィラーの径、形状、材料を適宜選択することに
より、高耐熱、高強度、高弾力性および応力緩和性を達
成するペースト樹脂10の実現が可能となる。
【0091】
【発明の効果】以上、本発明の半導体装置の製造方法に
より、フィラーを含有したペースト樹脂を半導体チップ
またはダイパッド部の表面に塗布し、対向する樹脂封止
金型に対してペースト樹脂を介して半導体チップおよび
ダイパッド部を押圧した状態でペースト樹脂の硬化を行
うことにより、封止樹脂を樹脂封止金型に注入した時の
封止樹脂の圧力の影響を受けることなく、ダイパッド部
のシフトを防止できる。
【0092】また、フィラーの形状を適宜選択すること
により、封止樹脂の注入時にペースト樹脂が塗布された
位置から流動することを防止する。また、フィラーの材
料を適宜選択することにより、高耐熱、高強度、高弾力
性および応力緩和性を達成することが可能となり、ペー
スト樹脂の安定した半硬化および硬化を確保することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法の
各工程を示す断面図
【図2】本発明の一実施形態の半導体装置の製造方法の
各工程を示す断面図
【図3】本発明の一実施形態のペースト樹脂が塗布され
た半導体チップを示す断面図
【図4】本発明の一実施形態のペースト樹脂が塗布され
た半導体チップを示す断面図
【図5】本発明の一実施形態のペースト樹脂が塗布され
た半導体チップを示す断面図
【図6】本発明の一実施形態のペースト樹脂が塗布され
た半導体チップを示す断面図
【図7】本発明の一実施形態のペースト樹脂が塗布され
た半導体チップを示す断面図
【図8】従来の半導体装置を示す断面図
【図9】従来の半導体装置を示す断面図
【符号の説明】
1 リードフレーム 2 ダイパッド部 3 半導体チップ 3f 第1の半導体チップ 3s 第2の半導体チップ 4 接着剤 5 インナーリード部 6 金属細線 7 封止樹脂 8 アウターリード部 9 ペースト塗布機 10 ペースト樹脂 11 樹脂封止金型 12 破砕状のフィラー 13 球状のフィラー 14 楕円回転体状のフィラー 15 多角形状のフィラー 16 多角形状混合のフィラー

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ダイパッド部の第1の面上に第1の半導
    体チップの裏面を接着するとともに、前記ダイパッド部
    の第2の面上に第2の半導体チップの主面を接着する工
    程と、前記第1の半導体チップに形成された電極および
    前記第2の半導体チップに形成された電極とインナーリ
    ード部とを金属細線で電気的に接続する工程と、前記第
    2の半導体チップの裏面に単数または複数の均等サイズ
    のフィラーを含有した熱硬化性のペースト樹脂を塗布す
    る工程と、前記第2の半導体チップの裏面を対応した樹
    脂封止金型の表面に前記ペースト樹脂を介して接着させ
    る工程と、前記第1の半導体チップ、前記第2の半導体
    チップ、前記ダイパッド部および前記金属細線の領域を
    樹脂封止する工程とよりなることを特徴とする半導体装
    置の製造方法。
  2. 【請求項2】 ダイパッド部の第1の面上に第1の半導
    体チップの裏面を接着する工程と、第2の半導体チップ
    の裏面を前記第1の半導体チップの主面に接着する工程
    と、前記第1の半導体チップに形成された電極および前
    記第2の半導体チップに形成された電極と前記インナー
    リード部とを金属細線で電気的に接続する工程と、前記
    ダイパッド部の裏面に単数または均等サイズの複数のフ
    ィラーを含有した熱硬化性のペースト樹脂を塗布する工
    程と、前記ダイパッド部の裏面を対応した樹脂封止金型
    の表面に前記ペースト樹脂を介して接着させる工程と、
    前記第1の半導体チップ、前記第2の半導体チップ、前
    記ダイパッド部および前記金属細線の領域を樹脂封止す
    る工程とよりなることを特徴とする半導体装置の製造方
    法。
  3. 【請求項3】 フィラーの形状は、破砕状であることを
    特徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体装置
    の製造方法。
  4. 【請求項4】 フィラーの形状は、球状であることを特
    徴とする請求項1または請求項2に記載の半導体装置の
    製造方法。
  5. 【請求項5】 フィラーの材料は、SiO2(シリカ)
    であることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか
    に記載の半導体装置の製造方法。
  6. 【請求項6】 フィラーの材料は、ポリイミドまたは耐
    熱性シリコンゴムを混合したことを特徴とする請求項5
    に記載の半導体装置の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN102233639A (zh) * 2010-04-28 2011-11-09 住友重机械工业株式会社 树脂密封装置及树脂密封方法

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