JP2002060926A

JP2002060926A - 成膜装置およびそのクリーニング方法

Info

Publication number: JP2002060926A
Application number: JP2001128812A
Authority: JP
Inventors: Shunpei Yamazaki; 舜平山崎; Toru Takayama; 徹高山; Kenji Fukunaga; 健司福永
Original assignee: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Current assignee: Semiconductor Energy Laboratory Co Ltd
Priority date: 2000-05-02
Filing date: 2001-04-26
Publication date: 2002-02-28
Anticipated expiration: 2021-04-26
Also published as: JP4785269B2

Abstract

(57)【要約】【課題】成膜室内の部品に付着した蒸着材料を大気解
放することなく除去するためのクリーニング方法を提供
する。【解決手段】成膜室１０１内に設けられた基板ホルダ
１０２、蒸着マスク１０４、マスクホルダ１０５もしく
は防着シールド１０６といった部品に付着した蒸着材料
１１１に対して加熱処理を行う。これにより付着した蒸
着材料１１１を再び昇華させ、真空ポンプにより排気し
て除去する。このようなクリーニング方法を電気光学装
置の作製工程に含めることで、作製工程の短縮化と信頼
性の高い電気光学装置の実現を図る

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、蒸着により成膜可
能な材料（以下、蒸着材料という）の成膜に用いる成膜
装置およびそのクリーニング方法並びに前記クリーニン
グ方法を用いた電気光学装置の作製方法に関する。特
に、本発明は蒸着材料として有機材料を用いる場合に有
効な技術である。

【０００２】特に、上記ＥＬ（Electro Luminescence）
が得られる発光性の有機材料を成膜する装置において有
効な技術である。なお、発光性の有機材料は、一重項励
起もしくは三重項励起または両者の励起を経由して発光
（燐光および／または蛍光）するすべての発光性材料を
含む。

【０００３】また、本明細書において、電気光学装置に
は、太陽電池、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）、Ｃ
ＭＯＳセンサ、液晶表示装置、ＥＬ表示装置もしくはＥ
Ｌ素子を含む光源（これらをまとめて発光装置と呼ぶ）
を含むものとする。

【０００４】

【従来の技術】近年、ＥＬ（Electro Luminescence）が
得られる発光性材料（以下、ＥＬ材料という）を用いた
発光素子（以下、ＥＬ素子という）の開発が急速に進め
られている。特に、有機系のＥＬ材料（以下、有機ＥＬ
材料という）は駆動電圧の低いＥＬ素子を作製できるた
め、次世代ディスプレイへの応用が期待されている。

【０００５】なお、本明細書において、ＥＬ素子とはＥ
Ｌ材料ならびにこのＥＬ材料にキャリアを注入するため
の有機材料もしくは無機材料を含む層（以下、ＥＬ層と
いう）を二つの電極（陽極および陰極）で挟んだ構造か
らなる発光素子であり、陽極、陰極およびＥＬ層からな
るダイオードを指す。

【０００６】有機ＥＬ材料を用いたＥＬ素子は、有機Ｅ
Ｌ材料と有機材料の組み合わせからなるＥＬ層を用いる
構造が一般的である。この有機ＥＬ材料および有機材料
は低分子系（モノマー系）材料と高分子系（ポリマー
系）材料に大別されるが、このうち低分子系材料は主に
蒸着により成膜される。

【０００７】この有機ＥＬ材料は極めて劣化しやすく、
酸素もしくは水の存在により容易に酸化して劣化する。
そのため、成膜後にフォトリソグラフィ工程を行うこと
ができず、パターン化するためには開口部を有したマス
ク（以下、蒸着マスクという）で成膜と同時に分離させ
る必要がある。従って、昇華した有機ＥＬ材料の殆どが
成膜室内の蒸着マスクもしくは防着シールド（蒸着材料
が成膜室の内壁に付着することを防ぐための保護板）に
付着していた。

【０００８】蒸着マスクや防着シールドに付着した有機
ＥＬ材料を除去するためには、成膜室を一旦大気解放し
て蒸着マスクや防着シールドを外に取り出し、洗浄した
上で再び成膜室内に戻すという作業が必要であった。し
かしながら、大気解放した蒸着マスクや防着シールドに
吸着された水もしくは酸素が有機ＥＬ材料の成膜時に離
脱して膜中に取り込まれる可能性もあり、有機ＥＬ材料
の劣化を促進する要因となりうることが懸念されてい
た。

【０００９】この場合、蒸着マスクや防着シールドを設
置した状態で真空加熱を行うことにより吸着水や吸着酸
素をある程度除去することも可能であったが、長時間そ
のような真空加熱を行うことはスループットの低下を招
いていた。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は蒸着材料が付
着しうる部品（冶具）または成膜室内壁に付着した蒸着
材料を大気解放しないで除去するためのクリーニング方
法およびそのクリーニング方法を行うための機構を備え
た成膜装置並びに当該クリーニング方法を作製方法に含
む電気光学装置の作製方法を提供することを課題とす
る。なお、本明細書において、成膜装置の内部に設けら
れる部品(成膜装置の内部に設けられる冶具)は、基板ホ
ルダ、マスクホルダ、防着シールドもしくは蒸着マスク
を含む。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、成膜室に設け
られた部品もしくは成膜室内壁に付着した蒸着材料を加
熱することにより再び昇華させ、且つ、再び昇華させた
蒸着材料を真空ポンプより排気することを特徴としてい
る。なお、加熱する手段としては、輻射熱により加熱す
る方法、赤外光を用いて加熱する方法もしくは紫外光を
用いて加熱する方法を用いることが可能である。なお、
輻射熱により加熱する方法とは、具体的には電熱線（電
気抵抗の高い金属線）を用いて加熱する方法とも言え
る。

【００１２】なお、部品等に付着した蒸着材料を再び昇
華させる際、成膜室内に蒸着材料との反応性が高いガス
を流すことで、再び昇華させた蒸着材料の再付着を防ぐ
ようにすることも好ましい。具体的には、ハロゲン族元
素（フッ素、塩素、臭素もしくは沃素）を含むガスを流
せば良い。また、蒸着材料に触れる部分をすべて加熱し
て再付着を防ぐことも効果的である。その際、典型的に
は輻射熱を用いて加熱すれば良い。

【００１３】また、本明細書では、部品、蒸着マスクも
しくは成膜室内壁に付着した蒸着材料を加熱することに
より再び昇華させることを再昇華と呼び、再び昇華させ
た蒸着材料を再昇華させた蒸着材料と呼ぶ。

【００１４】

【発明の実施の形態】本発明を実施するための成膜装置
の成膜室について図１を用いて説明する。まず、図１
（Ａ）は蒸着材料の成膜プロセスを示している。成膜室
１０１内には基板ホルダ１０２により基板１０３が配置
されている。なお、基板１０３は基板面に薄膜を設けた
状態をも含めるものとする。即ち、素子が形成される途
中の基板も含める。

【００１５】また、基板１０３の近傍に蒸着マスク１０
４が設けられ、蒸着マスク１０４はマスクホルダ１０５
によって支持されている。また、成膜室１０１の内壁よ
りも内側には防着シールド１０６が設けられ、蒸着材料
が成膜室１０１の内壁に付着しないようになっている。

【００１６】この状態で蒸着源ホルダ１０７に備えられ
た蒸着源１０８が図中矢印の方向に移動し、蒸着源１０
８から昇華させた蒸着材料１０９が基板１０３に成膜さ
れていく。なお、蒸着シールド１１０は蒸着源１０８か
らの昇華が安定するまでの間、蒸着源１０８を覆ってお
くためのシールドである。

【００１７】また、図示されていないが、蒸着ホルダ１
０７は紙面に垂直な方向に長い長方形のホルダであり、
その上には蒸着源１０８が複数並んで設けられている。

【００１８】ここで、基板ホルダ１０２、蒸着マスク１
０４、マスクホルダ１０５、防着シールド１０６および
蒸着シールド１１０は成膜室内に設置され、蒸着材料１
０９が付着する部品である。本発明では、これらの部品
に付着した蒸着材料を加熱するため、部品の材料として
耐熱性の高い材料を用いることが好ましい。

【００１９】具体的には、タングステン、タンタル、チ
タン、クロム、ニッケルもしくはモリブデンといった高
融点金属もしくはこれらの元素を含む合金を用いると良
い。また、ステンレス、インコネルもしくはハステロイ
といった金属を用いても良い。また、これらの金属の表
面に保護膜として酸化クロム膜もしくは酸化タンタル膜
を設けても良い。

【００２０】但し、蒸着材料を再昇華させる際に成膜室
内にガスを流す場合は、そのガスに対する耐蝕性をもっ
た金属を用いる必要がある。

【００２１】次に、図１（Ｂ）には、図１（Ａ）に示し
た成膜プロセスを数回繰り返した後の成膜室１０１の様
子を示す。なお、図１（Ｂ）に示す状態は、基板１０３
を成膜室の外へ搬送した後の状態である。この状態で
は、繰り返しの蒸着により基板ホルダ１０２、蒸着マス
ク１０４、マスクホルダ１０５、防着シールド１０６お
よび蒸着シールド１１０には蒸着材料が付着している。
図１（Ｂ）では付着した蒸着材料１１１を点線で表して
いる。

【００２２】次に、再昇華と排気のプロセス（クリーニ
ングプロセス）を図１（Ｃ）に示す。ここでは基板ホル
ダ１０２、蒸着マスク１０４、マスクホルダ１０５、防
着シールド１０６および蒸着シールド１１０に付着した
蒸着材料１１１を加熱し、再昇華させることで再び部品
から離脱させる。加熱の方法はヒーター加熱、赤外光加
熱もしくは紫外光加熱のいずれを用いても良いし、これ
らを併用しても良い。

【００２３】こうして再昇華させた蒸着材料１１２は、
ただちに真空ポンプ（図示せず）を用いて排気口１１３
から排気される。真空ポンプとしては、公知の如何なる
ポンプを用いても良い。

【００２４】また、図１（Ｃ）に示す再昇華と排気のプ
ロセスを行う際に、成膜室１０１内にハロゲン族元素を
含むガスを流しても良い。ここではフッ素を含むガスを
流し、再昇華させると同時に蒸着材料をフッ化物として
排気している。

【００２５】なお、図１を用いて説明した一連のプロセ
スは、複数回の成膜プロセスを行った後にクリーニング
プロセスを行っているが、１回の成膜プロセス毎にクリ
ーニングプロセスを行うことも可能である。

【００２６】

【実施例】〔実施例１〕本実施例では、成膜室に設けら
れた部品に対して赤外光、紫外光もしくは可視光を照射
することにより部品に付着した蒸着材料を昇華させ、昇
華させた蒸着材料を排気することを特徴とする成膜装置
のクリーニング方法について説明する。なお、本実施例
は本発明の一実施例であり、発明の実施の形態の記載を
引用することができる。

【００２７】図２に本実施例の成膜装置における成膜部
の断面構造を示す。図２（Ａ）、図２（Ｂ）は互いに垂
直な方向に切断した場合における断面構造を示してい
る。図２（Ａ）はＸ方向に沿った断面であり、図２
（Ｂ）はＹ方向に沿った断面である。また、図４は本実
施例の成膜装置における成膜部の上面図である。

【００２８】図２（Ａ）、（Ｂ）において、成膜室２０
１の内部には基板ホルダ２０２が設けられ、基板ホルダ
２０２により基板２０３が支持されている。この場合、
図面の下方に向いている基板面が、薄膜を成膜される側
の面である。

【００２９】また、基板２０３に近接して蒸着マスク２
０４が設けられる。蒸着マスク２０４はマスクホルダ２
０５により支持され、マスクホルダ２０５を可変にする
ことで基板２０３との距離を調節することが可能であ
る。

【００３０】さらに、基板２０３、蒸着マスク２０４お
よびマスクホルダ２０５を囲むように防着シールド２０
６が設けられている。なお、防着シールド２０６のうち
２０７で示される領域は、蒸着材料の昇華速度が安定す
るまで蒸着源を隠しておくことができる。即ち、図１
（Ａ）に示した蒸着シールド１１０同様の役割をもたせ
ることができる。

【００３１】また、成膜室２０１の下方には蒸着源２０
８を備えた蒸着源ホルダ２０９およびランプ光源２１０
がレール２１１に取り付けられている。即ち、本実施例
の成膜部には、レール２１１に沿って蒸着源２０８およ
びランプ光源２１０を移動させる機構が備えられてい
る。また、このランプ光源２１０により赤外光、紫外光
もしくは可視光が照射される。

【００３２】ここで蒸着源２０８および蒸着源ホルダ２
０９の構造を図３（Ａ）に示す。図３（Ａ）に示すよう
に、本実施例の成膜部は細長い長方形の蒸着源ホルダ２
０９の上に複数の蒸着源２０８が並べられた構造となっ
ている。なお、蒸着源２０８の個数に限定はなく、それ
らの配置間隔も適宜決めれば良い。

【００３３】また、蒸着源２０８の構造を図３（Ｂ）に
示す。図３（Ｂ）に示した蒸着源２０８は有機ＥＬ材料
を成膜するための蒸着源であり、ホスト材料を蒸着する
ためのホスト材料用ノズル２１４およびゲスト材料を蒸
着するためのゲスト材料用ノズル２１５を備えている。

【００３４】このとき、蒸着源２０８の移動速度や蒸着
材料の昇華速度はコントロールユニット２１２により制
御される。同様に、ランプ光源２１０の移動速度や照度
もコントロールユニット２１２により制御される。ま
た、蒸着源２０８の移動速度や昇華速度は、基板２０３
に成膜された蒸着材料の膜厚を膜厚計でモニタリングし
た結果をフィードバックすることで制御すれば良い。さ
らに、この制御は個々の蒸着源について個別に行うこと
も可能である。その際、基板２０３をマトリクス状に区
分けし、各々の区画に対応させて複数の水晶振動子を設
置し、個々の蒸着源について蒸着速度を制御することで
膜厚の均一性を高めることができる。

【００３５】また、ランプ光源２１０は赤外光を発する
ランプ（赤外光ランプ）、紫外光を発するランプ（紫外
光ランプ）もしくは可視光を発するランプ（典型的には
ハロゲンランプ）を用いる。さらに、このランプ光源２
１０の形状は、長方形もしくは長楕円形であり、移動さ
せながら照射することで大面積を１度に照射することが
可能である。即ち、ランプ光源２１０から発した赤外
光、紫外光もしくは可視光の照射面（部品に当たった
面）は長方形もしくは長楕円形となる。

【００３６】本発明では、基板２０３を成膜室２０１の
外へ搬出した後、蒸着マスク２０４、マスクホルダ２０
５および防着シールド２０６に付着した蒸着材料に対し
てランプ光源２１０から発した赤外光、紫外光もしくは
可視光を照射する。そして、この光照射により蒸着材料
を再び昇華させ、そのまま真空ポンプ（図示せず）を用
いて排気口２１３より排気する。なお、蒸着材料を昇華
させる温度にもよるが、吸収による熱を生じやすい赤外
光を用いることが好ましい。

【００３７】また、防着シールド２０６の内側やマスク
ホルダ２０５の表面に赤外光、紫外光もしくは可視光を
吸収しやすい薄膜（光吸収膜）を成膜しておくことは有
効である。即ち、光吸収膜に赤外光、紫外光もしくは可
視光を一旦吸収させ、そこからの熱伝導により付着した
蒸着材料を再び昇華させても良い。

【００３８】本実施例の成膜装置は成膜室に設けられた
部品に対して赤外光、紫外光もしくは可視光を照射する
手段（具体的にはランプ光源）を有し、それを用いて部
品もしくは蒸着マスクに付着した蒸着材料を再昇華させ
て排気（除去）するという非常に簡易な手段により成膜
室内のクリーニングが可能である。また、大気解放せず
に成膜室内のクリーニングが可能である点に大きな特徴
がある。そのため、従来問題であった吸着水や吸着酸素
の問題を回避することができる。

【００３９】さらに、本実施例に示したようにランプ光
源の形状を長方形もしくは長楕円形とすることで、１度
の走査（移動）で大面積を照射することができる。従っ
て、クリーニングプロセスに要する時間を短縮化でき、
スループットを向上させることができる。

【００４０】〔実施例２〕本実施例では、成膜室に設け
られた部品を輻射熱により加熱して部品に付着した蒸着
材料を昇華させ、昇華させた蒸着材料を排気することを
特徴とする成膜装置のクリーニング方法について説明す
る。なお、輻射熱は電気抵抗の高い金属線（代表的には
ニクロム線）に電流を流すことで発生させれば良い。ま
た、本実施例は本発明の一実施例であり、発明の実施の
形態の記載を引用することができる。

【００４１】図５に本実施例の成膜装置における成膜部
の断面構造を示す。図５（Ａ）、図５（Ｂ）は互いに垂
直な方向に切断した場合における断面構造を示してい
る。図５（Ａ）はＸ方向に沿った断面であり、図５
（Ｂ）はＹ方向に沿った断面である。また、図６は本実
施例の成膜装置における成膜部の上面図である。

【００４２】図５（Ａ）、（Ｂ）において、成膜室５０
１の内部には基板ホルダ５０２が設けられ、基板ホルダ
５０２により基板５０３が支持されている。この場合、
図面の下方に向いている基板面が、薄膜を成膜される側
の面である。

【００４３】また、基板５０３に近接して蒸着マスク５
０４が設けられる。蒸着マスク５０４はマスクホルダ５
０５により支持され、マスクホルダ５０５を可変にする
ことで基板５０３との距離を調節することが可能であ
る。

【００４４】さらに、基板５０３、蒸着マスク５０４お
よびマスクホルダ５０５を囲むように防着シールド５０
６が設けられている。なお、防着シールド５０６のうち
５０７で示される領域は、蒸着材料の昇華速度が安定す
るまで蒸着源を隠しておくことができる。即ち、図１に
示した蒸着シールド１１０同様の役割をもたせることが
できる。

【００４５】また、防着シールド５０６の周囲には電熱
線（本実施例ではニクロム線）５０８が接して設けられ
ている。本実施例ではこの電熱線５０８に電流を流すこ
とにより防着シールド５０６全体を加熱することが可能
である。

【００４６】また、防着シールド５０６を覆うように反
射板５０９が設けられている。反射板５０９は１枚設け
ても良いし、複数枚設けても良い。反射板５０９は防着
シールド５０６や電熱線５０８からの輻射熱を反射して
防着シールド５０８を効率良く加熱するために設けられ
る。また、成膜室５０１の内壁が極力加熱されないよう
にする効果もある。反射板５０９の材料としては、反射
率の高い金属を用いることが好ましい。また、成膜室５
０１にガスを流す場合は、そのガスに対して耐蝕性をも
つ金属を用いる必要がある。

【００４７】また、成膜室５０１の下方には蒸着源５１
０を備えた蒸着源ホルダ５１１がレール５１２に取り付
けられている。即ち、本実施例の成膜部には、レール５
１２に沿って蒸着源５１０を移動させる機構が備えられ
ている。なお、蒸着源５１０および蒸着源ホルダ５１１
の構造は図３に示した通りである。

【００４８】また、蒸着源５１０の移動速度や蒸着材料
の昇華速度はコントロールユニット５１３により制御さ
れる。本実施例でも蒸着源５１０の移動速度や昇華速度
は、基板５０３に成膜された蒸着材料の膜厚を膜厚計で
モニタリングした結果をフィードバックすることで制御
する。また、この制御は個々の蒸着源について個別に行
う。その際、基板５０３をマトリクス状に区分けし、各
々の区画に対応させて複数の水晶振動子を設置し、個々
の蒸着源について蒸着速度を制御することで膜厚の均一
性を高めることができる。

【００４９】本発明では、基板５０３を成膜室５０１の
外へ搬出した後、電熱線５０７に電流を流すことにより
防着シールド５０６を加熱し、防着シールド５０６に付
着した蒸着材料を再び昇華させる。そして、そのまま真
空ポンプ（図示せず）を用いて排気口５１４より排気す
る。なお、蒸着材料を昇華させる温度にもよるが、有機
材料であれば５００℃以下の温度でも十分に昇華させる
ことができる。

【００５０】本実施例の成膜装置は成膜室に設けられた
部品に、その部品を輻射熱により加熱する導体（電熱
線、具体的にはニクロム線）が設けられており、その導
体に電流を流すことで部品に付着した蒸着材料を再昇華
させて排気（除去）するという非常に簡易な手段により
成膜室内のクリーニングが可能である。また、大気解放
せずに成膜室内のクリーニングが可能であるため、従来
問題であった吸着水や吸着酸素の問題を回避することが
できる。

【００５１】〔実施例３〕本実施例では、成膜室に排気
処理室が連結された成膜装置について説明する。なお、
図７に示した本実施例の成膜装置は、成膜室７０２が図
２（Ａ）に示した構造と同一の構造であり、この成膜室
７０２に直列に排気処理室６０１が接続されている。従
って、成膜室７０２に関しては実施例１を参照すること
とし、排気処理室７０１の説明を中心に行う。

【００５２】図７において、排気処理室７０１は成膜室
７０２にゲート７０３を介して接続されている。このゲ
ート７０３は排気処理室７０１から成膜室７０２に向か
って排気ガスが混入しないようにする役割をもつ。そし
て、ゲート７０３付近の配管には電熱線７０４が設けら
れ、配管７０５を加熱することができるようになってい
る。これは成膜室７０１から排気されてきた蒸着材料が
配管７０５に付着することを防ぐために設けられてい
る。

【００５３】排気処理室７０１において、排気処理室７
０１の内部には上部電極７０６および下部電極７０７が
設けられ、上部電極７０６に高周波電源７０８が接続さ
れている。また、下部電極７０７は接地されている。さ
らに、排気処理室７０１の内部にはプラズマを形成する
ためのガスが供給できるようになっており、上部電極７
０６および下部電極７０７の間に電圧を印加することで
プラズマ７０９を形成することができる。

【００５４】成膜室７０２から排気されてきた蒸着材料
は、排気処理室７０１にてプラズマ７０９に晒され、分
解もしくは結合により不活性なガスに変化し、排気口７
１０から排気される。即ち、再昇華させた蒸着材料は排
気中にプラズマに晒され、不活性なガスに変化するた
め、排気口７１０以降の配管は蒸着材料が付着するとい
った問題を生じることがない。

【００５５】ここで蒸着材料が有機材料（有機ＥＬ材料
も含む）であれば、プラズマを形成するためのガスとし
て酸素を用い、酸素プラズマで処理することが好まし
い。但し、排気処理室７０１の内部に残留する酸素が成
膜室７０２に逆流しないように注意が必要である。

【００５６】なお、本実施例の構成は、実施例１もしく
は実施例２のどちらと組み合わせて実施しても構わな
い。

【００５７】〔実施例４〕本実施例では、実施例１〜実
施例３のいずれかの構成の成膜装置において、部品に付
着した蒸着材料を再昇華させる際、成膜室内にハロゲン
族元素を含むガスを流す例について説明する。

【００５８】ハロゲン族元素としては、代表的にフッ
素、塩素、臭素もしくは沃素が挙げられる。これらハロ
ゲン族元素を含むガスとしては、代表的にはフッ素（Ｆ
₂）ガス、塩素（Ｃｌ₂）ガスもしくは四フッ化炭素（Ｃ
Ｆ₄）ガスが挙げられる。

【００５９】本実施例では、再昇華させた蒸着材料と上
記ハロゲン族元素を含むガスとを反応させて蒸着材料を
不活性なガスにし、部品、配管および成膜室内壁への再
付着を防止する。

【００６０】なお、本実施例の構成は実施例１〜実施例
３のいずれの構成とも組み合わせて実施することが可能
である。

【００６１】〔実施例５〕本実施例では、実施例１〜実
施例４のいずれかの構成の成膜室をマルチチャンバー方
式（クラスターツール方式ともいう）で複数設けた成膜
装置について説明する。本実施例の成膜装置の模式図を
図８に示す。なお、本実施例ではＥＬ素子を形成するた
めの成膜装置を示す。

【００６２】図８において、８０１は搬送室であり、搬
送室８０１には搬送機構（Ａ）８０２が備えられ、基板
８０３の搬送が行われる。搬送室８０１は減圧雰囲気に
されており、各処理室とはゲートによって連結されてい
る。各処理室への基板の受け渡しは、ゲートを開けた際
に搬送機構（Ａ）８０２によって行われる。また、搬送
室８０１を減圧するには、油回転ポンプ、メカニカルブ
ースターポンプ、ターボ分子ポンプ若しくはクライオポ
ンプなどの排気ポンプを用いることが可能であるが、水
分の除去に効果的なクライオポンプが好ましい。

【００６３】以下に、各処理室についての説明を行う。
なお、搬送室８０１は減圧雰囲気となるので、搬送室８
０１に直接的に連結された処理室には全て排気ポンプ
（図示せず）が備えられている。排気ポンプとしては上
述の油回転ポンプ、メカニカルブースターポンプ、ター
ボ分子ポンプ若しくはクライオポンプが用いられる。

【００６４】まず、８０４は基板のセッティング（設
置）を行うロード室であり、ロードロック室とも呼ばれ
る。ロード室８０４はゲート８００aにより搬送室８０
１と連結され、ここに基板８０３をセットしたキャリア
（図示せず）が配置される。なお、ロード室８０４は基
板搬入用と基板搬出用とで部屋が区別されていても良
い。また、ロード室８０４は上述の排気ポンプと高純度
の窒素ガスまたは希ガスを導入するためのパージライン
を備えている。

【００６５】次に、８０５で示されるのはＥＬ素子の陽
極もしくは陰極（本実施例では陽極）の表面を処理する
前処理室であり、前処理室８０５はゲート８００bによ
り搬送室８０１と連結される。前処理室はＥＬ素子の作
製プロセスによって様々に変えることができるが、本実
施例では酸化物導電膜からなる陽極の表面に酸素中で紫
外光を照射しつつ１００〜１２０℃で加熱できるように
する。このような前処理は、ＥＬ素子の陽極表面を処理
する際に有効である。

【００６６】次に、８０６は蒸着により有機材料および
有機ＥＬ材料を成膜するための成膜室であり、成膜室
（Ａ）と呼ぶ。成膜室（Ａ）８０６はゲート８００cを
介して搬送室８０１に連結される。本実施例では蒸着室
（Ａ）８０６として実施例１もしくは実施例２に示した
成膜部を設けている。なお、本実施例では、成膜室
（Ａ）８０６において正孔注入層となる有機材料及び赤
色に発色する発光層となる有機ＥＬ材料を成膜する。従
って、蒸着源及び蒸着マスクを二種類備え、切り換えが
可能な構成となっている。

【００６７】次に、８０７は蒸着法により有機ＥＬ材料
を成膜するための成膜室であり、成膜室（Ｂ）と呼ぶ。
成膜室（Ｂ）８０７はゲート８００dを介して搬送室８
０１に連結される。本実施例では成膜室（Ｂ）８０７と
して実施例１もしくは実施例２に示した成膜室を設けて
いる。本実施例では、成膜室（Ｂ）８０７において、緑
色に発色する発光層となる有機ＥＬ材料を成膜する。

【００６８】次に、８０８は蒸着により有機ＥＬ材料を
成膜するための成膜室であり、成膜室（Ｃ）と呼ぶ。成
膜室（Ｃ）８０８はゲート８００eを介して搬送室８０
１に連結される。本実施例では成膜室（Ｃ）８０８とし
て実施例１もしくは実施例２に示した成膜室を設けてい
る。本実施例では、成膜室（Ｃ）８０８において、青色
に発色する発光層となる有機ＥＬ材料を成膜する。

【００６９】次に、８０９は蒸着によりＥＬ素子の陽極
もしくは陰極となる導電膜（本実施例では陰極となる金
属膜）を成膜するための成膜室であり、成膜室（Ｄ）と
呼ぶ。成膜室（Ｄ）８０９はゲート８００fを介して搬
送室８０１に連結される。本実施例では成膜室（Ｄ）８
０９として実施例１もしくは実施例２に示した成膜室を
設けている。本実施例では、成膜室（Ｄ）８０９におい
て、ＥＬ素子の陰極となる導電膜としてＡｌ−Ｌｉ合金
膜（アルミニウムとリチウムとの合金膜）を成膜する。
なお、周期表の１族もしくは２族に属する元素とアルミ
ニウムとを共蒸着することも可能である。

【００７０】次に、８１０は封止室であり、ゲート８０
０gを介してロード室８０４に連結されている。封止室
８１０には紫外光ランプ８１１が設けられている。さら
に、封止室８１０には受渡室８１２が連結される。受渡
室８１２には搬送機構（Ｂ）８１３が設けられ、封止室
８１０でＥＬ素子の封止が完了した基板を受渡室８１２
へと搬送する。

【００７１】このとき、封止室８１０では形成されたＥ
Ｌ素子を密閉空間に封止（封入）する工程が行われる。
即ち、ＥＬ素子にかぶせるようにしてシーリング材を紫
外線硬化樹脂により貼り合わせ、紫外光ランプ８１１か
ら発する紫外光により紫外線硬化樹脂を硬化させて封止
する。

【００７２】以上のように、図８に示した成膜装置を用
いることで完全にＥＬ素子を密閉空間に封止するまで外
気に晒さずに済むため、信頼性の高い発光装置を作製す
ることが可能となる。

【００７３】また、成膜室（Ａ）８０６、成膜室（Ｂ）
８０７、成膜室（Ｃ）８０８および成膜室（Ｄ）８０９
に本発明の成膜室を用いることで、各成膜室を大気解放
しないでクリーニングすることが可能となる。従って、
さらに信頼性の高い発光装置を作製することが可能とな
る。

【００７４】〔実施例６〕本実施例では、実施例１〜実
施例４のいずれかの構成の成膜室をインライン方式で複
数設けた成膜装置について説明する。本実施例の成膜装
置の模式図を図９に示す。なお、本実施例ではＥＬ素子
を形成するための成膜装置を示す。

【００７５】図９において９０１はロード室であり、基
板９０の搬送はここから行われる。ロード室９０１には
排気系９００aが備えられ、排気系９００aは第１バルブ
９１、ターボ分子ポンプ９２、第２バルブ９３及びロー
タリーポンプ（油回転ポンプ）９４を含んだ構成からな
っている。

【００７６】第１バルブ９１はメインバルブであり、コ
ンダクタンスバルブを兼ねる場合もあるしバタフライバ
ルブを用いる場合もある。第２バルブ９３はフォアバル
ブであり、まず第２バルブ９３を開けてロータリーポン
プ９４によりロード室９０１を粗く減圧し、次に第１バ
ルブ９１を空けてターボ分子ポンプ９２で高真空まで減
圧する。なお、ターボ分子ポンプの代わりにメカニカル
ブースターポンプ若しくはクライオポンプを用いること
が可能であるがクライオポンプは水分の除去に特に効果
的である。

【００７７】次に、９０２で示されるのはＥＬ素子の陽
極もしくは陰極（本実施例では陽極）の表面を処理する
前処理室であり、前処理室９０２は排気系９００bを備
えている。また、ロード室９０１とは図示しないゲート
で密閉遮断されている。前処理室９０２はＥＬ素子の作
製プロセスによって様々に変えることができる。

【００７８】前処理としては、オゾンプラズマ処理、酸
素プラズマ処理、アルゴンプラズマ処理、ネオンプラズ
マ処理、ヘリウムプラズマ処理もしくは水素プラズマ処
理を行うことができる。また、ヒーターを備えることで
プラズマ処理と同時に加熱することも可能である。さら
に、紫外光ランプを備えることで紫外光照射を可能とす
ることも有効である。

【００７９】本実施例では、基板を１００℃に加熱しな
がら酸化物導電膜からなる陽極の表面にオゾンプラズマ
処理を行い、水分の除去と同時に陽極表面の仕事関数を
高める前処理を行う。

【００８０】次に、９０３は蒸着により有機材料を成膜
するための成膜室であり、成膜室（Ａ）と呼ぶ。成膜室
（Ａ）９０３は排気系９００cを備えている。また、前
処理室９０２とは図示しないゲートで密閉遮断されてい
る。本実施例では成膜室（Ａ）９０３として実施例１も
しくは実施例２に示した成膜室を用い、成膜室（Ａ）９
０３にて正孔注入層を形成する。

【００８１】次に、９０４は蒸着により有機材料を成膜
するための成膜室であり、成膜室（Ｂ）と呼ぶ。成膜室
（Ｂ）９０４は排気系９００dを備えている。また、成
膜室（Ａ）９０３とは図示しないゲートで密閉遮断され
ている。本実施例では成膜室（Ｂ）９０４として実施例
１もしくは実施例２に示した成膜室を用い、成膜室
（Ｂ）９０４にて正孔輸送層を形成する。

【００８２】次に、９０５は蒸着により有機ＥＬ材料を
成膜するための成膜室であり、成膜室（Ｃ）と呼ぶ。成
膜室（Ｃ）９０５は排気系９００eを備えている。ま
た、成膜室（Ｂ）９０４とは図示しないゲートで密閉遮
断されている。本実施例では成膜室（Ｃ）９０５として
実施例１もしくは実施例２に示した成膜室を用い、成膜
室（Ｃ）９０５にて赤色に発色する発光層を形成する。

【００８３】次に、９０６は蒸着により有機ＥＬ材料を
成膜するための成膜室であり、成膜室（Ｄ）と呼ぶ。成
膜室（Ｄ）９０６は排気系９００fを備えている。ま
た、成膜室（Ｃ）９０５とは図示しないゲートで密閉遮
断されている。本実施例では成膜室（Ｄ）９０６として
実施例１もしくは実施例２に示した成膜室を用い、成膜
室（Ｄ）９０６にて緑色に発色する発光層を形成する。

【００８４】次に、９０７は蒸着により有機ＥＬ材料を
成膜するための成膜室であり、成膜室（Ｅ）と呼ぶ。成
膜室（Ｅ）９０７は排気系９００gを備えている。ま
た、成膜室（Ｄ）９０６とは図示しないゲートで密閉遮
断されている。本実施例では成膜室（Ｅ）９０７として
実施例１もしくは実施例２に示した成膜室を用い、成膜
室（Ｅ）９０７にて青色に発色する発光層を形成する。

【００８５】次に、９０８は蒸着により有機材料を成膜
するための成膜室であり、成膜室（Ｆ）と呼ぶ。成膜室
（Ｆ）９０８は排気系９００hを備えている。また、成
膜室（Ｅ）９０７とは図示しないゲートで密閉遮断され
ている。本実施例では成膜室（Ｆ）９０８として実施例
１もしくは実施例２に示した成膜室を用い、成膜室
（Ｆ）９０８にて電子輸送層を形成する。

【００８６】次に、９０９は蒸着により有機材料を成膜
するための成膜室であり、成膜室（Ｇ）と呼ぶ。成膜室
（Ｇ）９０９は排気系９００iを備えている。また、成
膜室（Ｆ）９０８とは図示しないゲートで密閉遮断され
ている。本実施例では成膜室（Ｇ）９０９として実施例
１もしくは実施例２に示した成膜室を用い、成膜室
（Ｇ）９０９にて電子注入層を形成する。

【００８７】次に、９１０は蒸着によりＥＬ素子の陽極
もしくは陰極となる導電膜（本実施例では陰極となる金
属膜）を成膜するための成膜室であり、成膜室（Ｈ）と
呼ぶ。成膜室（Ｈ）９１０は排気系９００jを備えてい
る。また、成膜室（Ｇ）９０９とは図示しないゲートで
密閉遮断されている。本実施例では成膜室（Ｈ）９１０
として実施例１もしくは実施例２に示した成膜室を用い
る。

【００８８】また、本実施例では、成膜室（Ｈ）９１０
にてＥＬ素子の陰極となる導電膜としてＡｌ−Ｌｉ合金
膜（アルミニウムとリチウムとの合金膜）もしくはＡｌ
−Ｃｓ合金膜（アルミニウムとセシウムとの合金膜）を
形成する。なお、周期表の１族もしくは２族に属する元
素とアルミニウムとを共蒸着することも可能である。

【００８９】次に、９１１は封止室であり、排気系９０
０kを備えている。また、成膜室（Ｈ）９１０とは図示
しないゲートで密閉遮断されている。封止室９１１では
ＥＬ素子を酸素および水分から保護するために、パッシ
ベーション膜として炭素膜、具体的にはＤＬＣ（ダイヤ
モンドライクカーボン）膜を形成する。

【００９０】ＤＬＣ膜を形成するにはスパッタ法、プラ
ズマＣＶＤ法もしくはイオンプレーティング法を用いれ
ば良い。イオンプレーティング法を用いる場合、実施例
１の構造の成膜装置を用いれば良い。イオンプレーティ
ング法の場合、通常の蒸着と異なり電界を加えるための
電極が必要となるが、この電極に付着した蒸着材料もラ
ンプ光源からの光照射により再昇華させて排気すれば良
い。

【００９１】ＤＬＣ膜は室温から１００℃以下の温度範
囲で成膜できるため、耐熱性の低いＥＬ素子を保護する
パッシベーション膜として好適である。また、熱伝導率
が高く放熱効果が良いため、ＥＬ素子の熱劣化を抑制す
る効果も期待できる。なお、本実施例で形成するＤＬＣ
膜は窒化珪素膜もしくは炭化珪素膜と積層して用いるこ
とも有効である。

【００９２】最後に、９１２はアンロード室であり、排
気系９００lを備えている。ＥＬ素子が形成された基板
はここから取り出される。

【００９３】なお、本実施例に示した成膜装置の各処理
室、排気系および搬送系をコンピュータ制御により動作
させることは有効である。本実施例の場合、連続的に一
連の処理を行ってＥＬ素子が完成するため、コンピュー
タ制御により基板投入から基板取り出しまでを管理する
ことができる。

【００９４】以上のように、図９に示した成膜装置を用
いることで完全にＥＬ素子を密閉空間に封止するまで外
気に晒さずに済むため、信頼性の高いＥＬ表示装置を作
製することが可能となる。また、インライン方式により
高いスループットでＥＬ表示装置を作製することができ
る。

【００９５】また、成膜室（Ａ）９０３、成膜室（Ｂ）
９０４、成膜室（Ｃ）９０５、成膜室（Ｄ）９０６、成
膜室（Ｅ）９０７、成膜室（Ｆ）９０８、成膜室（Ｇ）
９０９および成膜室（Ｈ）９１０に本発明の成膜室を用
いることで、各成膜室を大気解放しないでクリーニング
することが可能となる。従って、さらに信頼性の高い発
光装置を作製することが可能となる。

【００９６】〔実施例７〕本実施例では、実施例１〜実
施例４に示したいずれかの構成のクリーニング方法を作
製方法に含むことを特徴とする発光装置の作製方法につ
いて説明する。

【００９７】図１０に示したフローチャートは本実施例
における発光装置の作製工程の流れを示している。ま
ず、図１０（Ａ）は、ＥＬ素子を形成する有機材料（有
機ＥＬ材料も含む）を成膜する度に、実施例１〜実施例
４のいずれかの方法により成膜装置のクリーニングを行
う例である。なお、その際、実施例５もしくは実施例６
の成膜装置を用いれば良い。

【００９８】この場合、絶縁体上にＴＦＴを作製する過
程（ＴＦＴの作製過程）の後、ＥＬ素子を形成するため
の有機材料を成膜する過程（有機材料の成膜過程）を経
て、ＥＬ素子を封止する過程（封止過程）に至り、発光
装置が完成する。この一連の作製工程において、有機材
料の成膜過程が終了した直後に、成膜装置のクリーニン
グ過程が行われ、その後で次の有機材料の成膜過程が行
われる。

【００９９】なお、アクティブマトリクス型発光装置の
作製方法においてはＴＦＴの作製過程が含まれるが、パ
ッシブマトリクス型発光装置もしくはＥＬ素子を含む光
源の作製方法においてはＴＦＴの作製過程は含まれな
い。そういった意味でＴＦＴの作製過程を括弧書きで表
している。

【０１００】次に、図１０（Ｂ）は、ＥＬ素子を形成す
る有機材料（有機ＥＬ材料も含む）を成膜する過程を複
数回行った後に、実施例１〜実施例４のいずれかの方法
により成膜装置のクリーニングを行う例である。即ち、
成膜室に設けられた部品に付着した蒸着材料の膜厚があ
る程度の膜厚に達したら定期的にクリーニング過程を行
うことになる。

【０１０１】この場合、連続的に行われる発光装置の作
製工程において、有機材料の成膜過程が複数の基板に対
して行われた後に、成膜装置のクリーニング過程が行わ
れ、その後で次の有機材料の成膜過程が行われる。

【０１０２】〔実施例８〕本実施例では、ＥＬ素子を含
むパッシブマトリクス型発光装置の作製工程を例にとっ
て説明する。

【０１０３】まず、図１１（Ａ）に示すように、表面に
絶縁膜を設けた基板１１の上に酸化物導電膜からなる陽
極１２を形成し、その上に隔壁１３を形成する。隔壁１
３は酸化珪素膜からなる第１隔壁部１３a、樹脂膜から
なる第２隔壁部１３bおよび窒化珪素膜からなる第３隔
壁部１３cで形成される。

【０１０４】このとき、第１隔壁部１３aはフォトリソ
グラフィによりパターニングすれば良い。また、第２隔
壁部１３bと第３隔壁部１３cの形状は、第２隔壁部１３
bとなる樹脂膜と第３隔壁部１３cとなる樹脂膜とを同一
形状にエッチングした後に、第３隔壁部１３cをマスク
として第２隔壁部１３bとなる樹脂膜を等方的にエッチ
ングすることで得られる。

【０１０５】次に、実施例５に示した成膜装置を用いて
ＥＬ素子を形成する有機材料の成膜過程を行う。まず、
前処理室８０５で陽極１２の表面処理を行い、成膜室
（Ａ）８０６にて正孔注入層１４および発光層（Ｒ）１
５を成膜する。なお、発光層（Ｒ）は、赤色光を発する
発光層である。

【０１０６】次に、成膜室（Ｂ）８０７で発光層（Ｇ）
１６を成膜し、成膜室（Ｃ）８０８で発光層（Ｂ）１７
を成膜する。なお、発光層（Ｇ）は、緑色光を発する発
光層であり、発光層（Ｂ）は、青色光を発する発光層で
ある。

【０１０７】次に、アルミニウム（Ａｌ）およびリチウ
ム（Ｌｉ）を共蒸着させたＡｌ−Ｌｉ合金膜を陰極１８
として成膜する。そして、封止室８１０で封止過程を行
ってパッシブマトリクス型の発光装置が完成する。

【０１０８】このとき、正孔注入層１４、発光層（Ｒ）
１５、発光層（Ｇ）１６、発光層（Ｂ）１７もしくは陰
極１８を成膜した後に、各成膜室のクリーニングを実施
例１〜実施例４に示したいずれかの構成により行えば良
い。勿論、図１０に示すように成膜毎に行っても良い
し、複数回の成膜過程の後に行っても良い。

【０１０９】また、本実施例では実施例５に示した成膜
装置を用いているが、実施例６に示した成膜装置を用い
ても良い。

【０１１０】〔実施例９〕本実施例では、ＥＬ素子を含
むアクティブマトリクス型発光装置の作製工程を例にと
って説明する。

【０１１１】まず、図１２（Ａ）に示すように、表面に
絶縁膜を設けた基板２１の上に公知の作製工程により薄
膜トランジスタ（以下、ＴＦＴという）２２を形成す
る。次に、図１２（Ｂ）に示すように、酸化物導電膜か
らなる陽極２３および酸化珪素膜からなる絶縁膜２４を
形成する。なお、絶縁膜２４は、有機樹脂膜であっても
良い。

【０１１２】次に、実施例５に示した成膜装置を用いて
ＥＬ素子を形成する有機材料の成膜過程を行う。まず、
前処理室８０５で陽極２３の表面処理を行い、成膜室
（Ａ）８０６にて正孔注入層２５および発光層（Ｒ）２
６を成膜する。なお、発光層（Ｒ）は、赤色光を発する
発光層である。

【０１１３】次に、成膜室（Ｂ）８０７で発光層（Ｇ）
２７を成膜し、成膜室（Ｃ）８０８で発光層（Ｂ）２８
を成膜する。なお、発光層（Ｇ）は、緑色光を発する発
光層であり、発光層（Ｂ）は、青色光を発する発光層で
ある。

【０１１４】次に、アルミニウム（Ａｌ）およびリチウ
ム（Ｌｉ）を共蒸着させたＡｌ−Ｌｉ合金膜を陰極２９
として成膜する。そして、封止室８１０で封止過程を行
ってアクティブマトリクス型の発光装置が完成する。

【０１１５】このとき、正孔注入層２５、発光層（Ｒ）
２６、発光層（Ｇ）２７、発光層（Ｂ）２８もしくは陰
極２９を成膜した後に、各成膜室のクリーニングを実施
例１〜実施例４に示したいずれかの構成により行えば良
い。勿論、図１０に示すように成膜毎に行っても良い
し、複数回の成膜過程の後に行っても良い。

【０１１６】また、本実施例では実施例５に示した成膜
装置を用いているが、実施例６に示した成膜装置を用い
ても良い。

【０１１７】〔実施例１０〕本実施例について、図１３
を用いて説明する。実施例９ではＴＦＴ２２としてトッ
プゲート型ＴＦＴ（具体的にはプレーナ型ＴＦＴ）を作
製した例を示しているが、本実施例ではＴＦＴ２２の代
わりにＴＦＴ３０を用いる。

【０１１８】本実施例で用いるＴＦＴ３０は、ボトムゲ
ート型ＴＦＴ（具体的には逆スタガ型ＴＦＴ）であり、
公知の作製工程により形成すれば良い。なお、ＴＦＴ構
造が異なる以外は実施例９と同じ構成であるため、同じ
部分の符号は図１２で用いた符号を引用する。また、詳
細な説明は、実施例９を参照すれば良い。

【０１１９】本実施例では、図１３（Ａ）に示すように
基板２１上に逆スタガ型のＴＦＴ３０を形成し、図１３
（Ｂ）に示すようにＴＦＴ３０に電気的に接続された陽
極２４を形成する。さらに、陽極２４の縁を覆う絶縁膜
２３を形成する。

【０１２０】そして、実施例９と同様の処理を行い、正
孔注入層２５、発光層（Ｒ）２６、発光層（Ｇ）２７、
発光層（Ｂ）及び陰極２９を形成する（図１３
（Ｃ））。さらに、実施例９と同様の封止過程まで行っ
てアクティブマトリクス型の発光装置が完成する。

【０１２１】なお、本実施例の発光装置を作製するにあ
たって、実施例５に示した成膜装置を用いても実施例６
に示した成膜装置を用いても良い。

【０１２２】〔実施例１１〕本発明を実施して形成され
た発光装置は、自発光型であるため液晶表示装置に比べ
て明るい場所での視認性に優れ、しかも視野角が広い。
従って、様々な電気器具の表示部として用いることがで
きる。

【０１２３】本発明を実施して形成された発光装置を用
いた電気器具としては、ビデオカメラ、デジタルカメ
ラ、ゴーグル型ディスプレイ（ヘッドマウントディスプ
レイ）、カーナビゲーションシステム、カーオーディ
オ、ノート型パーソナルコンピュータ、ゲーム機器、携
帯情報端末（モバイルコンピュータ、携帯電話、携帯型
ゲーム機または電子書籍）、記録媒体を備えた画像再生
装置（具体的にはコンパクトディスク（ＣＤ）、レーザ
ーディスク（登録商標）（ＬＤ）又はデジタルバーサタ
イルディスク（ＤＶＤ）等の記録媒体を再生し、その画
像を表示しうるディスプレイを備えた装置）などが挙げ
られる。それら電気器具の具体例を図１４、図１５に示
す。

【０１２４】図１４（Ａ）はＥＬディスプレイであり、
筐体２００１、支持台２００２、表示部２００３を含
む。本発明の発光装置は表示部２００３に用いることが
できる。ＥＬディスプレイは自発光型であるためバック
ライトが必要なく、液晶ディスプレイよりも薄い表示部
とすることができる。

【０１２５】図１４（Ｂ）はビデオカメラであり、本体
２１０１、表示部２１０２、音声入力部２１０３、操作
スイッチ２１０４、バッテリー２１０５、受像部２１０
６を含む。本発明の発光装置は表示部２１０２に用いる
ことができる。

【０１２６】図１４（Ｃ）はデジタルカメラであり、本
体２２０１、表示部２２０２、接眼部２２０３、操作ス
イッチ２２０４を含む。本発明の発光装置は表示部２２
０２に用いることができる。

【０１２７】図１４（Ｄ）は記録媒体を備えた画像再生
装置（具体的にはＤＶＤ再生装置）であり、本体２３０
１、記録媒体（ＣＤ、ＬＤまたはＤＶＤ等）２３０２、
操作スイッチ２３０３、表示部（ａ）２３０４、表示部
（ｂ）２３０５を含む。表示部（ａ）は主として画像情
報を表示し、表示部（ｂ）は主として文字情報を表示す
るが、本発明の発光装置はこれら表示部（ａ）、（ｂ）
に用いることができる。なお、記録媒体を備えた画像再
生装置には、ＣＤ再生装置、ゲーム機器なども含まれう
る。

【０１２８】図１４（Ｅ）は携帯型（モバイル）コンピ
ュータであり、本体２４０１、表示部２４０２、受像部
２４０３、操作スイッチ２４０４、メモリスロット２４
０５を含む。本発明の電気光学装置は表示部２４０２に
用いることができる。この携帯型コンピュータはフラッ
シュメモリや不揮発性メモリを集積化した記録媒体に情
報を記録したり、それを再生したりすることができる。

【０１２９】図１４（Ｆ）はパーソナルコンピュータで
あり、本体２５０１、筐体２５０２、表示部２５０３、
キーボード２５０４を含む。本発明の発光装置は表示部
２５０３に用いることができる。

【０１３０】なお、将来的にＥＬ材料の発光輝度が高く
なれば、出力した画像情報を含む光をレンズ等で拡大投
影してフロント型若しくはリア型のプロジェクターに用
いることも可能となる。

【０１３１】また、上記電子装置はインターネットやＣ
ＡＴＶ（ケーブルテレビ）などの電子通信回線を通じて
配信された情報を表示することが多くなり、特に動画情
報を表示する機会が増してきている。ＥＬ材料の応答速
度は非常に高いため、そのような動画表示を行うに適し
ている。

【０１３２】また、発光装置は発光している部分が電力
を消費するため、発光部分が極力少なくなるように情報
を表示することが望ましい。従って、携帯情報端末、特
に携帯電話やカーオーディオのような文字情報を主とす
る表示部に発光装置を用いる場合には、非発光部分を背
景として文字情報を発光部分で形成するように駆動する
ことが望ましい。

【０１３３】ここで図１５（Ａ）は携帯電話であり、本
体２６０１、音声出力部２６０２、音声入力部２６０
３、表示部２６０４、操作スイッチ２６０５、アンテナ
２６０６を含む。本発明の発光装置は表示部２６０４に
用いることができる。なお、表示部２６０４は黒色の背
景に白色の文字を表示することで携帯電話の消費電力を
抑えることができる。

【０１３４】また、図１５（Ｂ）はカーオーディオ（車
載用オーディオ）であり、本体２７０１、表示部２７０
２、操作スイッチ２７０３、２７０４を含む。本発明の
発光装置は表示部２７０２に用いることができる。ま
た、本実施例では車載用オーディオを示すが、据え置き
型（家庭用）オーディオに用いても良い。なお、表示部
２７０４は黒色の背景に白色の文字を表示することで消
費電力を抑えられる。

【０１３５】さらに、光センサを内蔵させ、使用環境の
明るさを検知する手段を設けることで使用環境の明るさ
に応じて発光輝度を変調させるような機能を持たせるこ
とは有効である。使用者は使用環境の明るさに比べてコ
ントラスト比で１００〜１５０の明るさを確保できれば
問題なく画像もしくは文字情報を認識できる。即ち、使
用環境が明るい場合は画像の輝度を上げて見やすくし、
使用環境が暗い場合は画像の輝度を抑えて消費電力を抑
えるといったことが可能である。

【０１３６】以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広
く、あらゆる分野の電気器具に用いることが可能であ
る。また、本実施例の電気器具は、実施例７〜実施例１
０の構成を自由に組み合わせた発光装置を用いることで
得ることができる。

【０１３７】

【発明の効果】本発明を実施することで、成膜装置（蒸
着装置）の内部に設けられた部品もしくは成膜室内壁を
大気解放することなくクリーニングすることが可能とな
る。そのため、部品洗浄等に要する時間を短縮化でき、
延いては電気光学装置の作製工程を短縮化できる。

【０１３８】特に、本発明のクリーニング方法を実施し
てＥＬ素子を含む発光装置を作製した場合、ＥＬ素子を
形成する有機ＥＬ材料の吸着酸素や吸着水による劣化を
低減することができるため、信頼性の良い発光装置を作
製することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】成膜室の断面構造を示す図。

【図２】成膜室の断面構造を示す図。

【図３】蒸着源および蒸着源ホルダの構造を示す
図。

【図４】成膜室の上面構造を示す図。

【図５】成膜室の断面構造を示す図。

【図６】成膜室の上面構造を示す図。

【図７】成膜室の断面構造を示す図。

【図８】マルチチャンバー方式の成膜装置の構造を
示す図。

【図９】インライン方式の成膜装置の構造を示す
図。

【図１０】発光装置の作製工程のフローチャートを示
す図。

【図１１】発光装置の作製工程を示す図。

【図１２】発光装置の作製工程を示す図。

【図１３】発光装置の作製工程を示す図。

【図１４】電気器具の一例を示す図。

【図１５】電気器具の一例を示す図。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 3K007 AB13 AB18 BB01 BB02 CA04 CB01 DA00 DB03 EB00 FA01 FA02 FA03 4K029 BA62 BC07 BD00 DA00 DA09 DA10 5F004 AA15 BB05 BD07 DA00 DA01 DA04 5F103 AA01 BB45 LL01 LL20 PP01 RR01 RR07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】成膜室に設けられた部品に対して赤外光、
紫外光もしくは可視光を照射する手段を有することを特
徴とする成膜装置。
【請求項２】成膜室の内部に設けられた部品に対して赤
外光、紫外光もしくは可視光を照射するランプ光源を有
することを特徴とする成膜装置。
【請求項３】請求項２において、前記ランプ光源の形状
は長方形もしくは長楕円形であることを特徴とする成膜
装置。
【請求項４】成膜室に設けられた部品を輻射熱により加
熱する手段を有することを特徴とする成膜装置。
【請求項５】成膜室に設けられた部品に、該部品を輻射
熱により加熱する導体が設けられていることを特徴とす
る成膜装置。
【請求項６】請求項１乃至請求項５のいずれか一におい
て、前記部品は防着シールドであることを特徴とする成
膜装置。
【請求項７】請求項１乃至請求項６のいずれか一におい
て、前記成膜室に排気処理室が連結されていることを特
徴とする成膜装置。
【請求項８】請求項７において、前記排気処理室ではプ
ラズマが形成されることを特徴とする成膜装置。
【請求項９】成膜室に設けられた部品に対して赤外光、
紫外光もしくは可視光を照射することにより該部品に付
着した蒸着材料を昇華させ、昇華させた蒸着材料を排気
することを特徴とする成膜装置のクリーニング方法。
【請求項１０】請求項９において、前記赤外光、紫外光
もしくは可視光は前記成膜室に設けられたランプ光源を
用いて照射されることを特徴とする成膜装置のクリーニ
ング方法。
【請求項１１】請求項９において、前記赤外光、紫外光
もしくは可視光の照射面は長方形もしくは長楕円形であ
ることを特徴とする成膜装置のクリーニング方法。
【請求項１２】請求項９乃至請求項１１のいずれか一に
おいて、前記蒸着材料を昇華させる際、前記成膜室内に
ハロゲン族元素を含むガスを流すことを特徴とする成膜
装置のクリーニング方法。
【請求項１３】請求項９乃至請求項１２のいずれか一に
おいて、前記昇華させた蒸着材料は排気中にプラズマに
晒されることを特徴とする成膜装置のクリーニング方
法。
【請求項１４】請求項１３において、前記プラズマは酸
素プラズマであることを特徴とする成膜装置のクリーニ
ング方法。
【請求項１５】請求項９乃至請求項１４のいずれか一に
おいて、前記蒸着材料は有機ＥＬ材料であることを特徴
とする成膜装置のクリーニング方法。
【請求項１６】請求項９乃至請求項１５のいずれか一に
記載のクリーニング方法を用いたことを特徴とする電気
光学装置の作製方法。
【請求項１７】請求項９乃至請求項１５のいずれか一に
記載のクリーニング方法を用いたことを特徴とする発光
装置の作製方法。