JP2002057163A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2002057163A5 JP2002057163A5 JP2001144035A JP2001144035A JP2002057163A5 JP 2002057163 A5 JP2002057163 A5 JP 2002057163A5 JP 2001144035 A JP2001144035 A JP 2001144035A JP 2001144035 A JP2001144035 A JP 2001144035A JP 2002057163 A5 JP2002057163 A5 JP 2002057163A5
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001144035A JP5276758B2 (ja) | 2000-05-13 | 2001-05-14 | 液晶表示装置の作製方法 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000-180549 | 2000-05-13 | ||
JP2000180549 | 2000-05-13 | ||
JP2000180549 | 2000-05-13 | ||
JP2001144035A JP5276758B2 (ja) | 2000-05-13 | 2001-05-14 | 液晶表示装置の作製方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002057163A JP2002057163A (ja) | 2002-02-22 |
JP2002057163A5 true JP2002057163A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2008-05-22 |
JP5276758B2 JP5276758B2 (ja) | 2013-08-28 |
Family
ID=26594038
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001144035A Expired - Fee Related JP5276758B2 (ja) | 2000-05-13 | 2001-05-14 | 液晶表示装置の作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5276758B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3009438B2 (ja) * | 1989-08-14 | 2000-02-14 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
JP3168648B2 (ja) * | 1991-11-27 | 2001-05-21 | カシオ計算機株式会社 | 薄膜トランジスタパネルの製造方法 |
JPH05206086A (ja) * | 1992-01-27 | 1993-08-13 | Fujitsu Ltd | 薄膜のエッチング方法 |
JPH06244155A (ja) * | 1993-02-19 | 1994-09-02 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 半導体装置のメタル配線パターン形成方法 |
JP2940781B2 (ja) * | 1993-11-30 | 1999-08-25 | 三洋電機株式会社 | 薄膜トランジスタの製造方法 |
JP3238020B2 (ja) * | 1994-09-16 | 2001-12-10 | 株式会社東芝 | アクティブマトリクス表示装置の製造方法 |
JPH09197436A (ja) * | 1996-01-23 | 1997-07-31 | Toshiba Corp | アクティブマトリクス基板 |
JPH09288347A (ja) * | 1996-02-20 | 1997-11-04 | Ricoh Co Ltd | ダミーパターン付きレチクルおよびこのレチクルを用いて製造された半導体装置 |
JPH09274313A (ja) * | 1996-04-03 | 1997-10-21 | Toshiba Corp | レジストパターンの形成方法 |
JP3574270B2 (ja) * | 1996-04-17 | 2004-10-06 | 三菱電機株式会社 | Alテーパドライエッチング方法 |
JP3693199B2 (ja) * | 1996-07-10 | 2005-09-07 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
JPH1056179A (ja) * | 1996-08-08 | 1998-02-24 | Hoshiden Philips Display Kk | 薄膜デバイスの製造方法 |
JP2000002892A (ja) * | 1998-04-17 | 2000-01-07 | Toshiba Corp | 液晶表示装置、マトリクスアレイ基板およびその製造方法 |
JP3883706B2 (ja) * | 1998-07-31 | 2007-02-21 | シャープ株式会社 | エッチング方法、及び薄膜トランジスタマトリックス基板の製造方法 |
JP2000089477A (ja) * | 1998-09-11 | 2000-03-31 | Nec Corp | レジストパターンの形成方法 |
JP2001339072A (ja) * | 2000-03-15 | 2001-12-07 | Advanced Display Inc | 液晶表示装置 |
-
2001
- 2001-05-14 JP JP2001144035A patent/JP5276758B2/ja not_active Expired - Fee Related