JP2002053520A - ２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン酸の製造方法 - Google Patents
２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン酸の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチ
ルケトンより簡便な方法で収率良く２，２，６−トリメ
チルシクロヘキサンカルボン酸を製造する方法を提供す
る。 【解決手段】 下式（１）で示される２，２，６−トリ
メチルシクロヘキシルメチルケトンを酸化することを特
徴とする下式（２）で示される２，２，６−トリメチル
シクロヘキサンカルボン酸の製造方法。 【化１】 【化２】
ルケトンより簡便な方法で収率良く２，２，６−トリメ
チルシクロヘキサンカルボン酸を製造する方法を提供す
る。 【解決手段】 下式（１）で示される２，２，６−トリ
メチルシクロヘキシルメチルケトンを酸化することを特
徴とする下式（２）で示される２，２，６−トリメチル
シクロヘキサンカルボン酸の製造方法。 【化１】 【化２】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、香料の合成中間体
２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン酸、特
に（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシクロヘキ
サンカルボン酸の製造方法に関するものであり、詳しく
は２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケト
ン、特に（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシク
ロヘキシルメチルケトンの酸化による２，２，６−トリ
メチルシクロヘキサンカルボン酸、特に（１Ｒ，６Ｓ）
−２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン酸の
製造方法に関する。
２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン酸、特
に（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシクロヘキ
サンカルボン酸の製造方法に関するものであり、詳しく
は２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケト
ン、特に（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシク
ロヘキシルメチルケトンの酸化による２，２，６−トリ
メチルシクロヘキサンカルボン酸、特に（１Ｒ，６Ｓ）
−２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン酸の
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】２，２，６−トリメチルシクロヘキサン
カルボン酸は、そのエステル類が香料として有用である
事が知られている。この２，２，６−トリメチルシクロ
ヘキサンカルボン酸のエステル類には、シクロヘキサン
環に由来するシス体とトランス体が存在し、これらの異
性体の比率は香気特性に大きな影響を及ぼしており、ト
ランス体、特に（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチ
ルシクロヘキサンカルボン酸エチルエステルが香料とし
ての特性に優れていることが知られている（特許第2840
899 号明細書）。その中に２，２，６−トリメチルシク
ロヘキサンカルボン酸の製造例としては、７−メトキシ
シトロネラールより誘導されるエノレートを環化して得
られる２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルバル
デヒドを酸化してカルボン酸を得る例が開示されてい
る。
カルボン酸は、そのエステル類が香料として有用である
事が知られている。この２，２，６−トリメチルシクロ
ヘキサンカルボン酸のエステル類には、シクロヘキサン
環に由来するシス体とトランス体が存在し、これらの異
性体の比率は香気特性に大きな影響を及ぼしており、ト
ランス体、特に（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチ
ルシクロヘキサンカルボン酸エチルエステルが香料とし
ての特性に優れていることが知られている（特許第2840
899 号明細書）。その中に２，２，６−トリメチルシク
ロヘキサンカルボン酸の製造例としては、７−メトキシ
シトロネラールより誘導されるエノレートを環化して得
られる２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルバル
デヒドを酸化してカルボン酸を得る例が開示されてい
る。
【０００３】また、特許第2540337 号明細書には、その
中間体である２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカ
ルバルデヒドを、シトロネラールのエノレートの環化に
より得ている例が開示されている。ケトンの硝酸酸化分
解による減炭素カルボン酸の合成は既に知られており、
例えば２，２−ジエチルー４−ヘキサノンの硝酸酸化に
より収率７１％で２，２−ジエチルブタン酸が得られて
いる〔Bull. Soc. Chim. Fr., 2011(1967)〕。
中間体である２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカ
ルバルデヒドを、シトロネラールのエノレートの環化に
より得ている例が開示されている。ケトンの硝酸酸化分
解による減炭素カルボン酸の合成は既に知られており、
例えば２，２−ジエチルー４−ヘキサノンの硝酸酸化に
より収率７１％で２，２−ジエチルブタン酸が得られて
いる〔Bull. Soc. Chim. Fr., 2011(1967)〕。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、２，
２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケトン、特に
（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシクロヘキシ
ルメチルケトンを簡便な条件で酸化することにより、収
率良く２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン
酸、特に（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシク
ロヘキサンカルボン酸を製造することができる方法を提
供するものである。
２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケトン、特に
（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシクロヘキシ
ルメチルケトンを簡便な条件で酸化することにより、収
率良く２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン
酸、特に（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシク
ロヘキサンカルボン酸を製造することができる方法を提
供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、基本構造
である２，２，６−トリメチルシクロヘキサン骨格に着
目し、これまでに２，２，６−トリメチルシクロヘキシ
ルメチルケトンから２，２，６−トリメチルシクロヘキ
サンカルボン酸を得る報告が無く、新規手法である事を
受け鋭意検討を重ねた結果、２，２，６−トリメチルシ
クロヘキシルメチルケトン、特に（１Ｒ，６Ｓ）−２，
２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケトンを原料
とし、これを酸化分解するという簡便な操作で目的の
２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン酸、特
に（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシクロヘキ
サンカルボン酸に誘導できることを見い出し、本発明を
完成するに至った。本発明は、以下の各発明を包含す
る。
である２，２，６−トリメチルシクロヘキサン骨格に着
目し、これまでに２，２，６−トリメチルシクロヘキシ
ルメチルケトンから２，２，６−トリメチルシクロヘキ
サンカルボン酸を得る報告が無く、新規手法である事を
受け鋭意検討を重ねた結果、２，２，６−トリメチルシ
クロヘキシルメチルケトン、特に（１Ｒ，６Ｓ）−２，
２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケトンを原料
とし、これを酸化分解するという簡便な操作で目的の
２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン酸、特
に（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシクロヘキ
サンカルボン酸に誘導できることを見い出し、本発明を
完成するに至った。本発明は、以下の各発明を包含す
る。
【０００６】(1) 式（１）
【化５】 で示される２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチ
ルケトンを酸化することを特徴とする、式（２）
ルケトンを酸化することを特徴とする、式（２）
【化６】 で示される２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカル
ボン酸の製造方法。
ボン酸の製造方法。
【０００７】(2) 式（３）
【化７】 で示される（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシ
クロヘキシルメチルケトンを酸化することを特徴とす
る、式（４）
クロヘキシルメチルケトンを酸化することを特徴とす
る、式（４）
【化８】 で示される（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシ
クロヘキサンカルボン酸の製造方法。
クロヘキサンカルボン酸の製造方法。
【０００８】(3) 酸化が硝酸、クロム酸及びそれらの塩
から選ばれた少なくとも１種による酸化であることを特
徴とする(1) 項又は(2) 項に記載の２，２，６−トリメ
チルシクロヘキサンカルボン酸の製造方法。
から選ばれた少なくとも１種による酸化であることを特
徴とする(1) 項又は(2) 項に記載の２，２，６−トリメ
チルシクロヘキサンカルボン酸の製造方法。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。本
発明で使用した２，２，６−トリメチルシクロヘキシル
メチルケトンの製造方法を以下に説明する。２，２，６
−トリメチルシクロヘキシルメチルケトン（１）に関し
ては以下に示す報告がある。ラセミ体の２，２，６−ト
リメチルシクロヘキシルメチルケトン（１）を合成した
例として、White, James Dら〔J. Org. Chem. (1978),
43(23), 4555-6〕の方法、Barnes, R. A.ら〔Int. Cong
r. Essent. Oils, 7th(1979), Meeting Date 1977, Vol
ume 7, 253-6, Publisher, Japan Flavor FragranceMan
ufactures' Assoc., Tokyo, Japan〕の方法、M. CHATZO
POULOSら｛REVUE ROUMAINE DE CHIMIE, 26, 2, 275-282
(1981)｝の方法、De Haan, Douwe Rら（特許公報：昭5
7-36252, DE 2353578 ）の方法等が知られている。な
お光学活性体に関しては、Buchecker, Richardら｛Hel
v. Chim. Acta (1973), 56 (7), 2548-63｝はシス体即
ち（１Ｒ，６Ｒ）−（１）及び（１Ｓ，６Ｓ）−（１）
を報告しているが、光学活性なトランス体に関してはな
んら述べていない。
発明で使用した２，２，６−トリメチルシクロヘキシル
メチルケトンの製造方法を以下に説明する。２，２，６
−トリメチルシクロヘキシルメチルケトン（１）に関し
ては以下に示す報告がある。ラセミ体の２，２，６−ト
リメチルシクロヘキシルメチルケトン（１）を合成した
例として、White, James Dら〔J. Org. Chem. (1978),
43(23), 4555-6〕の方法、Barnes, R. A.ら〔Int. Cong
r. Essent. Oils, 7th(1979), Meeting Date 1977, Vol
ume 7, 253-6, Publisher, Japan Flavor FragranceMan
ufactures' Assoc., Tokyo, Japan〕の方法、M. CHATZO
POULOSら｛REVUE ROUMAINE DE CHIMIE, 26, 2, 275-282
(1981)｝の方法、De Haan, Douwe Rら（特許公報：昭5
7-36252, DE 2353578 ）の方法等が知られている。な
お光学活性体に関しては、Buchecker, Richardら｛Hel
v. Chim. Acta (1973), 56 (7), 2548-63｝はシス体即
ち（１Ｒ，６Ｒ）−（１）及び（１Ｓ，６Ｓ）−（１）
を報告しているが、光学活性なトランス体に関してはな
んら述べていない。
【００１０】本発明者らは、すでに本発明の方法で使用
する新規なトランスー（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−ト
リメチルシクロヘキシルメチルケトン（３）の製造方法
に関して特許出願（特願２０００−１７０８２２号明細
書）をしているので、その方法について以下に述べる。
する新規なトランスー（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−ト
リメチルシクロヘキシルメチルケトン（３）の製造方法
に関して特許出願（特願２０００−１７０８２２号明細
書）をしているので、その方法について以下に述べる。
【００１１】
【化９】
【００１２】（式中、破線は二重結合又は単結合を示
し、破線が単結合の場合は、Ｚは水酸基又はメトキシ基
を示す。） 即ち、一般式：（Ｓ）−（５）で表される（Ｓ）−メト
キシシトロネラール、（Ｓ）−７−ヒドロキシシトロネ
ラール及び（Ｓ）−シトロネラールなどを原料として、
メチルマグネシウムクロライドと反応させて、一般式
（Ｓ）−（６）で示される２級アルコール体を合成し、
これを酸化して、一般式（Ｓ）−（７）で示されるケト
ン体を得る。得られた（Ｓ）−（７）をイソプロペニル
アセテートと酸触媒下反応させ、エノールアセテート体
｛（Ｓ）−（８）｝を得、さらにこれを酸触媒で環化す
ることによりメチルケトン（３）が得られる。このよう
にして合成される光学活性トランス−（１Ｒ，６Ｓ）−
２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケトン
（３）、即ち高砂香料工業社製の（Ｓ）−シトロネラー
ル｛光学純度９８％ｅ．ｅ（ｅ．ｅ：鏡像体過剰率）｝
を出発原料として合成される式（３）の化合物の光学純
度は９８％ｅ．ｅ．と非常に高いものが得られる。
し、破線が単結合の場合は、Ｚは水酸基又はメトキシ基
を示す。） 即ち、一般式：（Ｓ）−（５）で表される（Ｓ）−メト
キシシトロネラール、（Ｓ）−７−ヒドロキシシトロネ
ラール及び（Ｓ）−シトロネラールなどを原料として、
メチルマグネシウムクロライドと反応させて、一般式
（Ｓ）−（６）で示される２級アルコール体を合成し、
これを酸化して、一般式（Ｓ）−（７）で示されるケト
ン体を得る。得られた（Ｓ）−（７）をイソプロペニル
アセテートと酸触媒下反応させ、エノールアセテート体
｛（Ｓ）−（８）｝を得、さらにこれを酸触媒で環化す
ることによりメチルケトン（３）が得られる。このよう
にして合成される光学活性トランス−（１Ｒ，６Ｓ）−
２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケトン
（３）、即ち高砂香料工業社製の（Ｓ）−シトロネラー
ル｛光学純度９８％ｅ．ｅ（ｅ．ｅ：鏡像体過剰率）｝
を出発原料として合成される式（３）の化合物の光学純
度は９８％ｅ．ｅ．と非常に高いものが得られる。
【００１３】次に、本発明の２，２，６−トリメチルシ
クロヘキシルメチルケトンから２，２，６−トリメチル
シクロヘキサンカルボン酸を製造する方法について説明
する。
クロヘキシルメチルケトンから２，２，６−トリメチル
シクロヘキサンカルボン酸を製造する方法について説明
する。
【００１４】
【化１０】
【００１５】反応方式としては、水溶液中、液相懸濁反
応、液相２層系反応のいずれにおいても行うことができ
る。有機溶媒を用いる場合は、酸化反応を受けない溶媒
であれば特に制限はない。主にヘキサン、ヘプタンに代
表される飽和脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエ
ンに代表される芳香族炭化水素系溶媒などが例示され
る。これらの溶媒は単独でも２種以上を混合しても使用
できる。反応に使用される酸化剤としては、硝酸、クロ
ム酸及びそれらの塩等が使用できるが、特に硝酸が好ま
しい。例えば硝酸水溶液は、濃度５〜６０％のものを反
応基質（原料）１００重量部に対し、１００〜２０００
重量部で使用することが望ましいが、反応の諸条件に応
じ、実用的な範囲において任意に選択できる。
応、液相２層系反応のいずれにおいても行うことができ
る。有機溶媒を用いる場合は、酸化反応を受けない溶媒
であれば特に制限はない。主にヘキサン、ヘプタンに代
表される飽和脂肪族炭化水素系溶媒、ベンゼン、トルエ
ンに代表される芳香族炭化水素系溶媒などが例示され
る。これらの溶媒は単独でも２種以上を混合しても使用
できる。反応に使用される酸化剤としては、硝酸、クロ
ム酸及びそれらの塩等が使用できるが、特に硝酸が好ま
しい。例えば硝酸水溶液は、濃度５〜６０％のものを反
応基質（原料）１００重量部に対し、１００〜２０００
重量部で使用することが望ましいが、反応の諸条件に応
じ、実用的な範囲において任意に選択できる。
【００１６】本発明の製造方法においては、反応温度は
常温〜１００℃の範囲で行うことができる。反応時間
は、反応温度、酸化剤の当量、反応基質（原料）の濃度
などにより定まるが、目的とする反応が完結するのに十
分な時間であればよく、通常０．５〜１０時間程度であ
る。本発明の酸化反応については、出発原料の２，２，
６−トリメチルシクロヘキシルメチルケトンがシス体、
トランス体あるいはそれらの混合物でも良く、また光学
活性体でもラセミ体を用いても良い。
常温〜１００℃の範囲で行うことができる。反応時間
は、反応温度、酸化剤の当量、反応基質（原料）の濃度
などにより定まるが、目的とする反応が完結するのに十
分な時間であればよく、通常０．５〜１０時間程度であ
る。本発明の酸化反応については、出発原料の２，２，
６−トリメチルシクロヘキシルメチルケトンがシス体、
トランス体あるいはそれらの混合物でも良く、また光学
活性体でもラセミ体を用いても良い。
【００１７】
【実施例】以下、実施例に基いて本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。なお、実施例中の分析には、次の分析機器を用い
て行った。
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。なお、実施例中の分析には、次の分析機器を用い
て行った。
【００１８】ガスクロマトグラフ：機器：ＧＬ−３５３
（ジーエルサイエンス社製） カラム：ＰＥＧ ＢＣ−ｗａｘ（０．２５ｍｍ×３０
ｍ）（ジーエルサイエンス社製） 測定温度：１００〜２２０℃（１０℃／分で昇温） 注入温度：２５０℃ 溶出時間： (1) ２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケト
ン、約４．７分( シス異性体、面積強度a1) 、約５．１
分（トランス異性体、面積強度a2) (2) ２，２，６−トリメチルシクロヘキシルカルボン
酸、約１１．９分（シス異性体、面積強度b1) 、約１
２．３分（トランス異性体、面積強度b2) 転化率（％）：〔(b1+b2) ／(a1+a2+b1+b2) 〕×１００
（ジーエルサイエンス社製） カラム：ＰＥＧ ＢＣ−ｗａｘ（０．２５ｍｍ×３０
ｍ）（ジーエルサイエンス社製） 測定温度：１００〜２２０℃（１０℃／分で昇温） 注入温度：２５０℃ 溶出時間： (1) ２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケト
ン、約４．７分( シス異性体、面積強度a1) 、約５．１
分（トランス異性体、面積強度a2) (2) ２，２，６−トリメチルシクロヘキシルカルボン
酸、約１１．９分（シス異性体、面積強度b1) 、約１
２．３分（トランス異性体、面積強度b2) 転化率（％）：〔(b1+b2) ／(a1+a2+b1+b2) 〕×１００
【００１９】赤外吸収スペクトル（ＩＲ）；機器：ＩＲ
−８１０型（日本分光工業株式会社製） 測定方法：ＫＢｒ錠剤法，ＮａＣｌフィルム法 質量スペクトル（ＭＳ）；機器Ｍ−８０Ｂ質量分析計
（イオン化電圧：２０ｅＶ）（株式会社日立製作所製） プロトン核磁気共鳴スペクトル（ 1Ｈ−ＮＭＲ）；機器
ＤＲＸ−５００（５００ＭＨｚ）ブルッカー社製、内部
標準物質：テトラメチルシラン 旋光度計：ＤＩＰ−３６０（日本分光株式会社製） 融 点 ：Ｙａｎａｋｏ ＭＰ５００Ｄ（柳本商事社
製）
−８１０型（日本分光工業株式会社製） 測定方法：ＫＢｒ錠剤法，ＮａＣｌフィルム法 質量スペクトル（ＭＳ）；機器Ｍ−８０Ｂ質量分析計
（イオン化電圧：２０ｅＶ）（株式会社日立製作所製） プロトン核磁気共鳴スペクトル（ 1Ｈ−ＮＭＲ）；機器
ＤＲＸ−５００（５００ＭＨｚ）ブルッカー社製、内部
標準物質：テトラメチルシラン 旋光度計：ＤＩＰ−３６０（日本分光株式会社製） 融 点 ：Ｙａｎａｋｏ ＭＰ５００Ｄ（柳本商事社
製）
【００２０】合成例１：（Ｓ）−４，８−ジメチル−７
−ノネン−２−オール〔（Ｓ）−（６）の合成〕
−ノネン−２−オール〔（Ｓ）−（６）の合成〕
【００２１】吹き込み管（塩化メチル用）、温度計、コ
ンデンサー、攪拌器のついた２リットル４口フラスコに
窒素気流中、マグネシウム（５０ｇ）、テトラヒドロフ
ラン（１００ｍｌ）を入れ、４０℃に加熱し、これにヨ
ウ素（一片）とヨウ化メチル（１ｍｌ）を加えてマグネ
シウムを活性化したのち、テトラヒドロフラン（６００
ｍｌ）を加えて攪拌下、吹き込み管より塩化メチルガス
を吹き込み４０−５０℃でマグネシウム粉末が消えるま
で反応させ（２−３時間を要す）、メチルマグネシウム
クロライドのテトラヒドロフラン溶液を調製する。
ンデンサー、攪拌器のついた２リットル４口フラスコに
窒素気流中、マグネシウム（５０ｇ）、テトラヒドロフ
ラン（１００ｍｌ）を入れ、４０℃に加熱し、これにヨ
ウ素（一片）とヨウ化メチル（１ｍｌ）を加えてマグネ
シウムを活性化したのち、テトラヒドロフラン（６００
ｍｌ）を加えて攪拌下、吹き込み管より塩化メチルガス
を吹き込み４０−５０℃でマグネシウム粉末が消えるま
で反応させ（２−３時間を要す）、メチルマグネシウム
クロライドのテトラヒドロフラン溶液を調製する。
【００２２】反応終了後、室温まで冷却し、氷冷下、
（Ｓ）−シトロネラール（２９０ｇ：高砂香料工業社
製；光学純度：９８％ｅ．ｅ．）を３時間かけて滴下す
る。滴下後、同温度で２時間攪拌して反応を完結したの
ち冷却し、水（１０８ｇ）とテトラヒドロフラン（２０
０ｍｌ）溶液を滴下し、未反応メチルマグネシウムクロ
ライド及び生成物アルコラートを分解し、生成した水酸
化マグネシウムクロライドの固体をフィルターで除去
し、得られた生成物のテトラヒドロフラン溶液をエバポ
レーターで濃縮し、濃縮油（３１６ｇ）を得た。得られ
た濃縮油（３１６ｇ）をウイッドマー蒸留器で蒸留し、
（Ｓ）−４，８−ジメチル−７−ノネン−２−オール
｛（Ｓ−（６）｝を２９６ｇ〔ｂ．ｐ．７０−７１℃／
１３Ｐａ（０．１ｍｍＨｇ）〕を得た（ガスクロマトグ
ラフィー純度９９．８％）。
（Ｓ）−シトロネラール（２９０ｇ：高砂香料工業社
製；光学純度：９８％ｅ．ｅ．）を３時間かけて滴下す
る。滴下後、同温度で２時間攪拌して反応を完結したの
ち冷却し、水（１０８ｇ）とテトラヒドロフラン（２０
０ｍｌ）溶液を滴下し、未反応メチルマグネシウムクロ
ライド及び生成物アルコラートを分解し、生成した水酸
化マグネシウムクロライドの固体をフィルターで除去
し、得られた生成物のテトラヒドロフラン溶液をエバポ
レーターで濃縮し、濃縮油（３１６ｇ）を得た。得られ
た濃縮油（３１６ｇ）をウイッドマー蒸留器で蒸留し、
（Ｓ）−４，８−ジメチル−７−ノネン−２−オール
｛（Ｓ−（６）｝を２９６ｇ〔ｂ．ｐ．７０−７１℃／
１３Ｐａ（０．１ｍｍＨｇ）〕を得た（ガスクロマトグ
ラフィー純度９９．８％）。
【００２３】合成例２：（Ｓ）−４，８−ジメチル−７
−ノネン−２−オン〔（Ｓ）−（７）〕の合成
−ノネン−２−オン〔（Ｓ）−（７）〕の合成
【００２４】滴下ロート、温度計、コンデンサー、攪拌
器のついた５リットル４口フラスコに、アセトン（２，
０００ｍｌ）及び実施例１で合成した（Ｓ）−４，８−
ジメチル−７−ノネン−２−オール（２４０ｇ）を入
れ、氷冷下この溶液に滴下ロートに入れたジョーンズ試
薬｛水（５２０ｍｌ）、濃硫酸（１６５ｇ）及び三酸化
クロム（１１２ｇ）より調製｝を 4時間かけて滴下す
る。滴下後２時間攪拌したのち、亜硫酸水素ナトリウム
をクロム（ＶＩ）の橙色が消えるまで少しずつ加える。
分液して、下層を石油エーテル（１，０００ｍｌ）で抽
出する。抽出液を先の上層と合せると再び二層に分離し
てくるので、その下層を先の下層に加え、さらに石油エ
ーテル５００ｍｌで３回抽出する。抽出液を合せて飽和
食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、ついで飽和食
塩水で洗浄した後、溶剤を留去し、得られた濃縮油をウ
イッドマー蒸留器で蒸留し、（Ｓ）−４，８−ジメチル
−７−ノネン−２−オン〔（Ｓ)−（７）〕：１９４ｇ
〔ｂ．ｐ. ６３℃／１３０Ｐａ（１．０ｍｍＨｇ）〕を
得た（ガスクロマトグラフィー純度は９９．５％）。
器のついた５リットル４口フラスコに、アセトン（２，
０００ｍｌ）及び実施例１で合成した（Ｓ）−４，８−
ジメチル−７−ノネン−２−オール（２４０ｇ）を入
れ、氷冷下この溶液に滴下ロートに入れたジョーンズ試
薬｛水（５２０ｍｌ）、濃硫酸（１６５ｇ）及び三酸化
クロム（１１２ｇ）より調製｝を 4時間かけて滴下す
る。滴下後２時間攪拌したのち、亜硫酸水素ナトリウム
をクロム（ＶＩ）の橙色が消えるまで少しずつ加える。
分液して、下層を石油エーテル（１，０００ｍｌ）で抽
出する。抽出液を先の上層と合せると再び二層に分離し
てくるので、その下層を先の下層に加え、さらに石油エ
ーテル５００ｍｌで３回抽出する。抽出液を合せて飽和
食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、ついで飽和食
塩水で洗浄した後、溶剤を留去し、得られた濃縮油をウ
イッドマー蒸留器で蒸留し、（Ｓ）−４，８−ジメチル
−７−ノネン−２−オン〔（Ｓ)−（７）〕：１９４ｇ
〔ｂ．ｐ. ６３℃／１３０Ｐａ（１．０ｍｍＨｇ）〕を
得た（ガスクロマトグラフィー純度は９９．５％）。
【００２５】合成例３：（Ｓ）−４，８−ジメチル−
２，７−（及び−１，７−）ノナジエン−２−イルアセ
テート：〔（Ｓ）−（８）〕の合成
２，７−（及び−１，７−）ノナジエン−２−イルアセ
テート：〔（Ｓ）−（８）〕の合成
【００２６】温度計、コンデンサー、攪拌器のついた
３，０００ｍｌの４口フラスコに窒素気流中、合成例２
で合成した（Ｓ）−４，８−ジメチル−７−ノネン−２
−オン（１６８ｇ）、イソプロペニルアセテート（２０
０ｇ）及びパラトルエンスルホン酸一水和物（１９ｇ）
をいれ、攪拌下、９０℃で２２時間反応する。生成物を
サンプリングし、ガスクロマトグラフィーで分析した結
果、３種の（Ｓ）−４，８−ジメチル−２，７−（及び
−１，７−）ノナジエン−２−イルアセテート：（Ｓ）
−（８）｛組成：５０．３％，１６，４％，２６．８
％｝が生成していることが確認された。生成物は処理す
ることなく、次の環化反応を行った。
３，０００ｍｌの４口フラスコに窒素気流中、合成例２
で合成した（Ｓ）−４，８−ジメチル−７−ノネン−２
−オン（１６８ｇ）、イソプロペニルアセテート（２０
０ｇ）及びパラトルエンスルホン酸一水和物（１９ｇ）
をいれ、攪拌下、９０℃で２２時間反応する。生成物を
サンプリングし、ガスクロマトグラフィーで分析した結
果、３種の（Ｓ）−４，８−ジメチル−２，７−（及び
−１，７−）ノナジエン−２−イルアセテート：（Ｓ）
−（８）｛組成：５０．３％，１６，４％，２６．８
％｝が生成していることが確認された。生成物は処理す
ることなく、次の環化反応を行った。
【００２７】合成例４：トランス−（１Ｒ，６Ｓ）−
２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケトン
〔＝（３）〕の合成
２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケトン
〔＝（３）〕の合成
【００２８】合成例３で合成した３種の（Ｓ）−４，８
−ジメチル−２，７−（及び−１，７−）ノナジエン−
２−イルアセテート混合物の反応液に、８５％リン酸
（５０ｇ）及びトルエン（１，５００ｍｌ）を加え、１
００℃で３２時間反応させた。反応液を冷却し、水、飽
和炭酸ナトリウム水溶液、ついで飽和食塩水で洗浄した
後、溶剤を留去し、得られた濃縮油をウイッドマー蒸留
器で蒸留し、（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチル
シクロヘキシルメチルケトン：７１ｇ〔ｂ．ｐ.７８℃
／１２００Ｐａ（９．０ｍｍＨｇ）〕を得た。
−ジメチル−２，７−（及び−１，７−）ノナジエン−
２−イルアセテート混合物の反応液に、８５％リン酸
（５０ｇ）及びトルエン（１，５００ｍｌ）を加え、１
００℃で３２時間反応させた。反応液を冷却し、水、飽
和炭酸ナトリウム水溶液、ついで飽和食塩水で洗浄した
後、溶剤を留去し、得られた濃縮油をウイッドマー蒸留
器で蒸留し、（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチル
シクロヘキシルメチルケトン：７１ｇ〔ｂ．ｐ.７８℃
／１２００Ｐａ（９．０ｍｍＨｇ）〕を得た。
【００２９】ＧＣ／ＭＳ (m/e); 168(Ｍ+ , 34), 153(1
0), 135(17), 125(20), 110(62), 99(100),85(45), 69
(89), 43(62) ＩＲ (NaCl) ; 1708ｃｍ-1 ＮＭＲ [δ(CDCl3)]; 2.16(s, 3H), 2.07(d, 1H, J=11.
2Hz), 1.8(m, 1H), 1.7(dq, 1H), 1.5(m, 2H), 1.4(dd
d, 1H, J=1.4, 3.3, 13.1), 1.2(m, 1H), 0.96(s,3H),
0.93(s, 3H),0.9(m, 1H), 0.81(d, 3H, J=6.3Hz)
0), 135(17), 125(20), 110(62), 99(100),85(45), 69
(89), 43(62) ＩＲ (NaCl) ; 1708ｃｍ-1 ＮＭＲ [δ(CDCl3)]; 2.16(s, 3H), 2.07(d, 1H, J=11.
2Hz), 1.8(m, 1H), 1.7(dq, 1H), 1.5(m, 2H), 1.4(dd
d, 1H, J=1.4, 3.3, 13.1), 1.2(m, 1H), 0.96(s,3H),
0.93(s, 3H),0.9(m, 1H), 0.81(d, 3H, J=6.3Hz)
【００３０】実施例１：（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−
トリメチルシクロヘキサンカルボン酸〔＝（４）〕の合
成
トリメチルシクロヘキサンカルボン酸〔＝（４）〕の合
成
【００３１】コンデンサー、温度計、滴下ロート、攪拌
装置のついた３００ｍｌ４口フラスコに、硝酸（６０％
水溶液）２０ｍｌ及び水２０ｍｌを入れて加熱し、９０
℃まで温度を上げる。攪拌しながらこれに（１Ｒ，６
Ｓ）−２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケ
トン（３）５．０ｇ（２９．８ミリモル）を５分かけて
滴下して加え、滴下後３時間同温度で反応させた。反応
混合物をガスクロマトグラフィーで分析したところ、転
化率１００％と確認された。反応混合物を室温にしてト
ルエン５０ｇ及び水５０ｇを加えて水洗分液し、有機相
をさらに飽和食塩水５０ｇで３回水洗分液を行った後、
トルエンを減圧下にエバポレーターで留去して、（１
Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカ
ルボン酸（４）の結晶５．０６ｇを得た（収率９８
％）。このものの化学純度は、ガスクロマトグラフから
９８％であった。
装置のついた３００ｍｌ４口フラスコに、硝酸（６０％
水溶液）２０ｍｌ及び水２０ｍｌを入れて加熱し、９０
℃まで温度を上げる。攪拌しながらこれに（１Ｒ，６
Ｓ）−２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケ
トン（３）５．０ｇ（２９．８ミリモル）を５分かけて
滴下して加え、滴下後３時間同温度で反応させた。反応
混合物をガスクロマトグラフィーで分析したところ、転
化率１００％と確認された。反応混合物を室温にしてト
ルエン５０ｇ及び水５０ｇを加えて水洗分液し、有機相
をさらに飽和食塩水５０ｇで３回水洗分液を行った後、
トルエンを減圧下にエバポレーターで留去して、（１
Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカ
ルボン酸（４）の結晶５．０６ｇを得た（収率９８
％）。このものの化学純度は、ガスクロマトグラフから
９８％であった。
【００３２】融点：６２〜６４℃ 旋光度： [α] D 25 +13.67゜(c= 1.034, 99.5% EtOH) ＩＲ（ＫＢｒ）： 3000付近（幅広）, 2962 , 1703 , 1
456 , 1418 , 1387 , 1369 , 1297 , 1252 , 1225 , 12
08 , 1168 , 958ｃｍ-1 ＭＳ：170 (Ｍ+ , 25), 152(91), 137(18), 127(29),
109(94), 95(93), 83(84), 69(100), 55(94), 41(97)1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ）： 0.88 (m,1H), 0.91 (d,3
H,J=3H), 0.99 (s,3H),1.01(s,3H), 1.18 (m,1H), 1.42
(ddt, 1H,J=1.3, 3.2, 13.1), 1.51 (m,1H), 1.73(dd
d,1H,J=1.2,2.0,13.2), 1.83 (m,2H), 10.9 (br,1H) pp
m.
456 , 1418 , 1387 , 1369 , 1297 , 1252 , 1225 , 12
08 , 1168 , 958ｃｍ-1 ＭＳ：170 (Ｍ+ , 25), 152(91), 137(18), 127(29),
109(94), 95(93), 83(84), 69(100), 55(94), 41(97)1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１3 ）： 0.88 (m,1H), 0.91 (d,3
H,J=3H), 0.99 (s,3H),1.01(s,3H), 1.18 (m,1H), 1.42
(ddt, 1H,J=1.3, 3.2, 13.1), 1.51 (m,1H), 1.73(dd
d,1H,J=1.2,2.0,13.2), 1.83 (m,2H), 10.9 (br,1H) pp
m.
【００３３】実施例２：２，２，６−トリメチルシクロ
ヘキサンカルボン酸〔＝（２）〕の合成 実施例１と同様な条件下、ラセミ体の２，２，６−トリ
メチルシクロヘキシルメチルケトン（１）２５．０ｇ
（０．１４９モル）を用い、２，２，６−トリメチルシ
クロヘキサンカルボン酸〔＝（２）〕の結晶２５．０ｇ
を得た（収率９７％）。このものの化学純度は、ガスク
ロマトグラフから９８％であった。
ヘキサンカルボン酸〔＝（２）〕の合成 実施例１と同様な条件下、ラセミ体の２，２，６−トリ
メチルシクロヘキシルメチルケトン（１）２５．０ｇ
（０．１４９モル）を用い、２，２，６−トリメチルシ
クロヘキサンカルボン酸〔＝（２）〕の結晶２５．０ｇ
を得た（収率９７％）。このものの化学純度は、ガスク
ロマトグラフから９８％であった。
【００３４】実施例３：（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−
トリメチルシクロヘキサンカルボン酸〔＝（４）〕の合
成 実施例１と同様の条件下、１５％硝酸（６０ｍｌ）を用
いて５時間反応させた。反応混合物をガスクロマトグラ
フィーで分析したところ、転化率７０％で（１Ｒ，６
Ｓ）−２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン
酸（４）の生成が確認された。
トリメチルシクロヘキサンカルボン酸〔＝（４）〕の合
成 実施例１と同様の条件下、１５％硝酸（６０ｍｌ）を用
いて５時間反応させた。反応混合物をガスクロマトグラ
フィーで分析したところ、転化率７０％で（１Ｒ，６
Ｓ）−２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン
酸（４）の生成が確認された。
【００３５】
【発明の効果】本発明によれば、２，２，６−トリメチ
ルシクロヘキシルメチルケトン特に（１Ｒ，６Ｓ）−
２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケトンを
酸化して、高い収率で、２，２，６−トリメチルシクロ
ヘキサンカルボン酸特に（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−
トリメチルシクロヘキサンカルボン酸を簡便な条件で製
造することができる。
ルシクロヘキシルメチルケトン特に（１Ｒ，６Ｓ）−
２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチルケトンを
酸化して、高い収率で、２，２，６−トリメチルシクロ
ヘキサンカルボン酸特に（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−
トリメチルシクロヘキサンカルボン酸を簡便な条件で製
造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 氏原 秀雄 神奈川県平塚市西八幡１丁目４番11号 高 砂香料工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 渡部 真哉 神奈川県平塚市西八幡１丁目４番11号 高 砂香料工業株式会社総合研究所内 (72)発明者 山本 健 神奈川県平塚市西八幡１丁目４番11号 高 砂香料工業株式会社総合研究所内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC46 AC81 BE02 BJ20 BS20
Claims (3)
- 【請求項１】 式（１） 【化１】 で示される２，２，６−トリメチルシクロヘキシルメチ
ルケトンを酸化することを特徴とする、式（２） 【化２】 で示される２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカル
ボン酸の製造方法。 - 【請求項２】 式（３） 【化３】 で示される（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシ
クロヘキシルメチルケトンを酸化することを特徴とす
る、式（４） 【化４】 で示される（１Ｒ，６Ｓ）−２，２，６−トリメチルシ
クロヘキサンカルボン酸の製造方法。 - 【請求項３】 酸化が硝酸酸化であることを特徴とする
請求項１又は請求項２記載の２，２，６−トリメチルシ
クロヘキサンカルボン酸の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000242570A JP2002053520A (ja) | 2000-08-10 | 2000-08-10 | ２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000242570A JP2002053520A (ja) | 2000-08-10 | 2000-08-10 | ２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン酸の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002053520A true JP2002053520A (ja) | 2002-02-19 |
Family
ID=18733573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000242570A Pending JP2002053520A (ja) | 2000-08-10 | 2000-08-10 | ２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン酸の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002053520A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019078185A1 (ja) | 2017-10-16 | 2019-04-25 | 高砂香料工業株式会社 | ２，２，６－トリメチルシクロヘキサンカルボン酸誘導体を含有する冷感剤組成物 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51100047A (en) * | 1975-02-27 | 1976-09-03 | Teijin Ltd | Shikurohekisan 1 11 jikarubonsanno seizoho |
| JPS5492944A (en) * | 1977-12-29 | 1979-07-23 | Ota Pharma | Manufacture of benzoylaryl carboxylic acid |
| JPS5736252A (ja) * | 1980-08-14 | 1982-02-27 | Tokyo Shibaura Electric Co | Tateyadakutonosekohoho |
| JPH05112494A (ja) * | 1991-03-26 | 1993-05-07 | Takasago Internatl Corp | （１ｒ，６ｓ）−２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン酸エチル及びこれを含有する香料組成物及びその製造法 |
-
2000
- 2000-08-10 JP JP2000242570A patent/JP2002053520A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51100047A (en) * | 1975-02-27 | 1976-09-03 | Teijin Ltd | Shikurohekisan 1 11 jikarubonsanno seizoho |
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| JPH05112494A (ja) * | 1991-03-26 | 1993-05-07 | Takasago Internatl Corp | （１ｒ，６ｓ）−２，２，６−トリメチルシクロヘキサンカルボン酸エチル及びこれを含有する香料組成物及びその製造法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019078185A1 (ja) | 2017-10-16 | 2019-04-25 | 高砂香料工業株式会社 | ２，２，６－トリメチルシクロヘキサンカルボン酸誘導体を含有する冷感剤組成物 |
| US11344488B2 (en) | 2017-10-16 | 2022-05-31 | Takasago International Corporation | Cool-sensation imparter composition containing 2,2,6-trimethylcyclohexanecarboxylic acid derivative |
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