JP2002048640A - 走査光学系検査装置 - Google Patents

走査光学系検査装置

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JP2002048640A
JP2002048640A JP2000237412A JP2000237412A JP2002048640A JP 2002048640 A JP2002048640 A JP 2002048640A JP 2000237412 A JP2000237412 A JP 2000237412A JP 2000237412 A JP2000237412 A JP 2000237412A JP 2002048640 A JP2002048640 A JP 2002048640A
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Japan
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measured
optical system
light receiving
main scanning
scanning direction
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JP2000237412A
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English (en)
Inventor
Masahito Takada
将人 高田
Tadahiro Kamijo
直裕 上条
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ビーム測定を確実に行うとともに、受光領域
による感度のバラツキなどの誤差要因を排除し、従来の
受光デバイスでも測定が可能な走査光学系検査装置を提
供する。 【解決手段】 走査光学系4から射出される被測定ビー
ム10cよりも狭いスリットを横切った被測定ビームを
受光する測定ヘッド9bと、この測定ヘッド9bを搭載
し、スライダ14aに沿って主走査方向に移動するステ
ージ13aと、ステージ13a上で測定ヘッド9bを水
平方向に回転する機構とを具備し、ビーム径演算部11
bは、測定ヘッド9bが検出した入射ビーム情報からビ
ーム径を算出し、このビーム径を測定ヘッド9bの回転
角度に基づいて補正演算する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複写機、プリンタ
製品などに使用されている走査型書込み系ユニットの走
査ビームを測定する走査光学系検査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】レーザビーム・プリンタや複写機などの
画像形成装置においては、書込み光学系の重要性が年々
高まっている。特に、ビーム径の小径化は、画像品質を
高精度/高精細化するための重要な要素の1つであり、
これに関する技術の進歩も目覚しい。そのため、書込み
光学系の検査装置に要求される性能も年々高くなってき
ており、走査面全域において照射ビームを正確かつ高精
度に測定することが可能な測定装置の開発が望まれる。
【0003】走査光学系でのビームの光量や形状などの
検査においては、スリットやナイフエッジを用い、これ
らのエッジ部を横切ったビームを受光素子によって検出
し、取得されたビーム光量をAD変換および微分演算な
どすることによってビームプロファイルを求める方法が
実施されている。さらに、この方法で得られた結果から
ピーク時の1/2もしくは1/e2などの光量をビーム
の径として取得したり、強度分布プロファイルを2次元
もしくは3次元表示するなどの方法によってビーム情報
を視覚的に認識する方法も行われている。
【0004】ここで、ナイフエッジ法は、走査状態の光
ビームの径を測定するもので、光ビームの走査方向に対
してそれぞれ異なる角度で傾斜した複数のスリットを設
け、例えば、楕円状または円状の強度分布を有する光ビ
ームの走査方向および走査直角方向の径を求めることが
できる。この種の装置として関連するものには、特開平
5−346311号公報がある。
【0005】また、スリットスキャン方式は、光ビーム
を横切るようにスリットやピンホールを動かし、このス
リットやピンホールを透過した光の強度分布を検出し、
この強度分布に基づいて光ビームの径を測定する。前記
スリットスキャン方式では、スリットやピンホールを動
かす方向を制御することにより、ビーム走査方向および
ビーム走査角方向のビーム径を求めることができる。
【0006】しかしながら、スリットスキャン方式など
で実際に測定を行う場合、走査ビームの入射角度によっ
て受光領域が変化し、角度が大きい場合は受光面上にビ
ームが照射しないことも起こり得る。具体的には、図1
1に示すように、入射角度が所定値以上の被測定ビーム
10aが、主走査方向に移動可能な測定ヘッド9aのピ
ンホール5を介して回転円筒6上に形成されたスリット
7を通過し、光センサ8に向かって入射すると、被測定
ビーム10aは光センサ8の受光面から外れてしまい、
必要なビーム情報を検出することができない。したがっ
て、光センサ8のビーム検出信号を演算してビーム径な
どの情報を取得することができない。
【0007】また、被測定ビームの入射角度によって受
光領域も変化するため、センサ受光面の感度バラツキが
影響して高精度な測定が行えなくなるという問題があ
り、さらに光センサの配置誤差も考えられる。具体的に
は、図12に示すように、主走査方向に移動可能な測定
ヘッド9cで、光センサ8aの中心がピンホール5の中
心(1点鎖線で示す)から外れるように、光センサ8a
が配置されている場合、図13に示すように、測定結果
(ビーム強度)はセンサ受光面に対するビームの照射領
域によって変化する。図13において、は図12に示
す被測定ビーム10bのビーム強度であり、は被測定
ビーム10gのビーム強度である。ここで、被測定ビー
ム10bは、光センサ8aの中心から大きく外れている
ため、そのビーム強度は、光センサ8aの中心で受光
した場合のビーム強度よりも小さな値となる。さら
に、被測定ビーム10gは、光センサ8aの受光面から
外れているため、そのビーム強度は殆ど検出されない
こととなる。このように測定結果〜が大きく変化す
ると、高精度な測定は困難である。
【0008】そこで、受光素子に確実にビーム照射する
ため、面積の大きい受光素子を使った機器も存在する。
しかしながら、入射角度が大きくなった場合には前述の
ように受光面から外れてしまい、ビーム情報が取得でき
ないという実例が報告されている。また、焦点位置でス
リットを横切るビームを楕円ミラーに反射させ、もう一
方の焦点位置に配置された受光素子上の一点に集光させ
ることにより、受光領域による感度バラツキの影響を除
去する方式では、スリットなどにビームが斜めに入射し
た場合、受光素子の所望の一点に集光できなくなるおそ
れがある。
【0009】さらに、特開平6−317464号公報に
開示された技術では、位置検出も可能な受光素子を用い
て光ビームの照射位置を取得し、この位置情報に基づい
て受光素子の中心部にビームが照射されるよう受光素子
を位置決め制御することでビームを測定している。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記特
開平6−317464号公報に開示された構成の測定器
を新たに購入もしくは製作すると、コスト高を招いてし
まうという問題がある。
【0011】本発明の目的は、このような問題点を改善
し、ビーム測定を確実に行うとともに、受光領域による
感度のバラツキなどの誤差要因を排除し、従来の受光デ
バイスでも測定が可能な走査光学系検査装置を提供する
ことにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
検査対象の走査光学系から射出される被測定ビームより
も狭いスリットを形成した回転円筒と、前記スリットを
横切った被測定ビームを受光する受光手段とを有するビ
ーム測定手段を具備した走査光学系検査装置であって、
ビーム走査に伴い、前記ビーム測定手段を主走査方向に
移動する主走査方向移動手段と、前記ビーム測定手段を
水平方向に回転する回転手段と、前記受光手段が検出し
た入射ビーム情報から被測定ビームのビーム径を算出
し、該ビーム径を前記ビーム測定手段の回転角度に基づ
いて補正演算する演算手段と、を具備したことに特徴が
ある。
【0013】ナイフエッジやスリットを用いた受光デバ
イスを用いて入射角度が変化する光ビームを測定する場
合、被測定ビームに対して大きい面積を持つ受光素子を
用いても、入射角度によっては受光面外にビームが照射
されることとなり、測定ができない場合が報告されてい
る。そこで、測定ヘッドなどのビーム測定手段を回転可
能な構成にすると、斜めに入射した被測定ビームが、垂
直もしくはそれに近い状態で受光デバイスの受光面に入
射されるので、確実にビーム測定を行うこてができる。
これに加えて、ビーム照射位置が一定になるよう制御す
ることにより、受光領域による感度のバラツキなどの誤
差要因を排除し、従来の受光デバイスでも測定が可能で
あって、余計なコストを必要としない。
【0014】請求項2に係る発明は、請求項1におい
て、前記主走査方向移動手段と前記回転手段を連動する
連動手段を備え、被測定ビームが前記受光手段に対して
一定の角度で入射するように、前記回転手段は、前記ビ
ーム測定手段の主走査方向への移動に連動して前記ビー
ム測定手段を回転することに特徴がある。
【0015】ナイフエッジやスリットを用いた受光デバ
イスを用いて入射角度が変化する光ビームを測定する場
合、走査角度やナイフエッジの通過に伴い、測定ヘッド
などのビーム測定手段における受光領域が変化するた
め、受光面の感度のバラツキという誤差要因が生じてし
まう。そこで、被測定ビームの任意の照射位置に応じて
測定ヘッドなどのビーム測定手段への入射角度が一定と
なるように、測定ヘッドの回転と主走査方向への移動を
機械的に連動する構成とすることで、受光領域が一定と
なり、受光面の感度のバラツキという測定誤差要因も取
り除き、確実で高精度なビーム測定が可能となる。
【0016】請求項3に係る発明は、請求項1におい
て、前記ビーム測定手段の主走査方向における位置を検
出する位置検出手段と、該位置検出手段からの検出情報
に応じ、被測定ビームが前記受光手段に対して一定の角
度で入射するように、前記回転手段を回転駆動させる制
御手段と、を備えたことに特徴がある。
【0017】一定の角度でビームが入射するように、受
光デバイスを含む測定ヘッドの位置を検出する位置検出
手段からの出力信号に応じ、前記測定ヘッドを所定の角
度だけ回転することによって確実で高精度なビーム測定
が可能となる。
【0018】請求項4に係る発明は、請求項3におい
て、前記位置検出手段の検出情報と、該検出情報に対応
する前記ビーム測定手段の回転角度との相対関係を更新
可能に設定する設定手段を設けたことに特徴がある。
【0019】異なる書込みユニットにおける走査ビーム
の検査を実施する場合であって、測定ヘッドなどのビー
ム測定手段の主走査方向における位置とビーム入射角度
との相対関係が変化するような場合においても、前記相
対関係をパーソナル・コンピュータなどから調整可能と
することによって、装置構成を変更することなく柔軟に
対応可能となる。
【0020】請求項5に係る発明は、請求項1、3、4
のいずれかにおいて、前記ビーム測定手段を光軸方向に
移動する光軸方向移動手段を設けたことに特徴がある。
【0021】測定ヘッドなどのビーム測定手段を主走査
方向および光軸方向に移動可能とし、被測定ビームの光
路上の任意ポイントで前記被測定ビームを測定すること
によって、像面湾曲の状態や焦点深度カーブを取得する
ことが可能となる。
【0022】請求項6に係る発明は、検査対象の走査光
学系から射出される被測定ビームよりも狭いスリットを
形成した回転円筒と、前記スリットを横切った被測定ビ
ームを受光する受光手段とを有するビーム測定手段を具
備した走査光学系検査装置であって、被測定ビームの光
路上に回転可能に設けた反射ミラーと、該反射ミラーお
よび前記ビーム測定手段を搭載して主走査方向に移動す
る主走査方向移動手段と、該主走査方向移動手段上で前
記ビーム測定手段を主走査方向に移動する移動手段と、
前記反射ミラーの回転角度に基づいて、前記受光手段が
検出した入射ビーム情報を演算する演算手段と、を具備
したことに特徴がある。
【0023】ナイフエッジ法やスリットスキャン方式な
どを用いた走査光学系検査装置において、回転角度調整
が可能な反射ミラーによって反射された被測定ビーム
を、一定角度で測定ヘッドなどのビーム測定手段に入射
することによって光センサなどの受光手段の一定領域に
ビームを照射できる。よって、前述のように確実かつ高
精度にビーム測定が可能であり、かつ前記測定ヘッドの
みを動かすことでビーム径が最小になる位置を含む、焦
点深度カーブの取得が可能となる。
【0024】請求項7に係る発明は、検査対象の走査光
学系から射出される被測定ビームよりも狭いスリットを
形成した回転円筒と、前記スリットを横切った被測定ビ
ームを受光する受光手段とを有するビーム測定手段を具
備した走査光学系検査装置であって、被測定ビームの光
路上に導光手段を配置し、該導光手段の一端面に入射し
た被測定ビームを、前記一端面と背向する他端面から前
記ビーム測定手段に入射するようにしたことに特徴があ
る。
【0025】ナイフエッジ法やスリットスキャン方式な
どを用いた走査光学系検査装置において、被測定ビーム
をファイバオプティクスプレートなどの導光手段の一端
面から入射させ、前記導光手段内を通して他端面から測
定ヘッドに出射することによって、感光体面では入射角
度のある被測定ビームでも、受光デバイスの受光面内の
一定領域に照射されることととなり、受光領域による感
度のバラツキなどの測定誤差要因を除去し、回転や演算
などが不要でありながら確実かつ高精度なビーム測定が
可能となる。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の一形態を図
面を用いて説明する。
【0027】[第1の実施形態]本実施形態の走査光学
系検査装置(レーザビーム検査装置)は、画像形成装置
における書込み光学ユニットで露光動作時、感光ドラム
面に照射するレーザビーム(被測定ビーム)のビーム径
などを算出することによって、前記書込み光学ユニット
を検査するものである。
【0028】図1に、本発明の第1の実施形態に係る走
査光学系検査装置(レーザビーム検査装置)の概略構成
を示し、図2に前記走査光学系検査装置の測定ヘッドの
構成を示す。これは、ピンホール5を通過した被測定ビ
ーム10cが入射するスリット7を形成した回転円筒
6、およびスリット7から入射したビーム情報を検出す
る光センサ8を備えた測定ヘッド9bが、主走査方向へ
移動可能で、かつ水平方向にも回転可能であるように構
成したものである。この構成により、光センサ8の受光
面積によるビーム入射角度の制限を緩和し、光センサ8
の受光領域に被測定ビーム10cを確実に照射させるこ
とができる。
【0029】図1に示すように、検査対象の走査光学系
4は、走査光ビーム10cを照射するためのレーザ光源
(LD)1、回転可能なポリゴンミラー2、レンズ群、
ミラーなどから構成される光学素子3を具備し、ポリゴ
ンミラー2の回転で偏向され、光学素子3で収束された
レーザビーム(走査光ビーム)10cを測定ヘッド9b
に向けて射出する。このレーザビーム10cは、前記書
込み光学ユニットで感光ドラム面に照射されるものであ
る。
【0030】一方、測定ヘッド9bは、スライダ14a
に沿って移動可能なステージ13a上に固定されてお
り、ステージ13aとともにスライダ14aに沿って主
走査方向に移動可能であるとともに、回転駆動機構(図
示せず)を機械的もしくは電子的制御などで回転駆動す
ることで、水平方向(軸周り)にも回転可能に構成され
ている。なお、測定ヘッド9bの回転角度を検出する方
法としては、例えば、前記回転駆動機構の駆動モータの
駆動量(パルス数など)を用いて算出したり、予め設定
した前記回転角度と前記駆動量との対応関係を示すテー
ブルを参照して求める方法が可能である。
【0031】また、測定ヘッド9bには、図2に示すよ
うに、レーザビーム10cを通過させるためのピンホー
ル5と、このピンホール5からの入射レーザビーム10
cを通過させるためのスリット7が外周面に形成された
回転円筒6と、この回転円筒6内で入射レーザビーム1
0cを所定領域に受光するための光センサ(受光デバイ
ス)8とを具備し、この光センサ8からのビーム検出信
号は、ビーム径演算部11bに入力される。なお、スリ
ット7は、被測定ビームよりも狭く設定されている。
【0032】ビーム径演算部11bは、増幅用アンプ、
A/D変換回路、加算器、コンパレータなどを具備する
ものであり、測定ヘッド9bからの光量信号(ビーム検
出信号)を増幅入力して、副走査方向の走査光ビーム位
置における光量を求め、ビーム径を算出する。前記ビー
ム径演算部11bとして、例えば、CPU、RAM/R
OM、I/Oなどからなるパーソナルコンピュータを用
いてもよい。
【0033】なお、制御部(図示せず)は、CPU、R
AM/ROM、I/O、走査光学系4とのインタフェー
スなどを具備し、レーザ光源1のON/OFFを制御す
るとともに、これと同期をとりながらポリゴンミラー2
用の駆動モータ(図示せず)を所定のタイミングで駆動
し、ポリゴンミラー2を回転/停止させる。また、前記
制御部は、前記回転駆動機構などを介して測定ヘッド9
bの回転角度およびステージ13aの主走査方向への移
動量を制御する。
【0034】この構成により、被測定ビーム10cのビ
ーム径を算出するため、被検査ビーム10cを、測定ヘ
ッド9bのピンホール5を介して回転円筒6のスリット
7を通過させ、光センサ8の所定領域に入射受光させ
る。この際、被測定ビーム10cがピンホール5および
センサ受光面の中心(図2に示す1点鎖線)を通るよう
に、前記回転駆動機構によって測定ヘッド9bを水平方
向に適宜回転させたることにより、被測定ビーム10c
がセンサ受光面の所定領域に略垂直に入射するように調
整する。さらに、被測定ビーム10cが測定ヘッド9b
のスリット7を横切るように、ステージ13aをスライ
ダ14aに沿って主走査方向に移動させる。こうして、
光センサ8は、受光面上における被測定ビーム10cの
受光位置に応じた信号を出力し、その信号はビーム径演
算部11bへ入力される。
【0035】ビーム径演算部11bは、光センサ8の出
力信号波形から被測定ビーム10cのビーム径を測定す
る。すなわち、光センサ8の出力信号を増幅し、前述の
ようにA/D変換および微分演算などの演算処理を施す
ことによってビームプロファイルを求め、その演算結果
から出力ピーク時の1/2もしくは1/e2の光量をビ
ーム径Bmとする。
【0036】さらに、ビーム径演算部11aでは、前記
ビーム径Bmを利用して前記書込み光学ユニットの感光
体面におけるビーム径Bwを取得する。ここで、ビーム
径Bwの取得方法について説明する。図3に示すような
状態で測定されたビーム10dについて、取得されたビ
ーム径Bmと走査ヘッド(測定ヘッド)9bの回転角度
θとを基に、ビーム径演算部11bで次に示す演算式に
従った演算を行うことにより、前記感光体相当の像面2
1aにおけるビーム径Bwを取得する。
【数1】 以上の構成および動作によって、感光体面などにおける
ビーム情報を確実かつ高精度に検知できることとなる。
なお、前述の被測定ビーム10cあるいは10dは必ず
しも平行ではないが、ビーム径が数十μm程度であるこ
とを考慮すると、ビームウエスト位置では平行光と見な
せるため、前記演算式による支障はない。
【0037】[第2の実施形態]本実施形態の走査光学
系検査装置(レーザビーム検査装置)は、画像形成装置
における書込み光学ユニットで露光動作時、感光ドラム
面に照射するレーザビーム(被測定ビーム)のビーム径
などを算出することによって、前記書込み光学ユニット
を検査するものである。
【0038】図4に、本発明の第2の実施形態に係る走
査光学系検査装置(レーザビーム検査装置)の概略構成
を示し、図5に前記走査光学系検査装置の測定ヘッドの
構成を示す。これは、第1の実施形態とは、主走査方向
に移動可能なステージ13b上の測定ヘッド9dと連結
したピニオン・ラック機構(ラック15、ピニオン1
6、ベルト17)を設け、ステージ13bがスライダ1
4bに沿って主走査方向に移動するのに連動して、測定
ヘッド9dが水平方向に回転するようにした点が相違し
ている。この構成により、測定ヘッド9dが主走査方向
への移動に応じて水平方向に回転する際の角度を調節す
ることで、測定ビーム10dが一定の角度で光センサ8
aの受光面の所定領域に入射するように設定できる。前
記測定ビーム10dは、前記書込み光学ユニットで前記
感光ドラム面に照射されるものである。
【0039】図4において、走査光学系4は、第1の実
施形態と概ね同様の構成を有するため、同一構成には同
一符号を付与して説明を省略する。また、図5に示すピ
ンホール5、スリット7、回転円筒6は第1の実施形態
と同様であり、スリット7は、被測定ビームよりも狭く
設定されている。
【0040】測定ヘッド9dは、スライダ14bに沿っ
て移動可能なステージ13b上に固定されており、ステ
ージ13bとともにスライダ14bに沿って主走査方向
に移動可能であるとともに、後述のピニオン16と連動
して、水平方向(軸周り)にも回転可能に構成されてい
る。また、ステージ13bには、スライダ14bと平行
に配置されたラック15と噛み合うように、ピニオン1
6が取り付けられており、このピニオン16の支持軸と
測定ヘッド9dの回転軸とがベルト17によって繋がっ
ている。このため、ステージ13b上に回転可能に固定
された測定ヘッド9dが、スライダ14bに沿って主走
査方向に移動するのに連動して、ラック15と噛み合う
ピニオン16が回転し、このピニオン16の回転に伴っ
て測定ヘッド9dも回転することになる。
【0041】したがって、前記ラック15、ピニオン1
6、ベルト17などを調整することで、例えば、図5に
示すように、ピンホール5の中心(1点鎖線)が光セン
サ(受光デバイス)8aの中心から外れている場合で
も、測定ビーム10dが一定の角度で光センサ8aの受
光面に入射するように設定できる。その結果、光センサ
8aの受光領域が一定となり、受光面の感度バラツキの
影響を受けずにビーム測定することが可能となる。
【0042】また、ビーム径演算部11cは、走査光学
系4などとのインタフェース部、増幅用アンプ、A/D
変換回路、加算器、コンパレータなどを具備して、第1
の実施形態に準じ、測定ヘッド9dからの光量信号(ビ
ーム検出信号)を用いてビーム径を算出し、また、レー
ザ光源1のON/OFFを制御しながらポリゴンミラー
2を駆動制御する。また、ビーム径演算部11cは、第
1の実施形態(図3に示す)に準じて、ビーム径演算部
11cで取得したビーム径と測定ヘッド9dの回転角度
とを基にして、前記感光体相当の像面におけるビーム径
を演算する。
【0043】[第3の実施形態]本実施形態の走査光学
系検査装置(レーザビーム検査装置)は、画像形成装置
における書込み光学ユニットで露光動作時、感光ドラム
面に照射するレーザビーム(被測定ビーム)のビーム径
などを算出することによって、前記書込み光学ユニット
を検査するものである。
【0044】図6に、本発明の第3の実施形態に係る走
査光学系検査装置(レーザビーム検査装置)の概略構成
を示す。これは、第1の実施形態とは、ステージ13c
がスライダ14cに沿って主走査方向に移動する際、そ
の位置を検出する位置センサ23と、この位置センサ2
3の出力信号に応じて測定ヘッド9eを回転させる制御
部12aとを設けた点が相違している。この構成によ
り、主走査方向におけるステージ13cの位置に応じ、
被測定ビーム10eが一定の角度で光センサの受光面に
入射するように測定ヘッド9eを回転させることができ
る。なお、レーザビーム10eは、前記書込み光学ユニ
ットで前記感光ドラム面に照射されるものである。
【0045】図6において、走査光学系4は、第1の実
施形態と概ね同様の構成を有するため、同一構成には同
一符号を付与して説明を省略する。
【0046】測定ヘッド9eは、スライダ14cに沿っ
て移動可能なステージ13c上に固定されており、ステ
ージ13cとともにスライダ14cに沿って主走査方向
に移動可能であるとともに、回転駆動機構(図示せず)
を機械的もしくは電子的制御などで回転駆動すること
で、水平方向(軸周り)にも回転可能に構成されてい
る。なお、測定ヘッド9eには、第1の実施形態に準
じ、被測定ビーム10eが通過するピンホール、このピ
ンホールを通過した被測定ビーム10eが入射するスリ
ット、このスリットが形成された回転円筒、および、こ
の回転円筒内で前記スリットから入射したビーム情報を
検出する光センサを具備する。前記スリットは、被測定
ビーム10eよりも狭く設定されている。
【0047】また、位置センサ23は、スライダ14c
に沿って主走査方向に移動するステージ13cの位置を
検出するものであり、その出力信号(位置情報)は制御
部12aに送られる。なお、ステージ13c上には測定
ヘッド9eが固定されているので、位置センサ2の位置
情報から測定ヘッド9eの位置を検出できることとな
る。
【0048】また、制御部12aは、図示しないCP
U、RAM/ROM、走査光学系4とのインタフェース
部などからなり、特に位置センサ23の出力信号を入力
し、これに基づいて測定ヘッド9eの主走査方向の位置
を検出する。さらに、制御部12aは、測定ヘッド9e
の位置に応じ、被測定ビーム10eが一定の角度で測定
ヘッド9e内の光センサ受光面に入射するように、前記
回転駆動機構を駆動制御する。また、制御部12aは、
前述のようにレーザ光源1のON/OFFを制御しなが
らポリゴンミラー2を駆動制御する。
【0049】したがって、制御部12aが、位置センサ
23の出力信号を基に測定ヘッド9eの水平方向の回転
量を調整することで、測定ビーム10eが一定の角度で
前記光センサの受光面に入射するように設定できる。そ
の結果、前記光センサの受光領域が一定となり、受光面
の感度バラツキの影響を受けずにビーム測定することが
可能となる。
【0050】また、ビーム径演算部11dは、前述の増
幅用アンプ、A/D変換回路、加算器、コンパレータな
どを具備し、前記光センサからのビーム検出信号を入力
して、第1の実施形態に準じ、測定ヘッド9eからの光
量信号(ビーム検出信号)を用いてビーム径を算出す
る。また、ビーム径演算部11dは、第1の実施形態
(図3に示す)に準じて、ビーム径演算部11dで取得
したビーム径と測定ヘッド9eの回転角度とを基にし
て、前記感光体相当の像面におけるビーム径を演算す
る。
【0051】[第4の実施形態]本実施形態の走査光学
系検査装置(レーザビーム検査装置)は、画像形成装置
における書込み光学ユニットで露光動作時、感光ドラム
面に照射するレーザビーム(被測定ビーム)のビーム径
などを算出することによって、前記書込み光学ユニット
を検査するものである。
【0052】図7に、本発明の第4の実施形態に係る走
査光学系検査装置(レーザビーム検査装置)の概略構成
を示す。これは、第1の実施形態とは、ステージ13d
がスライダ14dに沿って主走査方向に移動する際、そ
の位置を検出する位置センサ23bと、この位置センサ
23bの出力信号に応じて測定ヘッド9fを回転させる
制御部12bと、この制御部12bが前記回転駆動機構
を駆動する際に用いる、位置センサ23bの検出情報と
測定ヘッド9fの回転角度との相対関係を更新/設定す
るパーソナル・コンピュータ(PC)18とを設けた点
が相違している。この構成により、異なる画像形成装置
の書込ユニットについてのビーム測定を行う場合、測定
ヘッド9fの位置(ビーム測定位置)と回転角度との相
対関係を、PC18の操作で適宜調整することにより、
ステージ13dの主走査方向の位置に応じて、被測定ビ
ーム10fが一定の角度で光センサの受光面に入射する
ようにできる。前記被測定ビーム10fは、前記書込み
光学ユニットで感光体面に照射されるものである。
【0053】図7において、走査光学系4は、第1の実
施形態と概ね同様の構成を有するため、同一構成には同
一符号を付与して説明を省略する。
【0054】測定ヘッド9fは、スライダ14dに沿っ
て移動可能なステージ13d上に固定されており、ステ
ージ13dとともにスライダ14dに沿って主走査方向
に移動可能であるとともに、回転駆動機構(図示せず)
を機械的もしくは電子的制御などで回転駆動すること
で、水平方向(軸周り)にも回転可能に構成されてい
る。なお、測定ヘッド9fには、第1の実施形態に準じ
て、被測定ビーム10fが通過するピンホール、このピ
ンホールを通過した被測定ビーム10fが入射するスリ
ット、このスリットが形成された回転円筒、および、こ
の回転円筒内で前記スリットから入射したビーム情報を
検出する光センサを具備する。また、前記スリットは、
被測定ビームよりも狭く設定されている。
【0055】また、位置センサ23bは、スライダ14
dに沿って主走査方向に移動するステージ13dの位置
を検出するものであり、その出力信号(位置情報)は制
御部12bに通知される。なお、ステージ13d上には
測定ヘッド9fが固定されているので、位置センサ23
bの位置情報から測定ヘッド9fの位置を検出できるこ
ととなる。
【0056】また、制御部12bは、図示しないCP
U、RAM/ROMなどからなり、特に位置センサ23
bの出力信号を入力し、これに基づいて測定ヘッド9f
の主走査方向の位置を判断する。さらに、制御部12b
は、PC18で設定された後述の設定内容に基づいて、
測定ヘッド9fの位置に応じ、被測定ビーム10fが一
定の角度で測定ヘッド9f内の光センサ受光面に入射す
るように、測定ヘッド9fの前記回転駆動機構を駆動す
る。また、制御部12bは、レーザ光源1のON/OF
Fを制御しながらポリゴンミラー2を駆動制御する。
【0057】また、PC18は、図示しないCPU、R
AM/ROMなどのメモリ、キーボードなどの入力装
置、CRTなどの出力装置からなり、インタフェースを
介して制御部12bに接続されている。特に、PC18
上で前記入力装置の操作により、測定ヘッド9fの走査
位置(位置センサ23bの検知情報)と回転角度の相対
関係を更新可能に設定・入力し、前記メモリに記憶する
とともに、その設定内容を制御部12bに送出する。こ
れは、例えば、異なる画像形成装置の書込ユニットのビ
ーム測定をする場合、すなわち測定ヘッド9fの測定位
置と回転角度の相対関係が異なる場合に、この相対関係
を適宜、PC18上で更新・調整するためである。
【0058】したがって、検査対象の画像形成装置にお
ける書込ユニットに応じ、PC18上で測定ヘッド9f
の走査位置と回転角度の相対関係を調整することによ
り、制御部12bは、PC18上での設定内容に従い、
位置センサ23bの出力信号を基に測定ヘッド9fの水
平方向の回転量を制御するので、測定ビーム10fが一
定の角度(例えば、90度)で前記光センサの受光面の
所定領域に入射することとなる。その結果、検査対象の
前記書込ユニットが異なる場合も、検査装置を再構成す
ることなく、前記光センサの受光領域が一定となり、受
光面の感度バラツキの影響を受けずにビーム測定できる
ように、柔軟かつ迅速に対応可能となる。
【0059】また、ビーム径演算部11eは、前述の増
幅用アンプ、A/D変換回路、加算器、コンパレータな
どを具備し、前記光センサからのビーム検出信号を入力
して、第1の実施形態に準じ、測定ヘッド9fからの光
量信号(ビーム検出信号)を用いてビーム径を算出す
る。また、ビーム径演算部11eは、第1の実施形態
(図3に示す)に準じて、ビーム径演算部11eで取得
したビーム径と測定ヘッド9fの回転角度とを基にし
て、前記感光体相当の像面におけるビーム径を演算す
る。
【0060】[第5の実施形態]本実施形態の走査光学
系検査装置(レーザビーム検査装置)は、画像形成装置
における書込み光学ユニットで露光動作時、感光ドラム
面に照射するレーザビーム(被測定ビーム)のビーム径
などを、光軸方向および/または主走査方向の位置が異
なる複数ポイントで算出することによって、前記書込み
光学ユニットを検査するものである。
【0061】図8に、本発明の第5の実施形態に係る走
査光学系検査装置(レーザビーム検査装置)の概略構成
を示す。これは、第1の実施形態とは、スライダ14e
に沿って主走査方向に移動可能な第1ステージ13e上
に、光軸方向に延在するスライダ14fを設け、さら
に、このスライダ14fに沿って光軸方向に移動可能な
第2ステージ13fと、このステージ13f上にあって
軸周りに回転可能な測定ヘッド9gと、前記ステージ1
3e、13fをスライダ14e、14fに沿って主走査
方向および光軸方向に移動させるとともに、測定ヘッド
9gを回転させる制御部12cとを設けた点が相違して
いる。この構成により、被測定ビーム10hが前記光セ
ンサで検出されるように、測定ヘッド9gを適宜、光軸
方向および主走査方向に移動するとともに水平方向に回
転し、さらに、被測定ビーム10hを複数のポイントで
測定できることとなる。よって、前記被測定ビーム10
hの像面湾曲の状態や焦点深度カーブを取得することが
可能となる。前記被測定ビーム10hは、前記書込み光
学ユニットで感光体面に照射されるものである。
【0062】図8において、走査光学系4は、第1の実
施形態と概ね同様の構成を有するため、同一構成には同
一符号を付与して説明を省略する。
【0063】測定ヘッド9gは、スライダ14fに沿っ
て光軸方向に移動可能な第2ステージ13f上に、回転
駆動機構(図示せず)を機械的もしくは電子的制御など
で回転駆動することで、水平方向(軸周り)にも回転可
能に構成されている。なお、測定ヘッド9gには、第1
の実施形態に準じて、被測定ビーム10hが通過するピ
ンホール、このピンホールを通過した被測定ビーム10
hが入射するスリット、このスリットが形成された回転
円筒、および、この回転円筒内で前記スリットから入射
したビーム情報を検出する光センサを具備する。前記ス
リットは、被測定ビームよりも狭く設定されている。
【0064】前記スライダ14fは、第1ステージ13
e上に設けられ、さらに、この第1ステージ13eは、
スライダ14eに沿って主走査方向に移動可能に構成さ
れている。すなわち、測定ヘッド9gを、主走査方向に
移動可能な第1ステージ13e、および光軸方向に移動
可能な第2ステージ13f上に固定し、制御部12cに
よって、第1ステージ13eの主走査方向への移動、第
2ステージ13fの光軸方向への移動、および測定ヘッ
ド9gの水平方向の回転を連動させるように構成されて
いる。
【0065】また、制御部12cは、図示しないCP
U、RAM/ROM、走査光学系4とのインタフェース
などからなり、前述のように第1ステージ13eおよび
第2ステージ13fの移動、および測定ヘッド9gの回
転を連動させることで、被測定ビーム10hが一定の角
度で測定ヘッド9g内の光センサ受光面に入射するよう
に設定しながら、被測定ビーム10hを複数ポイントで
測定するものである。また、制御部12cは、レーザ光
源1のON/OFFを制御しながらポリゴンミラー2を
駆動制御する。
【0066】また、ビーム径演算部11fは、前述の増
幅用アンプ、A/D変換回路、加算器、コンパレータな
どを具備し、光軸方向位置および/または主走査方向位
置の異なる複数ポイントで、前記光センサからのビーム
検出信号を入力し、第1の実施形態に準じて、測定ヘッ
ド9gからの光量信号(ビーム検出信号)を用いてビー
ム径などを算出する。こうして取得したビーム測定結果
に基づいて、さらに被測定ビームの像面湾曲の状態や焦
点深度カーブを取得する。
【0067】なお、本実施形態では、ステージ13f、
スライダ14fなどによって測定ヘッド9gを光軸方向
に移動可能な構成としているが、この構成を第1の実施
形態、第3の実施形態、あるいは第4の実施形態に適用
してもよい。こうすることで、前述のように被測定ビー
ムの像面湾曲の状態や焦点深度カーブを取得することが
可能となる。
【0068】[第6の実施形態]本実施形態の走査光学
系検査装置(レーザビーム検査装置)は、画像形成装置
における書込み光学ユニットで露光動作時、感光ドラム
面に照射するレーザビーム(被測定ビーム)のビーム径
などを、光路長が異なる複数ポイントで算出することに
よって、前記書込み光学ユニットを検査するものであ
る。
【0069】図9に、本発明の第6の実施形態に係る走
査光学系検査装置(レーザビーム検査装置)の概略構成
を示す。これは、第1の実施形態とは、スライダ14g
に沿って主走査方向に移動可能なステージ13g上に、
主走査方向に延在するスライダ14hと、回転可能に固
定した反射ミラー19aとを設け、さらに、このスライ
ダ14hに沿って主走査方向に移動可能なステージ13
hと、このステージ13h上に固定した測定ヘッド9h
とを設け、前記ステージ13g、13hをスライダ14
g、14hに沿って主走査方向に移動させるとともに、
反射ミラー19aを回転するように構成した点が相違し
ている。この構成により、被測定ビーム10hが前記光
センサで検出されるように、測定ヘッド9gを適宜、光
軸方向および主走査方向に移動するとともに水平方向に
回転し、被測定ビーム10hを複数のポイントで測定で
きることとなる。よって、被測定ビーム10hの焦点深
度カーブを取得することができる。前記被測定ビーム1
0hは、前記書込み光学ユニットで感光体面に照射され
るものである。
【0070】図9において、走査光学系4は、第1の実
施形態と概ね同様の構成を有するため、同一構成には同
一符号を付与して説明を省略する。
【0071】測定ヘッド9hは、スライダ14hに沿っ
て主走査方向に移動可能な第2ステージ13h上に固定
されている。なお、測定ヘッド9hには、第1の実施形
態に準じ、被測定ビーム10iが通過するピンホール、
このピンホールを通過した被測定ビーム10iが入射す
るスリット、このスリットが形成された回転円筒、およ
び、この回転円筒内で前記スリットから入射したビーム
情報を検出する光センサを具備する。前記スリットは、
被測定ビームよりも狭く設定されている。
【0072】前記スライダ14hは、第1ステージ13
g上に設けられ、さらに、この第1ステージ13gは、
スライダ14gに沿って主走査方向に移動可能に構成さ
れている。また、第1ステージ13g上には、回転可能
な反射ミラー19aが固定されており、この反射ミラー
19aは回転駆動機構(図示せず)によって機械的もし
くは電子的制御などで駆動される。
【0073】このように、前記測定ヘッド9gを、主走
査方向に移動可能なステージ13g、13h上に固定
し、ステージ13gの主走査方向への移動に応じて反射
ミラー19aの角度を適宜設定することで、反射ミラー
19aで反射した被測定ビーム10iが、前記光センサ
の受光面に対して常に垂直に入射するようにできる。ま
た、ステージ13hを主走査方向に移動することで、被
測定ビーム10iの光路長を任意に設定できる。
【0074】また、制御部(図示せず)は、走査光学系
4とのインタフェース、CPU、RAM/ROMなどか
らなり、前述のようにステージ13g、13hの移動、
および反射ミラー19aの角度設定を連動させること
で、被測定ビーム10iが常に測定ヘッド9h内の光セ
ンサ受光面に対して垂直に入射するように設定しなが
ら、被測定ビーム10iを複数ポイントで測定するもの
である。また、前記制御部は、レーザ光源1のON/O
FFを制御しながらポリゴンミラー2を駆動制御する。
【0075】また、ビーム径演算部11gは、前述の増
幅用アンプ、A/D変換回路、加算器、コンパレータな
どを具備して、前述の複数ポイントで測定ヘッド9hか
らの光量信号(ビーム検出信号)を入力し、第1の実施
形態(図3に示す)に準じてビーム径を算出し、このビ
ーム径を、反射ミラー19aの回転角度に基づいて演算
処理することにより、前記書込み光学ユニットの感光体
面に相当する像面でのビーム径を取得することができ
る。また、ビーム径演算部11gは、前述のようにステ
ージ13g上で測定ヘッド9hのみを主走査方向に移動
することで光路長を任意に設定しながら、光路長の異な
る複数ポイントで入力されたビーム検出信号に基づき、
被測定ビーム10iの焦点深度カーブを取得することも
できる。
【0076】[第7の実施形態]本実施形態の走査光学
系検査装置(レーザビーム検査装置)は、画像形成装置
における書込み光学ユニットで露光動作時、感光ドラム
面に照射するレーザビーム(被測定ビーム)のビーム径
などを算出することによって、前記書込み光学ユニット
を検査するものである。
【0077】図10に、本発明の第7の実施形態に係る
走査光学系検査装置(レーザビーム検査装置)の概略構
成を示す。これは、第1の実施形態とは、検査対象の画
像形成装置における書込光学ユニットの感光体相当の像
面21bにファイバオプティクスプレート20を配置
し、このファイバオプティクスプレート20の片側端面
(非像面側)が測定ヘッド9iのピンホール5に接する
ように構成した点が相違している。この構成により、前
記書込光学ユニットの像面側から入射した被測定ビーム
10eは、前記像面21bでのビーム径を反映しながら
ファイバオプティクスプレート20の内部を伝播し、前
記非像面側から測定ヘッド9iの光センサ受光面に対し
て垂直に入射することとなり、測定ヘッド9iの回転や
ビーム径演算などのプロセス(図3に示す)を介さず、
より簡単にビーム測定を行うことができる。なお、前記
被測定ビーム10eは、前記書込光学ユニットで感光体
面に照射されるものである。
【0078】図10において、測定ヘッド9iは、前記
書込光学ユニットの感光体面に相当する、像面21bに
配置したファイバオプティクスプレート20の片側端面
(非像面側)にピンホール5が接するように固定されて
いる。なお、測定ヘッド9iには、ファイバオプティク
スプレート20内を伝播してきた被測定ビーム10eが
通過するピンホール5、このピンホール5を通過した被
測定ビーム10e′が入射するスリット7、このスリッ
ト7が形成された回転円筒6、および、この回転円筒6
内でスリット7から入射したビーム情報を検出する光セ
ンサ8を具備する。前記スリット7は、被測定ビームよ
りも狭く設定されている。
【0079】また、制御部(図示せず)は、走査光学系
とのインタフェース、CPU、RAM/ROMなどから
なり、前記走査光学系におけるレーザ光源のON/OF
Fを制御しながら、ポリゴンミラーを駆動制御する。な
お、図示しない前記走査光学系は、第1の実施形態(図
1の4)と概ね同様の構成を有する。
【0080】また、ビーム径算出部(図示せず)は、前
述の増幅用アンプ、A/D変換回路、加算器、コンパレ
ータなどを具備し、測定ヘッド9iからの光量信号(ビ
ーム検出信号)を用いてビーム径を得る。なお、被測定
ビーム10eがファイバオプティクスプレート20内を
伝播することにより、前記ビーム径算出部で取得したビ
ーム径は、測定ヘッド9iの回転角度を反映したものと
なる。よって、第1の実施形態(図3に示す)のよう
に、ビーム径演算部11bで取得したビーム径B mと測
定ヘッド9bの回転角度θとを基にして、前記感光体相
当の像面21aにおけるビーム径Bwを演算しなくと
も、感光体面などにおけるビーム情報を確実かつ高精度
に検知できる。
【0081】ここで、光センサ8、8aなどが前記受光
手段を構成し、測定ヘッド9a〜9iなどが前記ビーム
測定手段を構成し、スライダ14a〜14e、14gな
どが前記主走査方向移動手段を構成し、前記回転駆動手
段などが前記回転手段を構成し、ビーム径演算部11a
〜11gなどが前記演算手段を構成し、前記ピニオン・
ラック機構などが前記連動手段を構成し、位置センサ2
3などが前記位置検出手段を構成し、制御部12a〜1
2cなどが前記制御手段を構成し、パーソナル・コンピ
ュータ18などが前記設定手段を構成し、スライダ14
fなどが前記光軸方向移動手段を構成し、スライダ14
hなどが前記移動手段を構成し、ファイバオプティクス
プレート20などが前記導光手段を構成する。
【0082】
【発明の効果】請求項1に係る発明によれば、ビーム走
査に伴い、前記ビーム測定手段を主走査方向に移動する
主走査方向移動手段と、前記ビーム測定手段を水平方向
に回転する回転手段とを設けたので、走査角度が大き
く、従来の技術による測定装置では受光面外にビームが
照射されるような場合でも、被測定ビームが前記ビーム
測定手段の受光面内に確実に照射されるので確実にビー
ム測定することが可能である。
【0083】請求項2に係る発明によれば、主走査方向
移動手段と回転手段を連動する連動手段を設け、ビーム
測定手段の主走査方向の移動に応じて水平方向に回転さ
せるようにしたので、前記ビーム測定手段に一定の角度
でビームが入射されて受光領域が一定し、受光面の感度
バラツキという誤差要因を除去し高精度にビーム測定す
ることが可能である。
【0084】請求項3に係る発明によれば、位置検出手
段からの検出情報に応じ、被測定ビームが受光手段に対
して一定の角度で入射するように、回転手段を回転駆動
させるので、任意の位置でビームの入射角度が一定とな
るように制御することが可能となり、前述のように受光
面の感度バラツキという誤差要因を除去した高精度なビ
ーム測定が可能である。
【0085】請求項4に係る発明によれば、位置検出手
段の検出情報と、この検出情報に対応するビーム測定手
段の回転角度との相対関係を更新可能に設定する設定手
段を設けたので、異なる書込みユニットにおけるビーム
測定を行う場合でも、測定位置と回転角度の相対関係を
ソフトウェア的に調整できるので、装置を再構成するこ
となく柔軟に対応することが可能である。
【0086】請求項5に係る発明によれば、ビーム測定
手段を光軸方向に移動する光軸方向移動手段を設けたの
で、主走査方向および光軸方向の任意の複数ポイントに
移動してビーム測定することができ、焦点深度や像面湾
曲の状態を取得することが可能である。
【0087】請求項6に係る発明によれば、回転可能な
反射ミラーおよびビーム測定手段を搭載して主走査方向
に移動する主走査方向移動手段と、この主走査方向移動
手段上で前記ビーム測定手段を主走査方向に移動する移
動手段とを設けたので、前記ビーム測定手段の主走査方
向への移動に応じて前記反射ミラーの回転角度を調整す
ることで、受光領域が一定となり、受光面の感度バラツ
キという誤差要因を除去可能となる。また、前記ビーム
測定ヘッドのみを光路上で主走査方向に動かすことで、
ビーム径が最小になる位置を含む、焦点深度カーブの取
得が可能である。
【0088】請求項7に係る発明によれば、光路上の導
光手段の一端面に入射した被測定ビームを、前記一端面
と背向する他端面からビーム測定手段に入射するように
したので、回転機構を用いたり照射位置に応じた演算を
施すことなく、受光面に一定の角度で被測定ビームを確
実に入射させることができ、より簡単にビーム情報(例
えば、書込み光学ユニットの感光体面におけるビーム
径)を取得することが可能である。
【0089】以上説明したように、本発明によれば、ビ
ーム測定を確実に行うとともに、受光領域による感度の
バラツキなどの誤差要因を排除し、従来の受光デバイス
でも測定が可能な走査光学系検査装置を提供することが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態に係る走査光学系検査
装置の概略構成図である。
【図2】本発明の第1の実施形態に係る測定ヘッドの概
略構成図である。
【図3】本発明の第1の実施形態に係る感光体相当の像
面におけるビーム径の算出方法を示す図である。
【図4】本発明の第2の実施形態に係る走査光学系検査
装置の概略構成図である。
【図5】本発明の第2の実施形態に係る測定ヘッドの概
略構成図である。
【図6】本発明の第3の実施形態に係る走査光学系検査
装置の概略構成図である。
【図7】本発明の第4の実施形態に係る走査光学系検査
装置の概略構成図である。
【図8】本発明の第5の実施形態に係る走査光学系検査
装置の概略構成図である。
【図9】本発明の第6の実施形態に係る走査光学系検査
装置の概略構成図である。
【図10】本発明の第7の実施形態に係る走査光学系検
査装置の概略構成図である。
【図11】従来の走査光学系検査装置における測定ヘッ
ドへの入射ビームを示す図である。
【図12】従来の走査光学系検査装置における測定ヘッ
ド(受光面の中心ずれ)への入射ビームを示す図であ
る。
【図13】従来の走査光学系検査装置における測定ヘッ
ドの出力(ビーム強度)と入射角度との関係を示す図で
ある。
【符号の説明】
1 レーザ光源(LD) 2 ポリゴンミラー 3 光学素子 4 走査光学系 5 ピンホール 6 回転円筒 7 スリット 8、8a 光センサ(受光デバイス) 9a〜9i 測定ヘッド 10a〜10i 被測定ビーム(レーザビーム) 11a〜11g ビーム径演算部 13a〜13h ステージ 14a〜14h スライダ 21a 像面 Bm、Bw ビーム径
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA26 CC00 FF44 FF66 FF67 GG06 JJ01 LL04 LL14 LL29 LL30 LL62 LL63 MM16 MM24 MM25 NN02 NN20 PP02 PP05 QQ03 QQ13 QQ25 QQ27 2G065 AA04 AA11 AB09 BA01 BB11 BB22 BB23 BB49 BC03 BC13 BC14 BC15 BC16 BC28 BC33 BC35 DA01

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】検査対象の走査光学系から射出される被測
    定ビームよりも狭いスリットを形成した回転円筒と、前
    記スリットを横切った被測定ビームを受光する受光手段
    とを有するビーム測定手段を具備した走査光学系検査装
    置であって、 ビーム走査に伴い、前記ビーム測定手段を主走査方向に
    移動する主走査方向移動手段と、 前記ビーム測定手段を水平方向に回転する回転手段と、 前記受光手段が検出した入射ビーム情報から被測定ビー
    ムのビーム径を算出し、該ビーム径を前記ビーム測定手
    段の回転角度に基づいて補正演算する演算手段と、 を具備したことを特徴とする走査光学系検査装置。
  2. 【請求項2】前記主走査方向移動手段と前記回転手段を
    連動する連動手段を備え、 被測定ビームが前記受光手段に対して一定の角度で入射
    するように、前記回転手段は、前記ビーム測定手段の主
    走査方向への移動に連動して前記ビーム測定手段を回転
    することを特徴とする請求項1に記載の走査光学系検査
    装置。
  3. 【請求項3】前記ビーム測定手段の主走査方向における
    位置を検出する位置検出手段と、 該位置検出手段からの検出情報に応じ、被測定ビームが
    前記受光手段に対して一定の角度で入射するように、前
    記回転手段を回転駆動させる制御手段と、 を備えたことを特徴とする請求項1に記載の走査光学系
    検査装置。
  4. 【請求項4】前記位置検出手段の検出情報と、該検出情
    報に対応する前記ビーム測定手段の回転角度との相対関
    係を更新可能に設定する設定手段を設けたことを特徴と
    する請求項3に記載の走査光学系検査装置。
  5. 【請求項5】前記ビーム測定手段を光軸方向に移動する
    光軸方向移動手段を設けたことを特徴とする請求項1、
    3、4のいずれかに記載の走査光学系検査装置。
  6. 【請求項6】検査対象の走査光学系から射出される被測
    定ビームよりも狭いスリットを形成した回転円筒と、前
    記スリットを横切った被測定ビームを受光する受光手段
    とを有するビーム測定手段を具備した走査光学系検査装
    置であって、 被測定ビームの光路上に回転可能に設けた反射ミラー
    と、 該反射ミラーおよび前記ビーム測定手段を搭載して主走
    査方向に移動する主走査方向移動手段と、 該主走査方向移動手段上で前記ビーム測定手段を主走査
    方向に移動する移動手段と、 前記反射ミラーの回転角度に基づいて、前記受光手段が
    検出した入射ビーム情報を演算する演算手段と、 を具備したことを特徴とした走査光学系検査装置。
  7. 【請求項7】検査対象の走査光学系から射出される被測
    定ビームよりも狭いスリットを形成した回転円筒と、前
    記スリットを横切った被測定ビームを受光する受光手段
    とを有するビーム測定手段を具備した走査光学系検査装
    置であって、 被測定ビームの光路上に導光手段を配置し、該導光手段
    の一端面に入射した被測定ビームを、前記一端面と背向
    する他端面から前記ビーム測定手段に入射するようにし
    たことを特徴とする走査光学系検査装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2016147751A1 (ja) * 2015-03-13 2016-09-22 日産自動車株式会社 レーザビームの強度分布測定装置およびレーザビームの強度分布測定方法

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