JP2002042465A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JP2002042465A
JP2002042465A JP2000220010A JP2000220010A JP2002042465A JP 2002042465 A JP2002042465 A JP 2002042465A JP 2000220010 A JP2000220010 A JP 2000220010A JP 2000220010 A JP2000220010 A JP 2000220010A JP 2002042465 A JP2002042465 A JP 2002042465A
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vpp
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JP2000220010A
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Goro Hayakawa
吾郎 早川
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電源投入時における電源ノードの電位の立上
がり速度が速い半導体装置を提供する。 【解決手段】 DRAMのVPP発生回路において、ス
タンバイディテクタ5は、昇圧電位VPPが目標電位V
T′(=VCC)よりも低い場合は、信号φ5を「H」
レベルにし、スタンバイディテクタ3を非活性化させる
とともにVPP−VCC直結回路6を活性化させて、昇
圧電位VPPのラインと電源電位VCCのラインとを結
合させる。したがって、電源投入時における昇圧電位V
PPの立上がり速度の高速化を図ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は半導体装置に関
し、特に、外部電源電位のラインと、外部電源電位より
も高い内部電源電位に充電される電源ノードとを備えた
半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図8は、従来のダイナミックランダムア
クセスメモリ(以下、DRAMと称す)の構成を示すブ
ロック図である。図8において、このDRAMは、クロ
ック発生回路81、行および列アドレスバッファ82、
行デコーダ83、列デコーダ84、メモリマット85、
入力バッファ88および出力バッファ89を備え、メモ
リマット85はメモリアレイ86およびセンスアンプ+
入出力制御回路87を含む。
【0003】クロック発生回路81は、外部から与えら
れる制御信号/RAS,/CAS,/Wに基づいて所定
の動作モードを選択し、DRAM全体を制御する。
【0004】行および列アドレスバッファ82は、外部
から与えられるアドレス信号A0〜Ai(ただし、iは
0以上の整数である)に基づいて行アドレス信号RA0
〜RAiおよび列アドレス信号CA0〜CAiを生成
し、生成した信号RA0〜RAiおよびCA0〜CAi
をそれぞれ行デコーダ83および列デコーダ84に与え
る。
【0005】メモリアレイ86は、図9に示すように、
行列状に配列された複数のメモリセルMCと、各行に対
応して設けられたワード線WLと、各列に対応して設け
られたビット線対BL,/BLとを含む。メモリセルM
Cは、アクセス用のNチャネルMOSトランジスタQと
情報記憶用のキャパシタCとを含む。
【0006】行デコーダ83は、行および列アドレスバ
ッファ82から与えられた行アドレス信号RA0〜RA
iに従って、複数のワード線WLのうちのいずれかのワ
ード線WLを選択し、そのワード線WLを選択レベルの
「H」レベルにする。これにより、そのワード線WLに
対応する各メモリセルMCのNチャネルMOSトランジ
スタQが導通し、各メモリセルMCのデータの書込/読
出が可能になる。
【0007】列デコーダ84は、行および列アドレスバ
ッファ82から与えられた列アドレス信号CA0〜CA
iに従って、複数のビット線対BL,/BLのうちのい
ずれかのビット線対BL,/BLを選択する。
【0008】センスアンプ+入出力制御回路87は、列
デコーダ84によって選択されたビット線対BL,/B
Lをデータ入出力線対IO,/IOの一方端に接続す
る。データ入出力線対IO,/IOの他方端は、入力バ
ッファ88および出力バッファ89に接続される。入力
バッファ88は、書込モード時に、制御信号/Wに応答
して、外部から入力されたデータDj(ただし、jは0
以上の整数である)をデータ入出力線対IO,/IOを
介して選択されたメモリセルMCに与える。出力バッフ
ァ89は、読出モード時に、外部から入力される制御信
号/OEに応答して、選択されたメモリセルMCからの
読出データDjを外部に出力する。
【0009】このようなDRAMでは、メモリセルMC
のデータの書込/読出を行なう際には、NチャネルMO
SトランジスタQによる電圧降下を小さくするため、電
源電位VCCよりも高い昇圧電位VPPをワード線WL
に与えている。このため、DRAMには、昇圧電位VP
Pを生成するためのVPP発生回路が設けられている。
【0010】図10は、そのようなVPP発生回路の構
成を示すブロック図である。図10において、このVP
P発生回路は、アクティブディテクタ91、アクティブ
ポンプ92、スタンバイディテクタ93およびスタンバ
イポンプ94を備える。
【0011】アクティブディテクタ91は、外部制御信
号/RASに基づいて生成される内部制御信号ZRAS
が活性化レベルの「L」レベルになったことに応じて活
性化され、昇圧電位VPPが目標電位VTよりも低いか
否かを検出し、低い場合は信号φ91を「H」レベルに
し、高い場合は信号φ91を「L」レベルにする。アク
ティブポンプ92は、信号φ91が「H」レベルになっ
たことに応じて昇圧電位VPPのラインに正電荷を供給
する。アクティブポンプ92の電荷供給能力は、アクテ
ィブ時における昇圧電位VPPのレベル低下を防止する
ため比較的大きなレベルに設定されている。
【0012】スタンバイディテクタ93は、昇圧電位V
PPが目標電位VTよりも低いか否かを常時検出し、低
い場合は信号φ93を「H」レベルにし、高い場合は信
号φ93を「L」レベルにする。スタンバイポンプ94
は、信号φ93が「H」レベルになったことに応じて活
性化され、昇圧電位VPPのラインに正電荷を供給す
る。スタンバイポンプ94は、主にスタンバイ時におけ
る微小リークによる昇圧電位VPPのレベル低下を防止
するために設けられている。スタンバイポンプ94の電
荷供給能力は、スタンバイ時における消費電流を最小限
にするため、比較的小さなレベルに設定されている。
【0013】図11は、図10に示したVPP発生回路
の動作を示すタイムチャートである。ある時刻に電源電
位VCCが投入されると、スタンバイディテクタ93に
よって昇圧電位VPPが目標電位VTよりも低いことが
検出され、信号φ93が「H」レベルに立上げられる。
これに応じてスタンバイポンプ94が活性化されてスタ
ンバイポンプ94から昇圧電位VPPのラインに正電荷
が供給され、昇圧電位VPPのレベルが上昇する。
【0014】このとき信号/RASのレベル変化がなけ
れば、アクティブディテクタ91およびアクティブポン
プ92は動作せず、昇圧電位VPPのラインはスタンバ
イポンプ94のみによって充電される。昇圧電位VPP
が目標電位VTを超えると、スタンバイディテクタ93
によって信号φ93が「L」レベルにされ、スタンバイ
ポンプ94が非活性化される。
【0015】この後、昇圧電位VPPのラインからの微
小リークによって昇圧電位VPPのレベルが目標電位V
Tよりも低くなると、スタンバイディテクタ93がスタ
ンバイポンプ94を動作させて昇圧電位VPPのレベル
を上昇させ、昇圧電位VPPが目標電位VTよりも高く
なると再びスタンバイポンプ94を停止させる。このよ
うな動作を繰返すことにより、昇圧電位VPPは目標電
位VTに保持される。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】このように従来のVP
P発生回路では、電源投入時における昇圧電位VPPの
ラインの充電は電荷供給能力が小さなスタンバイポンプ
94のみによって行なわれていたので、電源投入から昇
圧電位VPPが目標電位VTに到達するまでの時間が非
常に長くなり、電源投入直後のデバイス動作が不安定に
なるという問題があった。
【0017】それゆえに、この発明の主たる目的は、電
源投入時における内部電源電位の立上がり速度が速い半
導体装置を提供することである。
【0018】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体装
置は、外部電源電位のラインと、外部電源電位よりも高
い内部電源電位に充電される電源ノードとを備えた半導
体装置であって、電源ノードの電位が外部電源電位より
も低いか否かを検出し、低い場合に第1の信号を活性化
レベルにする第1の電位検出回路と、外部電源電位のラ
インと電源ノードとの間に接続され、第1の信号が活性
化レベルにされたことに応じて導通し電源ノードに外部
電源電位を与えるためのスイッチング素子と、電源ノー
ドの電位が内部電源電位よりも低いか否かを検出し、低
い場合に第2の信号を活性化レベルにする第2の電位検
出回路と、第2の信号が活性化レベルにされたことに応
じて活性化され、電源ノードに正電荷を供給する第1の
チャージポンプ回路とを備えたものである。
【0019】好ましくは、第2の電位検出回路は、第1
の信号が活性化レベルされたことに応じて、電源ノード
の電位に関係なく第2の信号を非活性化レベルにする。
【0020】また好ましくは、スイッチング素子は第1
のトランジスタであり、さらに、第1の信号が活性化レ
ベルにされたことに応じて活性化され、第1のトランジ
スタの入力電極に正電荷を与えて第1のトランジスタを
導通させるための第2のチャージポンプ回路と、第1の
トランジスタの入力電極と接地電位のラインとの間に接
続され、第1の信号が非活性化レベルにされたことに応
じて導通し第1のトランジスタを非導通にさせるための
第2のトランジスタとが設けられる。
【0021】
【発明の実施の形態】図1は、この発明の一実施の形態
によるVPP発生回路の構成を示す回路ブロック図であ
る。図1において、このVPP発生回路は、アクティブ
ディテクタ1、アクティブポンプ2、スタンバイディテ
クタ3,5、スタンバイポンプ4およびVPP−VCC
直結回路6を備える。
【0022】アクティブディテクタ1は、内部制御信号
ZRASが活性化レベルの「L」レベルになったことに
応じて活性化され、昇圧電位VPPが目標電位VTより
も低いか否かを検出し、低い場合は信号φ1を「H」レ
ベルにし、高い場合は信号φ1を「L」レベルにする。
【0023】すなわちアクティブディテクタ1は、図2
に示すように、遅延回路25、NANDゲート26、P
チャネルMOSトランジスタ28〜30、NチャネルM
OSトランジスタ31,32、インバータ34〜38お
よびトランスファーゲート39を含む。信号ZRAS
は、遅延回路25を介してNANDゲート26の一方入
力ノードに入力されるとともに、NANDゲート26の
他方入力ノードに入力される。遅延回路25およびNA
NDゲート26は、立上がりエッジ遅延回路27を構成
する。立上がりエッジ遅延回路26の出力信号すなわち
NANDゲート26の出力信号φ27は、信号ZRAS
の立下がりエッジに応答して「L」レベルっから「H」
レベルに立上がり、信号ZRASの立上がりエッジから
遅延回路25の遅延時間経過後に「H」レベルから
「L」レベルに立下がる。
【0024】PチャネルMOSトランジスタ28のソー
スは昇圧電位VPPを受け、そのゲートは接地され、そ
のドレインはノードN28に接続される。PチャネルM
OSトランジスタ28は、所定の抵抗値Rを有する抵抗
素子を構成する。PチャネルMOSトランジスタ29,
30およびNチャネルMOSトランジスタ31,32
は、定電流回路33を構成する。MOSトランジスタ2
9,31はノードN28と接地電位GNDのラインとの
間に直列接続され、MOSトランジスタ30,32は電
源電位VCCのラインと接地電位GNDのラインとの間
に直列接続される。PチャネルMOSトランジスタ2
9,30のゲートはともにPチャネルMOSトランジス
タ30のドレインに接続される。PチャネルMOSトラ
ンジスタ29,30は、カレントミラー回路を構成す
る。NチャネルMOSトランジスタ31,32のゲート
は、信号φ27を受ける。定電流回路33は、信号φ2
7が「H」レベルになっている期間に活性化され、ノー
ドN28から一定電流Iを流出させる。このとき、ノー
ドN28の電位V28は、V28=VPP−IRとな
る。
【0025】インバータ34は、所定のしきい値電位V
thを有し、ノードN28の電位V28がしきい値電位
Vthよりも高い場合は「L」レベルの信号を出力し、
ノードN28の電位V28がしきい値電位Vthよりも
低い場合は「H」レベルの信号を出力する。VPP=V
Tのとき、VPP−IR=VthとなるようにI,R,
Vthが設定されている。したがって、VPP>VTの
場合はインバータ34の出力信号φ34は「L」レベル
になり、VPP<VTの場合はインバータ34の出力信
号φ34は「H」レベルになる。
【0026】インバータ35〜38およびトランスファ
ーゲート39は、ラッチ回路40を構成する。トランス
ファーゲート39およびインバータ36,38は、イン
バータ34の出力ノードとアクティブディテクタ1の出
力ノードN40との間に直列接続される。信号φ27
は、トランスファーゲート39のNチャネルMOSトラ
ンジスタ側のゲートに直接入力されるとともに、インバ
ータ35を介してトランスファーゲート39のPチャネ
ルMOSトランジスタ側のゲートに入力される。インバ
ータ37は、インバータ36に逆並列に接続される。ラ
ッチ回路40は、信号φ27が「H」レベルから「L」
レベルに立下がる直前の信号φ34のレベルをラッチす
る。ラッチ回路40の出力信号は、アクティブディテク
タ1の出力信号φ1となる。
【0027】アクティブポンプ2は、信号φ1の立上が
りエッジに応答して昇圧電位VPPのラインに所定量の
正電荷を供給する。アクティブポンプ2は、図3に示す
ように、インバータ41〜49、キャパシタ50〜53
およびNチャネルMOSトランジスタ54〜64を含
む。
【0028】信号φ1は、インバータ41、インバータ
41〜45、インバータ41〜43,46〜48、およ
びインバータ41〜43,49を介してそれぞれキャパ
シタ50〜53の一方電極に入力される。キャパシタ5
0〜53の他方電極は、それぞれNチャネルMOSトラ
ンジスタ62のゲート(ノードN50)、NチャネルM
OSトランジスタ60のゲート(ノードN51)、イン
バータ49の電源ノード49aおよびNチャネルMOS
トランジスタ63のゲートおよびドレイン(ノードN5
3)に接続される。NチャネルMOSトランジスタ62
は、電源電位VCCのラインとノードN53との間に接
続される。NチャネルMOSトランジスタ60は、電源
電位VCCのラインとインバータ49の電源ノード49
aとの間に接続される。NチャネルMOSトランジスタ
63のソースは、昇圧電位VPPのライン(ノードN6
4)に接続される。
【0029】NチャネルMOSトランジスタ54,5
7,61,64は、それぞれノードN50,N51,4
9a,N64に電源電位VCCよりも各々のしきい値電
圧Vthnだけ低い電位VCC−Vthnを与える。N
チャネルMOSトランジスタ55,56と58,59
は、それぞれノードN50,N51の電位がVCC+2
Vthnよりも高くなるのを防止するために設けられて
いる。
【0030】信号φ1が「L」レベルの場合は、キャパ
シタ50,51の一方電極は「H」レベルになり、キャ
パシタ52,53の一方電極は「L」レベルになる。し
たがって、キャパシタ50,51の電極間電圧が略0V
になり、キャパシタ52,53の電極間電圧は略電源電
位VCCとなる。次いで信号φ1が「L」レベルから
「H」レベルに立上がると、キャパシタ50,51の一
方電極が「L」レベルになってノードN50,N51が
「L」レベルになり、NチャネルMOSトランジスタ6
2,60が非導通になる。また、キャパシタ52の一方
電極が「H」レベルになってノード49aが略2VCC
となり、さらにキャパシタ53の一方電極が略2VCC
になってノードN53が略3VCCとなる。このため、
ノードN53から昇圧電位VPPのライン(ノードN6
4)に正電荷が供給される。したがって、信号φ1が
「L」レベルから「H」レベルに立上がるごとにアクテ
ィブポンプ2から昇圧電位VPPのラインに正電荷が供
給される。
【0031】スタンバイディテクタ3は、スタンバイデ
ィテクタ5の出力信号φ5が「L」レベルの場合に活性
化され、昇圧電位VPPが目標電位VTよりも低いか否
かを検出し、低い場合は信号φ3を「H」レベルにし、
高い場合は信号φ3を「L」にする。
【0032】図4は、スタンバイディテクタ3の構成を
示す回路図である。図4において、スタンバイディテク
タ3が図2のアクティブディテクタ1と異なる点は、立
上がりエッジ遅延回路27およびラッチ回路40が除去
され、インバータ65およびNORゲート66が追加さ
れている点である。
【0033】定電流回路33には信号φ27の代わりに
電源電位VCCが与えられており、定電流回路33は常
時活性化されている。インバータ34の出力信号φ34
は、インバータ65を介してNORゲート66の一方入
力ノードに入力される。NORゲート66の他方入力ノ
ードは信号φ5を受ける。NORゲート66の出力信号
は、スタンバイディテクタ3の出力信号φ3となる。
【0034】昇圧電位VPPが目標電位VTよりも低い
場合は、インバータ34の出力信号φ34は「H」レベ
ルになる。昇圧電位VPPが目標電位VTよりも高い場
合は、インバータ34の出力信号φ34は「L」レベル
になる。信号φ5が「L」レベルの場合は、インバータ
34の出力信号φ34がインバータ65およびNORゲ
ート66を通過して信号φ3となる。信号φ5が「H」
レベルの場合は、信号φ3はインバータ34の出力信号
φ34のレベルに関係なく「L」レベルに固定される。
【0035】スタンバイポンプ4は、スタンバイディテ
クタ3の出力信号φ3が「H」レベルになったことに応
じて活性化され、所定周期で昇圧電位VPPのラインに
正電荷を供給する。スタンバイポンプ4は、図5に示す
ように、リングオシレータ70およびポンプ回路77を
備える。
【0036】リングオシレータ70は、NANDゲート
71およびインバータ72〜76を含む。信号φ3は、
NANDゲート71の一方入力ノードに入力される。イ
ンバータ72〜75は、NANDゲート71の出力ノー
ドと他方入力との間に直列接続される。インバータ75
の出力信号は、インバータ76で反転されてポンプ信号
φPMPとなる。信号φ3が「H」レベルになると、リ
ングオシレータ70が活性化され、信号φPMPはイン
バータ72〜75の遅延時間ごとに反転するクロック信
号となる。信号φ3が「L」レベルになると、リングオ
シレータ70が非活性化され、信号φPMPは「L」レ
ベルに固定される。
【0037】ポンプ回路77は、図3で示したアクティ
ブポンプ2と同じ構成である。ポンプ回路77は、信号
φPMPが「L」レベルから「H」レベルに立上がるご
とに昇圧電位VPPのラインに所定量の正電荷を供給す
る。ただし、ポンプ回路77の電荷供給能力は、アクテ
ィブポンプ2の電荷供給能力よりも小さく設定されてい
る。
【0038】スタンバイディテクタ5は、常時活性化さ
れ、昇圧電位VPPが目標電位VT′(=VCC)より
も低いか否かを検出し、低い場合は信号φ5を「H」レ
ベルにし、高い場合は信号φ5を「L」レベルにする。
【0039】図6は、スタンバイディテクタ5の構成を
示す回路図である。図6において、スタンバイディテク
タ5が図4のスタンバイディテクタ3と異なる点は、N
チャネルMOSトランジスタ28がNチャネルMOSト
ランジスタ28′で置換されている点と、インバータ6
5およびNANDゲート66が除去されている点であ
る。NチャネルMOSトランジスタ28′は、Nチャネ
ルMOSトランジスタ28よりも低い抵抗値R′を有す
る抵抗素子を構成する。インバータ34の出力信号がス
タンバイディテクタ5の出力信号となる。
【0040】スタンバイディテクタ5のノードN28の
電位V28はスタンバイディテクタ3のノードN28の
電位V28よりも高くなるので、昇圧電位VPPを0V
から徐々に上昇させた場合は、信号φ5の方が信号φ3
4よりも速く「H」レベルから「L」レベルに立下が
る。VPP=VCCのとき、VPP−R′=Vthとな
るようにI,R′,Vthが設定されている。
【0041】したがって、VPP>VCCの場合はイン
バータ34の出力信号φ5は「L」レベルになり、VP
P<VCCの場合はインバータ34の出力信号φ5は
「H」レベルになる。
【0042】図1に戻って、VPP−VCC直結回路6
は、NANDゲート11、インバータ12〜16、キャ
パシタ17、PチャネルMOSトランジスタ18および
NチャネルMOSトランジスタ19〜22を含む。NA
NDゲート11およびインバータ12〜15はリングオ
シレータ10を構成し、リングオシレータ10、インバ
ータ16、キャパシタ17およびMOSトランジスタ1
8〜21はチャージポンプ回路を構成する。インバータ
12〜15は、NANDゲート11の出力ノードと一方
入力ノードとの間に直列接続される。信号φ5はNAN
Dゲート11の他方入力ノードに入力される。リングオ
シレータ10は、信号φ5が「H」レベルの場合に活性
化され、所定周期のクロック信号φ10をキャパシタ1
7の一方電極に与える。
【0043】MOSトランジスタ18〜21は、電源電
位VCCのラインと接地電位GNDのラインとの間に直
列接続される。信号φ5は、インバータ16を介してM
OSトランジスタ18,21のゲートに入力される。N
チャネルMOSトランジスタ19のゲートは、そのソー
スに接続される。NチャネルMOSトランジスタ20の
ゲートは、そのソースに接続されるとともにキャパシタ
17の他方電極に接続される。NチャネルMOSトラン
ジスタ19,20の各々は、ダイオードを構成する。N
チャネルMOSトランジスタ22は、電源電位VCCの
ラインと昇圧電位VPPのラインとの間に直列接続さ
れ、そのゲートはノードN20に接続される。
【0044】信号φ5が「H」レベルの場合は、Pチャ
ネルMOSトランジスタ18が導通し、NチャネルMO
Sトランジスタが非導通になってキャパシタ17の他方
電極およびノードN20に電源電位VCCが与えられ
る。また、リングオシレータ10が活性化されてクロッ
ク信号φ10が生成され、信号φ10が「L」レベルの
ときにキャパシタ17が充電され、信号φ10が「H」
レベルのときにキャパシタ17が放電され、ノードN2
0が略2VCCに昇圧される。これにより、Nチャネル
MOSトランジスタ22が導通して電源電位VCCのラ
インと昇圧電位VPPのラインとが結合される。
【0045】図7は、図1〜図6で示したVPP発生回
路の動作を示すタイムチャートである。ある時刻に電源
電位VCCが投入されると、まずスタンバイディテクタ
5の出力信号φ5が「L」レベルから「H」レベルに立
上がり、スタンバイディテクタ3の出力信号φ3が
「L」レベルに固定されてスタンバイポンプ4が非活性
化される。同時にVPP−VCC直結回路6のリングオ
シレータ10が活性化されてNチャネルMOSトランジ
スタ22が導通し、電源電位VCCのラインと昇圧電位
VPPのラインとが結合される。
【0046】これにより、昇圧電位VPPのラインは電
源電位VCCのラインから直接充電されるので、電荷供
給能力の小さなスタンバイポンプ4で昇圧電位VPPの
ラインを充電していた従来に比べ、電源投入時における
昇圧電位VPPの立上がり速度が速くなる。
【0047】次いで、昇圧電位VPPが目標電位VT′
に到達すると、スタンバイディテクタ5の出力信号φ5
が「H」レベルから「L」レベルに立下がり、VPP−
VCC直結回路6のNチャネルMOSトランジスタ22
が非導通になるとともに、スタンバイディテクタ3が活
性化される。この後は、スタンバイ時においては昇圧電
位VPPが目標電位VTよりも高い場合はスタンバイデ
ィテクタ3の出力信号φ3が「L」レベルになってスタ
ンバイポンプ4が非活性化され、昇圧電位VPPが目標
電位VTよりも低い場合はスタンバイディテクタ3の出
力信号φ3が「H」レベルになってスタンバイポンプ4
が活性化され、昇圧電位VPPが目標電位VTに保持さ
れる。また、アクティブ時においては、スタンバイディ
テクタ3およびスタンバイポンプ4に加えてアクティブ
ディテクタ1およびアクティブポンプ2も活性化され、
昇圧電位VPPが目標電位VTに保持される。
【0048】この実施の形態では、電源投入時において
昇圧電位VPPが所定電位VT′よりも低い場合は電源
電位VCCのラインと昇圧電位VPPのラインとを結合
するので、電源投入時における昇圧電位VPPの立上が
り速度の高速化および回路動作の安定化を図ることがで
きる。
【0049】また、MOSトランジスタの酸化膜が破壊
された場合のようにスタンバイポンプ4の能力以上のリ
ークが発生した場合に発生する昇圧電位VPPのレベル
低下を防止し、回路の安定動作を保障することができ
る。
【0050】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求
の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味お
よび範囲内でのすべての変更が含まれることが意図され
る。
【0051】
【発明の効果】以上のように、この発明に係る半導体装
置では、電源ノードの電位が外部電源電位よりも低い場
合に第1の信号を活性化レベルにする第1の電位検出回
路と、第1の信号が活性化レベルにされたことに応じて
導通し、電源ノードに外部電源電位を与えるためのスイ
ッチング素子と、電源ノードの電位が内部電源電位より
も低い場合に第2の信号を活性化レベルにする第2の電
位検出回路と、第2の信号が活性化レベルにされたこと
に応じて活性化され、電源ノードに正電荷を供給する第
1のチャージポンプ回路とが設けられる。したがって、
電源投入時は、スイッチング素子が導通して外部電源電
位が電源ノードに与えられるので、電源ノードの電位の
立上がり速度の高速化を図ることができる。
【0052】好ましくは、第2の電位検出回路は、第1
の信号が活性化レベルされたことに応じて、電源ノード
の電位に関係なく第2の信号を非活性化レベルにする。
この場合は、スイッチング素子の導通時は第1のチャー
ジポンプ回路が非活性化されるので、消費電流の低減化
を図ることができる。
【0053】また好ましくは、スイッチング素子は第1
のトランジスタであり、さらに、第1の信号が活性化レ
ベルにされたことに応じて活性化され、第1のトランジ
スタの入力電極に正電荷を与えて第1のトランジスタを
導通させるための第2のチャージポンプ回路と、第1の
トランジスタの入力電極と接地電位のラインとの間に接
続され、第1の信号が非活性化レベルにされたことに応
じて導通し第1のトランジスタを非導通にさせるための
第2のトランジスタとが設けられる。この場合は、スイ
ッチング素子を容易に構成することができ、その制御を
容易に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の一実施の形態によるVPP発生回
路の構成を示す回路ブロック図である。
【図2】 図1に示したアクティブディテクタの構成を
示す回路ブロック図である。
【図3】 図1に示したアクティブポンプの構成を示す
回路図である。
【図4】 図1に示したスタンバイディテクタ3の構成
を示す回路図である。
【図5】 図1に示したスタンバイポンプの構成を示す
回路図である。
【図6】 図1に示したスタンバイディテクタ5の構成
を示す回路図である。
【図7】 図1〜図6に示したVPP発生回路の電源投
入時における動作を示すタイムチャートである。
【図8】 従来のDRAMの全体構成を示すブロック図
である。
【図9】 図8に示したメモリアレイの構成を示す回路
ブロック図である。
【図10】 図8に示したDRAMに含まれるVPP発
生回路の構成を示すブロック図である。
【図11】 図10に示したVPP発生回路の電源投入
時における動作を示すタイムチャートである。
【符号の説明】 1,91 アクティブディテクタ、2,92 アクティ
ブポンプ、3,5,93 スタンバイディテクタ、4,
94 スタンバイポンプ、6 VPP−VCC直結回
路、10,70 リングオシレータ、11,26,71
NANDゲート、12〜16,34〜38,41〜4
9,65,72〜76 インバータ、17,50〜53
Cキャパシタ、18,28〜30 PチャネルMOS
トランジスタ、19〜22,31,32,54〜64,
Q NチャネルMOSトランジスタ、25 遅延回路、
27 立上がりエッジ遅延回路、33 定電流回路、4
0ラッチ回路、66 NORゲート回路、77 ポンプ
回路、81 クロック発生回路、82 行および列アド
レスバッファ、83 行デコーダ、84 列デコーダ、
85 メモリマット、86 メモリアレイ、87 セン
スアンプ+入出力制御回路、88 入力バッファ、89
出力バッファ、MC メモリセル、WLワード線、B
L,/BL ビット線対。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外部電源電位のラインと、前記外部電源
    電位よりも高い内部電源電位に充電される電源ノードと
    を備えた半導体装置であって、 前記電源ノードの電位が前記外部電源電位よりも低いか
    否かを検出し、低い場合に第1の信号を活性化レベルに
    する第1の電位検出回路、 前記外部電源電位のラインと前記電源ノードとの間に接
    続され、前記第1の信号が活性化レベルにされたことに
    応じて導通し前記電源ノードに前記外部電源電位を与え
    るためのスイッチング素子、 前記電源ノードの電位が前記内部電源電位よりも低いか
    否かを検出し、低い場合に第2の信号を活性化レベルに
    する第2の電位検出回路、および前記第2の信号が活性
    化レベルにされたことに応じて活性化され、前記電源ノ
    ードに正電荷を供給する第1のチャージポンプ回路を備
    える、半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記第2の電位検出回路は、前記第1の
    信号が活性化レベルされたことに応じて、前記電源ノー
    ドの電位に関係なく前記第2の信号を非活性化レベルに
    する、請求項1に記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記スイッチング素子は第1のトランジ
    スタであり、 さらに、前記第1の信号が活性化レベルにされたことに
    応じて活性化され、前記第1のトランジスタの入力電極
    に正電荷を与えて前記第1のトランジスタを導通させる
    ための第2のチャージポンプ回路、および前記第1のト
    ランジスタの入力電極と接地電位のラインとの間に接続
    され、前記第1の信号が非活性化レベルにされたことに
    応じて導通し前記第1のトランジスタを非導通にさせる
    ための第2のトランジスタを備える、請求項1または請
    求項2に記載の半導体装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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