JP2002040236A - 多層光学薄膜 - Google Patents
多層光学薄膜Info
- Publication number
- JP2002040236A JP2002040236A JP2000219175A JP2000219175A JP2002040236A JP 2002040236 A JP2002040236 A JP 2002040236A JP 2000219175 A JP2000219175 A JP 2000219175A JP 2000219175 A JP2000219175 A JP 2000219175A JP 2002040236 A JP2002040236 A JP 2002040236A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- thin film
- optical thin
- multilayer optical
- refractive index
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 温度環境の変化に起因する光学特性のシフト
量が格段に小さい多層光学薄膜を提供する。 【解決手段】 高屈折率膜層ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2と低屈折
率膜層ＳｉＯ2とを交互に積層してなる多層光学薄膜に
おいて、空気側から数えて５層目以内のＳｉＯ2層の少
なくとも１層をＭｇＦ2層で置換した多層光学薄膜、お
よび、高屈折率膜層ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2と低屈折率膜層Ｓ
ｉＯ2とを交互に積層してなる多層光学薄膜において、
空気側から数えて５層目以内のＳｉＯ2層の少なくとも
１層をＡｌ2Ｏ3層で置換した多層光学薄膜。
量が格段に小さい多層光学薄膜を提供する。 【解決手段】 高屈折率膜層ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2と低屈折
率膜層ＳｉＯ2とを交互に積層してなる多層光学薄膜に
おいて、空気側から数えて５層目以内のＳｉＯ2層の少
なくとも１層をＭｇＦ2層で置換した多層光学薄膜、お
よび、高屈折率膜層ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2と低屈折率膜層Ｓ
ｉＯ2とを交互に積層してなる多層光学薄膜において、
空気側から数えて５層目以内のＳｉＯ2層の少なくとも
１層をＡｌ2Ｏ3層で置換した多層光学薄膜。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は各種光学系に使用す
る多層光学薄膜に関する。
る多層光学薄膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】多層光学薄膜は、各分野で広く用いられ
ており、例えばバンドパスフィルター、ロングパスフィ
ルター、ショートパスフィルター、ダイクロイックミラ
ー等がある。これらの薄膜構成は、高屈折率材料と低屈
折率材料を交互に数層から数十層を積層してなってい
る。これらの多層光学薄膜は、プロジェクター用の光学
部品を中心として、高性能化が求められており、光学特
性や信頼性の向上が求められている。特に最近では、コ
ンパクトな光学系が求められており、光学部品が照明系
等の光源の近傍に配置されることが多い。このため、使
用時に光学部品の温度が上昇し、それによって特性がシ
フトし、色の再現性など、製品としての性能に悪影響を
与える場合が多い。
ており、例えばバンドパスフィルター、ロングパスフィ
ルター、ショートパスフィルター、ダイクロイックミラ
ー等がある。これらの薄膜構成は、高屈折率材料と低屈
折率材料を交互に数層から数十層を積層してなってい
る。これらの多層光学薄膜は、プロジェクター用の光学
部品を中心として、高性能化が求められており、光学特
性や信頼性の向上が求められている。特に最近では、コ
ンパクトな光学系が求められており、光学部品が照明系
等の光源の近傍に配置されることが多い。このため、使
用時に光学部品の温度が上昇し、それによって特性がシ
フトし、色の再現性など、製品としての性能に悪影響を
与える場合が多い。
【０００３】温度環境の変化による波長シフトを防ぐた
めに様々な手法が取り入れられている。例えば、イオン
アシスト法、イオンプレーティング法のように真空蒸着
時にイオンエネルギーを付与する方法や、スパッタリン
グ法のような真空蒸着以外の方法が用いられている。例
えば、特開平８-１９００１０号公報にはＴｉＯ2とＳｉ
Ｏ2の交互多層膜の成膜において、各層毎に真空度を変
化させて成膜を行う手法が開示されている。しかしこの
手法では温度変化に際してなお５〜６ｎｍの波長シフト
が避けられない。また特開平１１-３２６６７４号公報
では同じ金属を酸化物にしたり、窒化物にしたりして成
膜を行い、その際にイオンアシスト、イオンプレーティ
ングという手法を用いている。同じ金属の酸化物、窒化
物で膜を構成するのは成膜工程の簡略化であり、成膜時
にイオンアシスト、イオンプレーティングを用いるのは
温度変化による特性シフトを抑えるためである。温度変
化による特性シフトを抑えるためにイオンアシスト、イ
オンプレーティングといった手法を用いるのは公知であ
り、設備費用も多くかかる。
めに様々な手法が取り入れられている。例えば、イオン
アシスト法、イオンプレーティング法のように真空蒸着
時にイオンエネルギーを付与する方法や、スパッタリン
グ法のような真空蒸着以外の方法が用いられている。例
えば、特開平８-１９００１０号公報にはＴｉＯ2とＳｉ
Ｏ2の交互多層膜の成膜において、各層毎に真空度を変
化させて成膜を行う手法が開示されている。しかしこの
手法では温度変化に際してなお５〜６ｎｍの波長シフト
が避けられない。また特開平１１-３２６６７４号公報
では同じ金属を酸化物にしたり、窒化物にしたりして成
膜を行い、その際にイオンアシスト、イオンプレーティ
ングという手法を用いている。同じ金属の酸化物、窒化
物で膜を構成するのは成膜工程の簡略化であり、成膜時
にイオンアシスト、イオンプレーティングを用いるのは
温度変化による特性シフトを抑えるためである。温度変
化による特性シフトを抑えるためにイオンアシスト、イ
オンプレーティングといった手法を用いるのは公知であ
り、設備費用も多くかかる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】加えて、これらの方法
は新たな設備投資が必要であり、管理項目も増えて、生
産コストが増大するという問題がある。このような問題
を生ずることなく、現行設備で、温度環境の変化による
波長シフトを低減できる膜構成の開発が求められてい
た。本発明の目的は上記要求に応えて、新たな設備投資
等を要することなく、温度環境の変化に起因する光学特
性のシフト量が格段に小さい多層光学薄膜を提供するこ
とにある。
は新たな設備投資が必要であり、管理項目も増えて、生
産コストが増大するという問題がある。このような問題
を生ずることなく、現行設備で、温度環境の変化による
波長シフトを低減できる膜構成の開発が求められてい
た。本発明の目的は上記要求に応えて、新たな設備投資
等を要することなく、温度環境の変化に起因する光学特
性のシフト量が格段に小さい多層光学薄膜を提供するこ
とにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、多層光学薄膜
を構成する低屈折率層のうち空気側に近い層にＭｇＦ 2
層を、またはＡｌ2Ｏ3層を設けることで温度環境の変化
に起因する光学特性のシフト量が格段に小さくなること
を見出し、本発明に至った。即ち、本発明は、高屈折率
膜層ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2と低屈折率膜層ＳｉＯ2とを交互
に積層してなる多層光学薄膜において、空気側から数え
て５層目以内のＳｉＯ2層の少なくとも１層をＭｇＦ2層
で置換したことを特徴とする多層光学薄膜に関する。ま
た、本発明は、高屈折率膜層ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2と低屈折
率膜層ＳｉＯ2とを交互に積層してなる多層光学薄膜に
おいて、空気側から数えて５層目以内のＳｉＯ2層の少
なくとも１層をＡｌ2Ｏ3層で置換したことを特徴とする
多層光学薄膜に関する。上記のような積層構造を持つ本
発明の多層光学薄膜は、温度環境が異なっても光学特性
がほとんど変化ないという特徴を有する。
を構成する低屈折率層のうち空気側に近い層にＭｇＦ 2
層を、またはＡｌ2Ｏ3層を設けることで温度環境の変化
に起因する光学特性のシフト量が格段に小さくなること
を見出し、本発明に至った。即ち、本発明は、高屈折率
膜層ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2と低屈折率膜層ＳｉＯ2とを交互
に積層してなる多層光学薄膜において、空気側から数え
て５層目以内のＳｉＯ2層の少なくとも１層をＭｇＦ2層
で置換したことを特徴とする多層光学薄膜に関する。ま
た、本発明は、高屈折率膜層ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2と低屈折
率膜層ＳｉＯ2とを交互に積層してなる多層光学薄膜に
おいて、空気側から数えて５層目以内のＳｉＯ2層の少
なくとも１層をＡｌ2Ｏ3層で置換したことを特徴とする
多層光学薄膜に関する。上記のような積層構造を持つ本
発明の多層光学薄膜は、温度環境が異なっても光学特性
がほとんど変化ないという特徴を有する。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の多層光学薄膜は、高屈折
率膜層ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2と低屈折率膜層ＳｉＯ2とを交
互に積層してなる多層光学薄膜において、空気側から数
えて５層目以内のＳｉＯ2層の少なくとも１層をＭｇＦ2
層またはＡｌ2Ｏ3層で置換したものであり、３００℃以
下の温度、少なくとも５０℃以下の温度では、少なくと
も８０〜１００℃の温度範囲にわたって実質的に波長シ
フトを生じないという特徴を持つものである。
率膜層ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2と低屈折率膜層ＳｉＯ2とを交
互に積層してなる多層光学薄膜において、空気側から数
えて５層目以内のＳｉＯ2層の少なくとも１層をＭｇＦ2
層またはＡｌ2Ｏ3層で置換したものであり、３００℃以
下の温度、少なくとも５０℃以下の温度では、少なくと
も８０〜１００℃の温度範囲にわたって実質的に波長シ
フトを生じないという特徴を持つものである。
【０００７】ＭｇＦ2またはＡｌ2Ｏ3層を挿入すること
によりその光学特性の温度変化に対する安定性を改善す
ることのできるベースとなる多層光学薄膜は、ＺｒＯ2
＋ＴｉＯ2層とＳｉＯ2を交互に１５層以上積層してなる
公知のいかなる多層光学薄膜に対しても適用可能であ
り、４５０〜６５９ｎｍの波長範囲で優れた光学特性を
有する多層膜を対象としている。
によりその光学特性の温度変化に対する安定性を改善す
ることのできるベースとなる多層光学薄膜は、ＺｒＯ2
＋ＴｉＯ2層とＳｉＯ2を交互に１５層以上積層してなる
公知のいかなる多層光学薄膜に対しても適用可能であ
り、４５０〜６５９ｎｍの波長範囲で優れた光学特性を
有する多層膜を対象としている。
【０００８】各層の厚さはその用途によって異なり、適
宜設定されるが、通常いずれも５０〜２００ｎｍ、好ま
しくは７０〜１７０ｎｍであり、従来からＺｒＯ2＋Ｔ
ｉＯ2またはＳｉＯ2層に対して適用されている値を使用
すればよい。またＭｇＦ2またはＡｌ2Ｏ3層は一般的に
は、置換する前のＳｉＯ2層の光学的膜厚を適用すれば
よい。
宜設定されるが、通常いずれも５０〜２００ｎｍ、好ま
しくは７０〜１７０ｎｍであり、従来からＺｒＯ2＋Ｔ
ｉＯ2またはＳｉＯ2層に対して適用されている値を使用
すればよい。またＭｇＦ2またはＡｌ2Ｏ3層は一般的に
は、置換する前のＳｉＯ2層の光学的膜厚を適用すれば
よい。
【０００９】本発明の多層光学薄膜は次のようにして製
造することができる。一般に真空蒸着は下記の４工程で
進められる： １）真空排気工程、 ２）基板加熱工程（多くの場合、１）と同時に行う）、 ３）成膜工程、 ４）冷却工程。 以下、典型的な例である実施例１の多層光学薄膜に沿っ
て製造法を説明する。多層光学薄膜は、一般的な真空蒸
着によって製造することができ、ＢＫ７のような光学硝
子基板上に多層光学薄膜を構成する各層の材料を順次積
層し成膜する。この際の条件は下記のようなものであ
る。 基板加熱温度：３００℃ 到達真空度：１〜２×１０-5Ｔｏｒｒ酸素導入時の真空度 ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2成膜時：５〜８×１０-5Ｔｏｒｒ ＳｉＯ2およびＭｇＦ2成膜時：酸素ガス導入なし 蒸着槽内に基板もしくは材料をセットしたら、槽内の排
気を行う。排気は基板加熱を同時に行い、実施例１の場
合、２時間の排気を行った。排気の間に基板は約３００
℃に加熱され到達真空度も所望の１〜２×１０-5Ｔｏｒ
ｒに達する。排気が完了すると、成膜工程に移る。電子
銃を用いて電子ビームを蒸着材料に照射して加熱溶融さ
せ、基板上に膜を形成させる。実施例１では高屈折率材
料であるＺｒＯ2＋ＴｉＯ2と低屈折率材料であるＳｉＯ
2を交互に２８層積層している。それぞれの層の膜厚は
通常、特定波長の光に対する反射率の変化を計測するこ
とにより、制御を行っている。場合によっては水晶板の
固有振動数により、膜厚を計測する場合もある。こうし
て成膜した基板を冷却し、１００℃以下になったところ
で真空槽内を徐々に大気圧に戻し、基板を取り出す。
造することができる。一般に真空蒸着は下記の４工程で
進められる： １）真空排気工程、 ２）基板加熱工程（多くの場合、１）と同時に行う）、 ３）成膜工程、 ４）冷却工程。 以下、典型的な例である実施例１の多層光学薄膜に沿っ
て製造法を説明する。多層光学薄膜は、一般的な真空蒸
着によって製造することができ、ＢＫ７のような光学硝
子基板上に多層光学薄膜を構成する各層の材料を順次積
層し成膜する。この際の条件は下記のようなものであ
る。 基板加熱温度：３００℃ 到達真空度：１〜２×１０-5Ｔｏｒｒ酸素導入時の真空度 ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2成膜時：５〜８×１０-5Ｔｏｒｒ ＳｉＯ2およびＭｇＦ2成膜時：酸素ガス導入なし 蒸着槽内に基板もしくは材料をセットしたら、槽内の排
気を行う。排気は基板加熱を同時に行い、実施例１の場
合、２時間の排気を行った。排気の間に基板は約３００
℃に加熱され到達真空度も所望の１〜２×１０-5Ｔｏｒ
ｒに達する。排気が完了すると、成膜工程に移る。電子
銃を用いて電子ビームを蒸着材料に照射して加熱溶融さ
せ、基板上に膜を形成させる。実施例１では高屈折率材
料であるＺｒＯ2＋ＴｉＯ2と低屈折率材料であるＳｉＯ
2を交互に２８層積層している。それぞれの層の膜厚は
通常、特定波長の光に対する反射率の変化を計測するこ
とにより、制御を行っている。場合によっては水晶板の
固有振動数により、膜厚を計測する場合もある。こうし
て成膜した基板を冷却し、１００℃以下になったところ
で真空槽内を徐々に大気圧に戻し、基板を取り出す。
【００１０】本発明の多層光学薄膜は、３００〜１３０
０ｎｍ、特に４５０〜６５０ｎｍの波長範囲の光に対し
て、上記の温度範囲で安定した優れた光学特性を有す
る。
０ｎｍ、特に４５０〜６５０ｎｍの波長範囲の光に対し
て、上記の温度範囲で安定した優れた光学特性を有す
る。
【００１１】
【実施例】以下、実施例によって本発明をより詳細に且
つ具体的に説明する。実施例 １：第１層にＭｇＦ2 層を設けた多層光学薄膜 ＢＫ７の基板（設計主波長での屈折率１.５２）上に、
表１に記載した物質を順次真空蒸着して積層し、その第
１層をＭｇＦ2層とする全２８層の薄膜からなる多層光
学薄膜を製造した。各層を構成する物質の設計主波長に
対する屈折率（ｎ）、膜厚（ｄ）および光学的膜厚（ｎ
ｄ）も表１に示した。設計主波長λ0として７００ｎｍ
の可視光線を用いた。図１にはこの多層光学薄膜の室温
と１００℃での分光透過率を表示した。
つ具体的に説明する。実施例 １：第１層にＭｇＦ2 層を設けた多層光学薄膜 ＢＫ７の基板（設計主波長での屈折率１.５２）上に、
表１に記載した物質を順次真空蒸着して積層し、その第
１層をＭｇＦ2層とする全２８層の薄膜からなる多層光
学薄膜を製造した。各層を構成する物質の設計主波長に
対する屈折率（ｎ）、膜厚（ｄ）および光学的膜厚（ｎ
ｄ）も表１に示した。設計主波長λ0として７００ｎｍ
の可視光線を用いた。図１にはこの多層光学薄膜の室温
と１００℃での分光透過率を表示した。
【００１２】
【表１】
【００１３】実施例 ２：第２層にＭｇＦ2 層を設けた多
層光学薄膜 ＢＫ７の基板（設計主波長での屈折率１.５２）上に、
表２に記載した物質を順次真空蒸着して積層し、その第
２層をＭｇＦ2層とする全２８層の薄膜からなる多層光
学薄膜を製造した。各層を構成する物質の設計主波長に
対する屈折率（ｎ）、膜厚（ｄ）および光学的膜厚（ｎ
ｄ）も表２に示した。設計主波長λ0として７００ｎｍ
の可視光線を用いた。図２にはこの多層光学薄膜の室温
と１００℃での分光透過率を表示した。
層光学薄膜 ＢＫ７の基板（設計主波長での屈折率１.５２）上に、
表２に記載した物質を順次真空蒸着して積層し、その第
２層をＭｇＦ2層とする全２８層の薄膜からなる多層光
学薄膜を製造した。各層を構成する物質の設計主波長に
対する屈折率（ｎ）、膜厚（ｄ）および光学的膜厚（ｎ
ｄ）も表２に示した。設計主波長λ0として７００ｎｍ
の可視光線を用いた。図２にはこの多層光学薄膜の室温
と１００℃での分光透過率を表示した。
【００１４】
【表２】
【００１５】実施例 ３：第１層、第３層、第５層にＭ
ｇＦ2 層を設けた多層光学薄膜 ＢＫ７の基板（設計主波長での屈折率１.５２）上に、
表３に記載した物質を順次真空蒸着して積層し、第１
層、第３層および第５層をＭｇＦ2層とする全２８層の
薄膜からなる多層光学薄膜を製造した。各層を構成する
物質の設計主波長に対する屈折率（ｎ）、膜厚（ｄ）お
よび光学的膜厚（ｎｄ）も表３に示した。設計主波長λ
0として７００ｎｍの可視光線を用いた。図３にはこの
多層光学薄膜の室温と１００℃での分光透過率を表示し
た。
ｇＦ2 層を設けた多層光学薄膜 ＢＫ７の基板（設計主波長での屈折率１.５２）上に、
表３に記載した物質を順次真空蒸着して積層し、第１
層、第３層および第５層をＭｇＦ2層とする全２８層の
薄膜からなる多層光学薄膜を製造した。各層を構成する
物質の設計主波長に対する屈折率（ｎ）、膜厚（ｄ）お
よび光学的膜厚（ｎｄ）も表３に示した。設計主波長λ
0として７００ｎｍの可視光線を用いた。図３にはこの
多層光学薄膜の室温と１００℃での分光透過率を表示し
た。
【００１６】
【表３】
【００１７】実施例 ４：第１層にＡｌ2 Ｏ3 層を設けた
多層光学薄膜 ＢＫの基板（設計主波長での屈折率１.５２）上に、表
４に記載した物質を順次真空蒸着して積層し、その最表
面層であるＺｒＯ2＋ＴｉＯ2膜層の更に外側に、即ち第
１層としてＡｌ2Ｏ3層を真空蒸着して、全２８層の薄膜
からなる多層光学薄膜を製造した。各層を構成する物質
の設計主波長に対する屈折率（ｎ）、膜厚（ｄ）および
光学的膜厚（ｎｄ）も表４に示した。設計主波長λ0と
して７００ｎｍの可視光線を用いた。図４にはこの多層
光学薄膜の室温と１００℃での分光透過率を表示した。
多層光学薄膜 ＢＫの基板（設計主波長での屈折率１.５２）上に、表
４に記載した物質を順次真空蒸着して積層し、その最表
面層であるＺｒＯ2＋ＴｉＯ2膜層の更に外側に、即ち第
１層としてＡｌ2Ｏ3層を真空蒸着して、全２８層の薄膜
からなる多層光学薄膜を製造した。各層を構成する物質
の設計主波長に対する屈折率（ｎ）、膜厚（ｄ）および
光学的膜厚（ｎｄ）も表４に示した。設計主波長λ0と
して７００ｎｍの可視光線を用いた。図４にはこの多層
光学薄膜の室温と１００℃での分光透過率を表示した。
【００１８】
【表４】
【００１９】比較例 １ 表５に示すように、ＢＫ７の基板（設計主波長での屈折
率１.５２）上に、基板に接してＳｉＯ2層を真空蒸着
し、次いで順次ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2層とＳｉＯ2層とを交
互に真空蒸着して空気側の最上層をＺｒＯ2＋ＴｉＯ2層
とする全２８層の多層光学薄膜を製造した。各層を構成
する物質の設計主波長に対する屈折率（ｎ）、膜厚
（ｄ）および光学的膜厚（ｎｄ）も表５に示した。設計
主波長λ0として７００ｎｍの可視光線を用いた。図５
にはこの多層光学薄膜の室温と１００℃での分光透過率
を表示した。
率１.５２）上に、基板に接してＳｉＯ2層を真空蒸着
し、次いで順次ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2層とＳｉＯ2層とを交
互に真空蒸着して空気側の最上層をＺｒＯ2＋ＴｉＯ2層
とする全２８層の多層光学薄膜を製造した。各層を構成
する物質の設計主波長に対する屈折率（ｎ）、膜厚
（ｄ）および光学的膜厚（ｎｄ）も表５に示した。設計
主波長λ0として７００ｎｍの可視光線を用いた。図５
にはこの多層光学薄膜の室温と１００℃での分光透過率
を表示した。
【００２０】
【表５】
【００２１】比較例 ２ ＢＫ７の基板（設計主波長での屈折率１.５２）上に、
基板に接してＺｒＯ2＋ＴｉＯ2層を真空蒸着し、次いで
順次ＳｉＯ2層とＺｒＯ2＋ＴｉＯ2層とを交互に真空蒸
着して空気側の最上層をＳｉＯ2層とする全２８層の多
層光学薄膜を製造した。ただし表６に示すように第１１
層はＳｉＯ2層の代わりにＭｇＦ2層とした。各層を構成
する物質の設計主波長に対する屈折率（ｎ）、膜厚
（ｄ）および光学的膜厚（ｎｄ）も表６に示した。設計
主波長λ0として７００ｎｍの可視光線を用いた。図６
にはこの多層光学薄膜の室温と１００℃での分光透過率
を表示した。
基板に接してＺｒＯ2＋ＴｉＯ2層を真空蒸着し、次いで
順次ＳｉＯ2層とＺｒＯ2＋ＴｉＯ2層とを交互に真空蒸
着して空気側の最上層をＳｉＯ2層とする全２８層の多
層光学薄膜を製造した。ただし表６に示すように第１１
層はＳｉＯ2層の代わりにＭｇＦ2層とした。各層を構成
する物質の設計主波長に対する屈折率（ｎ）、膜厚
（ｄ）および光学的膜厚（ｎｄ）も表６に示した。設計
主波長λ0として７００ｎｍの可視光線を用いた。図６
にはこの多層光学薄膜の室温と１００℃での分光透過率
を表示した。
【００２２】
【表６】
【００２３】
【発明の効果】本発明の多層光学薄膜は高温環境でも波
長シフトが実質的に認められず、優れた光学特性を有す
る。この特性のため照明等の光源近傍で使用することを
要するコンパクトな光学装置での使用が可能である。
長シフトが実質的に認められず、優れた光学特性を有す
る。この特性のため照明等の光源近傍で使用することを
要するコンパクトな光学装置での使用が可能である。
【図１】 本発明の多層光学薄膜の分光透過率スペクト
ル。
ル。
【図２】 本発明の別の多層光学薄膜の分光透過率スペ
クトル。
クトル。
【図３】 本発明の更に別の多層光学薄膜の分光透過率
スペクトル。
スペクトル。
【図４】 本発明のもうひとつの多層光学薄膜の分光透
過率スペクトル。
過率スペクトル。
【図５】 ＭｇＦ2層もＡｌ2Ｏ3層も含まない多層光学
薄膜の分光透過率スペクトル。
薄膜の分光透過率スペクトル。
【図６】 ＭｇＦ2層を第１１層として用いた多層光学
薄膜の分光透過率スペクトル。
薄膜の分光透過率スペクトル。
１：室温時のスペクトル（実線） ２：１００℃加熱時のスペクトル（点線）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川西 智也 大阪府大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪国際ビル ミノルタ株式会社内 Ｆターム(参考） 2H048 GA04 GA12 GA18 GA19 GA36 GA46 GA51 4K029 BA42 BA44 BA46 BA50 BB02 BC07 BD00
Claims (2)
- 【請求項１】 高屈折率膜層ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2と低屈折
率膜層ＳｉＯ2とを交互に積層してなる多層光学薄膜に
おいて、空気側から数えて５層目以内のＳｉＯ2層の少
なくとも１層をＭｇＦ2層で置換したことを特徴とする
多層光学薄膜。 - 【請求項２】 高屈折率膜層ＺｒＯ2＋ＴｉＯ2と低屈折
率膜層ＳｉＯ2とを交互に積層してなる多層光学薄膜に
おいて、空気側から数えて５層目以内のＳｉＯ2層の少
なくとも１層をＡｌ2Ｏ3層で置換したことを特徴とする
多層光学薄膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000219175A JP2002040236A (ja) | 2000-07-19 | 2000-07-19 | 多層光学薄膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000219175A JP2002040236A (ja) | 2000-07-19 | 2000-07-19 | 多層光学薄膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002040236A true JP2002040236A (ja) | 2002-02-06 |
Family
ID=18714002
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000219175A Pending JP2002040236A (ja) | 2000-07-19 | 2000-07-19 | 多層光学薄膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002040236A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007079349A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Toray Ind Inc | 光学フィルタ |
| JP2011158909A (ja) * | 2011-03-02 | 2011-08-18 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 光学多層膜フィルタ |
-
2000
- 2000-07-19 JP JP2000219175A patent/JP2002040236A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007079349A (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Toray Ind Inc | 光学フィルタ |
| JP2011158909A (ja) * | 2011-03-02 | 2011-08-18 | Nippon Dempa Kogyo Co Ltd | 光学多層膜フィルタ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4178190B2 (ja) | 多層膜を有する光学素子およびその製造方法 | |
| JP4434491B2 (ja) | 電気ランプ | |
| JP2004317701A (ja) | 多層膜光フィルタ及び光学部品 | |
| JP4623349B2 (ja) | 薄膜型ｎｄフィルタおよびその製造方法 | |
| JP5883505B2 (ja) | 光学素子 | |
| JP2006317603A (ja) | 表面鏡 | |
| JP5141894B2 (ja) | 誘電体多層膜ミラーとその製造方法 | |
| JP7493918B2 (ja) | 反射防止膜付き光学部材及びその製造方法 | |
| CN116819661A (zh) | 一种光谱特性可变的光学薄膜及其光谱特性的调节方法 | |
| JPS6273202A (ja) | 光学薄膜の製造方法 | |
| JP2003098340A (ja) | 光学多層干渉膜とその製造方法および光学多層干渉膜を用いたフィルター | |
| JP3243474B2 (ja) | 多層膜バンドパスフィルタの製造方法及び波長シフト温度係数値が略ゼロの多層膜バンドパスフィルタ | |
| JPH07209516A (ja) | 光学多層膜フィルタ | |
| JP2002040236A (ja) | 多層光学薄膜 | |
| JP2566634B2 (ja) | 多層反射防止膜 | |
| JPS6222121B2 (ja) | ||
| JP2003149404A (ja) | 光学薄膜およびその製造方法、及び光学薄膜による光学素子、光学系、該光学系を備える撮像装置、記録装置、露光装置 | |
| JP2000171607A (ja) | 高緻密な多層薄膜およびその成膜方法 | |
| JP2001215325A (ja) | 狭帯域光フィルタおよびその製造方法 | |
| JP2003302521A (ja) | 光学多層膜フィルタ | |
| JP2007041194A (ja) | 反射防止膜及び光学素子 | |
| JPH0667018A (ja) | 薄膜光フィルターの製法 | |
| JPS62143002A (ja) | 誘電体多層膜無反射コ−テイング | |
| JP2002040237A (ja) | 多層光学薄膜 | |
| CN102187254A (zh) | 用于节能灯的高折射率材料 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20050615 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050622 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050921 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20051025 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20051025 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080826 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081016 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081111 |