JP2002039899A - Package for pressure detection apparatus - Google Patents

Package for pressure detection apparatus

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JP2002039899A
JP2002039899A JP2000225794A JP2000225794A JP2002039899A JP 2002039899 A JP2002039899 A JP 2002039899A JP 2000225794 A JP2000225794 A JP 2000225794A JP 2000225794 A JP2000225794 A JP 2000225794A JP 2002039899 A JP2002039899 A JP 2002039899A
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JP
Japan
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electrode
metal plate
semiconductor element
capacitance
pressure
Prior art date
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Application number
JP2000225794A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Kinomura
浩司 木野村
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a small, high-sensitivity pressure detection apparatus capable of accurately detecting variation in external pressure. SOLUTION: In this package for the pressure detection apparatus, an electrode 7 for forming an electrostatic capacity and a frame 1c surrounding it are provided on one principal surface of an insulating base 1 having a semiconductor device 3 mounted on the other principal surface, and a metallic plate 2 for forming an electrostatic capacity is mounted on the frame 1c, with the center portion of the metallic plate opposed to the electrode 7 and the outer periphery of the metallic plate soldered onto the frame 1c. A protrusion 2a for preventing overflowing of solder is formed between the soldered outer periphery of the inner surface of the metallic plate 2 and the center portion of the metallic plate opposed to the electrode 7.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、圧力を検出するた
めの圧力検出装置に使用される圧力検出装置用パッケー
ジに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pressure detecting device package used for a pressure detecting device for detecting pressure.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、圧力を検出するための圧力検出装
置として静電容量型の圧力検出装置が知られている。こ
の静電容量型の圧力検出装置は、例えば図3に断面図で
示すように、セラミックス材料や樹脂材料から成る配線
基板21上に、静電容量型の感圧素子22と、パッケージ27
に収容された演算用の半導体素子28とを備えている。感
圧素子22は、例えばセラミックス材料等の電気絶縁材料
から成り、上面中央部に静電容量形成用の一方の電極23
が被着された凹部を有する絶縁基体24と、この絶縁基体
24の上面に絶縁基体24との間に密閉空間を形成するよう
にして可撓な状態で接合され、静電容量形成用の他方の
電極として機能する金属板25と、各静電容量形成用の電
極23および金属板25をそれぞれ外部に電気的に接続する
ための外部リード端子26とから構成されており、外部の
圧力に応じて金属板25が撓むことにより各静電容量形成
用の電極23と金属板25との間に形成される静電容量が変
化する。そして、この静電容量の変化を演算用の半導体
素子28により演算処理することにより外部の圧力を検出
することができる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a capacitance type pressure detecting device has been known as a pressure detecting device for detecting pressure. As shown in a sectional view of FIG. 3, for example, a capacitance type pressure sensing element 22 and a package 27 are provided on a wiring board 21 made of a ceramic material or a resin material.
And a semiconductor element for operation 28 housed in the computer. The pressure-sensitive element 22 is made of, for example, an electrically insulating material such as a ceramic material.
An insulating substrate 24 having a concave portion with
A metal plate 25 which is joined in a flexible state on the upper surface of the insulating substrate 24 so as to form a sealed space between the insulating substrate 24 and functions as the other electrode for forming a capacitance, And an external lead terminal 26 for electrically connecting the electrode 23 and the metal plate 25 to the outside, respectively, and the metal plate 25 is bent in response to an external pressure to form each capacitance. The capacitance formed between the electrode 23 and the metal plate 25 changes. The change in the capacitance is subjected to arithmetic processing by the arithmetic semiconductor element 28, whereby the external pressure can be detected.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の圧力検出装置によると、感圧素子22と半導体素子28
とを配線基板21上に個別に実装していることから、圧力
検出装置が大型化してしまうとともに圧力検出用の電極
23・25と半導体素子28との間の配線が長いものとなり、
この長い配線間に不要な静電容量が形成されるため感度
が低いという問題点を有していた。
However, according to this conventional pressure detecting device, the pressure-sensitive element 22 and the semiconductor element 28
Are individually mounted on the wiring board 21, which increases the size of the pressure detecting device and the pressure detecting electrode.
The wiring between 23 and 25 and the semiconductor element 28 becomes longer,
There is a problem that the sensitivity is low because an unnecessary capacitance is formed between the long wires.

【0004】そこで、本願出願人は、先に特願2000-191
236において、一方の主面に半導体素子が搭載される搭
載部を有する絶縁基体と、この絶縁基体の表面および内
部に配設され、半導体素子の各電極が電気的に接続され
る複数の配線導体と、絶縁基体の他方の主面の中央部に
被着され、配線導体の一つに電気的に接続された静電容
量形成用の電極と、絶縁基体の他方の主面に、この主面
の中央部との間に密閉空間を形成するように可撓な状態
で接合され、配線導体の他の一つに電気的に接続された
静電容量形成用の金属板とを具備する圧力検出装置用パ
ッケージを提案した。この圧力検出装置用パッケージに
よると、一方の主面に半導体素子が搭載される搭載部を
有する絶縁基体の他方の主面に静電容量形成用の電極を
設けるとともに、この電極と対向する静電容量形成用の
金属板を、絶縁基体の他方の主面との間に密閉空間を形
成するようにして可撓な状態で接合させたことから、半
導体素子を収容するパッケージに感圧素子が一体に形成
され、その結果、圧力検出装置を小型とすることができ
るとともに圧力検出用の電極と半導体素子とを接続する
配線を短いものとして、これらの配線間に発生する不要
な静電容量を小さなものとすることができる。なお、こ
の特願2000-191236で提案した圧力検出装置用パッケー
ジにおいては、絶縁基体の他方の主面の外周部にセラミ
ックスや金属から成る枠体をこの主面中央部の電極を取
り囲むようにして設けておき、この枠体上に金属板の外
周部を銀−銅ろう等のろう材を介してろう付けすること
により金属板が絶縁基体に接合されていた。
Accordingly, the applicant of the present application has previously filed Japanese Patent Application No. 2000-191.
236, an insulating substrate having a mounting portion on one main surface on which a semiconductor element is mounted, and a plurality of wiring conductors disposed on the surface and inside of the insulating substrate and electrically connected to respective electrodes of the semiconductor element. And an electrode for forming a capacitance which is attached to the center of the other main surface of the insulating base and is electrically connected to one of the wiring conductors; And a metal plate for forming a capacitance, which is joined in a flexible state so as to form a sealed space between the wiring conductor and a central portion of the wiring conductor, and which is electrically connected to another one of the wiring conductors. A device package was proposed. According to this pressure detecting device package, an electrode for forming a capacitance is provided on the other main surface of an insulating base having a mounting portion on which a semiconductor element is mounted on one main surface, and an electrostatic capacitor facing the electrode is provided. Since the metal plate for forming the capacitor is joined in a flexible state so as to form a closed space between the other main surface of the insulating base, the pressure-sensitive element is integrated with the package containing the semiconductor element. As a result, it is possible to reduce the size of the pressure detecting device and to shorten the wiring connecting the electrode for pressure detection and the semiconductor element, thereby reducing unnecessary capacitance generated between these wirings. Things. In the package for a pressure detecting device proposed in Japanese Patent Application No. 2000-191236, a frame made of ceramics or metal is provided on the outer peripheral portion of the other main surface of the insulating base so as to surround the electrode at the central portion of the main surface. The metal plate was joined to the insulating base by brazing the outer periphery of the metal plate on the frame via a brazing material such as silver-copper braze.

【0005】しかしながら、この特願2000-191236で提
案した圧力検出装置用パッケージによると、セラミック
スや金属から成る枠体上に金属板の外周部を銀−銅ろう
等のろう材を介してろう付けする際に、ろう材の一部が
金属板の中央部に多量に流れ出してしまいやすく、この
ように多量に流れ出したろう材により絶縁基体の電極と
金属板との間に形成される静電容量が大きくばらついて
しまい、そのため外部の圧力を正確に検出することが困
難であるという問題点を有していた。
However, according to the pressure detecting device package proposed in Japanese Patent Application No. 2000-191236, the outer peripheral portion of a metal plate is brazed on a frame made of ceramics or metal via a brazing material such as silver-copper brazing material. When the brazing material is used, a large amount of the brazing material easily flows into the central portion of the metal plate, and the capacitance formed between the electrode of the insulating base and the metal plate due to such a large amount of the brazing material flowing out. There is a problem in that the pressure greatly varies, and it is difficult to accurately detect the external pressure.

【0006】本発明は、かかる上述の問題点に鑑み完成
されたものであり、その目的は、小型でかつ感度が高
く、しかも外部の圧力をばらつきなく正確に検出するこ
とが可能な圧力検出装置を提供することにある。
The present invention has been completed in view of the above-mentioned problems, and has as its object to provide a pressure detecting device which is small in size, has high sensitivity, and is capable of accurately detecting external pressure without variation. Is to provide.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の圧力検出装置用
パッケージは、一方の主面に半導体素子が搭載される搭
載部を有するとともに他方の主面の中央部に静電容量形
成用の電極が被着された絶縁基体と、絶縁基体の他方の
主面外周部に電極を囲繞するようにして接合された枠体
と、中央部が電極に対向するとともに外周部が枠体上に
ろう付けされ、絶縁基体との間に密閉空間を形成するよ
うに可撓な状態で取着された静電容量形成用の金属板と
から成る圧力検出装置用パッケージであって、金属板
は、その内側面のろう付けされた外周部と電極に対向す
る中央部との間にろう材流出防止用の突起が形成されて
いることを特徴とするものである。
A package for a pressure detecting device according to the present invention has a mounting portion on which a semiconductor element is mounted on one main surface and an electrode for forming a capacitance at the center of the other main surface. , A frame joined to the outer periphery of the other main surface of the insulation base so as to surround the electrode, and a center opposed to the electrode and an outer periphery brazed onto the frame. And a metal plate for forming a capacitance, which is attached in a flexible state so as to form a sealed space between the metal plate and the insulating substrate. A projection for preventing brazing material outflow is formed between a brazed outer peripheral portion of the side surface and a central portion facing the electrode.

【0008】本発明の圧力検出装置用パッケージによれ
ば、一方の主面に半導体素子が搭載される搭載部を有す
る絶縁基体の他方の主面の中央部に静電容量形成用の電
極を設けるとともに、この電極と対向する静電容量形成
用の金属板を、絶縁基体との間に密閉空間を形成するよ
うにして可撓な状態で接合させたことから、半導体素子
を収容するパッケージに感圧素子が一体に形成され、そ
の結果、圧力検出装置を小型とすることができるととも
に圧力検出用の電極と半導体素子とを接続する配線を短
いものとして、これらの配線間に発生する不要な静電容
量を小さなものとすることができる。さらに、金属板内
側面のろう付けされた外周部と電極に対向する中央部と
の間にろう材流出防止用の突起を形成したことから、金
属板と枠体とのろう付け時にろう材の一部が金属板の中
央部に流出することがろう材流出防止用の突起によって
良好に防止され、その結果、絶縁基体の電極と金属板と
の間に形成される静電容量にろう材流出によるばらつき
が発生することがない。
According to the pressure detecting device package of the present invention, an electrode for forming a capacitance is provided at the center of the other main surface of the insulating base having the mounting portion on which the semiconductor element is mounted on one main surface. At the same time, the metal plate for forming the capacitance facing the electrode is joined in a flexible state so as to form a sealed space between the electrode and the insulating base. The pressure element is formed integrally, so that the pressure detecting device can be reduced in size and the wiring connecting the electrode for pressure detection and the semiconductor element is shortened, and unnecessary static electricity generated between these wirings is reduced. The capacitance can be reduced. Furthermore, since a projection for preventing the brazing material from flowing out is formed between the brazed outer peripheral portion of the inner surface of the metal plate and the central portion facing the electrode, the brazing material is used when brazing the metal plate and the frame. A part of the brazing material is prevented from flowing out to the central part of the metal plate by the protrusion for preventing the brazing material from flowing out. As a result, the capacitance formed between the electrode of the insulating base and the metal plate causes the brazing material to flow out. Does not occur.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】次に、本発明を添付の図面を基に
詳細に説明する。図1は、本発明の圧力検出装置用パッ
ケージの実施の形態の一例を示す断面図であり、図中、
1は絶縁基体、2は金属板、3は半導体素子である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of an embodiment of a pressure detection device package according to the present invention.
1 is an insulating base, 2 is a metal plate, and 3 is a semiconductor element.

【0010】絶縁基体1は、酸化アルミニウム質焼結体
や窒化アルミニウム質焼結体・ムライト質焼結体・炭化
珪素質焼結体・窒化珪素質焼結体・ガラス−セラミック
ス等のセラミックス材料から成る積層体であり、例えば
酸化アルミニウム質焼結体から成る場合であれば、酸化
アルミニウム・酸化珪素・酸化マグネシウム・酸化カル
シウム等のセラミック原料粉末に適当な有機バインダ・
溶剤・可塑剤・分散剤を添加混合して泥漿状となすとと
もにこれを従来周知のドクタブレード法を採用してシー
ト状に成形することにより複数枚のセラミックグリーン
シートを得、しかる後、これらのセラミックグリーンシ
ートに適当な打ち抜き加工・積層加工・切断加工を施す
ことにより絶縁基体1用の生セラミック成形体を得ると
ともにこの生セラミック成形体を約1600℃の温度で焼成
することにより製作される。
The insulating substrate 1 is made of a ceramic material such as a sintered body of aluminum oxide, a sintered body of aluminum nitride, a sintered body of mullite, a sintered body of silicon carbide, a sintered body of silicon nitride, and glass-ceramics. For example, in the case of an aluminum oxide sintered body, an organic binder suitable for ceramic raw material powder such as aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, calcium oxide, etc.
A solvent, a plasticizer, and a dispersant are added and mixed to form a slurry, and this is formed into a sheet by employing a conventionally known doctor blade method to obtain a plurality of ceramic green sheets. The green ceramic sheet is subjected to appropriate punching, laminating, and cutting to obtain a green ceramic molded body for the insulating substrate 1 and is fired at a temperature of about 1600 ° C. to produce the green ceramic molded body.

【0011】絶縁基体1は、その下面中央部に半導体素
子3を収容するための凹部1aが形成されており、これ
により半導体素子3を収容する容器として機能する。そ
して、この凹部1aの底面中央部が半導体素子3が搭載
される搭載部1bとなっており、この搭載部1bに半導
体素子3を搭載するとともに凹部1a内に例えばエポキ
シ樹脂等の樹脂製封止材4を充填することにより半導体
素子3が封止される。なお、この例では半導体素子3は
樹脂製封止材4を凹部1a内に充填することにより封止
されるが、半導体素子3は絶縁基体1の下面に金属やセ
ラミックスから成る蓋体を凹部1aを塞ぐように接合さ
せることにより封止されてもよい。
The insulating substrate 1 has a concave portion 1a for accommodating the semiconductor element 3 in the center of the lower surface thereof, and thereby functions as a container for accommodating the semiconductor element 3. The central portion of the bottom surface of the concave portion 1a is a mounting portion 1b on which the semiconductor element 3 is mounted. The semiconductor element 3 is mounted on the mounting portion 1b and a resin sealing such as an epoxy resin is formed in the concave portion 1a. The semiconductor element 3 is sealed by filling the material 4. In this example, the semiconductor element 3 is sealed by filling a resin sealing material 4 into the concave portion 1a. However, the semiconductor element 3 is provided with a lid made of metal or ceramic on the lower surface of the insulating base 1 in the concave portion 1a. It may be sealed by joining so as to close.

【0012】また、搭載部1bには半導体素子3の各電
極と接続される複数のメタライズ配線導体5が導出して
おり、このメタライズ配線導体5と半導体素子3の各電
極を半田バンプ6等の導電性材料から成る導電性接合部
材を介して接合することにより半導体素子3の各電極と
各メタライズ配線導体5とが電気的に接続されるととも
に半導体素子3が搭載部1bに固定される。なお、この
例では、半導体素子3の電極とメタライズ配線導体5と
は半田バンプ6を介して接続されるが、半導体素子3の
電極とメタライズ配線導体5とはボンディングワイヤ等
の他の種類の電気的接続手段により接続されてもよい。
A plurality of metallized wiring conductors 5 connected to the respective electrodes of the semiconductor element 3 are led out from the mounting portion 1b. The metallized wiring conductor 5 and the respective electrodes of the semiconductor element 3 are connected to the solder bumps 6 and the like. By bonding via a conductive bonding member made of a conductive material, each electrode of the semiconductor element 3 is electrically connected to each metallized wiring conductor 5, and the semiconductor element 3 is fixed to the mounting portion 1b. In this example, the electrodes of the semiconductor element 3 and the metallized wiring conductors 5 are connected via the solder bumps 6, but the electrodes of the semiconductor element 3 and the metallized wiring conductors 5 are connected to another type of electric wire such as a bonding wire. May be connected by a dynamic connection means.

【0013】メタライズ配線導体5は、半導体素子3の
各電極を外部電気回路および後述する電極7・金属板2
に電気的に接続するための導電路として機能し、その一
部は絶縁基体1の外周下面に導出し、別の一部は電極7
・金属板2に電気的に接続されている。そして、半導体
素子3の各電極をこれらのメタライズ配線導体5に導電
性接合材6を介して電気的に接続するとともに半導体素
子3を樹脂製封止材4で封止した後、メタライズ配線導
体5の絶縁基体1外周下面に導出した部位を外部電気回
路基板の配線導体に半田等の導電性接合材を介して接合
することにより、内部に収容する半導体素子3が外部電
気回路に電気的に接続されることとなる。
The metallized wiring conductor 5 is formed by connecting each electrode of the semiconductor element 3 to an external electric circuit and the electrode 7
Function as a conductive path for electrical connection to the electrode, a part of which is led out to the lower surface of the outer periphery of the insulating base 1, and another part is an electrode 7
-It is electrically connected to the metal plate 2. Then, each electrode of the semiconductor element 3 is electrically connected to the metallized wiring conductor 5 via a conductive bonding material 6 and the semiconductor element 3 is sealed with a resin sealing material 4. The semiconductor element 3 housed inside is electrically connected to the external electric circuit by joining the portion led out to the lower surface of the outer periphery of the insulating base 1 to the wiring conductor of the external electric circuit board via a conductive bonding material such as solder. Will be done.

【0014】このようなメタライズ配線導体5は、タン
グステンやモリブデン・銅・銀等の金属粉末メタライズ
から成り、タングステン等の金属粉末に適当な有機バイ
ンダ・溶剤・可塑剤・分散剤等を添加混合して得たメタ
ライズペーストを従来周知のスクリーン印刷法を採用し
て絶縁基体1用のセラミックグリーンシートに所定のパ
ターンに印刷塗布し、これを絶縁基体1用の生セラミッ
ク成形体とともに焼成することによって絶縁基体1の内
部および表面に所定のパターンに形成される。なお、メ
タライズ配線導体5の露出表面には、メタライズ配線導
体5が酸化腐食するのを防止するとともにメタライズ配
線導体5と半田等の導電性接合材との接合を良好なもの
とするために、通常であれば、厚みが1〜10μm程度の
ニッケルめっき層と厚みが0.1〜3μm程度の金めっき
層とが順次被着されている。
The metallized wiring conductor 5 is made of metal powder such as tungsten, molybdenum, copper, silver or the like, and is mixed with a metal powder such as tungsten by adding an appropriate organic binder, solvent, plasticizer, dispersant and the like. The metallized paste obtained as described above is applied to a ceramic green sheet for the insulating substrate 1 in a predetermined pattern by employing a conventionally known screen printing method, and is fired together with the green ceramic molded body for the insulating substrate 1 for insulation. A predetermined pattern is formed inside and on the surface of the base 1. In addition, in order to prevent the metallized wiring conductor 5 from being oxidized and corroded and to make the metallized wiring conductor 5 and a conductive bonding material such as solder good, the exposed surface of the metallized wiring conductor 5 is usually formed on the exposed surface. In this case, a nickel plating layer having a thickness of about 1 to 10 μm and a gold plating layer having a thickness of about 0.1 to 3 μm are sequentially applied.

【0015】また、絶縁基体1の上面外周部には絶縁基
体1と同一材料から成る高さが0.01〜5mm程度の枠体
1cが設けられており、それにより上面中央部に底面が
略平坦な凹部1dが形成されている。この凹部1dは、
後述するように、金属板2との間に密閉空間を形成する
ためのものであり、この凹部1dの底面には静電容量形
成用の電極7が被着されている。
A frame 1c made of the same material as the insulating substrate 1 and having a height of about 0.01 to 5 mm is provided on the outer peripheral portion of the upper surface of the insulating substrate 1, so that the bottom surface is substantially flat at the center of the upper surface. A recess 1d is formed. This recess 1d
As will be described later, this is for forming a closed space between the metal plate 2 and the bottom surface of the concave portion 1d. An electrode 7 for forming a capacitance is attached to the bottom surface of the concave portion 1d.

【0016】この電極7は、後述する金属板2とともに
感圧素子用の静電容量を形成するためのものであり、例
えば略円形のパターンに形成されている。そして、この
電極7にはメタライズ配線導体5の一つ5aが接続され
ており、それによりこのメタライズ配線導体5aに半導
体素子3の電極を半田バンプ6等の導電性接合材を介し
て接続すると半導体素子3の電極と電極7とが電気的に
接続されるようになっている。
The electrode 7 is for forming a capacitance for a pressure-sensitive element together with a metal plate 2 described later, and is formed, for example, in a substantially circular pattern. The electrode 7 is connected to one of the metallized wiring conductors 5a. When the electrode of the semiconductor element 3 is connected to the metallized wiring conductor 5a via a conductive bonding material such as a solder bump 6, a semiconductor is formed. The electrode of the element 3 and the electrode 7 are electrically connected.

【0017】このような電極7は、タングステンやモリ
ブデン・銅・銀等の金属粉末メタライズから成り、タン
グステン等の金属粉末に適当な有機バインダ・溶剤・可
塑剤・分散剤を添加混合して得たメタライズペーストを
従来周知のスクリーン印刷法を採用して絶縁基体1用の
セラミックグリーンシートに印刷塗布し、これを絶縁基
体1用の生セラミック成形体とともに焼成することによ
って絶縁基体1の凹部1d底面に所定のパターンに形成
される。なお、電極7の露出表面には、電極7が酸化腐
食するのを防止するために、通常であれば、厚みが1〜
10μm程度のニッケルめっき層が被着されている。
Such an electrode 7 is made of metallized metal powder such as tungsten, molybdenum, copper, silver, etc., and is obtained by adding a suitable organic binder, solvent, plasticizer, dispersant to metal powder such as tungsten. The metallized paste is printed and applied on a ceramic green sheet for the insulating substrate 1 by employing a conventionally known screen printing method, and is fired together with the green ceramic molded body for the insulating substrate 1 so that the metallized paste is formed on the bottom surface of the concave portion 1d of the insulating substrate 1. It is formed in a predetermined pattern. The thickness of the exposed surface of the electrode 7 is usually 1 to 1 in order to prevent the electrode 7 from being oxidized and corroded.
A nickel plating layer of about 10 μm is applied.

【0018】また、絶縁基体1の枠体1cの上面にはそ
の全周にわたり枠状の接合用メタライズ層8が被着され
ており、この接合用メタライズ層8には、金属板2が銀
−銅ろう材等のろう材を介してろう付けすることにより
取着されている。
A frame-shaped joining metallization layer 8 is attached to the entire upper surface of the frame body 1c of the insulating base 1, and the metal plate 2 is made of silver-metal. It is attached by brazing through a brazing material such as a copper brazing material.

【0019】この接合用メタライズ層8にはメタライズ
配線導体5の一つ5bが接続されており、それによりこ
のメタライズ配線導体5bに半導体素子3の電極を半田
バンプ6等の導電性接合材を介して電気的に接続すると
接合用メタライズ層8に接続された金属板2と半導体素
子3の電極とが電気的に接続されるようになっている。
One of the metallized wiring conductors 5b is connected to the bonding metallized layer 8 so that the electrode of the semiconductor element 3 is connected to the metallized wiring conductor 5b via a conductive bonding material such as a solder bump 6. When the electrodes are electrically connected to each other, the metal plate 2 connected to the bonding metallization layer 8 and the electrode of the semiconductor element 3 are electrically connected.

【0020】接合用メタライズ層8は、タングステンや
モリブデン・銅・銀等の金属粉末メタライズから成り、
タングステン等の金属粉末に適当な有機バインダ・溶剤
・可塑剤・分散剤を添加混合して得たメタライズペース
トを従来周知のスクリーン印刷法を採用して絶縁基体1
用のセラミックグリーンシートに印刷塗布し、これを絶
縁基体1用の生セラミック成形体とともに焼成すること
によって絶縁基体1の枠体1c上面に枠状の所定のパタ
ーンに形成される。なお、接合用メタライズ層8の露出
表面には、接合用メタライズ層8が酸化腐食するのを防
止するとともに接合用メタライズ層8とろう材との接合
を強固なものとするために、通常であれば、厚みが1〜
10μm程度のニッケルめっき層が被着されている。
The bonding metallization layer 8 is made of a metal powder metallization such as tungsten, molybdenum, copper, silver or the like.
A metallized paste obtained by adding a suitable organic binder, a solvent, a plasticizer, and a dispersant to a metal powder such as tungsten is mixed with an insulating substrate 1 by using a conventionally known screen printing method.
A ceramic green sheet for printing is applied and baked together with a green ceramic molded body for the insulating substrate 1 to form a predetermined frame-like pattern on the upper surface of the frame 1c of the insulating substrate 1. The exposed surface of the metallizing layer 8 for bonding is usually formed on the exposed surface of the metallizing layer 8 for bonding in order to prevent the metallizing layer 8 for bonding from being oxidized and corroded and to strengthen the bonding between the metallizing layer 8 for bonding and the brazing material. If the thickness is 1
A nickel plating layer of about 10 μm is applied.

【0021】また、絶縁基体1の上面に取着された金属
板2は、鉄−ニッケル−コバルト合金や鉄−ニッケル合
金等の金属から成る厚みが0.01〜5mm程度の略平板で
あり、外部の圧力に応じて絶縁基体1側に撓むいわゆる
圧力検出用のダイアフラムとして機能し、同時に前述の
電極7とともに感圧素子用の静電容量を形成するための
電極として機能する。
The metal plate 2 attached to the upper surface of the insulating substrate 1 is a substantially flat plate made of a metal such as an iron-nickel-cobalt alloy or an iron-nickel alloy and having a thickness of about 0.01 to 5 mm. It functions as a so-called pressure detecting diaphragm that bends toward the insulating substrate 1 in response to pressure, and at the same time functions as an electrode for forming a capacitance for a pressure-sensitive element together with the above-mentioned electrode 7.

【0022】なお、金属板2は、その厚みが0.01mm未
満では、その機械的強度が小さいものとなってしまうた
め、これに大きな外部圧力が印加された場合に破壊され
てしまう危険性が大きなものとなり、他方、5mmを超
えると、小さな圧力では撓みにくくなり、圧力検出用の
ダイアフラムとしては不適となってしまう。したがっ
て、金属板2の厚みは0.01〜5mmの範囲が好ましい。
If the thickness of the metal plate 2 is less than 0.01 mm, the mechanical strength of the metal plate 2 is small, and there is a great risk that the metal plate 2 will be broken when a large external pressure is applied thereto. On the other hand, if it exceeds 5 mm, it becomes difficult to bend under a small pressure, and it becomes unsuitable as a diaphragm for pressure detection. Therefore, the thickness of the metal plate 2 is preferably in the range of 0.01 to 5 mm.

【0023】このような金属板2は、例えば鉄−ニッケ
ル−コバルト合金や鉄−ニッケル合金のインゴットに圧
延加工を施して板状となすとともにこれに打ち抜き加工
を施すことによって所定の形状に製作される。なお、こ
のような金属板2は、打ち抜き加工後にバレル研磨加工
を施して不要なバリを除去しておくことが好ましい。ま
た、金属板2で外部に露出する表面には、この金属板2
が酸化腐食するのを防止するために、通常であれば、厚
みが1〜10μm程度のニッケルめっき層および厚みが0.
1〜3μm程度の金めっき層が順次被着されている。
Such a metal plate 2 is manufactured into a predetermined shape by, for example, rolling an ingot of an iron-nickel-cobalt alloy or an iron-nickel alloy into a plate shape and performing punching. You. It is preferable that such a metal plate 2 is subjected to barrel polishing after punching to remove unnecessary burrs. The surface of the metal plate 2 exposed to the outside is
In order to prevent oxidative corrosion, the nickel plating layer having a thickness of about 1 to 10 μm and a thickness of about 0.
A gold plating layer of about 1 to 3 μm is sequentially applied.

【0024】この金属板2と接合用メタライズ層8とは
銀−銅ろう材等のろう材を介して接合されており、それ
により、絶縁基体1上面と金属板2下面との間に密閉空
間が形成されるとともに接合用メタライズ層8と金属板
2とが電気的に接続される。
The metal plate 2 and the metallizing layer 8 for bonding are bonded via a brazing material such as a silver-copper brazing material, so that a closed space is formed between the upper surface of the insulating base 1 and the lower surface of the metal plate 2. Is formed, and the bonding metallized layer 8 and the metal plate 2 are electrically connected.

【0025】このとき、電極7と金属板2とは、絶縁基
体1と金属板2との間に形成された空間を挟んで対向し
ており、これらの間には、電極7や金属板2の面積およ
び電極7と金属板2との間隔に応じて所定の静電容量が
形成されている。そして、金属板2の上面に外部の圧力
が印加されると、その圧力に応じて金属板2が絶縁基体
1側に撓んで電極7と金属板2との間隔が変わり、それ
により電極7と金属板2との間の静電容量が変化するの
で、外部の圧力の変化を静電容量の変化として感知する
感圧素子として機能する。そして、この静電容量の変化
を凹部1a内に収容した半導体素子3にメタライズ配線
導体5a・5bを介して伝達し、これを半導体素子3で
演算処理することによって外部の圧力の大きさを知るこ
とができる。
At this time, the electrode 7 and the metal plate 2 are opposed to each other with a space formed between the insulating base 1 and the metal plate 2 therebetween. A predetermined capacitance is formed in accordance with the area of the electrode 7 and the distance between the electrode 7 and the metal plate 2. When an external pressure is applied to the upper surface of the metal plate 2, the metal plate 2 bends toward the insulating base 1 according to the pressure, and the distance between the electrode 7 and the metal plate 2 changes. Since the capacitance with the metal plate 2 changes, it functions as a pressure-sensitive element that senses a change in external pressure as a change in capacitance. Then, the change of the capacitance is transmitted to the semiconductor element 3 housed in the recess 1a via the metallized wiring conductors 5a and 5b, and the magnitude of the external pressure is known by performing arithmetic processing on the semiconductor element 3. be able to.

【0026】このように、本発明の圧力検出装置用パッ
ケージによれば、一方の主面に半導体素子3が搭載され
る絶縁基体1の他方の主面に、静電容量形成用の電極7
を設けるとともにこの電極7に対向する静電容量形成用
の金属板2を絶縁基体1との間に密閉空間を形成するよ
うに可撓な状態で接合させたことから、半導体素子3を
収容する容器と感圧素子とが一体となり、その結果、圧
力検出装置を小型化することができる。また、静電容量
形成用の電極7および金属板2を、絶縁基体1に設けた
メタライズ配線導体5a・5bを介して半導体素子3に
接続することから、電極7および金属板2を短い距離で
半導体素子3に接続することができ、その結果、これら
のメタライズ配線導体5a・5b間に発生する不要な静
電容量を小さなものとして感度の高い圧力検出装置を提
供することができる。
As described above, according to the pressure detecting device package of the present invention, the electrode 7 for forming the capacitance is provided on the other main surface of the insulating base 1 on which the semiconductor element 3 is mounted on one main surface.
And the metal plate 2 for forming the capacitance facing the electrode 7 is joined in a flexible state so as to form a sealed space between the metal substrate 2 and the insulating base 1, so that the semiconductor element 3 is accommodated. The container and the pressure-sensitive element are integrated, and as a result, the pressure detection device can be reduced in size. Further, since the electrode 7 for forming the capacitance and the metal plate 2 are connected to the semiconductor element 3 via the metallized wiring conductors 5a and 5b provided on the insulating base 1, the electrode 7 and the metal plate 2 can be connected at a short distance. It can be connected to the semiconductor element 3, and as a result, it is possible to provide a highly sensitive pressure detecting device with a small unnecessary capacitance generated between the metallized wiring conductors 5a and 5b.

【0027】なお、電極7と金属板2との間隔が1気圧
中において0.01mm未満の場合、金属板2に大きな圧力
が印加された際に、電極7と金属板2とが接触して圧力
を検出することができなくなってしまう危険性があり、
他方、5mmを超えると、電極7と金属板2との間に形
成される静電容量が小さなものとなり、圧力を検出する
感度が低いものとなる傾向にある。したがって、電極7
と金属板2との間隔は、1気圧中において0.01〜5mm
の範囲が好ましい。
When the distance between the electrode 7 and the metal plate 2 is less than 0.01 mm at 1 atm, when a large pressure is applied to the metal plate 2, the electrode 7 comes into contact with the metal plate 2 and the pressure is reduced. Risk of not being able to detect
On the other hand, if it exceeds 5 mm, the capacitance formed between the electrode 7 and the metal plate 2 becomes small, and the sensitivity for detecting pressure tends to be low. Therefore, the electrode 7
The distance between the metal plate 2 and 0.01 to 5 mm in one atmosphere
Is preferable.

【0028】さらに、金属板2の内側面には、接合用メ
タライズ層8にろう付けされた外周部と電極7に対向す
る中央部との間にろう材流出防止用の枠状の突起2aが
形成されている。このろう材流出防止用の突起2aは、
金属板2の外周部を枠体1c上にろう付けする際に、ろ
う材の一部が金属板2の中央部に流出するのを防止する
ための障壁として機能し、金属板2の表面にエッチング
加工や研削加工を施すことによって形成される。そし
て、枠体1c上面に金属板2の外周部をろう付けする
際、この突起2aがろう材の流出を防止するダムとして
機能することにより金属板2の中央部へのろう材の流出
が有効に防止される。したがって、本発明の圧力検出装
置用パッケージにおいては、金属板2の中央部にろう材
の流出がなく、電極7と金属板2との間の静電容量がろ
う材の流出に起因して大きくばらつくことはない。
Further, on the inner surface of the metal plate 2, a frame-shaped projection 2a for preventing the outflow of the brazing material is provided between the outer peripheral portion brazed to the joining metallized layer 8 and the central portion facing the electrode 7. Is formed. The projections 2a for preventing the brazing material from flowing out include:
When the outer peripheral portion of the metal plate 2 is brazed onto the frame 1c, it functions as a barrier for preventing a part of the brazing material from flowing to the central portion of the metal plate 2; It is formed by performing an etching process or a grinding process. When the outer peripheral portion of the metal plate 2 is brazed to the upper surface of the frame 1c, the protrusion 2a functions as a dam for preventing the outflow of the brazing material, so that the outflow of the brazing material to the central portion of the metal plate 2 is effective. Is prevented. Therefore, in the pressure detecting device package of the present invention, there is no outflow of the brazing material at the center of the metal plate 2, and the capacitance between the electrode 7 and the metal plate 2 is large due to the outflow of the brazing material. There is no variation.

【0029】なお、ろう材流出防止用の突起2aは、そ
の高さが0.1mm未満では、枠体1c上面に金属板2の
外周部をろう付けする際、ろう材が金属板2の中央部に
流出することを防止することができなくなる恐れがあ
り、他方、2mmを超えると、電極7と金属板2との間
に形成される静電容量が突起部2aの近傍に大きく集中
して形成されるため金属板2の中央部が外部の圧力によ
り大きく変位したとしても静電容量の変化の割合が小さ
くなり圧力検出装置の感度が低いものとなる危険性が大
きくなる。したがって、突起2aの高さは、0.1〜2m
mの範囲が好ましい。また、突起2aは、その幅が0.1
mm未満では、枠体1c上面に金属板2の外周部をろう
付けする際、ろう材が金属板2の中央部に流出すること
を防止することができなくなる恐れがあり、他方2mm
を超えると金属板2の良好な撓みを阻害する危険性が大
きくなる。したがって突起2aの幅は、0.1〜2mmの
範囲であることが好ましい。
If the height of the projections 2a for preventing the brazing material from flowing out is less than 0.1 mm, the brazing material is applied to the central portion of the metal plate 2 when the outer peripheral portion of the metal plate 2 is brazed to the upper surface of the frame 1c. If the distance exceeds 2 mm, the capacitance formed between the electrode 7 and the metal plate 2 is concentrated on the vicinity of the protrusion 2a. Therefore, even if the central portion of the metal plate 2 is greatly displaced by an external pressure, the rate of change of the capacitance is reduced, and the risk of the sensitivity of the pressure detecting device being lowered is increased. Therefore, the height of the projection 2a is 0.1 to 2 m.
The range of m is preferred. The protrusion 2a has a width of 0.1.
If it is less than 2 mm, when the outer peripheral portion of the metal plate 2 is brazed to the upper surface of the frame 1c, it may not be possible to prevent the brazing material from flowing out to the central portion of the metal plate 2;
If it exceeds, the risk of inhibiting good bending of the metal plate 2 increases. Therefore, the width of the protrusion 2a is preferably in the range of 0.1 to 2 mm.

【0030】また、絶縁基体1の枠体1c上に金属板2
を接合するには、枠体1c上の接合用メタライズ層8の
表面に予め1〜10μmの厚みのニッケルめっき層を被着
させておくとともに、接合用メタライズ層8と金属板2
との間に厚みが10〜200μm程度の銀−銅ろうから成る
ろう材箔を挟んで絶縁基体1と金属板2とを重ね合わ
せ、これらを還元雰囲気中、約850℃の温度に加熱して
ろう材箔を溶融させて接合用メタライズ層8と金属板2
の外周部とをろう付けする方法が採用される。このと
き、金属板2の内側表面にはろう付けされる外周部と中
央部との間にろう材流出防止用の突起2aが形成されて
いることから、ろう材が金属板2の中央部に流出するこ
とが突起2aによって良好に防止される。
The metal plate 2 is placed on the frame 1c of the insulating base 1.
In order to join the metallized layer 2 and the metal plate 2, a nickel plating layer having a thickness of 1 to 10 μm is previously applied to the surface of the metallized layer 8 for joining on the frame 1 c.
The insulating base 1 and the metal plate 2 are overlapped with a brazing material foil made of silver-copper brazing having a thickness of about 10 to 200 μm therebetween, and these are heated to a temperature of about 850 ° C. in a reducing atmosphere. The brazing material foil is melted to form the metallized layer 8 for joining and the metal plate 2.
The method of brazing with the outer peripheral part of this is adopted. At this time, since the projection 2a for preventing the outflow of the brazing material is formed between the outer peripheral portion to be brazed and the central portion on the inner surface of the metal plate 2, the brazing material is The outflow is well prevented by the projections 2a.

【0031】かくして、上述の圧力検出装置用パッケー
ジによれば、搭載部1bに半導体素子3を搭載するとと
もに半導体素子3の各電極とメタライズ配線導体5とを
電気的に接続し、しかる後、半導体素子3を封止するこ
とによって小型でかつ感度が高く、しかも外部の圧力を
ばらつきなく正確に検出することが可能な圧力検出装置
となる。
Thus, according to the above-described package for a pressure detecting device, the semiconductor element 3 is mounted on the mounting portion 1b, and each electrode of the semiconductor element 3 and the metallized wiring conductor 5 are electrically connected. By sealing the element 3, a pressure detecting device which is small in size, has high sensitivity, and is capable of accurately detecting external pressure without variation.

【0032】なお、本発明は、上述の実施の形態の一例
に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない
範囲であれば種々の変更は可能である。例えば上述の実
施の形態の一例では、絶縁基体1の上面外周部に絶縁基
体1と同じセラミックスから成る枠体1cを設け、この
枠体1c上に金属板2を接合することにより絶縁基体1
上面と金属板2との間に密閉空間を設けるようにした
が、本発明は図2に断面図で示すように、絶縁基体1の
上面外周部に例えば鉄−ニッケル−コバルト合金や鉄−
ニッケル合金等の金属から成る金属枠体9を銀−銅ろう
等のろう材を介して接合させておき、この金属枠体9上
に金属板2の外周部を銀−銅ろう等のろう材を介して接
合させることにより絶縁基体1と金属板2との間に密閉
空間を設けるようにしてもよい。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, in one example of the above-described embodiment, a frame 1c made of the same ceramics as the insulating base 1 is provided on the outer peripheral portion of the upper surface of the insulating base 1, and a metal plate 2 is bonded onto the frame 1c to form the insulating base 1
Although a closed space is provided between the upper surface and the metal plate 2, the present invention, as shown in a sectional view in FIG.
A metal frame 9 made of a metal such as a nickel alloy is joined via a brazing material such as silver-copper brazing, and an outer peripheral portion of the metal plate 2 is formed on the metal frame 9 by a brazing material such as silver-copper brazing. A sealed space may be provided between the insulating base 1 and the metal plate 2 by joining via a hole.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上、説明したように、本発明の圧力検
出装置用パッケージによれば、一方の主面に半導体素子
が搭載される絶縁基体の他方の主面に静電容量形成用の
電極を設けるとともに、この電極と対向する静電容量形
成用の金属板を絶縁基体との間に密閉空間を形成するよ
うに可撓な状態で接合させたことから、半導体素子を収
容する容器と感圧素子とが一体となり、その結果、圧力
検出装置を小型とすることができるとともに圧力検出用
の電極と半導体素子とを接続する配線を短いものとし
て、これらの配線間に発生する不要な静電容量を小さな
ものとし、感度の高い圧力検出装置を提供することがで
きる。さらに、金属板の内側面のろう付けされた外周部
と電極に対向する中央部との間にろう材流出防止用の突
起を形成したことから、金属板の外周部と枠体とのろう
付け時にろう材の一部が金属板の中央部に流出すること
がろう材流出防止用の突起によって良好に防止され、そ
の結果、絶縁基体の電極と金属板との間に形成される静
電容量にろう材流出によるばらつきが発生することがな
く、外部の圧力をばらつきなく正確に検出することが可
能な圧力検出装置を提供することができる。
As described above, according to the pressure detecting device package of the present invention, the capacitance forming electrode is formed on the other main surface of the insulating base on which the semiconductor element is mounted on one main surface. And a metal plate for forming a capacitance facing the electrode is bonded in a flexible state so as to form a sealed space between the electrode and the insulating base. As a result, the pressure detecting device can be made compact, the size of the pressure detecting device can be reduced, and the wiring connecting the pressure detecting electrode and the semiconductor element can be shortened to reduce unnecessary static electricity generated between these wirings. It is possible to provide a pressure detection device having a small capacity and high sensitivity. Furthermore, since a projection for preventing the outflow of brazing material is formed between the brazed outer peripheral portion of the inner surface of the metal plate and the central portion facing the electrode, brazing between the outer peripheral portion of the metal plate and the frame body is performed. Occasionally, a part of the brazing material is prevented from flowing out to the central portion of the metal plate by the protrusion for preventing the brazing material from flowing out, and as a result, the capacitance formed between the electrode of the insulating base and the metal plate is reduced. Therefore, it is possible to provide a pressure detecting device capable of accurately detecting an external pressure without variation without causing variation due to brazing material outflow.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の圧力検出装置用パッケージの実施の形
態の一例を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an embodiment of a package for a pressure detecting device according to the present invention.

【図2】本発明の圧力検出装置用パッケージの実施の形
態の他の例を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the embodiment of the pressure detection device package according to the present invention.

【図3】従来の圧力検出装置を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing a conventional pressure detecting device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・・・絶縁基体 2・・・・・金属板 2a・・・・ろう材流出防止用の突起 3・・・・・半導体素子 7・・・・・電極 1 Insulating base 2 Metal plate 2a Protrusion for preventing brazing material from flowing out 3 Semiconductor element 7 Electrode

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一方の主面に半導体素子が搭載される搭
載部を有するとともに他方の主面の中央部に静電容量形
成用の電極が被着された絶縁基体と、該絶縁基体の前記
他方の主面外周部に前記電極を囲繞するようにして接合
された枠体と、中央部が前記電極と対向するとともに外
周部が前記枠体上にろう付けされ、前記絶縁基体との間
に密閉空間を形成するように可撓な状態で取着された静
電容量形成用の金属板とから成る圧力検出装置用パッケ
ージであって、前記金属板は、その内側面の前記ろう付
けされた外周部と前記電極に対向する中央部との間にろ
う材流出防止用の突起が形成されていることを特徴とす
る圧力検出装置用パッケージ。
An insulating substrate having a mounting portion on one of the main surfaces on which a semiconductor element is mounted and an electrode for forming a capacitance formed on a central portion of the other main surface; A frame joined to the outer peripheral portion of the other main surface so as to surround the electrode, and a central portion is opposed to the electrode and an outer peripheral portion is brazed on the frame, between the insulating base. A package for a pressure detecting device, comprising: a metal plate for forming a capacitance, which is attached in a flexible state so as to form an enclosed space, wherein the metal plate is provided with the brazed inner surface thereof. A projection for a brazing filler metal is formed between an outer peripheral portion and a central portion facing the electrode, and a package for a pressure detecting device is provided.
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