JP2002038196A - Cleaning liquid composition for optical part - Google Patents
Cleaning liquid composition for optical partInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光学部品に付着したワ
ックス、ピッチ、接着剤などを洗浄するために用いられ
る洗浄液組成物に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cleaning liquid composition used for cleaning wax, pitch, adhesive and the like attached to an optical component.
【０００２】[0002]
【従来の技術】レンズなどの光学部品の製造において
は、研磨のためにワックスやピッチが、また、仮止めの
ためなどにワックス、ピッチや接着剤が用いられてい
る。そのため、光学部品表面に付着したワックス、ピッ
チ、接着剤を除去するために、洗浄工程が必要となる。
従来、このような洗浄には、トリフロロトリクロロエタ
ンなどのフロン系溶剤あるいは１，１，１−トリクロロ
エタン、トリクロロエチレン、塩化メチレンなどの塩素
系溶剤が洗浄剤として使用されてきた。しかし、トリフ
ロロトリクロロエタンや１，１，１−トリクロロエタン
はオゾン層を破壊する物質として、１９９５年末にその
製造が禁止された。また、トリクロロエチレンや塩化メ
チレンは毒性が強く、放出された場合に大気汚染・水質
汚染を引き起こすため、その法規制が厳しい。2. Description of the Related Art In the manufacture of optical components such as lenses, wax and pitch are used for polishing, and wax, pitch and adhesive are used for temporary fixing. Therefore, a cleaning step is required to remove the wax, pitch, and adhesive attached to the optical component surface.
Conventionally, for such cleaning, a chlorofluorocarbon-based solvent such as 1,1,1-trichloroethane, trichloroethylene, or methylene chloride has been used as a cleaning agent. However, the production of trifluorotrichloroethane and 1,1,1-trichloroethane was banned at the end of 1995 as substances that destroy the ozone layer. In addition, trichlorethylene and methylene chloride are highly toxic, and when released, cause air and water pollution.
【０００３】また、界面活性剤や無機アルカリを添加し
た水系洗浄剤、リン酸塩類等の水溶液系洗浄剤の利用も
検討されるが、洗浄力が乏しく、かつ排水処理設備に大
きなスペースを必要するため経済性の面から好ましくな
い。炭化水素系洗浄剤も検討されているが、ワックス、
ピッチに対しての洗浄力はあるものの、それ以外の汚
れ、例えば接着剤に対する洗浄力が十分でない。[0003] Further, the use of an aqueous detergent containing a surfactant or an inorganic alkali or an aqueous detergent such as phosphates has been considered, but the washing power is poor and a large space is required for wastewater treatment equipment. Therefore, it is not preferable in terms of economy. Hydrocarbon cleaning agents are also being studied, but wax,
Although it has a detergency against the pitch, it has insufficient detergency against other stains such as an adhesive.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
課題を解決するもので、ワックス、ピッチ、接着剤など
が付着した光学部品を洗浄する洗浄液であって、環境に
与える影響が少なく、取り扱い上の規制も少なく、か
つ、十分な洗浄性を有する洗浄液組成物を提供するもの
である。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and is a cleaning liquid for cleaning an optical component to which wax, pitch, adhesive, etc. are adhered. An object of the present invention is to provide a cleaning liquid composition which has few restrictions on handling and has sufficient detergency.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決すべく鋭意検討を重ねた結果、 (Ａ)脂肪族二塩基
酸ジアルキルエステルからなる成分Ａを３０〜７０重量
％と、（Ｂ）ポリアルキレングリコールジアルキルエー
テル、アルキレングリコールエーテルエステル、炭素数
５〜２０の炭化水素、もしくはこれらの混合物からなる
成分Ｂを７０〜３０重量％含有する洗浄液組成物が光学
部品の洗浄に適していることを見出した。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, (A) 30 to 70% by weight of component A comprising an aliphatic dibasic acid dialkyl ester, B) A cleaning liquid composition containing 70 to 30% by weight of component B consisting of a polyalkylene glycol dialkyl ether, an alkylene glycol ether ester, a hydrocarbon having 5 to 20 carbon atoms, or a mixture thereof is suitable for cleaning optical components. I found that.
【０００６】[0006]
【発明の実施の形態】[成分Ａ] 脂肪族二塩基酸ジアル
キルエステルとしては、炭素数２〜６の脂肪族二塩基酸
と炭素数１〜４のアルコールとのエステルを用いること
ができる。入手の容易さ、引火点の高さから、炭素数３
〜６の脂肪族二塩基酸と炭素数１〜２のアルコールとの
エステル、特には、アジピン酸ジメチル、グルタル酸ジ
メチル、コハク酸ジメチルおよびこれらの混合物からな
ることが好ましい。洗浄液組成物に占める成分Ａの割合
は、３０〜７０重量％、好ましくは４０〜６０重量％で
ある。成分Ａが３０重量％未満では接着剤に対する溶解
力が低下し、７０重量％を超えるとピッチ、ワックスに
対する洗浄力が低下するため洗浄液として望ましくな
い。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Component A] As the dialkyl aliphatic dibasic acid ester, an ester of an aliphatic dibasic acid having 2 to 6 carbon atoms and an alcohol having 1 to 4 carbon atoms can be used. Because of the availability and the high flash point, the number of carbon atoms is 3
And esters of aliphatic dibasic acids having 1 to 6 carbon atoms and alcohols having 1 to 2 carbon atoms, particularly preferably dimethyl adipate, dimethyl glutarate, dimethyl succinate and mixtures thereof. The ratio of the component A in the cleaning liquid composition is 30 to 70% by weight, preferably 40 to 60% by weight. If the component A is less than 30% by weight, the dissolving power for the adhesive is reduced.
【０００７】[成分Ｂ] 成分Ｂは、ポリアルキレングリ
コールジアルキルエーテル、アルキレングリコールエー
テルエステル、炭素数５〜２０の炭化水素、もしくはこ
れらの混合物からなる成分である。成分Ｂには、次の化
１で表されるポリアルキレングリコールジアルキルエー
テルを用いることができる。[Component B] Component B is a component comprising a polyalkylene glycol dialkyl ether, an alkylene glycol ether ester, a hydrocarbon having 5 to 20 carbon atoms, or a mixture thereof. As the component B, a polyalkylene glycol dialkyl ether represented by the following chemical formula 1 can be used.
【化１】Ｒ１−（Ｏ−Ｒ２）ｎ−Ｒ３ Embedded image R 1 — (O—R 2 ) n —R 3
【０００８】ここで、Ｒ１、Ｒ３は炭素数１〜３のアル
キル基、Ｒ２は炭素数２〜４のアルキレン基、ｎは１〜
４であり、好ましくはＲ１、Ｒ３はメチル基、Ｒ２は炭
素数２〜３のアルキレン基、ｎは２〜４である。このよ
うな化合物としては、エチレングリコールジメチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエ
チレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレング
リコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジメ
チルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテ
ル、トリプロピレングリコールジメチルエーテルが挙げ
られ、入手の容易性、引火点の高さからトリエチレング
リコールジメチルエーテルが好ましい。Here, R 1 and R 3 are alkyl groups having 1 to 3 carbon atoms, R 2 is an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and n is 1 to 3
4, preferably R 1 and R 3 are methyl groups, R 2 is an alkylene group having 2 to 3 carbon atoms, and n is 2 to 4. Examples of such a compound include ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, tetraethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether, and tripropylene glycol dimethyl ether. Therefore, triethylene glycol dimethyl ether is preferred.
【０００９】成分Ｂに用いるアルキレングリコールエー
テルエステルとしては、次の化２で表される化合物を用
いることができる。As the alkylene glycol ether ester used for the component B, a compound represented by the following chemical formula 2 can be used.
【化２】Ｒ４−（Ｏ−Ｒ５）ｍ−Ｘ−Ｒ６ Embedded image R 4 — (O—R 5 ) m —X—R 6
【００１０】ここで、Ｒ４は炭素数１〜８の炭化水素残
基、Ｒ５は炭素数２〜６のアルキレン基、ｍは１〜４、
Ｘはオキシカルボニル基、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキ
ル基、好ましくはＲ４、Ｒ６はメチル基、Ｒ５は炭素数
４〜６のアルキレン基、ｍは１〜２である。このような
化合物としては、エチレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート； プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート； モノメチルエーテルアセテ
ート、ジブチレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ート；ペンテングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、ジペンテングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト； エチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート； プロピレングリコールモノエチルエーテルアセ
テート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルア
セテート、トリプロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート； ブチレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、ジブチレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート； ペンテングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、ジペンテングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート； エチレングリコールモノプロピルエー
テルアセテート、ジエチレングリコールモノプロピルエ
ーテルアセテート、トリエチレングリコールモノプロピ
ルエーテルアセテート； プロピレングリコールモノプ
ロピルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモ
ノプロピルエーテルアセテート、トリプロピレングリコ
ールモノプロピルエーテルアセテート； ブチレングリ
コールモノプロピルエーテルアセテート、ジブチレング
リコールモノプロピルエーテルアセテート； ペンテン
グリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジペンテ
ングリコールモノプロピルエーテルアセテート； エチ
レングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ジエ
チレングリコールモノフェニルエーテルアセテート、ト
リエチレングリコールモノフェニルエーテルアセテー
ト；プロピレングリコールモノフェニルエーテルアセテ
ート、ジプロピレングリコールモノフェニルエーテルア
セテート、トリプロピレングリコールモノフェニルエー
テルアセテート； ブチレングリコールモノフェニルエ
ーテルアセテート、ジブチレングリコールモノフェニル
エーテルアセテート； ペンテングリコールモノフェニ
ルエーテルアセテート、ジペンテングリコールモノフェ
ニルエーテルアセテート； エチレングリコールモノシ
クロヘキシルエーテルアセテート、ジエチレングリコー
ルモノシクロヘキシルエーテルアセテート、トリエチレ
ングリコールモノシクロヘキシルエーテルアセテート；
プロピレングリコールモノシクロヘキシルエーテルア
セテート、ジプロピレングリコールモノシクロヘキシル
エーテルアセテート、トリプロピレングリコールモノシ
クロヘキシルエーテルアセテート； ブチレングリコー
ルモノシクロヘキシルエーテルアセテート、ジブチレン
グリコールモノシクロヘキシルエーテルアセテート；
ペンテングリコールモノシクロヘキシルエーテルアセテ
ート、ジペンテングリコールモノシクロヘキシルエーテ
ルアセテートが挙げられる。入手の容易性、引火点の高
さから、ブチレングリコールモノメチルエーテルアセテ
ートの一種である３-メチル-３−メトキシブチルアセテ
ートが好適である。Here, R 4 is a hydrocarbon residue having 1 to 8 carbon atoms, R 5 is an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, m is 1 to 4,
X is an oxycarbonyl group, R 6 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably R 4 and R 6 are methyl groups, R 5 is an alkylene group having 4 to 6 carbon atoms, and m is 1-2. Such compounds include ethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl ether acetate; propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, tripropylene glycol monomethyl ether acetate; monomethyl ether acetate; Butylene glycol monomethyl ether acetate; pentene glycol monomethyl ether acetate, dipentene glycol monomethyl ether acetate; ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, triethylene glycol monoethyl ether acetate; pro Pyrene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether acetate, tripropylene glycol monoethyl ether acetate; butylene glycol monoethyl ether acetate, dibutylene glycol monoethyl ether acetate; pentene glycol monoethyl ether acetate, dipentene glycol monoethyl ether Acetate: ethylene glycol monopropyl ether acetate, diethylene glycol monopropyl ether acetate, triethylene glycol monopropyl ether acetate; propylene glycol monopropyl ether acetate, dipropylene glycol monopropyl ether acetate, tripropylene glycol monopropyl ether acetate Butylene glycol monopropyl ether acetate, dibutylene glycol monopropyl ether acetate; pentene glycol monopropyl ether acetate, dipentene glycol monopropyl ether acetate; ethylene glycol monophenyl ether acetate, diethylene glycol monophenyl ether acetate, triethylene glycol monophenyl ether acetate Propylene glycol monophenyl ether acetate, dipropylene glycol monophenyl ether acetate, tripropylene glycol monophenyl ether acetate; butylene glycol monophenyl ether acetate, dibutylene glycol monophenyl ether acetate; pentene glycol monophenyl ether Acetate, dipentene glycol monophenyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl cyclohexyl ether acetate, diethylene glycol cyclohexyl ether acetate, triethylene glycol monomethyl cyclohexyl ether acetate;
Propylene glycol monocyclohexyl ether acetate, dipropylene glycol monocyclohexyl ether acetate, tripropylene glycol monocyclohexyl ether acetate; butylene glycol monocyclohexyl ether acetate, dibutylene glycol monocyclohexyl ether acetate;
Examples include pentene glycol monocyclohexyl ether acetate and dipentene glycol monocyclohexyl ether acetate. 3-Methyl-3-methoxybutyl acetate, which is a kind of butylene glycol monomethyl ether acetate, is preferred from the viewpoint of availability and high flash point.
【００１１】炭素数５〜２０の炭化水素としては、芳香
族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂環族炭化水素を用いる
ことができ、洗浄力の点からは芳香族炭化水素が好まし
く用いられる。芳香族炭化水素の具体例としては、メチ
ル、エチルまたはプロピルベンゼンなどのアルキルベン
ゼン、メチル、エチル、プロピルナフタレンなどのアル
キルナフタレンが挙げられ、引火点の高さ、沸点の低さ
から、特に炭素数８〜１０のアルキルベンゼンが好適で
ある。脂肪族炭化水素の具体例としては、直鎖および分
岐鎖のヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカ
ン、ドデカン、トリデカン、テトラデカンなどが挙げら
れ、引火点の高さ、沸点の低さから、特に炭素数９〜１
２のパラフィンが好適である。脂環族炭化水素の具体例
としてはメチル、エチルまたはプロピルシクロヘキサン
などのアルキルシクロヘキサン、メチル、エチルまたは
プロピルデカリンなどのアルキルデカリンが挙げられ
る。As hydrocarbons having 5 to 20 carbon atoms, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, and alicyclic hydrocarbons can be used. From the viewpoint of detergency, aromatic hydrocarbons are preferably used. Specific examples of the aromatic hydrocarbon include alkylbenzenes such as methyl, ethyl and propylbenzene, and alkylnaphthalenes such as methyl, ethyl and propylnaphthalene. Alkyl benzenes of 10 to 10 are preferred. Specific examples of the aliphatic hydrocarbon include straight-chain and branched-chain heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, and the like.From the viewpoint of high flash point and low boiling point, Number 9-1
Two paraffins are preferred. Specific examples of the alicyclic hydrocarbon include alkylcyclohexane such as methyl, ethyl or propylcyclohexane, and alkyldecalin such as methyl, ethyl or propyldecalin.
【００１２】洗浄液組成物に占める成分Ｂの割合は、３
０〜７０重量％、好ましくは４０〜６０重量％である。
ポリアルキレングリコールジアルキルエーテル、アルキ
レングリコールエーテルエステル、または、炭素数５〜
２０の炭化水素のそれぞれ単独の配合量は、５０重量％
以下が好ましく、５０重量％を超えると接着剤に対する
洗浄力が低下する。成分Ｂとして、炭素数５〜２０の炭
化水素、特には芳香族炭化水素を３０〜６０重量％含有
することが好ましい。成分Ａおよび成分Ｂ以外の成分
は、洗浄液組成物に含まれていないことが好ましく、１
０重量％未満、特には３重量％未満であることが好まし
い。The ratio of the component B in the cleaning liquid composition is 3
It is 0 to 70% by weight, preferably 40 to 60% by weight.
Polyalkylene glycol dialkyl ether, alkylene glycol ether ester, or C5-C5
The blending amount of each of the 20 hydrocarbons is 50% by weight.
The following is preferable, and when it exceeds 50% by weight, the detergency for the adhesive is reduced. Component B preferably contains 30 to 60% by weight of a hydrocarbon having 5 to 20 carbon atoms, particularly an aromatic hydrocarbon. Preferably, components other than the component A and the component B are not contained in the cleaning liquid composition.
It is preferably less than 0% by weight, especially less than 3% by weight.
【００１３】本発明の洗浄液組成物には、本発明の目的
を損なわない範囲で有機溶剤や水を配合したり、界面活
性剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防錆剤、無機微粒子
等の慣用の添加剤を含めることができる。界面活性剤と
しては非イオン性界面活性剤が好ましく、例えば高級ア
ルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノー
ルエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイ
ド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加
物、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、シ
ョ糖脂肪酸エステル、シリコン系、フッ素系等いずれの
ものも使用できる。The cleaning liquid composition of the present invention may contain an organic solvent or water as long as the object of the present invention is not impaired, or may contain a surfactant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a rust inhibitor, and inorganic fine particles. Conventional additives may be included. As the surfactant, a nonionic surfactant is preferable. For example, higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct, fatty acid ethylene oxide adduct, higher alkylamine ethylene oxide adduct, fatty acid ester of sorbitol and sorbitan, Any of sugar fatty acid ester, silicon type, fluorine type and the like can be used.
【００１４】また、紫外線吸収剤及び酸化防止剤として
は、洗浄液の長期保存等における安定性の向上に役立
ち、紫外線吸収剤としては例えばベンゾトリアゾール
系、ベンゾフェノン系、ヒンダードアミン系等を使用で
き、酸化防止剤としては例えばフェノール系、アミン
系、硫黄系、リン系等、本発明の洗浄液組成物に溶解す
るものはいずれも使用できる。フェノール系酸化防止剤
を、１００〜１０００重量ｐｐｍ添加することが特に好
ましい。The ultraviolet absorber and antioxidant are useful for improving the stability of the cleaning solution during long-term storage and the like. For example, benzotriazole, benzophenone, hindered amine and the like can be used as the ultraviolet absorber. As the agent, any agent that dissolves in the cleaning liquid composition of the present invention, such as a phenol-based, amine-based, sulfur-based, and phosphorus-based agent, can be used. It is particularly preferable to add a phenolic antioxidant in an amount of 100 to 1000 ppm by weight.
【００１５】本発明の洗浄液組成物を洗浄対象物である
光学部品に接触させることで洗浄することができるが、
光学部品と洗浄液組成物とを接触させる方法自体は特に
制限はなく、公知のいずれの方法も使用できる。例え
ば、洗浄液組成物を含浸したスポンジ等による拭き取
り、洗浄液組成物への浸漬及び／又はスプレー等により
実施することが好ましい。浸漬による洗浄においては、
洗浄効果を高めるために、同時に攪拌、揺動、超音波又
はエアバブリング等を組み合わせることが更に好まし
い。この場合、超音波の使用条件は、例えば発振周波数
２０〜１００ｋＨｚ、発振出力１０〜２００Ｗ／ｌが好
ましい。エアバブリングでは、微細な気泡を、好ましく
は空気：洗浄液の体積比１：１〜５：１程度で通気する
ことにより、洗浄液組成物に不溶性の汚れを気泡と共に
上昇させ、不溶性の汚れをも分離することができる。ス
プレーによる洗浄において、その圧力は、例えば０．５
〜１０ｋｇ／ｃｍ２ Ｇが好ましい。いずれの場合も洗
浄時間は、好ましくは１５秒間〜２時間、特に好ましく
は３０秒間〜２０分間である。上記範囲未満では洗浄が
不十分で、付着した汚れを十分に除去し得ず、一方、上
記範囲を超えても洗浄効果は格別向上しない。洗浄温度
は、好ましくは２０〜１２０℃である。上記洗浄におい
て、より高温で処理することにより洗浄効果を著しく上
昇させることができる。上記範囲未満では、洗浄が不十
分となり易い。The cleaning liquid composition of the present invention can be cleaned by bringing the cleaning liquid composition into contact with an optical component to be cleaned.
The method of bringing the optical component into contact with the cleaning liquid composition itself is not particularly limited, and any known method can be used. For example, wiping with a sponge or the like impregnated with the cleaning liquid composition, immersion in the cleaning liquid composition and / or spraying is preferably performed. In cleaning by immersion,
In order to enhance the cleaning effect, it is more preferable to simultaneously combine stirring, rocking, ultrasonic waves, or air bubbling. In this case, the use conditions of the ultrasonic wave are preferably, for example, an oscillation frequency of 20 to 100 kHz and an oscillation output of 10 to 200 W / l. In air bubbling, fine bubbles are preferably aerated at a volume ratio of air: cleaning liquid of about 1: 1 to 5: 1 to raise insoluble dirt in the cleaning liquid composition together with air bubbles and separate insoluble dirt. can do. In cleaning by spraying, the pressure is, for example, 0.5
-10 kg / cm 2 G is preferred. In each case, the washing time is preferably from 15 seconds to 2 hours, particularly preferably from 30 seconds to 20 minutes. If the amount is less than the above range, the cleaning is insufficient, and the adhered dirt cannot be sufficiently removed. The washing temperature is preferably from 20 to 120C. In the above-mentioned cleaning, the treatment at a higher temperature can significantly increase the cleaning effect. If it is less than the above range, the washing tends to be insufficient.
【００１６】本発明の洗浄液組成物は、光学部品に付着
したワックス、ピッチ、接着剤などを洗浄するために用
いられる。このような光学部品としてはめがね、顕微
鏡、望遠鏡、カメラまたは電子機器の光学ピックアップ
用などのレンズ、その筐体があげられる。これらの製造
工程において、部品表面の研磨、保護、固定などの目的
でワックス、ピッチを用いることがあり、同時にシアノ
アクリレート系の接着剤を使用することがある。The cleaning liquid composition of the present invention is used for cleaning wax, pitch, adhesive and the like attached to optical parts. Such optical components include glasses, microscopes, telescopes, lenses for optical pickups of cameras or electronic devices, and housings thereof. In these manufacturing processes, wax and pitch may be used for the purpose of polishing, protecting and fixing the surface of the component, and at the same time, a cyanoacrylate-based adhesive may be used.
【００１７】汚染物となるワックス、ピッチ、接着剤を
具体的に例示すれば、研磨用あるいは張付用ピッチとし
てのストレートアスファルト系、ブローンアスファルト
系、ウッド系等のピッチが挙げられる。また、ワックス
は金属、ガラス等の仮止め接着剤として使用されている
天然樹脂、石油系ワックス、合成系ワックス等が挙げら
れる。接着剤としてはメチル−α−シアノアクリレー
ト、エチル−α−シアノアクリレートなどに代表される
アルキルシアノアクリレートをモノマーとする接着剤で
あるシアノアクリレート系瞬間接着剤が広範に用いられ
ている。Specific examples of waxes, pitches and adhesives that become contaminants include straight asphalt-based, blown asphalt-based and wood-based pitches for polishing or sticking pitches. Examples of the wax include a natural resin, a petroleum wax, and a synthetic wax used as a temporary fixing adhesive for metal, glass, and the like. As an adhesive, a cyanoacrylate-based instant adhesive, which is an adhesive containing an alkyl cyanoacrylate represented by methyl-α-cyanoacrylate, ethyl-α-cyanoacrylate, or the like as a monomer, is widely used.
【００１８】[0018]
【実施例】以下、本発明を実施例、比較例により更に詳
細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定され
るものではない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.
【００１９】実施例として用いた洗浄液の配合量を表
１、２に、比較例として用いた洗浄液の配合量を表３に
示す。表中、ＧＤＭはグルタル酸ジメチルを、ＯＤＥは
シュウ酸ジエチルを、ＡＧＳＭはアジピン酸ジメチル１
５重量％、グルタル酸ジメチル６５重量％、コハク酸ジ
メチル２０重量％の混合物を、ＴＥＧＤＭＥはトリエチ
レングリコールジメチルエーテルを、ＭＭＢＡは３−メ
チル−３−メトキシブチルアセテートを示す。Tables 1 and 2 show the amounts of the cleaning liquids used as examples, and Table 3 shows the amounts of the cleaning liquids used as comparative examples. In the table, GDM is dimethyl glutarate, ODE is diethyl oxalate, AGSM is dimethyl adipate 1
A mixture of 5% by weight, 65% by weight of dimethyl glutarate, and 20% by weight of dimethyl succinate, TEGDME indicates triethylene glycol dimethyl ether, and MMBA indicates 3-methyl-3-methoxybutyl acetate.
【００２０】[0020]
【表１】 [Table 1]
【００２１】[0021]
【表２】 [Table 2]
【００２２】[0022]
【表３】 [Table 3]
【００２３】接着剤に対する洗浄テスト シアノアクリレート系瞬間接着剤であるLoctite412（日
本ロックタイト製）をガラスプレートに滴下し、さらに
カバーガラス（２２ｍｍ角、厚さ０．２ｍｍ）を掛けて
２５℃の室温において硬化させて張り合わせた。これを
被検液（洗浄液）に浸せきし、５０℃で超音波照射下に
６０分間洗浄を行い、剥離、溶解の状態を観察した。洗
浄後にカバーガラスが剥離したものを○、剥離しなかっ
たものを×として評価し、表１、２、３に併せて示し
た。Cleaning Test for Adhesive Loctite 412 (manufactured by Nippon Loctite), a cyanoacrylate instant adhesive, was dropped on a glass plate, and further covered with a cover glass (22 mm square, 0.2 mm thick) at room temperature of 25 ° C. Cured and laminated. This was immersed in a test solution (washing solution), washed at 50 ° C. for 60 minutes under ultrasonic irradiation, and the state of peeling and dissolution was observed. Those in which the cover glass was peeled off after washing were evaluated as ○, and those in which the cover glass was not peeled were evaluated as x, and are shown in Tables 1, 2 and 3.
【００２４】ワックス、ピッチに対する洗浄テスト ワックス、ピッチの洗浄性の評価では、光学加工用ワッ
クス０．０２５ｇを被検液（洗浄液）５ｍｌに投入し、
５０℃で超音波照射下に６０分間溶解し、被検液が透明
もしくは乳化し均一になったものを○、固体の沈殿が認
められたものを×とし、表１、２、３に併せて示した。
ワックスとしては日化精工(株)製フラットローワックス
Ｌをそれぞれ用いた。Cleaning Test for Wax and Pitch In the evaluation of the cleaning performance of the wax and the pitch, 0.025 g of an optical processing wax was put into 5 ml of a test liquid (cleaning liquid).
The sample was dissolved under ultrasonic irradiation at 50 ° C. for 60 minutes, and the test liquid was transparent or emulsified and became uniform, ○, and solid precipitate was recognized as ×. Indicated.
Flat low wax L manufactured by Nikka Seiko Co., Ltd. was used as the wax.
【００２５】[0025]
【発明の効果】本発明の光学部品用洗浄液は、(Ａ)脂肪
族二塩基酸ジアルキルエステルからなる成分Ａを３０〜
７０重量％と、（Ｂ）ポリアルキレングリコールジアル
キルエーテル、アルキレングリコールエーテルエステ
ル、炭素数５〜２０の炭化水素、もしくはこれらの混合
物からなる成分Ｂを７０〜３０重量％含有するものであ
る。これは、光学部品に付着したピッチ、ワックス及び
接着剤の洗浄性に優れるのみならず、毒性が低く、環境
規制上使用が制限されている化合物を用いることなく使
用・取り扱いが比較的容易である。The cleaning solution for optical parts of the present invention comprises (A) a component A comprising an aliphatic dibasic acid dialkyl ester in an amount of 30 to 30%.
70% by weight and 70 to 30% by weight of component B comprising (B) a polyalkylene glycol dialkyl ether, an alkylene glycol ether ester, a hydrocarbon having 5 to 20 carbon atoms, or a mixture thereof. This not only excels in cleaning the pitch, wax and adhesive attached to the optical components, but also has low toxicity and is relatively easy to use and handle without using compounds whose use is restricted by environmental regulations. .
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松下 景太 埼玉県戸田市新曽南三丁目17番35号 株式 会社ジャパンエナジ−内 Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB01 BB01 BB09 BB21 BB82 BB83 BB88 BB94 BB95 4H003 BA12 DA16 DB03 ED03 ED29 ED32 FA03 FA45 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Keita Matsushita 3-17-35 Niisonanami 3-chome, Toda City, Saitama Japan Energy Co., Ltd. F-term (reference) 3B201 AA03 AB01 BB01 BB09 BB21 BB82 BB83 BB88 BB94 BB95 4H003 BA12 DA16 DB03 ED03 ED29 ED32 FA03 FA45
Claims (4)
からなる成分Ａを３０〜７０重量％と、（Ｂ）ポリアル
キレングリコールジアルキルエーテル、アルキレングリ
コールエーテルエステル、炭素数５〜２０の炭化水素、
もしくはこれらの混合物からなる成分Ｂを７０〜３０重
量％含有する光学部品用洗浄液組成物。(A) 30 to 70% by weight of a component A comprising a dialkyl aliphatic dibasic acid ester, (B) a polyalkylene glycol dialkyl ether, an alkylene glycol ether ester, a hydrocarbon having 5 to 20 carbon atoms,
Alternatively, a cleaning liquid composition for an optical component containing 70 to 30% by weight of Component B consisting of a mixture thereof.
ステルは、脂肪族二塩基酸がアジピン酸、グルタル酸、
コハク酸、マロン酸またはシュウ酸であり、そのアルキ
ル基がメチル基またはエチル基である化合物、もしくは
これらの混合物である請求項１記載の光学部品用洗浄液
組成物。2. The aliphatic dibasic acid dialkyl ester according to claim 1, wherein the aliphatic dibasic acid is adipic acid, glutaric acid,
The cleaning liquid composition for an optical component according to claim 1, wherein the cleaning liquid composition for an optical component is a compound which is succinic acid, malonic acid or oxalic acid, and whose alkyl group is a methyl group or an ethyl group, or a mixture thereof.
コールジメチルエーテル、３−メチル−３−メトキシブ
チルアセテート、炭素数８〜１０のアルキルベンゼンも
しくはこれらの混合物である請求項１または２記載の光
学部品用洗浄液組成物。3. The optical component according to claim 1, wherein component B of claim 1 is triethylene glycol dimethyl ether, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, alkylbenzene having 8 to 10 carbon atoms, or a mixture thereof. Cleaning liquid composition.
着剤、およびワックスまたはピッチにより汚染されてい
る請求項１ないし３記載の光学部品用洗浄液組成物。4. The cleaning liquid composition for an optical component according to claim 1, wherein the object to be cleaned is contaminated with a cyanoacrylate adhesive and wax or pitch.
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