JPH07305097A - Cleaning agent composition - Google Patents

Cleaning agent composition

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JPH07305097A
JPH07305097A JP6119693A JP11969394A JPH07305097A JP H07305097 A JPH07305097 A JP H07305097A JP 6119693 A JP6119693 A JP 6119693A JP 11969394 A JP11969394 A JP 11969394A JP H07305097 A JPH07305097 A JP H07305097A
Authority
JP
Japan
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cleaning
cleaning liquid
methoxy
liquid composition
examples
Prior art date
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Pending
Application number
JP6119693A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Sadakatsu Suzuki
貞勝 鈴木
Masayuki Asami
昌之 浅見
Hiroshi Ueno
廣 上野
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Tonen General Sekiyu KK
Original Assignee
Tonen Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Tonen Corp filed Critical Tonen Corp
Priority to JP6119693A priority Critical patent/JPH07305097A/en
Publication of JPH07305097A publication Critical patent/JPH07305097A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain the subject composition suitable for flux cleaning in soldering, having excellent cleaning effect, capable of sufficiently drying a material to be cleaned even in the case of drying at low temperature for a short time without rinsing the material to be cleaned, containing specific two kinds of components. CONSTITUTION:This composition contains (A) a compound selected from 3- methoxy-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutanol, 2-ethoxyethanol, 2-methoxy- ethanol acetic ester and 1-methoxy-2-propanol acetic ester and (B) a compound selected from N-methyl-2-pyrrolidone and gamma-butyrolactone. 20-50 pts.wt. of the component A is blended with 80-50 pts.wt. of the component B. 3-Methoxy-1- butanol and 3-methoxy-3-methylbutanol are preferably used among the component A.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、洗浄液組成物に関し、
更に詳しくは金属又は樹脂等の表面に付着した油類、硬
化前エポキシ樹脂、ポリマー、スケール、はんだ付けフ
ラックス、金属石鹸等の洗浄に適した洗浄液組成物に関
する。
The present invention relates to a cleaning liquid composition,
More specifically, the present invention relates to a cleaning liquid composition suitable for cleaning oils, epoxy resin before curing, polymers, scales, soldering flux, metal soap, etc. attached to the surface of metal or resin.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、上記の油類等の洗浄には、フロン
系溶剤、あるいはトリクロロエタン等の塩素系溶剤が使
用されている。また、はんだ付けフラックスの洗浄除
去、あるいはエポキシ樹脂を取扱う産業装置において、
各成分の配合工程あるいは配合後の貯蔵中に装置類に付
着した硬化前エポキシ樹脂及び硬化前エポキシ樹脂組成
物の洗浄除去においても、上記溶剤が使用されている。
しかし、これらの溶剤はオゾン層を破壊する物質とし
て、近い将来その製造が禁止される予定であり、更に塩
素系溶剤は毒性が強く、水質汚染を防止するため、その
法規制も厳しい。
2. Description of the Related Art Conventionally, a chlorofluorocarbon-based solvent or a chlorine-based solvent such as trichloroethane has been used for cleaning the above oils and the like. Also, for cleaning and removing soldering flux, or in industrial equipment that handles epoxy resin,
The solvent is also used for cleaning and removing the pre-curing epoxy resin and the pre-curing epoxy resin composition which are attached to the devices during the compounding step of each component or the storage after the compounding.
However, the production of these solvents is planned to be prohibited in the near future as substances that destroy the ozone layer, and chlorine-based solvents are highly toxic and prevent water pollution, so their regulations are strict.

【0003】また、炭化水素等の石油系溶剤、テルペン
系溶剤、アルコール系溶剤、アセトン等も使用し得る
が、これらの溶剤は無機イオン類や極性化合物に対する
洗浄力に乏しく、また、その引火点が比較的低く、かつ
毒性を有する等の安全上の問題がある。
Petroleum-based solvents such as hydrocarbons, terpene-based solvents, alcohol-based solvents, acetone and the like can be used, but these solvents have poor detergency against inorganic ions and polar compounds, and their flash points. Is relatively low and has toxicity and other safety problems.

【0004】界面活性剤や無機アルカリを添加した水系
洗浄剤、リン酸塩類等の水溶液系は、洗浄力が乏しく、
かつ排水処理設備に大きなスペースを必要とし経済性の
面から好ましくない。また、洗浄後、汚れの原因となる
水垢や添加成分等を除去するためのリンス工程が必要で
あるという問題もある。
Aqueous detergents containing surfactants and inorganic alkalis, and aqueous solutions such as phosphates have poor detergency,
Moreover, a large space is required for the wastewater treatment facility, which is not preferable from the economical aspect. In addition, there is also a problem that after the cleaning, a rinsing step is required to remove scales, additive components, etc. that cause stains.

【0005】はんだ付けフラックス用洗浄液は、例え
ば、特開平4‐68095号公報、同3‐243698
号公報、又は米国特許第4,983,224号明細書等
に挙げられている。
A cleaning liquid for soldering flux is disclosed in, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 4-68095 and 3-243698.
No. 4,983,224 and the like.

【0006】特開平4‐68095号公報には、(1)
ノニオン系界面活性剤、及び(2)N‐メチルピロリド
ン、2‐ピロリドン、γ‐ブチロラクトン、ジメチルス
ルホキシド、スルホラン、炭酸プロピレンの中から選ば
れる一種又は二種以上を含むフラックス洗浄剤が開示さ
れている。しかし、リンス工程が必要であるという問題
がある。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 4-68095 discloses (1)
A flux detergent containing a nonionic surfactant and (2) one or more selected from N-methylpyrrolidone, 2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, dimethylsulfoxide, sulfolane, and propylene carbonate is disclosed. . However, there is a problem that a rinse process is required.

【0007】特開平3‐243698号公報には、テト
ラヒドロフルフリルアルコールとC1 〜C6 アルキル若
しくはC1 〜C6 アルケニルで置換されているピロリド
ンを含む、フラックス残留物を除去するために有効な清
浄剤が開示されている。しかし、該清浄剤においては、
更に水、アルコール又はフッ素化炭化水素のような洗浄
溶剤で洗浄する工程が必要であるという問題がある。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 3-243698 discloses an effective method for removing flux residues containing tetrahydrofurfuryl alcohol and pyrrolidone substituted with C 1 -C 6 alkyl or C 1 -C 6 alkenyl. Detergents are disclosed. However, in the detergent,
Further, there is a problem that a step of washing with a washing solvent such as water, alcohol or fluorinated hydrocarbon is required.

【0008】米国特許第4,983,224号明細書に
は、テルペン/テルペノール、界面活性剤、N‐メチル
ピロリドン及び任意的に水を含む洗浄液組成物により、
はんだ付けフラックスを洗浄する方法が開示されてい
る。しかし、最終的に水洗浄を施すことが好ましいとい
う問題がある。
US Pat. No. 4,983,224 discloses a cleaning liquid composition containing a terpene / terpenol, a surfactant, N-methylpyrrolidone and optionally water.
A method of cleaning the soldering flux is disclosed. However, there is a problem that it is preferable to finally perform water washing.

【0009】また、本出願人は既に、(A)N‐メチル
‐2‐ピロリドン、(B)水、及び(C)3‐メトキシ
‐3‐メチルブタノール、2‐エトキシエタノール、2
‐メトキシエタノールの酢酸エステル及び1‐メトキシ
‐2‐プロパノールの酢酸エステルから選ばれた少なく
とも一の化合物を含むはんだ付けフラックス用洗浄液組
成物(特願平6‐80953号)、及び(A)N‐メチ
ル‐2‐ピロリドン30〜73重量部、(B)3‐メト
キシ‐1‐ブタノール10〜53重量部、及び(C)水
17〜50重量部を含み、これらの合計が100重量部
である洗浄液組成物(平成6年3月31日出願、発明の
名称「洗浄液組成物」)を出願した。
Further, the applicant has already found that (A) N-methyl-2-pyrrolidone, (B) water, and (C) 3-methoxy-3-methylbutanol, 2-ethoxyethanol, 2
-Cleansing composition for soldering flux containing at least one compound selected from acetic acid ester of methoxyethanol and acetic acid ester of 1-methoxy-2-propanol (Japanese Patent Application No. 6-80953), and (A) N- A cleaning liquid containing 30 to 73 parts by weight of methyl-2-pyrrolidone, 10 to 53 parts by weight of (B) 3-methoxy-1-butanol, and 17 to 50 parts by weight of water (C), and the total amount thereof is 100 parts by weight. I applied for a composition (filed on March 31, 1994, title of invention "cleaning liquid composition").

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、良好な洗浄
効果を有すると共に、被洗浄物のリンスなしでかつ低温
で短時間の乾燥により、十分に乾燥することができかつ
水垢等の汚れがなく、並びに優れた安全性をも有する洗
浄液組成物を提供するものである。
The present invention has a good cleaning effect and can be sufficiently dried without rinsing the object to be cleaned and at a low temperature for a short time, and stains such as scales can be removed. And a cleaning liquid composition having excellent safety.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、(1)
(A)3‐メトキシ‐1‐ブタノール、3‐メトキシ‐
3‐メチルブタノール、2‐エトキシエタノール、2‐
メトキシエタノールの酢酸エステル及び1‐メトキシ‐
2‐プロパノールの酢酸エステルから選ばれた少なくと
も一の化合物、及び(B)N‐メチル‐2‐ピロリドン
及びγ‐ブチロラクトンから選ばれた少なくとも一の化
合物を含む洗浄液組成物、(2) (A)3‐メトキシ
‐1‐ブタノール、3‐メトキシ‐3‐メチルブタノー
ル、2‐エトキシエタノール、2‐メトキシエタノール
の酢酸エステル及び1‐メトキシ‐2‐プロパノールの
酢酸エステルから選ばれた少なくとも一の化合物、及び
(C)コハク酸ジエチルを含む洗浄液組成物、及び
(3) (A)3‐メトキシ‐1‐ブタノール、3‐メ
トキシ‐3‐メチルブタノール、2‐エトキシエタノー
ル、2‐メトキシエタノールの酢酸エステル及び1‐メ
トキシ‐2‐プロパノールの酢酸エステルから選ばれた
少なくとも一の化合物、(B)N‐メチル‐2‐ピロリ
ドン及びγ‐ブチロラクトンから選ばれた少なくとも一
の化合物、及び(C)コハク酸ジエチルを含む洗浄液組
成物にある。
The present invention provides (1)
(A) 3-methoxy-1-butanol, 3-methoxy-
3-methylbutanol, 2-ethoxyethanol, 2-
Acetate ester of methoxyethanol and 1-methoxy-
A cleaning liquid composition containing at least one compound selected from acetic acid ester of 2-propanol and (B) at least one compound selected from N-methyl-2-pyrrolidone and γ-butyrolactone, (2) (A) At least one compound selected from 3-methoxy-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutanol, 2-ethoxyethanol, acetic acid ester of 2-methoxyethanol and acetic acid ester of 1-methoxy-2-propanol, and (C) A cleaning liquid composition containing diethyl succinate, and (3) (A) 3-methoxy-1-butanol, 3-methoxy-3-methylbutanol, 2-ethoxyethanol, acetic acid ester of 2-methoxyethanol and 1 At least one compound selected from acetic acid esters of -methoxy-2-propanol, ( B) A cleaning liquid composition containing at least one compound selected from N-methyl-2-pyrrolidone and γ-butyrolactone, and (C) diethyl succinate.

【0012】好ましい態様として、(4) (A)10
〜60重量部、及び(B)90〜40重量部を含む上記
(1)記載の洗浄液組成物、(5) (A)10〜70
重量部、及び(C)90〜30重量部を含む上記(2)
記載の洗浄液組成物、(6) (A)10〜50重量
部、(B)30〜85重量部、及び(C)5〜50重量
部を含み、これらの合計が100重量部である上記
(3)記載の洗浄液組成物、(7) はんだ付けフラッ
クス洗浄用の上記(1)、(2)、(4)、及び(5)
のいずれか一に記載の洗浄液組成物、(8) 硬化前エ
ポキシ樹脂洗浄用の上記(1)、(3)、(4)、及び
(6)のいずれか一に記載の洗浄液組成物、(9)
(A)が3‐メトキシ‐1‐ブタノール及び3‐メトキ
シ‐3‐メチルブタノールから選ばれた少なくとも一の
化合物である上記(1)〜(8)のいずれか一に記載の
洗浄液組成物、等を挙げることができる。
In a preferred embodiment, (4) (A) 10
To 60 parts by weight and (B) 90 to 40 parts by weight, (5) (A) 10 to 70
(2) including 90 parts by weight and (C) 90 to 30 parts by weight.
(6) 10 to 50 parts by weight of (A), (B) 30 to 85 parts by weight, and (C) 5 to 50 parts by weight, and the total of these is 100 parts by weight. (3) The cleaning liquid composition described in (7), (1), (2), (4), and (5) for cleaning the soldering flux.
(8) The cleaning liquid composition according to any one of (1), (3), (4), and (6) above for cleaning an epoxy resin before curing, (8) 9)
The cleaning liquid composition according to any one of (1) to (8) above, wherein (A) is at least one compound selected from 3-methoxy-1-butanol and 3-methoxy-3-methylbutanol. Can be mentioned.

【0013】本発明の洗浄液組成物は、良好な洗浄効果
を有すると共に、低温での良好な乾燥性を有する。従っ
て、リンス工程を省略又は大幅に簡略化しても、被洗浄
物の乾燥が容易である。また、被洗浄物表面に水垢類が
残存せず、廃水処理も容易である。更に、本発明の洗浄
液組成物は、引火性が低く、低臭で毒性も少なく、かつ
良好な生分解性を有し安全性の面からも非常に優れてい
る。また、洗浄液組成物中に含まれる各物質は、いずれ
も高沸点なので蒸発による損失が少なく、また蒸留によ
る再利用が可能であり、経済性の面からも優れている。
The cleaning liquid composition of the present invention has a good cleaning effect and a good drying property at low temperature. Therefore, even if the rinsing step is omitted or greatly simplified, the object to be cleaned can be easily dried. In addition, no scale remains on the surface of the object to be cleaned, and wastewater treatment is easy. Furthermore, the cleaning liquid composition of the present invention has low flammability, low odor, low toxicity, good biodegradability, and is very excellent in safety. Further, since each substance contained in the cleaning liquid composition has a high boiling point, there is little loss due to evaporation, and it can be reused by distillation, which is excellent in economic efficiency.

【0014】請求項1に記載した洗浄液組成物におい
て、(A)3‐メトキシ‐1‐ブタノール(以下、MB
Oと略すことがある)、3‐メトキシ‐3‐メチルブタ
ノール(以下、MMBと略すことがある)、2‐エトキ
シエタノール(以下、EEOと略すことがある)、2‐
メトキシエタノールの酢酸エステル(以下、MEAと略
すことがある)及び1‐メトキシ‐2‐プロパノールの
酢酸エステル(以下、MPAと略すことがある)から選
ばれた少なくとも一の化合物、及び(B)N‐メチル‐
2‐ピロリドン(以下、NMPと略すことがある)及び
γ‐ブチロラクトン(以下、GBLと略すことがある)
から選ばれた少なくとも一の化合物の配合比は、好まし
くは(A)10〜60重量部、及び(B)90〜40重
量部、特に好ましくは(A)20〜50重量部、及び
(B)80〜50重量部である。上記範囲内において、
良好な洗浄力と乾燥性を兼ね備えることができるため好
ましい。(A)が上記範囲未満で、(B)が上記範囲を
超えては、低温での乾燥性が低下する。(A)が上記範
囲を超え、(B)が上記範囲未満では洗浄力の低下が生
ずる。
In the cleaning liquid composition according to claim 1, (A) 3-methoxy-1-butanol (hereinafter referred to as MB
Abbreviated as O), 3-methoxy-3-methylbutanol (hereinafter abbreviated as MMB), 2-ethoxyethanol (hereinafter abbreviated as EEO), 2-
At least one compound selected from acetic acid ester of methoxyethanol (hereinafter sometimes abbreviated as MEA) and acetic acid ester of 1-methoxy-2-propanol (hereinafter sometimes abbreviated as MPA), and (B) N -Methyl-
2-pyrrolidone (hereinafter sometimes abbreviated as NMP) and γ-butyrolactone (hereinafter sometimes abbreviated as GBL)
The compounding ratio of at least one compound selected from the following is preferably (A) 10 to 60 parts by weight, and (B) 90 to 40 parts by weight, particularly preferably (A) 20 to 50 parts by weight, and (B). 80 to 50 parts by weight. Within the above range,
It is preferable because it has both good detergency and dryness. When (A) is less than the above range and (B) exceeds the above range, the drying property at low temperature is deteriorated. If (A) exceeds the above range and (B) is less than the above range, the detergency is lowered.

【0015】請求項3に記載した洗浄液組成物におい
て、(A)MBO、MMB、EEO、MEA及びMPA
から選ばれた少なくとも一の化合物、及び(C)コハク
酸ジエチル(以下、DESと略すことがある)の配合比
は、好ましくは(A)10〜70重量部、及び(C)9
0〜30重量部、特に好ましくは(A)20〜60重量
部、及び(C)80〜40重量部である。上記範囲内に
おいて、良好な洗浄力と乾燥性を兼ね備えることができ
るため好ましい。(A)が上記範囲未満で、(C)が上
記範囲を超えては、低温での乾燥性が低下する。(A)
が上記範囲を超え、(C)が上記範囲未満では洗浄力の
低下が生ずる。
In the cleaning liquid composition according to claim 3, (A) MBO, MMB, EEO, MEA and MPA
The compounding ratio of at least one compound selected from (C) diethyl succinate (hereinafter sometimes abbreviated as DES) is preferably (A) 10 to 70 parts by weight, and (C) 9
0 to 30 parts by weight, particularly preferably (A) 20 to 60 parts by weight, and (C) 80 to 40 parts by weight. Within the above range, good detergency and dryness can be combined, which is preferable. When (A) is less than the above range and (C) exceeds the above range, the drying property at low temperature is deteriorated. (A)
Is more than the above range and (C) is less than the above range, the detergency is deteriorated.

【0016】請求項5に記載した洗浄液組成物におい
て、(A)MBO、MMB、EEO、MEA及びMPA
から選ばれた少なくとも一の化合物、(B)NMP及び
GBLから選ばれた少なくとも一の化合物、及び(C)
DESの配合比は、好ましくは(A)10〜50重量
部、(B)30〜85重量部、及び(C)5〜50重量
部、特に好ましくは(A)10〜40重量部、(B)5
0〜80重量部、及び(C)10〜30重量部であり、
これらの合計が100重量部である。上記範囲内におい
て、良好な洗浄力と乾燥性を兼ね備えることができるた
め好ましい。(A)が上記範囲未満では、低温での乾燥
性が低下し、(A)が上記範囲を超えると、洗浄力の低
下をきたす。(B)が上記範囲未満では、洗浄力の低下
が生じ、(B)が上記範囲を超えては、低温での乾燥性
が低下する。また、(C)が上記範囲未満では、極性の
低い汚れに対して十分な洗浄力が得られず、(C)が上
記範囲を超えては、低温での乾燥性が低下し好ましくな
い。
In the cleaning liquid composition according to claim 5, (A) MBO, MMB, EEO, MEA and MPA
At least one compound selected from (B) at least one compound selected from NMP and GBL, and (C)
The compounding ratio of DES is preferably (A) 10 to 50 parts by weight, (B) 30 to 85 parts by weight, and (C) 5 to 50 parts by weight, particularly preferably (A) 10 to 40 parts by weight, (B). ) 5
0 to 80 parts by weight, and (C) 10 to 30 parts by weight,
The total of these is 100 parts by weight. Within the above range, good detergency and dryness can be combined, which is preferable. When (A) is less than the above range, the drying property at low temperature is deteriorated, and when (A) exceeds the above range, detergency is deteriorated. When (B) is less than the above range, the detergency is lowered, and when (B) exceeds the above range, the drying property at low temperature is lowered. Further, if (C) is less than the above range, sufficient detergency for stains with low polarity cannot be obtained, and if (C) exceeds the above range, the drying property at low temperature is deteriorated, which is not preferable.

【0017】上記の各洗浄液組成物において、成分
(A)はMBO及びMMBから選ばれた少なくとも一の
化合物が特に好ましい。
In each of the above cleaning liquid compositions, the component (A) is particularly preferably at least one compound selected from MBO and MMB.

【0018】上記の各洗浄液組成物は、広く金属、樹脂
等の表面に付着した油類等の洗浄に適しており、例えば
特願平5-111195号に記載された自動車用バンパー等のポ
リオレフィン樹脂製品の洗浄、塗料・コーティング樹脂
の剥離、金属表面の錆・油脂・汚れの除去、成形用金型
の洗浄、硬化前エポキシ樹脂の除去、はんだフラックス
の除去、電子・精密機器の洗浄、印刷機器の洗浄、重合
装置の洗浄等に使用される。また、極性の強い汚れか
ら、極性の弱い汚れまで幅広い範囲で良好な洗浄効果を
有する。金属加工油のような飽和炭化水素系油の洗浄に
おいては、該油は洗浄液組成物中に殆ど溶け込まず、か
つエマルジョンも生成し難いため、短時間の静置分離に
より洗浄液組成物上部に浮上せしめることができる。従
って、簡単な油水分離装置により容易に油を除去でき、
洗浄液としての寿命も長い。特に、請求項1記載の洗浄
液組成物は、はんだ付けフラックス及び硬化前エポキシ
樹脂の洗浄用として、請求項3記載の洗浄液組成物は、
はんだ付けフラックスの洗浄用として、そして、請求項
5記載の洗浄液組成物は、硬化前エポキシ樹脂の洗浄用
として好ましい。
The above-mentioned respective cleaning liquid compositions are widely suitable for cleaning oils and the like adhering to the surface of metals, resins and the like, and for example, polyolefin resins such as automobile bumpers described in Japanese Patent Application No. 5-111195. Product cleaning, paint and coating resin peeling, metal surface rust, oil and dirt removal, molding die cleaning, pre-cure epoxy resin removal, solder flux removal, electronic and precision equipment cleaning, printing equipment It is used for cleaning the polymer, cleaning the polymerization equipment, etc. Further, it has a good cleaning effect in a wide range from stains with strong polarity to stains with weak polarity. In the cleaning of saturated hydrocarbon oils such as metalworking oils, the oil hardly dissolves in the cleaning liquid composition and it is difficult to form an emulsion. Therefore, the oil can be floated above the cleaning liquid composition by a short standing separation. be able to. Therefore, oil can be easily removed with a simple oil-water separator,
It has a long life as a cleaning liquid. Particularly, the cleaning liquid composition according to claim 1 is for cleaning a soldering flux and an epoxy resin before curing, and the cleaning liquid composition according to claim 3 is:
The cleaning liquid composition according to claim 5 is preferable for cleaning the soldering flux, and for cleaning the epoxy resin before curing.

【0019】また、本発明の洗浄液組成物は、硬化前エ
ポキシ樹脂、特に硬化前エポキシ樹脂組成物に対して硬
化促進作用がない。従って、洗浄後に本発明の洗浄液組
成物が、例えばタンク内等に多少残存しても、再度硬化
前エポキシ樹脂、特に硬化前エポキシ樹脂組成物の貯蔵
中に、硬化のおそれがなく、また、硬化工程で早すぎる
硬化が起きない。
Further, the cleaning liquid composition of the present invention does not have a curing-accelerating action on the pre-curing epoxy resin, particularly on the pre-curing epoxy resin composition. Therefore, even if the cleaning liquid composition of the present invention after cleaning is, for example, slightly left in a tank or the like, there is no risk of curing again during storage of the epoxy resin before curing, particularly the epoxy resin composition before curing, and curing Premature curing does not occur in the process.

【0020】上記の硬化前エポキシ樹脂としては、例え
ばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF
型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、
多価アルコールのポリグリシジルエーテル、多塩基酸の
ポリグリシジルエステル、3,4‐エポキシシクロヘキ
シルメチル(3,4‐エポキシシクロヘキサン)カルボ
キシレート、ビニルシクロヘキセンジエポキサイド、ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂、ヒダントイン環を
有するエポキシ樹脂等が挙げられる。また、硬化前エポ
キシ樹脂組成物としては、例えば上記エポキシ樹脂にエ
ポキシ樹脂硬化剤、硬化促進剤を加え、更に充填剤、安
定剤、可塑剤、滑剤、難燃剤、難燃助剤、帯電防止剤、
着色剤、帯電性付与剤、褶動性改良剤、耐衝撃性改良剤
等の慣用の添加剤を配合したもの等が挙げられる。ここ
で、エポキシ樹脂硬化剤としては通常使用されているも
のであればいずれでもよく、多価フェノール類、芳香族
系多塩基酸類、芳香族ポリアミン類等が挙げられ、例え
ばフェノールノボラック、ビフェノール型ノボラック、
ビスフェノールA型ノボラック等のノボラック、無水フ
タル酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸等の酸無水物あるいはジアミノジフェニル
メタン、ジアミノジフェニルスルホン、メタフェニレン
ジアミン、ヘキサメチレンテトラミン等のアミン類等が
挙げられる。また、硬化促進剤としては、例えば第三級
アミン類や有機リン化合物等が挙げられる。
Examples of the above-mentioned epoxy resin before curing are bisphenol A type epoxy resin and bisphenol F.
Type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin,
Polyglycidyl ether of polyhydric alcohol, polyglycidyl ester of polybasic acid, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (3,4-epoxycyclohexane) carboxylate, vinylcyclohexene diepoxide, cresol novolac type epoxy resin, epoxy having hydantoin ring Resin etc. are mentioned. Further, as the pre-curing epoxy resin composition, for example, an epoxy resin curing agent and a curing accelerator are added to the above epoxy resin, and further a filler, a stabilizer, a plasticizer, a lubricant, a flame retardant, a flame retardant aid, an antistatic agent. ,
Examples thereof include those containing conventional additives such as colorants, charge imparting agents, sway-improving agents, and impact resistance-improving agents. Here, as the epoxy resin curing agent, any of those usually used may be used, and examples thereof include polyhydric phenols, aromatic polybasic acids, aromatic polyamines, and the like. For example, phenol novolac and biphenol novolac. ,
Examples thereof include novolaks such as bisphenol A type novolacs, acid anhydrides such as phthalic anhydride, pyromellitic dianhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, and amines such as diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, metaphenylenediamine, and hexamethylenetetramine. . Further, examples of the curing accelerator include tertiary amines and organic phosphorus compounds.

【0021】また、本発明の洗浄液組成物には、本発明
の目的を損なわない範囲で、界面活性剤、酸化防止剤、
紫外線吸収剤、防錆剤等の慣用の添加剤を含めることが
できる。ここで任意物質としての界面活性剤は、油類、
ポリマー、スケール、金属石鹸、はんだ付けフラック
ス、あるいは硬化前エポキシ樹脂、特に硬化前エポキシ
樹脂組成物等への浸透性や溶解速度の向上のために使用
される。該界面活性剤としては非イオン性界面活性剤が
好ましく、例えば高級アルコールエチレンオキサイド付
加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、
脂肪酸エチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミン
エチレンオキサイド付加物、ソルビトール及びソルビタ
ンの脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、シリコン
系、フッ素系等いずれのものも使用できる。また、他の
任意物質である紫外線吸収剤及び酸化防止剤は液の長期
保存等のための安定性の向上に役立ち、紫外線吸収剤と
しては例えばベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン
系、ヒンダードアミン系等を使用でき、酸化防止剤とし
ては例えばフェノール系、アミン系、硫黄系、リン系
等、本発明の洗浄液組成物に溶解するものはいずれも使
用できる。
Further, the cleaning liquid composition of the present invention contains a surfactant, an antioxidant, and
Conventional additives such as ultraviolet absorbers and rust preventives may be included. Here, the surfactant as an arbitrary substance is an oil,
It is used for improving the permeability and dissolution rate into polymers, scales, metal soap, soldering flux, or pre-curing epoxy resin, especially pre-curing epoxy resin composition. The surfactant is preferably a nonionic surfactant, for example, higher alcohol ethylene oxide adduct, alkylphenol ethylene oxide adduct,
Any of fatty acid ethylene oxide adduct, higher alkylamine ethylene oxide adduct, fatty acid ester of sorbitol and sorbitan, sucrose fatty acid ester, silicon type, fluorine type and the like can be used. Further, other optional substances such as UV absorbers and antioxidants help improve stability for long-term storage of liquids, and as the UV absorbers, for example, benzotriazole-based, benzophenone-based, hindered amine-based, etc. can be used. As the antioxidant, for example, any of those that are soluble in the cleaning liquid composition of the present invention, such as phenol-based, amine-based, sulfur-based, phosphorus-based, and the like can be used.

【0022】本発明の洗浄液組成物の製造方法に関して
は特に制限はなく、通常公知の手段を採用することがで
き、成分を任意の順で混合して製造することができる。
The method for producing the cleaning liquid composition of the present invention is not particularly limited, and commonly known means can be adopted, and the components can be produced by mixing them in any order.

【0023】本発明の洗浄液組成物による洗浄方法自体
は特に制限はなく、公知のいずれの方法も使用できる。
例えば、洗浄液組成物を含浸したスポンジ等による拭き
取り、洗浄液組成物への浸漬及び/又はスプレー等によ
り実施することが好ましい。浸漬による洗浄において
は、洗浄効果を高めるために、同時に攪拌、揺動、超音
波又はエアバブリング等を組み合わせることが更に好ま
しい。この場合、超音波の使用条件は、例えば発振周波
数20〜100kHz、発振出力10〜200W/lが
好ましい。エアバブリングでは、微細な気泡を、好まし
くはガス:液体の体積比1:1乃至5:1程度で通気す
ることにより、洗浄液組成物に不溶性の汚れを気泡と共
に上昇させ、不溶性の汚れをも分離することができる。
スプレーによる洗浄において、その圧力は、例えば0.
5〜10kg/cm2 Gが好ましい。いずれの場合も洗
浄時間は、好ましくは15秒間〜2時間、特に好ましく
は30秒間〜20分間である。はんだ付けフラックスを
洗浄するに際しては、洗浄時間は、好ましくは10秒間
〜30分間、特に好ましくは20秒間〜10分間であ
る。上記範囲未満では洗浄が不十分で、付着した汚れを
十分に除去し得ず、一方、上記範囲を超えても洗浄効果
は格別向上しない。洗浄温度は、好ましくは室温〜80
℃である。特に好ましくは40〜60℃であり、高温で
処理することにより洗浄効果を著しく上昇させることが
できる。上記範囲未満では、洗浄が不十分となり易い。
電子部品上のはんだ付けフラックスの洗浄においては、
洗浄温度が80℃を超えては、基板上に設置された電子
部品の劣化を招くため好ましくない。また、硬化前エポ
キシ樹脂組成物を洗浄するに際しては、洗浄温度は、好
ましくは室温〜140℃、特に好ましくは30〜70℃
である。上記範囲未満では、洗浄が不十分となり易く、
上記範囲を超えては、洗浄液組成物の沸点に近付き過ぎ
るため安全性の面から好ましくない。
The washing method itself with the washing liquid composition of the present invention is not particularly limited, and any known method can be used.
For example, it is preferable to carry out by wiping with a sponge impregnated with the cleaning liquid composition, dipping in the cleaning liquid composition and / or spraying. In the cleaning by immersion, it is more preferable to combine stirring, shaking, ultrasonic waves, air bubbling and the like at the same time in order to enhance the cleaning effect. In this case, it is preferable that the ultrasonic wave is used under an oscillation frequency of 20 to 100 kHz and an oscillation output of 10 to 200 W / l. In air bubbling, fine air bubbles are preferably aerated at a gas: liquid volume ratio of about 1: 1 to 5: 1 to raise insoluble dirt in the cleaning liquid composition together with the air bubbles and also separate insoluble dirt. can do.
In cleaning by spraying, the pressure is, for example, 0.
5 to 10 kg / cm 2 G is preferable. In any case, the cleaning time is preferably 15 seconds to 2 hours, particularly preferably 30 seconds to 20 minutes. When cleaning the soldering flux, the cleaning time is preferably 10 seconds to 30 minutes, particularly preferably 20 seconds to 10 minutes. If the amount is less than the above range, the cleaning is insufficient and the attached dirt cannot be sufficiently removed. On the other hand, if the amount exceeds the above range, the cleaning effect is not particularly improved. The washing temperature is preferably room temperature to 80
℃. The temperature is particularly preferably 40 to 60 ° C., and the cleaning effect can be remarkably enhanced by treating at a high temperature. If it is less than the above range, the cleaning tends to be insufficient.
When cleaning soldering flux on electronic parts,
If the cleaning temperature exceeds 80 ° C., the electronic components mounted on the substrate are deteriorated, which is not preferable. When washing the epoxy resin composition before curing, the washing temperature is preferably room temperature to 140 ° C, particularly preferably 30 to 70 ° C.
Is. If it is less than the above range, the cleaning tends to be insufficient,
When the content exceeds the above range, the boiling point of the cleaning liquid composition is too close, which is not preferable from the viewpoint of safety.

【0024】本発明の洗浄液組成物を使用して洗浄した
被洗浄物の乾燥は、通常公知の方法により行うことがで
きる。例えば、洗浄後の被洗浄物に温風を吹き付けるこ
とにより容易に乾燥することができる。温風の温度は好
ましくは40〜140℃、特に好ましくは40〜80℃
であり、乾燥時間は好ましくは5〜60分間、特に好ま
しくは5〜20分間である。電子部品上のはんだ付けフ
ラックスの洗浄後の乾燥においては、温風の温度が80
℃を超えては、基板上に設置された電子部品の劣化を招
くため好ましくない。
The object to be cleaned washed with the cleaning liquid composition of the present invention can be dried by a generally known method. For example, the object to be cleaned after cleaning can be easily dried by blowing warm air. The temperature of the warm air is preferably 40 to 140 ° C, particularly preferably 40 to 80 ° C.
And the drying time is preferably 5 to 60 minutes, particularly preferably 5 to 20 minutes. When the soldering flux on the electronic component is dried after cleaning, the temperature of warm air is 80
If the temperature exceeds ℃, it is not preferable because it causes deterioration of the electronic components installed on the substrate.

【0025】以下、本発明を実施例、比較例により更に
詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定さ
れるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

【0026】[0026]

【実施例】実施例及び比較例においては下記の汚れ用と
しての物質、及び比較用洗浄液としての水系洗浄液及び
石油系洗浄液を使用した。 <汚れ用物質> 物質(a):ロジン系はんだ付けフラックス(スパーク
ルフラックスPO‐F‐1010S、商標、千住金属工
業株式会社製) 物質(b):水溶性はんだ付けフラックス(スパークル
フラックスWF‐2060、商標、千住金属工業株式会
社製) 物質(c):硬化前エポキシ樹脂組成物 該樹脂組成物中の成分及びその配合比は下記の通りであ
る。各成分を室温で混合し、0℃で2週間保存した後に
室温に戻したものを用いた。
EXAMPLES In the Examples and Comparative Examples, the following substances for soiling, and water-based cleaning liquids and petroleum-based cleaning liquids as comparative cleaning liquids were used. <Staining substance> Substance (a): Rosin-based soldering flux (Sparkle flux PO-F-1010S, trademark, manufactured by Senju Metal Industry Co., Ltd.) Substance (b): Water-soluble soldering flux (Sparkle flux WF-2060, Trademark, manufactured by Senju Metal Industry Co., Ltd. Material (c): Epoxy resin composition before curing Components in the resin composition and their compounding ratios are as follows. The components were mixed at room temperature, stored at 0 ° C. for 2 weeks, and then returned to room temperature.

【0027】エポキシ樹脂(エピコート828、商標、
油化シェル株式会社製):100重量部 硬化剤(ペンタハード5000、商標、東燃化学株式会
社製):90重量部 硬化促進剤(2‐エチル‐4‐メチルイミダゾール、四
国化成株式会社製):0.5重量部 <比較用洗浄液> 水系洗浄液:トヨゾールSS‐20(商標、豊田化学株
式会社製)の5重量%水溶液 石油系洗浄液:ACTREL 1178L(商標、エク
ソン化学株式会社製)
Epoxy resin (Epicoat 828, trademark,
Yuka Shell Co., Ltd.): 100 parts by weight Curing agent (Pentahard 5000, trademark, manufactured by Tonen Kagaku Co., Ltd.): 90 parts by weight Curing accelerator (2-ethyl-4-methylimidazole, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd.): 0.5 parts by weight <Comparative cleaning liquid> Water-based cleaning liquid: 5 wt% aqueous solution of Toyosol SS-20 (trademark, manufactured by Toyota Chemical Co., Ltd.) Petroleum-based cleaning liquid: ACTREL 1178L (trademark, manufactured by Exxon Chemical Co., Ltd.)

【0028】[0028]

【実施例1〜17及び比較例1〜4】超音波による洗浄テスト 5cm×7cmの100メッシュステンレス製金網を上
記の汚れ用物質(a)、(b)及び(c)に浸漬した
後、引き上げ、濾紙を敷いた金属バット上に室温で1時
間放置することにより液切りを行い、金網に付着した各
汚れ用物質の重量を測定した。次に、150ミリリット
ルのサンプル瓶に上記の各汚れ用物質が付着した金網及
び洗浄液組成物100ミリリットルを入れ、超音波洗浄
機(発振周波数28kHz、発振出力80W/l)を用
いて、洗浄を実施した。使用した各洗浄液組成物及び洗
浄条件は表1〜3に示す通りである。洗浄後、金網を取
り出して90℃で30分間乾燥し、次いで室温で30分
間放冷した後、重量測定を行うことにより、各汚れ用物
質の除去率を求めた。その結果を表1〜3に示す。
[Examples 1 to 17 and Comparative Examples 1 to 4] Ultrasonic cleaning test A 5 cm x 7 cm 100-mesh stainless steel wire net was immersed in the above-mentioned stain substances (a), (b) and (c) and then pulled up. The sample was drained by leaving it on a metal vat lined with filter paper for 1 hour at room temperature, and the weight of each stain substance attached to the wire net was measured. Next, 100 ml of the wire mesh and the cleaning liquid composition to which each of the above-mentioned stain substances is attached is put into a 150 ml sample bottle, and cleaning is performed using an ultrasonic cleaner (oscillation frequency 28 kHz, oscillation output 80 W / l). did. The cleaning liquid compositions and cleaning conditions used are as shown in Tables 1 to 3. After washing, the wire net was taken out, dried at 90 ° C. for 30 minutes, allowed to cool at room temperature for 30 minutes, and then weighed to determine the removal rate of each stain substance. The results are shown in Tables 1 to 3.

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】[0030]

【表2】 [Table 2]

【0031】[0031]

【表3】 実施例1〜5は、成分(A)と(B)から成る洗浄液組
成物を使用した結果である。実施例1及び2は、(A)
としてMBO又はMMB、(B)としてNMPを使用し
て、ロジン系はんだ付けフラックスを洗浄したものであ
る。いずれも、その除去率は良好であった。実施例3
は、(A)としてMBO、MMB、EEO、MEA及び
MPAの混合物、(B)としてNMPとGBLの混合物
を使用して、上記と同様にロジン系はんだ付けフラック
スを洗浄したものである。上記同様、良好な除去率が得
られた。実施例4は、(A)としてMBO、(B)とし
てNMPとGBLの混合物を使用して、水溶性はんだ付
けフラックスを洗浄したものである。除去率は良好であ
った。実施例5は、実施例1と同一の洗浄液組成物を使
用して、硬化前エポキシ樹脂組成物を洗浄したものであ
る。ロジン系はんだ付けフラックスの洗浄と同様に良好
な除去率が達成された。この様に、成分(A)と(B)
から成る洗浄液組成物は、ロジン系及び水溶性はんだ付
けフラックス、及び硬化前エポキシ樹脂組成物に対し
て、良好な洗浄効果を有することが分かった。
[Table 3] Examples 1-5 are the results of using a cleaning liquid composition comprising components (A) and (B). Examples 1 and 2 are (A)
Is used to clean the rosin-based soldering flux using MBO or MMB as the material and NMP as the material (B). In all cases, the removal rate was good. Example 3
Is a mixture of MBO, MMB, EEO, MEA and MPA used as (A) and a mixture of NMP and GBL used as (B), and the rosin-based soldering flux was washed in the same manner as above. Similar to the above, a good removal rate was obtained. In Example 4, the water-soluble soldering flux was cleaned using MBO as (A) and a mixture of NMP and GBL as (B). The removal rate was good. In Example 5, the same cleaning liquid composition as in Example 1 was used to wash the epoxy resin composition before curing. A good removal rate was achieved as well as cleaning the rosin-based soldering flux. In this way, the components (A) and (B)
It was found that the cleaning liquid composition consisting of (3) has a good cleaning effect on the rosin-based and water-soluble soldering fluxes and the pre-cured epoxy resin composition.

【0032】実施例6〜9は、成分(A)と(C)から
成る洗浄液組成物を使用した結果である。実施例6及び
7は、(A)としてMBO又はMMBを使用して、ロジ
ン系はんだ付けフラックスを洗浄したものである。いず
れも、その除去率は良好であった。実施例8は、実施例
6と同一の洗浄液組成物を使用して、水溶性はんだ付け
フラックスを洗浄したものである。上記と同様に、その
除去率は良好であった。実施例9は、(A)としてMB
O、MMB、EEO、MEA及びMPAの混合物を使用
したものである。同様に良好な除去率が達成された。こ
の様に、成分(A)と(C)から成る洗浄液組成物は、
ロジン系及び水溶性はんだ付けフラックスに対して、良
好な洗浄効果を有することが分かった。
Examples 6-9 are the results of using a cleaning liquid composition comprising components (A) and (C). In Examples 6 and 7, MBO or MMB was used as (A) and the rosin-based soldering flux was washed. In all cases, the removal rate was good. In Example 8, the same cleaning liquid composition as in Example 6 was used to wash the water-soluble soldering flux. Similar to the above, the removal rate was good. Example 9 uses MB as (A)
It uses a mixture of O, MMB, EEO, MEA and MPA. Similarly good removal rates were achieved. Thus, the cleaning liquid composition comprising the components (A) and (C) is
It was found to have a good cleaning effect on rosin-based and water-soluble soldering flux.

【0033】実施例10〜17は、成分(A)、(B)
及び(C)から成る洗浄液組成物を使用して、いずれも
硬化前エポキシ樹脂組成物を洗浄した結果である。実施
例10〜12は、(A)としてMBO又はMMB、
(B)としてNMPを使用したものであり、実施例13
〜15は、(A)としてMBO又はMMB、(B)とし
てGBLを使用したものである。いずれも良好な除去率
を示した。実施例11と12、及び実施例14と15
は、夫々各成分の配合比を本発明の範囲内で変化させた
ものである。いずれも除去率は良好であった。実施例1
6は、(A)としてMBO、(B)としてNMP及びG
BLの混合物を使用したものであり、実施例17は、
(A)としてMBO及びMMBの混合物、(B)として
NMP及びGBLの混合物を使用したものである。いず
れも良好な除去率が達成された。
Examples 10 to 17 are components (A) and (B).
The results are obtained by cleaning the pre-curing epoxy resin composition using the cleaning liquid composition consisting of (C) and (C). Examples 10 to 12 are MBO or MMB as (A),
Example 13 uses NMP as (B).
Nos. 15 to 15 use MBO or MMB as (A) and GBL as (B). All showed good removal rates. Examples 11 and 12, and Examples 14 and 15
Indicates that the compounding ratio of each component is changed within the range of the present invention. In all cases, the removal rate was good. Example 1
6 is MBO as (A), NMP and G as (B)
A mixture of BL was used and Example 17
A mixture of MBO and MMB is used as (A), and a mixture of NMP and GBL is used as (B). Good removal rates were achieved in all cases.

【0034】一方、比較例1及び2は、水系洗浄液又は
石油系洗浄液を使用してロジン系はんだ付けフラックス
を洗浄したものであり、比較例3及び4は、上記と同一
の洗浄液を使用して硬化前エポキシ樹脂組成物を洗浄し
た結果である。いずれもその除去率は著しく低かった。
On the other hand, Comparative Examples 1 and 2 were prepared by cleaning the rosin-based soldering flux using an aqueous cleaning solution or a petroleum-based cleaning solution, and Comparative Examples 3 and 4 were prepared using the same cleaning solution as above. It is a result of cleaning the epoxy resin composition before curing. The removal rate was extremely low in all cases.

【0035】[0035]

【実施例18〜41及び比較例5〜12】揺動による洗浄テスト 4cm×6cmの各ドットプリント基板に上記の汚れ用
物質(a)及び(b)を塗布した後、5分間放置した。
次に、熱風循環式オーブンを用いて、90℃で10分間
乾燥した後、各基板に付着した各汚れ用物質の重量を測
定した。次に、各洗浄液組成物500ミリリットルに、
各汚れ用物質が付着した基板を基板面が液面と垂直にな
る方向で入れた。次いで、振幅25mm、毎分50サイ
クルの割合で、上下方向に揺動することにより洗浄し
た。使用した各洗浄液組成物及び洗浄条件は表4〜6に
示す通りである。洗浄後、基板を取り出して90℃で3
0分間乾燥し、次いで室温で30分間放冷した後、重量
測定を行うことにより、各汚れ用物質の除去率を求め
た。その結果を表4〜6に示す。
Examples 18 to 41 and Comparative Examples 5 to 12 Cleaning test by rocking The above-mentioned stain substances (a) and (b) were applied to each dot printed circuit board of 4 cm × 6 cm, and left for 5 minutes.
Next, using a hot air circulation type oven, after drying at 90 ° C. for 10 minutes, the weight of each stain substance attached to each substrate was measured. Next, to 500 ml of each cleaning liquid composition,
The substrates to which the respective stain substances were attached were put in a direction in which the substrate surface was perpendicular to the liquid surface. Then, it was washed by rocking vertically with an amplitude of 25 mm and a rate of 50 cycles per minute. The cleaning liquid compositions and the cleaning conditions used are as shown in Tables 4 to 6. After cleaning, take out the substrate and
After being dried for 0 minute and then allowed to cool at room temperature for 30 minutes, the removal rate of each soiling substance was determined by weighing. The results are shown in Tables 4-6.

【0036】[0036]

【表4】 [Table 4]

【0037】[0037]

【表5】 [Table 5]

【0038】[0038]

【表6】 実施例18〜29は、成分(A)と(B)から成る洗浄
液組成物を使用した結果である。実施例18〜22は、
(A)を種々変化させ、(B)としてNMPを使用し
て、ロジン系はんだ付けフラックスを洗浄したものであ
る。(A)の種類に関係なく、除去率は良好であった。
実施例23及び24は、(A)としてMBO又はMM
B、(B)としてGBLを使用したものである。GBL
を用いたものにおいても、ロジン系はんだ付けフラック
スの除去率は良好であった。実施例25は、(A)とし
てMBO、(B)としてNMP及びGBLの混合物を使
用したものである。ロジン系はんだ付けフラックスの除
去率は良好であった。実施例26〜28は、(A)とし
てEEO、MEA又はMPA、(B)としてGBLを使
用して、水溶性はんだ付けフラックスを洗浄したもので
ある。いずれも良好な除去率が達成された。実施例29
は、(A)としてMMB、(B)としてNMP及びGB
Lの混合物を使用して、水溶性はんだ付けフラックスを
洗浄したものである。上記と同様に、その除去率は良好
であった。
[Table 6] Examples 18-29 are the results of using a cleaning liquid composition comprising components (A) and (B). Examples 18 to 22 are
(A) is variously changed, and NMP is used as (B) to clean the rosin-based soldering flux. The removal rate was good regardless of the type of (A).
Examples 23 and 24 are MBO or MM as (A)
GBL is used as B and (B). GBL
The rosin-based soldering flux removal rate was also good in the case of using. Example 25 uses a mixture of MBO as (A) and NMP and GBL as (B). The removal rate of the rosin-based soldering flux was good. In Examples 26 to 28, the water-soluble soldering flux was washed using EEO, MEA or MPA as (A) and GBL as (B). Good removal rates were achieved in all cases. Example 29
Is MMB as (A), NMP and GB as (B)
The mixture of L was used to wash the water-soluble soldering flux. Similar to the above, the removal rate was good.

【0039】実施例30〜41は、成分(A)と(C)
から成る洗浄液組成物を使用した結果である。実施例3
0〜34は、(A)を種々変化させ、ロジン系はんだ付
けフラックスを洗浄したものである。(A)の種類に関
係なく、除去率は良好であった。実施例35は、(A)
としてMBO及びMMBの混合物を使用したものであ
る。その除去率は良好であった。実施例36〜40は、
(A)を種々変化させ、水溶性はんだ付けフラックスを
洗浄したものである。水溶性はんだ付けフラックスも良
好に洗浄し得ることが分かった。実施例41は、(A)
としてMBO、MMB及びEEOの混合物を使用して、
水溶性はんだ付けフラックスを洗浄したものである。そ
の除去率は良好であった。
In Examples 30 to 41, the components (A) and (C) were used.
It is a result of using a cleaning liquid composition consisting of. Example 3
Nos. 0 to 34 are those in which (A) was variously changed and the rosin-based soldering flux was washed. The removal rate was good regardless of the type of (A). Example 35 is (A)
Is a mixture of MBO and MMB. The removal rate was good. Examples 36-40 are
(A) is variously changed to wash the water-soluble soldering flux. It was found that the water-soluble soldering flux can also be cleaned well. Example 41 is (A)
Using a mixture of MBO, MMB and EEO as
The water-soluble soldering flux is cleaned. The removal rate was good.

【0040】一方、比較例5〜9は、各種(A)のみを
使用して、ロジン系はんだ付けフラックスを洗浄したも
のである。いずれも本発明の洗浄液組成物と比較して、
その除去率は劣っていた。比較例10は、イソプロピル
アルコール(IPA)を使用して、同じくロジン系はん
だ付けフラックスを洗浄したものである。その除去率は
著しく低かった。比較例11及び12は、夫々(B)成
分であるNMP又はGBLのみを使用してロジン系はん
だ付けフラックスを洗浄したものである。その除去率は
いずれも良好であったが、下記のように乾燥性が悪く
(比較例19〜26参照)、本発明の洗浄液組成物のよ
うに良好な洗浄液とはいえない。
On the other hand, Comparative Examples 5 to 9 are those in which the rosin-based soldering flux was washed using only the various (A). Both compared with the cleaning liquid composition of the present invention,
Its removal rate was poor. In Comparative Example 10, isopropyl alcohol (IPA) was used and the rosin-based soldering flux was also washed. The removal rate was extremely low. Comparative Examples 11 and 12 are those in which the rosin-based soldering flux was washed using only the component (B), NMP or GBL, respectively. The removal rates were all good, but the dryness was poor as described below (see Comparative Examples 19 to 26), and it cannot be said that the cleaning solution was as good as the cleaning solution composition of the present invention.

【0041】[0041]

【実施例42〜65及び比較例13】攪拌による洗浄テスト 5cm×7cmの100メッシュステンレス製金網を上
記の汚れ用物質(c)に浸漬した後、引上げ、濾紙を敷
いた金属バット上に室温で1時間放置することにより液
切りを行い、金網に付着した汚れ用物質(c)の重量を
測定した。次に、150ミリリットルのサンプル瓶に、
該汚れ用物質が付着した金網、洗浄液組成物100ミリ
リットル及び回転子を入れ、マグネチックスターラーに
て攪拌することにより洗浄を行った。使用した各洗浄液
組成物及び洗浄条件は表7〜8に示す通りである。洗浄
後、金網を取出して90℃で30分間乾燥し、次いで室
温で30分間放冷した後、重量測定を行うことにより汚
れ用物質の除去率を求めた。その結果を表7〜8に示
す。
Examples 42 to 65 and Comparative Example 13 Washing test by stirring A 5 cm × 7 cm 100 mesh stainless steel wire net was dipped in the above-mentioned stain substance (c) and then pulled up at room temperature on a metal vat lined with filter paper. The liquid was drained by leaving it for 1 hour, and the weight of the stain substance (c) attached to the wire mesh was measured. Next, in a 150 ml sample bottle,
Washing was carried out by adding a wire net to which the stain substance was attached, 100 ml of a cleaning liquid composition and a rotor, and stirring with a magnetic stirrer. The cleaning liquid compositions and cleaning conditions used are as shown in Tables 7-8. After washing, the wire net was taken out, dried at 90 ° C. for 30 minutes, then allowed to cool at room temperature for 30 minutes, and then weighed to determine the removal rate of the stain substance. The results are shown in Tables 7-8.

【0042】[0042]

【表7】 [Table 7]

【0043】[0043]

【表8】 実施例42〜53は、成分(A)と(B)から成る洗浄
液組成物を使用して、硬化前エポキシ樹脂組成物を洗浄
した結果である。実施例42〜46は、(A)を種々変
化させ、(B)としてNMPを使用した結果である。
(A)がEEO、MEA又はMPAのときに、除去率が
多少低下するが、本発明の効果を十分に達成し得るもの
であった。実施例47〜51は、(A)を種々変化さ
せ、(B)としてGBLを使用した結果である。いずれ
も良好な除去率を示した。実施例52は、(A)として
MBO、(B)としてNMP及びGBLの混合物を使用
したものであり、実施例53は、(A)としてMMB、
(B)としてNMP及びGBLの混合物を使用したもの
である。いずれにおいても、その除去率は良好であっ
た。
[Table 8] Examples 42 to 53 are results of cleaning the pre-curing epoxy resin composition using the cleaning liquid composition containing the components (A) and (B). Examples 42 to 46 are results obtained by changing (A) variously and using NMP as (B).
When (A) is EEO, MEA or MPA, the removal rate is slightly lowered, but the effect of the present invention can be sufficiently achieved. Examples 47 to 51 are results obtained by changing (A) variously and using GBL as (B). All showed good removal rates. Example 52 uses MBO as (A), a mixture of NMP and GBL as (B), and Example 53 uses MMB as (A),
A mixture of NMP and GBL is used as (B). In all cases, the removal rate was good.

【0044】実施例54〜65は、成分(A)、(B)
及び(C)から成る洗浄液組成物を使用して、硬化前エ
ポキシ樹脂組成物を洗浄した結果である。実施例54〜
58は、(A)を種々変化させ、(B)としてNMPを
使用した結果である。いずれも良好な除去率を示した。
実施例59〜63は、(A)を種々変化させ、(B)と
してGBLを使用した結果である。いずれも良好な除去
率を示した。(A)及び(B)の種類と関係なく、いず
れも良好な除去率を示した。実施例64は、(A)とし
てMBO、(B)としてNMP及びGBLの混合物を使
用したものであり、実施例65は、(A)としてMM
B、(B)としてNMP及びGBLの混合物を使用した
ものである。いずれも良好な除去率を達成することがで
きた。
Examples 54 to 65 are components (A) and (B).
It is a result of cleaning the epoxy resin composition before curing by using the cleaning liquid composition consisting of (C). Example 54-
58 is the result of variously changing (A) and using NMP as (B). All showed good removal rates.
Examples 59 to 63 are results obtained by changing (A) variously and using GBL as (B). All showed good removal rates. Regardless of the types of (A) and (B), all showed good removal rates. Example 64 uses a mixture of MBO as (A) and NMP and GBL as (B), Example 65 uses MM as (A).
B, a mixture of NMP and GBL is used as (B). In all cases, a good removal rate could be achieved.

【0045】一方、比較例13は、水系洗浄液を使用し
て硬化前エポキシ樹脂組成物を洗浄した結果である。本
発明の洗浄液組成物と比べて、硬化前エポキシ樹脂組成
物の除去率は著しく低かった。
On the other hand, Comparative Example 13 is the result of cleaning the pre-curing epoxy resin composition using an aqueous cleaning solution. The removal rate of the pre-cured epoxy resin composition was significantly lower than that of the cleaning liquid composition of the present invention.

【0046】[0046]

【実施例66〜85及び参考例1〜2】次に、本発明の
洗浄液組成物のエポキシ樹脂に対する硬化促進作用につ
いて検討した。表9〜10に示した配合比(重量部)で
各成分を120℃にて加熱混合した後、115℃に保持
してゲル化時間を測定した。参考のため、本発明の洗浄
液を添加しない場合、及び該洗浄液の代りに硬化促進剤
であるベンジルジメチルアミンを添加した場合について
もゲル化時間を測定した。ゲル化時間の測定はASTM
D3532に準拠して行った。その結果を表9〜10
に示す。
Examples 66 to 85 and Reference Examples 1 and 2 Next, the curing accelerating action of the cleaning liquid composition of the present invention on the epoxy resin was examined. Each component was heated and mixed at 120 ° C. at the compounding ratio (parts by weight) shown in Tables 9 to 10 and then kept at 115 ° C. to measure the gelation time. For reference, the gelation time was also measured when the cleaning solution of the present invention was not added and when benzyldimethylamine as a curing accelerator was added instead of the cleaning solution. The gelation time is measured by ASTM
It carried out based on D3532. The results are shown in Tables 9 to 10.
Shown in.

【0047】[0047]

【表9】 [Table 9]

【0048】[0048]

【表10】 実施例66〜75は、成分(A)と(B)から成る洗浄
液組成物を添加したものであり、実施例76〜85は、
成分(A)、(B)及び(C)から成る洗浄液組成物を
添加したものである。いずれの場合にも、洗浄液組成物
を添加しなかった参考例1の場合と同様に、ゲル化は生
じなかった。また、代表的な硬化促進剤であるベンジル
ジメチルアミンを添加した参考例2の場合には、25分
でゲル化した。従って、本発明の洗浄液組成物は、少な
くとも115℃程度の温度までは硬化促進作用を示さ
ず、洗浄後のタンク内に本発明の洗浄液組成物が少量残
存しても、悪影響を及ぼすことはないと言える。即ち、
本発明の洗浄液組成物を用いて硬化前エポキシ樹脂組成
物用貯蔵タンクの洗浄を行った後、残存した洗浄液組成
物を完全に除去することなしに、新たな硬化前エポキシ
樹脂組成物の貯蔵が可能である。
[Table 10] Examples 66 to 75 are those in which a cleaning liquid composition comprising components (A) and (B) was added, and Examples 76 to 85 were
A cleaning liquid composition comprising components (A), (B) and (C) was added. In all cases, gelation did not occur, as in Reference Example 1 in which the cleaning liquid composition was not added. Further, in the case of Reference Example 2 in which benzyldimethylamine, which is a typical curing accelerator, was added, gelation occurred in 25 minutes. Therefore, the cleaning liquid composition of the present invention does not exhibit a curing accelerating action up to a temperature of at least about 115 ° C., and even if a small amount of the cleaning liquid composition of the present invention remains in the tank after cleaning, it has no adverse effect. Can be said. That is,
After cleaning the pre-curing epoxy resin composition storage tank using the cleaning liquid composition of the present invention, a new pre-curing epoxy resin composition can be stored without completely removing the remaining cleaning liquid composition. It is possible.

【0049】[0049]

【実施例86〜133、比較例14〜31】乾燥性テスト 被洗浄物として、ザルトリウス製電子天秤に用いられて
いる実装基板を約8cm×4cmに切断したものを使用
した。該被洗浄物には、IC2個、抵抗18個、ソケッ
ト2個が設置されていた。予め、該被洗浄物をホットド
ライヤーを用いて、80℃で30分間熱風乾燥した。次
に、該被洗浄物を50℃に加温された各洗浄液組成物に
浸漬し、超音波洗浄機(発振周波数28kHz、発振出
力80W/l)を用いて3分間処理した。その後、室温
で1分間液切りし、ホットドライヤーを用いて熱風乾燥
した。次いで、乾燥状態を目視評価した。使用した各洗
浄液組成物及び乾燥条件は表11〜15に示す通りであ
る。
Examples 86 to 133, Comparative Examples 14 to 31 Dryability Test As the article to be cleaned, a mounting board used in a Sartorius electronic balance was cut into about 8 cm × 4 cm. Two ICs, 18 resistors, and 2 sockets were installed on the object to be cleaned. The article to be cleaned was previously dried with hot air at 80 ° C. for 30 minutes with hot air. Next, the object to be cleaned was immersed in each cleaning liquid composition heated to 50 ° C., and treated for 3 minutes using an ultrasonic cleaning machine (oscillation frequency 28 kHz, oscillation output 80 W / l). Then, the liquid was drained at room temperature for 1 minute and dried with hot air using a hot dryer. Then, the dry state was visually evaluated. The cleaning liquid compositions used and the drying conditions are as shown in Tables 11 to 15.

【0050】評価結果を、表11〜15に示す。The evaluation results are shown in Tables 11-15.

【0051】[0051]

【表11】 [Table 11]

【0052】[0052]

【表12】 [Table 12]

【0053】[0053]

【表13】 [Table 13]

【0054】[0054]

【表14】 [Table 14]

【0055】[0055]

【表15】 ここで、表11〜15中の記号は、以下の内容を示す。 ○:被洗浄物のソケットの隙間等に濾紙を差込んでも、
液体がないために、液体が濾紙に吸収されない状態 Δ:被洗浄物の外観には液滴が観察されないが、ソケッ
トの隙間等に濾紙を差込むと液体が濾紙に吸収される状
態 ×:被洗浄物の隙間等に目視で液滴が観察される状態 実施例86〜109は、成分(A)と(B)から成る洗
浄液組成物についての乾燥性テストの結果である。実施
例86〜90は、(A)を種々変化させ、(B)として
NMPを使用したものの結果である。(A)の種類に関
係なく、いずれも良好な乾燥性を示した。実施例91〜
95は、実施例86〜90に対して、(B)をGBLに
代えたものである。(B)の種類に関係なく、いずれも
良好な乾燥性を示した。実施例96は、(A)としてM
BO、(B)としてNMP及びGBLの混合物を使用
し、実施例97は、(A)としてMMB、(B)として
NMP及びGBLの混合物を使用したものである。いず
れにおいても、良好な乾燥性が得られた。このように、
(B)を混合物としても良好な乾燥性が得られることが
分かった。実施例98〜109は、夫々実施例86〜9
7と同一の洗浄液組成物を使用して、夫々洗浄温度を7
0℃に上げ、洗浄時間を5分間に短縮したものである。
いずれも良好な乾燥性を示し、温度を20℃上げること
により、乾燥時間を大幅に短縮し得ることが分かった。
[Table 15] Here, the symbols in Tables 11 to 15 indicate the following contents. ○: Even if filter paper is inserted into the gap of the socket of the object to be washed,
The liquid is not absorbed by the filter paper because there is no liquid Δ: No droplet is observed on the appearance of the object to be cleaned, but the liquid is absorbed by the filter paper when the filter paper is inserted into the gap of the socket, etc. A state in which droplets are visually observed in a gap or the like of the wash product Examples 86 to 109 are results of a drying test of a wash liquid composition including components (A) and (B). Examples 86 to 90 are the results of various changes in (A) and the use of NMP as (B). Regardless of the type of (A), all showed good drying properties. Examples 91 to
95 is obtained by replacing (B) with GBL with respect to Examples 86 to 90. Regardless of the type of (B), all showed good drying properties. Example 96 has M as (A)
BO, a mixture of NMP and GBL is used as (B), and Example 97 is a mixture of MMB as (A) and a mixture of NMP and GBL as (B). In all cases, good drying properties were obtained. in this way,
It was found that good dryness can be obtained even when (B) is used as a mixture. Examples 98-109 correspond to Examples 86-9, respectively.
Using the same cleaning liquid composition as in 7,
The temperature was raised to 0 ° C and the cleaning time was shortened to 5 minutes.
It was found that all of them showed good drying property, and the drying time could be shortened significantly by increasing the temperature by 20 ° C.

【0056】実施例110〜121は、成分(A)と
(C)から成る洗浄液組成物を使用した結果である。実
施例110〜114は、(A)を種々変化させて乾燥性
テストを実施した結果である。いずれも良好な乾燥性を
示した。実施例115〜119は、夫々実施例110〜
114に対して、(A)の配合量を増加し、(C)の配
合量を低下し、かつ乾燥時間を10分間に短縮したもの
である。いずれも乾燥性は良好であった。実施例120
は、(A)としてMBO及びMMBの混合物を使用した
ものであり、実施例121は、(A)としてMBO、M
MB、EEO、MEA及びMPAの混合物を使用したも
のである。いずれも50℃、10分間の乾燥条件で良好
な乾燥性を示し、(A)を混合物としても良好な乾燥性
が得られることが分かった。
Examples 110 to 121 are the results of using the cleaning liquid compositions containing the components (A) and (C). Examples 110 to 114 are the results of performing the drying test by changing (A) variously. All showed good drying properties. Examples 115 to 119 are the same as Examples 110 to 110, respectively.
In comparison with 114, the compounding amount of (A) was increased, the compounding amount of (C) was decreased, and the drying time was shortened to 10 minutes. In all cases, the drying property was good. Example 120
Is a mixture of MBO and MMB used as (A), and Example 121 is a mixture of MBO and M as (A).
A mixture of MB, EEO, MEA and MPA is used. It was found that all of them exhibited good drying properties under drying conditions of 50 ° C. for 10 minutes, and that good drying properties were obtained even when (A) was used as a mixture.

【0057】実施例122〜133は、成分(A)、
(B)及び(C)から成る洗浄液組成物を使用して、乾
燥性テストを実施した結果である。実施例122〜12
6は、(A)を種々変化させ、(B)としてNMPを使
用した結果である。(A)の種類に関係なく、いずれも
良好な乾燥性を示した。実施例127〜131は、実施
例122〜126に対して、夫々(B)をGBLに代え
た洗浄液組成物を使用した結果である。いずれも良好な
乾燥性を示した。実施例132は、(A)としてMB
O、(B)としてNMP及びGBLの混合物、実施例1
33は、(A)としてMMB、(B)としてNMP及び
GBLの混合物を使用したものである。いずれにおいて
も、良好な乾燥性を示した。このように、(B)を混合
物として使用しても良好な乾燥性が得られることが分か
った。
Examples 122 to 133 are the components (A),
It is a result of carrying out a dryness test using the cleaning liquid composition comprising (B) and (C). Examples 122-12
No. 6 is a result of variously changing (A) and using NMP as (B). Regardless of the type of (A), all showed good drying properties. Examples 127 to 131 are results obtained by using cleaning liquid compositions in which (B) was replaced with GBL with respect to Examples 122 to 126, respectively. All showed good drying properties. Example 132 uses MB as (A)
O, a mixture of NMP and GBL as (B), Example 1
No. 33 uses MMB as (A) and a mixture of NMP and GBL as (B). In all cases, good dryness was exhibited. As described above, it was found that even when (B) was used as a mixture, good drying property was obtained.

【0058】一方、比較例14〜18は、(A)の各成
分を夫々単独で使用したものである。いずれも乾燥性は
良好ではあるが、上記のようにその洗浄力が低い(比較
例5〜9参照)。比較例19〜21は、NMPのみを使
用し、夫々乾燥条件を変化させたものである。いずれも
乾燥性が悪かった。比較例22〜26は、GBLのみを
使用し、夫々乾燥条件を変化させたものである。いずれ
も乾燥性は良好ではなかった。実施例27は、(C)D
ESのみを使用したものである。乾燥時間を20分間と
長くしているにもかかわらず、乾燥性は悪かった。比較
例28〜31は、参考としてイオン交換水についての乾
燥性の結果を示した。
On the other hand, in Comparative Examples 14 to 18, each component of (A) was used alone. All of them have good drying properties, but their detergency is low as described above (see Comparative Examples 5 to 9). In Comparative Examples 19 to 21, only NMP was used and the drying conditions were changed. All were poor in dryness. In Comparative Examples 22 to 26, only GBL was used and the drying conditions were changed. None of them had good drying properties. Example 27 is (C) D.
Only ES is used. Despite the long drying time of 20 minutes, the drying property was poor. Comparative Examples 28-31 showed the drying result about ion-exchanged water as a reference.

【0059】[0059]

【発明の効果】本発明の洗浄液組成物は、良好な洗浄効
果を有すると共に、被洗浄物のリンスなしでかつ低温で
短時間の乾燥により、十分に乾燥することができかつ水
垢等の汚れがなく、並びに優れた安全性をも有する。ま
た、経済的に優れている。従って、従来の洗浄液の代替
として工業的に極めて有用である。
EFFECTS OF THE INVENTION The cleaning liquid composition of the present invention has a good cleaning effect and can be sufficiently dried without rinsing an object to be cleaned and at a low temperature for a short time, and stains such as scales can be removed. It also has excellent safety. It is also economically superior. Therefore, it is industrially extremely useful as a substitute for the conventional cleaning liquid.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)3‐メトキシ‐1‐ブタノール、
3‐メトキシ‐3‐メチルブタノール、2‐エトキシエ
タノール、2‐メトキシエタノールの酢酸エステル及び
1‐メトキシ‐2‐プロパノールの酢酸エステルから選
ばれた少なくとも一の化合物、及び(B)N‐メチル‐
2‐ピロリドン及びγ‐ブチロラクトンから選ばれた少
なくとも一の化合物を含む洗浄液組成物。
1. (A) 3-methoxy-1-butanol,
At least one compound selected from 3-methoxy-3-methylbutanol, 2-ethoxyethanol, acetic acid ester of 2-methoxyethanol and acetic acid ester of 1-methoxy-2-propanol, and (B) N-methyl-
A cleaning liquid composition containing at least one compound selected from 2-pyrrolidone and γ-butyrolactone.
【請求項2】 はんだ付けフラックス及び硬化前エポキ
シ樹脂洗浄用の請求項1記載の洗浄液組成物。
2. The cleaning liquid composition according to claim 1, which is used for cleaning a soldering flux and an epoxy resin before curing.
【請求項3】 (A)3‐メトキシ‐1‐ブタノール、
3‐メトキシ‐3‐メチルブタノール、2‐エトキシエ
タノール、2‐メトキシエタノールの酢酸エステル及び
1‐メトキシ‐2‐プロパノールの酢酸エステルから選
ばれた少なくとも一の化合物、及び(C)コハク酸ジエ
チルを含む洗浄液組成物。
3. (A) 3-methoxy-1-butanol,
Includes at least one compound selected from 3-methoxy-3-methylbutanol, 2-ethoxyethanol, 2-methoxyethanol acetate and 1-methoxy-2-propanol acetate, and (C) diethyl succinate Cleaning liquid composition.
【請求項4】 はんだ付けフラックス洗浄用の請求項3
記載の洗浄液組成物。
4. A cleaning flux cleaning soldering flux according to claim 3
The cleaning liquid composition described.
【請求項5】 (A)3‐メトキシ‐1‐ブタノール、
3‐メトキシ‐3‐メチルブタノール、2‐エトキシエ
タノール、2‐メトキシエタノールの酢酸エステル及び
1‐メトキシ‐2‐プロパノールの酢酸エステルから選
ばれた少なくとも一の化合物、(B)N‐メチル‐2‐
ピロリドン及びγ‐ブチロラクトンから選ばれた少なく
とも一の化合物、及び(C)コハク酸ジエチルを含む洗
浄液組成物。
5. (A) 3-methoxy-1-butanol,
At least one compound selected from 3-methoxy-3-methylbutanol, 2-ethoxyethanol, acetic acid ester of 2-methoxyethanol and acetic acid ester of 1-methoxy-2-propanol, (B) N-methyl-2-
A cleaning liquid composition containing at least one compound selected from pyrrolidone and γ-butyrolactone, and (C) diethyl succinate.
【請求項6】 硬化前エポキシ樹脂洗浄用の請求項5記
載の洗浄液組成物。
6. The cleaning liquid composition according to claim 5, which is for cleaning an epoxy resin before curing.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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