JP2002030063A - スルファメート化合物の製造方法 - Google Patents
スルファメート化合物の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 種々の官能基を含む多様な水酸基含有化合
物に適用することができ、必要最低限の反応原料の量
で、簡便な操作で、且つ高収率でスルファメート化合物
を製造できる方法を提供すること。 【解決手段】 本発明は、水酸基含有化合物にスルファ
モイルクロリドを反応させてスルファメート化合物を製
造する方法において、N,N−ジメチルアセトアミド、
1−メチル−2−ピロリドン等の化合物の存在下且つ実
質的に塩基の不在下に反応を行うことを特徴とするスル
ファメート化合物の製造方法に関する。
物に適用することができ、必要最低限の反応原料の量
で、簡便な操作で、且つ高収率でスルファメート化合物
を製造できる方法を提供すること。 【解決手段】 本発明は、水酸基含有化合物にスルファ
モイルクロリドを反応させてスルファメート化合物を製
造する方法において、N,N−ジメチルアセトアミド、
1−メチル−2−ピロリドン等の化合物の存在下且つ実
質的に塩基の不在下に反応を行うことを特徴とするスル
ファメート化合物の製造方法に関する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はスルファメート化合
物の新規な製造方法に関し、さらに詳しくは、水酸基含
有化合物にスルファモイルクロリドを反応させてスルフ
ァメート化合物を製造する方法の改良に関する。
物の新規な製造方法に関し、さらに詳しくは、水酸基含
有化合物にスルファモイルクロリドを反応させてスルフ
ァメート化合物を製造する方法の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】スルファメート化合物(−OSO2NH2
基を有する化合物)は、さまざまな生理活性を示すこと
が知られており、特にステロイド、核酸、糖などの分野
で盛んに合成研究が行われている。これらのスルファメ
ート化合物の一般的な製造方法としては、水酸基含有化
合物にスルファモイルクロリドを反応させる方法が知ら
れている。このスルファモイル化反応は、通常、有機溶
媒中で、過剰量の塩基、例えば水素化ナトリウムや2,
6−ジ−t−ブチル−4−メチルピリジン等の存在下に
且つ過剰量のスルファモイルクロリドを用いて行われて
いる。しかし、このスルファモイル化反応は基質によっ
て収率の変動幅が大きく、幅広い化合物に対して適用可
能な一般的方法であるとは決していえない。しかも過剰
量の塩基と過剰量のスルファモイルクロリドを用いて反
応を行っているにも拘わらず、多くの場合その収率はた
かだか数十%程度に過ぎないので、工業的な観点からも
十分に満足できる方法であるとはいえない(例えば、St
eroids, Vol.63, 425,(1998)(収率:50〜61%); J. A
m. Chem. Soc., Vol.92, 3434,(1970)(収率:15〜85
%); J. Med. Chem., Vol.35, 3991,(1992)(収率:27
〜66%); TetrahedronLett., Vol.33, 5009,(1992)
(収率:35〜40%); J. Med. Chem., Vol.41, 1315,(1
998)(収率:41〜81%)参照)。
基を有する化合物)は、さまざまな生理活性を示すこと
が知られており、特にステロイド、核酸、糖などの分野
で盛んに合成研究が行われている。これらのスルファメ
ート化合物の一般的な製造方法としては、水酸基含有化
合物にスルファモイルクロリドを反応させる方法が知ら
れている。このスルファモイル化反応は、通常、有機溶
媒中で、過剰量の塩基、例えば水素化ナトリウムや2,
6−ジ−t−ブチル−4−メチルピリジン等の存在下に
且つ過剰量のスルファモイルクロリドを用いて行われて
いる。しかし、このスルファモイル化反応は基質によっ
て収率の変動幅が大きく、幅広い化合物に対して適用可
能な一般的方法であるとは決していえない。しかも過剰
量の塩基と過剰量のスルファモイルクロリドを用いて反
応を行っているにも拘わらず、多くの場合その収率はた
かだか数十%程度に過ぎないので、工業的な観点からも
十分に満足できる方法であるとはいえない(例えば、St
eroids, Vol.63, 425,(1998)(収率:50〜61%); J. A
m. Chem. Soc., Vol.92, 3434,(1970)(収率:15〜85
%); J. Med. Chem., Vol.35, 3991,(1992)(収率:27
〜66%); TetrahedronLett., Vol.33, 5009,(1992)
(収率:35〜40%); J. Med. Chem., Vol.41, 1315,(1
998)(収率:41〜81%)参照)。
【0003】また、スルファモイル化反応において塩基
を使用しない例としては、溶媒としてN,N−ジメチル
ホルムアミドを用いてエストロンとスルファモイルクロ
リドを反応させる方法が知られている(Steroids, Vol.
61, 710,(1996)参照)。しかし、該文献に開示の方法
は、エストロン1モルに対してスルファモイルクロリド
を5当量も用いており、しかも12時間も反応を行って
いるのにも拘わらず、収率は80%程度に過ぎない。
を使用しない例としては、溶媒としてN,N−ジメチル
ホルムアミドを用いてエストロンとスルファモイルクロ
リドを反応させる方法が知られている(Steroids, Vol.
61, 710,(1996)参照)。しかし、該文献に開示の方法
は、エストロン1モルに対してスルファモイルクロリド
を5当量も用いており、しかも12時間も反応を行って
いるのにも拘わらず、収率は80%程度に過ぎない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、種々
の官能基を含む多様な水酸基含有化合物に適用できる一
般性を有し、しかも必要最低限の試薬量で、簡便な操作
で、且つ高収率でスルファメート化合物を製造する方法
を提供することにある。
の官能基を含む多様な水酸基含有化合物に適用できる一
般性を有し、しかも必要最低限の試薬量で、簡便な操作
で、且つ高収率でスルファメート化合物を製造する方法
を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、水酸基含
有化合物にスルファモイルクロリドを反応させてスルフ
ァメート化合物を製造する方法において、特定の化合物
の存在下で且つ実質的に塩基の不在下に反応を行うと、
目的とするスルファメート化合物が非常に高い収率で得
られ、しかも、このスルファモイル化反応は、フェノー
ル性水酸基含有化合物のみならず脂肪族アルコール性水
酸基含有化合物等にも広く適用可能な一般性のある反応
であることを見出した。
有化合物にスルファモイルクロリドを反応させてスルフ
ァメート化合物を製造する方法において、特定の化合物
の存在下で且つ実質的に塩基の不在下に反応を行うと、
目的とするスルファメート化合物が非常に高い収率で得
られ、しかも、このスルファモイル化反応は、フェノー
ル性水酸基含有化合物のみならず脂肪族アルコール性水
酸基含有化合物等にも広く適用可能な一般性のある反応
であることを見出した。
【0006】かくして、本発明によれば、水酸基含有化
合物にスルファモイルクロリドを反応させてスルファメ
ート化合物を製造する方法において、該反応を下記式
(I)
合物にスルファモイルクロリドを反応させてスルファメ
ート化合物を製造する方法において、該反応を下記式
(I)
【0007】
【化2】
【0008】式中、R1は置換もしくは未置換の低級ア
ルキルもしくは低級アルケニル基又はフェニル基を表わ
し、R2及びR3はそれぞれ独立に置換もしくは未置換の
低級アルキル又は低級アルケニル基を表わすか、或いは
R2とR3はそれらが結合している窒素原子と一緒になっ
てO及びSから選ばれるヘテロ原子をさらに含んでいて
もよい複素環式基を表わし、或いはR1とR2は一緒にな
ってO及びSから選ばれるヘテロ原子で中断されていて
もよい低級アルキレン又は低級アルケニレン基を表わ
す、の化合物の存在下且つ実質的に塩基の不在下に行う
ことを特徴とするスルファメート化合物の製造方法が提
供される。
ルキルもしくは低級アルケニル基又はフェニル基を表わ
し、R2及びR3はそれぞれ独立に置換もしくは未置換の
低級アルキル又は低級アルケニル基を表わすか、或いは
R2とR3はそれらが結合している窒素原子と一緒になっ
てO及びSから選ばれるヘテロ原子をさらに含んでいて
もよい複素環式基を表わし、或いはR1とR2は一緒にな
ってO及びSから選ばれるヘテロ原子で中断されていて
もよい低級アルキレン又は低級アルケニレン基を表わ
す、の化合物の存在下且つ実質的に塩基の不在下に行う
ことを特徴とするスルファメート化合物の製造方法が提
供される。
【0009】本明細書において、「低級」なる語は、こ
の語が付された基又は化合物の炭素原子数が6個以下、
好ましくは4個以下であることを意味する。
の語が付された基又は化合物の炭素原子数が6個以下、
好ましくは4個以下であることを意味する。
【0010】しかして、「低級アルキル基」としては、
例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブ
チル、n−ペンチル、n−ヘキシル基等を挙げることが
でき、「低級アルケニル基」としては、例えば、ビニ
ル、アリル、1−プロペニル、イソプロペニル、2−ブ
テニル、1,3−ブタジエニル、2−ペンテニル、1,
4−ヘキサジエニル基等を挙げることができる。また
「低級アルキレン基」としては、例えば、エチレン、ト
リメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン基等を挙
げることができ、「低級アルケニレン基」としては、例
えば、プロペニレン、1−ブテニレン、2−ブテニレ
ン、1,3−ブタジエニレン、1−ペンテニレン、2−
ペンテニレン基等を挙げることができる。
例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、t−ブ
チル、n−ペンチル、n−ヘキシル基等を挙げることが
でき、「低級アルケニル基」としては、例えば、ビニ
ル、アリル、1−プロペニル、イソプロペニル、2−ブ
テニル、1,3−ブタジエニル、2−ペンテニル、1,
4−ヘキサジエニル基等を挙げることができる。また
「低級アルキレン基」としては、例えば、エチレン、ト
リメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン基等を挙
げることができ、「低級アルケニレン基」としては、例
えば、プロペニレン、1−ブテニレン、2−ブテニレ
ン、1,3−ブタジエニレン、1−ペンテニレン、2−
ペンテニレン基等を挙げることができる。
【0011】R1、R2及びR3の定義において用いられ
る「置換もしくは未置換の低級アルキルもしくは低級ア
ルケニル基」における置換基としては、例えば、ハロゲ
ン原子、低級アルコキシ基、低級アルカノイルオキシ
基、低級アルキルチオ基、低級アルカノイルアミノ基、
低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルボニル
基、シアノ基、シクロアルキル基等が挙げられ、該低級
アルキル又は低級アルケニル基はこれらから選ばれる1
〜3個の置換基で置換されていることができる。しかし
て、置換もしくは未置換の低級アルキルもしくは低級ア
ルケニル基として好適なものとしては、ハロゲン原子、
低級アルコキシ基、シアノ基又は低級シクロアルキル基
から選ばれる1又は2個の置換基で置換されていてもよ
い低級アルキル又は低級アルケニル基を挙げることがで
きる。
る「置換もしくは未置換の低級アルキルもしくは低級ア
ルケニル基」における置換基としては、例えば、ハロゲ
ン原子、低級アルコキシ基、低級アルカノイルオキシ
基、低級アルキルチオ基、低級アルカノイルアミノ基、
低級アルコキシカルボニルアミノ基、低級アルコキシカ
ルボニル基、カルバモイル基、低級アルキルカルボニル
基、シアノ基、シクロアルキル基等が挙げられ、該低級
アルキル又は低級アルケニル基はこれらから選ばれる1
〜3個の置換基で置換されていることができる。しかし
て、置換もしくは未置換の低級アルキルもしくは低級ア
ルケニル基として好適なものとしては、ハロゲン原子、
低級アルコキシ基、シアノ基又は低級シクロアルキル基
から選ばれる1又は2個の置換基で置換されていてもよ
い低級アルキル又は低級アルケニル基を挙げることがで
きる。
【0012】また、R2とR3が「それらが結合している
窒素原子と一緒になってO及びSから選ばれるヘテロ原
子1個をさらに含んでいてもよい複素環式基」を表わす
場合の複素環式基としては、例えば、アゼチジニル、ピ
ロリジニル、ピペリジニル、パーヒドロアゼピニル、オ
キサゾリジニル、イソキサゾリジニル、モルホリニル、
チアゾリジニル、チオモルホリニル、ジヒドロピリジ
ル、テトラヒドロピリジル基等を挙げることができる。
窒素原子と一緒になってO及びSから選ばれるヘテロ原
子1個をさらに含んでいてもよい複素環式基」を表わす
場合の複素環式基としては、例えば、アゼチジニル、ピ
ロリジニル、ピペリジニル、パーヒドロアゼピニル、オ
キサゾリジニル、イソキサゾリジニル、モルホリニル、
チアゾリジニル、チオモルホリニル、ジヒドロピリジ
ル、テトラヒドロピリジル基等を挙げることができる。
【0013】さらに、R1とR2が一緒になって「O及び
Sから選ばれるヘテロ原子1個で中断されていてもよい
低級アルキレン又は低級アルケニレン基」を表わす場
合、R1−CO−N(R2)−は複素環式基を形成する
が、この複素環式基としては、例えば、2−オキソ−1
−ピロリジニル、2−オキソ−1−ピペリジニル、2−
オキソ−1−パーヒドロアゼピニル、4−オキソ−3−
オキサゾリジニル、3−オキソ−2−イソキサゾリジニ
ル、3−オキソ−4−モルホリニル、4−オキソ−3−
チアゾリジニル、3−オキソ−4−チオモルホリニル基
等が挙げられる。
Sから選ばれるヘテロ原子1個で中断されていてもよい
低級アルキレン又は低級アルケニレン基」を表わす場
合、R1−CO−N(R2)−は複素環式基を形成する
が、この複素環式基としては、例えば、2−オキソ−1
−ピロリジニル、2−オキソ−1−ピペリジニル、2−
オキソ−1−パーヒドロアゼピニル、4−オキソ−3−
オキサゾリジニル、3−オキソ−2−イソキサゾリジニ
ル、3−オキソ−4−モルホリニル、4−オキソ−3−
チアゾリジニル、3−オキソ−4−チオモルホリニル基
等が挙げられる。
【0014】本発明において使用できる式(I)の化合
物の具体例としては、例えば、N,N−ジメチルアセト
アミド、N,N−ジメチルプロピオンアミド、N,N−
ジエチルアセトアミド、N,N−ジメチルベンズアミ
ド、1−メチル−2−ピロリドン、1−エチル−2−ピ
ロリドン、1−ビニル−2−ピロリドン、1−メチル−
2−ピぺリドン、1−メチル−2−ピリドン、N−メチ
ルカプロラクタム、N−アセチルモルホリン、1−アセ
チルピペリジン、1−アセチルピロリジン、3−(2−
オキソピロリジン−1−イル)プロピオニトリル、4−
アクリロイルモルホリン、N−メチル−N−ビニルアセ
トアミド等を挙げることができる。
物の具体例としては、例えば、N,N−ジメチルアセト
アミド、N,N−ジメチルプロピオンアミド、N,N−
ジエチルアセトアミド、N,N−ジメチルベンズアミ
ド、1−メチル−2−ピロリドン、1−エチル−2−ピ
ロリドン、1−ビニル−2−ピロリドン、1−メチル−
2−ピぺリドン、1−メチル−2−ピリドン、N−メチ
ルカプロラクタム、N−アセチルモルホリン、1−アセ
チルピペリジン、1−アセチルピロリジン、3−(2−
オキソピロリジン−1−イル)プロピオニトリル、4−
アクリロイルモルホリン、N−メチル−N−ビニルアセ
トアミド等を挙げることができる。
【0015】上記式(I)の化合物としては常温で液体
のものが好ましく、中でも、上記式(I)において、R
1、R2及びR3がそれぞれ低級アルキル基を表わすか、
或いはR3が低級アルキル基を表わし且つR1とR2が一
緒になって低級アルキレン基を表わす場合の化合物、殊
にN,N−ジメチルアセトアミド又は1−メチル−2−
ピロリドンが好適である。
のものが好ましく、中でも、上記式(I)において、R
1、R2及びR3がそれぞれ低級アルキル基を表わすか、
或いはR3が低級アルキル基を表わし且つR1とR2が一
緒になって低級アルキレン基を表わす場合の化合物、殊
にN,N−ジメチルアセトアミド又は1−メチル−2−
ピロリドンが好適である。
【0016】本発明において反応原料として使用される
「水酸基含有化合物」には、本発明のスルファモイル化
反応に供しうる水酸基又は水酸基に変り得る基を含有す
る有機化合物がすべて包含され、例えば、フェノール性
水酸基を含有する化合物、脂肪族アルコール性水酸基を
含有する化合物、水酸基含有複素環式化合物等が含まれ
る。このフェノール性水酸基を含有する化合物には、通
常のフェノール誘導体の他に、フェノールのベンゼン環
に1つ又は複数の炭化水素環や複素環が縮合した骨格を
有する化合物の誘導体、例えばこれらの骨格に任意の置
換基が置換していてもよい化合物のすべてが包含され
る。また、脂肪族アルコール性水酸基を含有する化合物
には、炭化水素部分に置換基として水酸基を有する飽和
又は不飽和の鎖状炭化水素、飽和又は部分不飽和の環状
炭化水素、架橋環式炭化水素、スピロ炭化水素等及びそ
られの化合物の炭化水素部分にさらに任意の置換基が置
換していてもよいすべての誘導体が包含される。さら
に、水酸基含有複素環式化合物には、複素環部分に置換
基として水酸基を有する複素環式化合物及びその誘導
体、例えば複素環部分に任意の置換基が置換していても
よい化合物のすべてが包含される。
「水酸基含有化合物」には、本発明のスルファモイル化
反応に供しうる水酸基又は水酸基に変り得る基を含有す
る有機化合物がすべて包含され、例えば、フェノール性
水酸基を含有する化合物、脂肪族アルコール性水酸基を
含有する化合物、水酸基含有複素環式化合物等が含まれ
る。このフェノール性水酸基を含有する化合物には、通
常のフェノール誘導体の他に、フェノールのベンゼン環
に1つ又は複数の炭化水素環や複素環が縮合した骨格を
有する化合物の誘導体、例えばこれらの骨格に任意の置
換基が置換していてもよい化合物のすべてが包含され
る。また、脂肪族アルコール性水酸基を含有する化合物
には、炭化水素部分に置換基として水酸基を有する飽和
又は不飽和の鎖状炭化水素、飽和又は部分不飽和の環状
炭化水素、架橋環式炭化水素、スピロ炭化水素等及びそ
られの化合物の炭化水素部分にさらに任意の置換基が置
換していてもよいすべての誘導体が包含される。さら
に、水酸基含有複素環式化合物には、複素環部分に置換
基として水酸基を有する複素環式化合物及びその誘導
体、例えば複素環部分に任意の置換基が置換していても
よい化合物のすべてが包含される。
【0017】本発明において好適な水酸基含有化合物と
しては、生理活性作用を有する化合物、例えば、生理活
性作用を有するステロイド類、核酸類、糖類等を挙げる
ことができる。
しては、生理活性作用を有する化合物、例えば、生理活
性作用を有するステロイド類、核酸類、糖類等を挙げる
ことができる。
【0018】本発明によれば、水酸基含有化合物とスル
ファモイルクロリドとの反応は、前記式(I)の化合物
の存在下且つ実質的に塩基の不在下に行われる。
ファモイルクロリドとの反応は、前記式(I)の化合物
の存在下且つ実質的に塩基の不在下に行われる。
【0019】水酸基含有化合物に対するスルファモイル
クロリドの使用割合は特に制限されるものではないが、
本発明の条件下において所期とする目的を達成するため
には、通常、水酸基含有化合物1モル当たりスルファモ
イルクロリドを少なくとも1モル、好ましくは1.5〜
2.5モル程度用いることができる。
クロリドの使用割合は特に制限されるものではないが、
本発明の条件下において所期とする目的を達成するため
には、通常、水酸基含有化合物1モル当たりスルファモ
イルクロリドを少なくとも1モル、好ましくは1.5〜
2.5モル程度用いることができる。
【0020】本発明のスルファモイル化反応に要する反
応時間は、使用する水酸基含有化合物や式(I)の化合
物の種類等により変わるため一概にはいえないが、一般
に、従来法の反応条件の場合と比較して約1/2〜1/
6程度の時間で反応を終らせることができる。かかる反
応時間としては、具体的には、少なくとも0.5時間程
度、好ましくは約1.5〜6時間を挙げることができ
る。
応時間は、使用する水酸基含有化合物や式(I)の化合
物の種類等により変わるため一概にはいえないが、一般
に、従来法の反応条件の場合と比較して約1/2〜1/
6程度の時間で反応を終らせることができる。かかる反
応時間としては、具体的には、少なくとも0.5時間程
度、好ましくは約1.5〜6時間を挙げることができ
る。
【0021】反応温度は、一般に、−20℃乃至反応混
合物の還流温度、好ましくは0℃乃至70℃、さらに好
ましくは室温付近の温度を用いることができる。
合物の還流温度、好ましくは0℃乃至70℃、さらに好
ましくは室温付近の温度を用いることができる。
【0022】本発明における「実質的に塩基の不在下」
なる語は、本スルファモイル化反応において生成する塩
化水素と結合して反応を進行させるような量の塩基を反
応原料や前記式(I)の化合物とは別に反応系に加える
ことはしない、という意味で用いる。
なる語は、本スルファモイル化反応において生成する塩
化水素と結合して反応を進行させるような量の塩基を反
応原料や前記式(I)の化合物とは別に反応系に加える
ことはしない、という意味で用いる。
【0023】本発明の効果において述べている「高収
率」とは、絶対的な数値を示す言葉ではなく、使用する
水酸基含有化合物の種類や反応条件等により変わり得る
相対的な表現であるが、一般に、従来法の反応条件で反
応を行った場合に得られる収率と比較して十分に有意差
のある収率、具体的には、少なくとも85%以上、好ま
しくは90%以上の収率で目的とするスルファメート化
合物が製造できるという意味で用いる。
率」とは、絶対的な数値を示す言葉ではなく、使用する
水酸基含有化合物の種類や反応条件等により変わり得る
相対的な表現であるが、一般に、従来法の反応条件で反
応を行った場合に得られる収率と比較して十分に有意差
のある収率、具体的には、少なくとも85%以上、好ま
しくは90%以上の収率で目的とするスルファメート化
合物が製造できるという意味で用いる。
【0024】かくして、本発明のスルファモイル化反応
は、種々の官能基を含む多様な水酸基含有化合物に対し
て適用することができ、必要最低限の反応原料の量で、
簡便な操作で、且つ高収率で目的とするスルファメート
化合物を製造することができる。
は、種々の官能基を含む多様な水酸基含有化合物に対し
て適用することができ、必要最低限の反応原料の量で、
簡便な操作で、且つ高収率で目的とするスルファメート
化合物を製造することができる。
【0025】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明する。 実施例1 4−ヒドロキシアセトフェノン136mgとN,N−ジ
メチルアセトアミド1.5mlを混合し、氷冷下スルフ
ァモイルクロリド231mgを加え、室温下で3時間攪
拌した。反応混合物を飽和食塩水20mlにあけ、生成
物を酢酸エチル20mlで2回抽出し、有機層を飽和食
塩水20mlで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を留去して得られた粗生成物をTLC(展開溶
媒、クロロホルム:アセトン=9:1)で精製して、4
−アセチルフェニル スルファメート196mg(収率
91%)を得た。
説明する。 実施例1 4−ヒドロキシアセトフェノン136mgとN,N−ジ
メチルアセトアミド1.5mlを混合し、氷冷下スルフ
ァモイルクロリド231mgを加え、室温下で3時間攪
拌した。反応混合物を飽和食塩水20mlにあけ、生成
物を酢酸エチル20mlで2回抽出し、有機層を飽和食
塩水20mlで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を留去して得られた粗生成物をTLC(展開溶
媒、クロロホルム:アセトン=9:1)で精製して、4
−アセチルフェニル スルファメート196mg(収率
91%)を得た。
【0026】1H-NMR(DMSO-d6, δ): 2.58 (3H, s), 7.3
-7.5 (2H, m), 8.0-8.1 (2H, m), 8.15 (2H, s). MS(m/z):215(M+), 136. 実施例2 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに4−メトキシフェノール124mgを用いて同様
に操作して、4−メトキシフェニル スルファメート1
87mg(収率92%)を得た。
-7.5 (2H, m), 8.0-8.1 (2H, m), 8.15 (2H, s). MS(m/z):215(M+), 136. 実施例2 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに4−メトキシフェノール124mgを用いて同様
に操作して、4−メトキシフェニル スルファメート1
87mg(収率92%)を得た。
【0027】1H-NMR (DMSO-d6, δ):3.76 (3H, s), 6.9
-7.1 (2H, m), 7.1-7.3 (2H, m), 7.83 (2H, s). MS(m/z):203 (M+), 123. 実施例3 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに3−ヒドロキシエストラ−1,3,5(10)−
トリエン−17−オン270mgを用いて同様に操作
し、得られた粗生成物をTLC(展開溶媒、クロロホル
ム:アセトン=19:1)で精製して、17−オキソエ
ストラ−1,3,5(10)−トリエン−3−イル ス
ルファメート328mg(収率94%)を得た。
-7.1 (2H, m), 7.1-7.3 (2H, m), 7.83 (2H, s). MS(m/z):203 (M+), 123. 実施例3 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに3−ヒドロキシエストラ−1,3,5(10)−
トリエン−17−オン270mgを用いて同様に操作
し、得られた粗生成物をTLC(展開溶媒、クロロホル
ム:アセトン=19:1)で精製して、17−オキソエ
ストラ−1,3,5(10)−トリエン−3−イル ス
ルファメート328mg(収率94%)を得た。
【0028】1H-NMR (DMSO-d6, δ):0.84 (3H, s), 2.8
7 (2H, dd, J= 3.8, 8.6 Hz), 6.98(1H, d, J= 2.4 H
z), 7.02 (1H, dd, J= 2.4, 8.5 Hz), 7.35 (1H, d, J=
8.5Hz), 7.86 (2H, s). MS(m/z):349 (M+), 270. 実施例4 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに3−ヒドロキシエストラ−1,3,5(10)−
トリエン−17−オン270mg、N,N−ジメチルア
セトアミドの代わりに1−メチル−2−ピロリドンを用
いて同様に操作し、得られた粗生成物をTLC(展開溶
媒、クロロホルム:アセトン=19:1)で精製して、
17−オキソエストラ−1,3,5(10)−トリエン
−3−イル スルファメート334mg(収率96%)
を得た。 実施例5 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに3−ヒドロキシ−17a−ホモ−17a−オキサ
エストラ−1,3,5(10)−トリエン−17−オン
286mgを用いて同様に操作し、6時間反応後、反応
混合物を水に加え、ろ取して得られた粗生成物をTLC
(展開溶媒、クロロホルム:メタノール=19:1)で
精製して、17−オキソ−17a−ホモ−17a−オキ
サエストラ−1,3,5(10)−トリエン−3−イル
スルファメート326mg(収率89%)を得た。
7 (2H, dd, J= 3.8, 8.6 Hz), 6.98(1H, d, J= 2.4 H
z), 7.02 (1H, dd, J= 2.4, 8.5 Hz), 7.35 (1H, d, J=
8.5Hz), 7.86 (2H, s). MS(m/z):349 (M+), 270. 実施例4 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに3−ヒドロキシエストラ−1,3,5(10)−
トリエン−17−オン270mg、N,N−ジメチルア
セトアミドの代わりに1−メチル−2−ピロリドンを用
いて同様に操作し、得られた粗生成物をTLC(展開溶
媒、クロロホルム:アセトン=19:1)で精製して、
17−オキソエストラ−1,3,5(10)−トリエン
−3−イル スルファメート334mg(収率96%)
を得た。 実施例5 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに3−ヒドロキシ−17a−ホモ−17a−オキサ
エストラ−1,3,5(10)−トリエン−17−オン
286mgを用いて同様に操作し、6時間反応後、反応
混合物を水に加え、ろ取して得られた粗生成物をTLC
(展開溶媒、クロロホルム:メタノール=19:1)で
精製して、17−オキソ−17a−ホモ−17a−オキ
サエストラ−1,3,5(10)−トリエン−3−イル
スルファメート326mg(収率89%)を得た。
【0029】1H-NMR (DMSO-d6, δ):1.28 (3H, s), 1.4
-1.7 (2H, m), 1.78 (1H, dt, J= 3.5, 13.0 Hz),1.9-
2.1 (3H, m), 2.6-2.8 (1H, m), 2.8-2.9 (2H, m), 6.9
8 (1H, d, J= 2.6 Hz), 7.03 (1H, dd, J= 2.6, 8.5 H
z), 7.36 (1H, d, J= 8.6 Hz),7.88 (2H, s). MS(m/z):365 (M+), 286. 実施例6 3−ヒドロキシ−17a−ホモ−17a−オキサエスト
ラ−1,3,5(10)−トリエン−17−オン300
mgと1−メチル−2−ピロリドン1.9mlを混合
し、氷冷下スルファモイルクロリド303mgのアセト
ニトリル溶液0.6mlを加え、室温下で5時間攪拌し
た。反応混合物を水に加え、ろ取して得られた粗生成物
をテトラヒドロフラン-酢酸エチルから再結晶して、1
7−オキソ−17a−ホモ−17a−オキサエストラ−
1,3,5(10)−トリエン−3−イル スルファメ
ート324mg(収率85%)を得た。 実施例7 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに17,17−(エチレンジオキシ)エストラ−
1,3,5(10)−トリエン−3−オール314mg
を用いて同様に操作し、得られた粗生成物をTLC(展
開溶媒、クロロホルム:アセトン=10:1)で精製し
て、17,17−(エチレンジオキシ)エストラ−1,
3,5(10)−トリエン−3−イル スルファメート
336mg(収率86%)を得た。
-1.7 (2H, m), 1.78 (1H, dt, J= 3.5, 13.0 Hz),1.9-
2.1 (3H, m), 2.6-2.8 (1H, m), 2.8-2.9 (2H, m), 6.9
8 (1H, d, J= 2.6 Hz), 7.03 (1H, dd, J= 2.6, 8.5 H
z), 7.36 (1H, d, J= 8.6 Hz),7.88 (2H, s). MS(m/z):365 (M+), 286. 実施例6 3−ヒドロキシ−17a−ホモ−17a−オキサエスト
ラ−1,3,5(10)−トリエン−17−オン300
mgと1−メチル−2−ピロリドン1.9mlを混合
し、氷冷下スルファモイルクロリド303mgのアセト
ニトリル溶液0.6mlを加え、室温下で5時間攪拌し
た。反応混合物を水に加え、ろ取して得られた粗生成物
をテトラヒドロフラン-酢酸エチルから再結晶して、1
7−オキソ−17a−ホモ−17a−オキサエストラ−
1,3,5(10)−トリエン−3−イル スルファメ
ート324mg(収率85%)を得た。 実施例7 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに17,17−(エチレンジオキシ)エストラ−
1,3,5(10)−トリエン−3−オール314mg
を用いて同様に操作し、得られた粗生成物をTLC(展
開溶媒、クロロホルム:アセトン=10:1)で精製し
て、17,17−(エチレンジオキシ)エストラ−1,
3,5(10)−トリエン−3−イル スルファメート
336mg(収率86%)を得た。
【0030】1H-NMR (DMSO-d6, δ):0.81 (3H, s), 2.1
-2.3 (1H, m), 2.3-2.4 (1H, m), 2.7-2.9 (2H, m), 3.
7-3.9 (4H, m), 6.96 (1H, d, J= 2.5 Hz), 7.01 (1H,
dd,J= 2.5, 8.5 Hz), 7.33 (1H, d, J= 8.5 Hz), 7.85
(2H, s). MS(m/z):393 (M+), 314. 実施例8 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに3−フェニル−1−プロパノール136mgを用
いて同様に操作して、3−フェニルプロピルスルファメ
ート183mg(収率85%)を得た。
-2.3 (1H, m), 2.3-2.4 (1H, m), 2.7-2.9 (2H, m), 3.
7-3.9 (4H, m), 6.96 (1H, d, J= 2.5 Hz), 7.01 (1H,
dd,J= 2.5, 8.5 Hz), 7.33 (1H, d, J= 8.5 Hz), 7.85
(2H, s). MS(m/z):393 (M+), 314. 実施例8 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに3−フェニル−1−プロパノール136mgを用
いて同様に操作して、3−フェニルプロピルスルファメ
ート183mg(収率85%)を得た。
【0031】1H-NMR (DMSO-d6, δ):1.8-2.0 (2H, m),
2.66 (2H, t, J= 7.7 Hz), 4.02 (2H, t, J= 6.4 Hz),
7.1-7.4 (5H, m), 7.41 (2H, s). MS(m/z):215 (M+), 117. 実施例9 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに3−フェニル−1−プロパノール136mg、
N,N−ジメチルアセトアミドの代わりに1−メチル−
2−ピロリドンを用いて同様に操作して、3−フェニル
プロピル スルファメート201mg(収率94%)を
得た。 実施例10 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに17β−ヒドロキシアンドロスタ−4−エン−3
−オン288mgを用いて同様に操作して、3−オキソ
アンドロスタ−4−エン−17β−イル スルファメー
ト335mg(収率91%)を得た。
2.66 (2H, t, J= 7.7 Hz), 4.02 (2H, t, J= 6.4 Hz),
7.1-7.4 (5H, m), 7.41 (2H, s). MS(m/z):215 (M+), 117. 実施例9 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに3−フェニル−1−プロパノール136mg、
N,N−ジメチルアセトアミドの代わりに1−メチル−
2−ピロリドンを用いて同様に操作して、3−フェニル
プロピル スルファメート201mg(収率94%)を
得た。 実施例10 実施例1において、4−ヒドロキシアセトフェノンの代
わりに17β−ヒドロキシアンドロスタ−4−エン−3
−オン288mgを用いて同様に操作して、3−オキソ
アンドロスタ−4−エン−17β−イル スルファメー
ト335mg(収率91%)を得た。
【0032】1H-NMR (DMSO-d6, δ):0.78 (3H, s), 1.1
6 (3H, s), 4.25 (1H, t, J= 8.4 Hz), 5.62 (1H, s),
7.32 (2H, s). MS(m/z):367 (M+), 270.
6 (3H, s), 4.25 (1H, t, J= 8.4 Hz), 5.62 (1H, s),
7.32 (2H, s). MS(m/z):367 (M+), 270.
Claims (6)
- 【請求項1】水酸基含有化合物にスルファモイルクロリ
ドを反応させてスルファメート化合物を製造する方法に
おいて、該反応を下記式 【化1】 式中、 R1は置換もしくは未置換の低級アルキルもしくは低級
アルケニル基又はフェニル基を表わし、 R2及びR3はそれぞれ独立に置換もしくは未置換の低級
アルキル又は低級アルケニル基を表わすか、或いはR2
とR3はそれらが結合している窒素原子と一緒になって
O及びSから選ばれるヘテロ原子1個をさらに含んでい
てもよい複素環式基を表わし、 或いはR1とR2は一緒になってO及びSから選ばれるヘ
テロ原子1個で中断されていてもよい低級アルキレン又
は低級アルケニレン基を表わす、 の化合物の存在下且つ実質的に塩基の不在下に行うこと
を特徴とするスルファメート化合物の製造方法。 - 【請求項2】 R1、R2及びR3がそれぞれ低級アルキ
ル基を表わすか、或いはR3が低級アルキル基を表わし
且つR1とR2が一緒になって低級アルキレン基を表わす
請求項1に記載のスルファメート化合物の製造方法。 - 【請求項3】 式(I)の化合物がN,N−ジメチルア
セトアミド又は1−メチル−2−ピロリドンである請求
項1又は2に記載のスルファメート化合物の製造方法。 - 【請求項4】 水酸基含有化合物1モルに対してスルフ
ァモイルクロリドを1.5〜2.5モル用いて反応を行
う請求項1〜3のいずれかに記載のスルファメート化合
物の製造方法。 - 【請求項5】水酸基含有化合物がフェノール性水酸基を
含有する化合物である請求項1〜4のいずれかに記載の
スルファメート化合物の製造方法。 - 【請求項6】フェノール性水酸基を含有する化合物が3
−ヒドロキシ−17a−ホモ−17a−オキサエストラ
−1,3,5(10)−トリエン−17−オンである請
求項5に記載のスルファメート化合物の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000209540A JP2002030063A (ja) | 2000-07-11 | 2000-07-11 | スルファメート化合物の製造方法 |
PCT/JP2001/004637 WO2002004410A1 (fr) | 2000-07-11 | 2001-06-01 | Procede de production d'un compose sulfamate |
AU2001260689A AU2001260689A1 (en) | 2000-07-11 | 2001-06-01 | Process for producing sulfamate compound |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000209540A JP2002030063A (ja) | 2000-07-11 | 2000-07-11 | スルファメート化合物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002030063A true JP2002030063A (ja) | 2002-01-29 |
Family
ID=18705934
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000209540A Pending JP2002030063A (ja) | 2000-07-11 | 2000-07-11 | スルファメート化合物の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2002030063A (ja) |
AU (1) | AU2001260689A1 (ja) |
WO (1) | WO2002004410A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20050062976A (ko) * | 2003-12-19 | 2005-06-28 | 일동제약주식회사 | 2,3:4,5-비스-오-(1-메틸에틸리덴)-베타-디-프럭토피라노즈설파메이트의 새로운 개량된 제조방법 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
PT94305B (pt) * | 1989-06-12 | 1997-02-28 | Robins Co Inc A H | Processo para a preparacao de compostos tendo um ou mais radicais aminossulfoniloxi uteis como produtos farmaceuticos |
GB9325809D0 (en) * | 1993-12-17 | 1994-02-23 | Zeneca Ltd | Herbicidal composition |
CA2266051A1 (en) * | 1996-09-12 | 1998-03-19 | Teikoku Hormone Mfg. Co., Ltd. | 3-substituted-d-homo-1,3,5,(10)-estratriene derivatives |
-
2000
- 2000-07-11 JP JP2000209540A patent/JP2002030063A/ja active Pending
-
2001
- 2001-06-01 AU AU2001260689A patent/AU2001260689A1/en not_active Abandoned
- 2001-06-01 WO PCT/JP2001/004637 patent/WO2002004410A1/ja active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2002004410A1 (fr) | 2002-01-17 |
AU2001260689A1 (en) | 2002-01-21 |
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