JP2002009130A - 薄板基板搬送装置及び搬送方法 - Google Patents

薄板基板搬送装置及び搬送方法

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JP2002009130A
JP2002009130A JP2000223099A JP2000223099A JP2002009130A JP 2002009130 A JP2002009130 A JP 2002009130A JP 2000223099 A JP2000223099 A JP 2000223099A JP 2000223099 A JP2000223099 A JP 2000223099A JP 2002009130 A JP2002009130 A JP 2002009130A
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JP
Japan
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thin
substrate
storage container
thin plate
clean
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Application number
JP2000223099A
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English (en)
Inventor
Susumu Nanko
進 南光
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Dan Takuma Technologies Inc
Original Assignee
Dan Takuma Technologies Inc
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】薄板基板を収納する収納容器から薄板基板を薄
板基板加工処理装置にクリーンな状態を維持しながら装
填する薄板基板搬送装置及び搬送する方法を提供する。 【解決手段】薄板基板を薄板収納容器3から薄板加工処
理装置5へ装填するとき、薄板基板及び薄板収納容器付
近のみに局部的にクリーン領域を設け、クリーンネスを
保持する。この局部的クリーン領域内において収納容器
の蓋を開閉し、また薄板収納容器は収納容器の蓋4の開
放状態で前記局部的クリーン領域内において水平移動を
行い、薄板基板は薄板収納容器から薄板加工処理装置内
まで局部的クリーン領域内のみに晒されて送り込む。局
部的クリーン領域はクリーンブースまたはクリーンベン
チを薄板基板及び薄板収納容器付近のみに設置すること
により設けることにより達成される。また、基板搬送装
置自体をクリーンブースまたはクリーンベンチ内に組み
込んで内蔵させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は薄板基板を収納する
収納容器から当該薄板基板を薄板基板加工処理装置にク
リーンな状態を維持しながら装填する薄板基板搬送装置
及び搬送する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
半導体基板、液晶基板等の薄板基板をその収納容器から
取り出し、それらをエッチング、薄膜成膜処理等の加工
処理を行う場合にクリーンルーム内に薄板加工処理装置
を設置し、装置外部の収納容器(ウエハーカセット等)
から薄板加工処理装置に搬送し、またはクリーンルーム
の中において、さらに薄板加工処理装置及び収納容器
(ウエハーカセット等)の全体を覆うクリーンブース内
に設置されて半導体基板、液晶基板等の薄板基板のクリ
ーンネスを維持しつつ搬送、ローディング、アンローデ
ィングを行って薄板加工処理装置に装填されていた。ま
た、薄板加工処理の薄板基板を収納容器に戻し、薄板基
板のクリーンネスを維持し、これら加工処理を行ってい
た。
【0003】一方、半導体をはじめ、液晶等のパターン
の微細化により、ますますクリーンネスを要求される今
日、そのクリーンネス(清浄度)は薄板基板の汚染を防
止するためにクラス1以下まで要求されるようになって
きた。更に、半導体クリーンルームでは、薄板基板をB
OXの中に収納し、搬送することにより汚染を防ぐ方式
も確立され、環境のクリーンネス(清浄度)がクラス
1,000程度でも装置とのインターフェース部及び装
置内部が局所的に超クリーン化されていれば薄板基板を
汚染から隔絶することが可能となっている。
【0004】ところが薄板基板の製造メーカー等から半
導体製造メーカーに送る際に使用する薄板収納容器等に
ついては安価な構造とするためにクラス1,000の場
所で蓋の開放をせざるを得ない構造であったり、蓋の開
放時に若干のパーティクルが発生する機構のもので汚染
物がウエハー表面に付着するのを防止する機構が求めら
れている。
【0005】そこで、本発明の発明者らは、クラス1以
下のクリーンネスを保持しつつ、かつコスト的にも最も
効率的で有利に薄板基板を薄板基板収納容器から薄板基
板を薄板基板加工処理装置に移し替え、加工処理後は薄
板基板加工処理装置から薄板基板収納容器に戻す搬送方
法及びその搬送装置を実現したものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】これらの前記問題点を解
決するため薄板基板を元のホームポジションの位置にあ
る薄板収納容器から薄板加工処理装置へ装填するとき、
薄板基板及び薄板収納容器付近にのみに局部的にクリー
ン領域B(クリーンゾーン)を設け、クリーンネスを保
持することとした。この局部的クリーン領域内において
収納容器の蓋を開閉し、また前記薄板収納容器は収納容
器の蓋の開放状態で前記局部的クリーン領域内において
水平移動を行い、薄板基板は薄板収納容器から薄板加工
処理装置内まで局部的クリーン領域B内のみに晒されて
送り込むことができる。
【0007】前記局部的クリーン領域Bはクリーンブー
スまたはクリーンベンチを薄板基板及び薄板収納容器付
近のみに設置することにより達成される。またさらに、
前記クリーンネスは薄板基板を薄板収納容器から薄板加
工処理装置へ装填する基板搬送装置自体をクリーンブー
スまたはクリーンベンチ内に組み込んで内蔵させること
により達成されるものである。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図1〜図3
を参照して詳細に説明する。図1は本発明に関わる一実
施例を示すものである。薄板基板搬送装置1上のスライ
ドテーブル2のホームポジション(収納容器3はポジシ
ョンAにある)にある収納容器3は処理前の複数枚の薄
板基板が収納され、かつ収納容器蓋4により密閉されて
いる。ポジションAにおいては収納容器3は収納容器蓋
4も含めて必ずしも局部的クリーン領域B内にある必要
はない。
【0009】薄板基板搬送装置1のスタートスイッチを
押すことにより、スライドテーブル2が加工処理装置5
側に水平移動し、収納容器3はポジションAからポジシ
ョンA’に移動する。
【0010】なお、クリーンブースフィルター6が収納
容器3の収納容器蓋4を開閉するポジションA’(収納
容器3の開口部はポジションA’内にある)から加工処
理装置5の出入扉まで十分に覆い被さって、すなわち薄
板基板の晒される領域内にのみクリーンゾーンを形成す
るためクリーンブースフィルター6からクリーンエアー
を吹き出し、局部的クリーン領域Bを構成している。
【0011】ここでは収納容器蓋4のポジション(ポジ
ションA’)は十分に局部的クリーン領域B内に入って
いる。そのポジションで収納容器蓋4は開き、下方に降
下し、ポジションCで待機する。さらにスライドテーブ
ル2が水平移動し、加工処理装置5の出入扉直前(ポジ
ションA”)まで到達する。ここにおいても薄板基板の
晒される雰囲気は局部的クリーン領域B内に入ってい
る。
【0012】このポジションA”で加工処理装置5の出
入扉が開き、あるいは常時開いている開口部を通して、
薄板基板が加工処理装置5内に装填され、その後、出入
扉が閉じる。なお、収納容器3はポジションA”で待機
している。薄板基板搬送装置1による搬送終了し、加工
処理準備後、薄板基板が加工処理装置5内において加工
処理される。
【0013】加工処理後、加工処理装置5の出入扉が開
き、あるいは常時開口部を通して、薄板基板はポジショ
ンA”で待機している収納容器3に収納され、スライド
テーブル2が水平移動し、ポジションA’で停止する。
ポジションCで待機している収納容器蓋4が上昇し、収
納容器3には収納容器蓋4が閉じ、収納容器3が密閉さ
れる。さらにスライドテーブル2が水平移動し、収納容
器3はホームポジションAで停止する。
【0014】このような一連の工程を経て、収納容器3
内の薄板基板が加工処理され、元の収納容器3内に収納
されるのであるが、この工程中で薄板基板及び収納容器
3、収納容器蓋4の内部は常にクラス1以下の局部的ク
リーン領域内にあるので薄板基板のクリーンネスは確保
される。なお、このクリーン領域は薄板基板及び収納容
器3内、収納容器蓋4の晒される範囲内にのみ形成する
ため、最も効率よく容易にクリーンゾーンを形成されう
る。
【0015】図2は本発明に関わる他の一実施例を示す
ものである。薄板基板搬送装置1自体をクリーンベンチ
7本体内に組み込んで前述の目的を達成するものであ
る。クリーンベンチ7内はクラス1に保持され、このク
リーンベンチ7を加工処理装置5に密着して配置し、収
納容器3内と加工処理装置5の間で薄板基板を常にクラ
ス1の雰囲気で受け渡し搬送するものである。
【0016】図3は従来の薄板基板搬送装置1のクリー
ンネスを維持する方法を示したものである。クリーンル
ーム内で薄板基板搬送装置1と加工処理装置5を並存し
て設置し、その間を搬送部8により薄板基板の受け渡し
搬送を行うものである。また、薄板基板搬送装置1と加
工処理装置5全体をクリーンブース9で覆いクリーンネ
スを保持し、その中で薄板基板搬送を行うものである。
【0017】
【発明の効果】薄板基板を薄板収納容器3から薄板加工
処理装置5へ装填するとき、薄板収納容器3から薄板加
工処理装置5間を薄板基板及び薄板収納容器3付近のみ
に局部的にクリーン領域を設けたことにより、容易にク
ラス1以下に維持できる。
【0018】この局部的にクリーン領域内において収納
容器蓋4を開閉し、収納容器蓋4の開放状態であっても
前記局部的クリーン領域内において収納容器3の水平移
動を行い、搬送時に薄板基板の晒される環境のクリーン
ネスを保持されるため薄板基板を汚染から防止できる。
クリーン領域を薄板基板の晒される範囲にのみ設けたた
め、ランニングコストも有利となる。また、薄板基板搬
送装置1自体をクリーンベンチ7本体内に組み込むこと
により、前述の目的を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による薄板収納容器から薄板加工処理装
置間に局部的クリーン領域を設けた側面図
【図2】本発明による薄板基板搬送装置をクリーンベン
チ内に組み込んだ側面図
【図3】従来の薄板加工処理装置及び薄板基板搬送装置
を並存して、全体を覆うようにクリーンブース内に設置
された図
【符号の説明】
1………薄板基板搬送装置 2………スライドテーブル 3………収納容器 4………収納容器蓋 5………加工処理装置 6………クリーンブースフィルター 7………クリーンベンチ本体 8………搬送部 9………クリーンブース A………ポジションA(ホームポジション) A’………ポジションA’(収納容器蓋4を開閉するポ
ジション) A”………ポジションA”(収納容器3と加工処理装置
5間で薄板基板を受け渡すポジション) B………局部的クリーン領域 C………ポジションC(収納容器蓋4の下方で待機する
位置)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】薄板基板を薄板収納容器から薄板加工処理
    装置へ装填する基板搬送装置において、元のホームポジ
    ションの位置にある該薄板収納容器から該薄板加工処理
    装置の間にのみ、薄板収納容器及び薄板基板を搬送通過
    させる領域のみに局部的クリーン領域を設け、該局部的
    クリーン領域内において収納容器の蓋を開閉させ搬送す
    ることを特徴とする基板搬送装置。
  2. 【請求項2】前記薄板収納容器は収納容器の蓋の開放状
    態で前記局部的クリーン領域内において水平移動を行
    い、薄板基板を搬送する請求項1記載の基板搬送装置。
  3. 【請求項3】前記局部的クリーン領域はクリーンブース
    またはクリーンベンチを局部的に設置することにより設
    ける請求項1記載の基板搬送装置。
  4. 【請求項4】薄板基板を薄板収納容器から薄板加工処理
    装置へ装填する基板搬送装置をクリーンブースまたはク
    リーンベンチ内に内蔵したことを特徴とする基板搬送装
    置。
  5. 【請求項5】薄板基板を薄板収納容器から薄板加工処理
    装置へ装填する基板搬送装置において、元のホームポジ
    ションの位置にある該薄板収納容器から該薄板加工処理
    装置の間にのみ、薄板収納容器及び薄板基板を搬送通過
    させる領域のみに局部的クリーン領域を設け、該局部的
    クリーン領域内において収納容器の蓋を開閉させ搬送す
    ることを特徴とする基板搬送方法。
  6. 【請求項6】前記薄板収納容器は収納容器の蓋の開放状
    態で前記局部的クリーン領域内において水平移動を行
    い、薄板基板を搬送する請求項5記載の基板搬送方法。
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