JP2002003593A - ビスオキセタン化合物と２官能性フェノールのカルボン酸ジエステル化合物からなるポリエステルの製造方法 - Google Patents
ビスオキセタン化合物と２官能性フェノールのカルボン酸ジエステル化合物からなるポリエステルの製造方法Info
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- JP2002003593A JP2002003593A JP2000191654A JP2000191654A JP2002003593A JP 2002003593 A JP2002003593 A JP 2002003593A JP 2000191654 A JP2000191654 A JP 2000191654A JP 2000191654 A JP2000191654 A JP 2000191654A JP 2002003593 A JP2002003593 A JP 2002003593A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明の課題は、ポリエステルの新規な製造方
法を提供することである。 【解決手段】ビスオキセタン化合物と２官能性フェノー
ルのカルボン酸ジエステル化合物とを重付加反応させる
ことを特徴とするポリエステルの製造方法。
法を提供することである。 【解決手段】ビスオキセタン化合物と２官能性フェノー
ルのカルボン酸ジエステル化合物とを重付加反応させる
ことを特徴とするポリエステルの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリエステルの新
規な製造方法に関するものである。
規な製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ポリエステルは、耐熱性、耐薬品性およ
び電気的特性に優れているため、繊維、フィルム材、機
械部品、電気絶縁材料等として様々な分野で使用されて
いる。ポリエステルの代表的な製造方法としては、種々
のジカルボン酸またはジカルボン酸クロライドとジオー
ル類との重縮合反応、ジハライドとジカルボン酸類との
重縮合反応、ラクトン類の開環重合、オキシラン類と環
状酸無水物との開環交互共重合などが知られている。一
方、三員環の環状エーテルであるエポキシ化合物は、カ
チオンだけでなくアニオンに対しても高い反応性を示す
ため、エポキシ化合物の付加反応については、アミン類
やフェノール類のような活性試薬との反応について検討
されている。これに対して、四員環の環状エーテルであ
るオキセタン化合物は、開始剤としてルイス酸を用いる
ことにより容易に開環重合が進行し、高分子量のポリエ
ーテルが得られることは知られている。しかし、エポキ
シ化合物に比べ環の歪みエネルギーが小さく安定である
ため求核攻撃に対する反応性が低いこともあり、オキセ
タン類の中でも、ビスオキセタン化合物についてはジカ
ルボン酸類、ジチオール類、ビスフェノール類との重付
加反応について検討されているだけである。従って、こ
れまでのところ、ビスオキセタン化合物と２官能性フェ
ノールのカルボン酸ジエステル化合物との反応は知られ
ていない。
び電気的特性に優れているため、繊維、フィルム材、機
械部品、電気絶縁材料等として様々な分野で使用されて
いる。ポリエステルの代表的な製造方法としては、種々
のジカルボン酸またはジカルボン酸クロライドとジオー
ル類との重縮合反応、ジハライドとジカルボン酸類との
重縮合反応、ラクトン類の開環重合、オキシラン類と環
状酸無水物との開環交互共重合などが知られている。一
方、三員環の環状エーテルであるエポキシ化合物は、カ
チオンだけでなくアニオンに対しても高い反応性を示す
ため、エポキシ化合物の付加反応については、アミン類
やフェノール類のような活性試薬との反応について検討
されている。これに対して、四員環の環状エーテルであ
るオキセタン化合物は、開始剤としてルイス酸を用いる
ことにより容易に開環重合が進行し、高分子量のポリエ
ーテルが得られることは知られている。しかし、エポキ
シ化合物に比べ環の歪みエネルギーが小さく安定である
ため求核攻撃に対する反応性が低いこともあり、オキセ
タン類の中でも、ビスオキセタン化合物についてはジカ
ルボン酸類、ジチオール類、ビスフェノール類との重付
加反応について検討されているだけである。従って、こ
れまでのところ、ビスオキセタン化合物と２官能性フェ
ノールのカルボン酸ジエステル化合物との反応は知られ
ていない。
【０００３】
【本発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ポ
リエステルの新規な製造方法を提供することであり、詳
しくは、ビスオキセタン化合物と２官能性フェノールの
カルボン酸ジエステル化合物を重付加反応させてなるポ
リエステルの製造方法を提供することである。
リエステルの新規な製造方法を提供することであり、詳
しくは、ビスオキセタン化合物と２官能性フェノールの
カルボン酸ジエステル化合物を重付加反応させてなるポ
リエステルの製造方法を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決すべく鋭意検討した結果、特定な反応条件を適
用することにより、ビスオキセタン化合物と２官能性フ
ェノールのカルボン酸ジエステル化合物が重付加反応す
ることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわ
ち、本発明はビスオキセタン化合物と２官能性フェノー
ルのカルボン酸ジエステル化合物を重付加反応させるこ
とを特徴とするポリエステルの製造方法である。
題を解決すべく鋭意検討した結果、特定な反応条件を適
用することにより、ビスオキセタン化合物と２官能性フ
ェノールのカルボン酸ジエステル化合物が重付加反応す
ることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわ
ち、本発明はビスオキセタン化合物と２官能性フェノー
ルのカルボン酸ジエステル化合物を重付加反応させるこ
とを特徴とするポリエステルの製造方法である。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明におけるビスオキセタン化
合物としては、分子中に２個のオキセタン環を有する化
合物であれば特に限定なく使用できる。具体的には、特
開平８−８５７７５号公報および特開平８−１３４４０
５号公報に記載されたビスオキセタン化合物が挙げら
れ、これらの中でも、２官能性フェノールのカルボン酸
ジエステル化合物との反応性の面より、下記式（１）で
表される化合物が好ましく、１，４−ビス｛｛３−（３
−エチル−３−オキセタニルメトキシメチル）ベンゼン
が特に好ましい化合物である。
合物としては、分子中に２個のオキセタン環を有する化
合物であれば特に限定なく使用できる。具体的には、特
開平８−８５７７５号公報および特開平８−１３４４０
５号公報に記載されたビスオキセタン化合物が挙げら
れ、これらの中でも、２官能性フェノールのカルボン酸
ジエステル化合物との反応性の面より、下記式（１）で
表される化合物が好ましく、１，４−ビス｛｛３−（３
−エチル−３−オキセタニルメトキシメチル）ベンゼン
が特に好ましい化合物である。
【０００６】
【化５】
【０００７】｛式中、Ｒ5は下記式（２）で表されるい
ずれかの置換基を示す｝
ずれかの置換基を示す｝
【０００８】
【化６】
【０００９】本発明における２官能性フェノールのカル
ボン酸ジエステル化合物としては、特に限定なく用いる
ことができ、ビスオキセタン化合物との反応性の面よ
り、下記式（３）で表される化合物が好ましく、さらに
好ましくは、４，４’−イソプロピリデンビス（２，６
−ジクロロフェニルジアセテート）、４，４’−イソプ
ロピリデンビス（２，６−ジクロロフェニル−ジ−２，
４−ジクロロベンゾエート）および４，４’−イソプロ
ピリデンビス（２，６−ジクロロフェニルジベンゾエー
ド）である。
ボン酸ジエステル化合物としては、特に限定なく用いる
ことができ、ビスオキセタン化合物との反応性の面よ
り、下記式（３）で表される化合物が好ましく、さらに
好ましくは、４，４’−イソプロピリデンビス（２，６
−ジクロロフェニルジアセテート）、４，４’−イソプ
ロピリデンビス（２，６−ジクロロフェニル−ジ−２，
４−ジクロロベンゾエート）および４，４’−イソプロ
ピリデンビス（２，６−ジクロロフェニルジベンゾエー
ド）である。
【００１０】
【化７】
【００１１】（式中、Ａｒ2は下記式（４）で表される
いずれかの置換基を示し、Ｒ6は炭素数が１〜６のアル
キル基または置換基を有してもよいフェニル基を示す）
いずれかの置換基を示し、Ｒ6は炭素数が１〜６のアル
キル基または置換基を有してもよいフェニル基を示す）
【００１２】
【化８】
【００１３】本発明の製造方法は、上記ビスオキセタン
化合物と２官能性フェノールのカルボン酸ジエステル化
合物を重付加反応させることであるが、この反応には、
第四オニウム塩、クラウンエーテル錯体および第三アミ
ンなどを触媒として用い、これらの存在下に重付加反応
させることが好ましい。これらの触媒の中でも、ビスオ
キセタン化合物と２官能性フェノールのカルボン酸ジエ
ステル化合物との反応性の面から、第四オニウム塩およ
びクラウンエーテル錯体の使用が好ましい。第四オニウ
ム塩としては、テトラブチルアンモニウムブロマイド、
テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルア
ンモニウムアイオダイド、テトラエチルアンモニウムク
ロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テト
ラエチルアンモニウムアイオダイド、ｎ−ドデシルトリ
メチルアンモニウムブロマイド、オクタデシルトリメチ
ルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモ
ニウムブロマイド、セチルジメチルベンジルアンモニウ
ムクロライド、セチルジメチルベンジルアンモニウムブ
ロマイド、セチルピリジウムサルフェート、テトラエチ
ルアンモニウムアセテート、トリメチルベンジルアンモ
ニウムベンゾエート、トリメチルベンジルアンモニウム
ボレート、５−ベンジル−１，５−ジアザビシクロ
［４，３，０］−５−ノネニウムクロライド、５−ベン
ジル−１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノ
ネウムテトラフルオロボレート等の第四アンモニウム塩
類、およびテトラブチルホスホニウムブロマイド、テト
ラブチルホスホニウムクロライド、テトラフェニルホス
ホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムアイ
オダイド、テトラフェニルホスホニウムクロライド、ベ
ンジルトリフェニルホスホニウムブロマイド、ベンジル
トリフェニルホスホニウムクロライド、トリフェニルメ
トキシメチルホスホニウムクロライド、トリフェニルメ
チルカルボニルメチルホスホニウムクロライド、トリフ
ェニルエトキシカルボニルメチルホスホニウムクロライ
ド、トリオクチリベンジルホウホニウムクロライド、ト
リオクチルメチルホスホニウムクロライド、トリオクチ
ルエチルホスホニウムアセテート、テトラオクチルホス
ホニウムクロライド、トリオクチルエチルホスホニウム
ジメチルホスフェートなどの第四ホスホニウム塩類が挙
げられる。これらの中でも第四ホスホニウム塩類を用い
ることが好ましく、テトラフェニルホスホニウムクロラ
イド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラ
フェニルホスホニウムアイオダイド、テトラブチルホス
ホニウムクロライドおよびテトラブチルホスホニウムブ
ロマイドが特に好ましい。
化合物と２官能性フェノールのカルボン酸ジエステル化
合物を重付加反応させることであるが、この反応には、
第四オニウム塩、クラウンエーテル錯体および第三アミ
ンなどを触媒として用い、これらの存在下に重付加反応
させることが好ましい。これらの触媒の中でも、ビスオ
キセタン化合物と２官能性フェノールのカルボン酸ジエ
ステル化合物との反応性の面から、第四オニウム塩およ
びクラウンエーテル錯体の使用が好ましい。第四オニウ
ム塩としては、テトラブチルアンモニウムブロマイド、
テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルア
ンモニウムアイオダイド、テトラエチルアンモニウムク
ロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テト
ラエチルアンモニウムアイオダイド、ｎ−ドデシルトリ
メチルアンモニウムブロマイド、オクタデシルトリメチ
ルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモ
ニウムブロマイド、セチルジメチルベンジルアンモニウ
ムクロライド、セチルジメチルベンジルアンモニウムブ
ロマイド、セチルピリジウムサルフェート、テトラエチ
ルアンモニウムアセテート、トリメチルベンジルアンモ
ニウムベンゾエート、トリメチルベンジルアンモニウム
ボレート、５−ベンジル−１，５−ジアザビシクロ
［４，３，０］−５−ノネニウムクロライド、５−ベン
ジル−１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノ
ネウムテトラフルオロボレート等の第四アンモニウム塩
類、およびテトラブチルホスホニウムブロマイド、テト
ラブチルホスホニウムクロライド、テトラフェニルホス
ホニウムブロマイド、テトラフェニルホスホニウムアイ
オダイド、テトラフェニルホスホニウムクロライド、ベ
ンジルトリフェニルホスホニウムブロマイド、ベンジル
トリフェニルホスホニウムクロライド、トリフェニルメ
トキシメチルホスホニウムクロライド、トリフェニルメ
チルカルボニルメチルホスホニウムクロライド、トリフ
ェニルエトキシカルボニルメチルホスホニウムクロライ
ド、トリオクチリベンジルホウホニウムクロライド、ト
リオクチルメチルホスホニウムクロライド、トリオクチ
ルエチルホスホニウムアセテート、テトラオクチルホス
ホニウムクロライド、トリオクチルエチルホスホニウム
ジメチルホスフェートなどの第四ホスホニウム塩類が挙
げられる。これらの中でも第四ホスホニウム塩類を用い
ることが好ましく、テトラフェニルホスホニウムクロラ
イド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、テトラ
フェニルホスホニウムアイオダイド、テトラブチルホス
ホニウムクロライドおよびテトラブチルホスホニウムブ
ロマイドが特に好ましい。
【００１４】また、クラウンエーテル錯体としては、１
２−クラウン−４、１５−クラウン−５、１８−クラウ
ン−６、シス−ジシクロヘキサン−１８−クラウン−
６、２１−クラウン−７、２４−クラウン−８などが挙
げられ、これらが、ＫＦ、ＫＣｌ、ＫＢｒ、ＣｓＦ、Ｃ
ｓＣｌ、ＣｓＢｒ、チオシアン酸カリウム、ナトリウム
フェノキサイド、カリウムフェノキサイド、安息香酸ナ
トリウム、安息香酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カ
リウムなどの無機塩類あるいは有機塩類との錯体を形成
した状態で使用される。これらの中でも１８−クラウン
−６のＫＢｒ塩、１８−クラウン−６のＫＩ塩およびジ
ベンゾ−１８−クラウン−６のＣｓＣｌ塩が好ましい。
さらに、第三アミンとしては、ジエチルアミノプロピル
アミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、ベンジルジメチ
ルアミン、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノー
ル、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン（ＤＭＡ
Ｐ）、４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ピリジンおよび
１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−ウンデック−
７−エン（ＤＢＵ）などが挙げられる。
２−クラウン−４、１５−クラウン−５、１８−クラウ
ン−６、シス−ジシクロヘキサン−１８−クラウン−
６、２１−クラウン−７、２４−クラウン−８などが挙
げられ、これらが、ＫＦ、ＫＣｌ、ＫＢｒ、ＣｓＦ、Ｃ
ｓＣｌ、ＣｓＢｒ、チオシアン酸カリウム、ナトリウム
フェノキサイド、カリウムフェノキサイド、安息香酸ナ
トリウム、安息香酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カ
リウムなどの無機塩類あるいは有機塩類との錯体を形成
した状態で使用される。これらの中でも１８−クラウン
−６のＫＢｒ塩、１８−クラウン−６のＫＩ塩およびジ
ベンゾ−１８−クラウン−６のＣｓＣｌ塩が好ましい。
さらに、第三アミンとしては、ジエチルアミノプロピル
アミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、ベンジルジメチ
ルアミン、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノー
ル、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン（ＤＭＡ
Ｐ）、４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）ピリジンおよび
１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−ウンデック−
７−エン（ＤＢＵ）などが挙げられる。
【００１５】本発明の製造方法における反応条件は、反
応に用いるビスオキセタン化合物および２官能性フェノ
ールのカルボン酸ジエステル化合物の種類により、多少
の違いはあるが、以下の各条件で行なうことが好まし
い。また、反応は連続式および回分式のいずれでも行な
うことができる。 ビスオキセタン化合物と２官能性フェノールのカル
ボン酸ジエステル化合物との割合 本発明の製造方法における反応は、ビスオキセタン化合
物と２官能性フェノールのカルボン酸ジエステル化合物
との重付加反応であり、反応はモル比で１：１で行われ
るが、反応に使用する割合としては、ビスオキセタン化
合物１モルに対して、２官能性フェノールのカルボン酸
ジエステル化合物０．８〜１．２モルであることが好ま
しい。
応に用いるビスオキセタン化合物および２官能性フェノ
ールのカルボン酸ジエステル化合物の種類により、多少
の違いはあるが、以下の各条件で行なうことが好まし
い。また、反応は連続式および回分式のいずれでも行な
うことができる。 ビスオキセタン化合物と２官能性フェノールのカル
ボン酸ジエステル化合物との割合 本発明の製造方法における反応は、ビスオキセタン化合
物と２官能性フェノールのカルボン酸ジエステル化合物
との重付加反応であり、反応はモル比で１：１で行われ
るが、反応に使用する割合としては、ビスオキセタン化
合物１モルに対して、２官能性フェノールのカルボン酸
ジエステル化合物０．８〜１．２モルであることが好ま
しい。
【００１６】 触媒濃度 上記で述べたように、ビスオキセタン化合物と２官能性
フェノールのカルボン酸ジエステル化合物との重付加反
応は触媒の存在下に行なうことが好ましい。これらの触
媒の使用量は、ビスオキセタン化合物に対して、１〜４
０モル％であることが好ましく、さらに好ましくは２〜
２０モル％である。触媒量が１モル％未満であると、反
応がほとんど進行せず、一方、４０モル％を超えた割合
で使用しても、格別の効果は認められない。
フェノールのカルボン酸ジエステル化合物との重付加反
応は触媒の存在下に行なうことが好ましい。これらの触
媒の使用量は、ビスオキセタン化合物に対して、１〜４
０モル％であることが好ましく、さらに好ましくは２〜
２０モル％である。触媒量が１モル％未満であると、反
応がほとんど進行せず、一方、４０モル％を超えた割合
で使用しても、格別の効果は認められない。
【００１７】 反応温度と反応時間 反応温度は１００〜２００℃の範囲で行なうことが好ま
しい。触媒に第四オニウム塩を使用した場合には１４０
〜１８０℃の温度範囲であることが特に好ましい。ま
た、触媒にクラウンエーテル錯体を使用した場合には、
１５０〜１９０℃の温度範囲が特に好ましい。一方、反
応時間については特に限定はないが、反応温度との兼ね
合いで、１０〜２００時間の反応時間が適当である。
しい。触媒に第四オニウム塩を使用した場合には１４０
〜１８０℃の温度範囲であることが特に好ましい。ま
た、触媒にクラウンエーテル錯体を使用した場合には、
１５０〜１９０℃の温度範囲が特に好ましい。一方、反
応時間については特に限定はないが、反応温度との兼ね
合いで、１０〜２００時間の反応時間が適当である。
【００１８】 反応溶媒 上記反応には、反応溶媒を用いることができ、例えば、
反応溶媒としてはトルエン、アニソール、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、クロロベン
ゼン、オルト−クロロベンゼンおよびジメチルスルホキ
シドなど挙げられるが、これらに限定されない。また、
反応は無溶媒で行なうことも可能である。
反応溶媒としてはトルエン、アニソール、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、クロロベン
ゼン、オルト−クロロベンゼンおよびジメチルスルホキ
シドなど挙げられるが、これらに限定されない。また、
反応は無溶媒で行なうことも可能である。
【００１９】本発明の製造方法で得られるポリエステル
は、ビスオキセタン化合物と２官能性フェノールのカル
ボン酸ジエステル化合物が重付加反応したもので、機械
的性質（引っ張り強度など）、電気的特性（電気絶縁性
など）、耐熱性、耐薬品性、接着性などに優れたポリエ
ステル樹脂が得られ、各種用途での利用が期待される。
以下、実施例を挙げて、本発明を具体的に説明する。
は、ビスオキセタン化合物と２官能性フェノールのカル
ボン酸ジエステル化合物が重付加反応したもので、機械
的性質（引っ張り強度など）、電気的特性（電気絶縁性
など）、耐熱性、耐薬品性、接着性などに優れたポリエ
ステル樹脂が得られ、各種用途での利用が期待される。
以下、実施例を挙げて、本発明を具体的に説明する。
【００２０】
【実施例】合成例１ ４，４’−イソプロピリデンビス（２，６−ジクロロフ
ェニルジアセテート）（以下、ＩＢＤＰＡという）の合
成｛反応式は下記式（５）参照｝攪拌機、塩化カルシウ
ム管および温度計を取り付けた３００ｍＬの三つ口フラ
スコに、４，４’−イソプロピリデンビス（２，６−ジ
クロロフェノール）（以下、ＩＢＤＰという）２８．５
ｇ（８０ｍｍｏｌ）および反応溶媒としてＴＨＦ５０ｍ
Ｌを加え溶解させた。激しく攪拌しながら、ＴＨＦ５０
ｍＬで希釈したトリエチルアミン３０ｍＬ（２１６ｍｍ
ｏｌ）を滴下した。次に、氷冷下、ＴＨＦ５０ｍＬで希
釈したアセチルクロライド１２．８ｍＬ（１８０ｍｍｏ
ｌ）を滴下し、滴下終了後、室温で８時間攪拌した。反
応終了後、反応溶液を水に注ぎ、沈殿物をろ別回収し
た。得られた固体をｎ−ヘキサンとメチルエチルケトン
（５／２の重量比）の混合溶媒で再結晶を行ない、白色
結晶を得た。 ・収率 ５６％ ・沸点：１３６．８〜１３７．２℃ ・ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ-1）：１７７２（Ｃ＝Ｏ）、１４
６８（Ｃ＝Ｃ）、１１８７（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、８１０（Ｃ
−Ｃｌ） ・1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、
δ（ｐｐｍ）：１．６４（ｓ、６Ｈ、ＣＨ3）、２．３
９（ｓ、６Ｈ、ＣＯ−ＣＨ3）、７．１８（ｓ、４Ｈ、A
romatic Ｈ） ・13Ｃ−ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、
δ（ｐｐｍ）：２０．２２（Ｃa）、３０．３８
（Ｃb）、４２．８５（Ｃc）、１２７．００ 、１２
８．６７、１４２．３０、１４８．５６（Aromatic
Ｃ）、１６７．３ ３（Ｃd）
ェニルジアセテート）（以下、ＩＢＤＰＡという）の合
成｛反応式は下記式（５）参照｝攪拌機、塩化カルシウ
ム管および温度計を取り付けた３００ｍＬの三つ口フラ
スコに、４，４’−イソプロピリデンビス（２，６−ジ
クロロフェノール）（以下、ＩＢＤＰという）２８．５
ｇ（８０ｍｍｏｌ）および反応溶媒としてＴＨＦ５０ｍ
Ｌを加え溶解させた。激しく攪拌しながら、ＴＨＦ５０
ｍＬで希釈したトリエチルアミン３０ｍＬ（２１６ｍｍ
ｏｌ）を滴下した。次に、氷冷下、ＴＨＦ５０ｍＬで希
釈したアセチルクロライド１２．８ｍＬ（１８０ｍｍｏ
ｌ）を滴下し、滴下終了後、室温で８時間攪拌した。反
応終了後、反応溶液を水に注ぎ、沈殿物をろ別回収し
た。得られた固体をｎ−ヘキサンとメチルエチルケトン
（５／２の重量比）の混合溶媒で再結晶を行ない、白色
結晶を得た。 ・収率 ５６％ ・沸点：１３６．８〜１３７．２℃ ・ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ-1）：１７７２（Ｃ＝Ｏ）、１４
６８（Ｃ＝Ｃ）、１１８７（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、８１０（Ｃ
−Ｃｌ） ・1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、
δ（ｐｐｍ）：１．６４（ｓ、６Ｈ、ＣＨ3）、２．３
９（ｓ、６Ｈ、ＣＯ−ＣＨ3）、７．１８（ｓ、４Ｈ、A
romatic Ｈ） ・13Ｃ−ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、
δ（ｐｐｍ）：２０．２２（Ｃa）、３０．３８
（Ｃb）、４２．８５（Ｃc）、１２７．００ 、１２
８．６７、１４２．３０、１４８．５６（Aromatic
Ｃ）、１６７．３ ３（Ｃd）
【００２１】
【化９】
【００２２】合成例２ ４，４’−イソプロピリデンビ
ス（２，６−ジクロロフェニルジベンゾエート）（以
下、ＩＢＤＰＢという）の合成｛反応式は下記式（６）
を参照｝ 合成例１と同様な操作により、ＩＢＤＰ ５．８６ｇ
（１６ｍｍｏｌ）とベンゾイルクロリド４．１９ｍＬ
（３６ｍｍｏｌ）との反応を、トリエチルアミン６ｍＬ
（４３ｍｍｏｌ）の存在下、ＴＨＦ３７ｍＬ中で行なっ
た。ベンゾイルクロリド−ＴＨＦ溶液を氷冷下、６分か
けて滴下し、滴下終了後、室温で７時間攪拌した。反応
終了後、反応溶液を水に注ぎ沈殿物をろ別回収した。得
られた固体をｎ−ヘキサンとメチルエチルケトン（５／
３の重量比）の混合溶媒で再結晶を行い、白色結晶を得
た。 ・収率 ４５％ ・沸点：２０３．６〜２０４．１℃ ・ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ-1）：１７５０（Ｃ＝Ｏ este
r）、１４６９（Ｃ＝Ｃ）、１２４２（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、
８０９（Ｃ−Ｃｌ） ・1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、
δ（ｐｐｍ）：１．５４（ｓ、６Ｈ、ＣＨ3）、７．２
６（ｓ、４Ｈ）、７．４８−７．７９（ｍ、６Ｈ）、
８．２９（ｄ、ｊ＝６．８Ｈｚ，４Ｈ） ・13Ｃ−ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、
δ（ｐｐｍ）：３０．４４（Ｃa）、４２．９７
（Ｃb）、１２７．０６、１２８．１９、１２８．７
０、１２８．９５、１２９．６３、１３０．５３、１３
４．０９、１４８．７１（Aromatic Ｃ）、１６３．１
８（Ｃc）
ス（２，６−ジクロロフェニルジベンゾエート）（以
下、ＩＢＤＰＢという）の合成｛反応式は下記式（６）
を参照｝ 合成例１と同様な操作により、ＩＢＤＰ ５．８６ｇ
（１６ｍｍｏｌ）とベンゾイルクロリド４．１９ｍＬ
（３６ｍｍｏｌ）との反応を、トリエチルアミン６ｍＬ
（４３ｍｍｏｌ）の存在下、ＴＨＦ３７ｍＬ中で行なっ
た。ベンゾイルクロリド−ＴＨＦ溶液を氷冷下、６分か
けて滴下し、滴下終了後、室温で７時間攪拌した。反応
終了後、反応溶液を水に注ぎ沈殿物をろ別回収した。得
られた固体をｎ−ヘキサンとメチルエチルケトン（５／
３の重量比）の混合溶媒で再結晶を行い、白色結晶を得
た。 ・収率 ４５％ ・沸点：２０３．６〜２０４．１℃ ・ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ-1）：１７５０（Ｃ＝Ｏ este
r）、１４６９（Ｃ＝Ｃ）、１２４２（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、
８０９（Ｃ−Ｃｌ） ・1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、
δ（ｐｐｍ）：１．５４（ｓ、６Ｈ、ＣＨ3）、７．２
６（ｓ、４Ｈ）、７．４８−７．７９（ｍ、６Ｈ）、
８．２９（ｄ、ｊ＝６．８Ｈｚ，４Ｈ） ・13Ｃ−ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、
δ（ｐｐｍ）：３０．４４（Ｃa）、４２．９７
（Ｃb）、１２７．０６、１２８．１９、１２８．７
０、１２８．９５、１２９．６３、１３０．５３、１３
４．０９、１４８．７１（Aromatic Ｃ）、１６３．１
８（Ｃc）
【００２３】
【化１０】
【００２４】合成例３ ４，４’−イソプロピリデンビ
ス（２，６−ジクロロフェニル−ジ−２，４−ジクロロ
ベンゾエート）（以下、ＩＢＤＰＤという）の合成｛反
応式は下記式（７）を参照｝ 合成例１と同様な操作により、ＩＢＤＰ ５．８６ｇ
（１６ｍｍｏｌ）と２，４’−ジクロロベンゾイルクロ
リド７．５４ｇ（３６ｍｍｏｌ）との反応を、トリエチ
ルアミン６ｍＬ（４３ｍｍｏｌ）の存在下、ＴＨＦ３０
ｍＬ中で行なった。２，４−ジクロロベンゾイルクロリ
ド−ＴＨＦ溶液を氷冷下、７分かけて滴下し、滴下終了
後、室温で８時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水
に注ぎ沈殿物をろ別回収した。得られた固体をｎ−ヘキ
サンとメチルエチルケトン（２／５の重量比）の混合溶
媒で再結晶を行い、白色結晶を得た。 ・収率 ５６％ ・沸点：１８９．４〜１８９．９℃ ・ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ-1）：１７６５（Ｃ＝Ｏ este
r）、１４７３（Ｃ＝Ｃ）、１２３４（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、
８１０（Ｃ−Ｃｌ） ・1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、
δ（ｐｐｍ）：１．６９（ｓ、６Ｈ、ＣＨ3）、７．２
６（ｓ、４Ｈ、Ｈa）、７．４２（ｄｄ、Ｊbc＝２．０
Ｈｚ、Ｊbd＝８．３Ｈｚ、２．０Ｈ、Ｈb）、７．５８
（ｄ、Ｊcb＝２．０Ｈｚ、２．０Ｈ、Ｈc）、８．１６
（ｄ、Ｊdb＝８．３Ｈｚ、２．０Ｈ、Ｈd） ・13Ｃ−ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、
δ（ｐｐｍ）：３０．３９（Ｃa）、４３．０３
（Ｃb）、１２６．０６、１２７．１４、１２７．２
９、１２７．４３、１２８．８４、１３１．４７、１３
３．２８、１３６．２８、１３９．７６、１４９．０２
（Aromatic Ｃ）、１６０．７６（Ｃc）
ス（２，６−ジクロロフェニル−ジ−２，４−ジクロロ
ベンゾエート）（以下、ＩＢＤＰＤという）の合成｛反
応式は下記式（７）を参照｝ 合成例１と同様な操作により、ＩＢＤＰ ５．８６ｇ
（１６ｍｍｏｌ）と２，４’−ジクロロベンゾイルクロ
リド７．５４ｇ（３６ｍｍｏｌ）との反応を、トリエチ
ルアミン６ｍＬ（４３ｍｍｏｌ）の存在下、ＴＨＦ３０
ｍＬ中で行なった。２，４−ジクロロベンゾイルクロリ
ド−ＴＨＦ溶液を氷冷下、７分かけて滴下し、滴下終了
後、室温で８時間攪拌した。反応終了後、反応溶液を水
に注ぎ沈殿物をろ別回収した。得られた固体をｎ−ヘキ
サンとメチルエチルケトン（２／５の重量比）の混合溶
媒で再結晶を行い、白色結晶を得た。 ・収率 ５６％ ・沸点：１８９．４〜１８９．９℃ ・ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ-1）：１７６５（Ｃ＝Ｏ este
r）、１４７３（Ｃ＝Ｃ）、１２３４（Ｃ−Ｏ−Ｃ）、
８１０（Ｃ−Ｃｌ） ・1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、
δ（ｐｐｍ）：１．６９（ｓ、６Ｈ、ＣＨ3）、７．２
６（ｓ、４Ｈ、Ｈa）、７．４２（ｄｄ、Ｊbc＝２．０
Ｈｚ、Ｊbd＝８．３Ｈｚ、２．０Ｈ、Ｈb）、７．５８
（ｄ、Ｊcb＝２．０Ｈｚ、２．０Ｈ、Ｈc）、８．１６
（ｄ、Ｊdb＝８．３Ｈｚ、２．０Ｈ、Ｈd） ・13Ｃ−ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）、
δ（ｐｐｍ）：３０．３９（Ｃa）、４３．０３
（Ｃb）、１２６．０６、１２７．１４、１２７．２
９、１２７．４３、１２８．８４、１３１．４７、１３
３．２８、１３６．２８、１３９．７６、１４９．０２
（Aromatic Ｃ）、１６０．７６（Ｃc）
【００２５】
【化１１】
【００２６】実施例１ ドライバック中（湿度１０％未満）、アンプル管にテト
ラフェニルホスホニウムブロマイド（以下、ＴＰＰＢと
いう）０．０２１ｇ（０．０５ｍｍｏｌ）と回転子を入
れ、６０℃で５時間減圧乾燥した。その後、ドライバッ
ク中でそのアンプル管に、１，４−ビス（３−エチル−
３−オキセタニルメトキシメチル）ベンゼン（以下、Ｂ
ＥＯＢという）０．３３４ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、合成
例１で得たＩＢＤＰＡ０．４５０ｇ（１．０ｍｍｏｌ）
およびＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（以下、ＤＭＡｃ
という）０．３ｍＬを加えた。その後、アンプル管に二
方コックを接続し、密閉状態でドライバックから取り出
し、次の操作により脱気した。アンプル管を液体窒素中
に浸し、反応系内の試料を凍結させた後減圧し、数分間
減圧脱気後、アンプル管を水中に入れて解凍させて、乾
燥高純度窒素で置換した。この操作を２回繰り返した
後、再び凍結させ減圧状態でアンプル管を封管した。試
料が解凍したのを確認し、１６０℃のオイルバスで９６
時間加熱した。反応後、得られた反応混合物を少量のク
ロロホルムで希釈し、メタノールに注ぎ生成物を沈殿さ
せた。ろ別して回収した生成物を良溶媒としてクロロホ
ルム、貧溶媒としてメタノールを用いて、２回再沈殿精
製を行い、減圧乾燥後、褐色の固体の重合体を得た。数
平均分子量（Ｍｎ）、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は溶出
液にＴＨＦを用いたＧＰＣ測定により求めた。これらの
結果から、以下の理由により、ＢＥＯＢとＩＢＤＰＡの
重付加反応物が得られていることが確認された。 生成物のＩＲスペクトル（図１参照）によれば、１６
７０ｃｍ-1のチオエステルに起因するピークが消失し、
１７２０と１２６７ｃｍ-1にエステル結合に起因するＣ
＝ＯとＣ−Ｏ−Ｃのピークが確認された。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（図２参照）において、３．
１３ｐｐｍにフェニルスルフィド基に隣接するメチレン
プロトンと、テレフタロイル基に隣接するメチレンプロ
トンのシグナルを新たに確認した。これらのプロトン比
は、得られた高分子がＢＥＯＢとＰＢＣＴとの１：１の
重付加反応物であると仮定した場合の構造｛下記式
（８）参照｝と一致した。 ・収量：０．７８ｇ（収率 １００％） ・Ｍｎ：７，４００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８３ ・ＩＲ（film、cm-1）：１７４０（Ｃ＝Ｏ）、１２４０
（Ｃ−Ｏ−Ｃ ester）、１０９８（Ｃ−Ｏ−Ｃ ethe
r）、８０１（Ｃ−Ｃｌ） ・1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）：
δ（ｐｐｍ）０．６６〜１．２０（ｍ、６．０Ｈ、
Ｈa）、１．４４〜１．８５（ｍ、１０．０Ｈ 、Ｈb、
Ｈc）、２．０２（ｓ、６．０Ｈ、Ｈd）、３．５３
（ｓ、４．０Ｈ、Ｈe）、３．８７〜４．３４（ｍ、
８．０Ｈ、Ｈg、Ｈh）、４．５ ０（ｓ、４．０Ｈ、Ｈ
f）、７．０６（ｓ、４．０Ｈ、Ｈi）、７．２８（ｓ
、４．０Ｈ、Ｈj） ・13Ｃ−ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）
δ（ｐｐｍ）：７．６０（Ｃa）、２０．８９（Ｃb）、
２２．６７（Ｃc）、３０．３８（Ｃ d）、４２．３９
（Ｃe）、４２．６６（Ｃf）、７２．８２（Ｃg）、７
３ ．１５（Ｃh）、１２７．２９、１２７．３９、１
２９．１０、１３７．７５ 、１４６．６６、１４９．
１６（Aromatic Ｃ）、１７０．９０（Ｃi）
ラフェニルホスホニウムブロマイド（以下、ＴＰＰＢと
いう）０．０２１ｇ（０．０５ｍｍｏｌ）と回転子を入
れ、６０℃で５時間減圧乾燥した。その後、ドライバッ
ク中でそのアンプル管に、１，４−ビス（３−エチル−
３−オキセタニルメトキシメチル）ベンゼン（以下、Ｂ
ＥＯＢという）０．３３４ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、合成
例１で得たＩＢＤＰＡ０．４５０ｇ（１．０ｍｍｏｌ）
およびＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（以下、ＤＭＡｃ
という）０．３ｍＬを加えた。その後、アンプル管に二
方コックを接続し、密閉状態でドライバックから取り出
し、次の操作により脱気した。アンプル管を液体窒素中
に浸し、反応系内の試料を凍結させた後減圧し、数分間
減圧脱気後、アンプル管を水中に入れて解凍させて、乾
燥高純度窒素で置換した。この操作を２回繰り返した
後、再び凍結させ減圧状態でアンプル管を封管した。試
料が解凍したのを確認し、１６０℃のオイルバスで９６
時間加熱した。反応後、得られた反応混合物を少量のク
ロロホルムで希釈し、メタノールに注ぎ生成物を沈殿さ
せた。ろ別して回収した生成物を良溶媒としてクロロホ
ルム、貧溶媒としてメタノールを用いて、２回再沈殿精
製を行い、減圧乾燥後、褐色の固体の重合体を得た。数
平均分子量（Ｍｎ）、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は溶出
液にＴＨＦを用いたＧＰＣ測定により求めた。これらの
結果から、以下の理由により、ＢＥＯＢとＩＢＤＰＡの
重付加反応物が得られていることが確認された。 生成物のＩＲスペクトル（図１参照）によれば、１６
７０ｃｍ-1のチオエステルに起因するピークが消失し、
１７２０と１２６７ｃｍ-1にエステル結合に起因するＣ
＝ＯとＣ−Ｏ−Ｃのピークが確認された。1 Ｈ−ＮＭＲスペクトル（図２参照）において、３．
１３ｐｐｍにフェニルスルフィド基に隣接するメチレン
プロトンと、テレフタロイル基に隣接するメチレンプロ
トンのシグナルを新たに確認した。これらのプロトン比
は、得られた高分子がＢＥＯＢとＰＢＣＴとの１：１の
重付加反応物であると仮定した場合の構造｛下記式
（８）参照｝と一致した。 ・収量：０．７８ｇ（収率 １００％） ・Ｍｎ：７，４００、Ｍｗ／Ｍｎ＝１．８３ ・ＩＲ（film、cm-1）：１７４０（Ｃ＝Ｏ）、１２４０
（Ｃ−Ｏ−Ｃ ester）、１０９８（Ｃ−Ｏ−Ｃ ethe
r）、８０１（Ｃ−Ｃｌ） ・1Ｈ−ＮＭＲ（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）：
δ（ｐｐｍ）０．６６〜１．２０（ｍ、６．０Ｈ、
Ｈa）、１．４４〜１．８５（ｍ、１０．０Ｈ 、Ｈb、
Ｈc）、２．０２（ｓ、６．０Ｈ、Ｈd）、３．５３
（ｓ、４．０Ｈ、Ｈe）、３．８７〜４．３４（ｍ、
８．０Ｈ、Ｈg、Ｈh）、４．５ ０（ｓ、４．０Ｈ、Ｈ
f）、７．０６（ｓ、４．０Ｈ、Ｈi）、７．２８（ｓ
、４．０Ｈ、Ｈj） ・13Ｃ−ＮＭＲ（５０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3、ＴＭＳ）
δ（ｐｐｍ）：７．６０（Ｃa）、２０．８９（Ｃb）、
２２．６７（Ｃc）、３０．３８（Ｃ d）、４２．３９
（Ｃe）、４２．６６（Ｃf）、７２．８２（Ｃg）、７
３ ．１５（Ｃh）、１２７．２９、１２７．３９、１
２９．１０、１３７．７５ 、１４６．６６、１４９．
１６（Aromatic Ｃ）、１７０．９０（Ｃi）
【００２７】
【化１２】
【００２８】実施例２〜実施例９ ＴＰＰＢの代わりに下記表１に示した触媒を用いた以外
は、実施例１と同様に反応を行ない、いずれもＢＥＯＢ
とＩＢＤＰＡの重付加反応物を得た。表１における略号
は以下のとおりである。 ＴＢＰＣ：テトラブチルホスホニウムクロライド ＴＢＰＢ：テトラブチルホスホニウムブロマイド ＴＰＰＣ：テトラフェニルホスホニウムクロライド ＴＰＰＩ：テトラフェニルホスホニウムアイオダイド １８−Ｃ−６／ＫＣｌ：１８−クラウン−６−エーテル
の塩化カリウム錯体 １８−Ｃ−６／ＫＢｒ：１８−クラウン−６−エーテル
の臭化カリウム錯体 １８−Ｃ−６／ＫＩ：１８−クラウン−６−エーテルの
よう化カリウム錯体 ＤＢ−１８−Ｃ−６／ＣｓＣｌ：ジベンゾ−１８−クラ
ウン−６−エーテルの塩化セシウム錯体
は、実施例１と同様に反応を行ない、いずれもＢＥＯＢ
とＩＢＤＰＡの重付加反応物を得た。表１における略号
は以下のとおりである。 ＴＢＰＣ：テトラブチルホスホニウムクロライド ＴＢＰＢ：テトラブチルホスホニウムブロマイド ＴＰＰＣ：テトラフェニルホスホニウムクロライド ＴＰＰＩ：テトラフェニルホスホニウムアイオダイド １８−Ｃ−６／ＫＣｌ：１８−クラウン−６−エーテル
の塩化カリウム錯体 １８−Ｃ−６／ＫＢｒ：１８−クラウン−６−エーテル
の臭化カリウム錯体 １８−Ｃ−６／ＫＩ：１８−クラウン−６−エーテルの
よう化カリウム錯体 ＤＢ−１８−Ｃ−６／ＣｓＣｌ：ジベンゾ−１８−クラ
ウン−６−エーテルの塩化セシウム錯体
【００２９】
【表１】
【００３０】実施例１０〜実施例１１ 実施例１と同様な操作で、ＢＥＯＢ ０．３３４ｇ
（１．０ｍｍｏｌ）と表２に示す２官能フェノールのカ
ルボン酸ジエステルの反応を、触媒としてＴＰＰＢ０．
０２１ｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、ＤＭＡｃ０．３
ｍＬ中、１６０℃、４８時間反応を行なった。得られた
重合体の数平均分子（Ｍｎ）、分子量分布（Ｍｗ／Ｍ
ｎ）は、展開溶媒にＴＨＦを用いたＧＰＣにより算出し
た。
（１．０ｍｍｏｌ）と表２に示す２官能フェノールのカ
ルボン酸ジエステルの反応を、触媒としてＴＰＰＢ０．
０２１ｇ（０．０５ｍｍｏｌ）を用い、ＤＭＡｃ０．３
ｍＬ中、１６０℃、４８時間反応を行なった。得られた
重合体の数平均分子（Ｍｎ）、分子量分布（Ｍｗ／Ｍ
ｎ）は、展開溶媒にＴＨＦを用いたＧＰＣにより算出し
た。
【００３１】
【表２】
【００３２】実施例１２〜１５ 実施例１と同様な操作で、ビス｛（３−（３−エチルオ
キセタニル））メチル｝テレフタレート（以下、ＢＥＯ
Ｔという）０．３６２ｇ（１．０ｍｍｏｌ）と表３に示
す２官能フェノールのカルボン酸ジエステルの反応を、
触媒としてＴＰＰＢ０．０２１ｇ（０．０５ｍｍｏｌ）
を用い、ＤＭＡｃ０．３ｍＬ中、１６０℃、４８時間反
応を行なった。得られた重合体の数平均分子（Ｍｎ）、
分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、展開溶媒にＴＨＦを用い
たＧＰＣにより算出した。表３におけるＢＰＡＡ：ビス
フェノールＡジアセテートを示す。
キセタニル））メチル｝テレフタレート（以下、ＢＥＯ
Ｔという）０．３６２ｇ（１．０ｍｍｏｌ）と表３に示
す２官能フェノールのカルボン酸ジエステルの反応を、
触媒としてＴＰＰＢ０．０２１ｇ（０．０５ｍｍｏｌ）
を用い、ＤＭＡｃ０．３ｍＬ中、１６０℃、４８時間反
応を行なった。得られた重合体の数平均分子（Ｍｎ）、
分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、展開溶媒にＴＨＦを用い
たＧＰＣにより算出した。表３におけるＢＰＡＡ：ビス
フェノールＡジアセテートを示す。
【００３３】
【表３】
【００３４】
【発明の効果】本発明の製造方法で得られるポリエステ
ルは、ビスオキセタン化合物と２官能フェノールのカル
ボン酸ジエステル化合物との完全な重付加反応物である
ため、その機械的強度、電気的特性に極めて優れたもの
であり、各種工業用途への使用が期待される。
ルは、ビスオキセタン化合物と２官能フェノールのカル
ボン酸ジエステル化合物との完全な重付加反応物である
ため、その機械的強度、電気的特性に極めて優れたもの
であり、各種工業用途への使用が期待される。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で得られた共重合体のＩＲスペクトル
を示す。
を示す。
【図２】実施例１で得られた共重合体の1Ｈ−ＮＭＲス
ペクトルを示す。
ペクトルを示す。
【図３】実施例１で得られた共重合体の13Ｃ−ＮＭＲス
ペクトルを示す。
ペクトルを示す。
Claims (4)
- 【請求項１】ビスオキセタン化合物と２官能性フェノー
ルのカルボン酸ジエステル化合物とを重付加反応させる
ことを特徴とするポリエステルの製造方法。 - 【請求項２】第四オニウム塩、クラウンエーテル錯体ま
たは第三アミンの存在下に重付加反応を行なうことを特
徴とする請求項１に記載のポリエステルの製造方法。 - 【請求項３】ビスオキセタン化合物が下記式（１）で表
される化合物である請求項１または請求項２に記載にポ
リエステルの製造方法。 【化１】 ｛式中、Ｒ5は下記式（２）で表されるいずれかの置換
基を示す｝ 【化２】 - 【請求項４】２官能性フェノールのカルボン酸ジエステ
ル化合物が下記式（３）で表される化合物である請求項
１から請求項３のいずれかに記載のポリエステルの製造
方法。 【化３】 （式中、Ａｒ2は下記式（４）で表されるいずれかの置
換基を示し、Ｒ6は炭素数が１〜６のアルキル基または
置換基を有してもよいフェニル基を示す） 【化４】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000191654A JP2002003593A (ja) | 2000-06-26 | 2000-06-26 | ビスオキセタン化合物と２官能性フェノールのカルボン酸ジエステル化合物からなるポリエステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000191654A JP2002003593A (ja) | 2000-06-26 | 2000-06-26 | ビスオキセタン化合物と２官能性フェノールのカルボン酸ジエステル化合物からなるポリエステルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002003593A true JP2002003593A (ja) | 2002-01-09 |
Family
ID=18690926
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000191654A Withdrawn JP2002003593A (ja) | 2000-06-26 | 2000-06-26 | ビスオキセタン化合物と２官能性フェノールのカルボン酸ジエステル化合物からなるポリエステルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002003593A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004510785A (ja) * | 2000-10-04 | 2004-04-08 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 重合性液晶ジオキセタン、並びにその製造方法及び使用 |
-
2000
- 2000-06-26 JP JP2000191654A patent/JP2002003593A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004510785A (ja) * | 2000-10-04 | 2004-04-08 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 重合性液晶ジオキセタン、並びにその製造方法及び使用 |
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