JP2001525385A - クロロカルボン酸クロリドの製造方法 - Google Patents

クロロカルボン酸クロリドの製造方法

Info

Publication number
JP2001525385A
JP2001525385A JP2000524246A JP2000524246A JP2001525385A JP 2001525385 A JP2001525385 A JP 2001525385A JP 2000524246 A JP2000524246 A JP 2000524246A JP 2000524246 A JP2000524246 A JP 2000524246A JP 2001525385 A JP2001525385 A JP 2001525385A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
alkyl
groups
acyl
cyano
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000524246A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4268756B2 (ja
Inventor
ヴァイヤー ハンス−ユルゲン
シュタム アルミン
ヴェーバー テオドール
ヘンケルマン ヨッヘム
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF SE
Original Assignee
BASF SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BASF SE filed Critical BASF SE
Publication of JP2001525385A publication Critical patent/JP2001525385A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4268756B2 publication Critical patent/JP4268756B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/58Preparation of carboxylic acid halides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 本発明は、式I:R1−CHCl−Y−COCl (I)[式中、R1は、例えば水素またはC1〜C20−アルキルであり、Yは、例えば飽和あるいは1または複数のオレフィン性不飽和のC2〜C8−アルキレン鎖である]のクロロカルボン酸クロリドを、尿素化合物の存在下に、ラクトンと塩素化剤とを反応させることにより製造する方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は、ラクトンを尿素化合物の存在下に塩素化剤と反応させることにより
、クロロカルボン酸クロリドを製造するための新規方法に関する。
【0002】 クロロカルボン酸クロリドが、有機合成、特に農作物保護剤および薬剤を合成
する際の中間体として有用であることは公知である。
【0003】 DE−A−3624258には、対応するラクトンを、触媒としての4級アン
モニウム塩の存在下にホスゲンと反応させることにより、クロロカルボン酸クロ
リドを製造することについて記載されている。この方法では、良好な収量が得ら
れるものの、4級アンモニウム塩がラクトンおよびクロロカルボン酸クロリドの
いずれにも不溶性であるため、反応混合物の後処理および特に加工の連続実施を
困難にするので、工業的見地からはいくつかの課題が残されている。
【0004】 EP−A−413264およびEP−A−435714には、ホスフィン酸化
物の存在下に、ホスゲンでラクトンを塩素化してクロロカルボン酸クロリドを製
造する方法が記載されており、ここで、リン−含有性の蒸留残留物が獲得される
が、残留物の灰化時にリン酸が形成されるため、その廃棄は困難である。
【0005】 さらに、US−A−3418365には、塩化チオニルを使用してラクトンか
らクロロカルボン酸クロリドを製造する方法が記載されているが、この方法では
不十分な収量しか得られない。
【0006】 本発明の課題は、従来技術の方法が有する不利点を克服し、塩素化剤とラクト
ンとを反応させてクロロカルボン酸クロリドを製造する方法を提供することであ
る。
【0007】 本発明の課題が、式I: R1−CHCl−Y−COCl (I) [式中、 R1は、水素、または各々、非置換であるかまたはC1〜C4−アルコキシ、C2
4−アシル、C2〜C4−アシルオキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲ ン、ニトロおよび/またはシアノで1〜3置換されていてよいC1〜C20−アル キル、C2〜C12−アルケニル、C2〜C12−アルキニルであるか、または各々、
非置換であるかまたはC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C2〜C4
アシル、C2〜C4−アシルオキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、ニ
トロおよび/またはシアノで1〜3置換されていてよいC3〜C12−シクロアル キル、C4〜C12−アルキルシクロアルキル、C4〜C12−シクロアルキルアルキ
ル、ヘテロシクロアルキル、C5〜C20−ヘテロシクロアルキルアルキル、C6
14−アリール、C7〜C20−アリールアルキルまたはC7〜C20−アルキルアリ
ールであり、 Yは、非置換あるいはC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C2〜C4
アシル、C2〜C4−アシルオキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、ニ
トロおよびシアノで1〜3置換されていてよい、飽和あるいは1または複数のオ
レフィン性不飽和のC2〜C8−アルキレン鎖であり、これらは、エーテル基、チ
オエーテル基、3級アミノ基、ケト基、ラクトン基、N−アルキル置換ラクタム
基またはスルホン基で中断されていてよい]のクロロカルボン酸クロリドを製造 する方法において、式II:
【0008】
【化4】
【0009】 [式中、R1およびYは、前記と同様の意味を有する]のラクトンを、式III: R23N−CX−NR45 (III) [式中、 基R2、R3、R4およびR5は、同一または異なっていてよく、相互に独立して、
水素を除くR1に記載したと同じ意味を有するか、または 基R2またはR3のひとつが基R4またはR5のひとつといっしょになって、非置換
あるいはC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C2〜C4−アシル、C2 〜C4−アシルオキシ、フェノキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、 ニトロおよびシアノで1〜3置換されていてよく、エーテル基、チオエーテル基
、3級アミノ基、ケト基、ラクトン基、アルキル置換ラクタム基、スルホン基ま
たはジケト基を含有してよい、炭素原子2〜8個を有する飽和あるいは1または
複数のオレフィン性不飽和の炭素鎖であり、または各々、非置換あるいはC1〜 C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、フェノキシ、C2〜C4−アシル、C2
4−アシルオキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、ニトロおよび/ またはシアノで1〜3置換されていてよい、炭素原子5〜12個を有するシクロ
アルキレン基、炭素原子4〜11個を有するヘテロシクロアルキレン基、炭素原
子6〜12個を有するアリーレン基または炭素原子3〜11個を有するヘテロア
リーレン基であり、 Xは、酸素または硫黄原子である]の尿素化合物および/または式IV:
【0010】
【化5】
【0011】 [式中、 Xは、前記と同じ意味を有し、 R6、R7、R8およびR9は、同一または異なっていてよく、相互に独立して、水
素を除くR1に記載したと同じ意味を有する]の尿素化合物および/または、式V
【0012】
【化6】
【0013】 [式中、 X、R6〜R9は、各々前記と同じ意味を有し、 Z1およびZ2は、同一または異なっていてよく、非置換であるかまたは、C1〜 C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C2〜C4−アシル、C2〜C4−アシル オキシ、フェノキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、ニトロおよび/
またはシアノで1〜3置換されていてよい、メチレン、エチレンまたはビニレン
基である]の化合物の存在下に、塩素化剤と反応させることを特徴とする、式I のクロロカルボン酸クロリドの製法により解決されることが見出された。
【0014】 Yは、ヘテロ原子、例えば酸素または硫黄、あるいは反応条件下において塩素
化剤に対して不活性な基、例えば3級アミノ、ケト、ラクトン、N−アルキル−
置換ラクタムまたはスルホン基で中断されていてよい、C2〜C8−アルキレン鎖
である。Yはさらに、反応条件下において塩素化剤に対して不活性な基、例えば
1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C2〜C4−アシル、C2〜C4−ア
ルコキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、ニトロおよびシアノで1〜
3置換されていてよい。Yは、鎖の構成成分として、炭素原子のみを含有しかつ
更なる置換基を有さないのが有利である。Yは、特に有利にC2〜C4−アルキレ
ン、例えばエチレン、プロピレンおよびブチレンであり、非常に有利にエチレン
およびプロピレンである。
【0015】 化合物I、II、III、IVおよびV中の有機置換基R1〜R9は、それぞれ
独立して、以下の意味を有する: − C1〜C20−アルキル、有利にC1〜C12−アルキル、特に有利にC1〜C8
アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、
イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、イソペンチル、n− ヘキシル、イソヘキシル、n−ヘプチル、イソヘプチル、n−オクチルおよびイ
ソオクチル、特にC1〜C4−アルキル、例えばメチル、エチル、n−プロピル、
イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチルおよびtert−ブチルであ り、 − C1〜C12−アルケニル、有利にC2〜C8−アルケニル、例えばビニル、1 −プロペニル、2−プロペニル、1−メチルエテニル、1−ブテニル、2−ブテ
ニル、3−ブテニル、1−メチル−1−プロペニル、2−メチル−1−プロペニ
ル、1−メチル−2−プロペニル、2−メチル−2−プロペニル、1−ペンテニ
ル、2−ペンテニル、3−ペンテニル、4−ペンテニル、1−メチル−1−ブテ
ニル、2−メチル−1−ブテニル、3−メチル−1−ブテニル、1−メチル−2
−ブテニル、2−メチル−2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、1−メチ
ル−3−ブテニル、2−メチル−3−ブテニル、3−メチル−3−ブテニル、1
,1−ジメチル−2−プロペニル、1,2−ジメチルプロペニル、1−エチル−1
−プロペニル、1−エチル−2−プロペニル、1−ヘキセニル、2−ヘキセニル
、3−ヘキセニル、4−ヘキセニル、5−ヘキセニル、特に有利にビニル、2−
プロペニルおよび1−ブテニルであり、 − C1〜C12アルキニル、有利にC2〜C8−アルキニル、例えばエチニル、1 −プロピニル、2−プロピニル、1−ブチニル、3−ブチニル、1−メチル−2
−プロピニル、1−ペンチニル、2−ペンチニル、3−ペンチニル、1−メチル
−2−ブチニル、1−メチル−3−ブチニル、2−メチル−3−ブチニル、3−
メチル−1−ブチニル、1,1−ジメチル−2−プロピニル、1−エチル−2− プロピニル、1−ヘキシニル、2−ヘキシニル、3−ヘキシニル、4−ヘキシニ
ル、5−ヘキシニル、特に有利にエチニル、1−プロピニルおよび1−ブチニル
である。
【0016】 前記の基は、C1〜C4−アルコキシ、C2〜C4−アシル、C2〜C4−アシルオ
キシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、ニトロおよび/またはシアノで
置換されていてよい。有利な置換アルキル基は、特に有利にハロゲン−置換アル
キル基またはシアノ−置換アルキル基、例えばシアノメチル、クロロメチルであ
る。
【0017】 さらに、R1〜R9は: − C3〜C12−シクロアルキル、有利にC5〜C8−シクロアルキル、例えばシ クロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル及びシクロオクチルであり、特
に有利にシクロペンチルおよびシクロヘキシルであり、 − C4〜C12−アルキルシクロアルキル、有利にC5〜C10−アルキルシクロア
ルキル、特に有利にC5〜C8−アルキルシクロアルキルであり、 − C4〜C12−シクロアルキルアルキル、有利にC5〜C10−シクロアルキルア
ルキル、特に有利にC5〜C8−シクロアルキルアルキルであり、 − C5〜C20−アルキルシクロアルキルアルキル、有利にC6〜C16−アルキル
シクロアルキルアルキル、特に有利にC7〜C12−アルキルシクロアルキルアル キルであり、 − ヘテロシクロアルキル、例えば1つまたはふたつのO、Nおよび/またはS
原子を環内に有する5−または6−員環であり、これらは芳香族または非芳香族
であってよく、例えば2−フリルまたは3−フリル、2−チエニルまたは3−チ
エニル、2−ピロリルまたは3−ピロリル、2−イミダゾリルまたは4−イミダ
ゾリル、2−オキサゾリルまたは3−オキサゾリル、2−チアゾリルまたは3−
チアゾリル、ピリジニル、モルホリニル、チオモルホリニルおよびピラゾリルで
あり、 − C6〜C14−アリール、例えばフェニル、1−ナフチルおよび2−ナフチル 、有利にフェニルであり、 − C7〜C20−アルキルアリール、有利にC7〜C16−アルキルアリール、有利
にC7〜C12−アルキルフェニル、例えば2−メチルフェニル、3−メチルフェ ニル、4−メチルフェニル、2−エチルフェニル、3−エチルフェニルおよび4
−エチルフェニルであり、 − C7〜C20−アリールアルキル、有利にC7〜C16−アラルキル、有利にC7 〜C12−フェナルキル、例えばベンジル、1−フェニルエチル、2−フェニルエ
チル、3−フェニルプロピル、1−フェニルブチル、2−フェニルブチル、3−
フェニルブチル、4−フェニルブチル、特に有利にベンジル、1−フェニルエチ
ルおよび2−フェニルエチルである。
【0018】 さらに、基R2またはR3は、基R4またはR5のひとつといっしょになって、炭
素原子5〜12個を有するシクロアルキレン基を形成し、これは、ビシナル炭素
原子を介してあるいは1,3位で結合していてよい。例には、1,2−シクロペン
チレンまたは1,3−シクロペンチレン、1,2−シクロヘキシレンまたは1,3 −シクロヘキシレンおよび1,2−シクロヘプチレンまたは1,3−シクロヘプチ
レンがある。シクロアルキレン基はまた、1つ以上のヘテロ原子、例えば窒素、
酸素または硫黄を、1つ以上の炭素原子の代わりに含有していてよい。さらに、
基R2またはR3は、R4またはR5のひとつといしょになって、炭素原子6〜12
個を有するアリーレン基(2価)を形成し、これは、ビシナル炭素原子を介して
結合している。例には、オルト−フェニレン、1,2−ナフチレンまたは2,3−
ナフチレン、および1,2−アントラセニレンまたは2,3−アントラセニレン、
有利にオルト−フェニレンがある。アリーレン基はまた、1つ以上のヘテロ原子
、例えば窒素を1つ以上の炭素原子の代わりに有していてよい。例には、2,3 −ピロリレンまたは3,4−ピロリレン、2,3−ピリジニレンまたは3,4−ピ リジニレン、2,3−キノリニレン、3,4−キノリニレン、5,6−キノリニレ ンまたは6,7−キノリニレンまたは2,3−キノキサリニレン、5,6−キノキ サリニレンまたは6,7−キノキサリニレンがある。
【0019】 式IIIの有利な尿素化合物は、反応条件下で液体の化合物であり、特に有利
にN,N'−ジメチルエチレン尿素、N,N'−ジメチルプロピレン尿素、N,N'−
テトラブチル尿素、N,N'−テトラメチルチオ尿素、N−クロロメチル−N'− シアノメチルプロピレン尿素、N−メチル−N'−エチルプロピレン尿素、1,3
−ジメチル−1,3−ジヒドロベンズイミダゾール−2−オン、1−メチル−3 −フェニルイミダゾリジン−2,4,5−トリオン、1,3,4,6−テトラメチル −1,3,4,6−テトラヒドロイミダゾ[4,5−D]イミダゾール−2,5−ジオ ンおよび4−メトキシ−1−メチル−3−フェニルイミダゾリジン−2−チオン
である。
【0020】 前記の尿素化合物を、それ自体またはハロゲン化水素酸の塩、例えば塩酸塩、
またはホスゲンとの反応で獲得される塩(ビルスマイヤー塩)の形で使用しても
よく、有利には塩酸塩の形で使用する。
【0021】 式III、IVおよび/またはVの尿素化合物は、例えばHouben-weyl, Metho
den der organischen Chemie, (1983) Volume E4, 335〜391頁および484〜505頁
に記載される反応により獲得できる。
【0022】 式III、IVおよびVの尿素化合物は、ラクトンIIに対してモル比0.0 01:1〜0.2:1、有利に0.002:1〜0.1:1、特に有利に0.005
:1〜0.05:1で使用する。
【0023】 特筆すべき出発材料IIは、プロセス生成物Iの重要性に関連して非置換のラ
クトンであり、すなわち、ブチロラクトン、バレロラクトンおよびカプロラクト
ンである。
【0024】 低融点の液体ラクトンを使用する場合、反応は一般的に溶媒不含で実施できる
。さもなければ、反応を不活性溶媒中で実施することが推奨される。好適な溶媒
には、高沸点炭化水素、例えばクメン、トルエン、キシレン、ベンゼンまたは芳
香族塩素化合物、例えばクロロベンゼンまたはジクロロベンゼンであり、さらに
ラクトンIIあたりの加工生成物の量は、50質量%までが有利である。
【0025】 塩素化剤として好適に使用されるのは、慣用の試薬であり、例えばホスゲン、
塩化チオニル、塩化オキザリル、三塩化リンであり、有利にホスゲンを使用する
。塩素化剤のラクトンIIに対するモル比は、0.5:1〜50:1、有利に1 :1〜2:1、特に有利に1:1〜1.5:1、非常に有利に1:1〜1.2:1
である。
【0026】 さらに、塩化水素を併用するのが有利であり、すなわちラクトンIIを5〜1
00モル%、有利に20〜40モル%の量で使用する。
【0027】 本発明の方法において、尿素化合物III、IVまたはVの存在下に、−20
〜180℃、有利に0〜120℃、特に有利に40〜100℃で、圧力0.01 〜50bar、有利に0.5〜5bar、特に有利に0.9〜1bar、非常に有
利に常圧でラクトンIIを反応させる。
【0028】 反応をバッチ法で実施する場合、ラクトンおよび尿素化合物の溶液、場合によ
り溶媒、の製造が奨励され、塩素化剤を該溶液へ消費量に応じて導入する。この
際、ラクトンII 1モルあたり塩素化剤1〜3モルで十分である。過剰の塩素 化剤を慣用の方法で反応器へ再循環できる。
【0029】 本発明の方法の利点は、特に方法を連続法で実施した場合に顕著であり、この
際、攪拌タンク、向流操作における反応塔、ループ反応器、反応管または前記反
応器類の組合せの系列を使用できる。
【0030】 反応混合物の後処理を、慣用の方法、すなわち一般的に蒸留により実施し、塩
素化剤としてホスゲンを使用した場合には蒸留の前に場合により過剰のホスゲン
を除去する。
【0031】 本発明の方法の利点は、比較的おだやかな条件下に、少量の尿素化合物を使用
して、完全かつ選択的に反応を進行できることである。反応生成物を、ホスゲン
−含有残留物を蓄積させることなく、慣用の後処理方法で後処理でき、かつ該方
法を連続して実施できる。
【0032】 本発明を、以下の実施例により詳細に説明する。
【0033】 実施例 例1〜4 7時間の時間をかけて、ホスゲンbモルおよび塩化水素cモルを、ガンマ−ブ
チロラクトン3モルおよび尿素化合物III(R2、R3=CH3、Zは変数)0.
02モルから成る混合物中へ、140℃で導入した。
【0034】 反応終了後、反応混合物を約80℃で窒素に通過させることにより、過剰のホ
スゲンおよび塩化水素を除去し、該混合物をガスクロマトグラフィーにより分析
した。例1〜4の詳細およびその結果を以下の表1に示す。
【0035】 例5 7時間の時間をかけて、ラクトンII 3モルおよびジメチルプロピレン尿素 0.02モルから成る混合物中に、140℃で、塩化チオニルbモルを滴加しか つ塩化水素ガスcモルを導入した。反応終了後、反応混合物を約80℃で窒素に
通過させることにより、過剰のホスゲンおよび塩化水素を除去し、該混合物をガ
スクロマトグラフィーにより分析した。例5の詳細およびその結果を以下の表1
に示す。
【0036】
【表1】
【手続補正書】
【提出日】平成12年7月11日(2000.7.11)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項1
【補正方法】変更
【補正内容】
【化1】 [式中、R1およびYは、前記と同様の意味を有する]のラクトンを、式III: R23N−CX−NR45 (III) [式中、 基R2、R3、R4およびR5は、同一または異なっていてよく、相互に独立して、
水素を除くR1に記載したと同じ意味を有するか、または 基R2またはR3のひとつが基R4またはR5のひとつといっしょになって、非置換
あるいはC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C2〜C4−アシル、C2 〜C4−アシルオキシ、フェノキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、 ニトロおよびシアノで1〜3置換されていてよく、エーテル基、チオエーテル基
、3級アミノ基、ケト基、ラクトン基、アルキル置換ラクタム基、スルホン基ま
たはジケト基を含有してよい、炭素原子2〜8個を有する飽和あるいは1または
複数のオレフィン性不飽和の炭化水素鎖であり、または各々、非置換あるいはC 1 〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、フェノキシ、C2〜C4−アシル、C 2 〜C4−アシルオキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、ニトロおよび
/またはシアノで1〜3置換されていてよい、炭素原子5〜12個を有するシク
ロアルキレン基、炭素原子4〜11個を有するヘテロシクロアルキレン基、炭素
原子6〜12個を有するアリーレン基または炭素原子3〜11個を有するヘテロ
アリーレン基であり、 Xは、酸素または硫黄原子である]の尿素化合物および/または式IV:
【化2】 [式中、 Xは、前記と同じ意味を有し、 R6、R7、R8およびR9は、同一または異なっていてよく、相互に独立して、水
素を除くR1に記載したと同じ意味を有する]の尿素化合物および/または、式V
【化3】 [式中、 X、R6〜R9は、各々前記と同じ意味を有し、 Z1およびZ2は、同一または異なっていてよく、非置換であるかまたは、C1〜 C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C2〜C4−アシル、C2〜C4−アシル オキシ、フェノキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、ニトロおよび/
またはシアノで1〜3置換されていてよい、メチレン、エチレンまたはビニレン
基である]の化合物の存在下に、塩素化剤と反応させることを特徴とする、式I のクロロカルボン酸クロリドの製法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 テオドール ヴェーバー ドイツ連邦共和国 ルートヴィッヒスハー フェン フィルヒョウシュトラーセ 20 (72)発明者 ヨッヘム ヘンケルマン ドイツ連邦共和国 マンハイム バッサー マンシュトラーセ 25 Fターム(参考) 4H006 AA02 AC47 BC10 BC31 BE01 BE50 BE51 BE52 BM10 BM72 BS90

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式I: R1−CHCl−Y−COCl (I) [式中、 R1は、水素、または各々、非置換であるかまたはC1〜C4−アルコキシ、C2
    4−アシル、C2〜C4−アシルオキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲ ン、ニトロおよび/またはシアノで1〜3置換されていてよいC1〜C20−アル キル、C2〜C12−アルケニル、C2〜C12−アルキニルであるか、または各々、
    非置換であるかまたはC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C2〜C4
    アシル、C2〜C4−アシルオキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、ニ
    トロおよび/またはシアノで1〜3置換されていてよいC3〜C12−シクロアル キル、C4〜C12−アルキルシクロアルキル、C4〜C12−シクロアルキルアルキ
    ル、ヘテロシクロアルキル、C5〜C20−ヘテロシクロアルキルアルキル、C6
    14−アリール、C7〜C20−アリールアルキルまたはC7〜C20−アルキルアリ
    ールであり、 Yは、非置換あるいはC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C2〜C4
    アシル、C2〜C4−アシルオキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、ニ
    トロおよびシアノで1〜3置換されていてよい、飽和あるいは1または複数のオ
    レフィン性不飽和のC2〜C8−アルキレン鎖であり、これらは、エーテル基、チ
    オエーテル基、3級アミノ基、ケト基、ラクトン基、N−アルキル置換ラクタム
    基またはスルホン基で中断されていてよい]のクロロカルボン酸クロリドを製造 する方法において、式II: 【化1】 [式中、R1およびYは、前記と同様の意味を有する]のラクトンを、式III: R23N−CX−NR45 (III) [式中、 基R2、R3、R4およびR5は、同一または異なっていてよく、相互に独立して、
    水素を除くR1に記載したと同じ意味を有するか、または 基R2またはR3のひとつが基R4またはR5のひとつといっしょになって、非置換
    あるいはC1〜C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C2〜C4−アシル、C2 〜C4−アシルオキシ、フェノキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、 ニトロおよびシアノで1〜3置換されていてよく、エーテル基、チオエーテル基
    、3級アミノ基、ケト基、ラクトン基、アルキル置換ラクタム基、スルホン基ま
    たはジケト基を含有してよい、炭素原子2〜8個を有する飽和あるいは1または
    複数のオレフィン性不飽和の炭素鎖であり、または各々、非置換あるいはC1〜 C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、フェノキシ、C2〜C4−アシル、C2
    4−アシルオキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、ニトロおよび/ またはシアノで1〜3置換されていてよい、炭素原子5〜12個を有するシクロ
    アルキレン基、炭素原子4〜11個を有するヘテロシクロアルキレン基、炭素原
    子6〜12個を有するアリーレン基または炭素原子3〜11個を有するヘテロア
    リーレン基であり、 Xは、酸素または硫黄原子である]の尿素化合物および/または式IV: 【化2】 [式中、 Xは、前記と同じ意味を有し、 R6、R7、R8およびR9は、同一または異なっていてよく、相互に独立して、水
    素を除くR1に記載したと同じ意味を有する]の尿素化合物および/または、式V
    : 【化3】 [式中、 X、R6〜R9は、各々前記と同じ意味を有し、 Z1およびZ2は、同一または異なっていてよく、非置換であるかまたは、C1〜 C4−アルキル、C1〜C4−アルコキシ、C2〜C4−アシル、C2〜C4−アシル オキシ、フェノキシ、C2〜C8−ジアルキルアミノ、ハロゲン、ニトロおよび/
    またはシアノで1〜3置換されていてよい、メチレン、エチレンまたはビニレン
    基である]の化合物の存在下に、塩素化剤と反応させることを特徴とする、式I のクロロカルボン酸クロリドの製法。
  2. 【請求項2】 N,N−ジメチルエチレン尿素、N,N'−ジメチルプロピレ ン尿素、N,N'−テトラブチル尿素、N,N'−テトラメチルチオ尿素、N−クロ
    ロメチル−N'−シアノメチルプロピレン尿素、N−メチル−N'−エチルプロピ
    レン尿素、1,3−ジメチル−1,3−ジヒドロベンズイミダゾール−2−オン、
    1−メチル−3−フェニルイミダゾリジン−2,4,5−トリオン、1,3,4,6 −テトラメチル−1,3,4,6−テトラヒドロ−イミダゾ[4,5−D]イミダゾー
    ル−2,5−ジオンおよび4−メトキシ−1−メチル−3−フェニルイミダゾリ ジン−2−チオンを使用する、請求項1記載のクロロカルボン酸クロリドの製法
  3. 【請求項3】 尿素化合物を、ラクトンIIに対して0.001:1〜0.2
    :1のモル比で使用する、請求項1または2記載のクロロカルボン酸クロリドの
    製法。
  4. 【請求項4】 使用する塩素化剤が、ホスゲン、塩化チオニル、塩化オキザ
    リルまたは三塩化リンである、請求項1から3までのいずれか1項記載のクロロ
    カルボン酸クロリドの製法。
  5. 【請求項5】 塩素化剤を、ラクトンIIに対して0.5:1〜50:1の モル比で使用する、請求項1から4までのいずれか1項記載のクロロカルボン酸
    クロリドの製法。
  6. 【請求項6】 反応を、塩化水素の存在下に実施する、請求項1から5まで
    のいずれか1項記載のクロロカルボン酸クロリドの製法。
  7. 【請求項7】 反応を−20〜180℃で実施する、請求項1から6までの
    いずれか1項記載のクロロカルボン酸クロリドの製法。
JP2000524246A 1997-12-04 1998-11-21 クロロカルボン酸クロリドの製造方法 Expired - Fee Related JP4268756B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19753773A DE19753773A1 (de) 1997-12-04 1997-12-04 Verfahren zur Herstellung von Chlorcarbonsäurechloriden
DE19753773.1 1997-12-04
PCT/EP1998/007500 WO1999029648A2 (de) 1997-12-04 1998-11-21 Verfahren zur herstellung von chlorcarbonsäurechloriden

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001525385A true JP2001525385A (ja) 2001-12-11
JP4268756B2 JP4268756B2 (ja) 2009-05-27

Family

ID=7850705

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000524246A Expired - Fee Related JP4268756B2 (ja) 1997-12-04 1998-11-21 クロロカルボン酸クロリドの製造方法

Country Status (9)

Country Link
US (1) US6262300B1 (ja)
EP (1) EP1036055B1 (ja)
JP (1) JP4268756B2 (ja)
KR (1) KR100551675B1 (ja)
CN (1) CN1272104A (ja)
DE (2) DE19753773A1 (ja)
ES (1) ES2174527T3 (ja)
HU (1) HUP0100478A3 (ja)
WO (1) WO1999029648A2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10010594A1 (de) * 2000-03-03 2001-09-06 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Chlorcarbonsäurechloriden
US7906424B2 (en) 2007-08-01 2011-03-15 Advanced Micro Devices, Inc. Conductor bump method and apparatus
US8314474B2 (en) 2008-07-25 2012-11-20 Ati Technologies Ulc Under bump metallization for on-die capacitor
CN103613492B (zh) * 2013-12-10 2015-04-15 岳阳市国发植物用药工程技术研究中心有限公司 一种光引发剂2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙基酮合成方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2778852A (en) 1952-07-12 1957-01-22 Basf Ag Production of chlorocarboxylic acid chlorides
US3418365A (en) 1966-06-27 1968-12-24 Union Carbide Corp Process for the production of beta-chloro acyl chlorides
JPS5729454B2 (ja) * 1974-06-20 1982-06-23
US4129595A (en) * 1978-03-29 1978-12-12 Chevron Research Company Preparation of chloroacetyl chloride
DE3624258A1 (de) 1986-07-18 1988-01-21 Basf Ag Verfahren zur herstellung von chlorcarbonsaeurechloriden
DE3927146A1 (de) 1989-08-17 1991-02-21 Basf Ag Verfahren zur herstellung von chlorcarbonsaeurechloriden
FR2655334B1 (fr) 1989-12-06 1992-02-21 Poudres & Explosifs Ste Nale Procede de preparation de chlorures d'acides carboxyliques chlores.
DE4324605A1 (de) * 1993-07-22 1995-01-26 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Carbonsäurechloriden
US5750779A (en) * 1995-06-20 1998-05-12 Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. Preparation process of acyl halide or sulfonyl halide
US5764309A (en) 1996-10-07 1998-06-09 Zenith Electronics Corporation Sync compensated AGC system for VSB receiver

Also Published As

Publication number Publication date
EP1036055A2 (de) 2000-09-20
HUP0100478A2 (hu) 2001-06-28
JP4268756B2 (ja) 2009-05-27
DE59803565D1 (de) 2002-05-02
HUP0100478A3 (en) 2002-11-28
ES2174527T3 (es) 2002-11-01
WO1999029648A3 (de) 1999-08-12
WO1999029648A2 (de) 1999-06-17
US6262300B1 (en) 2001-07-17
KR20010024677A (ko) 2001-03-26
DE19753773A1 (de) 1999-06-10
KR100551675B1 (ko) 2006-02-13
EP1036055B1 (de) 2002-03-27
CN1272104A (zh) 2000-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101982952B1 (ko) 피라졸 유도체의 제조 방법
TWI401250B (zh) 環狀二磺酸酯之製造方法
KR20100124233A (ko) 술폰 또는 술폭시드 화합물의 제조 방법
JP2001525385A (ja) クロロカルボン酸クロリドの製造方法
KR20110025756A (ko) 사이클릭 티오우레아의 사용에 의한 바이사이클릭 구아니딘의 제조방법
FR2499984A1 (fr) Procede pour la preparation de disulfures de thiurame
KR100374950B1 (ko) O-클로로메틸벤조일클로라이드의제법
US6495714B1 (en) Method for producing alkanesulfonic acids
US20020087008A1 (en) Process for preparing 2-chloro-5-chloromethylthiazole
KR20200038938A (ko) 시클릭 카르보네이트를 제조하는 방법
JP2002516886A (ja) アルキルクロリド、アルケニルクロリドおよびアルキニルクロリドの製造方法
EP3215516B1 (en) Metathesis catalysts and methods thereof
US6162939A (en) Method for producing thiochloroformates
CA2988237A1 (en) Substituted imidazolium sulfuranes and their use
JPH02121976A (ja) フタライド類の製造法
FR2655039A1 (fr) Synthese des bromures de perfluoroalkyle.
Gillis Cyclic sulfites and the Bissinger rearrangement
JP2658059B2 (ja) チオエーテル類の製造方法
TW201716364A (zh) 鹵化丙烯酸酯衍生物的製造方法
KR20070009654A (ko) 피롤-2-카보니트릴의 합성
KR890002514B1 (ko) 액상 할로겐 교환 반응에서의 촉매재생법
SU1235865A1 (ru) Способ получени трифторацетилфуранов
JPH03193760A (ja) イソチオシアン酸エステルの製造法
JP2019135225A (ja) 一塩化ヨウ素の塩酸溶液による芳香環のヨウ素化
JP2003300950A (ja) スルホン化合物またはスルホキシド化合物の製造方法とその触媒

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050713

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080806

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081105

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090123

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090223

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120227

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130227

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees