JP2001517767A - 統合されたポンプ・パージの付いたモジュール式流体フロー・システム - Google Patents

統合されたポンプ・パージの付いたモジュール式流体フロー・システム

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JP2001517767A
JP2001517767A JP2000513080A JP2000513080A JP2001517767A JP 2001517767 A JP2001517767 A JP 2001517767A JP 2000513080 A JP2000513080 A JP 2000513080A JP 2000513080 A JP2000513080 A JP 2000513080A JP 2001517767 A JP2001517767 A JP 2001517767A
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Abstract

(57)【要約】 モジュール方式、モノリシック方式のポンプ・パージ・システムは、モジュール方式、モノリシック方式のマニホールド（２０６）上に設置された複数のバルブ（２１２ａ、２１２ｂ、２２０、２２３）を備えており、モジュール方式、モノリシック方式のマニホールド（２０６）はモジュール方式、モノリシック方式の流体操作システムに取り付け可能である。導管内の真空引きのため、あるいは導管内に洗浄用流体を輸送するために必要な流体輸送導管の、少なくとも一部、好ましくは全部が流体操作システムのモノリシック式マニホールド内にある。システムを構成するガス取り扱いフロー・ラインはガス取り扱い要素の個別のスティック（２０３、２０５）からなっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 １．発明の分野 本発明は半導体処理装置用ガスフロー制御システム等の、流体のフロー制御シ
ステムにおける新しい概念に関する。半導体処理には不活性、毒性、腐食性のガ
スが使用されており、汚染のない気体が適正な量で確実に半導体処理チャンバに
届くようにするため、それらのガスは様々なフロー制御と濾過装置の使用を必要
とする。制御装置および濾過装置は、操作性とメンテナンス性のため、通常搭載
台上に設置されるいくつもの要素のクラスタとして組み立てられている。本開示
では、特性技能が要求され、生産停止時間により費用がかかる管継手作業や配管
作業を行わずに、ガス制御および処理を行う要素をクラスタとして使用すること
を可能とする。ここに含まれる概念は、ほぼ流体のフロー制御システム一般に適
用できる。
【０００２】 ２．背景技術の簡単な説明 特殊ガスの使用を必要とする半導体処理工程は数多くある。これらのガスのい
くつかは、一般に希釈ガスとして用いられる窒素やアルゴン等の不活性ガスであ
る。アルゴン等のガスはまた、物理的気相成長法（ＰＶＤ）等のプロセスにおけ
るプラズマの発生に用いられる。多くの場合、処理ガスは毒性、腐食性、あるい
はその両方である。例えば、エッチング・プロセスで一般に使用されるガスには
Ｃｌ2、ＢＣｌ3、ＣＣｌ4、ＳｉＣｌ4、ＳＦ6、およびＣＦ4が含まれる。化学気 相成長法（ＣＶＤ）プロセスにおいて一般に使用されるガスは、例えばＨ2、Ｔ ｉＣｌ4、ＳｉＨ4、ＭｏＣｌ5、ＷＣｌ6、およびＴａＣｌ5を含んでいる。これ らのガスの輸送、減圧、濾過、質量流量制御、混合、またその他の公知のプロセ
スに関する機能のために、特別な操作装置が必要とされる。
【０００３】 １９８７年１２月２２日発行の米国特許第４，７１４，０９１号（Ｗｉｌｆｒ
ｉｅｄ Ｗａｇｎｅｒ）にモジュール式ガス取り扱い装置が開示されている。こ
の装置はモジュール式フロー遮断手段を備え、モジュール式フロー遮断手段には
それを介して延伸する複数のガス流路を含み、このモジュール式フロー遮断手段
のそれぞれの表面上には複数のポート部材が設けられている。モジュール式フロ
ー遮断手段を介して所定の場所にガス流路を通すため、モジュール式フロー遮断
手段内には複数のバルブ通路が延伸している。複数のバルブ通路の各々はモジュ
ール式フロー遮断手段のそれぞれの表面上に入路開口部を含み、かつ複数のバル
ブ・フランジ部材を含んでおり、各バルブ・フランジ部材は、入路開口部の1つ でモジュール式フロー遮断手段上の高真空バルブに、バルブ・フランジ部材に回
転力を与える必要なく取り付けられるよう適合しており、同時にモジュール式フ
ロー遮断手段上に高真空バルブの密閉シールを設けている。さらに、複数のポー
ト部材の各々はポート部材取り付け手段を備えており、それによって導管は取り
外し可能となり、また複数のポート部材のそれぞれが密閉シールされる。
【０００４】 １９９３年２月２３日発行の米国特許第５，１８８，１４８号（Ｄｒｅｖａｒ
ｄ Ｇａｒｒｉｓｏｎ）には、流体送出システムのための導管と試薬送出手段を
含むプレート構造が記載されている。このシステムは、複数の流体を順々に、正
確な容積で処理リザーバへ送るように設計されている。プレート構造内に流体経
路が形成されており、プレート構造に取り付けられた複数の流体リザーバから流
体を送出する手段を提供する。所望の処理リザーバや圧力リザーバに流体を導く
ため、プレート構造にはパーティション・スイッチが取り付けられている。
【０００５】 １９９５年１１月２９日に出願され、本出願の譲り受け人に譲渡された米国特
許出願番号０８／５６４，４６６（Ｍａｎｏｆｓｋｙ Ｊｒ．他）には、流体お
よび気体システムの平底構成部品および平底構造について記載されている。本特
許出願では、これを完全に参照することにより具体化している。特に平底バルブ
や、その他例えば計測器等平底タイプの構成部品は、平底構成部品に相互接続す
る経路を有するモノリシック式構造に取り付けられている。
【０００６】 上述のようなガス取り扱いシステムにより、システムの設置、操作およびメン
テナンス時の配管作業の必要が生じても、必要最低限となるようなガス処理要素
の組み合わせを使用できる。この技術分野で公知のように、配管をおこなうこと
により管やパイプの使用とともに様々な接続継手や溶接物が用いられる。これは
、ガスの多くが腐食性であることにより、またガスの取り扱いと処理の要素を頻
繁に修理・交換する必要がある、半導体産業において特に効果がある。
【０００７】 ガス取り扱いシステム内の特定の要素（およびその要素に導く導管）を占める
ガスが毒性、腐食性、発火性およびこれらの組み合わせの場合、要素の交換を可
能にするためには、導管ラインを開けて要素を取り外す前に、その要素と要素に
導く導管に残ったガスを取り除く必要がある。一般には導管を開けて要素を取り
外すのに先だち、要素および関係する導管を、通常は不活性ガスの洗浄ガスで洗
い流す（パージする）ことによって行われる。ごくわずかな濃度のガスでも周囲
の環境一般や要素の交換作業をおこなう人間に有害となる場合（危険ガス）、洗
浄ガスでパージを行った後、残りのガスを真空引きして取り除く必要がある（要
素からガスをくみ出す）。残留ガスを完全に取り除くために、この工程を数回繰
り返して行う。
【０００８】 ガス取り扱いシステムのメンテナンスで生じる問題と同じ問題が、危険な流体
を含む一般的な流体についても当てはまる。上述の種類の流体操作システムから
残留する毒性、腐食性、あるいは発火性の流体を取り除くことができ、従来の配
管作業を、あっても必要最小限にできるような装置が非常に望まれる。発明の概要 我々は、閉じた公差ループを持たずにモジュール／モノリシック式・流体操作
システムに統合することのできるポンプ・パージ・システムを設計、構築した。
特に、このポンプ・パージ・システムは、モジュール／モノリシック式・流体操
作システムに取り付け可能なモジュール／モノリシック式・マニホールド上に設
置されたバルブの組み合わせを備えている。ガス取り扱いシステム内の流体操作
ラインの真空引き（もしくは、その他の排気方法によるポンピング）や、モジュ
ール／モノリシック式・ガス取り扱いシステムの流体操作ライン内に洗浄流体を
流す（パージ）ために必要な流体移動管の、少なくとも一部、または好ましくは
その全部が、ガス取り扱いシステムの一部であるモノリシック式マニホールド内
にある。ポンプ・パージ・システムのモジュール式およびモノリシック式マニホ
ールドには流体フロー管が含まれ、これは流体操作システムの流体フローライン
に対応している。また、ポンプ・パージ・マニホールドには、その少なくとも１
つの表面に流体操作システムの開口部と一致する開口部があり、ポンプ・パージ
・マニホールドを取り付けたときに、流体操作システムから選択された流体フロ
ー管内の流体を排気または洗浄することが出来る。閉じた公差ループの形成を回
避するため、ポンプ・パージ・マニホールドあるいはそれが取り付けられたモジ
ュール／モノリシック式・ガス取り扱いシステムのマニホールドの一部には、必
要な接続すべてにおいて腐食や欠陥率の増加につながる応力を発生させることが
ないよう、充分な自由浮動性をもたせる必要がある。
【０００９】 ガス取り扱いシステムの好ましい実施例では、システムを構成するガス取り扱
いフロー・ラインはガス取り扱い要素の個別のスティックを備えることが好まし
く、自由に浮動するようにそれぞれポンプ・パージ・システムのマニホールドに
取り付けられる。
【００１０】 ガス取り扱いシステムの大きさを最小に制限することが望まれる場合、および
ポンプ・パージ・マニホールドがモノリシック式マニホールド上に設置されたバ
ルブの間隔を最小にするように望まれる場合、ポンプ・パージ・マニホールド内
の流体フロー管の構造の少なくとも一部を“Ｖ”字形にすることが好ましい。好ましい実施例の詳細な説明 本開示は、閉じた公差ループを持たないモジュール／モノリシック式・ガス取
り扱いシステムに統合することの出来る、ポンプ・パージ・システムに関する。
特に、このポンプ・パージ・システムは、少なくとも1つの二重ポート・バルブ 、あるいは、モジュール／モノリシック式・ガス取り扱いシステム上に搭載する
ことが出来る、モジュール式マニホールドに取り付けられたバルブの組み合わせ
を備えている。二重ポート・バルブまたはその他のバルブの組み合わせは、モジ
ュール式マニホールド内部に組み入れられたの導管と組み合わせられて働いて、
ポンプ・パージ・システムに取り付けられたモジュール／モノリシック式・ガス
取り扱いシステム内の洗浄ガスの輸送や、真空引き（ポンピング）の適用が可能
となる。閉じた公差ループの形成を回避するため、ポンプ・パージ・マニホール
ドまたはそれが取り付けられたモジュール／モノリシック式・ガス・ブロックの
一部は、必要な接続すべてにおいて内部に著しい応力が生じないよう、充分な自
由浮動性をもつ必要がある。 I．定義 詳細な説明の序文として、本仕様書および添付の請求項の中で使用されている
ように、単数形 “ａ”、“ａｎ”、および“ｔｈｅ” を表記のものには、文脈
上明らかに異なる場合を除いて、複数の対象が含まれることに注意する。従って
、例えば“ａ ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ”という用語には、半導体の挙動特
性を持つものとして知られる多種多様の異なる材料が含まれており、“ａ ｍｏ
ｄｕｌａｒ／ｍｏｎｏｌｉｔｈｉｃ ｇａｓ ｈａｎｄｌｉｎｇ ｓｙｓｔｅｍ
” は1種類あるいは数種類のガスを取り扱うことが可能で、1つのモジュールま たは数個のクラスタとして組まれるモジュールを備えてもよい。
【００１１】 本発明の説明に特に重要な、具体的な用語を以下に定義する。
【００１２】 「閉じた公差ループ」という用語は、ガス取り扱い要素の組み合わせの中に完
全なガス流路を形成するために使用される配管系統を指す。流体がその中を流れ
る少なくとも1つの系の要素群が、要素間の導管を流れる流体がその始点に戻る ことができる用に相互接続されている場合、それを「ループ」と呼ぶ。少なくと
も三つのガス取り扱い要素がループ中にあり、それら三つの要素が互いに関係し
た位置に固定されている場合、結果として閉じた公差ループとなる。すなわち、
ガス取り扱いシステムに対する配管位置の公差が制限される。この公差を超える
と、結果として流体輸送管内、あるいは導管のガス取り扱いシステムへの接続位
置において応力が生じる。
【００１３】 「流体操作システム」という用語は、通常は化学処理工業で使用される種類の
流体処理システムを指し、そこでは流体は例えば減圧装置、または濾過装置、質
量流量制御装置、混和装置、およびこれらの組み合わせを介して輸送される。
【００１４】 「ガス取り扱いシステム」という用語は、流体がガスである流体操作システム
を指す。
【００１５】 「モジュール式」という用語は、単一構造を構成している構成部品や構成部品
の組み合わせのことであり、所望のシステムを構築できるよう、この単一構造は
さまざまな方法で配置、あるいは他の単一構造と接続するように設計されている
。ここでの好ましい実施例の例では、モジュール式ガス取り扱いシステムは、単
一構造として提供されるガス取り扱い要素の組み合わせから構成されるものであ
る。これらガス取り扱い要素は、望ましいガス処理システムおよびガス取り扱い
システムを形成するよう配置し、互いに取り付けることが出来る。モジュール式
ガス取り扱いシステムには、通常、ガス取り扱い要素の系、および、２つ以上の
ガス取り扱い要素の相互接続を可能にする、少なくとも1つのマニホールドが含 まれている。
【００１６】 「モノリシック式」という用語は、単一の材料ブロックから作られるものを指
す。この例でモノリシック式流体操作システムとは1つ以上の流体操作モジュー ルからなるシステムのことであり、モジュールにはモノリシック式導管が含まれ
、導管にはモジュール内の流体操作要素間で流体を輸送するための構造が含まれ
ている。好ましい実施例の本例では、モジュール／モノリシック式・ガス取り扱
いシステムはモジュール式ガス取り扱いシステムを含み、２つ以上のガス取り扱
い要素の相互接続を可能にするマニホールドが少なくとも1つの材料ブロックを 備えており、この材料ブロックに複数の内部導管があり、これら導管がモジュー
ル内の1つのガス取り扱い要素から別の要素へガスを輸送する。
【００１７】 「ポンプ・パージ」という用語の構成要素は、流体操作システムの中の少なく
とも1つの流体操作要素から残りの流体を取り除くために使用するシステムの構 成要素である。特にこのシステムは、残留した流体を汲み上げたり、流体操作要
素を介して洗浄用流体を流すことによって残留した流体をパージすることができ
る。好ましい実施例の本例では、ガス取り扱い要素とモノリシック式マニホール
ドを組み合わせた形態でポンプ・パージ構成要素が残留ガスをモジュール／モノ
リシック式・ガス取り扱いシステムから除去することが可能である。 II．本発明のポンプ・パージ・システムが使用可能な、ガス取り扱いシステムの
種類に関する説明 一般的なガス取り扱いシステムを導入する手段として、図１Ａ〜図１Ｃに、半
導体基板の処理中、様々な反応チャンバに処理ガスを供給するために使用される
ようなガス取り扱い装置を備えた、典型的な従来技術の搭載台を示す。図１Ａは
搭載台１００の平面図であり、搭載台１００は３本の危険ガス・スティック１０
３の列１０２と、３本の無害なガス・スティック１０５の列１０４を含んでいる
。危険ガス・スティック１０３はポンプ・パージ能力を必要とする。危険ガス・
スティック１０３には真空ポンプ（図示されない）が取り付けられ、危険ガスを
排出したり、残りの危険ガスをパージするためにラインに圧入された窒素やアル
ゴン等の不活性ガスを排出する。危険ガスを完全に除去する必要がある場合には
、このポンプ・パージ処理が数回繰り返される。ポンプ・パージ処理はポンプ・
パージ・システム１０６によって可能であり、ポンプ・パージ・システム１０６
は１０７ａのガス流路端のガス・スティック１０３から危険ガスを除去し、１０
７ｂにある流路の開始部付近のダブル・ヘッド・バルブ１１２で追加的にガスを
パージすることができる。
【００１８】 図１Ａを見れば、搭載台１００を維持するために必要な配管および管継手の多
いことがすぐに分かる。例えば、非常に多くのＶＣＲ継手があり、そのうちのい
くつかは１０８と番号を付されている。ＶＣＲ継手は溶接された継手であり、こ
れらの継手の内の1つを開く必要があれば、その度ごとに相当な停止時間となる 。加えて、溶接によってバルブの各側の熱影響域に腐食部が生じる。また大量の
配管があり、そのうちのいくつかは、図１で１０９と番号を付されている。ガス
取り扱いシステム要素の交換が必要となれば、その都度、配管のし直しとＶＣＲ
継手の交換に相当な時間を要することになる。
【００１９】 図１Ｂは、危険ガス・スティック１０３の１つの略側面図である。典型的な危
険ガス・スティックは手動ダイヤフラム・バルブ１１０、ダブル・ヘッド・バル
ブ１１２、レギュレータ１１４、圧力伝送器１１６、濾過器１１８、空気バルブ
１２０、質量流量制御装置１２２、およびポンプ・パージ・システム空気バルブ
１２４を備える。多くの危険ガスとともに腐食性の環境があるため、レギュレー
タ１１４および質量流量制御装置１２２は故障し、交換が必要になる。さらに、
濾過器１１８も頻繁に交換が必要である。その結果、危険ガス・スティック１０
３にかかるメンテナンス作業と停止時間の費用が高いものとなる。
【００２０】 図１Ｃは無害なガス・スティック１０５の1つの略側面図である。典型的な無 害なガス・スティックは手動ダイヤフラム・バルブ１３０、レギュレータ１３４
、圧力伝送器１３６、濾過器１３８、空気バルブ１４０、質量流量制御装置１４
２、およびポンプ・パージ・システム空気バルブ１４４を備える。無害なガス・
スティック１０５はパージを必要としないため、同じラインに処理ガスとパージ
・ガスのどちらかを流すためのダブル・ヘッド・バルブは必要ではない。しかし
ながら無害なガス・ラインは、これらラインの中に封じ込められた水分を除去す
るため、定期的に排気しなければならない。
【００２１】 図２Ａ〜図２Ｃに、半導体基板の処理中に、様々な反応チャンバへ処理ガスを
供給するために使用できるガス取り扱い装置を備える、好ましい実施例の搭載台
を示す。図２Ａは搭載台２００の平面図であり、４本の危険ガス・スティック２
０３の列２０２と、６本の無害なガス・スティック２０５の列２０４を含んでい
る。危険ガス・スティック２０３はポンプ・パージ能力を必要とする。危険ガス
・スティック２０３には真空ポンプ（図示されない）が取り付けられ、前述のよ
うに危険ガスを排出したり、残りの危険ガスをパージするためにラインに圧入さ
れた窒素やアルゴン等の不活性ガスを排出する。危険ガスを完全に除去する必要
がある場合には、このポンプ・パージ処理が数回繰り返される。ポンプ・パージ
処理はポンプ・パージ・システム２０６によって可能である。ポンプ・パージ・
システム２０６についてはこれ以降で詳しく述べられる。図２Ａを見ればすぐに
わかるように、搭載台２００を維持するために必要な配管および管継手はわずか
である。例えば図２Ｂおよび図２Ｃから明らかなように、各ガス取り扱い要素は
、ガスが通るモノリシック式ブロックの上面に要素をただボルトで止めることに
よって、ガス取り扱いシステムに取り付けられている（モノリシック式ブロック
には図５および図６に示されるような導管が含まれる）。ガス取り扱い要素を交
換できるようにするためには、ガス取り扱い要素を取り囲む領域から危険ガスを
取り除くために必要なポンプ・パージ・サイクルを行うだけでよく、要素のボル
トを外し、必要であれば流体（ガス）フロー管の入ったモノリシック式ブロック
と要素との間のシールを交換して、新しいガス取り扱い要素を所定の位置にボル
ト締めする。
【００２２】 図２Ｂはポンプ・パージ・マニホールド２０６の一部に取り付けられた危険ガ
ス・スティック２０３の1つの略側面図である。典型的な危険ガス・スティック は手動ダイヤフラム・バルブ２１０、ポンプ・パージ機能を操作するための空気
バルブ２１２ａおよび２１２ｂのセット、レギュレータ２１４、圧力伝送器２１
６、濾過器２１８、空気バルブ２２０、質量流量制御装置２２２、および空気バ
ルブ２２３を備えている。ポンプ・パージ・システム空気バルブ２２４が危険ガ
ス・スティック２０３に取り付けられる。
【００２３】 図２Ｃは無害なガス・スティック２０５の１つの略側面図である。典型的な無
害なガス・スティックは手動ダイヤフラム・バルブ２３０、レギュレータ２３４
、圧力伝送器２３６、濾過器２３８、質量流量制御装置２４２、空気バルブ２４
３を備えている。ポンプ・パージ・システム空気バルブ２４４が無害なガス・ス
ティック２０５に取り付けられる。
【００２４】 モジュール／モノリシック式・ガス取り扱いシステムで使用される危険ガス・
スティックおよび無害なガス・スティックは、特定の処理用途の必要に応じて変
えることが出来る。代わりに使用できるガス取り扱いスティックのいくつかを、
図２−Ｂ−２、図２−Ｂ−３、図２−Ｃ−２、および図２−Ｃ−３に示す。
【００２５】 図２−Ｂ−２は、臨時の危険ガス取り扱いスティック２５０の三次元図であり
、手動ダイヤフラム・バルブ２５２、ポンプ・パージ機能を操作するための空気
バルブ２５４ａおよび２５４ｂのセット、濾過器２５６、空気バルブ２５８、質
量流量制御装置２６０、および空気バルブ２６２を備えている。この危険ガス取
り扱いスティックはポンプ・パージ・システムに取り付けられない状態で図示さ
れている。
【００２６】 図２−Ｂ−３は、標準の危険ガス取り扱いスティック２７０の三次元図であり
、手動ダイヤフラム・バルブ２７２、ポンプ・パージ機能を操作するための空気
バルブ２７４ａおよび２７４ｂのセット、レギュレータ２７６、圧力伝送器２７
８、濾過器２８０、空気バルブ２８２、質量流量制御装置２８４、および空気バ
ルブ２８６を備えている。この危険ガス取り扱いスティックはポンプ・パージ・
システムに取り付けられない状態で図示されている。
【００２７】 図２−Ｃ−２は臨時の無害なガス取り扱いスティック２８８の三次元図であり
、手動ダイヤフラム・バルブ２８９、濾過器２９０、質量流量制御装置２９１、
および空気バルブ２９２を備えている。この無害なガス取り扱いスティックはポ
ンプ・パージ・システムに取り付けられない状態で図示されている。
【００２８】 図２−Ｃ−３は、標準の無害なガス取り扱いスティック２９３の三次元図であ
り、手動ダイヤフラム・バルブ２９４、レギュレータ２９５、圧力伝送器２９６
、濾過器２９７、質量流量制御装置２９８、および空気バルブ２９９を備えてい
る。この無害なガス取り扱いスティックはポンプ・パージ・システムに取り付け
られない状態で図示されている。
【００２９】 図３は、搭載台３０１上に取り付けられたガス取り扱いシステム３００の三次
元図を示している。ガス取り扱いシステムには、４本の危険ガス取り扱い用ステ
ィック３０３、および６本の無害なガス取り扱い用スティック３０５が備えられ
ている。危険ガス・スティック３０３は手動ダイヤフラム・バルブ３０３、ポン
プ・パージ機能を操作するための空気バルブ３１２ａおよび３１２ｂのセット、
レギュレータ３１４、圧力伝送器３１６、図では隠れて見えない濾過器、空気バ
ルブ３２０、質量流量制御装置３２２、および空気バルブ３２３を備えている。
危険ガス・スティック３０３は空気バルブ３２４を設けたポンプ・パージ・シス
テムに取り付けられている。無害なガス・スティック２０５は手動ダイヤフラム
・バルブ３３０、レギュレータ３３４、圧力伝送器３３６、濾過器３３８、質量
流量制御装置３４２、および空気バルブ３４３を含んでいる。無害なガス・ステ
ィック３０５は空気バルブ３４４を設けたポンプ・パージ・システムに取り付け
られている。
【００３０】 図４は、ポンプ・パージ・バルブおよびマニホールド・システム４００を強調
した視点から見たガス取り扱いシステム３００を示している。特に、４本の危険
ガス・スティック３０３のポンプ・パージ空気バルブ３２４、および６本の無害
なガス・スティック３０５のポンプ・パージ空気バルブ３４４が、より詳細に示
されている。また、後で図６を参照して具体的に説明されるポンプ・パージ・モ
ノリシック式マニホールド４０３もここに図示されている。
【００３１】 個々のガス取り扱い要素が、（好ましい実施例のガス取り扱いシステムの中で
）モノリシック式流体操作システムにどのように取り付けられ、またどのように
連携して動くのかを明確にするため、モノリシック式流体操作システムにシール
された平底バルブを備える典型的なガス取り扱い要素について、図５Ａおよび図
５Ｂを参照して説明する。図５Ａに示された構造は従来技術であり、本出願の譲
り受け人に譲渡された米国特許出願番号０８／５６４，４６６に詳細に記述され
ているもので、本出願の背景技術の中で先に言及した。
【００３２】 図５Ａは、平坦な外部表面５４１を有するモノリシック式マニホールド５４０
に取り付けられたバルブ本体アセンブリ５２０の断面図を示している。マニホー
ルド５４０は流体流路５３１および注入経路５２８と排出経路５２９とを備えて
いる。マニホールド注入経路５２８は、マニホールド５４０の幅を少なくとも部
分的に通って伸びる直通開口部５３０に合わせられており、流体の流れをマニホ
ールド内に導く。マニホールド５４０は開口部５３２も有しており、流体の流れ
をバルブ・アセンブリ・キャビティ５２６から経路５２９へ導く。図に示される
ように、アセンブリ５２０は脚部５２４に付けられたバルブ要素５２５を備えて
おり、このバルブ要素をマニホールドの排出開口部５３２に強制的に噛み合わせ
る。なお、マニホールド５４０はまた平坦な外部表面５４１に沿って配列された
ネジ付き開口部５７１を備える。バルブ本体アセンブリ５２０とマニホールド５
４０はネジ部品５２７によって取り付けられる。バルブ本体アセンブリとマニホ
ールドの間に配置されたシール手段５７２が、これら２つの部品間の境界面をシ
ールする。
【００３３】 シール手段５７２の代替物が図５Ｂに示されており、ここでは注入経路５２８
と排出経路５２９を個々に孤立させるために設けられる“Ｃ”シール５８０が示
されている。特に“Ｃ”シールは、通常取り付けフランジ５８２を備えている。
取り付けフランジは一般に非常に薄い金属板で、周囲に配置された取り付け開口
部５８４と、注入経路５２８と排出経路５２９のための金属シール５８８と５８
９をそれぞれ保持する内部フィンガー５８６を有している。金属シール５８８と
５８９は開口部５９０で囲まれたフィンガー５８６によって所定の位置に保持さ
れているため、シールはその位置に対して柔軟性があり、注入経路５２８および
排出経路５２９の位置にそれぞれ調整することが出来る。図５Ｂに示されるよう
な金属シールとモノリシック式マニホールドを合わせた様子は、後で詳しく説明
する図７および図８に明らかである。
【００３４】 III．ポンプ・パージ装置の好ましい実施例の説明 図６は、ポンプ・パージ・バルブ・システムとマニホールド６００を説明する
図であり、マニホールド６００が重要なポンプ・パージ機能をガス取り扱いステ
ィックに統合することを可能にしている。図６は1つの好ましい実施例の設計を 説明しており、当業者であればここで教示される概念を用いて図６に示すものと
は異なる経路を設計し、同じ目的を果たすことができよう。
【００３５】 先の図１を参照すると、過去においてはポンプ・パージ・システムはガス取り
扱いシステムの搭載台に設置されていたが、個々の危険ガス取り扱いスティック
は配管１０７ａおよび１０７ｂによって接続されていた。我々はポンプ・パージ
流体輸送管を危険ガス取り扱いスティックの要素を接続するモノリシック式マニ
ホールドに追加した。そして、危険ガスおよび無害なガスの取り扱いスティック
の列全体の中でポンプ・パージ機能が可能となるように、ガス取り扱いスティッ
クの一端にモジュールとして取り付けることが出来るポンプ・パージ・マニホー
ルドおよびバルブ・システムを設計した。
【００３６】 特に、図６に示される好ましい実施例を参照すると、列３２４中のバルブ６３
０から６３６は、危険処理ガス・スティックを提供している。列３４４中のバル
ブ６４０から６４８は、無害な処理ガス・スティックを提供している。列３４４
中のバルブ６３８は、危険処理ガス・スティックと無害な処理ガス・スティック
の両方を提供している。バルブはすべて平底バルブであり、ポンプ・パージ機能
を可能にするために必要な流体フロー管を含むモノリシック式ガス取り扱いマニ
ホールド４０３と連携する。
【００３７】 危険ガス・スティックに関しては、流体フロー管６０２が危険ガス・スティッ
クからガスを受け取り、洗浄ガス管６０３からバルブ６３０を通り、危険処理ガ
ス排気のためバルブ６３０が導管６１０からポンピング・システム（図示されな
い）へガスを排出させる。各危険処理ガス・スティックの端部にある空気バルブ
は、図２Ｂに２２３として示すように、どの危険処理ガスを流体フロー管６０２
に入れるかを正確に制御するため使用される。危険ガス・スティックをパージす
る（無害なガス・スティックも同様の可能性がある）ために使用する不活性ガス
は、導管６１４を通ってモノリシック式マニホールド４０３に入る。バルブ６３
８が開いていれば、不活性パージガスはライン６１５を通ってバルブ６３６に送
られる。バルブ６３６が閉じていれば、パージガスは下降ガス管６２２を通って
導管６０６に入り、導管６０６によって危険ガス・スティックに送られる。バル
ブ６３８が閉じていれば、不活性ガスはライン６１６を通ってバルブ６４０へ流
れる。バルブ６４０が開いてかつバルブ６４２が閉じていれば、不活性ガスは下
降ガス管６２４を通って導管６０８に入り、導管６０８によって無害なガス・ス
ティックへ送られる。危険ガス・スティックをパージするときは、導管６０６か
ら不活性パージガスを流体フロー管（図示されない）へ送り、個々の危険ガス・ スティックへ導く。パージガスの個々の危険ガス・スティックへの注入位置は、
どのガス取り扱い要素をパージしたいかによる。図２Ｂに示される本発明の好ま
しい実施例では、パージガスはバルブ２１２ｂの位置で導管に注入される。パー
ジガスはその後、危険ガス処理要素を通ってポンプ・パージ要素２２４へ流れ導
管６０２に注入され、洗浄ガス管６０３を上がって行き、（バルブ６３０が閉じ
ているので）バルブ６３２を通ってバルブ６３４へ送られる。このときバルブ６
３４は開いており、このバルブによって導管６１８を通してパージガスが排出さ
れる。
【００３８】 無害なガス・スティックに関しては、流体フロー管６０４が無害なガス・ステ
ィックからガスを受け取り、洗浄ガス管６０５からバルブ６４８を通り、無害な
処理ガス排気のためバルブ６４８が導管６１２からポンピング・システム（図示
されない）へガスを排出させる。各無害な処理ガス・スティックの端部にある空
気バルブは、図２Ｃに２４３として示すように、どの無害な処理ガスを流体フロ
ー管６０４に入れるかを正確に制御するため使用される。
【００３９】 一般に無害なガス・スティックはパージされずに、排気引きだけが行われる。
しかし、前述のように、必要に応じて無害なガス・スティックをパージするため
に不活性ガスを使用してもよい。パージガスの個々の無害なガス・スティックへ
の注入位置は、どのガス取り扱い要素をパージしたいかによる。図２Ｃに示され
る本発明の好ましい実施例では、無害なガス・スティックはパージされない。
【００４０】 ここでの重要な概念はどのガスがどの方向に流れるかではなく、ポンプ・パー
ジ機能がモジュール／モノリシック式・ガス取り扱いシステムと共に使用された
ときに、ポンプ・パージ機能のためにモジュール／モノリシック式・ポンプ・パ
ージ・ガス・バルブ・システムおよびマニホールド・システムを使用するという
ことである。さらに、図２Ａ〜図２Ｃおよび図６に説明される好ましい実施例の
設計によって、各スティックが個々にモジュール／モノリシック式・ポンプ・パ
ージ・ガス・バルブ・システムおよびマニホールド・システムに取り付けられた
一体構造が提供され、それによって閉じた公差ループが生じないことが保証され
る。個々のガス取り扱いスティックとポンプ・パージ・マニホールドの取り付け
は容易に達成され、以下の説明で明らかになるように、取り付け位置に腐食をも
たらすような応力を生じる危険がない。上記の点は、ず１Ａに示される種類の従
来のポンプ・パージ・システムと全く対照的で、従来のシステムでは、腐食を促
進する危険を伴う、応力のかけられた取り付けにつながる閉じたループの形成が
生じ得る。
【００４１】 本発明の主要な焦点である統合されたポンプ・パージ・バルブ・システムとマ
ニホールド・システムに関して、図７にモジュール／モノリシック式・ポンプ・
パージ・マニホールド７００の外観の三次元図を示す。前面７０２はモジュール
／モノリシック式・ガス取り扱いシステムのスティックに取り付けられたマニホ
ールドの入り口面である。各スティックの取り付け位置は、番号７０４から始ま
り番号７２２で終わる合計１０個の取り付け部によって特定されている。個々の
ガス取り扱いスティックは表面の４点に単純にボルト締めされる。例えば位置７
０４については７３４、位置７１０については７４０として特定されている。各
取り付け点はモノリシック式マニホールド７００の前面７０２にドリルで開けら
れたネジ付きの開口部である。図５を参照して説明したような“Ｃ”シールが、
個々のガス取り扱いスティックとモノリシック式マニホールド７００の面７０２
の間をシールするために使用されている。“Ｃ”シールは図５に示すように開口
部５８４を通って単純にボルトで締め付けられ、モノリシック式マニホールド面
７０２のくぼみに金属シール・リング５８８と５８９を合わせる。くぼみは例え
ば、位置７０４については７３５の番号が付けられ、位置７１０については７４
１の番号が付けられている。
【００４２】 図８はモジュール／モノリシック式・ポンプ・パージ・マニホールド７００の
背面８０２から見た外観の三次元図を示したものである。背面８０２は、マニホ
ールドへのガスの供給やガスの除去を操作する様々なポンピング・システムに取
り付けられた、マニホールドの出口である。例えば、開口部８２６は無害なガス
のための質量流量制御装置（図示されない）からの出口であり、半導体プロセス
・チャンバ（図示されない）へ導く導管（図示されない）が取り付けられている
。開口部８２８は無害なガス・スティック（図示されない）を排気するためのポ
ンプへ導く導管（図示されない）が取り付けられている。開口部８３０は、窒素
等の不活性ガスをポンプ・パージ・マニホールドの背面８０２に注入するための
開口部である。開口部８３２は危険ガス・スティック（図示されない）を排気す
るためのポンプに導く導管（図示されない）に取り付けられている。開口部８３
４は危険ガスの質量流量制御装置（図示されない）からの出口であり、半導体プ
ロセス・チャンバ（図示されない）へ導く導管が取り付けられている（図示され
ない）。モジュール／モノリシック式・ポンプ・パージ・マニホールド７００の
上面８０４は、図６に示されこれを参照して説明されたバルブ・システムに取り
付けられている。ここでもまた、“Ｃ”シールのためのくぼみのセットが示され
る各位置にバルブが取り付けられる。各バルブの取り付け位置は、番号８０６か
ら始まり番号８２４で終わる合計１０個の取り付け部によって特定されている。
個々のガス取り扱いバルブは表面の４点に単純にボルト締めされ、ガス取り扱い
スティックの取り付けに関して説明したように“Ｃ”シールによって所定の位置
に合わせられる。図９および図１０はポンプ・パージ・モノリシック式マニホー
ルド内部の断面図であり、図９は“Ａ−Ａ”位置を通った断面図を、図１０は“
Ｂ−Ｂ”位置を通った断面図を示している。
【００４３】 図９を参照すると、“Ａ−Ａ”位置の断面図９００はマニホールド内部のガス
フロー管を示しており、これらはポンプ（排気）操作において使用されるマニホ
ールドへの処理ガスの入り口に対応する。導管６０４は図６の同じ番号の導管に
対応しており、無害なガス・スティックからガスを受け取る流体フロー管を表し
ている。洗浄ガス管６０５はガスを導管６０４からバルブ６４８（図示されない
）へ輸送し、バルブ６４８が無害な処理ガスの排気のためにポンピング・システ
ム（図示されない）にガスを排出する。導管６０２は図６の同じ番号の導管に対
応しており、危険ガス・スティックからガスを受け取る流体フロー管を表してい
る。洗浄ガス管６０３はガスを導管６０２からバルブ６３０（図９には示されな
い）へ輸送し、バルブ６３０が危険処理ガスの排気のためにポンピング・システ
ム（図示されない）にガスを排出する。加えて図９にはパージガス混合排気管６
２０が示されており、ここから不活性ガスと無害なガスのパージ混合ガスがポン
プ・パージ・マニホールド７００を出される。またパージガス混合排気管６１８
が示され、ここから不活性ガスと危険ガスのパージ混合ガスがマニホールドを出
る。
【００４４】 図１０を参照すると、“Ｂ−Ｂ”位置の断面図１０００はパージ操作に対応す
るマニホールド内部のガスフロー管を示している。導管６０８は図６の同じ番号
の導管に対応しており、無害なガス・スティックをパージするために使用する不
活性ガスを受け取る流体フロー管を表している。不活性ガスは導管６１４を通っ
て注入されバルブ６４０（図１０には示されない）を通って下降ガス管６２４に
至り、下降ガス管６２４から導管６０８に送られる。導管６０８から、無害なガ
ス・スティック・モノリシック式マニホールド上の選択された注入位置に不活性
ガスが送られる。導管６０６は図６の同じ番号の導管に対応しており、危険ガス
・スティックをパージするために使用する不活性ガスを受け取る流体フロー管を
表している。不活性ガスは導管６１４を通って注入されバルブ６３６を通って（
図１０には示されない）下降ガス管６２２に至り、下降ガス管６２２から導管６
０６に送られる。導管６０６から危険ガス・スティック・モノリシック式マニホ
ールド上の選択された注入位置に不活性ガスが送られる。図１０にはまた、無害
なガス・スティックの排気工程のための排気導管６１２、および危険ガス・ステ
ィックの排気工程のための排気導管６１０が示されている。
【００４５】 特に興味深いのは”Ｖ”字形にドリル開けされた導管１００２〜１００８であ
り、これらはバルブ同士を近くに置けるようにする目的で”Ｖ”字形にドリル開
けされたバルブ間でのガスの輸送に使用する導管の一部分である。図１０と図６
の両方を参照すると、例えば”Ｖ”字形抜き導管１００８はバルブ６４６とバル
ブ６４４間の流路を提供しており、”Ｖ”字形抜き導管１００７はバルブ６４２
とバルブ６４４間の流路を、また”Ｖ”字形抜き導管１００６はバルブ６４０と
バルブ６４２間の流路を提供している。搭載台上のガス取り扱いスティックとモ
ノリシック式ポンプ・パージ・マニホールド内で使用できる空間が近接している
ため、“Ｖ”字形抜き導管は流路を提供する最も実用的な方法である。これは経
験的な反復によって決定される。
【００４６】 “Ｖ”字の土台の角“α”は、バルブ間、バルブの開口部の直径間（またはそ
れら開口部周辺のシールの直径）、および流体フロー管の直径間の間隙によって
決定される。例えば、平底バルブが１．５インチ角の底部の大きさを持ち、バル
ブ間に０．５インチの間隙が置かれている場合、バルブ・ポート開口部を囲むシ
ールまでの内径は約０．１８０インチ、また流体フロー管の直径は約０．１５２
インチであり、“α”は約６２°である。当業者であれば上に特定した様々な形
に応じて、与えられたバルブのレイアウトに必要な“α”の大きさを計算するこ
とが出来るであろう。
【００４７】 ”Ｖ”字形抜き導管の領域に、やがて放出されてモジュール／モノリシック式
・ガス取り扱いシステムを使用して処理している半導体部品を汚染するような微
粒子の滞留場所となる、空洞や裂け目をつくらないようにするために、ポンプ・
パージ・モノリシック式マニホールド内部の流体フロー管内部表面を研磨するこ
とが必要である。好ましくは、表面を１０ＲＡ仕上げ、またはそれ以上まで研磨
するのがよく、さらに好ましくは５ＲＡ仕上げ以上まで研磨する。角度“α”が
小さければ小さいほど、“Ｖ”字の土台に隣接する”Ｖ”字形抜き導管内部の磨
耗が激しくなる。ある流体速度を満たすような“α”の最小値があると思われる
。
【００４８】 上述された好ましい実施例は本発明の範囲に制限を加えることを企図したもの
ではなく、当業者であれば、本開示を鑑みて、以下に請求する発明の本旨と一致
するように実施例を拡張することができるであろう。
【図面の簡単な説明】
【図１Ａ】 搭載台上に設置されたガス取り扱いシステムの略平面図。この
ガス取り扱いシステムは一般に半導体製造において使用される種類のものであり
、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃ．（Ｓａｎｔａ Ｃｌａｒａ，
カリフォルニア）から市販されている。このガス取り扱いシステムは、図１Ａ
の左側に示す３本の不活性ガスフロー管（スティック）と、図１Ａの右側に示す
３本の腐食性ガスフロー・スティック、および不活性ガス・スティックと腐食性
ガス・スティック間の中央にあるポンプ・パージ・ラインを備えている。
【図１Ｂ】 危険ガス・スティックの略側面図。
【図１Ｃ】 不活性ガス・スティックの略側面図。
【図２Ａ】 図１Ａに示されるガス取り扱いシステムを交換するために使用
出来る、モジュール／モノリシック式・ガス取り扱いシステムの略平面図。図２
Ａのガス取り扱いシステムには、図２Ａの左側４本の危険ガス・スティック、お
よび、図２Ａの右側６本の不活性ガス・スティックが備えられている。ポンプ・
パージ能力は、モノリシック式ブロック上に置かれた一列の空気バルブとして表
される（示されていないガス・フロー管を含む）。
【図２Ｂ】 ポンプ・パージ・マニホールドの一部に取り付けられた危険ガ
ス・スティックの略側面図。
【図２Ｃ】 ポンプ・パージ・マニホールドの一部に取り付けられた不活性
ガス・スティックの略側面図。
【図２Ｃ−２】 臨時の不活性ガス・スティックの三次元図。
【図２Ｃ−３】 標準の不活性ガス・スティックの三次元図。
【図２Ｂ−２】 臨時の危険ガス・スティックの三次元図。
【図２Ｂ−３】 標準の危険ガス・スティックの三次元図。
【図３】 図２Ａに示されたモジュール／モノリシック式・ガス取り扱いシ
ステムの三次元図。図３の左側にはポンプ・パージ・システムが示されている。
【図４】 図３に示されたモジュール／モノリシック式・ガス取り扱いシス
テムの三次元図と、図４の右側にポンプ・パージ・システムのさらに詳細が示さ
れている。
【図５Ａ】 モジュール／モノリシック式・ガス取り扱いシステムに使用す
ることができる種類の平底バルブの断面図。バルブはモノリシック式流体操作シ
ステム上に搭載されて図示されており、モノリシック式流体操作システムには、
流体をガス取り扱いシステム内の流体操作要素間で移動させるための、様々な導
管が含まれている。
【図５Ｂ】 平底バルブとモノリシック式マニホールドあるいは流体操作シ
ステム間で使用することが出来る、1種類のシールの平面図。
【図６】 ポンプ・パージ・システムの三次元図。特にマニホールド・ブロ
ック内部を示して、ポンプ・パージ・システムのマニホールド・ブロック内のガ
ス取り扱い導管を図解している。この特定の実施例では２段階ポンピング・シス
テムになっているため、危険ガスが第一ラインを通って汲み出されるのと同時に
、不可性ガスが第二ラインを通って汲み上げられる。
【図７】 ポンプ・パージ・システムのマニホールド・ブロック外観の三次
元図。ガス・スティックに取り付けられたマニホールド・ブロック表面を示して
いる。
【図８】 ポンプ・パージ・システムのマニホールド・ブロック外観の三次
元図。排気ポンピング・システムに取り付けられたマニホールド・ブロック表面
を示している。
【図９】 図８のＡ−Ａ線を通ったポンプ・パージ・マニホールドの断面図
。特にこの断面図では、プロセス・ガス（危険ガスおよび不活性ガス）が流れる
内部導管同士の関係が示される。
【図１０】 図８のＢ−Ｂ線を通ったポンプ・パージ・マニホールドの断面
図。特にこの断面図では、パージ・ガスが流れる内部導管同士の関係が示される
。
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年３月２７日（２０００．３．２７）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フィットロ， ギャリー， カーティス アメリカ合衆国， カリフォルニア州， モルガン ヒル， ラッセン ウェイ 15132 Ｆターム(参考） 3H051 AA01 BB02 BB03 BB10 CC01 EE05 FF01 FF09 FF14 FF15 3H067 AA01 AA31 BB08 BB14 CC32 CC33 CC35 DD07 DD14 DD32 EC01 EC17 EC23 FF01 FF11 GG02 GG21

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 モノリシック式・ポンプ・パージ・マニホールドを含む統合
    された流体操作システムであって、 モノリシック式マニホールド上に設置された複数のバルブを含むモノリシック
    式・ポンプ・パージ・マニホールドを備え、前記モノリシック式マニホールドは
    内部流体輸送導管を含み、その内部流体輸送導管は前記複数のバルブと連携し、
    かつ前記ポンプ・パージ・マニホールドが取り付けられた流体操作システム内の
    流体輸送導管と組み合わされて働いて、前記流体操作システムに、統合されたポ
    ンプ・パージ能力を提供する、統合された流体操作システム。
  2. 【請求項２】 前記流体操作システムの少なくとも1つの表面にそのモノリ シック式マニホールドが取り付けられて、前記の統合されたポンプ・パージ能力
    が提供されるように前記モノリシック式マニホールドがモジュール方式である、
    請求項１に記載の統合された流体操作システム。
  3. 【請求項３】 前記ポンプ・パージ・モノリシック式マニホールドと前記流
    体操作システム間の流体流路が、前記モノリシック式マニホールドを前記流体操
    作システムの前記表面にボルト締め、またはクランプ取り付けすることによって
    確立される、請求項２に記載の統合された流体操作システム。
  4. 【請求項４】 1つより多い個別の流体操作要素のスティックを含み、その 各スティックが自由に浮動する方法で前記ポンプ・パージ・モノリシック式マニ
    ホールドに取り付けられている、請求項２に記載の統合された流体操作システム
    。
  5. 【請求項５】 閉じた公差ループがない、請求項１に記載の統合された流体
    操作システム。
  6. 【請求項６】 閉じた公差ループがない、請求項２に記載の統合された流体
    操作システム。
  7. 【請求項７】 前記モノリシック式マニホールドが“Ｖ”字形にドリル開け
    された導管を含み、前記モノリシック式マニホールドの外部表面上に設置された
    複数バルブを近づけて置けるようにした、請求項１、２および４のいずれか一項
    に記載の統合された流体操作システム。
  8. 【請求項８】 前記“Ｖ”字形抜き導管の内部が１０ＲＡあるいはそれより
    細かい表面仕上げに研磨されている、請求項７に記載の統合された流体操作シス
    テム。
  9. 【請求項９】 前記“Ｖ”字形抜き導管の内部が電界研磨される、請求項７
    に記載の統合された流体操作システム。
  10. 【請求項１０】 前記ポンプ・パージ・マニホールドと前記流体操作システ
    ム間のシールが“Ｃ”シールである、請求項１に記載の統合された流体操作シス
    テム。
  11. 【請求項１１】 前記流体がガスである、請求項１、２、４、５のいずれか
    一項に記載の統合された流体操作システム。
  12. 【請求項１２】 前記流体がガスである、請求項７に記載の統合された流体
    操作システム。
  13. 【請求項１３】 前記流体がガスである、請求項８に記載の統合された流体
    操作システム。
  14. 【請求項１４】 流体操作システムで使用するためのモノリシック式・ポン
    プ・パージ・マニホールドであって、 モノリシック式マニホールド上に設置された複数のバルブを備え、前記モノリ
    シック式マニホールドが内部流体輸送導管を含み、その内部流体輸送導管は前記
    複数バルブと連携してポンプ・パージ能力を提供する、モノリシック式・ポンプ
    ・パージ・マニホールド。
  15. 【請求項１５】 流体操作システムの少なくとも1つの表面に取り付けられ て、統合されたポンプ・パージ能力を提供するように前記マニホールドはモジュ
    ール方式である、請求項１４に記載のモノリシック式・ポンプ・パージ・マニホ
    ールド。
  16. 【請求項１６】 前記ポンプ・パージ・マニホールドと前記流体操作システ
    ム間の流体流路が、前記モノリシック式マニホールドを前記流体操作システムの
    前記表面にボルト締め、またはクランプ取り付けすることによって確立される、
    請求項１４に記載のモノリシック式・ポンプ・パージ・マニホールド。
  17. 【請求項１７】 前記モノリシック式マニホールドが“Ｖ”字形にドリル開
    けされた導管を含み、前記モノリシック式マニホールドの外部表面上に設置され
    た複数のバルブを近づけて置けるようにした、請求項１４又は１５に記載のモノ
    リシック式・ポンプ・パージ・マニホールド。
  18. 【請求項１８】 前記“Ｖ”字形抜き導管の内部表面が１０ＲＡあるいはそ
    れより細かい表面仕上げに研磨されている、請求項１７に記載のモノリシック式
    ・ポンプ・パージ・マニホールド。
  19. 【請求項１９】 前記“Ｖ”字形抜き導管の内部表面が電界研磨される、請
    求項１８に記載のモノリシック式・ポンプ・パージ・マニホールド。
  20. 【請求項２０】 前記流体がガスである、請求項１４又は１５に記載の統合
    された流体操作システム。
JP2000513080A 1997-09-25 1998-09-18 統合されたポンプ・パージの付いたモジュール式流体フロー・システム Withdrawn JP2001517767A (ja)

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