JP2001507684A - ベンゾオキサジノン類の不斉合成 - Google Patents
ベンゾオキサジノン類の不斉合成Info
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.式(VI)の化合物の不斉合成のための方法であって、 (式中 Xは、ClまたはFであり、および Aは、−CF3、−C2F5または−C3F7である。) 前記方法は、 (1) 式(I)の化合物を、 式(VII)または式(VIII)の化合物と、 (式中、 R1は、H、C1 〜6アルキルまたはC1 〜6アルキルカルボニルであり、 R2は、Hであり、 R3は、H、−CH3、−CH2CH3または0〜3個のR12で置換されたフェ ニルであり、 R4、R5、R4a、R5a、R6、R8およびR9は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6 アルコキシおよびC1 〜6アルキルチオから独立に選択され、 R12は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6アルコキシまたはC1 〜6アルキルチオで あり、 Yは、−(CH2)nまたはOであり、および nは、0、1、2または3である。) 適当な酸触媒の存在下で接触させて、式(II)の化合物を形成する工程と、 (式中、アミン保護基であるPは、 である) (2)(a)式(IX)の化合物を、 (式中、R10およびR11は独立に、C1 〜4アルキルであるか、あるいは、−N R10R11はピロリジニル、ピペリジニルまたはモルホリニルである)アルキルリ チウムおよびシクロプロピルアセチレンと接触させて、式(IX)の化合物とリ チウムシクロプロピルアセチリドとの混合物を形成し、および (b)工程(2)(a)の混合物を、式(II)の化合物と接触させて、式( III)の化合物を形成する工程と、 (3)式(III)の化合物を、適当な酸化剤と接触させて、式(IV)の化 合物を形成する工程と、 (式中、P”は、 である) (4)式(IV)の化合物を、適当な捕捉剤の存在下に適当な開裂剤と接触さ せて、式(V)の化合物を形成する工程と、 (5)式(V)の化合物を、適当な環化剤と接触させて、式(VI)の化合物 を形成する工程と を含むことを特徴とする方法。 2.XがClであり、およびAが−CF3である式(VI)の化合物を調製する ための請求項1に記載の方法であって、 (1)式(I)の化合物を、式(VII)の化合物と、 (式中、 R1は、H、C1 〜6アルキルまたはC1 〜6アルキルカルボニルであり、 R2は、Hであり、 R3は、H、−CH3、−CH2CH3または0〜3個のR12で置換されたフェニ ルであり、 R4、R5、R4a、R5aおよびR6は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6アルコキシ およびC1 〜6アルキルチオから独立に選択され、および R12は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6アルコキシまたはC1 〜6アルキルチオで ある。) 適当な酸触媒の存在下で接触させて、式(11)の化合物を形成する工程と、 (2)(a)1R,2S−ピロリジニルノルエフェドリンをn−ヘキシルリチ ウムおよびシクロプロピルアセチレンと接触させて、1R,2S−ピロリジニル ノルエフェドリンとリチウムシクロプロピルアセチリドとの混合物を形成し、お よび (b)工程(2)(a)の混合物を式(II)の化合物と接触させて、式(I II)の化合物を形成する工程と、 (3)式(III)の化合物を、適当な酸化剤と接触させて、式(IV)の化 合物を形成する工程と、 (4)式(IV)の化合物を、適当な捕捉剤の存在下に適当な開裂剤と接触さ せて、式(V)の化合物を形成する工程と、 (5)式(V)の化合物を適当な環化剤と接触させて、式(VI)の化合物を 形成する工程と を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 3.式(VI−i)の化合物を調製するための請求項2に記載の方法であって、 (1)XがCl、およびAがトリフルオロメチルである式(I)の化合物を、 適当な酸触媒の存在下でp−メトキシベンジルアルコールと接触させて、式(I I−i)の化合物を形成する工程と、 (2)(a)1R,2S−ピロリジニルノルエフェドリンをn−ヘキシルリチ ウムおよびシクロプロピルアセチレンと接触させて、1R,2S−ピロリジニル ノルエフェドリンとリチウムシクロプロピルアセチリドとの混合物を形成し、 (b)工程(2)(a)の混合物を式(II−i)の化合物と接触させて、式 (III−i)の化合物を形成する工程と、 (3)式(III−i)の化合物を、適当な酸化剤と接触させて、式(IV− i)の化合物を形成する工程と、 (4)式(IV−i)の化合物を、適当な捕捉剤の存在下に適当な開裂剤と接 触させて、式(V−i)の化合物を形成する工程と、 (5)式(V−i)の化合物を適当な環化剤と接触させて、式(VI−i)の 化合物を形成する工程と を含むことを特徴とする請求項2に記載の方法。 4.前記適当な酸触媒は、HCl、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、リ ン酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸およびp−トルエンスルホン酸 から成る群から選択され、 前記適当な酸化剤は、MnO2、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1, 4−ベンゾキノン、p−テトラクロロベンゾキノン、o−テトラクロロベンゾキ ノンおよびヨードソベンゼンジアセタートから成る群から選択され、 前記適当な開裂剤は、ナトリウムC1 〜4アルコキシド、リチウムC1 〜4アルコ キシド、カリウムC1 〜4アルコキシド、NaOH、LiOH、KOHおよびCa (OH)2から成る群から選択され、 前記適当な捕捉剤は、NaBH4、NaHSO3、ヒドロキシルアミン、トシル ヒドラジドまたはH2O2であり、および 前記適当な環化剤はホスゲンである ことを特徴とする請求項1に記載の式(VI)の化合物を調製するための方法。 5.前記適当な酸触媒は、HCl、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、リ ン酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸およびp−トルエンスルホン酸 から成る群から選択され、 前記適当な酸化剤は、MnO2、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1, 4−ベンゾキノン、p−テトラクロロベンゾキノン、o−テトラクロロベンゾキ ノンおよびヨードソベンゼンジアセタートから成る群から選択され、 前記適当な開裂剤は、ナトリウムC1 〜4アルコキシド、リチウムC1 〜4アルコ キシド、カリウムC1 〜4アルコキシド、NaOH、LiOH、KOHおよびCa (OH)2から成る群から選択され、 前記適当な捕捉剤は、NaBH4、NaHSO3、ヒドロキシルアミン、トシル ヒドラジドまたはH2O2であり、および 前記適当な環化剤はホスゲンである ことを特徴とする請求項2に記載の式(VI−i)の化合物を調製するための方 法。 6.前記適当な酸触媒は、HCl、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、リ ン酸、硫酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸およびp−トルエンスルホン酸 から成る群から選択され、 前記適当な酸化剤は、MnO2、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ−1, 4−ベンゾキノン、p−テトラクロロベンゾキノン、o−テトラクロロベンゾキ ノンおよびヨードソベンゼンジアセタートから成る群から選択され、 前記適当な開裂剤は、ナトリウムC1 〜4アルコキシド、リチウムC1 〜4アルコ キシド、カリウムC1 〜4アルコキシド、NaOH、LiOH、KOHおよびCa (OH)2から成る群から選択され、 前記適当な捕捉剤は、NaBH4、NaHSO3、ヒドロキシルアミン、トシル ヒドラジドまたはH2O2であり、および 前記適当な環化剤はホスゲンである ことを特徴とする請求項3に記載の式(VI−i)の化合物を調製するための方 法。 7.工程(2)(a)および(b)の化合物は、溶液流として独立に準備されお よび混合される、式(VI)の化合物を調製するための請求項1に記載の方法。 8.工程(2)(a)および(b)の化合物は、溶液流として独立に準備されお よび混合されることを特徴とする請求項2に記載の式(VI−i)の化合物を調 製するための方法。 9.工程(2)(a)および(b)の化合物は、溶液流として独立に準備されお よび混合されることを特徴とする請求項3に記載の式(VI−i)の化合物を調 製するための方法。 10.式(II)の化合物を調製するための方法であって、 (式中、 Xは、ClまたはFであり、 Aは、−CF3、−C2F5または−C3F7であり、 Pは、 であり、 R2は、H、−CH3、−CH2CH3または0〜3個のR12で置換されたフェニ ルであり、 R3は、H、−CH3、−CH2CH3または0〜3個のR12で置換されたフェニ ルであり、 R4、R5、R4a、R5a、R6、R8およびR9は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6 アルコキシおよびC1 〜6アルキルチオから独立に選択され、 R12は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6アルキルチオまたはC1 〜6アルコキシで あり、 Yは、−(CH2)nまたはOであり、および nは、0、1、2または3である。) 前記方法は、 式(I)の化合物を、 式(VII)または式(VIII)の化合物と、 (式中、R1は、H、C1 〜6アルキルまたはC1 〜6アルキルカルボニルである 。) 適当な酸触媒の存在下で接触させて、式(II)の化合物を形成する工程を含む ことを特徴とする方法。 11.式(II)の化合物は、であり、前記方法は、 XがCl、およびAがトリフルオロメチルである式(I)の化合物を、適当な 酸触媒の存在下で式(VII)の化合物と接触させて式(II−a)の化合物を 形成する工程 を含むことを特徴とする請求項10に記載の方法。 12.R1は、H、メチル、エチル、メチルカルボニルまたはエチルカルボニル であり、 R2、H、−CH3または0〜3個のR12で置換されたフェニルであり、 R3は、H、−CH3または0〜3個のR12で置換されたフェニルであり、 R4、R5、R4a、R5aおよびR6は、H、メチル、エチル、メトキシおよびエ トキシから独立に選択され、および R12は、H、メトキシまたはエトキシである ことを特徴とする請求項11に記載の方法。 13.式(VII)の化合物は、 であり、 R1は、Hまたはメチルであり、 R2は、H、あるいはHまたはメトキシで置換されたフェニルであり、 R3は、H、あるいはHまたはメトキシで置換されたフェニルであり、 R4は、Hまたはメトキシであり、および R5は、Hまたはメトキシである ことを特徴とする請求項11に記載の方法。 14.適当な酸触媒は、HCl、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、リン 酸、硫酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸およびp−トルエンスルホン酸か ら成る群から選択されることを特徴とする請求項11に記載の方法。 15.適当な酸触媒は、メタンスルホン酸またはp−トルエンスルホン酸である ことを特徴とする請求項11に記載の方法。 16.式(VII)の化合物はp−メトキシベンジルアルコールであり、および 前記適当な酸触媒はメタンスルホン酸またはp−トルエンスルホン酸であること を特徴とする請求項11に記載の方法。 17.式(VII)の化合物はトリチルアルコールであり、および前記適当な酸 触媒はメタンスルホン酸またはp−トルエンスルホン酸であることを特徴とする 請求項11に記載の方法。 18.式(IV)の化合物を調製するための方法であって、 (式中、 Xは、ClまたはFであり、 Aは、−CF3、−C2F5または−C3F7であり、 P”は、 であり、 R3は、H、−CH3、−CH2CH3または0〜3個のR12で置換されたフェニ ルであり、 R4、R5、R4a、R5a、R6、R8およびR9は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6 アルコキシおよびC1 〜6アルキルチオから独立に選択され、 R12は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6アルキルチオまたはC1 〜6アルコキシで あり、 Yは、−(CH2)nまたはOであり、および nは、0、1、2または3である。) 前記方法は 式(III)の化合物を、 (式中、Pは、 であり、および R2はHである。) 非水溶媒中で適当な酸化剤と接触させて、式(IV)の化合物を形成する工程を 含むことを特徴とする方法。 19.式(IV)の化合物はであり、 (式中、 R3は、H、−CH3、−CH2CH3または0〜3個のR12で置換されたフェニ ルであり、 R4、R5、R4a、R5aおよびR6は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6アルコキシ およびC1 〜6アルキルチオから独立に選択され、および R12は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6アルキルチオまたはC1 〜6アルコキシで ある。) 前記方法は、 式(III−a)の化合物を、 (式中、R2はHである。) 非水溶媒中で適当な酸化剤と接触させて、式(IV−a)の化合物を形成する工 程 を含むことを特徴とする請求項18に記載の方法。 20.R3は、H、−CH3または0〜3個のR12で置換されたフェニルであり、 R4、R5、R4a、R5aおよびR6は、H、メチル、エチル、メトキシおよびエ トキシから独立に選択され、および R12は、H、メトキシまたはエトキシである ことを特徴とする請求項19に記載の方法。 21.式(III−a)の化合物は、 であり、 R3は、Hまたはメトキシで置換されたフェニルであり、 R4は、Hまたはメトキシであり、および R5は、Hまたはメトキシである ことを特徴とする請求項19に記載の方法。 22.前記適当な酸化剤は、MnO2、2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノ− 1,4−ベンゾキノン、p−テトラクロロベンゾキノン、o−テトラクロロベン ゾキノンおよびヨードソベンゼンジアセタートから成る群から選択されることを 特徴とする請求項19に記載の方法。 23.前記適当な酸化剤は、p−テトラクロロベンゾキノンであることを特徴と する請求項19に記載の方法。 24.式(III−a)の化合物は、 であり、および 前記適当な酸化剤はp−テトラクロロベンゾキノンであることを特徴とする請 求項19に記載の方法。 25.式(V)の化合物を調製するための方法であって、 (式中、 Xは、ClまたはFであり、および Aは、−CF3、−C2F5、−C3F7である。) 前記方法は、 式(IV)の化合物を、 (式中、P”は、 であり、 R3は、H、−CH3、−CH2CH3または0〜3個のR12で置換されたフェニ ルであり、 R4、R5、R4a、R5a、R6、R8およびR9は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6 アルコキシおよびC1 〜6アルキルチオから独立に選択され、 R12は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6アルキルチオまたはC1 〜6アルコキシで あり、 Yは、−(CH2)nまたはOであり、および nは、0、1、2または3である。) 適当な捕捉剤の存在下に適当な開裂剤と接触させて、式(V)の化合物を形成す る工程を含むことを特徴とする方法。 26.式(IV)の化合物は であり、 R3は、H、−CH3、−CH2CH3または0〜3個のR12で置換されたフェニ ルであり、 R4、R5、R4a、R5aおよびR6は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6アルキルチ オおよびC1 〜6アルコキシから独立に選択され、および R12は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6アルキルチオまたはC1 〜6アルコキシで ある ことを特徴とする請求項25に記載の方法。 27.R3は、H、−CH3または0〜3個のR12で置換されたフェニルであり、 R4、R5、R4a、R5aおよびR6は、H、メチル、エチル、メトキシおよびエ トキシから独立に選択され、および R12は、H、メトキシまたはエトキシである ことを特徴とする請求項26に記載の方法。 28.式(IV−a)の化合物は、であり、 R3は、Hまたはメトキシで置換されたフェニルであり、 R4は、Hまたはメトキシであり、および R5は、Hまたはメトキシである ことを特徴とする請求項26に記載の方法。 29.前記適当な開裂剤は、ナトリウムC1 〜4アルコキシド、リチウムC1 〜4ア ルコキシド、カリウムC1 〜4アルコキシド、NaOH、LiOH、KOHおよび Ca(OH)2から成る群から選択され、および 前記適当な捕捉剤はNaBH4またはNaHSO3である ことを特徴とする請求項26に記載の方法。 30.前記適当な開裂剤は、ナトリウムC1 〜4アルコキシド、リチウムC1 〜4ア ルコキシド、カリウムC1 〜4アルコキシド、NaOH、LiOH、KOHおよび Ca(OH)2から成る群から選択され、および 前記適当な捕捉剤はヒドロキシルアミンまたはトシルヒドラジドである ことを特徴とする請求項26に記載の方法。 31.前記適当な開裂剤は、ナトリウムC1 〜4アルコキシド、リチウムC1 〜4ア ルコキシド、カリウムC1 〜4アルコキシド、NaOH、LiOH、KOHおよび Ca(OH)2から成る群から選択され、および 前記適当な捕捉剤は過酸化水素である ことを特徴とする請求項26に記載の方法。 32.式(VI)の化合物を不斉合成するための方法であって、(式中、 Xは、ClまたはFであり、および Aは、−CF3、−C2F5または−C3F7である。) 前記方法は、 (1)式(I)の化合物を、 式(VII)の化合物と、 (式中、 R1は、H、C1 〜6アルキルまたはC1 〜6アルキルカルボニルであり、 R2は、−CH3、−CH2CH3または0〜3個のR12で置換されたフェニルで あり、 R3は、−CH3、−CH2CH3または0〜3個のR12で置換されたフェニルで あり、 R4、R5、R4a、R5aおよびR6は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6アルコキシ およびC1 〜6アルキルチオから独立に選択され、および R12は、H、C1 〜6アルキル、C1 〜6アルコキシまたはC1 〜6アルキルチオで ある。) 適当な酸触媒の存在下で接触させて、式(II)の化合物を形成する工程と、 (2)(a)式(IX)の化合物を、 (式中、R10およびR11は、独立にC1 〜4アルキルであるか、あるいは−NR10 R11はピロリジニル、ピペリジニルまたはモルホリニルである。) アルキルリチウムおよびシクロプロピルアセチレンと接触させて、式(IX)の 化合物とリチウムシクロプロピルアセチリドの混合物を形成し、および (b)工程(2)(a)の混合物を、式(II)の化合物と接触させて、式( III)の化合物を形成する工程と、 (3)式(III)の化合物を、適当な脱保護剤と接触させて、式(V)の化 合物を形成する工程と、 (4)式(V)の化合物を、適当な環化剤と接触させて、式(VI)の化合物 を形成する工程と を含むことを特徴とする方法。 33.Xは、Clであり、 Aは、−CF3であり、 R1は、H、C1 〜6アルキルまたはC1 〜6アルキルカルボニルであり、 R2は、0〜3個のR12で置換されたフェニルであり、 R3は、0〜3個のR12で置換されたフェニルであり、 R4、R5、R4a、R5aおよびR6は、HおよびC1 〜6アルコキシから独立に選 択され、および R12は、HまたはC1 〜6アルコキシである ことを特徴とする請求項32に記載の式(VI)の化合物を調製するための方法 。 34.式(VI−i)の化合物を調製するための請求項33に記載の方法であっ て、 (1)XがClであり、およびAがトリフルオロメチルである式(I)の化合物 を、適当な酸触媒の存在下でトリチルアルコールと接触させて、式(II−ii )の化合物を形成する工程と、 (2)(a)1R,2S−ピロリジニルノルエフェドリンをn−ヘキシルリチ ウムおよびシクロプロピルアセチレンと接触させて、1R,2S−ピロリジニル ノルエフェドリンとリチウムシクロプロピルアセチリドの混合物を形成し、およ び (b)工程(2)(a)の混合物を式(II−ii)の化合物と接触させて、 式(III−ii)の化合物を形成する工程と、 (3)式(III−ii)の化合物を、適当な脱保護剤と接触させて、式(V −i)の化合物を形成する工程と、 (5)式(V−i)の化合物を適当な環化剤と接触させて、式(VI−i)の 化合物を形成する工程と を含むことを特徴とする請求項33に記載の式(VI−i)の化合物を調製する ための方法。 35.前記適当な酸触媒は、HCl、メタンスルホン酸、硫酸、トリフルオロ酢 酸およびp−トルエンスルホン酸から成る群から選択され、 前記適当な脱保護剤は、HCl、HBr、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢 酸およびp−トルエンスルホン酸から成る群から選択され、および 前記適当な環化剤はホスゲンである ことを特徴とする請求項32に記載の式(VI)の化合物を調製するための方法 36.前記適当な酸触媒は、HCl、メタンスルホン酸、硫酸、トリフルオロ酢 酸およびp−トルエン−スルホン酸から成る群から選択され、 前記適当な脱保護剤は、HCl、HBr、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢 酸およびp−トルエン−スルホン酸から成る群から選択され、および 前記適当な環化剤はホスゲンである ことを特徴とする請求項33に記載の式(VI−i)の化合物を調製するための 方法。 37.前記適当な酸触媒は、HCl、メタンスルホン酸、硫酸、トリフルオロ酢 酸およびp−トルエンスルホン酸から成る群から選択され、 前記適当な脱保護剤は、HCl、HBr、メタンスルホン酸、トリフルオロ酢 酸およびp−トルエンスルホン酸から成る群から選択され、および 前記適当な環化剤はホスゲンである ことを特徴とする請求項34に記載の式(VI−i)の化合物を調製するための 方法。 38.工程(2)(a)および(b)の化合物は、溶液流として独立に準備され および混合されることを特徴とする請求項32に記載の式(VI)の化合物を調 製するための方法。 39.工程(2)(a)および(b)の化合物は、溶液流として独立に準備され および混合されることを特徴とする請求項33に記載の式(VI−i)の化合物 を調製するための方法。 40.工程(2)(a)および(b)の化合物は、溶液流として独立に準備され および混合されることを特徴とする請求項34に記載の式(VI−i)の化合物 を調製するための方法。 41.下式の化合物、 または薬剤学的に許容可能なその塩。
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