JP2001503848A - 流体粒子のパラメータを測定する装置および方法 - Google Patents

流体粒子のパラメータを測定する装置および方法

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Abstract

(57)【要約】 流体中の粒子のパラメータを測定する装置および方法、殊に、機械で使用される流体中の不純物混入や摩耗粒子を測定することにより不純物混入や機械摩耗を測定する装置および方法を開示するものである。第1実施例では、測定セル(10)に流体流路を設け、そして、この流体流路に近接して第1ホールプローブ(60)を配置し、反磁性、常磁性、強磁性の粒子を検出できるようにするとともに、発光ダイオード(50)からなる第2光センサとフォトトランジスタ(42)とを設けて粒子を光学的に検知するようにする。そして、ホールプローブ(60)と光検出器との相関関係により粒子の表示を行ない、それら粒子のパラメータを求めて不純物混入や機械摩耗の徴候を示せるようにした。第2実施例では、流体室を有する測定セル(10)を設けるとともに、そのセルにパルス光源を2個配置して、流体中を荷電結合素子(92)まで光を透過させ、流体中を透過し粒子を通過した光により第1像を形成するとともに、第2パルス光源を設けて粒子が反射するようにして、反射光による第2像を形成するようにした。そして、第1像と第2像との比較により金属粒子を測定して、その粒子のパラメータを測定するようにし、以って、不純物混入や機械摩耗の徴候を示せるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】 流体粒子のパラメータを測定する装置および方法技術分野 本発明は、流体中の粒子のパラメータ、例えば、混入粒子や機械摩耗粒子等、 を測定する装置および方法に関するものであり、特に、機械や加工に用いられる 流体の摩耗粒子の測定に関するものである。なお、流体としては、機械用潤滑油 、油圧装置に用いられる作動液、機械加工用切削流体等の切削油剤、鉱物採集処 理等におけるスラリー等の加工流体が挙げられる。発明の背景および従来技術 機械の摩耗を測定することは、運転状態および/または機械や処理加工の残存 寿命を正確に知る上で重要である。 混入粒子や摩耗粒子を検討することは、振動や、ノイズや、温度性能や、人間 の感覚等をモニターすることによる他の方法よりも、処理工程における故障や機 械の故障の徴候を早期に示すことができるという利点を有している。本発明は、 この種のモニターに関するものである。 運ばれる流体粒子を測定する場合、従来技術では、粒子を含有する流体に光を 透過させる工程と、その透過光を検出する工程から構成するのが一般的である。 流体内の粒子で流体を透過する光を遮り、その光の変化を検出装置により検出し て、粒子のサイズ分布をとるのである。 しかし、従来の粒子計数法に関する問題の1つは、特定の種類の粒子を特定す ることができない、すなわち、流体を透過する光は、実際には、機械の運転で生 じた摩耗粒子や、流体内に存在する可能性のある塵等の混入物等の他の不純物に よっても遮られる可能性があるのであるが、それら種類の異なる粒子を識別する ことができないという問題があった。発明の開示 本発明の目的は、このような問題点を克服軽減することにある。 本発明に係る流体中の粒子のパラメータを測定するための装置は、以下のもの から成る装置である: 流体中の一定種類の粒子を検出するとともに、流体中の粒子のパラメータに 関する情報を提供する検出手段;および 前記流体中の一定種類の粒子のパラメータを測定する処理手段。 本発明の好適実施例において、装置は、不純物混入や機械摩耗を測定する装置 であり、流体は、機械流体や加工処理流体から成るものである。また、機械流体 や加工処理流体中の一定種類の粒子のパラメータの測定値は、不純物混入や機械 摩耗の徴候を示す。 斯くして、本発明は、一定種類の粒子、例えば機械摩耗の徴候に最も関連する と考えられる粒子、を特定可能とし、且つその粒子のパラメータを測定可能とし て機械摩耗の徴候を示せるようにした。 本発明の一実施例では、検出手段は、反磁性、常磁性、または強磁性の粒子を 検出する磁気センサと、前記反磁性、常磁性、または強磁性の粒子のパラメータ を示す出力を出す光センサとから構成している。 また、別の実施例では、検出手段は、流体を透過する光によって形成される流 体中粒子の第1像(イメージ)と、流体中の一定種類の粒子からの反射光によっ て形成される一定種類の流体中粒子の第2像(イメージ)と、を形成するセンサ から構成し、前記第1像の提供する情報から、第2像に示される前記一定種類の 粒子のパラメータを測定して不純物混入や機械摩耗の徴候を示せるようにしてい る。従って、第1像からは、粒子の大きさ、形状、面積、暗さ、を抽出すること ができ、また、同粒子の第2像からは、その粒子の明るさが提供される。従って 、それらの異った光学的吸収率および反射係数に基づき、粒子の分類別けを行う ことができる。 本発明は、また、流体中の粒子のパラメータを測定する方法であって、以下の 工程からなる方法に係るものである: 流体中の一定種類の粒子を検出し、該一定種類の粒子を特定する工程;およ び流体中の粒子を検出し、該粒子のパラメータに関する情報を提供するようにし て、前記一定種類の粒子のパラメータを測定できるようにする工程。 また、本発明の好適実施例において、前記方法は、不純物混入や機械摩耗の測 定に関するもので、前記流体は、機械流体または加工処理流体であり、また前記 一定種類の粒子のパラメータの測定値は、不純物混入または機械摩耗の徴候を示 す。 本発明は、また、流体中の粒子のパラメータを測定する装置に使用する測定セ ルであって、 (a)一定種類の粒子を含んだ粒子を含有する流体を収容する室; (b)前記流体中の一定種類の粒子を検出し、且つ該一定種類の粒子の存在を 示す第1出力を生み出す第1検出手段;および (c)流体中の粒子を検出し、且つ該流体中の粒子のパラメータを示す第2出 力を生み出す第2検出手段から成り、前記第1出力と第2出力とを相互関連付け して前記第2検出手段により検出した一定種類の粒子を特定するようするととも に、それら出力を処理して前記一定種類のパラメータを測定するようにした測定 セルに係るものでもある。 また、本発明は、粒子のパラメータを測定する装置に使用する測定セルであっ て、 (a)粒子を含む流体を収容する室; (b)電磁放射を生じしめ、且つ該電磁放射を前記室の一方側から他方側へ前 記流体中を伝搬させる第1手段; (c)電磁放射を生じしめ、粒子の反射を得るようにする第2手段;および (d)伝搬された電磁放射から第1像を製作し、反射された電磁放射から第2 像を製作して、これら第1、第2像を比較し双方の像に共通な粒子を特定できる ようにするとともに、双方の像に共通の粒子のパラメータを測定する、センサ手 段を備えてなる測定セルに係るものでもある。 さらに、本発明に係る、粒子のパラメータを測定する装置は、以下のものから 構成した装置も含む: 測定セル、該測定セルは以下のものから成る; (a)一定種類の粒子を含んだ粒子を含有する流体を収容する室; (b)前記流体中の一定種類の粒子を検出し、且つ該一定種類の粒子の存在を 示す第1出力を生み出す第1検出手段;および (c)前記流体中の粒子を検出し、且つ該流体中の粒子のパラメータを示す第 2出力を生み出す第2検出手段; 前記第1出力と第2出力とを相互関連付けして、前記第2検出手段により検 出した前記一定種類の粒子を特定するようにした相互関連付け手段;および 前記一定種類のパラメータを測定する処理手段。 本発明は、従って、第1検出器と第2検出器との相互関連から、金属粒子のよ うな、特定の種類の粒子を特定することができるのである。なお、第1検出器に より検出する特定の粒子は、不純物混入や機械摩耗を測定する上で特に関心のあ るものとすればよく、従って、それら粒子は、第2検出手段により検出される全 粒子の中から特定することが可能であり、それら粒子のパラメータを考慮して不 純物混入や機械摩耗の徴候を示すようにすることができる。 前記室は、セルを貫く流路を設けて、セルを流体通路における所定位置に配置 し機械摩耗を測定できるようすることが好ましい。測定は、オン−ライン測定で もオフ−ライン測定でもよい。 第1検出器は、磁場を生み出して反磁性、常磁性、または強磁性の粒子を磁化 する磁気手段と、該磁化した粒子を検出する少なくとも1つの磁束検出器とから 構成することが好ましい。 また、磁束検出器は、少なくとも1つのホール効果装置から構成することが好 ましい。 また、第2検出手段は、光源から成る光検出器と、前記光源から流体を通り透 過してくる光を検出するフォトトランジスタとから構成することが好ましい。 また、前記相互関連付け手段と前記処理手段とでパーソナルコンピュータのよ うなプロセッサを構成するのが好ましい。 本発明に係る、粒子のパラメータを測定する方法は、以下の工程から構成した方 法も含む: 機械や加工処理で使用される一定種類の粒子を含む粒子を含有する流体中 の前記一定種類の粒子を第1検出器で検出するとともに、前記第1検出器により 検出された一定種類の摩耗粒子を表示する出力を生じしめる工程; 流体における粒子を第2検出手段で検出し、その粒子のパラメータの測定 を可能にする第2出力を生じしめる工程; 前記第1出力と第2出力とを相互関連付けて、前記第2検出工程で検出さ れた前記一定種類の粒子を特定できるようにした工程;および、 前記一定種類の粒子のパラメータを測定する工程。 また、本発明は、粒子のパラメータを測定する装置であって、以下のものから 成る装置も含む: 測定セル、該測定セルは以下のものを有する; (a)粒子を含んだ流体を収容する室; (b)電磁放射を生じしめ、且つ該電磁放射を前記室の一方側から他方側へ 前記流体中を伝搬させる第1手段; (c)電磁放射を生じしめ、粒子の反射を得るようにする第2手段; (d)伝搬された電磁放射から第1像を製作し、反射された電磁放射から第 2像を製作するセンサ手段;および これら第1、第2像を比較し双方の像に共通な摩耗粒子を特定するようにす るとともに、双方の像に共通の粒子のパラメータを測定する、処理手段。 反射放射とその放射から生まれる像とを使うことで、一定種類の粒子、例えば 光を反射し易い粒子、の特定が可能である。従って、流体中のあらゆる流体が、 その透過放射に効果的に影を落とし第1像に現れるが、第2像を用いて、例えば 不純物混入や機械摩耗に最も関連すると思われる粒子、を特定できるようにして いるので、その粒子のパラメータを測定することで機械摩耗の徴候を示すように することができる。 なお、前記室は、前記セルを貫く流路を備え、前記セルを流体通路における所 定位置に配置し機械摩耗の測定に組入れ可能とすることが好ましい。 また、測定は、オン−ラインでもオフ−ラインでもよい。 また、前記像の形成時、流体は前記室において実質上静止しているのが好まし い。 また、ポンプを設けて流体が前記セルを循環するよう為すとともに、前記像の 形成時、ポンプを切って前記通路内の流体を停止させるようにすることが好まし い。 また、前記センサは、荷電結合素子を備えて成ることが好ましい。 また、前記第1手段は、パルス光源と光学レンズとから構成し、平行化光線を 作り出して前記通路と光学式拡大装置とを通って前記センサへ伝搬するようする ことが好ましい。 また、前記第2手段は、前記通路における前記センサと同じ側に設けたパルス 光源から成り、前記粒子の反射作用で前記センサに至る光を作り出すようにする ことが好ましい。 また、前記プロセッサは、パーソナルコンピュータから成るものであることが 好ましい。 本発明は、粒子のパラメータを測定する方法であって、以下の工程から成る方 法も含む: 流体中の粒子の第1像を、光を前記流体中を透過させることによって形成 する工程; 流体中の一定種類の粒子の第2像を、光を前記流体中における前記一定種 類の粒子に反射させることによって形成する工程;および 前記第1像と第2像とを比較して前記第1像における前記一定種類の粒子 を特定するよう為し、該第1像から前記一定種類の粒子のパラメータが測定でき るようにした工程。 以上述べたように、上記した方法および装置は、機械摩耗を測定するものであ り、流体は、機械で使用される流体であり、一定の粒子とは、機械の運転時生じ る摩耗粒子であり、その一定種類の粒子のパラメータで、求めるべき機械摩耗の 徴候を示すことを可能にしたものである。図面の簡単な説明 一例として挙げた本発明の好適な実施例を添付図面に基づき説明する。 図1は、本発明の一実施例に用いる測定セルの横断面図; 図2は、図1のA−A線断面図; 図3は、図1の実施例で用いる加工処理装置の概略ブロック線図; 図4は、図1の実施例で用いる分析を示すフローチャート; 図5は、図1の実施例の装置で検出した粒子を例示する相互相関関数を示すグ ラフ; 図6は、検出された全粒子数を示すグラフ; 図7は、検出された所定種の全粒子数を示すグラフ; 図8は、本発明の第2実施例の概略図; 図9は、図8の実施例で用いられる測定セルの横断面図; 図10は、図9の実施例に係る装置の同期化を示す図;そして 図11は、粒子パラメータの分析と測定を示すフローチャートである。好適実施例の説明 図1、2に、好適実施例に用いる測定セル10を示す。測定セル10は、2個 の半割体12、14に形成して、これらを結合してセル10を形成している。半 割セル14は、入口孔16および出口孔18を有しており、入口孔16には入口 管20が溶接され、また出口孔18には出口管22が溶接されている。前記入口 管20および出口管22は、機械におけるオイルライン等の流体供給路に結合さ れるようにして、機械の使用時、機械のラインモニターを行う実時間中、油が後 述するように該セルを循環するようにしている。 前記半割セル14は、孔26および孔28を有している。これら孔は、前記入 口孔16および出口孔18に対し横方向に延び、且つ孔26が前記入口管20と 、また孔28が前記出口管22とそれぞれ連通している。前記半割セル14の上 面30には、前記孔26、28を相互連結させる溝部31を設けて、前記半割セ ル14、22を図2に示すように結合した際、セル10に通路32が形成され、 流体が入口管20から流入して孔26、通路32、孔28を通って、出口管22 から出るようにしている。前記通路32は、通常、図2に示すように、深さ1. 0mm、また、図1に示すように、幅5mmの寸法を有している。 前記半割セル14の面30には凹部34を設けて、該凹部に光学ガラスディス ク36を接着している。また、このディスク36から前記半割セル14を貫通し て前記半割セル14上に設けられたフォトトランジスタ42搭載用トランジスタ ー台40にまで延びる、孔38を設けている。 前記半割セル12には、前記凹部34に対向する凹部44を設け、該凹部44 にディスク36を配設している。また、このディスク46から前記半割セル12 を貫通して前記半割セル12に発光ダイオード台52を介し取付けられた発光ダ イオード50にまで延びる、孔48を設けている。 また、前記半割セル12、14に、一対の永久磁石54、56を配置するとと もに、ホールプローブ60等のホール効果の生じる装置を、測定セル10の通路 32と斉合した状態で配設している。後で詳述するが、一対のホールプローブ6 0を、該ホールプローブ60が発光ダイオード50およびフォトトランジスタ4 2に対し横断するよう、測定セル10の各側に配設してもよい。 図3に示すように、ホールプローブ60は、適宜のポータブル・コンピュータ 80のようなプロセッサに結合させており、また前記フォトトランジスタ42も 、プロセッサ80に結合させている。なお、ホールプローブ60およびフォトト ランジスタ42からの出力は、アナログ‐デジタル変換器等の増幅および調整用 回路構成79で増幅および調整して、プロセッサ80に適用させるようにしても よい。 なお、ホールプローブ60、フォトトランジスタ42、および発光ダイオード 50への電力は、電源(図示せず)により供給される。 また、測定セル10を挿入する流体ラインの適宜の位置にポンプ(図示せず) を配置して、機械からの流体が通路32を確実に流れるようにしてもよい。 斯くすることで、潤滑油のような機械からの流体でも、通路32からホールプ ローブ60および光学ガラスディスク36、46を通過して流すことができる。 流体内の粒子としては、塵等を含んだ不純物の外、強磁性の粒子を含んでいる。 強磁性の粒子は、粒子が通路32を流動するのに伴い、永久磁石54で磁化され 、その磁化された粒子の磁束をホールプローブ60が検出し且つ出力を生み出す 。したがって、粒子は、前記通路32およびディスク46、36間を連続的に流 れる。発光ダイオード50の励起で、光を、孔48、ディスク44、通路32、 ディスク36を通って孔38内に伝送し、フォトトランジスタ42で検出できる ようにしている。また、発光ダイオード50とフォトトランジスタ42との間の 光路には、コリメータ99を配設し、発光ダイオード50で発光した光を平行化 し且つ通路32の深部全体を実質的に横切って延びるフィールドの深度を与える ようにしている。なお、コリメータの開口は、通常300ミクロンである。通路 32内およびディスク36、46間を流れる粒子は、従って、発光ダイオード5 0からフォトトランジスタ42へ発せられる光を遮ることとなり、光線が粒子で 遮られたときの光の強さの変化がフォトトランジスタ42で検知されることにな る。このように、ホールプローブ60で検出された磁化粒子は、発光ダイオード 50とフォトトランジスタ42とから構成される光検出器に所定の時間を置いて 到達することになる。また、ホールプローブ60で生じた出力を有効利用して光 検出器を作動できるようにして、該光検出器で、磁化された粒子を検出且つ測定 して、機械の摩耗度を表すようにしている。このように、磁気粒子のサイジング は、永久磁石54、56およびホール装置60により構成される磁気検出器と、 発光ダイオード50およびフォトトランジスタ42により構成される光センサと の相互相関に基づいて行われる。 フォトトランジスタの出力の変化は、粒子のサイズに比例する。原則として、 出力は次のように概算される。 Vo=Vdc(1−(Ap/Ad))F ここで、 Vdc −dcは、フォトトランジスタからの出力(通路内にオイル無し) F −オイルの不透明度因数(0乃至1) Ap −粒子横断面 Ad −検出面積 を表す。 ホールプローブ60からの出力電圧は、磁場において、飽和状態まで400ガ ウスの一般レベルで直線的に増加する。流体内に磁気粒子が存在する場合、磁気 粒子は静磁場で磁化し、粒子の通過に伴って磁束の変化がホールプローブ60で 検出される。 磁石54、56およびホールプローブ60により構成された磁気センサと、発 光ダイオード50およびフォトトランジスタ42により構成される光センサとの 時間相互相関は、次式で表される: ここで、 τは、時間遅れ、 p(τ)は、時間遅れτでの正規化相関、 RAB(τ)は、時間遅れτでの信号Aと信号Bとの相関、 xは、ホールプローブからの信号、 yは、フォトトランジスタからの信号を表す。 上記したように、フォトトランジスタ42の出力は、検出する粒子のサイズに 比例する。なお、本発明の好適実施例で使用される光センサは、以下のやり方で 較正するのが好ましい。すなわち、検出された粒子のサイズは、信号V0の交流 成分に比例する。開口が、それぞれ500、200、100ミクロンのディスク を用いて、較正線を求めるようにする。そして、発光ダイオード光源の拡散によ るシャドー拡大に対する修正を行う。 運転中においては、平均値Voを用いてオイルFの不透明度を求める。オイル の状態や種類が変ると、この因子が自動的に調整され、正しい粒子断面が得られ るように為し、Apを記録する。また、フォトトランジスタの出力Voも温度に 左右されるため、フォトトランジスタに近い温度をモニターして、DCradi ngの変化と不透明度の変化との相互関係を示せるようすることが好ましい。斯 くすることにより、不透明度の変化を流体温度の変化と識別できるようにするこ とができる。 図4は、本発明の好適実施例における磁気センサと光センサの双方、および、 光センサのみ、に用いる分析シーケンスのフローチャートである。 図5は、上述した磁気センサと光センサとの相互相関を示したもので、同図の 符号(A)で示した最高点は、磁気粒子の存在を示す。図5における小さなピー クは、ホールプローブ60と光学検知器とによる粒子の検知において、光学検知 器にランダムに到達する他の粒子の検知によるものである。 図6は、光学検知器により検知された100mlの流体における総粒子数を示 し、図7は、100mlの流体における磁気粒子の数を示している。このように 、本装置の対象粒子のヒストグラムは積上げることが可能、特に強磁性の粒子の ヒストグラムの積上げが可能であり、粒子の数およびサイズを示すことができる 。粒子のサイズおよび数は、上記したようにプロセッサ80で測定される。斯く して本実施例の装置により検知された摩耗粒子に基づいて機械摩耗の診断をする ことができる。 本実施例では、強磁性の金属性粒子を考慮して機械の摩耗を示すようにしたが 、他の実施例として、流体中の不純物のようなその他粒子や、加工処理流体中の 粒子を測定して流体や処理操作における不純物混入を示すようにすることも可能 である。 また、本発明の別の実施例としては、測定セルで検知した磁気粒子のサイズア スペクト比(縦横比)を測定できる改良型性能検査装置を提供することもできる 。この場合、上記したホールプローブを2個必要とし、また双方のホールプロー ブに対し光センサを発動させて強磁性粒子の体積対面積比の統計的分布をとる必 要がある。 図8、9に本発明の別の実施例を示す。本実施例は、機械(図示せず)の流体 ライン12中に配置するようにした測定セル10を備えている。また、ポンプ1 4を設けて、流体がライン12とセル10を確実に流れるようしている。また、 プロセッサ20を設けて、セル10からの出力を受け(後で詳述する)、且つ画 像にしてモニター30に表示できるようにしている。また、プロセッサ20で生 み出された画像のハードコピーをプリンタ(図示せず)でとるようにしている。 なお、プロセッサ20で前記ポンプ14の制御も行うようにしてもよい。 測定セル10は、図9に良く示されているように、一対の半割セル40、42 から成り、一方の半割セル42には、図1の流体ライン12への接続用入口管4 4と出口管46とを設けている。そして、入口管44から横穴部48が、また出 口管46から横穴部50がそれぞれ延びていて、半割セル42における横穴部4 8、50間には通路70を設けている。また、半割セル42には、凹部60を設 け、該凹部60にガラスディスク62を設けている。また、この半割セル42は 、他方の半割セル40を受け入れる前部66を有している。半割セル40の凹部 68には、ディスク66を係止している。前記通路70は、前記横穴部48から 横穴部50に延びる溝部52により構成するか、或は、半割セル40、42との 間にガスケット53を介装して所定間隔を設け、図9に示すように、ディスク6 8と62との間に通路70を設けるようにする。なお、通路70は、図9に示す ように、深さ約0.8mm,幅約5mmとするのが好ましい。斯くすることで、 流体が入口管44からセル10を通り出口管46に流れる。 半割セル42における横穴部84に配置した取付け台82には、第1光源80 を配設している。また、前記横穴部84には光学レンズを設けて、通路70の深 部を横切って平行光線が形成されるようにしている。半割セル40の穴部93に も管90を取り付けており、この管90の端部には荷電結合素子92を配設して いる。なお、管90は、その穴部内部93内の部分にレンズを設けて、光を荷電 結合素子92に集束するようにしてもよい。また、管90と、その付属構成要素 、および荷電結合素子92からなる光学装置を最適化して、フィールドの深度に より粒子が通路70前後で実質上集束した状態にしておくようするのが好ましい 。 半割セル40には、通路70の前記光源80に対する同じ側に第2光源98を 設けている。 前記光源80、98は、図8に示すように、プロセッサ20の影響下で制御す るようにしている。また、ポンプ14を停止すると、セル10内の流体の流れも 効果的に止まるようにしており、流れを静止状態にして、測定できるようにして いる。 光源80およびその関係レンズで、平行光線を作り、該平行光線を通路70の 一方から他方を通して荷電結合素子92へと通して、通路70における流体中の 摩耗粒子を含む任意の粒子の像が、荷電結合素子92において影として現れるよ うにしている。斯くして、通路70を通って透過される光で荷電結合素子92に 第1像を形成し、それを結合素子92よりプロセッサ20に出力して、その像を モニター30に表示し、必要に応じ、その像のハードコピーを出せるようにして いる。 また、プロセッサ20の制御下、光源98からの反射光で第2像を形成するよ うにしている。すなわち、光源98からの光を、スペース100よりディスク6 8を通して通路70に送り、そして流体中の金属粒子のような反射粒子に反射さ せて管90を通し荷電結合素子92に送る。 このように、透過光で形成される第1像は、対象の金属摩耗粒子のみならず塵 等の他の不純物をも含んだ流体中の任意の粒子を示すものとなる。この第1像は 、粒子の影の輪郭から見て粒子のサイズを求めることができる情報を提供するの で、プロセッサ20でその粒子のサイズに関する情報を出して機械摩耗の徴候を 示すようにすることができる。 図10は、図8、9の実施例に係る同期とタイミングを表した図である。電子 制御部21は、ポンプ、セル10の光源80、98、および、荷電結合素子92 からフレームを一つづつ取り込んで透過光源および反射光源80、98の双方に ついての粒子の像を形成するフレーム取込み体91、の同期をとる。フレーム取 込み体91は、上記した像を処理する像処理コンピュータ20にデータを送る。 図11に示すように、本分析は、一般に透過光および反射光による粒子の像を 検討分析するもので、透過光の像から粒子の境界を求め、それを反射光による像 における粒子の境界上に貼着し、透過光による像から求めた粒子の境界と貼着し た粒子の境界とから、粒子についてのパラメータ、特に、一連のパラメータ、す なわち、計測を取っている粒子のサイズ、面積、アスペクト比、明るさ;粒子の サイズの分布;粒子濃度;不透明粒子のサイズ、面積、アスペクト比;金属粒子 のサイズ分布;および金属粒子濃度、を得るようにする。 機械摩耗を測定する上で重要である、どの粒子が実際金属粒子であるのかを求 めるには、反射光により形成される像の場合、金属粒子は大量の光を反射し像中 で容易に視認、識別できるため、この金属粒子を検知することのできる反射光に よる像を、透過光により形成される像と比較する、すなわち、反射像を透過像に 写像することによる比較を行う。斯くすることにより、第2像における金属粒子 を使って第1像における対応の粒子を特定することができる。 このように、反射像を透過像に写像することにより、不透明粒子を特定し、そ の不透明粒子のサイズや他のパラメータを求めて機械摩耗の徴候を示すことがで きる。 なお、プロセッサ20には、像処理のソフトウェアを含ませて第2像の金属粒 子を第1像に相互関連付けして第1像中で特定した後、該第1像から粒子サイズ を求めるようにしてもよい。 なお、図8乃至11の実施例において、金属粒子に関するデータを用いるかわ りに、金属粒子を対象とせず、不純物等の他の粒子を検討対象とし、それら粒子 のパラメータを求めて、その粒子を製造する装置に関する情報を提供するように することもできる。 機械摩耗の分析において、オイル等の機械流体を変量したり攪拌したりすると 、得られる結果に影響したり、センサが流体中の粒子を感知するのが困難になる ことがある。そのような状況下では、油溜め(図示せず)を設けて分析前に流体 を貯蔵し沈降させてから測定セルに用いるようにしてもよい。 なお、データを測定セルおよび増幅および調整用回路構成からポータブルコン ピュータへ伝送する方法としては、ハードワイヤ、テレメトリ、モデム、あるい はその他好適な任意の伝達方式により行うことができる。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】平成10年2月18日(1998.2.18) 【補正内容】 特定の種類の粒子を特定することができない、すなわち、流体を透過する光は、 実際には、機械の運転で生じた摩耗粒子や、流体内に存在する可能性のある塵等 の混入物等の他の不純物によっても遮られる可能性があるのであるが、それら種 類の異なる粒子を識別することができないという問題があった。発明の開示 本発明の目的は、このような問題点を克服軽減することにある。 本発明に係る機械流体中の粒子のパラメータを測定するための装置は、以下の ものから成る: 前記流体中の一定種類の粒子を検出し、且つ第1出力を出す、第1磁気検出器 ; 前記流体中の粒子を検出し、且つそれら粒子のパラメータに関する情報を提供 する、第2光検出器、該2検出器は、第2出力を出す;および 前記第1出力と第2出力とを比較して、前記粒子の中から前記一定種類の粒子 を特定するとともに、該一定種類の粒子のパラメータを測定できるようにする、 比較手段。 斯くして、本発明は、一定種類の粒子、例えば機械摩耗の徴候に最も関連する と考えられる粒子、を特定可能とし、且つその粒子のパラメータを測定可能とし て機械摩耗の徴候を示するようにした。 本発明の一実施例では、検出手段は、反磁性、常磁性、または強磁性の粒子を 検出する磁気センサと、前記反磁性、常磁性、または強磁性の粒子のパラメータ を示す出力を出す光センサとから構成している。 本発明は、機械流体中の粒子のパラメータを測定するための装置であって、以 下のものから成る装置を含むものである: 測定セル、該測定セルは以下のものを有する; (a)一定種類の粒子を含んだ粒子を含有する流体を収容する室; (b)前記流体中の一定種類の粒子を検出し、且つ該一定種類の粒子の存在 を示す第1出力を生み出す、第1磁気検出手段;および (c)前記流体中の粒子を検出し、且つ該流体中の粒子のパラメータを示す 第2出力を生み出す、第2光検出手段; 前記第1出力と第2出力とを相互関連付けして、前記第2検出手段により 検出した前記一定種類の粒子を特定するようにした相互関連付け手段;および 前記一定種類の粒子のパラメータを測定する処理手段。 本発明は、従って、第1検出器と第2検出器との相互関連から、金属粒子のよ うな、特定の種類の粒子を特定することができるのである。なお、第1検出器に より検出する特定の粒子は、不純物混入や機械摩耗を測定する上で特に関心のあ るものとすればよく、従って、それら粒子は、第2検出手段により検出される全 粒子の中から特定することが可能であり、それら粒子のパラメータを考慮して不 純物混入や機械摩耗の徴候を示すようにすることができる。 なお、前記室は、前記セルを貫く流路を備えて成り、前記セルを流体通路にお ける所定位置に配置し不純物混入または機械摩耗の測定ラインに組入れ可能とす るのが好ましい。測定は、オン−ライン測定でも、オフ−ライン測定でもよい。 また、前記第1検出器は、磁場を生み出して反磁性、常磁性、または強磁性の 粒子を磁化する磁気手段と、該磁化した粒子を検出する少なくとも1つの磁束検 出器とから構成するのが好ましい。 また、前記磁束検出器は、少なくとも1つのホール効果装置から構成するのが 好ましい。 また、前記第2検出手段は、光源と、該光源から流体を通り透過してくる光を 検出するフォトトランジスタとから成る光検出器から構成するのが好ましい。 また、前記相互関連付け手段と前記処理手段とでパーソナルコンピュータ等の プロセッサを構成するのが好ましい。 本発明に係る粒子のパラメータを測定する方法は、以下の工程からなる: 機械や加工処理で使用される一定種類の粒子を含む粒子を含有した流体中に おける前記一定種類の粒子を第1磁気検出器で検出するとともに、前記第1検出 器により検出された前記一定種類の摩耗粒子を示す出力を生み出す工程; 前記流体における粒子を第2光検出器で検出し、それら粒子のパラメータの 測定を可能にする第2出力を出す工程; 前記第1出力と第2出力とを相互関連付けて、前記第2検出工程で検出され た前記一定種類の粒子を特定できるようにした工程;および、 前記一定種類の粒子のパラメータを測定する工程。 請求の範囲 1. 機械流体中の粒子のパラメータを測定するための装置であって、以下のも のから成る装置: 前記流体中の一定種類の粒子を検出し、且つ第1出力を出す、第1磁気検 出器; 前記流体中の粒子を検出し、且つそれら粒子のパラメータに関する情報を 提供する、第2光検出器、該2検出器は、第2出力を出す;および 前記第1出力と第2出力とを比較して、前記粒子の中から前記一定種類の 粒子を特定するとともに、該一定種類の粒子のパラメータを測定できるようにす る、比較手段。 2. 前記第1磁気センサが、反磁性、常磁性、または強磁性の粒子を検出する ホール効果装置であり、前記第2光検出器が、前記反磁性、常磁性、または強磁 性の粒子のパラメータを示す出力を出すフォトトランジスタから成り、前記第1 出力が、反磁性、常磁性、または強磁性の粒子を示す出力であり、前記第2出力 が、前記粒子のパラメータを示すものである、請求項1に記載の装置。 3. 機械流体中の粒子のパラメータを測定するための装置であって、以下のも のから成る装置: 測定セル、該測定セルは以下のものを有する; (a)一定種類の粒子を含んだ粒子を含有する流体を収容する室; (b)前記流体中の一定種類の粒子を検出し、且つ該一定種類の粒子の存在 を示す第1出力を生み出す、第1磁気検出手段;および (c)前記流体中の粒子を検出し、且つ該流体中の粒子のパラメータを示す 第2出力を生み出す、第2光検出手段; 前記第1出力と第2出力とを相互関連付けして、前記第2検出手段により 検出された前記一定種類の粒子を特定するようにした相互関連付け手段;および 前記一定種類の粒子のパラメータを測定する処理手段。 4. 前記室が、前記セルを貫く流路を備えて成り、前記セルを流体通路におけ る所定位置に配置し不純物混入または機械摩耗の測定ラインに組入れ可能とした 、請求項3に記載の装置。 5. 前記第1検出器が、磁場を生み出して反磁性、常磁性、または強磁性の粒 子を磁化する磁気手段と、該磁化した粒子を検出する少なくとも1つの磁束検出 器とから成る、請求項3に記載の装置。 6. 前記磁束検出器が、少なくとも1つのホール効果装置から成る、請求項5 に記載の装置。 7. 前記第2検出手段が、光源と、該光源から流体を通り透過してくる光を検 出するフォトトランジスタとから成る、請求項3に記載の装置。 8. 前記相互関連付け手段と前記処理手段とでプロセッサを構成した、請求項 3に記載の装置。 9. 機械流体中の粒子のパラメータを測定する方法であって、以下の工程から なる方法: 機械や加工処理で使用される一定種類の粒子を含む粒子を含有した流体中に おける前記一定種類の粒子を第1磁気検出器で検出するとともに、前記第1検出 器により検出された前記一定種類の摩耗粒子を表示する出力を生み出す工程; 前記流体における粒子を第2光検出器で検出し、それら粒子のパラメータの 測定を可能にする第2出力を出す工程; 前記第1出力と第2出力とを相互関連付けて、前記第2検出工程で検出され た前記一定種類の粒子を特定できるようにした工程;および、 前記一定種類の粒子のパラメータを測定する工程。 10.粒子のパラメータを測定する装置であって、以下のものから成る装置: 測定セル、該測定セルは以下のものを有する; (a)粒子を含んだ流体を収容する室; (b)電磁放射を生じしめ、該電磁放射を前記室の一方側から他方側へ前記 流体中を伝搬させる、第1手段; (c)電磁放射を生じしめ、前記粒子の反射を得るようにする、第2手段; (d)伝搬された電磁放射から第1像(イメージ)を製作し、反射された電 磁放射から第2像(イメージ)を製作する、センサ手段;および これら第1、第2像を比較して双方の像に共通な摩耗粒子を特定するよう にし、且つ双方の像に共通の粒子のパラメータを測定する、処理手段。 11.前記室が前記セルを貫く流路を備えて成り、前記セルを流体通路における 所定位置に配置し機械摩耗の時間測定に組入れ可能とした、請求項10に記載の 装置。 12.前記像の形成時、前記流体が前記室において実質上静止している、請求項 10に記載の装置。 13.ポンプを設けて流体が前記セルを循環するよう為すとともに、前記像の形 成時、前記ポンプを切って前記流路内の流体を停止させるようにした、請求項1 2に記載の装置。 14.前記センサが荷電結合素子を備えて成る、請求項10に記載の装置。 15.前記第1手段が、パルス光源と光学レンズとからなり、平行光線を作り前 記通路と光学式拡大装置とを通って前記センサへ伝搬するようにした、請求項1 0に記載の装置。 16.前記第2手段が、前記流路における前記センサと同じ側に設けたパルス光 源から成り、前記粒子の反射作用で前記センサに至る光を作り出すようにした、 請求項10に記載の装置。 17.前記プロセッサがコンピュータから成る、請求項10に記載の装置。 18.粒子のパラメータを測定する方法であって、以下の工程から成る方法: 流体中の粒子の第1像を、光を前記流体中を透過させることによって形成 する工程; 前記流体中の一定種類の粒子の第2像を、光を前記流体中における前記一 定種類の粒子に反射させることによって形成する工程;および 前記第1像と第2像とを比較して前記第1像における前記一定種類の粒子 を特定するよう為し、該第1像から前記一定種類の粒子のパラメータが測定でき るようにした工程。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S D,SZ,UG),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM,AT,AU ,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH, CN,CU,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,G B,GE,GH,HU,IL,IS,JP,KE,KG ,KP,KR,KZ,LC,LK,KR,LS,LT, LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX,N O,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG ,SI,SK,TJ,TM,TR,TT,UA,UG, US,UZ,VN,YU (71)出願人 モンテック メディカル デベロプメント ピー・ティー・ワイ エル・ティー・デ ィー オーストラリア国 ヴィー・アイ・シー 3000 メルボルン コリンズストリート30 レベル1 エー・シー・エヌ 060 498 562 (71)出願人 デンタイア ピー・ティー・ワイ エル・ ティー・ディー オーストラリア国 エヌ・エス・ダブリュ ー2000 シドニー チフリスクエア ザ・ チフリタワー レベル15 エー・シー・エ ヌ 060 170 738 (71)出願人 カーブリッジ ピー・ティー・ワイ エ ル・ティー・ディー オーストラリア国 エヌ・エス・ダブリュ ー2217 コガレイ モントゴメリーストリ ート4―16 セントジョージハウス方 エ ー・シー・エヌ 060 295 114 (72)発明者 カナル・ブルース・トーマス オーストラリア国 ヴィー・アイ・シー 3146 グレンアイリス パークロード55 (72)発明者 ステキ・ジャケック・スタニスロー オーストラリア国 ヴィー・アイ・シー 3104 ノースボールウィン ボンビューロ ード9 (72)発明者 プレズロズニ・ザビッグニュー オーストラリア国 ヴィー・アイ・シー 3174 ノーブルパーク ジャクソンズロー ド43 (72)発明者 ヒュアン・ジ オーストラリア国 ヴィー・アイ・シー 3204 オーモンド ワイルドチェリーロー ド6/7 (72)発明者 ドラン・クリストファー・ユージン オーストラリア国 ヴィー・アイ・シー 3133 バーモントサウス マスターコート 3 【要約の続き】 との比較により金属粒子を測定して、その粒子のパラメ ータを測定するようにし、以って、不純物混入や機械摩 耗の徴候を示せるようにした。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.流体中の粒子のパラメータを測定するための装置であって、以下のものから 成る装置: 流体中の一定種類の粒子を検出するとともに、機械流体における粒子のパラ メータに関する情報を提供する検出手段;および 前記流体中の一定種類の粒子のパラメータを測定する処理手段。 2.前記検出手段が、反磁性、常磁性、強磁性の粒子を検出する磁気センサと、 前記反磁性、常磁性、強磁性の粒子のパラメータを示す出力を出す光センサとか ら成る、請求項1に記載の装置。 3.前記検出手段が、前記流体を透過する光によって形成される流体中粒子の第 1像(イメージ)と、流体中の一定種類の粒子からの反射光によって形成される 一定種類の流体中粒子の第2像とを形成するセンサから成り、前記第1像が、第 2像(イメージ)に示される前記一定種類の粒子の測定を行える情報を提供する 、請求項1に記載の装置。 4.流体中の粒子のパラメータを測定する方法であって、以下の工程からなる方 法: 前記流体中の一定種類の粒子を検出し、該一定種類の粒子を特定する工程; および 流体中の粒子を検出し、該粒子のパラメータに関する情報を提供して、前記 一定種類の粒子のパラメータを測定できるようにする工程。 5.前記方法が、不純物混入や機械摩耗の測定に関するもので、前記流体が、機 械流体または加工処理流体であり、また前記一定種類の粒子のパラメータの測定 により不純物混入または機械摩耗の徴候を表した、請求項4に記載の方法。 6.流体中の粒子のパラメータを測定する装置に使用する測定セルであって、 (a)一定種類の粒子を含んだ粒子を含有する流体を収容する室; (b)前記流体中の一定種類の粒子を検出し、且つ該一定種類の粒子の存在を 示す第1出力を生み出す第1検出手段;および (c)流体中の粒子を検出し、該流体中の粒子のパラメータを示す第2出力を 生み出す第2検出手段から成り、前記第1出力と第2出力とを相互関連付けして 前記第2検出手段により検出した一定種類の粒子を特定するようするとともに、 それら出力を処理して前記一定種類のパラメータを測定するようにした測定セル 。 7.流体中の粒子のパラメータを測定する装置に使用する測定セルであって、以 下のものから成る測定セル: (a)粒子を含む流体を収容する室; (b)電磁放射を生じしめ、且つ該電磁放射を前記室の一方側から他方側へ前 記流体中を伝搬させる第1手段; (c)電磁放射を生じしめ、粒子の反射を得るようにする第2手段;および (d)伝搬された電磁放射から第1像を製作し、反射された電磁放射から第2 像を製作して、これら第1、第2像を比較し双方の像に共通な粒子を特定できる ようにするとともに、双方の像に共通の粒子のパラメータを測定する、センサ手 段。 8.粒子のパラメータを測定する装置であって、以下のものから成る装置: 測定セル、該測定セルは以下のものから成る; (a)一定種類の粒子を含んだ粒子を含有する流体を収容する室; (b)前記流体中の一定種類の粒子を検出し、且つ該一定種類の粒子の存在を 示す第1出力を生み出す第1検出手段;および (c)流体中の粒子を検出し、且つ該流体中の粒子のパラメータを示す第2出 力を生み出す第2検出手段; 前記第1出力と第2出力とを相互関連付けして、前記第2検出手段により検 出した一定種類の粒子を特定するようにした相互関連付け手段;および 前記一定種類の粒子のパラメータを測定する処理手段。 9.前記室が、前記セルを貫く流路を備えて成り、前記セルを流体通路における 所定位置に配置し不純物混入または機械摩耗の測定ラインに組入れ可能とした、 請求項8に記載の装置。 10.第1検出器が、磁場を生み出して反磁性、常磁性、強磁性の粒子を磁化す る磁気手段と、該磁化した粒子を検出する少なくとも1つの磁束検出器とから成 る、請求項8に記載の装置。 11.前記磁束検出器が、少なくとも1つのホール効果装置から成る、請求項1 0に記載の装置。 12.前記第2検出手段が、光源から成る光検出器と、前記光源から流体を通り 透過してくる光を検出するフォトトランジスタとから成る、請求項8に記載の装 置。 13.前記相互関連付け手段と前記処理手段とでプロセッサを構成した、請求項 8に記載の装置。 14.粒子のパラメータを測定する方法であって、以下の工程からなる方法: 機械や加工処理で使用される一定種類の粒子を含む粒子を含有する流体中 における前記一定種類の粒子を第1検出器で検出するとともに、前記第1検出器 により検出された一定種類の摩耗粒子を表示する出力を生じしめる工程; 流体における粒子を第2検出手段で検出し、その粒子のパラメータの測定 を可能にする第2出力を生じしめる工程; 前記第1出力と第2出力とを相互関連付けて、前記第2検出工程で検出さ れた前記一定種類の粒子を特定できるようにした工程;および、 前記一定種類の粒子のパラメータを測定する工程。 15.粒子のパラメータを測定する装置であって、以下のものから成る装置: 測定セル、該測定セルは以下のものを有する; (a)粒子を含んだ流体を収容する室; (b)電磁放射を生じしめ、該電磁放射を前記室の一方側から他方側へ前記 流体中を伝搬させる第1手段; (c)電磁放射を生じしめ、粒子の反射を得るようにする第2手段; (d)伝搬された電磁放射から第1像を製作し、反射された電磁放射から第 2像を製作するセンサ手段;および これら第1、第2像を比較し双方の像に共通な摩耗粒子を特定できるよう にするとともに、双方の像に共通の粒子のパラメータを測定する、処理手段。 16.前記室が前記セルを貫く流路を備えて成り、前記セルを流体通路における 所定位置に配置し機械摩耗の時間測定に組入れ可能とした、請求項15に記載の 装置。 17.前記像の形成時、前記流体が前記室において実質上静止している、請求項 15に記載の装置。 18.ポンプを設けて流体が前記セルを循環するよう為すとともに、前記像の形 成時、前記ポンプを切って前記通路内の流体を停止させるようにした、請求項1 7に記載の装置。 19.前記センサが荷電結合素子を備えて成る、請求項15に記載の装置。 20.前記第1手段が、パルス光源と光学レンズとからなり、平行化光線を作り 出して前記通路と光学式拡大装置とを通って前記センサへ伝搬するようにした、 請求項15に記載の装置。 21.前記第2手段が前記通路における前記センサと同じ側に設けたパルス光源 から成り、前記粒子の反射作用で前記センサに至る光を作り出すようにした、請 求項15に記載の装置。 22.前記プロセッサがコンピュータから成る、請求項15に記載の装置。 23.粒子のパラメータを測定する方法であって、以下の工程から成る方法: 流体中の粒子の第1像を、光を前記流体中を透過させることによって形成 する工程; 流体中の一定種類の粒子の第2像を、光を前記流体中における前記一定種 類の粒子に反射させることによって形成する工程;および 前記第1像と第2像とを比較して前記第1像における前記一定種類の粒子 を特定するよう為し、該第1像から前記一定種類の粒子のパラメータが測定でき るようにした工程。
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