JP2001358185A - Test system - Google Patents

Test system

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JP2001358185A
JP2001358185A JP2000180745A JP2000180745A JP2001358185A JP 2001358185 A JP2001358185 A JP 2001358185A JP 2000180745 A JP2000180745 A JP 2000180745A JP 2000180745 A JP2000180745 A JP 2000180745A JP 2001358185 A JP2001358185 A JP 2001358185A
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wafer
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wafers
lot
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修 山田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a test system which can reduce the residence time for a wafers of a lot which are to be immediately tested in a test process and efficiently test small number of many kinds of wafers. SOLUTION: The test system for testing wafers comprises a waver prober for carrying wafers of devices under test to a test position, two test stations provided with electronic circuits having a prescribed number of test channels, and a testing fixture for pressing and contacting each test channel in the two test stations to each pad of a plurality of chips of the wafers carried by the wafer prober, thereby electrically connecting them. By simultaneous measurement of plurality of chips the wafers are tested.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、2台のテストステ
ーションを1台のウェハプローバに接続して、少量品種
や緊急にテストするロットのウェハがテスト工程で滞留
する期間を短縮できるテストシステムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a test system in which two test stations are connected to a single wafer prober to reduce the period in which small lots or wafers of a lot to be urgently tested stay in a test process. .

【0002】[0002]

【従来の技術】従来技術の例について、図3〜図5を参
照して構成と動作について説明する。図3に示すよう
に、2台のステーションと2台のプローバのテストシス
テムは、ワークステーション10と、メインフレーム2
0と、2台のテストステーション30と、2台のテスト
フィクスチャ50と、2台のウェハプローバ60とで構
成している。そして、被測定デバイスの2枚のウェハ7
0を同時測定してテストする。
2. Description of the Related Art The configuration and operation of an example of the prior art will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 3, a test system of two stations and two probers comprises a workstation 10 and a mainframe 2
0, two test stations 30, two test fixtures 50, and two wafer probers 60. Then, the two wafers 7 of the device to be measured
Test by simultaneously measuring 0.

【0003】ワークステーション10は、テストシステ
ムと人とのインタフェースとなる入出力手段である。メ
インフレーム20は、テストシステムの電源部と、コン
ピュータと、テスト信号の生成部と、論理比較器等を内
蔵している。テストステーション30は、テストチャン
ネルごとの電子回路を内蔵している。テストフィクスチ
ャ50は、被測定デバイスのウェハ70とテストステー
ション30とのインタフェースであり、テストステーシ
ョン30の電子回路の信号とウェハ70とを電気接続す
る。ウェハプローバ60は、メインフレーム2からの制
御信号を受けてウェハをカセットからテストフィクスチ
ャ50の下へ搬送する。
[0003] The workstation 10 is an input / output means that serves as an interface between the test system and a person. The main frame 20 includes a power supply unit of the test system, a computer, a test signal generation unit, a logical comparator, and the like. The test station 30 includes an electronic circuit for each test channel. The test fixture 50 is an interface between the wafer 70 of the device under test and the test station 30, and electrically connects a signal of an electronic circuit of the test station 30 to the wafer 70. The wafer prober 60 receives a control signal from the main frame 2 and transports a wafer from the cassette to below the test fixture 50.

【0004】次に、テストステーション30とウェハプ
ローバ60間の構成について図4のブロック図を参照し
て説明する。但し、図を簡明とするため、テストステー
ション30とウェハプローバ60を各1台の場合で示し
ているが、テストシステムの全チャンネル数を2つに分
配しているだけなので省略している。また、1台のテス
トステーション30の信号ラインはドライバDRとコン
パレータCPとし、各1チャンネルのみ示しているが、
通常は数百チャンネル以上で構成している。
Next, a configuration between the test station 30 and the wafer prober 60 will be described with reference to a block diagram of FIG. However, for simplicity of the drawing, only one test station 30 and one wafer prober 60 are shown, but the description is omitted because the total number of channels of the test system is merely distributed to two. The signal lines of one test station 30 are a driver DR and a comparator CP, and only one channel is shown.
Usually, it consists of several hundred channels or more.

【0005】テストステーション30とウェハプローバ
60間の構成は、ピンエレクトロニクス31と、コネク
タ32と、マザーボード36と、ポゴピン34と、パフ
ォーマンスボード51と、ポゴピン52と、プローブ針
54を設けたプローブカード53とで構成している。
The configuration between the test station 30 and the wafer prober 60 includes a pin electronics 31, a connector 32, a motherboard 36, a pogo pin 34, a performance board 51, a pogo pin 52, and a probe card 53 provided with a probe needle 54. It consists of:

【0006】ここで、パフォーマンスボード51とプロ
ーブカード53をポゴピン34、52により交換できる
ようにして、テストするウェハの種類や、同時テストす
るチャンネル数などの目的により対応している。また、
交換する構成要素の、パフォーマンスボード51と、ポ
ゴピン52と、プローブカード53とをテストフィクス
チャ50と称している。
Here, the performance board 51 and the probe card 53 can be exchanged by the pogo pins 34 and 52 to meet the purpose such as the type of wafer to be tested and the number of channels to be simultaneously tested. Also,
The components to be exchanged, the performance board 51, the pogo pins 52, and the probe card 53 are referred to as a test fixture 50.

【0007】ピンエレクトロニクス31は、テストパタ
ーンを所望の電圧レベルに増幅するドライバDRと、被
測定デバイスからの信号を電圧比較して論理信号として
出力すコンパレータCP等の電子回路がテストチャンネ
ル分ある。コネクタ32は、多数のチャンネルを信号を
マザーボードに接続するので挿入力のすくない構造のも
のを使用する。ポゴピン34、52は、先端が伸縮自在
となっていて、圧接することで電気接続する。パフォー
マンスボード51は、ポゴピン52を介して、プローブ
カード53を搭載する。プローブカード53は、プロー
プ針54によりウェハ70のパッドと電気接続する。
The pin electronics 31 includes a driver DR for amplifying a test pattern to a desired voltage level, and an electronic circuit such as a comparator CP for comparing a signal from a device under test with a voltage and outputting it as a logic signal for a test channel. The connector 32 has a structure in which a large number of channels are connected to the motherboard and a signal has a small insertion force. The pogo pins 34 and 52 have an extensible tip, and are electrically connected by pressure contact. The performance board 51 mounts a probe card 53 via pogo pins 52. The probe card 53 is electrically connected to the pad of the wafer 70 by the probe needle 54.

【0008】次に、テストシステムの動作の概要につい
て図4のブロック図を参照して説明する。試験するウェ
ハ70の種類によりテストシステムの内部構成は異なる
が、ここではロジックのウェハをテストする例で説明す
る。パターン発生器5において、タイミング発生器4か
ら出力された基本クロック信号に同期して論理データを
発生する。波形整形器6において、パターン発生器から
の論理データと、タイミング発生器4からのクロック信
号とでテストパターンを生成する。ピンエレクトロニク
ス31において、テストパターンはドライバにより所望
の電圧レベルに増幅され、コネクタ32と、マザーボー
ド36と、ポゴピン34と、パフォーマンスボード51
と、ポゴピン52と、プローブカード53のプローブ針
54を介してウェハ70の入力パッドに出力する。
Next, an outline of the operation of the test system will be described with reference to the block diagram of FIG. Although the internal configuration of the test system differs depending on the type of the wafer 70 to be tested, an example in which a logic wafer is tested will be described here. The pattern generator 5 generates logical data in synchronization with the basic clock signal output from the timing generator 4. In the waveform shaper 6, a test pattern is generated based on the logic data from the pattern generator and the clock signal from the timing generator 4. In the pin electronics 31, the test pattern is amplified to a desired voltage level by a driver, and the connector 32, the motherboard 36, the pogo pins 34, and the performance board 51 are amplified.
And output to the input pad of the wafer 70 via the pogo pins 52 and the probe needles 54 of the probe card 53.

【0009】同様に、ウェハ70の出力パッドからの出
力信号は、プローブカード53のプローブ針54、ポゴ
ピン52と、パフォーマンスボード51と、ポゴピン3
4と、マザーボード36と、コネクタ32とを介してピ
ンエレクトロニクス31のコンパレータCPにより電圧
比較して論理信号として出力する。論理比較器7におい
て、タイミング発生器4からのストローブ信号のタイミ
ングで、DUT91の論理出力信号と、パターン発生器
5からの期待値と、論理比較されてパス/フェイル判定
をおこなう。
Similarly, the output signal from the output pad of the wafer 70 is transmitted to the probe needle 54 of the probe card 53, the pogo pin 52, the performance board 51, and the pogo pin 3.
4, the motherboard 36, and the connector 32, and the comparator CP of the pin electronics 31 compares the voltages and outputs a logical signal. In the logical comparator 7, at the timing of the strobe signal from the timing generator 4, the logical output signal of the DUT 91 and the expected value from the pattern generator 5 are logically compared to make a pass / fail judgment.

【0010】次に、従来の2台のステーションと2台の
ウェハプローバを使用したテストシステムにおいて、ウ
ェハのテスト方法について図5を参照して説明する。
Next, a method of testing a wafer in a conventional test system using two stations and two wafer probers will be described with reference to FIG.

【0011】図5に示すテストシステムにおいて、2台
のテストステーション30でテストされるウェハは一つ
のプログラムを実行してテストするため同一品種を同時
測定してテストする。
In the test system shown in FIG. 5, wafers to be tested by the two test stations 30 are tested by executing one program and simultaneously measuring the same product type.

【0012】例えば、各テストステーションのチャンネ
ル数を512チャンネルとし、各チップを256チャン
ネルで測定してテストする場合、1台のウェハプローバ
で1枚のウェハの2つのチップが同時測定できるので、
2台のウェハプローバで4つのチップが同時測定でき
る。
For example, when the number of channels of each test station is set to 512 and each chip is measured and tested by 256 channels, two chips of one wafer can be measured simultaneously by one wafer prober.
Four chips can be measured simultaneously with two wafer probers.

【0013】また、1枚のウェハ70を400チップと
し、1台のウェハプローバで2つのチップを同時測定し
てテストすれば、200回の同時測定により1枚のウェ
ハがテストできるので、2台のウェハプローバを使用す
れば200回の同時測定により2枚のウェハが同時にテ
ストできる。従って、例えば同一の品種Aで、また同じ
枚数のウェハのロットBとロットCをテストするような
場合に効率的なテストシステムである。
If one wafer 70 is 400 chips and two chips are simultaneously measured and tested by one wafer prober, one wafer can be tested by 200 simultaneous measurements. If two wafer probers are used, two wafers can be tested simultaneously by 200 simultaneous measurements. Therefore, for example, when the lot B and the lot C of the same type A and the same number of wafers are tested, the test system is efficient.

【0014】一方、近年の半導体デバイスは大量少品種
から少量多品種の傾向にある。また、在庫削減の目的か
ら見込み生産を避ける傾向にある。そのため、半導体デ
バイスの生産計画が頻繁に変わることになり、ウェハテ
スト工程においても、少量品種や緊急にテストするロッ
トのウェハがテスト工程で滞留する期間の短縮が求めら
れる。しかし、従来のテストシステムでは、少量多品種
のウェハをテストする要求に対応しにくい問題がある。
On the other hand, in recent years, semiconductor devices tend to be from a large number of small varieties to a small number of varieties. There is also a tendency to avoid prospective production for the purpose of inventory reduction. Therefore, the production plan of semiconductor devices frequently changes, and in the wafer test process as well, it is required to reduce the period during which wafers of small lots or urgently tested lots stay in the test process. However, the conventional test system has a problem that it is difficult to respond to a demand for testing a large number of kinds of wafers in small quantities.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】上記説明のように、従
来のテストシステムでは、少量多品種のウェハをテスト
する要求に対応しにくい問題がある。そこで、本発明
は、こうした問題に鑑みなされたもので、その目的は、
緊急にテストするロットのウェハがテスト工程で滞留す
る期間を短縮でき、少量多品種のウェハを効率よくテス
トするテストシステムを提供することにある。
As described above, the conventional test system has a problem that it is difficult to respond to a demand for testing a small number of wafers of various kinds. Therefore, the present invention has been made in view of such a problem, and its purpose is to
An object of the present invention is to provide a test system capable of shortening a period in which a wafer of a lot to be urgently tested stays in a test process and efficiently testing a small number of wafers of various kinds.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】即ち、上記目的を達成す
るためになされた本発明の第1は、ウェハをテストする
テストシステムにおいて、被テストデバイスのウェハを
テスト位置に搬送する1台のウェハプローバと、所定の
テストチャンネル数の電子回路を設けた2台のテストス
テーションと、該2台のテストステーションの各テスト
チャンネルを前記1台のウェハプローバで搬送されたウ
ェハの複数のチップの各パッドと押圧接触して電気接続
するテストフィクスチャと、を具備して、複数チップの
同時測定によりウェハをテストすることを特徴としたテ
ストシステムを要旨としている。
That is, a first aspect of the present invention, which has been made to achieve the above object, is to provide a test system for testing a wafer, wherein one wafer for transferring a wafer of a device under test to a test position is provided. A prober, two test stations provided with electronic circuits of a predetermined number of test channels, and respective pads of a plurality of chips of a wafer conveyed by the one wafer prober to each test channel of the two test stations. And a test fixture that is electrically connected by pressing and contacting the test chip, and tests a wafer by simultaneously measuring a plurality of chips.

【0017】また、上記目的を達成するためになされた
本発明の第2は、テストフィクスチャは、2つのパフォ
ーマンスボードと、1つの押圧接触手段とで構成され、
各テストチャンネルの信号線を同軸ケーブルで接続して
いる本発明第1記載のテストシステムを要旨としてい
る。
According to a second aspect of the present invention, which has been made to achieve the above object, the test fixture is composed of two performance boards and one pressing contact means,
The gist is the test system according to the first aspect of the present invention in which the signal lines of each test channel are connected by a coaxial cable.

【0018】さらに、上記目的を達成するためになされ
た本発明の第3は、押圧接触手段は、フィルム状プロー
ブユニットである本発明第2記載のテストシステムを要
旨としている。
Furthermore, a third aspect of the present invention, which has been made to achieve the above object, is a gist of the test system according to the second aspect of the present invention, wherein the pressing contact means is a film probe unit.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態は、下記の実
施例において説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described in the following examples.

【0020】[0020]

【実施例】本発明の実施例について、図1と、図2と、
図6〜図9を参照して構成と動作について説明する。図
2に示すように、2台のステーションと1台のウェハプ
ローバのテストシステムは、ワークステーション10
と、メインフレーム20と、2台のテストステーション
30と、1台のテストフィクスチャ40と、1台のウェ
ハプローバ60とで構成している。そして、被測定デバ
イスの1枚のウェハ70の複数チップを同時測定してテ
ストする。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS.
The configuration and operation will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 2, the test system for two stations and one wafer prober is
, A main frame 20, two test stations 30, one test fixture 40, and one wafer prober 60. Then, a plurality of chips of one wafer 70 of the device to be measured are simultaneously measured and tested.

【0021】つまり、ワークステーション10と、メイ
ンフレーム20と、テストステーション30と、ウェハ
プローバ60との各構成要素は従来と同じであり、テス
トフィクスチャ40のみ異なる構成である。従って、従
来と同じ構成要素と動作の説明は従来技術において説明
したので省略する。
That is, the components of the work station 10, the main frame 20, the test station 30, and the wafer prober 60 are the same as those in the related art, and only the test fixture 40 is different. Therefore, the description of the same components and operations as those in the related art has been described in the related art and will not be repeated.

【0022】テストフィクスチャ40は、図1に示すよ
うに、2つのパフォーマンスボード41と、複数の同軸
ケーブル42と、プローブカード43とで構成してい
る。パフォーマンスボード41は、マザーボード36側
の構造は従来と同じであるが、プローブカード43側
は、同軸ケーブル42接続するパターンを形成する。
The test fixture 40 comprises two performance boards 41, a plurality of coaxial cables 42, and a probe card 43, as shown in FIG. The performance board 41 has the same structure as the conventional one on the motherboard 36 side, but forms a pattern for connecting the coaxial cable 42 on the probe card 43 side.

【0023】同軸ケーブル42は、信号を伝送するので
例えば特性インピーダンス50Ωの細い同軸ケーブルを
使用する。同軸ケーブル42の端末処理は、中心線と外
部導体を直接基板のパッドに半田付けするか、または極
小のピンとソケット等を使用してパフォーマンスボード
41及びプローブカード43の基板に接続する。
Since the coaxial cable 42 transmits a signal, a thin coaxial cable having a characteristic impedance of, for example, 50Ω is used. For the termination of the coaxial cable 42, the center line and the external conductor are directly soldered to the pads of the board, or the coaxial cable 42 is connected to the boards of the performance board 41 and the probe card 43 by using extremely small pins and sockets.

【0024】プローブカード43は、プローブ針44に
よりウェハ70の各チップに圧接させて電気接続する押
圧接触手段である。図1のプローブカード43は、図を
簡明とするため、各テストステーション30からのチャ
ンネル数を2チャンネルとし、ウェハ70のチップが2
個同時測定できる構成を示している。
The probe card 43 is a pressing contact means for making a pressure contact with each chip of the wafer 70 by a probe needle 44 and electrically connecting the chips. In order to simplify the drawing, the probe card 43 of FIG. 1 uses two channels from each test station 30 and the chip of the wafer 70 has two channels.
The figure shows a configuration that allows simultaneous measurement.

【0025】押圧接触手段としては、チャンネル数が多
い場合は、多チャンネル化が容易なフィルム状プローブ
ユニットをプローブカード43に替えて使用してもよ
い。フィルム状プローブユニットに関しては、例えば、
プローブユニットの製造方法として(特開平11−51
971)開示されているので詳細説明を省略する。フィ
ルム状プローブユニットは、シート状の弾性体に設けら
れたバンプ(突起)をウェハ70のチップの各パッドと
押圧接触させて電気接続する。
When the number of channels is large, a film-shaped probe unit which can easily be multi-channeled may be used as the pressing contact means instead of the probe card 43. For the film probe unit, for example,
As a method of manufacturing a probe unit (JP-A-11-511-1)
971) Since it is disclosed, detailed description is omitted. The film-shaped probe unit makes a bump (protrusion) provided on the sheet-shaped elastic body press each of the chips of the wafer 70 so as to make electrical contact with each pad.

【0026】次に、チャンネル数と同時測定との関係に
ついて説明する。本発明のテストシステムでは、各テス
トステーション30のチャンネル数を従来と同じとすれ
ば、2台のテストステーションのチャンネルの電子回路
分を合わせて1つの押圧接触手段のチャンネルとするテ
ストフィクスチャ40を使用しているので、従来の2倍
のチャンネルでの同時測定が1台のウェハプローバで出
来る。
Next, the relationship between the number of channels and simultaneous measurement will be described. In the test system of the present invention, assuming that the number of channels of each test station 30 is the same as the conventional one, the test fixture 40 which is a channel of one pressing contact means by combining the electronic circuits of the channels of the two test stations is used. Since it is used, simultaneous measurement with twice the number of channels as before can be performed with one wafer prober.

【0027】例えば、各テストステーションのチャンネ
ル数を512チャンネルとすると、2台のテストステー
ションのチャンネル数を合わせた押圧接触手段のプロー
ブカード43においては1024チャンネルとなる。ま
た、1枚のウェハ70を400チップとし、各チップを
256チャンネルで測定すれば、4つのチップを同時測
定してテストできるので、1台のウェハプローバ60で
100回の同時測定により1枚のウェハがテストでき
る。
For example, assuming that the number of channels of each test station is 512, the number of channels of the probe card 43 of the pressing contact means in which the number of channels of the two test stations is the same is 1024. Further, if one wafer 70 has 400 chips and each chip is measured by 256 channels, four chips can be measured and tested simultaneously, so that one wafer prober 60 performs one measurement by 100 simultaneous measurements. The wafer can be tested.

【0028】次に、従来の2台のテストステーション3
0と2台のウェハプローバ60を使用したテストシステ
ムと、本発明の2台のテストステーション30と1台の
ウェハプローバ60を使用したテストシステムとを比較
した、ウェハのテスト時間の相違について図6〜図9を
参照して以下説明する。
Next, the conventional two test stations 3
FIG. 6 shows a difference in wafer test time between a test system using zero and two wafer probers 60 and a test system using two test stations 30 and one wafer prober 60 of the present invention. This will be described below with reference to FIGS.

【0029】例えば、図6に示すように、被測定デバイ
スのウェハが品種Aの単独ロットBをテストする場合、
図6の(a)に示す従来のテストシステムでは、1台の
ウェハプローバが遊休状態となるが、図6の(b)に示
す本発明のテストシステムでは1台のウェハプローバで
従来の2倍のチャンネル数をテストできる。従って、図
6の(C)に示すように、品種Aの単独ロットのウェハ
テストは、従来のテストシステムと比較して本発明のテ
ストシステムでは1/2の時間に短縮できる。
For example, as shown in FIG. 6, when a wafer of a device under test tests a single lot B of type A,
In the conventional test system shown in FIG. 6A, one wafer prober is idle, but in the test system of the present invention shown in FIG. 6B, one wafer prober is twice as large as the conventional one. You can test the number of channels. Therefore, as shown in FIG. 6C, the wafer test of the single lot of the type A can be reduced to half the time of the test system of the present invention as compared with the conventional test system.

【0030】また、図7に示すように、ウェハテストは
ロット単位で行われるが、例えば、品種AのロットB、
ロットC、ロットD、ロットEのテスト工程の途中にお
いて、緊急にテストしたい緊急ロットFが発生した場
合、図7の(a)に示す従来のテストシステム(a)で
は、ロットDとロットEをテスト中に緊急ロットFが発
生すれば、そのロットDとロットEのテストが終了して
から緊急ロットFのテストをおこない、図7の(b)に
示す本発明のテストシステムではロットDをテスト中に
緊急ロットFが発生すれば、そのロットDが終了したあ
とすぐに緊急ロットFのテストができる。従って、図7
の(C)に示すように、テスト工程の途中において、緊
急にテストしたい緊急ロットFが発生した場合、従来の
テストシステムと比較して本発明のテストシステムでは
緊急ロットFのテスト開始が早くできるので待ち時間を
少なくでき、しかも緊急ロットF自体のテスト時間が1
/2の時間に短縮できる。
As shown in FIG. 7, the wafer test is performed on a lot basis.
When an urgent lot F to be urgently tested occurs in the middle of the lot C, lot D, and lot E test processes, the lot D and the lot E are compared in the conventional test system (a) shown in FIG. If the emergency lot F occurs during the test, the test of the emergency lot F is performed after the tests of the lot D and the lot E are completed, and the test system of the present invention shown in FIG. If the emergency lot F occurs during the test, the emergency lot F can be tested immediately after the completion of the lot D. Therefore, FIG.
As shown in (C), when an urgent lot F to be urgently tested occurs in the middle of the test process, the test of the urgent lot F can be started earlier in the test system of the present invention as compared with the conventional test system. Therefore, the waiting time can be reduced, and the test time of the emergency lot F itself is 1
/ 2 time.

【0031】また、図8に示すように、ウェハテスト対
象の品種が奇数ロットの場合、例えば、品種Aのロット
B、ロットC、ロットD、3ロットをテストする場合、
図8の(a)に示す従来のテストシステムでは、最後の
奇数番目のロットDのテストのとき一方のウェハプロー
バが遊休状態となるが、図8の(b)に示す本発明のテ
ストシステムでは1台のウェハプローバで従来の2倍の
チャンネル数をテストできる。従って、図8の(C)に
示すように、奇数ロットの場合、従来のテストシステム
と比較して本発明のテストシステムでは最後の奇数番目
のロットDのテスト時間が1/2の時間で終了する。
As shown in FIG. 8, when the type of wafer test target is an odd lot, for example, when testing lots B, C, D, and 3 lots of type A,
In the conventional test system shown in FIG. 8A, one of the wafer probers is in an idle state when testing the last odd-numbered lot D. However, in the test system of the present invention shown in FIG. One wafer prober can test twice the number of channels as before. Accordingly, as shown in FIG. 8C, in the case of an odd lot, the test system of the test system of the present invention finishes the test time of the last odd lot D in half the time compared to the conventional test system. I do.

【0032】また、図9に示すように、ウェハテストは
一定枚数カセットに搭載されたロット単位で行われる
が、そのロットのウェハに端数が生じた場合、例えば、
品種AのロットB、ロットC、ロットD、の各ロットの
ウェハ枚数が25枚で端数ロットEのウェハ枚数が5枚
の場合、図9の(a)に示す従来のテストシステムで
は、ロットDとロットEのテストは端数のない場合と同
じテスト時間が必要であり、図7の(b)に示す本発明
のテストシステムでは最後の端数ロットEの端数の枚数
に比例した1/5にテスト時間に短縮できる。従って、
図9の(C)に示すように、ロットのウェハに端数が生
じた場合、従来のテストシステムと比較して本発明のテ
ストシステムでは最後の端数ロットのテスト時間はウェ
ハの端数の枚数分に比例して時間短縮できる。
As shown in FIG. 9, the wafer test is performed for each lot mounted on a fixed number of cassettes. If a wafer of the lot has a fraction, for example,
In the case where the number of wafers in each of the lots B, C, and D of the type A is 25 and the number of wafers in the fraction lot E is 5, the conventional test system shown in FIG. And the test of lot E require the same test time as the case of no fraction, and the test system of the present invention shown in FIG. Save time. Therefore,
As shown in FIG. 9C, when a lot of wafers has a fraction, the test time of the last fraction lot is reduced to the fractional number of wafers in the test system of the present invention as compared with the conventional test system. The time can be shortened in proportion.

【0033】ところで、従来のテストシステムと本発明
のテストシステム比較して、同一品種で偶数ロットのウ
ェハをテストする場合のテスト時間は同じであるが、従
来のテストシステムではウェハプローバを2台必要とす
るのに対して、本発明のテストシステムでは1台ですむ
のでウェハプローバのコストを半減できる。また、本発
明のテストシステムは、テストするウェハが、ロジッ
ク、メモリ、アナログ・デジタル混在、その他の種類で
も制限なく実施対象とできる。
By the way, compared with the conventional test system and the test system of the present invention, the test time for testing even number lot wafers of the same type is the same, but the conventional test system requires two wafer probers. In contrast, only one test system is required in the test system of the present invention, so that the cost of the wafer prober can be reduced by half. Further, the test system of the present invention can be applied to a wafer to be tested without limitation even if the wafer to be tested is logic, memory, mixed analog / digital, or other types.

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明は、以上説明したような形態で実
施され、以下に記載されるような効果を奏する。即ち、
2台のテストステーションを1台のウェハプローバに接
続してウェハの複数チップをテストできるようにしたの
で、少量品種や緊急にテストするロットのウェハがテス
ト工程で滞留する期間を短縮でき、しかも、ウェハプロ
ーバのコストが半減する効果がある。
The present invention is embodied in the form described above and has the following effects. That is,
Two test stations can be connected to one wafer prober to test multiple chips on a wafer, so that the period during which wafers of small lots or urgently tested lots stay in the test process can be shortened. This has the effect of reducing the cost of the wafer prober by half.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のテストシステムの要部構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of a main part of a test system according to the present invention.

【図2】本発明のテストシステム構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of a test system according to the present invention.

【図3】従来のテストシステムの構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram of a conventional test system.

【図4】テストシステムのメインフレームのブロック図
と、要部構成図である。
FIG. 4 is a block diagram of a main frame of the test system and a main part configuration diagram.

【図5】従来のテストシステムによるウェハのテスト方
法を示す図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a wafer test method using a conventional test system.

【図6】単独ロットの場合の従来と本発明とのテスト時
間の比較図である。
FIG. 6 is a comparison diagram of test times between a conventional case and the present invention in the case of a single lot.

【図7】緊急ロットがある場合の従来と本発明とのテス
ト時間の比較図である。
FIG. 7 is a comparison diagram of test times between the conventional case and the present invention when there is an emergency lot.

【図8】奇数ロットの場合の従来と本発明とのテスト時
間の比較図である。
FIG. 8 is a comparison diagram of test times between the conventional example and the present invention in the case of odd lots.

【図9】端数ロットがある場合の従来と本発明とのテス
ト時間の比較図である。
FIG. 9 is a comparison diagram of the test time between the related art and the present invention when there is a fraction lot.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

4 タイミング発生器 5 パターン発生器 6 波形整形器 7 論理比較器 10 ワークステーション 20 メインフレーム 30 ステーション 31 ピンエレクトロニクス 32 コネクタ 34 ポゴピン 36 マザーボード 40 テストフィクスチャ 41 パフォーマンスボード 42 同軸ケーブル 43 プローブカード 44 プローブ針 50 テストフィクスチャ 51 パフォーマンスボード 52 ポゴピン 53 プローブカード 54 プローブ針 60 ウェハプローバ 70 ウェハ Reference Signs List 4 timing generator 5 pattern generator 6 waveform shaper 7 logical comparator 10 workstation 20 mainframe 30 station 31 pin electronics 32 connector 34 pogo pin 36 motherboard 40 test fixture 41 performance board 42 coaxial cable 43 probe card 44 probe needle 50 Test Fixture 51 Performance Board 52 Pogo Pin 53 Probe Card 54 Probe Needle 60 Wafer Prober 70 Wafer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウェハをテストするテストシステムにお
いて、 被テストデバイスのウェハをテスト位置に搬送する1台
のウェハプローバと、 所定のテストチャンネル数の電子回路を設けた2台のテ
ストステーションと、 該2台のテストステーションの各テストチャンネルを前
記1台のウェハプローバで搬送されたウェハの複数のチ
ップの各パッドと押圧接触して電気接続するテストフィ
クスチャと、 を具備して、複数チップの同時測定によりウェハをテス
トすることを特徴としたテストシステム。
1. A test system for testing a wafer, comprising: a wafer prober for transferring a wafer of a device under test to a test position; two test stations provided with an electronic circuit having a predetermined number of test channels; A test fixture for electrically connecting each test channel of the two test stations with each pad of a plurality of chips of the wafer conveyed by the one wafer prober to electrically connect the test channels. A test system characterized by testing a wafer by measurement.
【請求項2】 テストフィクスチャは、2つのパフォー
マンスボードと、1つの押圧接触手段とで構成され、各
テストチャンネルの信号線を同軸ケーブルで接続してい
る請求項1記載のテストシステム。
2. The test system according to claim 1, wherein the test fixture comprises two performance boards and one pressing contact means, and connects the signal lines of each test channel by a coaxial cable.
【請求項3】 押圧接触手段は、フィルム状プローブユ
ニットである請求項2記載のテストシステム。
3. The test system according to claim 2, wherein the pressing contact means is a film probe unit.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021028993A (en) * 2020-11-25 2021-02-25 東京エレクトロン株式会社 Inspection system

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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